[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP3414858B2 - Stereolithography - Google Patents

Stereolithography

Info

Publication number
JP3414858B2
JP3414858B2 JP20942294A JP20942294A JP3414858B2 JP 3414858 B2 JP3414858 B2 JP 3414858B2 JP 20942294 A JP20942294 A JP 20942294A JP 20942294 A JP20942294 A JP 20942294A JP 3414858 B2 JP3414858 B2 JP 3414858B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transport film
uncured
material layer
layer
transport
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP20942294A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0872153A (en
Inventor
寿智 大西
Original Assignee
帝人製機株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 帝人製機株式会社 filed Critical 帝人製機株式会社
Priority to JP20942294A priority Critical patent/JP3414858B2/en
Publication of JPH0872153A publication Critical patent/JPH0872153A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3414858B2 publication Critical patent/JP3414858B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/10Processes of additive manufacturing
    • B29C64/106Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/10Processes of additive manufacturing
    • B29C64/106Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
    • B29C64/124Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/20Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor
    • B29C64/205Means for applying layers
    • B29C64/223Foils or films, e.g. for transferring layers of building material from one working station to another
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B33ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
    • B33YADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
    • B33Y10/00Processes of additive manufacturing
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B33ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
    • B33YADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
    • B33Y30/00Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光造形装置、詳しくは
光硬化樹脂(光により硬化する性質の樹脂)を含む未露
光の材料層を1層ずつ露光して硬化させながら下層の硬
化層上に順次積層して3次元物体を造形するようになし
た装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a stereolithography apparatus, and more specifically, to an unexposed material layer containing a photocurable resin (a resin having a property of being cured by light), which is cured by exposing it one layer at a time. The present invention relates to a device that is sequentially laminated on a device to form a three-dimensional object.

【0002】[0002]

【従来の技術】近似、製品開発時の雛型や模型等のよう
な複雑な3次元物体を容易に造形することのできる装置
として、光硬化樹脂を用いて3次元物体(立体物)を造
形する光造形装置が注目されている。この装置は所定層
厚の材料層を選択的に露光して造形すべき立体物の断面
形状に対応する形状に硬化させ、その上層に材料層を順
次積層し露光硬化させるようになっており、3次元CA
D等の技術を利用して積層する各層の形状データを作成
し、そのデータに基づいて選択的露光の制御や積層作業
の自動化を図るといった各種の提案がなされている。
2. Description of the Related Art As a device capable of easily forming a complex three-dimensional object such as a model or a model at the time of approximation and product development, a three-dimensional object (three-dimensional object) is formed by using a photo-curing resin. Attention has been paid to a stereolithography device. This device is configured to selectively expose a material layer of a predetermined layer thickness to cure it into a shape corresponding to the cross-sectional shape of a three-dimensional object to be molded, and stack material layers in sequence on top of it to perform exposure curing, 3D CA
Various proposals have been made to create shape data of each layer to be laminated by using a technique such as D, and to control selective exposure and automate the lamination operation based on the data.

【0003】従来のこの種の光造形装置としては、例え
ば特開平3−227222号公報に記載されたものがあ
る。この装置では、低粘度の光硬化樹脂液を貯留した造
形槽の液面に対して紫外線領域のコヒーレントな光(レ
ーザ光)を走査し、その液面近傍の光硬化樹脂を所定形
状に露光硬化させて1層の硬化層を形成するようになっ
ており、その硬化層を造形槽中に沈め、未硬化樹脂液の
流動によりその硬化層上に延展した材料層を次の材料と
して、その材料層を露光により下層の硬化層時に接着し
つつ積層するようになっている。
As a conventional stereolithography apparatus of this type, for example, there is one described in Japanese Patent Laid-Open No. 3-227222. With this device, the liquid level of the molding tank that stores the low-viscosity photocurable resin liquid is scanned with coherent light (laser light) in the ultraviolet region, and the photocurable resin near the liquid level is exposed and cured to a prescribed shape. To form a single hardened layer. The hardened layer is submerged in a molding tank, and the material layer spread on the hardened layer by the flow of the uncured resin liquid is used as the next material. The layers are laminated by being exposed to each other while adhering to the lower cured layer.

【0004】また、実開平2−11331号公報には、
造形容器と、その内方側から透光窓に接近および離隔す
るベースと、透光窓を介しベースと透光窓の間の光硬化
樹脂液に対し選択的に光を照射して光硬化樹脂液を所定
パターンで略一定層厚に硬化させる光出射ユニットと、
造形ベースを前記透光窓から前記層厚分だけ離隔させて
硬化層と透光窓の間に次層の未硬化の光硬化樹脂を流入
させるエレベータとを備えたものが記載されている。こ
の装置では、露光面が平坦に規制されるため、硬化層の
層厚のばらつきを抑えることができるとともに、造形し
た硬化層を未硬化の光硬化樹脂液中に沈める必要がない
ことから、高価な光硬化樹脂を効率的に使用できる。
Further, Japanese Utility Model Publication No. 2-11331 discloses that
A molding container, a base that approaches and separates from the transparent window from the inner side thereof, and a photocurable resin that selectively irradiates light to the photocurable resin liquid between the base and the transparent window through the transparent window. A light emitting unit that cures the liquid in a predetermined pattern to a substantially constant layer thickness,
It is described that the molding base is provided with the elevator separated from the transparent window by the layer thickness and an elevator for allowing an uncured photocurable resin of the next layer to flow between the cured layer and the transparent window. In this device, since the exposed surface is regulated to be flat, it is possible to suppress variations in the thickness of the cured layer, and it is not necessary to immerse the formed cured layer in the uncured photocurable resin liquid, which is expensive. Various photo-curing resins can be used efficiently.

【0005】上記各装置は硬化層を造形槽中の未硬化樹
脂液中に浸漬させるものであるが、これらとは異なり、
比較的高粘度(例えばゲル状)の光硬化樹脂を予めフィ
ルム状に延展して単層の未硬化層を形成し、この未硬化
層を未硬化樹脂液中に浸漬されていない硬化層上に搬送
して露光硬化させるようにした所謂単層供給方式のもの
も提案されている。
Each of the above-mentioned devices dips the cured layer in the uncured resin liquid in the molding tank, but unlike these,
A relatively high-viscosity (eg gel) photo-curable resin is spread in advance into a film to form a single uncured layer, and this uncured layer is placed on the cured layer that is not immersed in the uncured resin liquid. There is also proposed a so-called single-layer supply method in which the material is conveyed and exposed and cured.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、造形槽
内の未硬化樹脂液中に硬化層を浸漬させて未硬化材料層
を形成する所謂浸漬供給方式の従来の光造形装置にあっ
ては、未硬化樹脂液の自由液面を露光する(露光面を規
制しない)場合には、安定した一定層厚の未硬化材料層
を形成することが困難であり、造形精度を向上させるこ
とができないばかりか、造形槽内の樹脂材料の劣化や汚
染を招き易く、造形コストの上昇を招くという問題があ
った。また、透光窓の採用により露光面を平坦に規制す
る場合には、露光により硬化した透光窓上の硬化層をこ
の透光窓から剥すのが容易でなく、無理に剥そうとする
と、所定パターン形状に硬化した硬化層を損傷させてし
まうという問題があった。
However, the conventional stereolithography apparatus of the so-called dipping and feeding system, in which the hardened layer is dipped in the uncured resin liquid in the molding tank to form the uncured material layer, is not yet known. When the free liquid surface of the cured resin liquid is exposed (the exposed surface is not regulated), it is difficult to form a stable uncured material layer with a constant layer thickness, and not only the molding accuracy cannot be improved. However, there is a problem that the resin material in the molding tank is easily deteriorated or contaminated, and the molding cost is increased. Further, when the exposed surface is regulated to be flat by adopting a light-transmitting window, it is not easy to peel off the cured layer on the light-transmitting window that has been cured by exposure from the light-transmitting window. There is a problem that the cured layer that has been cured into a predetermined pattern shape is damaged.

【0007】さらに、上記単層供給方式の光造形装置を
含めて、上述した全ての従来装置にあっては、下層(部
分的に露光硬化した部分を含む層)に未硬化のまま残っ
ている未硬化材料を次の上層の露光時に硬化させないた
めに、露光出力を大きくすることができず、しかも露光
面の単位面積当たりの露光量を均一に制御する必要があ
った。したがって、ある程度の造形精度を得るためには
露光ランプ等の簡単な露光系を採用することができず、
レーザ走査装置等を用いる高価な露光光学系が必要にな
るために露光制御がかなり複雑なものにならざるを得な
かったし、比較的軟弱な硬化層を積層した後に全体を再
度強い光で露光硬化させる所謂ポストキュアが不可欠に
なっていた。あるいは、露光系を簡素化しようとすれ
ば、下層に残留した未硬化材料を除去した後、それに代
えて露光によって硬化しない支持材料層を硬化層の周り
に形成し、この支持材料層により上層の未硬化材料層を
支持した状態で上層の露光を行うといった面倒な作業が
必要になっていた。
Furthermore, in all the above-mentioned conventional apparatuses including the above-mentioned single-layer supply type stereolithography apparatus, the lower layer (the layer including the partially exposed and cured portion) remains uncured. Since the uncured material is not cured during the exposure of the next upper layer, the exposure output cannot be increased, and the exposure amount per unit area of the exposed surface needs to be uniformly controlled. Therefore, it is not possible to adopt a simple exposure system such as an exposure lamp in order to obtain a certain degree of modeling accuracy,
The exposure control had to be rather complicated because an expensive exposure optical system using a laser scanning device was required, and the whole was exposed again with strong light after laminating a relatively soft cured layer. So-called post cure for curing has become essential. Alternatively, in order to simplify the exposure system, after removing the uncured material remaining in the lower layer, a support material layer that is not cured by exposure is formed around the cured layer in place of this, and the support material layer is used to The troublesome work of exposing the upper layer while supporting the uncured material layer has been required.

【0008】本発明は、このような従来の課題に鑑みて
なされたもので、各層の露光毎に露光硬化した部分と光
硬化材料部分とを容易にかつ確実に分離せることによ
り、造形ベース側に未硬化材料が殆ど残留しないように
して、厳密な露光出力制御を行なう必要のない安価な露
光系を採用した低コストの光造形装置を提供することを
第1の目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and it is possible to easily and surely separate the exposure-cured portion and the photocurable material portion for each exposure of each layer, so that the molding base side can be easily separated. It is a first object of the present invention to provide a low-cost stereolithography apparatus that employs an inexpensive exposure system that does not require strict exposure output control, with almost no uncured material remaining.

【0009】また、本発明は、光硬化樹脂を含む一定層
厚の未硬化材料層を高精度に形成することのできる安価
な塗工手段を実現することを第2の目的とし、更に主要
部品を多機能化することでより安価な露光手段を実現す
ることを第3の目的とし、さらに、露光硬化した部分と
光硬化材料部分を分離するための動作を利用して露光時
のマスクを迅速で高精度に形成することのできる安価な
マスク形成手段を実現することを第4の目的とする。
A second object of the present invention is to realize an inexpensive coating means capable of forming an uncured material layer containing a photocurable resin and having a constant layer thickness with high accuracy, and further, a main component. The third purpose is to realize a cheaper exposure means by making the mask multi-functional, and furthermore, by using the operation for separating the exposure-cured portion and the photo-curable material portion, the mask at the time of exposure is quickly A fourth object is to realize an inexpensive mask forming means that can be formed with high precision by.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記目的達成のため、請
求項1記載の発明は、光を透過する実質的に透明な帯状
体からなる可撓性の搬送フィルムと、前記搬送フィルム
上に光硬化樹脂を含む未硬化材料からなる一定層厚の未
硬化材料層を塗工形成する材料層塗工手段と、前記搬送
フィルムを所定の材料搬送方向に移動させて前記未硬化
材料層を前記搬送フィルムにより搬送させるフィルム移
動手段と、前記搬送フィルムの所定移動区間で該搬送フ
ィルムを介して前記未硬化材料層を選択的に露光し、該
所定移動区間内の未硬化材料層中に所定形状の硬化層を
形成する露光手段と、前記露光手段による未硬化材料層
の露光中、該露光に供する光を透過させつつ前記所定移
動区間内に位置する前記搬送フィルムおよび未硬化材料
層を前記搬送フィルムの下方から支持する実質的に透明
な支持プレートと、前記所定移動区間の搬送フィルムの
上方で前記未硬化材料層に対向するとともに前記支持プ
レートに対し相対的に接近および離隔するよう前記支持
プレートと略平行に設けられた造形ベースと、前記所定
移動区間の近傍で前記搬送フィルムに係合する係合部材
を有し、該係合部材より下流側の搬送フィルムを下方側
に湾曲させるとともに、該係合部材の移動により該搬送
フィルムの湾曲した部位を前記造形ベースと略平行な移
動方向に往復移動させ、該搬送フィルムの湾曲した部位
を一方側に移動させるときには前記造形ベースの下面側
に前記未硬化材料層を積層し、該搬送フィルムの湾曲し
た部位を他方側に移動させるときには前記露光により造
形ベース側に固着した硬化層の周囲で前記搬送フィルム
に支持されている未硬化材料層を前記搬送フィルムと共
に前記造形ベース側から離隔させる積層手段と、を備え
たことを特徴とするものであり、請求項2記載の発明
は、前記材料層塗工手段が、前記搬送フィルム上に載置
されるとともに前記材料搬送方向への移動を規制された
塗工ノズルを有し、該塗工ノズルが、前記未硬化材料を
収容する材料収容部と、該材料収容部に対し前記材料搬
送方向の下流側に設けられ前記搬送フィルムの上面との
間に前記搬送フィルムの幅方向に延びる略スリット状の
隙間を形成する材料塗工部と、前記搬送フィルムの上面
との間に前記搬送フィルムの幅方向の寸法が前記スリッ
ト状の隙間と略同一で通路断面積が前記材料収容部側で
は大きく前記スリット状の隙間側では小さくなる材料通
路を形成するよう前記材料収容部および前記材料塗工部
の間に設けられた通路形成部と、からなることを特徴と
するものである。
In order to achieve the above object, the invention according to claim 1 has a flexible transport film made of a substantially transparent strip that transmits light, and a light transport film on the transport film. Material layer coating means for coating and forming an uncured material layer having a constant layer thickness made of an uncured material containing a curable resin, and moving the transport film in a predetermined material transport direction to transport the uncured material layer A film moving means for carrying the film, and selectively exposing the uncured material layer through the carrying film in a predetermined moving section of the carrying film to form a predetermined shape in the uncured material layer in the predetermined moving section. During the exposure of the cured layer and the exposure of the uncured material layer by the exposure means, the transfer film and the uncured material layer located in the predetermined movement section are transmitted while transmitting the light used for the exposure. A substantially transparent support plate that supports the lower part of the film, and a support plate that faces the uncured material layer above the transport film in the predetermined movement section and that is relatively close to and away from the support plate. And a shaping base provided substantially parallel to, and an engaging member that engages the transport film in the vicinity of the predetermined movement section, and bends the transport film on the downstream side of the engaging member downward, By moving the engaging member, the curved portion of the transport film is reciprocated in a movement direction substantially parallel to the modeling base, and when moving the curved portion of the transport film to one side, the curved surface of the transport film is moved to the lower surface side of the modeling base. When the uncured material layer is laminated and the curved portion of the transport film is moved to the other side, the periphery of the cured layer fixed to the modeling base side by the exposure. Laminating means for separating the uncured material layer supported by the transport film together with the transport film from the modeling base side, the invention according to claim 2 is characterized in that: The layer coating means has a coating nozzle that is placed on the transport film and is restricted from moving in the material transport direction, and the coating nozzle stores the uncured material. And a material coating portion which is provided on the downstream side in the material transport direction with respect to the material storage portion and forms a substantially slit-shaped gap extending in the width direction of the transport film between the upper surface of the transport film and the material coating portion, A material passage in which the widthwise dimension of the conveying film is substantially the same as the slit-like gap between the upper surface of the conveying film and the passage cross-sectional area is large on the material accommodating portion side and small on the slit-like gap side. And a passage forming portion provided between the material containing portion and the material coating portion so as to form a.

【0011】また、請求項3記載の発明は、前記露光手
段が、前記支持プレートの下方側から上方に向かって光
を照射する光源と、前記支持プレートの下面に沿って前
記造形ベースと略平行な方向に往復移動し、一方側に移
動するときには前記支持プレートの下面上に選択的に遮
光マスクを形成し、他方側に移動するときには前記遮光
マスクを前記支持プレートの下面上から除去するマスク
形成ユニットと、を有することを特徴とするものであ
り、請求項4記載の発明は、前記積層手段が、前記係合
部材および前記支持プレートを支持するとともに前記造
形ベースと略平行な方向に移動する移動台を有し、前記
露光手段のマスク形成ユニットが、前記造形ベースと略
平行な移動方向で前記支持プレートと相対移動するよ
う、該移動台に支持されていることを特徴とするもので
ある。
According to a third aspect of the present invention, the exposure means emits light from the lower side of the support plate to the upper side, and the molding base is substantially parallel to the lower surface of the support plate. Forming a mask for selectively forming a light-shielding mask on the lower surface of the support plate when moving to one side, and removing the light-shielding mask from the lower surface of the support plate when moving to the other side. The invention according to claim 4 is characterized in that the laminating means moves in a direction substantially parallel to the modeling base while supporting the engaging member and the support plate. The mask forming unit of the exposure means is supported by the moving table so that the mask forming unit of the exposing means moves relatively to the supporting plate in a moving direction substantially parallel to the modeling base. And it is characterized in that is.

【0012】請求項5記載の発明は、前記材料層塗工手
段が、所定口径の供給口を通して前記塗工ノズルに未硬
化材料を供給する材料供給容器を有し、該材料供給容器
の供給口が下向きで、かつ、前記塗工ノズルの材料収容
部に所定量の未硬化材料が収容されたとき該未硬化材料
により閉塞されるよう、所定の高さに位置していること
を特徴とするものである。
According to a fifth aspect of the present invention, the material layer coating means has a material supply container for supplying an uncured material to the coating nozzle through a supply port having a predetermined diameter, and the supply port of the material supply container. Is facing downward and is positioned at a predetermined height so as to be closed by the uncured material when a predetermined amount of the uncured material is stored in the material storage portion of the coating nozzle. It is a thing.

【0013】[0013]

【作用】請求項1記載の発明では、材料層塗工手段によ
って搬送フィルム上に光硬化樹脂を含む一定層厚の未硬
化材料層が形成され、該搬送フィルム上の未硬化材料層
が搬送フィルムの所定移動区間まで移動すると、係合部
材より下流側の搬送フィルムが下方側に湾曲されるとと
もに、該搬送フィルムの湾曲した部位が造形ベースと略
平行な移動方向一方側に移動するよう係合部材が移動さ
れ、造形ベースの下面側に未硬化材料層が積層される。
また、搬送フィルムの所定移動区間内で実質的に透明な
支持プレートによって搬送フィルムおよび未硬化材料層
が下方から支持され、その状態で、搬送フィルムの下面
側から該搬送フィルムを介して未硬化材料層が露光され
る。したがって、該露光領域の材料層が支持プレートに
沿う平坦な硬化層となり、造形精度が向上する。さら
に、前記露光後、露光により造形ベース側に固着した硬
化層の周囲で搬送フィルムに支持されている未硬化材料
層が、搬送フィルムと共に造形ベース側から離隔するよ
うに、係合部材による搬送フィルムの湾曲部位が移動方
向他方側に移動される。したがって、次層の未硬化材料
層を露光する際に、その露光領域内に前の層の未硬化材
料層が存在するということがなくなり、硬化層厚制御の
ために露光手段の露光出力を厳密に制御したり所謂ポス
トキュア作業を行なったりする必要がない。
According to the present invention, the material layer coating means forms an uncured material layer having a constant thickness containing the photocurable resin on the carrier film, and the uncured material layer on the carrier film is the carrier film. When the transport film is moved to a predetermined moving section, the transport film on the downstream side of the engaging member is curved downward, and the curved portion of the transport film is engaged so as to move to one side in a movement direction substantially parallel to the modeling base. The member is moved, and the uncured material layer is laminated on the lower surface side of the shaping base.
Further, the transport film and the uncured material layer are supported from below by the substantially transparent support plate within a predetermined moving section of the transport film, and in this state, the uncured material is passed from the lower surface side of the transport film through the transport film. The layer is exposed. Therefore, the material layer in the exposed area becomes a flat hardened layer along the support plate, and the modeling accuracy is improved. Furthermore, after the exposure, the uncured material layer supported by the transport film around the cured layer fixed to the modeling base side by the exposure is separated from the modeling base side together with the transport film by the engaging member transport film. The curved portion of is moved to the other side in the movement direction. Therefore, when the uncured material layer of the next layer is exposed, the uncured material layer of the previous layer does not exist in the exposed area, and the exposure output of the exposure unit is strictly controlled to control the cured layer thickness. There is no need for control or so-called post-cure work.

【0014】請求項2記載の発明では、搬送フィルムの
材料搬送方向への移動が規制された状態で該搬送フィル
ム上に載置されたノスルプレートによって、該塗工ノズ
ルの材料塗工部と搬送フィルム上面との間に搬送フィル
ム幅方向に延びる略スリット状の隙間が形成されるとと
もに、該塗工ノズルの通路形成部と搬送フィルム上面と
の間に搬送フィルム幅方向の寸法が前記スリット状の隙
間と略同一の材料通路が形成される。また、前記材料通
路の通路断面積は塗工ノズルの材料収容部側では大きく
前記スリット状の隙間側では小さくなっているから、搬
送フィルムが移動するとき、材料収容部から材料通路に
入った材料は前記塗工ノズルに対し材料塗工部側に相対
移動し、その際に搬送フィルム上で前記スリット状の隙
間に対応する断面形状の未硬化材料層が成形される。し
たがって、構成の簡単な塗工ノズルを用いて搬送フィル
ム上に一定層厚の未硬化材料層が容易に形成されること
になる。
According to the second aspect of the present invention, the material coating portion of the coating nozzle is provided by the nosle plate placed on the transport film in a state where the movement of the transport film in the material transport direction is restricted. A slit-shaped gap extending in the width direction of the transport film is formed between the upper surface of the transport film and the slit in the width direction of the transport film between the passage forming portion of the coating nozzle and the upper surface of the transport film. A material passage substantially the same as the gap is formed. Further, since the passage cross-sectional area of the material passage is large on the material containing portion side of the coating nozzle and small on the slit-shaped gap side, the material entering the material passage from the material containing portion when the transport film moves. Moves relatively to the material coating portion side with respect to the coating nozzle, and at that time, an uncured material layer having a cross-sectional shape corresponding to the slit-shaped gap is formed on the transport film. Therefore, an uncured material layer having a constant thickness can be easily formed on the transport film by using a coating nozzle having a simple structure.

【0015】請求項3記載の発明では、露光手段のマス
ク形成ユニットが、支持プレートの下面に沿って造形ベ
ースと略平行な方向に往復移動することで、支持プレー
トの下面上に選択的に遮光マスクが形成されるととも
に、該遮光マスクが支持プレートの下面上から除去され
る。したがって、支持プレートを未硬化材料の支持と露
光時のマスク形成とに利用される多機能部品として、よ
り安価な露光手段を実現することができる。
According to the third aspect of the present invention, the mask forming unit of the exposing means reciprocates along the lower surface of the support plate in a direction substantially parallel to the modeling base to selectively shield light from the lower surface of the support plate. As the mask is formed, the light blocking mask is removed from the lower surface of the support plate. Therefore, it is possible to realize a cheaper exposure means by using the support plate as a multi-functional component used for supporting the uncured material and forming a mask during exposure.

【0016】請求項4記載の発明では、前記係合部材お
よび支持プレートを支持しつつ造形ベースと略平行な方
向に移動する移動台が設けられ、該移動台に造形ベース
と略平行な移動方向で支持プレートと相対移動するよう
前記マスク形成ユニットが支持される。したがって、積
層手段に設けられた移動台の動作を利用して、露光時の
マスクを迅速で高精度に形成することのできる安価なマ
スク形成手段を実現することができる。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a movable table which moves in a direction substantially parallel to the modeling base while supporting the engaging member and the support plate, and the movable table has a movement direction substantially parallel to the modeling base. The mask forming unit is supported so as to move relative to the support plate. Therefore, it is possible to realize an inexpensive mask forming means capable of forming a mask at the time of exposure quickly and highly accurately by utilizing the operation of the moving table provided in the laminating means.

【0017】請求項5記載の発明では、材料供給容器の
供給口を通して塗工ノズルに未硬化材料が供給され、塗
工ノズルの材料収容部に所定量の未硬化材料が収容され
ると、材料供給容器の供給口が未硬化材料により閉塞さ
れることで、材料供給が停止される。一方、未硬化材料
の搬送フィルムへの塗工により材料収容部内の未硬化材
料が材料供給容器の供給口から離れると、供給口から材
料供給容器内に外部の空気が入り込み、供給口が未硬化
材料により再度閉塞されるまで材料が供給されることに
なる。したがって、材料供給容器を逆さにしただけの簡
単な材料供給手段となる。また、造形する物体の大きさ
に応じて材料供給容器を必要数準備し、材料を効率良く
使用することができるとともに、未硬化材料の供給作業
のみならず、準備工程での未硬化材料の取り扱いも容易
化される。
According to the present invention, when the uncured material is supplied to the coating nozzle through the supply port of the material supply container and a predetermined amount of the uncured material is stored in the material storage portion of the coating nozzle, the material is discharged. The material supply is stopped by closing the supply port of the supply container with the uncured material. On the other hand, when the uncured material in the material storage part is separated from the supply port of the material supply container by applying the uncured material to the transport film, external air enters the material supply container from the supply port, and the supply port is uncured. The material will be delivered until it is occluded again. Therefore, a simple material supply means is obtained by simply inverting the material supply container. In addition, the required number of material supply containers can be prepared according to the size of the object to be molded, and the material can be used efficiently, and not only the uncured material supply operation but also the handling of uncured material in the preparation process. Is also facilitated.

【0018】[0018]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて具体
的に説明する。図1〜図8は本発明に係る光造形装置の
一実施例を示す図である。まず、その構成を説明する。
図1(a)および図1(b)において、11は、光を透過
する実質的に透明な帯状体(例えば厚さ50〜75μmのポ
リエステルフィルム)からなる可撓性の搬送フィルムで
ある。搬送フィルム11は、搬送フィルムボビン10から繰
り出され、互いに略平行に離間するニップローラ12、送
り出しローラ13、レベリングローラ14、掻き取りローラ
15、案内ローラ16、17およびニップローラ18を介して、
使用済み搬送ボビン19に巻き取られる。これらボビン1
0、19およびローラ12〜18は、搬送フィルム11を所定の
材料搬送方向に移動させ、後述する未硬化材料層L1 を
搬送フィルム11によって搬送させるフィルム移動手段20
を構成している。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. 1 to 8 are views showing an embodiment of a stereolithography apparatus according to the present invention. First, the configuration will be described.
In FIGS. 1 (a) and 1 (b), reference numeral 11 is a flexible carrier film made of a substantially transparent band-like body that transmits light (for example, a polyester film having a thickness of 50 to 75 μm). The transport film 11 is fed from the transport film bobbin 10 and is separated in substantially parallel to each other. The nip roller 12, the sending roller 13, the leveling roller 14, and the scraping roller.
15, through the guide rollers 16, 17 and the nip roller 18,
The used transport bobbin 19 is wound up. These bobbins 1
Film moving means 20 for moving the transport film 11 in a predetermined material transport direction and transporting an uncured material layer L1 described later by the transport film 11 by the rollers 0 to 19 and the rollers 12 to 18.
Are configured.

【0019】搬送フィルム11は、後述する一定層厚の未
硬化材料層L1 を所定の搬送方向に搬送するもので、前
記各ローラ12〜18に係合しつつ所定の経路で移動する。
送り出しローラ13はニップローラ12と協働して搬送フィ
ルム11を所定の材料搬送方向(図1中右方)に送り出す
ローラで、その送りピッチおよび速度を可変とするよう
図示しないサーボモータにより駆動される。レベリング
ローラ14は送り出しローラ13と略同一高さで水平移動台
21に回転自在に支持されており、水平移動台21は図示し
ない水平ガイドによって図1の左右方向に移動可能に案
内されている。この移動台21は上下方向に延在する遮光
ダクト23とこれを支持しつつ前記水平ガイドに案内され
た支持部(図示していない)とを有しており、遮光ダク
ト23の上部には支持プレートである透明描画基板25が図
1の左右方向に移動可能に支持されている。また、水平
移動台21には、レベリングローラ14の直下に位置するよ
う掻き取りローラ15および案内ローラ16がそれぞれ回転
自在に支持され、更に掻き取りローラ15の近傍で搬送フ
ィルム11に摺接する掻き取り器26が設けられている。
The transport film 11 transports an uncured material layer L1 having a constant layer thickness, which will be described later, in a predetermined transport direction, and moves along a predetermined path while engaging with the rollers 12 to 18.
The delivery roller 13 is a roller that cooperates with the nip roller 12 to deliver the transport film 11 in a predetermined material transport direction (rightward in FIG. 1), and is driven by a servo motor (not shown) so as to make the feed pitch and speed variable. . The leveling roller 14 is substantially level with the sending roller 13 and has a horizontal movement table.
It is rotatably supported by 21, and the horizontal moving table 21 is guided by a horizontal guide (not shown) so as to be movable in the left-right direction in FIG. The moving table 21 has a light-shielding duct 23 extending in the vertical direction and a support portion (not shown) guided by the horizontal guide while supporting the light-shielding duct 23. A transparent drawing substrate 25, which is a plate, is supported so as to be movable in the left-right direction in FIG. A scraping roller 15 and a guide roller 16 are rotatably supported on the horizontal moving table 21 so as to be located immediately below the leveling roller 14, and scraping that makes sliding contact with the transport film 11 in the vicinity of the scraping roller 15. A container 26 is provided.

【0020】30は、搬送フィルム11上に一定層厚の未硬
化材料層L1 を塗工形成する材料層塗工手段である。材
料層塗工手段30は、搬送フィルム11上に載置されたノズ
ルプレート31(塗工ノズル)と、図示しない固定フレー
ムに支持されたノズル台36と、複数のボトル状の材料供
給容器37(図2には1つのみを図示している)とを有し
ている。ノズルプレート31は、図2(a)に示すよう
に、長手方向中間部で横断面形状の異なる一対のセグメ
ント33、34を略平行に連結したもので、未硬化材料Pm
を収容する材料収容部31aと、この材料収容部31aに対
し前記材料搬送方向の下流側に設けられた材料塗工部31
bと、材料収容部31aおよび材料塗工部31bの間に設け
られた通路形成部31cとを有している。
Reference numeral 30 denotes a material layer coating means for coating and forming an uncured material layer L1 having a constant layer thickness on the transport film 11. The material layer coating means 30 includes a nozzle plate 31 (coating nozzle) placed on the transport film 11, a nozzle base 36 supported by a fixed frame (not shown), and a plurality of bottle-shaped material supply containers 37 ( (Only one is shown in FIG. 2). As shown in FIG. 2 (a), the nozzle plate 31 is formed by connecting a pair of segments 33, 34 having different transverse cross-sectional shapes in the longitudinal middle portion in a substantially parallel manner.
And a material coating section 31 provided downstream of the material storage section 31a in the material transport direction.
b, and a passage forming portion 31c provided between the material containing portion 31a and the material coating portion 31b.

【0021】材料供給容器37からノズルプレート31の材
料収容部31aに供給される未硬化材料Pmは、液状の光
硬化樹脂(例えば重合性のビニル系化合物、エポキシ系
化合物)に所定温度範囲内で実質的な非収縮性をもつ平
均粒径3〜70μm、好ましくは10〜60μm程度の微粒子
(例えばガラスビーズや樹脂製ビーズ)を5〜70容量
%、好ましくは10〜55容量%だけ配合したペースト状
(例えば粘度が5,000cps〜100,000cps)の組成物であ
り、その微粒子は公知のシランカップリング剤によって
硬化後の機械的強度を増すよう処理されている。あるい
は、未硬化材料Pm は、前記微粒子に代え、径が0.3 〜
1μm、長さが10〜70μmでアスペクト比が10〜100の
範囲にあるウイスカーを用いる(その場合、液状光硬化
樹脂にこのウイスカーを5〜30容量%配合する)もので
あってもよい。
The uncured material Pm supplied from the material supply container 37 to the material storage portion 31a of the nozzle plate 31 is a liquid photocurable resin (for example, a polymerizable vinyl compound or epoxy compound) within a predetermined temperature range. A paste containing substantially non-shrinking particles having an average particle size of 3 to 70 μm, preferably 10 to 60 μm (for example, glass beads or resin beads) in an amount of 5 to 70% by volume, preferably 10 to 55% by volume. (For example, the viscosity is 5,000 cps to 100,000 cps), and the fine particles thereof are treated with a known silane coupling agent to increase the mechanical strength after curing. Alternatively, the uncured material Pm has a diameter of 0.3-
A whisker having a length of 1 μm, a length of 10 to 70 μm and an aspect ratio of 10 to 100 may be used (in this case, 5 to 30% by volume of the whisker is mixed with the liquid photocurable resin).

【0022】また、材料供給容器37は、未硬化材料Pm
の粘度に対応して所定の口径に設定された供給口37aを
有し、供給口37aが下向きでかつ未硬化材料Pm の液面
相当部分の高さに位置するよう、ノズル台36を支持する
前記固定フレームに着脱可能に取り付けられている。そ
して、ノズルプレート31の材料収容部31a内で未硬化材
料Pm の液面相当部分の高さが低下したとき、供給口37
aにタンク外部の空気が入り、これが気泡38となって材
料供給容器37内の上部に空間39を形成するとともに、空
間39の容積の増加に対応する量の未硬化材料Pm をノズ
ルプレート31に供給する。すなわち、未硬化材料Pm の
使用によりその液面が低下したとき、材料供給容器37
は、供給口37aが再び未硬化材料Pm によって閉塞され
外気から遮断されるまで、未硬化材料Pm をノズルプレ
ート31に供給し、前記使用に供した未硬化材料Pm の量
と略等しい未硬化材料Pm をノズルプレート31の材料収
容部31aに補充するようになっている。なお、本実施例
では、材料供給容器37をノズルプレート31の長手方向に
複数配列しているので、そのうちの幾つかを使用してい
る間に残りの材料供給容器37を交換することができる。
また、材料供給容器37の供給口37aは1つのタンクに複
数の穴として形成されていてもよいし、未硬化材料Pm
の流動性状に対応する適当な長さと幅を有するスリット
状のものでもよい。さらに、適当な仕切りを設けること
で、複数の穴又はスリットから選択的に材料供給するこ
ともできる。
The material supply container 37 is made of uncured material Pm.
Has a supply port 37a set to a predetermined diameter corresponding to the viscosity of the nozzle base 36, and supports the nozzle base 36 so that the supply port 37a faces downward and is located at the height of the portion corresponding to the liquid surface of the uncured material Pm. It is detachably attached to the fixed frame. When the height of the portion of the nozzle plate 31 corresponding to the liquid surface of the uncured material Pm in the material storage portion 31a is lowered, the supply port 37
The air outside the tank enters a and forms air bubbles 38 to form a space 39 in the upper part of the material supply container 37, and an amount of uncured material Pm corresponding to the increase of the volume of the space 39 is supplied to the nozzle plate 31. Supply. That is, when the liquid level is lowered due to the use of the uncured material Pm, the material supply container 37
Supplies the uncured material Pm to the nozzle plate 31 until the supply port 37a is closed again by the uncured material Pm and is shielded from the outside air, and the uncured material Pm is approximately equal to the amount of the uncured material Pm used for the use. The material containing portion 31a of the nozzle plate 31 is replenished with Pm. In this embodiment, since the plurality of material supply containers 37 are arranged in the longitudinal direction of the nozzle plate 31, it is possible to replace the remaining material supply containers 37 while using some of them.
Further, the supply port 37a of the material supply container 37 may be formed as a plurality of holes in one tank, or the uncured material Pm may be formed.
It may have a slit shape having an appropriate length and width corresponding to the fluidity of the. Further, by providing a suitable partition, it is possible to selectively supply the material from a plurality of holes or slits.

【0023】ノズルプレート31の材料塗工部31bは、搬
送フィルム11の上面との間に搬送フィルム11の幅方向
(図3の上下方向)に延びる略スリット状の隙間g1 を
形成しており、ノズルプレート31の通路形成部31cは、
搬送フィルム11の上面との間に搬送フィルム11の幅方向
の寸法が前記スリット状の隙間g1 と略同一で通路断面
積(材料搬送方向と直交する通路断面の面積)が前記材
料収容部31a側では大きくスリット状の隙間g1 側では
小さくなる材料通路35を形成するように、材料収容部31
aおよび材料塗工部31bの間に設けられている。また、
セグメント34には材料塗工部31bと略同一形状の切欠き
部34a(材料塗工部)が形成されており、セグメント33
に対するセグメント34の連結の仕方を変えることで切欠
き部34aと搬送フィルム11との間に隙間g2 を形成する
ことができる。さらに、ノズルプレート31のセグメント
34と移動規制部材32との当接部には、それぞれ移動規制
部材32の先端部に係合する所定形状の凹部34a(例えば
皿モミ)が形成されており、ノズルプレート31は移動規
制部材32との当接部を支点にして上下方向に僅かに揺動
可能であるが、その揺動によっては材料塗工部31bの高
さが実質的に変化しないようになっている。なお、セグ
セメント34に代えて、図2(b)に示すように、長手方
向中間部の断面が略半円状のセグメント35を用いてもよ
い。
The material coating portion 31b of the nozzle plate 31 forms a substantially slit-shaped gap g1 extending between the upper surface of the transport film 11 and the width direction of the transport film 11 (vertical direction in FIG. 3). The passage forming portion 31c of the nozzle plate 31 is
The widthwise dimension of the transport film 11 between the upper surface of the transport film 11 and the slit-shaped gap g1 is substantially the same, and the passage cross-sectional area (the area of the passage cross section orthogonal to the material transport direction) is on the material accommodating portion 31a side. So as to form a material passage 35 that is large in the slit-shaped gap g1 and is small in the gap g1 side.
It is provided between a and the material coating part 31b. Also,
In the segment 34, a cutout portion 34a (material coating portion) having substantially the same shape as the material coating portion 31b is formed.
A gap g2 can be formed between the cutout portion 34a and the transport film 11 by changing the manner of connecting the segment 34 to the transport film 11. In addition, a segment of the nozzle plate 31
The contact portion between the movement restricting member 32 and the movement restricting member 32 is formed with a recess 34a (for example, a plate fir) having a predetermined shape that engages with the tip of the movement restricting member 32. Although it can be slightly swung in the vertical direction with the abutting portion as a fulcrum serving as a fulcrum, the height of the material coating portion 31b does not substantially change due to the swing. Instead of the segment cement 34, as shown in FIG. 2B, a segment 35 having a substantially semicircular cross section in the longitudinal middle portion may be used.

【0024】一方、ノズルプレート31は、その両端部で
一対のねじ式移動規制部材32により材料搬送方向への移
動を規制されており、これら一対の移動規制部材32は、
例えば図3に示すように、搬送フィルム11のフィルム幅
Wf より外方でノズル台36又は前記固定フレームに位置
調節可能に取り付けられている。また、塗工ノズル31が
搬送フィルム11との間に材料通路35を形成する領域(図
3中二点鎖線で囲まれた塗工幅Wm 内の領域)において
は、搬送フィルム11がノズル台36の上面により案内され
るようになっており、このノズル台36の上面は搬送フィ
ルム11との摩擦が軽減されかつ吸着が生じないような表
面粗さ(例えば0.8μm Rmax)に仕上げ加工されて
いる。
On the other hand, the nozzle plate 31 is restricted from moving in the material conveying direction by a pair of screw type movement restricting members 32 at both ends thereof.
For example, as shown in FIG. 3, it is attached to the nozzle base 36 or the fixed frame outside the film width Wf of the transport film 11 so as to be positionally adjustable. In the area where the coating nozzle 31 forms the material passage 35 between itself and the transport film 11 (the area within the coating width Wm surrounded by the two-dot chain line in FIG. 3), the transport film 11 has the nozzle base 36. The upper surface of the nozzle base 36 is finished to have a surface roughness (for example, 0.8 μm Rmax) that reduces friction with the transport film 11 and does not cause adsorption. There is.

【0025】図1(b)に示すように、水平移動台21が
使用済み搬送ボビン19側に移動しているとき、搬送フィ
ルム11は所定移動区間において造形ベース41と対向す
る。この造形ベース41は、図示しないエレベータによっ
て透明描画基板25と略平行になるよう昇降可能に支持さ
れ、搬送フィルム11の上方から未硬化材料層L1 に対向
するとともに、透明描画基板25に対し相対的に接近およ
び離隔する。
As shown in FIG. 1B, when the horizontal moving table 21 is moving to the used carrying bobbin 19 side, the carrying film 11 faces the modeling base 41 in a predetermined moving section. The modeling base 41 is supported by an elevator (not shown) so as to be vertically movable so as to be substantially parallel to the transparent drawing substrate 25, faces the uncured material layer L1 from above the transport film 11, and is relative to the transparent drawing substrate 25. To and away from.

【0026】レベリングローラ14は、造形ベース31に対
向する搬送フィルム11の所定移動区間において搬送フィ
ルム11に係合する係合部材を構成し、掻き取りローラ15
および案内ローラ16と協働してレベリングローラ14より
下流側の搬送フィルム11を下方側に湾曲させている。ま
た、このレベリングローラ14は、水平移動台21が図1中
の左右方向(造形ベース41と略平行な方向)に移動する
とき、水平移動台21と共に移動することにより搬送フィ
ルム11の湾曲した部位を造形ベース41と略平行に移動さ
せる。そして、レベリングローラ14が搬送フィルム11の
湾曲した部位を図1の右方(一方側)に移動させるとき
には、造形ベース41の下面側(造形ベース41又はそれに
固着した硬化層L2 の下面)に未硬化材料層L1 を積層
し、搬送フィルム11の湾曲した部位を図1の左方(他方
側)動させるときには、前記露光により造形ベース41側
に固着した硬化層L2 の周囲で搬送フィルム11に支持さ
れている未硬化材料層L1 を搬送フィルム11と共に造形
ベース41側から離隔させる。すなわち、レベリングロー
ラ14および水平移動台21は、造形ベース41又は露光によ
りそれに固着した硬化層L2 に未硬化材料層L1 を積層
する積層手段を構成しており、この積層手段は、レベリ
ングローラ14と透明描画基板25を支持するとともに造形
ベース41と略平行な方向に移動する水平移動台21とを有
している。
The leveling roller 14 constitutes an engaging member which engages with the transport film 11 in a predetermined movement section of the transport film 11 facing the modeling base 31, and the scraping roller 15
Further, in cooperation with the guide roller 16, the transport film 11 on the downstream side of the leveling roller 14 is curved downward. Further, the leveling roller 14 moves along with the horizontal moving table 21 when the horizontal moving table 21 moves in the left-right direction in FIG. 1 (a direction substantially parallel to the modeling base 41), whereby the curved portion of the transport film 11 is moved. Is moved substantially parallel to the modeling base 41. When the leveling roller 14 moves the curved portion of the transport film 11 to the right side (one side) in FIG. 1, the lower surface side of the modeling base 41 (the modeling base 41 or the lower surface of the hardened layer L2 fixed to it) is left untouched. When the curable material layer L1 is laminated and the curved portion of the transport film 11 is moved to the left (the other side) in FIG. 1, it is supported by the transport film 11 around the cured layer L2 fixed to the modeling base 41 side by the exposure. The uncured material layer L1 thus formed is separated from the modeling base 41 side together with the transport film 11. That is, the leveling roller 14 and the horizontal moving table 21 constitute a laminating means for laminating the uncured material layer L1 on the modeling base 41 or the hardened layer L2 fixed to the modeling base 41 by exposure. It has a horizontal moving table 21 that supports the transparent drawing substrate 25 and moves in a direction substantially parallel to the modeling base 41.

【0027】一方、造形ベース41の直下には露光手段50
が設けられている。この露光手段50は、例えば水平移動
台21より下方に配設され透明描画基板25に向かって(上
方に向かって)所定光量の光を照射する紫外線ランプ51
(露光用光源)と、透明描画基板25の下面に遮光マスク
を形成するイオナイザ方式の描画装置であるマスク形成
ユニット52と、透明描画基板25に一体的に設けられた透
明な導電層25a(図4参照)および図示しない透明な絶
縁層(後述する)とを含んで構成されている。紫外線ラ
ンプ51は例えば無電極紫外線ランプであり、その光量は
積算光量計71によって計測される。
On the other hand, just below the modeling base 41, the exposing means 50 is provided.
Is provided. The exposure means 50 is, for example, an ultraviolet lamp 51 which is disposed below the horizontal moving table 21 and irradiates the transparent drawing substrate 25 with a predetermined amount of light (upward).
(Light source for exposure), a mask forming unit 52 that is an ionizer type drawing device that forms a light-shielding mask on the lower surface of the transparent drawing substrate 25, and a transparent conductive layer 25a integrally provided on the transparent drawing substrate 25 (see FIG. 4) and a transparent insulating layer (not shown) (not shown). The ultraviolet lamp 51 is, for example, an electrodeless ultraviolet lamp, and the amount of light thereof is measured by the integrated photometer 71.

【0028】図4(a)に示すように、マスク形成ユニ
ット52は、プリントカートリッジ53、現像スリーブ54、
トナー収納容器55、スクレーパ56、イレースロッド57、
クリーナ58およびこれら全体を収納する移動ケース59を
有している。プリントカートリッジ53は、詳細を図示し
ないが、それぞれ複数本のライン電極とそれより透明描
画基板25側に位置する複数本のフィンガー電極とを所定
の誘電体からなる誘電体層を挟んで直交配置するととも
に、フィンガー電極より更に透明描画基板25側に別の誘
電体層を挟んでスクリーン電極を設けた所謂マトリック
ス状電極構造のもので、ライン電極とフィンガー電極の
間に高周波高電圧を印加することで電極交差部に放電を
生じさせ、正負のイオンを発生させるようになってい
る。ここで発生した正負のイオンのうち正イオンは、フ
ィンガー電極又はスクリーン電極に吸収される。負イオ
ンは、フィンガー電極とスクリーン電極の間の電界に応
じて透明描画基板25側に加速・放射されあるいは透明描
画基板25側への放射を阻止される。透明描画基板25側に
加速され放射された負イオンは、スクリーン電極と導電
層25aをアースに接続した透明描画基板25との間の電界
によって透明描画基板25に向かい、透明描画基板25上に
静電潜像を形成する。したがって、各電極に印加する電
圧(ライン電圧、パックバイアス電圧、スクリーン電
圧)を制御することにより、透明描画基板25の下面上に
任意形状の静電潜像が形成される。マスク形成ユニット
52の構成要素のうちプリントカートリッジ53以外のもの
は、公知の電子写真方式の画像記録装置(例えは複写
機)で使用されているものと略同一であるので、詳細に
は説明しないが、現像スリーブ54はトナー収納容器55内
のトナー(例えば1成分トナー)を外周面に吸着しつつ
回転し、透明描画基板25に形成された静電潜像上にトナ
ーを転写して現像して、紫外線ランプ51からの光を遮光
するマスクとしてのトナー像を形成する。スクレーパ56
は、透明描画基板25とマスク形成ユニット52が図4
(a)の実線位置から仮想線位置に移動するとき、透明
描画基板25の下面に摺接して残留トナーをトナー収納容
器55内に回収する。イレースロッド57は残留トナー除去
後の透明描画基板25の下面部を一様に帯電させ前記静電
潜像を消去する。クリーナ58は公知のもので透明描画基
板25の下面をクリーニングする。また、移動ケース59
は、図4の左方側の移動端に移動したとき遮光ダクト23
に近接し遮光ダクト23の一部として機能する側壁59aを
有している。すなわち、マスク形成ユニット52は、一方
側に移動するときには透明描画基板25の下面上に選択的
に遮光マスクを形成し、他方側に移動するときにはその
遮光マスクを透明描画基板25の下面上から除去するよう
になっている。
As shown in FIG. 4A, the mask forming unit 52 includes a print cartridge 53, a developing sleeve 54,
Toner storage container 55, scraper 56, erase rod 57,
It has a cleaner 58 and a moving case 59 that accommodates all of them. Although not shown in detail in the print cartridge 53, a plurality of line electrodes and a plurality of finger electrodes located on the transparent drawing substrate 25 side thereof are arranged orthogonal to each other with a dielectric layer made of a predetermined dielectric material interposed therebetween. Along with the finger electrodes, a so-called matrix electrode structure is provided in which a screen electrode is provided on the transparent drawing substrate 25 side further on the transparent drawing substrate 25 side, and by applying a high frequency high voltage between the line electrode and the finger electrode. A discharge is generated at the electrode crossing portion to generate positive and negative ions. Of the positive and negative ions generated here, positive ions are absorbed by the finger electrodes or screen electrodes. Negative ions are accelerated and radiated to the transparent drawing substrate 25 side or blocked from radiating to the transparent drawing substrate 25 side according to the electric field between the finger electrodes and the screen electrodes. The negative ions accelerated and radiated to the transparent drawing substrate 25 side move toward the transparent drawing substrate 25 due to the electric field between the screen electrode and the transparent drawing substrate 25 in which the conductive layer 25a is connected to the ground, and are settled on the transparent drawing substrate 25. Form a latent image. Therefore, by controlling the voltage (line voltage, pack bias voltage, screen voltage) applied to each electrode, an electrostatic latent image of an arbitrary shape is formed on the lower surface of the transparent drawing substrate 25. Mask forming unit
The components other than the print cartridge 53 among the components of 52 are substantially the same as those used in a known electrophotographic image recording apparatus (for example, a copying machine), and therefore, detailed description will be omitted. The sleeve 54 rotates while adsorbing the toner (for example, one-component toner) in the toner storage container 55 on the outer peripheral surface, transferring the toner onto the electrostatic latent image formed on the transparent drawing substrate 25 to develop it, and then the ultraviolet light. A toner image is formed as a mask that shields the light from the lamp 51. Scraper 56
The transparent drawing substrate 25 and the mask forming unit 52 are shown in FIG.
When moving from the solid line position to the virtual line position in (a), the residual toner is collected in the toner container 55 by sliding contact with the lower surface of the transparent drawing substrate 25. The erase rod 57 uniformly charges the lower surface of the transparent drawing substrate 25 after removing the residual toner to erase the electrostatic latent image. The cleaner 58 is a known one and cleans the lower surface of the transparent drawing substrate 25. Also, move case 59
Is the light-shielding duct 23 when it is moved to the left end of FIG.
It has a side wall 59a which is close to and functions as a part of the light shielding duct 23. That is, the mask forming unit 52 selectively forms a light shielding mask on the lower surface of the transparent drawing substrate 25 when moving to one side, and removes the light shielding mask from the lower surface of the transparent drawing substrate 25 when moving to the other side. It is supposed to do.

【0029】また、図4(b)に示すように、透明描画
基板25とマスク形成ユニット52の移動ケース59とは、動
滑車キャリッジ61およびワイヤ63を介してステッピング
モータ64により駆動されるようになっており、ワイヤ63
はマスク形成ユニット52のワイヤ固定点52aを略中間点
として図4(b)中に一点鎖線で示した左半部の第1ワ
イヤ部分63aと、図4(b)中に実線で示した右半部の
第2ワイヤ部分63bとに分かれている。第1ワイヤ部分
63aは、ステッピングモータ64に連結されたワイヤキャ
プスタン65および動滑車キャリッジ61に巻き掛けられ水
平移動台21のワイヤ固定部21aに固定されて略Z状に延
在しており、第2ワイヤ部分63bは、アイドルローラ67
および動滑車キャリッジ61に巻き掛けられ水平移動台21
のワイヤ固定部21bに固定されて略S字状に延在してい
る。したがって、ステッピングモータ64が回転すると
き、その回転方向に応じてマスク形成ユニット52が造形
ベース41と略平行な移動方向に移動するとともに、透明
描画基板25がマスク形成ユニット52の1/2の速度で同
方向又は反対方向に移動し、透明描画基板25とマスク形
成ユニット52が水平方向に相対移動する。
Further, as shown in FIG. 4B, the transparent drawing substrate 25 and the moving case 59 of the mask forming unit 52 are driven by a stepping motor 64 via a movable pulley carriage 61 and a wire 63. Has become wire 63
Is the first wire portion 63a of the left half shown by the alternate long and short dash line in FIG. 4 (b) with the wire fixing point 52a of the mask forming unit 52 as a substantially intermediate point, and the right shown by the solid line in FIG. 4 (b). It is divided into a half second wire portion 63b. First wire part
63a is wound around the wire capstan 65 and the movable pulley carriage 61 connected to the stepping motor 64, is fixed to the wire fixing portion 21a of the horizontal moving base 21, and extends in a substantially Z shape. 63b is an idle roller 67
And the horizontal carriage 21 that is wound around the movable pulley carriage 61.
It is fixed to the wire fixing portion 21b and extends in a substantially S-shape. Therefore, when the stepping motor 64 rotates, the mask forming unit 52 moves in a moving direction substantially parallel to the modeling base 41 according to the rotating direction, and the transparent drawing substrate 25 moves at a speed half that of the mask forming unit 52. Then, the transparent drawing substrate 25 and the mask forming unit 52 relatively move in the horizontal direction.

【0030】このような露光手段50による未硬化材料層
L1 の露光中、透明描画基板25は露光に供する光を透過
させつつ、前記所定移動区間内に位置する搬送フィルム
11および未硬化材料層L1 の所定領域を搬送フィルム11
の下方から平坦にかつ水平に支持する。したがって、透
明描画基板25は、紫外線ランプ51からの露光光に対しこ
れを透過させ得る実質的に透明なものであればよいが、
好ましくは、例えばガラス基板にインジューム(In)・
スズ(Sn)等からなる透明な導電層25a(前記アースに
接続される層)と、導電層を覆う前記透明な絶縁層(こ
の透明絶縁層の下面にマスクが形成される)とから形成
される。また、搬送フィルム11の所定移動区間内で搬送
フィルム11と前記マスクを介して選択的に露光された未
硬化材料層L1 は、そのマスク領域以外では未硬化のま
まであるが、露光領域では露光光を照射されることで硬
化する。すなわち、前記所定移動区間内の未硬化材料層
L1 中に前記マスク形状に対応する所定形状の硬化層L
2 が形成される。
During the exposure of the uncured material layer L1 by the exposure means 50 as described above, the transparent drawing substrate 25 transmits the light used for the exposure, and the transport film positioned in the predetermined movement section.
11 and a predetermined area of the uncured material layer L1
Support flatly and horizontally from below. Therefore, the transparent drawing substrate 25 may be a substantially transparent substrate that can transmit the exposure light from the ultraviolet lamp 51,
Preferably, for example, indium (In)
It is formed of a transparent conductive layer 25a (layer connected to the ground) made of tin (Sn) or the like and the transparent insulating layer (a mask is formed on the lower surface of this transparent insulating layer) covering the conductive layer. It Further, the uncured material layer L1 selectively exposed through the transport film 11 and the mask within the predetermined movement section of the transport film 11 remains uncured outside the mask region, but is exposed in the exposure region. It cures when exposed to light. That is, the hardened layer L1 having a predetermined shape corresponding to the mask shape is formed in the uncured material layer L1 in the predetermined movement section.
2 is formed.

【0031】なお、硬化層L2 の周りに未硬化のまま残
った未硬化材料層L1 の残部は、搬送フィルム11の下方
への湾曲および移動によって硬化層L2 側から分離され
(詳細は後述する)、搬送フィルム11に支持されて掻き
取り器26まで搬送された後、掻き取り器26によって搬送
フィルム11上から掻き取られ、回収される。次に、その
作用を説明する。
The remaining portion of the uncured material layer L1 that remains uncured around the cured layer L2 is separated from the cured layer L2 side by the downward bending and movement of the transport film 11 (details will be described later). After being transported to the scraping device 26 while being supported by the transport film 11, the scraping device 26 scrapes it from the transport film 11 and collects it. Next, the operation will be described.

【0032】<材料層塗工およびマスク形成工程>ま
ず、移動規制部材32により材料搬送方向への移動を規制
されるよう搬送フィルム11上にノズルプレート31が載置
され、この状態で左右の移動規制部材32のねじ調整によ
りノズルプレート31の向きが調整される。このとき、ノ
ズルプレート31の材料塗工部31bと搬送フィルム11の上
面との間に搬送フィルム幅方向に延びる略スリット状の
隙間g1 が形成され、ノズルプレート31の通路形成部31
cと搬送フィルム11の上面との間に搬送フィルム幅方向
の寸法が前記スリット状の隙間g1 と略同一の材料通路
35が形成される。
<Material Layer Coating and Mask Forming Step> First, the nozzle plate 31 is placed on the transport film 11 so that the movement in the material transport direction is regulated by the movement regulating member 32, and in this state the left and right movement is performed. The direction of the nozzle plate 31 is adjusted by adjusting the screw of the regulating member 32. At this time, a substantially slit-shaped gap g1 extending in the width direction of the transport film is formed between the material coating portion 31b of the nozzle plate 31 and the upper surface of the transport film 11, and the passage forming portion 31 of the nozzle plate 31 is formed.
A material passage whose dimension in the width direction of the transport film is substantially the same as that of the slit-shaped gap g1 between the c and the upper surface of the transport film
35 are formed.

【0033】次いで、材料供給容器37からノズルプレー
ト31の材料収容部31a内に所定量の未硬化材料Pm が供
給される。すなわち、材料供給容器37の供給口37aが未
硬化材料Pm によって閉塞されるまで、未硬化材料Pm
の供給がなされ、供給口37aが未硬化材料Pm により閉
塞されると、この材料供給が停止される。また、未硬化
材料Pm の搬送フィルム11への塗工によ材料収容部31a
内の未硬化材料Pm が材料供給容器37の供給口37aから
離れると、供給口37aから材料供給容器37内に外部の空
気が入り込み、これが気泡38となって材料供給容器37内
の空間39の容積を増加させることで、材料供給容器37内
の未硬化材料Pm が供給口37aを通してノズルプレート
31に供給される。したがって、材料供給容器37を逆さに
しただけの簡単な材料供給手段によって常時適量の未硬
化材料Pm を供給することができる。
Next, a predetermined amount of uncured material Pm is supplied from the material supply container 37 into the material storage portion 31a of the nozzle plate 31. That is, until the supply port 37a of the material supply container 37 is closed by the uncured material Pm.
When the supply port 37a is closed by the uncured material Pm, the material supply is stopped. In addition, the uncured material Pm is applied to the transport film 11 so that the material storage portion 31a is formed.
When the uncured material Pm inside is separated from the supply port 37a of the material supply container 37, the outside air enters the material supply container 37 through the supply port 37a, and this becomes air bubbles 38 to form a space 39 in the material supply container 37. By increasing the volume, the uncured material Pm in the material supply container 37 passes through the supply port 37a and the nozzle plate.
Supplied to 31. Therefore, an appropriate amount of uncured material Pm can be constantly supplied by a simple material supply means simply by inverting the material supply container 37.

【0034】次いで、フィルム移動手段20によって搬送
フィルム11が材料搬送方向に移動される。このとき、搬
送フィルム11とノズルプレート31との相対移動に伴い、
前記スリット状の隙間g1 を通して未硬化材料Pm がノ
ズルプレート31の外部に引き出されるが、材料通路35の
通路断面積がノズルプレート31の材料収容部31a側では
大きく前記スリット状の隙間g1 側では小さくなってい
るから、材料収容部31aから材料通路35に入った未硬化
材料Pm はノズルプレート31に対し材料塗工部31b側に
相対移動しながら徐々に薄い層状に成形され、スリット
状の隙間g1 を通過する際にはこのスリット状の隙間g
1 に対応する層厚一定の未硬化材料層L1 が成形され
る。このとき、搬送フィルム11とノズルプレート31との
間に形成された材料通路35の周辺部で搬送フィルム11お
よびノズルプレート31がノズル台36上で平坦に案内され
ることにより、更に搬送フィルム11自体のある程度の曲
げ剛性と材料搬送方向への張力により、材料通路35を形
成する領域において搬送フィルム11が十分な平坦度を保
っている。したがって、構成の簡単なノズルプレートを
用いて搬送フィルム11上に一定層厚の未硬化材料層L1
が容易かつきわめて高精度に形成される。
Next, the transport film 11 is moved in the material transport direction by the film moving means 20. At this time, with the relative movement of the transport film 11 and the nozzle plate 31,
The uncured material Pm is drawn out of the nozzle plate 31 through the slit-shaped gap g1, but the passage cross-sectional area of the material passage 35 is large on the material accommodating portion 31a side of the nozzle plate 31 and small on the slit-shaped gap g1 side. Therefore, the uncured material Pm that has entered the material passage 35 from the material storage portion 31a is gradually formed into a thin layer while moving relatively to the material coating portion 31b side with respect to the nozzle plate 31, and the slit-shaped gap g1 When passing through the slit-shaped gap g
An uncured material layer L1 having a constant layer thickness corresponding to 1 is formed. At this time, the transport film 11 and the nozzle plate 31 are guided flat on the nozzle base 36 at the peripheral portion of the material passage 35 formed between the transport film 11 and the nozzle plate 31, and thus the transport film 11 itself. Due to a certain degree of bending rigidity and tension in the material conveying direction, the conveying film 11 maintains sufficient flatness in the region where the material passage 35 is formed. Therefore, the uncured material layer L1 having a constant thickness is formed on the transport film 11 by using a nozzle plate having a simple structure.
Are formed easily and with extremely high precision.

【0035】このとき、搬送フィルム11の下方では、図
5(a)〜(c)に示すように、ステッピングモータ64
が駆動されて透明描画基板25とマスク形成ユニット52が
相対移動するとともに、プリントカートリッジ53が描画
駆動され、透明描画基板25の下面に造形すべき硬化層L
2 に対応する遮光マスクTが形成される。なお、図5に
おいて、(a)はマスク描画開始時、(b)はマスク描
画中、(c)はマスク描画完了時を示している。図5
(c)に示すように、描画完了時においては未硬化材料
層L1 の先端が掻き取り器26の近傍に達し、搬送フィル
ム11上の未硬化材料層L1 は搬送フィルム11の所定移動
区間まで移動した状態となる。そして、それより下流側
の搬送フィルム11上に未硬化材料Pm が残っていた場合
には、掻き取りローラ15と掻き取り器26の間を通過する
際、この搬送フィルム11上の未硬化材料が掻き取り器26
により掻き取られて回収される。
At this time, below the transport film 11, as shown in FIGS.
Is driven to move the transparent drawing substrate 25 and the mask forming unit 52 relative to each other, and the print cartridge 53 is driven to draw, and the cured layer L to be formed on the lower surface of the transparent drawing substrate 25.
A light-shielding mask T corresponding to 2 is formed. In FIG. 5, (a) shows the start of mask drawing, (b) shows the mask drawing, and (c) shows the completion of the mask drawing. Figure 5
As shown in (c), when the drawing is completed, the tip of the uncured material layer L1 reaches the vicinity of the scraper 26, and the uncured material layer L1 on the transport film 11 moves to a predetermined moving section of the transport film 11. It will be in the state of doing. When the uncured material Pm remains on the transport film 11 on the downstream side, the uncured material on the transport film 11 is passed when passing between the scraping roller 15 and the scraper 26. Scraper 26
It is scraped off and collected.

【0036】<積層工程>次いで、図7(a)および図
7(b)に示すように、水平移動台21が使用済み搬送ボ
ビン19側に移動するとともにレベリングローラ14がこれ
と一体に移動し、搬送フィルム11の湾曲した部位が造形
ベース41と略平行な移動方向一方側に移動するのに伴っ
て、レベリングローラ14より下流側で下方側に湾曲して
いた未硬化材料層L1 が、造形ベース41の下面側にその
一端側から他端側へと積層される。そして、水平移動台
21と共にレベリングローラ14が図7(c)の位置まで移
動すると、水平移動台21が停止する。
<Laminating Step> Next, as shown in FIGS. 7 (a) and 7 (b), the horizontal moving table 21 moves to the used transport bobbin 19 side, and the leveling roller 14 moves integrally therewith. As the curved portion of the transport film 11 moves to one side in the movement direction substantially parallel to the molding base 41, the uncured material layer L1 curved downward on the downstream side of the leveling roller 14 is formed. The base 41 is laminated on the lower surface side from one end side to the other end side. And the horizontal moving table
When the leveling roller 14 moves to the position of FIG. 7C together with 21, the horizontal moving table 21 stops.

【0037】<露光工程>次いで、紫外線ランプ51から
所定光量の光(紫外線)が透明描画基板25の下方から上
方に向かって発光され、遮光ダクト23を通して透明描画
基板25の下面に照射される。このとき、透明描画基板25
の下面に既に形成されている前記マスクTによって紫外
線ランプ51からの光が選択的に遮光され、遮光されない
光が透明描画基板25および搬送フィルム11を透過するこ
とで、造形ベース41に対面している未硬化材料層L1 の
一部が選択的に露光されて硬化し、前記マスクTの形状
に対応する所定形状の硬化層L2 が形成される。このと
き、造形ベース41の直下にある所定移動区間の搬送フィ
ルム11および未硬化材料層L1 は、透明描画基板25によ
って露光領域全域で下方から水平かつ平坦に支持されて
いるから、該露光領域の未硬化材料層L1 が透明描画基
板25に沿う平坦な硬化層L2 となる。したがって、造形
精度が向上する。なお、硬化層L2 は硬化中に造形ベー
ス41側に固着し、造形ベース41又は先に形成されている
下層の硬化物(図7(c)中では上側の層)と一体にな
る。
<Exposure Step> Next, a predetermined amount of light (ultraviolet light) is emitted from the ultraviolet lamp 51 from the lower side to the upper side of the transparent drawing substrate 25, and the lower surface of the transparent drawing substrate 25 is irradiated through the light shielding duct 23. At this time, the transparent drawing substrate 25
The light from the ultraviolet lamp 51 is selectively shielded by the mask T already formed on the lower surface of the, and the unshielded light passes through the transparent drawing substrate 25 and the transport film 11 to face the modeling base 41. Part of the uncured material layer L1 present is selectively exposed and cured to form a cured layer L2 having a predetermined shape corresponding to the shape of the mask T. At this time, the transport film 11 and the uncured material layer L1 in a predetermined movement section immediately below the modeling base 41 are horizontally and flatly supported from below by the transparent drawing substrate 25 in the entire exposure area. The uncured material layer L1 becomes a flat cured layer L2 along the transparent drawing substrate 25. Therefore, modeling accuracy is improved. The cured layer L2 is fixed to the modeling base 41 side during curing and becomes integral with the modeling base 41 or the lower layer cured product (the upper layer in FIG. 7C) formed previously.

【0038】<剥離工程>次いで、図8(a)に示すよ
うに、水平移動台21が搬送フィルムボビン10側に移動す
るとともに、レベリングローラ14がこれと一体に後退す
ると、硬化層L2の周りに未硬化のまま残り搬送フィル
ム11に支持されていた未硬化材料層Lr が、搬送フィル
ム11と共に造形ベース41側から離隔するよう湾曲され、
造形ベース41側から剥離される。したがって、次層の未
硬化材料層L1 を露光する際に、その露光領域内に前の
層の未硬化材料層Lr が存在するということがなくな
り、硬化層厚制御のために露光出力(深さ)を厳密に制
御する必要がない。そのため、十分な露光量で各硬化層
L2 を十分に硬化させることができ、所謂ポストキュア
作業をなくすことができる。なお、このように剥離工程
が完了した状態では、図6(a)に示す状態となる。
<Peeling Step> Next, as shown in FIG. 8 (a), when the horizontal moving table 21 moves to the side of the transport film bobbin 10 and the leveling roller 14 recedes integrally with it, the surroundings of the hardened layer L2. The uncured material layer Lr, which remains uncured and is supported by the transport film 11, is curved so as to be separated from the modeling base 41 side together with the transport film 11.
It is peeled off from the modeling base 41 side. Therefore, when the uncured material layer L1 of the next layer is exposed, the uncured material layer Lr of the previous layer does not exist in the exposed region, and the exposure output (depth) is controlled to control the cured layer thickness. ) Does not need to be strictly controlled. Therefore, each cured layer L2 can be sufficiently cured with a sufficient exposure amount, and so-called post-cure work can be eliminated. When the peeling process is completed, the state shown in FIG. 6A is obtained.

【0039】<マスク除去工程>次いで、図6(a)〜
(c)に示すように、再度ステッピングモータ64が駆動
されて透明描画基板25とマスク形成ユニット52が相対移
動し、その状態でスクレーパ56によるトナー回収、イレ
ースロッド57による静電潜像の消去駆動、並びにクリー
ナ58による透明描画基板25の下面クリーニングがなされ
て、透明描画基板25の下面に形成されていた前記マスク
Tが除去される。なお、図6において、(a)はマスク
除去作業の開始時、(b)は除去作業中、(c)はマス
ク除去了時を示している。また、図6(c)に示すマス
ク除去完了時においては、回収すべき未硬化材料層Lr
の半分が掻き取り器26によって回収され、残りの半分が
搬送フィルム11に残っている。したがって、図8(b)
に示すように搬送フィルム11を更に移動させて残部の未
硬化材料層Lr を回収する必要があるが、この残部の回
収は上述した材料層塗工およびマスク形成工程と同時に
行われることになる。
<Mask Removal Step> Next, as shown in FIG.
As shown in (c), the stepping motor 64 is driven again to move the transparent drawing substrate 25 and the mask forming unit 52 relative to each other, and in that state, the scraper 56 collects toner and the erase rod 57 erases the electrostatic latent image. Then, the lower surface of the transparent drawing substrate 25 is cleaned by the cleaner 58, and the mask T formed on the lower surface of the transparent drawing substrate 25 is removed. In FIG. 6, (a) shows the start of the mask removing work, (b) shows the removing work, and (c) shows the end of the mask removing. Further, when the mask removal shown in FIG. 6C is completed, the uncured material layer Lr to be collected is
Half of the above is collected by the scraper 26, and the other half remains on the transport film 11. Therefore, FIG.
It is necessary to further move the transport film 11 to recover the remaining uncured material layer Lr as shown in FIG. 3, but the recovery of the remaining portion is performed at the same time as the above-mentioned material layer coating and mask forming steps.

【0040】このように本実施例では、搬送フィルム11
に載置したノズルプレート31によって搬送フィルム11の
移動に伴って一定層厚の未硬化材料層L1 が形成され、
レベリングローラ14の一方側への移動により、造形ベー
ス41の下面側に所定移動区間の未硬化材料層L1 積層さ
れるとともに、積層された未硬化材料層L1 が搬送フィ
ルム11を介し透明描画基板25によって下方から平坦に支
持され、その状態で露光される。したがって、露光領域
の未硬化材料層L1 が透明描画基板25に沿う平坦な硬化
層L2 となり、造形精度が向上する。さらに、露光後の
レベリングローラ14の復帰により残余の未硬化材料層L
r が造形ベース41側から確実に剥離されるから、従来の
ように次層の未硬化材料層L1 の露光領域内に前の層の
未硬化材料層Lr が存在するということがなく、硬化層
厚制御のために露光手段の露光出力を厳密に制御したり
所謂ポストキュア作業を行なったりする必要がなくな
る。したがって、造形作業の工数を大幅に削減すること
ができる。
As described above, in this embodiment, the transport film 11 is used.
The uncured material layer L1 having a constant thickness is formed by the movement of the transport film 11 by the nozzle plate 31 placed on
By moving the leveling roller 14 to one side, the uncured material layer L1 in a predetermined movement section is laminated on the lower surface side of the modeling base 41, and the laminated uncured material layer L1 is transferred through the transport film 11 to the transparent drawing substrate 25. It is supported flat from below and exposed in that state. Therefore, the uncured material layer L1 in the exposed area becomes a flat cured layer L2 along the transparent drawing substrate 25, and the modeling accuracy is improved. Further, the remaining uncured material layer L is returned by the returning of the leveling roller 14 after the exposure.
Since r is reliably peeled off from the modeling base 41 side, unlike the conventional case, the uncured material layer Lr of the previous layer does not exist in the exposed region of the uncured material layer L1 of the next layer. It becomes unnecessary to strictly control the exposure output of the exposure means or to perform so-called post-cure work for controlling the thickness. Therefore, the number of man-hours for modeling work can be significantly reduced.

【0041】また、本実施例では、構成の簡単なノズル
プレート31を用いて搬送フィルム11上に一定層厚の未硬
化材料層L1 が容易に形成されるとともに、透明描画基
板25が未硬化材料層L1 の平坦支持とその露光時のマス
ク形成とに共用される多機能部品となっているから、安
価な材料層塗工手段と露光手段とを実現することがで
き、装置のコストを低減させることができる。さらに、
本実施例では、水平移動台21にレベリングローラ14や掻
き取りローラ15および掻き取り器26、並びに透明描画基
板25およびマスク形成ユニット52が支持されるから、造
形ベース41側の硬化層L2 (露光硬化した部分)と未硬
化材料層Lr (未硬化材料部分)とを分離するための動
作を利用して、露光時のマスクTを迅速で高精度に形成
することのできる安価なマスク形成手段を実現すること
ができる。
Further, in this embodiment, the uncured material layer L1 having a constant thickness is easily formed on the transport film 11 by using the nozzle plate 31 having a simple structure, and the transparent drawing substrate 25 is made of the uncured material. Since it is a multi-functional component which is commonly used for the flat support of the layer L1 and the mask formation at the time of its exposure, it is possible to realize an inexpensive material layer coating means and an exposing means and reduce the cost of the apparatus. be able to. further,
In this embodiment, the leveling roller 14, the scraping roller 15, the scraping device 26, the transparent drawing substrate 25, and the mask forming unit 52 are supported on the horizontal moving table 21, so that the hardened layer L2 (exposure) on the modeling base 41 side is exposed. By using the operation for separating the cured portion) and the uncured material layer Lr (uncured material portion), an inexpensive mask forming means capable of forming the mask T at the time of exposure quickly and highly accurately is provided. Can be realized.

【0042】また、本実施例では、材料供給容器37を造
形物体の大きさ(必要な材料量)に応じた本数だけ準備
し、それらを逆さにしてノズルプレート31の長手方向に
配列するだけで、材料供給のための作業が完了する。し
たがって、材料供給のための準備作業を非常に簡単な作
業にすることができる。しかも、未硬化材料Pm が材料
供給容器37に収容された状態から直接ノズルプレート31
に供給されるので、高価な未硬化材料Pm を劣化させた
り汚染したりし難くなり、造形コストをも低減させるこ
とができる。
Further, in this embodiment, the material supply containers 37 are prepared by the number corresponding to the size of the modeling object (the required amount of material), and they are inverted and arranged in the longitudinal direction of the nozzle plate 31. The work for material supply is completed. Therefore, the preparatory work for supplying the material can be a very simple work. Moreover, the uncured material Pm is directly stored in the material supply container 37 from the nozzle plate 31.
Since the expensive uncured material Pm is not easily deteriorated or contaminated, it is possible to reduce the modeling cost.

【0043】[0043]

【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、材料層塗
工手段により搬送フィルム上に塗工した未硬化材料層を
搬送フィルムの所定移動区間内で実質的に透明な支持プ
レートによって下方から支持し、その状態で搬送フィル
ムの下面側から該搬送フィルムを介して未硬化材料層を
露光するようにしているので、支持プレートに沿う平坦
な硬化層を形成して造形精度を向上させることができ
る。さらに、硬化層の周囲で搬送フィルムに支持されて
いる未硬化材料層を搬送フィルムと共に造形ベース側か
ら容易に離隔させることができ、次層を露光する際に硬
化層厚制御のために露光手段の露光出力を厳密に制御し
たり所謂ポストキュア作業を行なったりする必要をなく
すことができる。その結果、露光手段を簡単な低コスト
のものにすることができ、しかも、造形作業の工数を大
幅に削減することができる。
According to the first aspect of the present invention, the uncured material layer coated on the transport film by the material layer coating means is moved downward by the substantially transparent support plate within the predetermined moving section of the transport film. Since the uncured material layer is exposed from the lower surface side of the transport film through the transport film in that state, it is possible to improve the modeling accuracy by forming a flat cured layer along the support plate. You can Further, the uncured material layer supported by the transport film around the cured layer can be easily separated from the modeling base side together with the transport film, and the exposure means for controlling the cured layer thickness when the next layer is exposed. It is possible to eliminate the need to strictly control the exposure output of 1 or perform so-called post-cure work. As a result, the exposure means can be made simple and low-cost, and the number of modeling operations can be significantly reduced.

【0044】請求項2記載の発明によれば、搬送フィル
ムの材料搬送方向への移動が規制されたノスルプチレー
トによって、搬送フィルムが移動するとき、搬送フィル
ムと材料塗工部の間に形成されるスリット状の隙間を通
して材料収容部から材料通路に入った材料を該隙間に対
応する断面形状の未硬化材料層に成形するようにしてい
るので、構成の簡単なノズルプレートを用いて搬送フィ
ルム上に一定層厚の未硬化材料層を容易に形成すること
ができる。
According to the second aspect of the present invention, when the transport film is moved by the nosultylate whose movement in the material transport direction is restricted, it is formed between the transport film and the material coating section. Since the material that has entered the material passage from the material storage portion through the slit-shaped gap is formed into an uncured material layer having a cross-sectional shape corresponding to the gap, a transport film is formed using a nozzle plate with a simple structure. An uncured material layer having a constant layer thickness can be easily formed thereon.

【0045】請求項3記載の発明によれば、露光手段の
マスク形成ユニットを透明支持プレートの下面に沿って
移動させ、該支持プレートの下面上に選択的に遮光マス
クを形成するようにしているので、支持プレートを未硬
化材料の支持と露光時のマスク形成とに利用される多機
能部品として、より安価な露光手段を実現することがで
きる。
According to the third aspect of the present invention, the mask forming unit of the exposure means is moved along the lower surface of the transparent supporting plate to selectively form the light shielding mask on the lower surface of the supporting plate. Therefore, a cheaper exposure means can be realized by using the support plate as a multi-functional component used for supporting the uncured material and forming a mask during exposure.

【0046】請求項4記載の発明によれば、係合部材お
よび支持プレートを支持しつつ移動する移動台に、支持
プレートと相対移動するようマスク形成ユニットを支持
しているので、露光硬化部分と未硬化材料部分とを分離
するための動作を利用して、露光時のマスクを迅速で高
精度に形成することができ、安価なマスク形成手段を実
現することができる。
According to the fourth aspect of the present invention, since the mask forming unit is supported on the moving table which moves while supporting the engaging member and the supporting plate so as to move relative to the supporting plate, it is possible to prevent the exposure curing portion from being exposed. By utilizing the operation for separating the uncured material portion, the mask at the time of exposure can be formed quickly and with high accuracy, and an inexpensive mask forming means can be realized.

【0047】請求項5記載の発明によれば、材料供給容
器の供給口を塗工ノズル側の未硬化材料により閉塞又は
開放することにより、安定した材料供給をきわめて簡単
な構成で実現することができる。また、造形する物体の
大きさに応じて必要数の材料供給容器を塗工ノズル上に
配置するだけで済み、未硬化材料の供給作業をきわめて
容易にすることができる。
According to the fifth aspect of the present invention, by closing or opening the supply port of the material supply container with the uncured material on the coating nozzle side, stable material supply can be realized with an extremely simple structure. it can. Further, it is only necessary to arrange the required number of material supply containers on the coating nozzle according to the size of the object to be molded, and the work of supplying the uncured material can be made extremely easy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る光造形装置の一実施例の全体構成
を示す概略正面図で、(a)はその未硬化材料層の塗工時
を、(b)はその未硬化材料層の積層時を示している。
FIG. 1 is a schematic front view showing an overall configuration of an embodiment of a stereolithography apparatus according to the present invention, in which (a) shows a state of applying an uncured material layer and (b) shows an uncured material layer thereof. The time of lamination is shown.

【図2】一実施例の材料層塗工手段の構成を示す断面図
で、(a)はそのノズルプレートが搬送フィルム上に載置
されている状態を示し、(b)はそのノズルプレートの一
方のセグメントの他の態様を示している。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the structure of a material layer coating means of one embodiment, (a) shows a state in which the nozzle plate is placed on a transport film, and (b) shows the nozzle plate. The other aspect of one segment is shown.

【図3】一実施例における材料層塗工幅、搬送フィルム
幅および移動規制部材の配置を示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing an arrangement of a material layer coating width, a conveying film width, and a movement restricting member in one example.

【図4】一実施例の支持プレートとマスク形成ユニット
との構成を示す部分正面図で、(a)はその両者の配置と
移動方向を、(b)はその両者の駆動系の構成を示してい
る。
FIG. 4 is a partial front view showing the configuration of a support plate and a mask forming unit of one embodiment, (a) shows the arrangement and moving direction of both, and (b) shows the configuration of both drive systems. ing.

【図5】一実施例の材料層塗工工程とマスク形成工程と
を説明する工程説明図で、(a)はその塗工およびマスク
形成動作の開始時を、(b)はその塗工およびマスク形成
動作中を、(c)はその塗工およびマスク形成完了時を示
している。
5A and 5B are process explanatory diagrams illustrating a material layer coating process and a mask forming process according to an embodiment, in which FIG. 5A is the start time of the coating and mask forming operation, and FIG. During the mask forming operation, (c) shows the completion of coating and mask formation.

【図6】一実施例のマスク除去工程を説明する工程説明
図で、(a)はそのマスク除去動作の開始時を、(b)はそ
のマスク除去動作中を、(c)はそのマスク除去完了時を
示している。
6A to 6C are process explanatory diagrams illustrating a mask removing process according to one embodiment, in which FIG. 6A is the start time of the mask removing operation, FIG. 6B is the mask removing operation, and FIG. It indicates the completion time.

【図7】一実施例の材料層積層工程および露光工程を説
明する図で、(a)はその積層動作の開始時を、(b)その
積層動作中を、(c)はその露光動作中を示している。
7A and 7B are views for explaining a material layer laminating step and an exposing step of one embodiment, where FIG. 7A is the start of the laminating operation, FIG. 7B is the laminating operation, and FIG. 7C is the exposing operation. Is shown.

【図8】一実施例の材料層剥離工程を説明する図で、
(a)はその剥離動作中を、(b)その剥離動作直後に搬送
フィルム上の残留未硬化材料を掻き取る掻き取り器の動
作を示している。
FIG. 8 is a diagram illustrating a material layer peeling process of one embodiment,
(a) shows the operation of the scraping device for scraping off the residual uncured material on the transport film immediately after the peeling operation (a).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 搬送フィルム 13 送り出しローラ 14 レベリングローラ(係合部材) 15 掻き取りローラ 16、17 巻取りローラ 20 フィルム移動手段 21 水平移動台(移動台) 25 透明描画基板 26 掻き取り器 30 材料層塗工手段 31 ノズルプレート(塗工ノズル) 31a 材料収容部 31b 材料塗工部 31c 通路形成部 32 移動規制部材 33、34 セグメント 35 材料通路 36 ノズル台 37 材料供給容器 37a 供給口 41 造形ベース 50 露光手段 51 紫外線ランプ(光源) 52 マスク形成ユニット g1 スリット状の隙間 L1 未硬化材料層 L2 硬化層 11 Transport film 13 Sending roller 14 Leveling roller (engaging member) 15 scraping roller 16, 17 Take-up roller 20 Film moving means 21 Horizontal moving table (moving table) 25 Transparent drawing board 26 scraper 30 Material layer coating means 31 Nozzle plate (coating nozzle) 31a Material storage section 31b Material coating department 31c Passage forming part 32 Movement restriction member 33, 34 segment 35 Material passage 36 nozzle base 37 Material supply container 37a Supply port 41 modeling base 50 Exposure means 51 UV lamp (light source) 52 Mask forming unit g1 slit-like gap L1 uncured material layer L2 hardened layer

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B29C 67/00 Continuation of front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) B29C 67/00

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】光を透過する実質的に透明な帯状体からな
る可撓性の搬送フィルムと、 前記搬送フィルム上に光硬化樹脂を含む未硬化材料から
なる一定層厚の未硬化材料層を塗工形成する材料層塗工
手段と、 前記搬送フィルムを所定の材料搬送方向に移動させて前
記未硬化材料層を前記搬送フィルムにより搬送させるフ
ィルム移動手段と、 前記搬送フィルムの所定移動区間で該搬送フィルムを介
して前記未硬化材料層を選択的に露光し、該所定移動区
間内の未硬化材料層中に所定形状の硬化層を形成する露
光手段と、 前記露光手段による未硬化材料層の露光中、該露光に供
する光を透過させつつ前記所定移動区間内に位置する前
記搬送フィルムおよび未硬化材料層を前記搬送フィルム
の下方から支持する実質的に透明な支持プレートと、 前記所定移動区間の搬送フィルムの上方で前記未硬化材
料層に対向するとともに前記支持プレートに対し相対的
に接近および離隔するよう前記支持プレートと略平行に
設けられた造形ベースと、 前記所定移動区間の近傍で前記搬送フィルムに係合する
係合部材を有し、該係合部材より下流側の搬送フィルム
を下方側に湾曲させるとともに、該係合部材の移動によ
り該搬送フィルムの湾曲した部位を前記造形ベースと略
平行な移動方向に往復移動させ、該搬送フィルムの湾曲
した部位を一方側に移動させるときには前記造形ベース
の下面側に前記未硬化材料層を積層し、該搬送フィルム
の湾曲した部位を他方側に移動させるときには前記露光
により造形ベース側に固着した硬化層の周囲で前記搬送
フィルムに支持されている未硬化材料層を前記搬送フィ
ルムと共に前記造形ベース側から離隔させる積層手段
と、を備えたことを特徴とする光造形装置。
1. A flexible transport film made of a substantially transparent strip that transmits light, and an uncured material layer having a constant thickness made of an uncured material containing a photocurable resin on the transport film. A material layer coating means for forming a coating, a film moving means for moving the transport film in a predetermined material transport direction to transport the uncured material layer by the transport film, and a predetermined moving section of the transport film. An exposure unit that selectively exposes the uncured material layer through a transport film to form a cured layer having a predetermined shape in the uncured material layer within the predetermined movement section, and an uncured material layer by the exposure unit. During exposure, a substantially transparent support plate that supports the transport film and the uncured material layer located in the predetermined movement section from below the transport film while transmitting light used for the exposure, and A shaping base provided substantially parallel to the support plate so as to face the uncured material layer above the transport film in the predetermined movement section and relatively approach and separate from the support plate, and the predetermined movement section It has an engaging member which engages with the transport film in the vicinity, and bends the transport film on the downstream side of the engaging member downward, and the curved portion of the transport film is moved by the movement of the engaging member. When the curved portion of the transport film is moved back and forth in a movement direction substantially parallel to the molding base, the uncured material layer is laminated on the lower surface side of the molding base, and the curved portion of the transport film is laminated. Is moved to the other side, the uncured material layer supported by the transport film around the cured layer fixed on the modeling base side by the exposure is conveyed. Optical shaping apparatus, characterized in that it and a laminating means that spaced apart from the shaping base side along with the film.
【請求項2】前記材料層塗工手段が、前記搬送フィルム
上に載置されるとともに前記材料搬送方向への移動を規
制された塗工ノズルを有し、 該塗工ノズルが、 前記未硬化材料を収容する材料収容部と、 該材料収容部に対し前記材料搬送方向の下流側に設けら
れ、前記搬送フィルムの上面との間に前記搬送フィルム
の幅方向に延びる略スリット状の隙間を形成する材料塗
工部と、 前記搬送フィルムの上面との間に、前記搬送フィルムの
幅方向の寸法が前記スリット状の隙間と略同一で通路断
面積が前記材料収容部側では大きく前記スリット状の隙
間側では小さくなる材料通路を形成するよう、前記材料
収容部および前記材料塗工部の間に設けられた通路形成
部と、からなることを特徴とする請求項1記載の光造形
装置。
2. The material layer coating means has a coating nozzle which is placed on the transport film and whose movement in the material transport direction is restricted, wherein the coating nozzle is the uncured A substantially slit-shaped gap extending in the width direction of the transport film is formed between the material storage unit that stores the material and the material storage unit, which is provided on the downstream side in the material transport direction with respect to the material storage unit and extends to the upper surface of the transport film. Between the material coating section and the upper surface of the transport film, the widthwise dimension of the transport film is substantially the same as the slit-shaped gap, and the passage cross-sectional area is large on the material accommodating section side. The stereolithography apparatus according to claim 1, further comprising: a passage forming portion provided between the material containing portion and the material coating portion so as to form a material passage that becomes smaller on a gap side.
【請求項3】前記露光手段が、 前記支持プレートの下方側から上方に向かって光を照射
する光源と、 前記支持プレートの下面に沿って前記造形ベースと略平
行な方向に往復移動し、一方側に移動するときには前記
支持プレートの下面上に選択的に遮光マスクを形成し、
他方側に移動するときには前記遮光マスクを前記支持プ
レートの下面上から除去するマスク形成ユニットと、を
有することを特徴とする請求項1記載の光造形装置。
3. The exposure means reciprocates in a direction substantially parallel to the shaping base along a lower surface of the support plate and a light source that emits light upward from a lower side of the support plate. When moving to the side, a light shielding mask is selectively formed on the lower surface of the support plate,
2. A stereolithography apparatus according to claim 1, further comprising a mask forming unit that removes the light-shielding mask from the lower surface of the support plate when moving to the other side.
【請求項4】前記積層手段が、前記係合部材および前記
支持プレートを支持するとともに前記造形ベースと略平
行な方向に移動する移動台を有し、 前記露光手段のマスク形成ユニットが、前記造形ベース
と略平行な移動方向で前記支持プレートと相対移動する
よう、該移動台に支持されていることを特徴とする請求
項3記載の光造形装置。
4. The stacking means has a moving base that supports the engaging member and the support plate and moves in a direction substantially parallel to the modeling base, and the mask forming unit of the exposing means is the modeling tool. The stereolithography apparatus according to claim 3, wherein the stereolithography apparatus is supported by the movable table so as to move relative to the support plate in a movement direction substantially parallel to the base.
【請求項5】前記材料層塗工手段が、所定口径の供給口
を通して前記塗工ノズルに未硬化材料を供給する材料供
給容器を有し、 該材料供給容器の供給口が下向きで、かつ、前記塗工ノ
ズルの材料収容部に所定量の未硬化材料が収容されたと
き該未硬化材料により閉塞されるよう、所定の高さに位
置していることを特徴とする請求項2記載の光造形装
置。
5. The material layer coating means has a material supply container for supplying an uncured material to the coating nozzle through a supply port having a predetermined diameter, and the supply port of the material supply container faces downward, and The light according to claim 2, wherein the coating nozzle is positioned at a predetermined height so that when the predetermined amount of the uncured material is stored in the material storage portion of the coating nozzle, the uncured material is closed. Modeling equipment.
JP20942294A 1994-09-02 1994-09-02 Stereolithography Expired - Fee Related JP3414858B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20942294A JP3414858B2 (en) 1994-09-02 1994-09-02 Stereolithography

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20942294A JP3414858B2 (en) 1994-09-02 1994-09-02 Stereolithography

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0872153A JPH0872153A (en) 1996-03-19
JP3414858B2 true JP3414858B2 (en) 2003-06-09

Family

ID=16572614

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20942294A Expired - Fee Related JP3414858B2 (en) 1994-09-02 1994-09-02 Stereolithography

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3414858B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101754771B1 (en) * 2015-07-16 2017-07-07 한국기계연구원 3D ceramic printer and a method using the same

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3068072B2 (en) * 1998-11-25 2000-07-24 株式会社アフィット Stereolithography method and stereolithography device
JP2001062926A (en) * 1999-08-26 2001-03-13 Teijin Seiki Co Ltd Stereo lithography device and photo fabrication method
JP5534552B2 (en) * 2009-05-20 2014-07-02 株式会社ニコン Pattern forming apparatus, pattern forming method, device manufacturing apparatus, and device manufacturing method
JP4813594B2 (en) * 2009-11-18 2011-11-09 ローランドディー.ジー.株式会社 Stereolithography equipment
NL2012087C2 (en) * 2014-01-15 2015-07-16 Admatec Europ B V Additive manufacturing system for manufacturing a three dimensional object.
JP5765677B2 (en) * 2014-01-22 2015-08-19 株式会社ニコン Pattern forming apparatus and pattern forming method
JP5806773B1 (en) * 2014-10-16 2015-11-10 アビー株式会社 Stereolithography equipment
WO2017010841A1 (en) * 2015-07-16 2017-01-19 Korea Institute Of Machinery & Materials 3d ceramic printer and a method using the same
CN105538726A (en) * 2016-02-18 2016-05-04 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 Three-dimensional molding device and method based on film substrate
US10800104B2 (en) * 2017-03-24 2020-10-13 Korea Institute Of Machinery & Materials 3D printing device for multiple materials and 3D printing method for multiple materials
CN107803986A (en) * 2017-12-04 2018-03-16 厦门光服科技有限公司 A kind of 3D printing device and its application method
US11273608B2 (en) * 2018-06-07 2022-03-15 Sakuu Corporation Multi-material three-dimensional printer
CN112313065A (en) * 2018-06-20 2021-02-02 埃托雷·毛里齐奥·科斯塔贝贝尔 Stereolithography method and stereolithography machine for producing three-dimensional objects
AT16821U3 (en) 2020-01-29 2020-12-15 Tdk Electronics Ag 3D printer for additive manufacturing of a component and printing process
CN114913559B (en) * 2021-02-08 2024-06-21 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 Production device and preparation method of microlens array imaging assembly

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4961154A (en) * 1986-06-03 1990-10-02 Scitex Corporation Ltd. Three dimensional modelling apparatus
JPH0698685B2 (en) * 1987-06-12 1994-12-07 松下電器産業株式会社 Optical modeling device
IL109511A (en) * 1987-12-23 1996-10-16 Cubital Ltd Three-dimensional modelling apparatus
JP2706611B2 (en) * 1993-10-14 1998-01-28 帝人製機株式会社 Stereolithography method and stereolithography device
JP3353980B2 (en) * 1993-12-14 2002-12-09 帝人製機株式会社 Stereolithography method and stereolithography device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101754771B1 (en) * 2015-07-16 2017-07-07 한국기계연구원 3D ceramic printer and a method using the same

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0872153A (en) 1996-03-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3414858B2 (en) Stereolithography
JP2706611B2 (en) Stereolithography method and stereolithography device
US6547552B1 (en) Fabrication of three-dimensional objects by irradiation of radiation-curable materials
JP3792168B2 (en) Optical three-dimensional modeling method and apparatus
CN109562568A (en) Light chisel device and light chisel method
CN110901057A (en) Photocuring 3D printing system
JP2001009921A (en) Stereo lithography device
WO2019164413A1 (en) A printer for 3d printing
US11590695B2 (en) Photocuring printing system and method
US10668496B2 (en) Imprint template treatment apparatus
JP3353980B2 (en) Stereolithography method and stereolithography device
JP2000158544A (en) Stereo lithographic method and device
JP6849357B2 (en) Manufacturing method of 3D modeling equipment and 3D modeled objects
CN110018609A (en) Mask unit and exposure device
JP2013026520A (en) Method of manufacturing semiconductor device, and semiconductor manufacturing apparatus
EP0082562A1 (en) Apparatus for the transfer of a toner image from a photoconductive coating to a print sheet
EP3810403B1 (en) A stereolithography method and machine for the production of a three-dimensional object
KR20180099508A (en) Device and method for pattern imprinting
JP2003093945A (en) Sealing compound applicator
JPH07227909A (en) Photo-molding apparatus
CN109551756B (en) Rotary drum imaging printing device and printing method
JP3907491B2 (en) Pattern forming device
JP2014154623A (en) Imprinting method and imprinting device
CN118201759A (en) System and method for stereolithography printing
US20240126188A1 (en) Developing device and image forming apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080404

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090404

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100404

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100404

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110404

Year of fee payment: 8

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees