[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP3487411B2 - 突起電極の形成方法 - Google Patents

突起電極の形成方法

Info

Publication number
JP3487411B2
JP3487411B2 JP27225698A JP27225698A JP3487411B2 JP 3487411 B2 JP3487411 B2 JP 3487411B2 JP 27225698 A JP27225698 A JP 27225698A JP 27225698 A JP27225698 A JP 27225698A JP 3487411 B2 JP3487411 B2 JP 3487411B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
protruding electrode
electrode
forming
mask
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP27225698A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH11186455A (ja
Inventor
信勝 斎藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP27225698A priority Critical patent/JP3487411B2/ja
Priority to US09/168,881 priority patent/US6169022B1/en
Priority to KR1019980042745A priority patent/KR100301356B1/ko
Publication of JPH11186455A publication Critical patent/JPH11186455A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3487411B2 publication Critical patent/JP3487411B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/013Alloys
    • H01L2924/014Solder alloys

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は突起電極の形成方法
に係り、特に突起電極の形成位置近傍に樹脂を配設する
工程を含む突起電極の形成方法に関する。一般に、半導
体装置及び回路基板に突起電極を形成する突起電極の形
成方法として、メッキを利用する方法,ハンダペースト
を利用する方法,及びハンダボールを利用する方法等が
知られている。また、数百μmの厚さの突起電極の形成
においては、半田ボールを利用した方法が用いられてい
る。
【0002】一方、近年の回路素子の小型化に伴い、突
起電極は微小化し、また形成ピッチも狭ピッチ化する傾
向にある。また、低コスト化のためには突起電極形成方
法も簡単化する必要がある。よって、微小化した突起電
極を容易かつ信頼性を持って形成する方法が望まれてい
る。
【0003】
【従来の技術】突起電極として半田を用いた従来の突起
電極の形成方法について、図17乃至図22を用いて以
下説明する。図17は、突起電極の形成方法を実施する
前の、初期状態の半導体装置を示している。この状態に
おける半導体装置は、いわゆるLGA(Land Grid Arra
y) 構造となっており、パッケージ2の実装側面に複数
のパッド部10が配設されたのみの構造となっている。
【0004】同図において、パッケージ2はセラミック
或いは樹脂の材質よりなる多層構造とされており、その
内部にキャビティ部12が形成されている。このキャビ
ティ部12には、半導体チップ4が搭載されると共に、
内部配線パターン6の一部が露出するよう構成されてい
る。この内部配線パターン6は、パッケージ2内に形成
されている図示しない内部配線によりパッド部10と電
気的に接続されている。また、半導体チップ4と内部配
線パターン6とはワイヤ8により接続されている。よっ
て、半導体チップ4は、ワイヤ8,内部配線パターン
6,及び内部配線を介してパッド部10と電気的に接続
された構成となっている。
【0005】上記構成とされた半導体装置に突起電極2
2を形成するには、図18に示すように、先ずパッケー
ジ2のパッド部10が形成された面上に金属マスク14
を装着する(マスク装着工程)。この金属マスク14
は、パッド部10の形成位置(即ち、後に突起電極22
が形成される位置)に位置決め開口部16が形成されて
いる。
【0006】このように、パッケージ2に金属マスク1
4を装着すると、続いて図19に示されるように、金属
マスク14に形成されている位置決め開口部16内にペ
ースト18(フラックス等)を配設する(ペースト配設
工程)。このペースト18を位置決め開口部16内に配
設する方法としては、例えばスクリーン印刷法を適用す
ることができる。また、位置決め開口部16内にペース
ト18を装填することにより、パッド部10の上部にペ
ースト18が配設された構成となる。
【0007】続いて、図20に示されるように、パッド
部10の上部に半田ボール20が装着される(突起電極
配設工程)。この際、半田ボール20は金属マスク14
に形成された位置決め開口部16により位置決めされた
状態で装着されるため、半田ボール20をパッド部10
上に精度よく位置決めされた状態で装着することができ
る。また、この装着状態において、ペースト18は所定
の粘性を有しているため接着剤としても機能し、よって
半田ボール20はペースト18によりパッド部10上に
仮固定された状態となる。
【0008】上記のように半田ボール20がパッド部1
0上に装着されると、続いて図21に示されるように金
属マスク14をパッケージ2から取り外す。次に、例え
ばパッケージ2をリフロー炉に通し加熱処理を行なうこ
とにより、半田ボール20を溶融してパッド部10に接
合し、これにより図22に示すように突起電極22を形
成する。従来では、以上説明した処理を実施することに
より、突起電極22を有した半導体装置24を製造して
いた。
【0009】また、図23乃至図26は、BGA(Ball
Grid Array) タイプの半導体装置における突起電極の形
成方法を示している。図23及び図24は、突起電極形
成前の半導体装置を示している。この状態に於ける半導
体装置はいわゆるLGA構造となっており、基板26
A,26Bの実装側面に複数のパッド部10が配設され
たのみの構造となっている。尚、図23において、27
は絶縁膜であり、基板26Aのパッド部10の配設位置
を除き、基板26Aを絶縁保護するために配設されてい
る。
【0010】図23では、パッド部10が配設される基
板26Aはいわゆるプリント配線板を用いた構造であ
り、図24では基板26Bに片面銅張テープを用いた構
造である。また、基板26A,26Bの実装側面の反対
面には、樹脂パッケージ3,半導体チップ4,ワイヤ
8,及びボンディングパッド29が配設されている。半
導体チップ4はダイパッド5により基板26A,26B
に接合され、またワイヤ8によりボンディングパッド2
9と接続されている。ボンディングパッド29は、図2
3に示す構成ではスルーホール電極28等を用いて、ま
た図24に示す構成では直接的にパッド部10と接続さ
れた構成となっている。樹脂パッケージ3は、半導体チ
ップ4,ワイヤ8,及びボンディングパッド29等を封
止することにより保護する機能を奏する。
【0011】図25は、図23に示した半導体装置に突
起電極形成用の半田ボール20を配した状態を示してい
る。この状態において、半田ボール20はソルダーペー
スト18(または、フラックス)によりパッド部10に
仮固定されている(突起電極配設工程)。半田ボール2
0がパッド部10に仮固定されると、続いて加熱工程が
実施される。図26は、加熱工程が終了した状態を示し
ている。加熱工程を実施することにより、ソルダーペー
スト18は気化し、また半田ボール20は溶融して突起
電極22を形成する。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、上記した従
来の突起電極の形成方法では、図21に示される金属マ
スク14を取り外した後、及び図25に示す半田ボール
20をソルダーペースト18によりパッド部10に配設
した後は、半田ボール20はペースト18のみに固定さ
れた状態となり、半田ボール20の保持を十分に行なう
ことができなかった。
【0013】また、図22及び図26に示す加熱処理を
行なった後も、突起電極22の保持は突起電極22とパ
ッド部10との接合力によってのみ行なわれる構成であ
ったため、突起電極22の形成後においても突起電極2
2の保持を十分に行なうことができなかった。このた
め、突起電極22を形成する工程途中や半導体装置24
を出荷した後の輸送途中において、半田ボール20或い
は突起電極22がパッケージ2から離脱してしまうおそ
れがあり、半田ボール20或いは突起電極22の配設に
おいて十分な信頼性を得ることができないという問題点
があった。
【0014】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、突起電極を高い信頼性を持って形成しうる突起電
極の形成方法を提供することを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、下記の手
段を講じることにより解決することができる。請求項1
記載の突起電極の形成方法では、突起電極が形成される
パッド部を有した基板に、前記突起電極の形成位置に位
置決め開口部が形成された樹脂マスクを装着するマスク
装着工程と、前記樹脂マスクを介し、前記パッド部にペ
ーストを配設するペースト配設工程と、前記樹脂マスク
を位置決めの基準として突起電極を前記ペースト上に配
設する突起電極配設工程と、前記樹脂マスクを装着した
状態を維持しつつ加熱処理を行なうことにより、前記突
起電極を前記パッド部に接合し、前記位置決め開口部を
溶融した樹脂で埋める加熱工程とを有することを特徴と
するものである。
【0016】また、請求項2記載の発明では、前記請求
項1記載の突起電極の形成方法において、前記樹脂マス
クは熱可塑性樹脂により形成されていることを特徴とす
るものである。また、請求項3記載の発明では、前記請
求項1または2記載の突起電極の形成方法において、前
記突起電極は、半田であることを特徴とするものであ
る。
【0017】また、請求項4記載の発明では、前記請求
項3記載の突起電極の形成方法において、前記樹脂マス
クの融点(Tm)は、前記半田の融点(Tb)に対して
高い(Tm≧Tb)ことを特徴とするものである。ま
た、請求項5記載の突起電極の形成方法では、突起電極
が形成されるパッド部を有した基板に、前記突起電極の
形成位置に位置決め開口部が形成された金属マスクを装
着するマスク装着工程と、前記金属マスクを介し、前記
パッド部にペーストを配設するペースト配設工程と、前
記金属マスクを位置決めの基準として突起電極を前記ペ
ースト上に配設する突起電極配設工程と、前記金属マス
クを取り外した後、加熱処理を行うことにより前記突起
電極を前記パッド部に接合する加熱工程と、前記加熱工
程の終了後に実施され、前記突起電極の形成位置に開口
部を有した樹脂板を前記基板上に配設する樹脂板配設工
と、前記樹脂板を加熱し溶融させ、前記突起電極との
空隙を除去する工程とを有することを特徴とするもので
ある。
【0018】また、請求項6記載の発明では、前記請求
項5記載の突起電極の形成方法において、前記樹脂板は
熱可塑性樹脂により形成されていることを特徴とするも
のである。また、請求項7記載の発明では、前記請求項
5または6記載の突起電極の形成方法において、前記突
起電極は、半田であることを特徴とするものである。
【0019】また、請求項8記載の発明では、前記請求
項7記載の突起電極の形成方法において、前記樹脂板の
融点(Tm)は、前記半田の融点(Tb)に対して高い
(Tm≧Tb)ことを特徴とするものである。また、請
求項9記載の突起電極の形成方法では、突起電極が形成
されるパッド部を有した基板に、前記突起電極の形成位
置に位置決め開口部が形成された金属マスクを装着する
マスク装着工程と、前記金属マスクを介し、前記パッド
部にペーストを配設するペースト配設工程と、前記金属
マスクを位置決めの基準として突起電極を前記ペースト
上に配設する突起電極配設工程と、前記金属マスクを取
り外した後、加熱処理を行うことにより前記突起電極を
前記パッド部に接合する加熱工程と、前記加熱工程の終
了後に実施され、前記突起電極の形成位置を除いて流動
性を有した樹脂を前記基板上に配設する樹脂配設工程
と、前記流動性を有した樹脂を加熱し溶融させ、前記突
起電極との空隙を除去する工程とを有することを特徴と
するものである。
【0020】また、請求項10記載の発明では、前記請
求項9記載の突起電極の形成方法において、前記樹脂は
熱可塑性樹脂により形成されていることを特徴とするも
のである。また、請求項11記載の発明では、前記請求
項9または10記載の突起電極の形成方法において、前
記突起電極は、半田であることを特徴とするものであ
る。
【0021】また、請求項12記載の発明では、前記請
求項11記載の突起電極の形成方法において、前記樹脂
の融点(Tm)は、前記半田の融点(Tb)に対して高
い(Tm≧Tb)ことを特徴とするものである。また、
請求項13記載の発明に係る突起電極の形成方法では、
予め突起電極の配設位置に開口部を有する突起電極保護
用樹脂マスクが少なくとも突起電極形成領域に配設され
てなる基板に、前記開口部を介して前記突起電極配設位
置に突起電極を配設する突起電極配設工程と、加熱処理
を行なうことにより、前記突起電極を突起電極配設位置
に設けられたパッド部に接合すると共に前記樹脂マスク
を軟化流動させ、前記位置決め開口部を軟化した樹脂で
埋める加熱工程とを有することを特徴とするものであ
る。
【0022】また、請求項14記載の発明では、前記請
求項13記載の突起電極形成方法において、前記突起電
極保護用樹脂マスクは、前記突起電極配設工程以前にマ
スク装着工程を実施することにより形成されることを特
徴とするものである。
【0023】また、請求項15記載の発明では、前記請
求項13または14記載の突起電極の形成方法におい
て、配設される前記突起電極には、ペーストが塗布され
ていることを特徴とするものである。また、請求項16
記載の発明では、前記請求項13または14記載の突起
電極の形成方法において、前記突起電極配設工程の前
に、前記突起電極配設位置にペーストを塗布する工程を
有することを特徴とするものである。
【0024】更に、請求項17記載の発明では、前記請
求項13乃至16のいずれかに記載の突起電極の形成方
法において、前記突起電極保護用樹脂マスクは、前記加
熱工程で軟化する軟化点を有する樹脂からなることを特
徴とするものである。上記の各手段は次のように作用す
る。
【0025】請求項1記載の発明によれば、マスク装着
工程において、突起電極が形成されるパッド部を有した
基板上に、突起電極の形成位置に位置決め開口部が形成
された樹脂マスクが装着される。よって、樹脂マスクを
装着した状態において、基板上のパッド部以外の部分は
樹脂マスクに覆われた(マスクされた)状態となる。
【0026】続いて、ペースト配設工程において樹脂マ
スクを介してパッド部にペーストを配設することによ
り、このペース上に突起電極を仮止め可能な状態とな
る。続いて、突起電極配設工程を実施することにより、
突起電極をペースト上に配設する。この際、樹脂マスク
を位置決めの基準として用いることができるため、突起
電極をパッド部に精度良く位置決めした状態で装着する
ことができる。
【0027】続く加熱工程では、樹脂マスクを装着した
状態を維持しつつ加熱処理を行うことにより、突起電極
をパッド部に接合する。従って、突起電極をペースト上
に配設した後も、樹脂マスクは基板上に装着された状態
を維持するため、この樹脂マスクにより突起電極を保持
することができる。この樹脂マスクは基板から取り外さ
れることはなく、半導体装置が製造され出荷された後も
基板上に装着された状態を維持する。
【0028】これにより、樹脂マスクを装着した以降に
おける突起電極の形成工程及び出荷後の輸送時等におい
て、突起電極が基板から離脱することを防止でき、よっ
て半導体装置の信頼性を向上させることができる。ま
た、上記構成とされた半導体装置を実装する際、樹脂マ
スクはいわゆるアンダーフィルレジンとして機能するた
め、実装時に半導体装置と実装基板との熱膨張差に起因
して発生する応力が突起電極に印加されても、突起電極
が損傷したり剥離することを確実に防止することができ
る。
【0029】また、請求項2,請求項6,及び請求項1
0記載の発明によれば、樹脂マスク,樹脂板,及び流動
性を有した樹脂を熱可塑性樹脂により形成したことによ
り、熱可塑性樹脂は加熱工程において加熱成形した後
も、再び加熱処理を行なうことにより溶融する。このた
め、実装時に印加される熱によって樹脂マスク,樹脂
板,及び流動性を有した樹脂は溶融し、半導体装置と実
装基板との間に隙間なく充填される。これにより、アン
ダーフィルレジンとしての機能を確実に奏することがで
きる。
【0030】また、請求項3,請求項7,及び請求項1
1の記載の発明によれば、突起電極を半田としたことに
より、半田は比較的低い温度で溶融するため、半田溶融
による熱で樹脂マスクが損傷することを防止することが
できる。また、請求項4,請求項8,及び請求項12記
載の発明によれば、樹脂マスク,樹脂板,及び流動性を
有した樹脂の融点(Tm)を半田の融点(Tb)に対し
て高くなるよう設定(Tm≧Tb)したことにより、半
田が溶融する前に樹脂マスクが溶融することを防止する
ことができ、半田とパッド部との接続を確実に行なうこ
とができる。
【0031】また、請求項5記載の発明によれば、従来
の突起電極の形成方法と同様に金属マスクを用いて突起
電極を形成し、その後に金属マスクを取り外し、加熱工
程を実施した後に、樹脂板配設工程を実施して突起電極
の形成位置に開口部を有した樹脂板を基板上に配設する
ことができる。
【0032】また、突起電極は樹脂板に保持された状態
となるため、半導体装置の信頼性を向上させることがで
きる。また、上記構成とされた半導体装置を実装する
際、樹脂板はいわゆるアンダーフィルレジンとして機能
するため、実装時に半導体装置と実装基板との熱膨張差
に起因して発生する応力が突起電極に印加されても、突
起電極が損傷したり剥離することを確実に防止すること
ができる。
【0033】また、請求項9記載の発明によれば、従来
の突起電極の形成方法と同様に金属マスクを用いて突起
電極を形成し、その後に金属マスクを取り外した後に、
樹脂配設工程を実施して突起電極の形成位置を除き流動
性を有する樹脂を基板上に配設することにより突起電極
を形成するとができる。
【0034】また、突起電極は樹脂板に保持された状態
となるため、半導体装置の信頼性を向上させることがで
きる。また、上記構成とされた半導体装置を実装する
際、樹脂はいわゆるアンダーフィルレジンとして機能す
るため、実装時に半導体装置と実装基板との熱膨張差に
起因して発生する応力が突起電極に印加されても、突起
電極が損傷したり剥離することを確実に防止することが
できる。
【0035】更に、樹脂として流動性を有したものを用
いたことにより、請求項1或いは請求項2記載の発明の
如く、予め樹脂マスク,樹脂板に開口部等を形成してお
く必要がないため、これによってもコスト低減及び工数
の低減を図ることができる。また、請求項13記載の発
明によれば、突起電極配設工程において、基板に対し突
起電極が配設される。この基板は、突起電極が形成され
る位置にパッド部を有しており、またその少なくとも突
起電極配設領域に突起電極の配設位置に開口部を有した
突起電極保護用樹脂マスクが配設されている。
【0036】そして、突起電極配設工程では、この開口
部を介し突起電極がパッド部上に配設される。この際、
突起電極保護用樹脂マスクは、突起電極の位置決めとし
て用いることが可能である。続く加熱工程では、突起電
極をパッド部に接合する。これにより、突起電極はその
接合部が突起電極保護用樹脂マスクにより保護された状
態となり、その後の使用環境で突起電極に何らかの応力
(機械的または熱応力)が印加されても従来構造に比較
して補強することができる。
【0037】また、請求項14記載の発明によれば、突
起電極配設工程の前に樹脂マスク配設工程を実施するこ
とにより、突起電極配設工程前に基板上には突起電極配
設位置に開口部を有する突起電極保護用樹脂マスクが配
設された構成となる。このため、突起電極保護用樹脂マ
スクにより、パッド部の保護を図ることが可能となる。
【0038】また、請求項15及び請求項16記載の発
明によれば、加熱工程実施前においては、ペーストによ
り突起電極はパッド部に仮固定された構成となり、突起
電極がパッド部から脱落することを防止することができ
る。また、加熱工程時においては、突起電極とパッド部
との接触部にペースト(フラックス)が存在することに
より、パッド部と突起電極との接合をスムーズに且つ確
実に行うことが可能となる。
【0039】更に、請求項17記載の発明によれば、突
起電極保護用樹脂マスクは加熱工程で軟化する軟化点を
有する樹脂からなるため、加熱工程において突起電極と
パッド部とを接合する際、突起電極保護用樹脂マスクは
軟化流動する。これにより、突起電極保護用樹脂マスク
は開口部を埋め突起電極と密着した状態となり、再形成
された突起電極保護用樹脂マスク(樹脂)はいわゆるア
ンダーフィルレジンとして機能する。このため、実装時
に半導体装置と実装基板との熱膨張差に起因して発生す
る応力が突起電極に印加されても、突起電極が損傷した
り剥離することを確実に防止することができる。
【0040】また、突起電極保護用樹脂マスクは、加熱
工程において軟化した後、再形成されるため、加熱工程
前の状態における突起電極保護用樹脂マスクの開口部の
大きさは、突起電極の大きさに対して大きく設定するこ
とができ、突起電極の配設処理を容易に行なうことがで
きる。
【0041】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態について
図面と共に説明する。図1乃至図6は、本発明の一実施
例である突起電極の形成方法を示している。図1は突起
電極を形成する前の半導体装置を示しており、図2は突
起電極の形成方法におけるマスク装着工程を示してお
り、図3はペースト配設工程を示しており、図4は突起
電極配設工程を示しており、図5は加熱工程を示してい
る。更に、図6は完成した半導体装置30を実装した状
態を示している。以下、突起電極の形成方法について、
形成工程順に説明する。
【0042】図1は、突起電極の形成方法を実施する前
の、初期状態の半導体装置を示している。この状態にお
ける半導体装置は、いわゆるLGA(Land Grid Array)
構造となっており、パッケージ32(基板)の実装側面
に複数のパッド部40が配設されたのみの構造となって
いる。同図において、パッケージ32はセラミック或い
は樹脂の材質よりなる多層構造とされており、その内部
にキャビティ部42が形成されている。このキャビティ
部42には、半導体チップ34が搭載されると共に、内
部配線パターン36の一部が露出するよう構成されてい
る。
【0043】この内部配線パターン36は、パッケージ
32内に形成されている図示しない内部配線によりパッ
ド部40と電気的に接続されている。また、半導体チッ
プ34と内部配線パターン36とはワイヤ38により接
続されている。よって、半導体チップ34は、ワイヤ3
8,内部配線パターン36,及び内部配線を介してパッ
ド部40と電気的に接続された構成となっている。尚、
上記した構成は、従来の初期状態における半導体装置と
等価のものである。
【0044】上記構成とされた半導体装置に突起電極5
2を形成するには、図2に示すように、先ずパッケージ
32のパッド部40が形成された面上に樹脂マスク44
を装着する(マスク装着工程)。この樹脂マスク44は
熱可塑性樹脂(例えば、ポリイミド系樹脂)よりなり、
パッド部40の形成位置(即ち、後に突起電極52が形
成される位置)には予め位置決め開口部46が形成され
ている。また、樹脂マスク44を装着した状態におい
て、パッケージ32上のパッド部40の形成位置以外の
部分は樹脂マスク44に覆われた(マスクされた)状態
となる。
【0045】この樹脂マスク44は常温で硬化した状態
となっており、よって開口部46の形成精度は高く維持
されている。更に、樹脂マスク44の厚さ(t)は、後
述する半田ボール50(図4参照)の径寸法(R)に対
し、約半分程度の厚さとなるよう設定されている(t=
R/2)。上記のように、パッケージ32に樹脂マスク
44を装着すると、続いて図3に示されるように、樹脂
マスク44に形成されている位置決め開口部46内にペ
ースト48(フラックス等)を配設する(ペースト配設
工程)。このペースト48は、後述するように後に実施
される突起電極配設工程において半田ボール50をパッ
ケージ32に仮止めするため、また加熱工程において半
田ボール50とパッド部40との接合性を向上させるた
めに配設されるものである。
【0046】尚、ペースト48を位置決め開口部46内
に配設する方法としては、例えばディスペンサーを用い
て充填する方法、或いはスクリーン印刷法等を適用する
ことができる。また、位置決め開口部46内にペースト
48を装填することにより、パッド部40の上部にペー
スト48が配設された構成となる。続いて、図4に示さ
れるように、パッド部40の上部に半田ボール50が装
着される(突起電極配設工程)。この際、半田ボール5
0は樹脂マスク44に形成された位置決め開口部46に
より位置決めされた状態で装着される。即ち、樹脂マス
ク44は、従来における金属マスク14(図20参照)
と同等の機能を奏する。
【0047】上記のように、半田ボール50が樹脂マス
ク44に形成された位置決め開口部46により位置決め
されることにより、半田ボール50をパッド部40上に
精度よく位置決めされた状態で装着することができる。
また、ペースト48は所定の粘性を有し接着剤としても
機能するため、図4に示す装着状態において、半田ボー
ル50はペースト48によりパッド部40上に仮固定さ
れた状態となる。また、半田ボール50は樹脂マスク4
4によっても保持されており、確実にパッケージ32に
装着された状態となっている。
【0048】半田ボール50がパッド部40上に装着さ
れると、続いて樹脂マスク44を装着した状態を維持し
つつパッケージ32に対し加熱処理を行なう(加熱工
程)。この加熱工程では、樹脂マスク44を装着したパ
ッケージ32を、例えばリフロー炉に通し加熱処理を行
なう。この加熱処理の際、上記のように半田ボール50
は樹脂マスク44により保持されているため、半田ボー
ル50がパッケージ32から離脱するようなことはな
い。
【0049】上記の加熱工程を実施することにより、半
田ボール50は溶融してパッド部40に接合し、これに
より図5に示すように突起電極52を形成する。また、
熱可塑性樹脂よりなる樹脂マスク44も溶融し、位置決
め開口部46は溶融した樹脂により埋まった状態となる
(以下、この状態の樹脂マスク44をアンダーフィルレ
ジン54Aという)。上記一連の処理を行なうことによ
り、図5に示す突起電極52及びアンダーフィルレジン
54Aを有する半導体装置30が形成される。
【0050】この際、本実施例では樹脂マスク44の融
点Tmを突起電極52となる半田の融点Tbに対して高
くなるよう設定(Tm≧Tb)している。これにより、
半田が溶融する前に樹脂マスク44が溶融することを防
止することができ、突起電極52とパッド部40との接
続を確実に行なうことができる。また、上記のように半
田は比較的低い温度で溶融するため、半田溶融による熱
で樹脂マスク44(アンダーフィルレジン54A)が損
傷することを防止することができる。
【0051】上記してきたように、本実施例に係る突起
電極52の形成方法では、マスク装着工程後において樹
脂マスク44がパッケージ32から取り外されることは
なく、よって半導体装置30が製造され出荷された後も
パッケージ32上に装着された状態を維持する。このた
め、樹脂マスク44を装着した以降における突起電極5
2の形成工程及び出荷後の輸送時等において、半田ボー
ル50及び突起電極52がパッケージ32から離脱する
ことを防止でき、よって半導体装置30の信頼性を向上
させることができる。
【0052】また、図6に示すように、上記構成とされ
た半導体装置30を実装基板56に実装する際、パッケ
ージ32の実装基板56と対向する位置にはアンダーフ
ィルレジン54A(樹脂マスク44)が存在するため、
実装時に半導体装置30と実装基板56との熱膨張差に
起因して発生する応力が突起電極52に印加されても、
突起電極52が損傷したり、また突起電極52とパッド
部との間及び突起電極52と接続パターン58(実装基
板56に形成されている)との間に剥離が発生すること
を確実に防止することができる。
【0053】続いて、本発明の第2実施例について説明
する。図7及び図8は、本発明の第2実施例である突起
電極の形成方法を説明するための図である。本実施例に
係る形成方法では、先に図17乃至図21を用いて説明
した従来の突起電極の形成方法と同様に、金属マスク1
4を用いて半田ボール20を配設し、その後に金属マス
ク14を取り外した後に加熱工程を実施し、その後に樹
脂配設工程及び加熱工程を実施して突起電極22を形成
することを特徴とするものである。
【0054】図7は本実施例における樹脂配設工程を示
す図であり、突起電極22が形成されたパッケージ2の
上面(パッド部10が形成されている面)に、突起電極
22の形成位置を除き流動性を有する樹脂55(以下、
液状樹脂55という)を配設している状態を示してい
る。本実施例では、ノズル59を用いて液状樹脂55を
パッケージ2に配設している。この際、液状樹脂55は
熱硬化性樹脂を用いており、またパッケージ2上におけ
る液状樹脂55の厚さは半田ボール20の径寸法の略半
分程度の厚さとなるよう設定されている。
【0055】上記の樹脂配設工程を実施することによ
り、パッケージ2の上面に突起電極22の形成位置を除
き液状樹脂55が配設されると、続いて加熱工程が実施
される。この加熱工程では、液状樹脂55が配設された
パッケージ2を例えばリフロー炉に通すことにより、液
状樹脂55を溶融して突起電極22との間の空隙を除去
し、これにより液状樹脂55は半固化してアンダーフィ
ルレジン54Bを形成する。尚、図8は本実施例による
形成方法を用いて製造された半導体装置60を示す図で
ある。
【0056】本実施例に係る形成方法によれば、従来の
突起電極22の形成工程及び設備を変えることなく、そ
のまま利用して突起電極22を形成することができる。
また、金属マスク14を取り外した後も、樹脂配設工程
の実施後においては突起電極22は液状樹脂55或いは
アンダーフィルレジン54Bによりパッケージ2に保持
された状態となるため、半導体装置60の信頼性を向上
させることができる。
【0057】また、第1実施例と同様に、アンダーフィ
ルレジン54Bにより実装時に半導体装置60と実装基
板との熱膨張差に起因して発生する応力が突起電極に印
加されても、突起電極22等に損傷や剥離が発生するこ
とを確実に防止することができる。更に、樹脂として流
動性を有した液状樹脂55を用いたことにより、第1実
施例の如く、予め樹脂マスク44に位置決め開口部46
を精度良く形成しておく必要がない。
【0058】続いて、本発明の第3実施例について説明
する。図9乃至図11は、本発明の第3実施例である突
起電極の形成方法を説明するための図である。本実施例
に係る形成方法も第2実施例と同様に、従来の突起電極
の形成方法を適用して金属マスク14を用いて半田ボー
ル20を配設し、その後に金属マスク14を取り外した
後に樹脂を配設する工程、及び加熱工程を実施して突起
電極22を形成することを特徴とするものである。
【0059】図9は、本実施例における樹脂板配設工程
を示す図であり、突起電極22が形成されたパッケージ
2の上面(パッド部10が形成されている面)に、突起
電極22の形成位置に対応する位置に開口部64が形成
された樹脂板62を配設している状態を示しており、ま
た図10は樹脂板62がパッケージ2に配設された状態
を示している。
【0060】本実施例では、上記のように樹脂板62を
用いてるため、第2実施例のようにパッケージ2上にノ
ズル59を用いて液状樹脂55を配設する構成に比べ、
短時間で効率よくパッケージ2上に樹脂板62を配設す
ることができる。この樹脂板62は熱可塑性樹脂を用い
ており、また樹脂板62の厚さは半田ボール20の径寸
法の略半分程度の厚さとなるよう設定されている。
【0061】上記の樹脂板配設工程を実施することによ
り、パッケージ2の上面に樹脂板62が配設されると、
続いて加熱工程が実施される。この加熱工程では、樹脂
板62が配設されたパッケージ2を例えばリフロー炉に
通すことにより、樹脂板62を溶融して突起電極22と
の間の空隙を除去し、これによりアンダーフィルレジン
54Bを形成する。尚、図11は本実施例による形成方
法を用いて製造された半導体装置70を示す図である。
【0062】本実施例に係る形成方法によっても、従来
の突起電極22の形成工程及び設備を変えることなく、
そのまま利用して突起電極22を形成することができる
ため、低コストで突起電極22を形成することができ
る。また、樹脂板配設工程の実施後においては突起電極
22は樹脂板62或いはアンダーフィルレジン54Cに
よりパッケージ2に保持された状態となるため、半導体
装置70の信頼性を向上させることができる。
【0063】また、第1実施例と同様に、アンダーフィ
ルレジン54Cにより実装時に半導体装置70と実装基
板との熱膨張差に起因して発生する応力が突起電極に印
加されても、突起電極22等に損傷や剥離が発生するこ
とを確実に防止することができる。
【0064】続いて、本発明の第4実施例について説明
する。図12乃至図16は、本発明の第4実施例である
突起電極の形成方法を説明するための図である。本実施
例に係る突起電極の形成方法の説明は、BGA(BallGri
d Array) タイプの半導体装置を例に挙げて説明する。
よって、図12乃至図16において、先に図23乃至図
26に示した構成と同一構成については、同一符号を付
してその説明を省略する。また、図1乃至図11を用い
て説明した第1乃至第3実施例の構成と同一構成につい
ても、同一符号を付してその説明を省略する。
【0065】図12は、突起電極22の配設前の初期状
態の半導体装置を示している。先に図23に示した従来
構造との違いは、突起電極22が配設される配設位置に
位置決め開口部46を有する突起電極保護用樹脂マスク
44(以下、樹脂マスク44という)を設けているとこ
ろである。この樹脂マスク44は、熱可塑性樹脂(例え
ばポリイミド系樹脂)よりなり、常温では硬化状態で、
また後述する加熱工程では軟化する軟化点を有したもの
画選定されている。また、樹脂マスク44の厚さは、後
述する半田ボール20の径に対し約半分の厚さとなって
いる。
【0066】上記構成とされた樹脂マスク44は、突起
電極配設工程の前に樹脂マスク配設工程を実施すること
により形成される。このように、突起電極配設工程の前
に樹脂マスク44を形成し、基板26Aのパッド部10
の形成位置以外を樹脂マスク44で被覆することによ
り、パッド部10は位置決め開口部46の底部に位置す
ることとなる。このため、パッド部10は樹脂マスク4
4により保護されることとなり、パッド部10が露出し
た構成に比べてパッド部10に傷等がつくことを防止す
ることができる。
【0067】本実施例では、先ず初期状態の半導体装置
に対して突起電極配設工程が実施される。図13は、突
起電極配設工程を説明するための図である。突起電極配
設工程では、樹脂マスク44に形成されている位置決め
開口部46を介し、パッド部10上に半田ボール20が
配設される。半田ボール20は、図13に示されるよう
に、マウンター66に吸着保持された状態で半導体装置
上に搬送される。また、後に詳述するように、半導体装
置上に搬送された状態において、各半田ボール20の下
端部分にはベースと65が配設されている。
【0068】そして、半田ボール20とパッド部10と
の位置決め処理が行なわれた上で、マウンター66は半
導体装置に向け下動し、これにより半田ボール20は位
置決め開口部46を介しパッド部10上に配設される。
この際、樹脂マスク44に形成された位置決め開口部4
6は、半田ボール20の位置決めとして用いることがで
きるため、半田ボール20を高い位置精度をもってパッ
ド部10に接合させることができる。
【0069】ここで、図16を用いて、半田ボール20
を半導体装置上に搬送するまでの処理(以下、半田ボー
ル搬送工程という)の詳細について説明する。半田ボー
ル搬送工程では、先ず図16(A)に示すように、治具
67に半田ボール20を整列配置する。治具67には、
パッド部10の形成位置に対応した凹部68が形成され
ており、球状の半田ボール20はこの凹部68と係合す
ることにより、パッド部10の形成位置に対応した整列
状態となる。
【0070】続いて、図16(B)に示すように、上記
の整列状態を維持しつつ、半田ボール20をマウンター
66に吸引する。このマウンター66は、図示しない移
動機構により移動可能な構成となっている。また、マウ
ンター66には内部吸引配管72が形成されており、こ
の内部吸引配管72は分岐して各分岐配管の下端部には
吸引開口部69が形成されている。
【0071】この吸引開口部69の開口位置は、パッド
部10の形成位置に対応するよう構成されている。ま
た、内部吸引配管72の他端部は、図示しない真空ポン
プに接続されている。よって、マウンター66により吸
引処理を行なうことにより、半田ボール20は上記の整
列状態を維持しつつマウンター66に保持(転写)され
る。
【0072】上記のように半田ボール20を保持したマ
ウンター66は、ペースト65が充填されたペースト槽
71上に移動すると共に続いて下動し、図16(C)に
示すように、半田ボール20の所定領域をペースト65
内に浸漬させる。続いて、マウンター66は上動し、こ
れにより図16(D)に示されるように、半田ボール2
0の下端所定領域にペースト65が配設される。その
後、マウンター66は半導体装置の上部まで移動し、こ
れにより図13に示す状態となる。
【0073】尚、本実施例では、マウンター66による
半田ボール20の搬送過程において半田ボール20にペ
ースト65を配設する構成としたが、前記した第1実施
例と同様に、スクリーン印刷法等を用いて樹脂マスク4
4の位置決め開口部46内にペーストを印刷し、その後
に半田ボール20をパッド10上に搭載する方法を適用
することも可能である。
【0074】図14は、この初期状態の半導体装置に半
田ボール20を配設した状態を拡大して示している。同
図に示されるように、半田ール20は樹脂マスク44の
位置決め開口部46を介しペースト65により仮固定さ
れた状態となっている。よって、加熱工程実施前におい
ては半田ボール20がパッド部10から脱落することを
防止することができる。また、後述する加熱工程時にお
いては、半田ボール20とパッド部10との接触部にペ
ースト(フラックス)が存在することにより、パッド部
10と半田ボール20との接合をスムーズに且つ確実に
行うことが可能となる。
【0075】上記した突起電極配設工程が終了すると、
続いて加熱工程が実施される。この加熱工程では、半田
ボール20がパッド部10上に搭載された半導体装置を
リフロー炉等により加熱処理を行う。この加熱工程を実
施することにより、半田ボール20は溶融しパッド部1
0と接合し、突起電極22を形成する。上記したよう
に、樹脂マスク44は加熱工程で軟化する軟化点を有す
る樹脂からなるため、加熱工程において半田ボール20
とパッド部10とを接合する際、樹脂マスク44は軟化
流動する。これにより、図15に示されるように、樹脂
マスク44は位置決め開口部46を埋め、突起電極22
と密着した状態となる。
【0076】このように、溶融しその後に再形成された
樹脂マスク44は、いわゆるアンダーフィルレジンとし
て機能する(以下、再形成された樹脂マスク44をアン
ダーフィルレジンと54Dという)。このため、実装時
に半導体装置と実装基板との熱膨張差に起因して発生す
る応力が突起電極に印加されても、この応力はアンダー
フィルレジンと54Dにより阻止或いは吸収され、突起
電極22が損傷したり剥離することを確実に防止するこ
とができる。
【0077】また、樹脂マスク44は、上記のように加
熱工程において軟化した後に再形成されるため、加熱工
程前の状態における位置決め開口部46の大きさは、半
田ボール20の大きさに対して大きく設定することがで
きる(位置決めを行い得る範囲において大きくすること
ができる)。よって、上記した突起電極配設工程におい
て、半田ボール20をパッド部10に配設する処理を容
易に行なうことができる。
【0078】尚、上記した第2及び第3実施例では、図
22に示す突起電極22を形成した後に、樹脂配設工程
或いは樹脂板配設工程を実施する構成としたが、図21
に示す金属マスク14を取り除いた後に、樹脂配設工程
或いは樹脂板配設工程を実施する構成としてもよい。こ
の形成方法では、加熱工程においても半田ボール20を
パッケージ2に保持することができるため、形成される
半導体装置の信頼性をより向上することができる。ま
た、加熱工程において、半田ボール20の溶融処理とア
ンダーフィルレジン54B,54Cの形成を一括的にで
きるため、工程の簡略化を図ることができる。
【0079】
【発明の効果】上述の如く本発明によれば、次の種々の
効果を実現することができる。請求項1記載の発明によ
れば、突起電極をペースト上に配設した後も、樹脂マス
クは基板上に装着された状態を維持するため、この樹脂
マスクにより突起電極を保持することができる。よっ
て、樹脂マスクを装着した以降における突起電極の形成
工程及び出荷後の輸送時等において、突起電極が基板か
ら離脱することを防止でき、よって半導体装置の信頼性
を向上させることができる。
【0080】また、実装時において樹脂マスクはアンダ
ーフィルレジンとして機能するため、実装時に半導体装
置と実装基板との熱膨張差に起因して発生する応力が突
起電極に印加されても、突起電極が損傷したり剥離する
ことを確実に防止することができる。また、請求項2,
請求項4,及び請求項10記載の発明によれば、熱可塑
性樹脂は加熱工程において加熱成形した後も、再び加熱
処理を行なうことにより溶融するため、実装時に印加さ
れる熱によって樹脂マスク,樹脂板,及び流動性を有し
た樹脂は溶融し、半導体装置と実装基板との間に隙間な
く充填され、アンダーフィルレジンとしての機能を確実
に奏することができる。
【0081】また、請求項3,請求項7,及び請求項1
1の記載の発明によれば、突起電極を半田としたことに
より、半田は比較的低い温度で溶融するため、半田溶融
による熱で樹脂マスクが損傷することを防止することが
できる。また、請求項4,請求項8,及び請求項12記
載の発明によれば突起電極が溶融する前に樹脂マスクが
溶融することを防止することができ、突起電極とパッド
部との接続を確実に行なうことができる。
【0082】また、請求項5記載の発明によれば、突起
電極は樹脂板に保持された状態となるため、半導体装置
の信頼性を向上させることができる。また、実装時にお
いて、樹脂板はいわゆるアンダーフィルレジンとして機
能するため、突起電極が損傷したり剥離することを確実
に防止することができる。また、請求項9記載の発明に
よれば、従来の形成工程及び設備を変えることなく突起
電極を形成することができる。また、突起電極は樹脂板
に保持された状態となるため、半導体装置の信頼性を向
上させることができる。
【0083】また、実装時において、樹脂はいわゆるア
ンダーフィルレジンとして機能するため、実装時に半導
体装置と実装基板との熱膨張差に起因して発生する応力
が突起電極に印加されても、突起電極が損傷したり剥離
することを確実に防止することができる。また、請求項
13記載の発明によれば、突起電極配設工程において突
起電極保護用樹脂マスクを突起電極の位置決めとして用
いることができるため、突起電極の配設位置の精度向上
を図ることができる。
【0084】また加熱工程後においては、突起電極はそ
の接合部が突起電極保護用樹脂マスクにより保護される
ため、その後の使用環境で突起電極に何らかの応力(機
械的または熱応力)が印加されても従来構造に比較して
補強することができる。また、請求項14記載の発明に
よれば、突起電極配設工程前において、突起電極保護用
樹脂マスクによりパッド部の保護を図ることができる。
【0085】また、請求項15及び請求項16記載の発
明によれば、加熱工程実施前においては突起電極はペー
ストによりパッド部に仮固定され、また加熱工程時にお
いては、突起電極とパッド部との接触部にペースト(フ
ラックス)が存在することにより、パッド部と突起電極
との接合をスムーズに且つ確実に行うことが可能とな
る。
【0086】更に、請求項17記載の発明によれば、加
熱工程において突起電極保護用樹脂マスクは開口部を埋
め突起電極と密着した状態となるため、再形成された突
起電極保護用樹脂マスク(樹脂)はいわゆるアンダーフ
ィルレジンとして機能する。よって、実装時に半導体装
置と実装基板との熱膨張差に起因して発生する応力が突
起電極に印加されても、突起電極が損傷したり剥離する
ことを確実に防止することができる。
【0087】また、突起電極保護用樹脂マスクは、加熱
工程において軟化した後、再形成されるため、加熱工程
前の状態における突起電極保護用樹脂マスクの開口部の
大きさは、突起電極の大きさに対して大きく設定するこ
とができ、突起電極の配設処理を容易に行なうことがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例である突起電極の形成方法
を説明する図であり、初期状態を示す図である。
【図2】本発明の第1実施例である突起電極の形成方法
を説明する図であり、マスク装着工程を示す図である。
【図3】本発明の第1実施例である突起電極の形成方法
を説明する図であり、ペースト配設工程を示す図であ
る。
【図4】本発明の第1実施例である突起電極の形成方法
を説明する図であり、突起電極配設工程を示す図であ
る。
【図5】本発明の第1実施例である突起電極の形成方法
を説明する図であり、加熱工程を示す図である。
【図6】図5に示す半導体装置が実装された状態を示す
図である。
【図7】本発明の第2実施例である突起電極の形成方法
を説明する図であり、樹脂配設工程を示す図である。
【図8】本発明の第2実施例である突起電極の形成方法
を用いて製造された半導体装置を示す図である。
【図9】本発明の第3実施例である突起電極の形成方法
を説明する図であり、樹脂板配設工程を示す図である
(その1)。
【図10】本発明の第3実施例である突起電極の形成方
法を説明する図であり、樹脂板配設工程を示す図である
(その1)。
【図11】本発明の第3実施例である突起電極の形成方
法を用いて製造された半導体装置を示す図である。
【図12】本発明の第4実施例である突起電極の形成方
法を説明する図であり、マスク装着工程が終了した状態
を示す図である。
【図13】本発明の第4実施例である突起電極の形成方
法を説明する図であり、突起電極配設工程を示す図であ
る。
【図14】本発明の第4実施例である突起電極の形成方
法を説明する図であり、突起電極配設工程が終了した半
田ボール近傍を拡大して示す図である。
【図15】本発明の第1実施例である突起電極の形成方
法を説明する図であり、加熱工程が終了し半導体装置が
完成した状態を示す図である。
【図16】第4実施例における突起電極配設工程の詳細
を説明するための図である。
【図17】従来の突起電極の形成方法の一例を示す図で
あり、初期状態を示す図である。
【図18】従来の突起電極の形成方法の一例を示す図で
あり、マスク装着工程を示す図である。
【図19】従来の突起電極の形成方法の一例を示す図で
あり、ペースト配設工程を示す図である。
【図20】従来の突起電極の形成方法の一例を示す図で
あり、突起電極配設工程す図である。
【図21】従来の突起電極の形成方法の一例を示す図で
あり、金属マスクを取り除いた状態を示す図である。
【図22】従来の突起電極の形成方法を用いて製造され
た半導体装置を示す図である。
【図23】従来の突起電極の形成方法の一例を示す図で
あり、初期状態を示す図である。
【図24】従来の突起電極の形成方法の一例を示す図で
あり、初期状態を示す図である。
【図25】従来の突起電極の形成方法の一例を示す図で
あり、半田ボールを配設した状態を示す図である。
【図26】従来の突起電極の形成方法の一例を示す図で
あり、加熱処理が終了した状態を示す図である。
【符号の説明】
2,32 パッケージ 3 樹脂パッケージ 4,34 半導体チップ 8,38 ワイヤ 10,40 パット部 18,48 ペースト 20,50 半田ボール 22,52 突起電極 23,64 開口部 26A,26B 基板 27 絶縁膜 28 スルーホール電極 29 ボンディングパッド 30,60,70,80 半導体装置 44 樹脂マスク 46 位置決め開口部 37,65 ペースト 54A,54B,54C,54D アンダーフィルレジ
ン 55 液状樹脂 56 実装基板 58 配線パターン 59 ノズル 62 樹脂板 66 マウンター 67 治具 69 吸引開口部 71 ペースト槽
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/60,23/12 H05K 3/34

Claims (17)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 突起電極が形成されるパッド部を有した
    基板に、前記突起電極の形成位置に位置決め開口部が形
    成された樹脂マスクを装着するマスク装着工程と、 前記樹脂マスクを介し、前記パッド部にペーストを配設
    するペースト配設工程と、 前記樹脂マスクを位置決めの基準として突起電極を前記
    ペースト上に配設する突起電極配設工程と、 前記樹脂マスクを装着した状態を維持しつつ加熱処理を
    行なうことにより、前記突起電極を前記パッド部に接合
    し、前記位置決め開口部を溶融した樹脂で埋める加熱工
    程とを有することを特徴とする突起電極の形成方法。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の突起電極の形成方法にお
    いて、 前記樹脂マスクは熱可塑性樹脂により形成されているこ
    とを特徴とする突起電極の形成方法。
  3. 【請求項3】 請求項1または2記載の突起電極の形成
    方法において、 前記突起電極は、半田であることを特徴とする突起電極
    の形成方法。
  4. 【請求項4】 請求項3記載の突起電極の形成方法にお
    いて、前記樹脂マスクの融点(Tm)は、前記半田の融
    点(Tb)に対して高い(Tm≧Tb)ことを特徴とす
    る突起電極の形成方法。
  5. 【請求項5】 突起電極が形成されるパッド部を有した
    基板に、前記突起電極の形成位置に位置決め開口部が形
    成された金属マスクを装着するマスク装着工程と、 前記金属マスクを介し、前記パッド部にペーストを配設
    するペースト配設工程と、 前記金属マスクを位置決めの基準として突起電極を前記
    ペースト上に配設する突起電極配設工程と、 前記金属マスクを取り外した後、加熱処理を行うことに
    より前記突起電極を前記パッド部に接合する加熱工程
    と、 前記加熱工程の終了後に実施され、前記突起電極の形成
    位置に開口部を有した樹脂板を前記基板上に配設する樹
    脂板配設工程と、 前記樹脂板を加熱し溶融させ、前記突起電極との空隙を
    除去する工程とを有することを特徴とする突起電極の形
    成方法。
  6. 【請求項6】 請求項5記載の突起電極の形成方法にお
    いて、 前記樹脂板は熱可塑性樹脂により形成されていることを
    特徴とする突起電極の形成方法。
  7. 【請求項7】 請求項5または6記載の突起電極の形成
    方法において、 前記突起電極は、半田であることを特徴とする突起電極
    の形成方法。
  8. 【請求項8】 請求項7記載の突起電極の形成方法にお
    いて、 前記樹脂板の融点(Tm)は、前記半田の融点(Tb)
    に対して高い(Tm≧Tb)ことを特徴とする突起電極
    の形成方法。
  9. 【請求項9】 突起電極が形成されるパッド部を有した
    基板に、前記突起電極の形成位置に位置決め開口部が形
    成された金属マスクを装着するマスク装着工程と、 前記金属マスクを介し、前記パッド部にペーストを配設
    するペースト配設工程と、 前記金属マスクを位置決めの基準として突起電極を前記
    ペースト上に配設する突起電極配設工程と、 前記金属マスクを取り外した後、加熱処理を行うことに
    より前記突起電極を前記パッド部に接合する加熱工程
    と、 前記加熱工程の終了後に実施され、前記突起電極の形成
    位置を除いて流動性を有した樹脂を前記基板上に配設す
    る樹脂配設工程と、 前記流動性を有した樹脂を加熱し溶融させ、前記突起電
    極との空隙を除去する工程とを有することを特徴とする
    突起電極の形成方法。
  10. 【請求項10】 請求項9記載の突起電極の形成方法に
    おいて、 前記樹脂は熱可塑性樹脂により形成されていることを特
    徴とする突起電極の形成方法。
  11. 【請求項11】 請求項9または10記載の突起電極の
    形成方法において、 前記突起電極は、半田であることを特徴とする突起電極
    の形成方法。
  12. 【請求項12】 請求項11記載の突起電極の形成方法
    において、前記樹脂の融点(Tm)は、前記半田の融点
    (Tb)に対して高い(Tm≧Tb)こと を特徴とする突起電極の形成方法。
  13. 【請求項13】 予め突起電極の配設位置に開口部を有
    する突起電極保護用樹脂マスクが少なくとも突起電極形
    成領域に配設されてなる基板に、前記開口部を介して前
    記突起電極配設位置に突起電極を配設する突起電極配設
    工程と、 加熱処理を行なうことにより、前記突起電極を突起電極
    配設位置に設けられたパッド部に接合すると共に前記樹
    脂マスクを軟化流動させ、前記位置決め開口部を軟化し
    た樹脂で埋める加熱工程とを有することを特徴とする突
    起電極の形成方法。
  14. 【請求項14】 請求項13記載の突起電極形成方法に
    おいて、 前記突起電極保護用樹脂マスクは、 前記突起電極配設工程以前にマスク装着工程を実施する
    ことにより形成されることを特徴とする突起電極の形成
    方法。
  15. 【請求項15】 請求項13または14記載の突起電極
    の形成方法において、 配設される前記突起電極には、ペーストが塗布されてい
    ることを特徴とする突起電極の形成方法。
  16. 【請求項16】 請求項13または14記載の突起電極
    の形成方法において、 前記突起電極配設工程の前に、前記突起電極配設位置に
    ペーストを塗布する工程を有することを特徴とする突起
    電極の形成方法。
  17. 【請求項17】 請求項13乃至16のいずれかに記載
    の突起電極の形成方法において、 前記突起電極保護用樹脂マスクは、前記加熱工程で軟化
    する軟化点を有する樹脂からなることを特徴とする突起
    電極の形成方法。
JP27225698A 1997-10-13 1998-09-25 突起電極の形成方法 Expired - Fee Related JP3487411B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27225698A JP3487411B2 (ja) 1997-10-13 1998-09-25 突起電極の形成方法
US09/168,881 US6169022B1 (en) 1997-10-13 1998-10-09 Method of forming projection electrodes
KR1019980042745A KR100301356B1 (ko) 1997-10-13 1998-10-13 돌기전극의형성방법

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27907297 1997-10-13
JP9-279072 1997-10-13
JP27225698A JP3487411B2 (ja) 1997-10-13 1998-09-25 突起電極の形成方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11186455A JPH11186455A (ja) 1999-07-09
JP3487411B2 true JP3487411B2 (ja) 2004-01-19

Family

ID=26550105

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27225698A Expired - Fee Related JP3487411B2 (ja) 1997-10-13 1998-09-25 突起電極の形成方法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP3487411B2 (ja)
KR (1) KR100301356B1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3417292B2 (ja) * 1998-04-08 2003-06-16 松下電器産業株式会社 半導体装置
JP2001156212A (ja) 1999-09-16 2001-06-08 Nec Corp 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
KR100630698B1 (ko) 2004-08-17 2006-10-02 삼성전자주식회사 솔더볼 접착 신뢰도를 높이는 반도체 패키지 및 그 제조방법
KR101688006B1 (ko) 2010-11-26 2016-12-20 삼성전자주식회사 반도체 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR100301356B1 (ko) 2001-12-01
KR19990037053A (ko) 1999-05-25
JPH11186455A (ja) 1999-07-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4809761B2 (ja) エリアアレイデバイスを電気基板に取り付ける方法及びパターン付きアンダーフィル膜
TWI478254B (zh) 引線上凸塊之倒裝晶片互連
US6046910A (en) Microelectronic assembly having slidable contacts and method for manufacturing the assembly
KR100553853B1 (ko) 반도체 장치, 반도체 장치의 제조 방법 및 반도체 장치의적층 방법
US6791195B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method of the same
US6774497B1 (en) Flip-chip assembly with thin underfill and thick solder mask
US9545014B2 (en) Flip chip interconnect solder mask
US6169022B1 (en) Method of forming projection electrodes
JP2000058709A (ja) 突起電極構造および突起電極形成方法
EP1430532B1 (en) Encapsulation of pin solder for maintaining accuracy in pin position
KR20020044577A (ko) 개선된 플립-칩 결합 패키지
JP2001284382A (ja) はんだバンプ形成方法、フリップチップ実装方法及び実装構造体
JP3487411B2 (ja) 突起電極の形成方法
JP2005039206A (ja) 半導体チップ表面実装方法
JPH11163044A (ja) プリント配線板および電子部品実装方法
JP2000151086A (ja) プリント回路ユニット及びその製造方法
JP2001085471A (ja) 電子部品の実装方法
JPH0837278A (ja) ピングリッドアレイの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20031014

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071031

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081031

Year of fee payment: 5

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081031

Year of fee payment: 5

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081031

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091031

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091031

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101031

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101031

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111031

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111031

Year of fee payment: 8

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111031

Year of fee payment: 8

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111031

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121031

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121031

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131031

Year of fee payment: 10

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees