JP3486022B2 - 排ガス処理装置 - Google Patents
排ガス処理装置Info
- Publication number
- JP3486022B2 JP3486022B2 JP26750095A JP26750095A JP3486022B2 JP 3486022 B2 JP3486022 B2 JP 3486022B2 JP 26750095 A JP26750095 A JP 26750095A JP 26750095 A JP26750095 A JP 26750095A JP 3486022 B2 JP3486022 B2 JP 3486022B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exhaust gas
- introducing
- processing cylinder
- introducing pipe
- pipe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
- B01D53/68—Halogens or halogen compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
- B01D53/68—Halogens or halogen compounds
- B01D53/70—Organic halogen compounds
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
- F23G7/00—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals
- F23G7/06—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases
- F23G7/061—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases with supplementary heating
- F23G7/065—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases with supplementary heating using gaseous or liquid fuel
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
- F23G2209/00—Specific waste
- F23G2209/14—Gaseous waste or fumes
- F23G2209/142—Halogen gases, e.g. silane
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
- Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
- Y02C20/30—Capture or disposal of greenhouse gases of perfluorocarbons [PFC], hydrofluorocarbons [HFC] or sulfur hexafluoride [SF6]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Incineration Of Waste (AREA)
Description
から排出される排ガスを処理するための排ガス処理装置
に関し、特に、排ガス中に含まれているNF3 やSF6
等の無機系フッ素化合物或いはCF4 やC2 F6 等のフ
ロン系ガスを分解処理するための排ガス処理装置に関す
るものである。
i2 H6 、PH3 、NH3 、NF3 、SF6 、CF4 、
C2 F6 等の有毒性ガスや環境汚染のおそれがあるガス
が含まれた排ガスが生ずる。そのため、このような排ガ
スが排出される場所には排ガス処理装置を設置し、法令
等が定める許容濃度(TLV値)となるまで排ガスを分
解処理する必要がある。
り排ガスを燃焼させて分解する燃焼式のものが知られて
いる。一般的な燃焼式排ガス処理装置は、排気ガスに対
してバーナーからの火炎を吹き付けて、その熱により排
気ガスを分解処理するものである。かかる燃焼式排ガス
処理装置は、SiH4 、Si2 H6 、PH3 、NH3等
の可燃性ガスに対しては有効に機能し得る。
燃焼式排ガス処理装置では、火炎が短く、しかもN
F3、SF6 、CF4 、C2 F6 等は非常に安定なガス
であるため、これらのガスを分解処理するためには、大
容量で大型の装置を用いなければならず、且つ、大量の
燃料が必要となる。
のであり、その目的は、装置の小型化を図りつつ、効率
的に排ガスの分解処理を行うことのできる燃焼式の排ガ
ス処理装置を提供することにある。
に、本発明による排ガス処理装置は、処理筒と、この処
理筒の一端に取り付けられ当該処理筒の内部に燃焼用空
気を導入する燃焼用空気導入管と、燃焼用空気導入管の
内側に配設され、処理筒の内部に燃料ガスを導入する燃
料ガス導入管と、燃料ガス導入管の内側に配設され、処
理筒の内部に排ガスを導入する排ガス導入管と、燃焼用
空気導入管の空気出口側の端部から処理筒の他端側に延
びる炎導管とを備えることを特徴としている。
用空気の混合ガスを点火すると、火炎は炎導管内を延び
ていき、高熱状態を保つことができる。従って、火炎と
排ガスとの接触が効率よく行われることとなる。
め、排ガス導入管を複数本設けてもよい。同様な観点か
ら、1本の排気ガス導入管の内部を複数の排ガス導入路
に分割してもよい。更に、SiH4等の排ガスを処理し
た際に生ずる酸化物が排ガス導入管の先端で堆積しない
よう、排ガス導入管の排ガス出口側の端部の近傍に粉体
払い落とし手段を設けることが好適である。更にまた、
処理筒の側壁及び炎導管の間の空間に冷却用空気を導入
するための冷却用空気導入手段を設けると、冷却用空気
が炎導管の熱的シールドとしても機能することとなる。
実施形態について詳細に説明する。なお、全図面中、同
一又は相当部分には同一符号を付することとする。
える排ガス処理設備の一例を示している。これらの図に
おいて、符号10,12,14,16は、それぞれ、排
ガス処理装置、フィルタ、排気用ブロワ及び湿式スクラ
バを示している。フィルタ12、排気用ブロワ14及び
湿式スクラバ16については、一般的な排ガス処理設備
で通常用いられている型式のものである。
は、図示するように、円筒形の処理筒18を備えてい
る。この処理筒18は縦置き、即ちその軸線が鉛直方向
に向くようにして設置されている。
ズル22が形成されており、この出口ノズル22は配管
24を介してフィルタ12に接続されている。また、処
理筒18の上板26の中心部には、排ガス導入管28、
燃料ガス導入管30及び燃焼用空気導入管32から成る
ガス導入部が設けられている。このガス導入部は、内側
から順に排ガス導入管28、燃料ガス導入管30、燃焼
用空気導入管32を同軸に配置して構成されたものであ
り、排ガス導入管28の内部空間、排ガス導入管28と
燃料ガス導入管30との間の環状空間、及び、燃料ガス
導入管30と燃焼用空気導入管32との間の環状空間
が、それぞれ、排ガス導入路29、燃料ガス導入路31
及び燃焼用空気導入路33として機能するようになって
いる。これらの導入管28,30,32は処理筒18の
上板26を貫通し、処理筒18内の上部の所定位置まで
延びている。また、燃焼用空気導入管32の下端には炎
導管34が接続され、この炎導管34の下端は処理筒1
8の底板20の近傍まで延びている。なお、図示しない
が、燃料ガス導入路31の出口部分には、点火プラグ等
の適当な点火手段が設けられている。
入管28の上端からその内部に導入されるようになって
いる。また、燃料ガス導入管30の上部には、燃料ガ
ス、例えばメタンガス、天然ガス、都市ガス、プロパン
ガス、水素ガス若しくはブタンガス又はこれらの混合ガ
スの供給源36が接続され、燃焼用空気導入管32の上
部には燃焼用空気の供給源38が接続されている。更
に、冷却用空気供給源40が、処理筒18の上板26の
外周部分に設けられた冷却用空気導入口(冷却用空気導
入手段)42に接続されている。
る場合、排ガスを排ガス導入管28内に送り込むと共
に、燃料ガス、燃焼用空気、冷却用空気の各供給源3
6,38,40及び排気用ブロワ14を駆動する。供給
源36,38,40の駆動により、燃料ガス及び燃焼用
空気がそれぞれ所定流量で燃料ガス導入路31及び燃焼
用空気導入路33に供給される。ここで、点火手段を作
動させて燃料ガスと燃焼用空気の混合ガスを発火させる
と、その火炎が排ガス導入管28の下端から排出された
排ガスに接触し、排ガス中に含まれている物質の分解処
理が行われる。混合ガスの火炎は炎導管34の存在によ
り処理筒18の底板20の近傍まで延び、その結果、排
ガスと火炎の接触効果が高められ、排ガス中の物質がフ
ロン系ガスのように安定な物質であっても熱分解が可能
となっている。
と、大量の冷却用空気が処理筒18と炎導管34との間
の環状空間に導入され、処理筒18の下部で炎導管34
の下端から排出された処理済み排ガスと混合される。こ
れにより、炎導管34内で高温となった排ガスの冷却が
行われると同時に、大量の空気と混合されるので排ガス
の希釈化も行われることとなる。この冷却用空気は炎導
管34の周囲を通過するため、炎導管34の熱的シール
ドとしても機能するものである。従って、断熱材を処理
筒18の外周に設ける必要はない。
処理済み排ガスは、排気用ブロワ14の吸引力により処
理筒18の出口ノズル22から排出され、フィルタ12
において排ガス中の塵埃等が除去される。処理済み排ガ
スは、フィルタ12及び排気用ブロワ14を通過した
後、湿式スクラバ16において更に清浄化され、最終的
には外部に排出される。
いて実際に排ガスを処理した実験結果を下の表に示す。
この実験では、内径400mmの処理筒18、長さ80
0mmの炎導管34を備える排ガス処理装置を用いた。
また、対称ガスはNF3 、NH3 、SiH4 、PH3 と
した。なお、これらのガスは、半導体製造装置の排ガス
と同様、窒素ガスにより希釈されたものである。燃料ガ
スについてはメタンを流量17リットル/分で用い、燃
焼用空気の流量は480リットル/分、冷却用空気の流
量20,000リットル/分とした。
あっても、本発明による排ガス処理装置10により処理
した場合には、出口ノズル22から排出された処理済み
排ガス中の濃度はACGIH(American Conference of
Governmental Industrial Hygienists )で定めるTL
V値未満となった。一方、NH3 や可燃性ガスであるS
iH4 、PH3 についてはTVL値を大幅に下回る結果
が得られた。
ガスの温度は約50℃であり、炎導管34の内部温度が
800〜1000℃となることから、冷却も効率的に行
われたことが分かる。出口ノズル22での温度が50℃
程度である場合、特に冷却装置を設けずとも、後続の機
器に悪影響を及ぼすことはない。
10の各構成部材18,28,30,32は円筒形とな
っているが、形状は特に限定されず、例えば断面が四角
形状の処理筒、排ガス導入管、燃料ガス導入管、燃焼用
空気導入管及び炎導管から排ガス処理装置を構成しても
よい。また、炎導管34も燃焼用空気導入管32と別個
に設ける必要はなく、燃焼用空気導入管32を延長し
て、その延長部分を炎導管として用いてもよい。更に、
上記実施形態では排ガス処理装置は縦置きとなっている
が、横置きでもよく、また、下方から上方に向けてガス
が流れるように設置してもよい。
置10′の第2の実施形態を示すものである。この実施
形態の構成は基本的には図1に示す第1の実施形態と同
様であるが、燃料ガス導入管30の内側に複数本(図3
では4本)の排ガス導入管28a,28b,28c,2
8dが配置されている点で第1の実施形態と異なってい
る。なお、この第2の実施形態においては、複数本の排
ガス導入管28a〜28dは1本の保持管50内にて保
持されている。また、保持管50内で排ガス導入管28
a〜28dの間に形成される空間を閉じるため、蓋板5
2を保持管50の下端に取り付けておくのが好適であ
る。 なお、この実施形態では、燃料用空気導入管32
の下部を延長し、その延長部分を炎導管として用いてい
る。
スが排出されるが、各排ガスを切換弁を用いて順番に排
ガス処理装置に導入することとしている。これに対し
て、図2及び図3に示す排ガス処理装置10′において
は、複数種の排ガスを同時に取り入れ分解処理すること
ができ、処理効率が大幅に向上することになる。また、
各排ガス導入管28a〜28dは特定のガスの専用とす
ることができる。これにより、排ガス導入管内で種類の
異なる排ガス同士が混合し反応するおそれがなくなる。
ガス導入管28a〜28dを保持管50内に配置してい
るが、図4(a)〜(c)に示すように、1本の排ガス
導入管28に仕切り板54を設けて、排ガス導入管28
の内部に複数の排ガス導入路29a,29b,29c,
29dを形成することとしても、同様な効果を奏するこ
とができる。
H4 、PH3 、B2 H6 等の排ガスを燃焼処理する場
合、多量の生成酸化物である粉体が発生する。この粉体
は、排ガス導入管28の出口側端部に堆積する傾向があ
る。このような粉体の堆積が生じ成長していくと、正常
な火炎の形成を阻害し、処理能力の低下を招くこととな
る。
に粉体払い落とし手段を設けることが好ましい。図5
は、図2に示す排ガス処理装置10′に粉体払い落とし
手段として羽根車60を設けたものを示す断面図であ
る。図5に示すように、羽根車60は、蓋板52の中心
に回転自在に支持されており、排ガス導入管28a〜2
8dからの排ガスの流れにより回転駆動されるようにな
っている。また、羽根車60の羽根62は排ガス導入管
28a〜28dの下端に極めて近接して配置されてい
る。従って、この羽根車60が排ガスにより回転される
と、羽根62が排ガス導入管28a〜28dの下端付近
を横切り、排ガス導入管28a〜28dの下端に付着し
た粉体を払い落とすことが可能となっている。勿論、粉
体払い落とし手段は羽根車60に限られず、例えば、モ
ータ(図示せず)により回転される掻き板を羽根車に代
えて配設してもよい。
未使用時には排ガス導入管28a〜28dの外側の蓋板
52に密着収納されるようにするのが好ましい。このよ
うに収容することで、羽根車60が排ガスの処理時に排
ガスの流路を乱す心配がなくなる。
の排ガス処理装置は炎導管を備えているため、火炎を長
時間維持することができ、排ガスとの接触を効率よく行
わせることができる。これにより、装置の小型化を図る
ことが可能となり、また、少量の燃料であっても、安定
な排ガス、例えばNF3 やSF6 等の無機系フッ素化合
物或いはCF4 やC2 F6 等のフロン系ガス等を効率よ
く分解処理することができる。
め、排ガス処理装置の外周に断熱材を設ける必要がな
く、これによっても装置の小型化が可能となる。
済み排ガスと混合させることとしているので、排ガスの
冷却と共に希釈処理も行われ、排ガス処理がより効果的
なものとなる。
を示す排ガス処理設備の概略図である。
を部分的に示す縦断面図である。
る。
入路を有する排ガス導入管を示す水平断面図である。
して羽根車を取り付けた状態を示す縦断面図である。
図である。
…排気用ブロワ、16…湿式スクラバ、18…処理筒、
20…底板、22…出口ノズル、24…配管、26…上
板、28,28a,28b,28c,28d…排ガス導
入管、30…燃料ガス導入管、32…燃焼用空気導入
管、34…炎導管、36…燃料ガス供給源、38…燃焼
用空気供給源、40…冷却用空気供給源、42…冷却用
空気導入口、60…羽根車。
Claims (4)
- 【請求項1】 処理筒と、 前記処理筒の一端に取り付けられ、前記処理筒の内部に
燃焼用空気を導入する燃焼用空気導入管と、 前記燃焼用空気導入管の内側に配設され、前記処理筒の
内部に燃料ガスを導入する燃料ガス導入管と、 前記燃料ガス導入管の内側に配設され、前記処理筒の内
部に排ガスを導入する排ガス導入管と、 前記燃焼用空気導入管の空気出口側の端部から前記処理
筒の他端の近傍まで延びる炎導管と、前記処理筒の側壁及び前記炎導管の間の空間に冷却用空
気を導入するための冷却用空気導入手段と、 前記処理筒の他端に設けられた、処理済み排ガスを排出
するための出口ノズルと、 を備える排ガス処理装置。 - 【請求項2】 前記排気ガス導入管が複数本、前記燃料
ガス導入管内に配設されている請求項1記載の排ガス処
理装置。 - 【請求項3】 前記排気ガス導入管の内部が複数の排ガ
ス導入路に分割されている請求項1記載の排ガス処理装
置。 - 【請求項4】 前記排ガス導入管の排ガス出口側の端部
の近傍に粉体払い落とし手段が設けられている請求項1
〜3のいずれか1項に記載の排ガス処理装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26750095A JP3486022B2 (ja) | 1995-10-16 | 1995-10-16 | 排ガス処理装置 |
US08/730,580 US5891404A (en) | 1995-10-16 | 1996-10-15 | Exhaust gas treatment unit |
EP96402217A EP0768109B1 (en) | 1995-10-16 | 1996-10-16 | Exhaust gas treatment unit and process |
DE69615303T DE69615303T2 (de) | 1995-10-16 | 1996-10-16 | Vorrichtung und Verfahren zur Abgasreinigung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26750095A JP3486022B2 (ja) | 1995-10-16 | 1995-10-16 | 排ガス処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09108532A JPH09108532A (ja) | 1997-04-28 |
JP3486022B2 true JP3486022B2 (ja) | 2004-01-13 |
Family
ID=17445721
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26750095A Expired - Fee Related JP3486022B2 (ja) | 1995-10-16 | 1995-10-16 | 排ガス処理装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5891404A (ja) |
EP (1) | EP0768109B1 (ja) |
JP (1) | JP3486022B2 (ja) |
DE (1) | DE69615303T2 (ja) |
Families Citing this family (47)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5955037A (en) * | 1996-12-31 | 1999-09-21 | Atmi Ecosys Corporation | Effluent gas stream treatment system having utility for oxidation treatment of semiconductor manufacturing effluent gases |
SE512645C2 (sv) * | 1997-09-29 | 2000-04-17 | Ssd Innovation Ab | Portabel brännare |
US6153150A (en) * | 1998-01-12 | 2000-11-28 | Advanced Technology Materials, Inc. | Apparatus and method for controlled decomposition oxidation of gaseous pollutants |
JPH11218318A (ja) * | 1998-02-03 | 1999-08-10 | Air Liquide Japan Ltd | 排ガス処理設備 |
US6423284B1 (en) * | 1999-10-18 | 2002-07-23 | Advanced Technology Materials, Inc. | Fluorine abatement using steam injection in oxidation treatment of semiconductor manufacturing effluent gases |
JP3994605B2 (ja) * | 1999-11-26 | 2007-10-24 | 株式会社日立製作所 | Pfcガスの処理方法及び処理装置 |
US20010048902A1 (en) * | 2000-05-01 | 2001-12-06 | Christopher Hertzler | Treatment system for removing hazardous substances from a semiconductor process waste gas stream |
US20030049182A1 (en) * | 2000-05-01 | 2003-03-13 | Christopher Hertzler | System and method for abatement of dangerous substances from a waste gas stream |
US6524096B2 (en) * | 2001-01-05 | 2003-02-25 | Vincent R. Pribish | Burner for high-temperature combustion |
US6527828B2 (en) * | 2001-03-19 | 2003-03-04 | Advanced Technology Materials, Inc. | Oxygen enhanced CDA modification to a CDO integrated scrubber |
DE10291795D2 (de) * | 2001-04-27 | 2004-08-05 | Infineon Technologies Ag | Zentrale Verbrennungsanlage zur Behandlung PFC-haltiger Abluft |
JP4703028B2 (ja) * | 2001-05-08 | 2011-06-15 | 大阪瓦斯株式会社 | 燃焼装置 |
JP4772223B2 (ja) * | 2001-07-03 | 2011-09-14 | パナソニック環境エンジニアリング株式会社 | 排ガス除害装置及び方法 |
US6551381B2 (en) * | 2001-07-23 | 2003-04-22 | Advanced Technology Materials, Inc. | Method for carbon monoxide reduction during thermal/wet abatement of organic compounds |
US6596054B2 (en) * | 2001-07-23 | 2003-07-22 | Advanced Technology Materials, Inc. | Method for carbon monoxide reduction during thermal/wet abatement of organic compounds |
DE50105033D1 (de) * | 2001-08-30 | 2005-02-10 | Das Duennschicht Anlagen Sys | Verfahren und Einrichtung zur Reinigung insbesondere von fluorhaltigen Abgasen in einem Brenner mit räumlicher Trennung der Einspeisung von Gasen |
JP4374814B2 (ja) * | 2001-09-20 | 2009-12-02 | 株式会社日立製作所 | 過弗化物処理の処理方法 |
DE10211964A1 (de) * | 2002-03-19 | 2003-10-23 | Uhde Gmbh | Verfahren zur Verminderung der NOx-Abgaskonzentration in einer unter Druck betriebenen Salpetersäureanlage beim Ab- und/oder Anfahren der Anlage |
FR2854943B1 (fr) * | 2003-05-13 | 2006-05-26 | Air Liquide | Procede de controle de bruleurs assurant le chauffage de canaux d'ecoulement de verre liquide |
US7569193B2 (en) * | 2003-12-19 | 2009-08-04 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for controlled combustion of gaseous pollutants |
US7074034B2 (en) * | 2004-06-07 | 2006-07-11 | Air Products And Chemicals, Inc. | Burner and process for combustion of a gas capable of reacting to form solid products |
US7736599B2 (en) * | 2004-11-12 | 2010-06-15 | Applied Materials, Inc. | Reactor design to reduce particle deposition during process abatement |
GB0424967D0 (en) * | 2004-11-12 | 2004-12-15 | Hamworthy Combustion Eng Ltd | Incinerator for boil-off gas |
JP2006150260A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Iwatani Internatl Corp | 半導体製造ラインにおける排ガス処理装置 |
GB0509163D0 (en) * | 2005-05-05 | 2005-06-15 | Boc Group Plc | Gas combustion apparatus |
DE102005040576B4 (de) * | 2005-08-26 | 2007-08-16 | Centrotherm Clean Solutions Gmbh & Co. Kg | Luftbrenner zur Verbrennung von Abgasen aus Prozessen zur Behandlung von Halbleitern |
CN101300411B (zh) * | 2005-10-31 | 2012-10-03 | 应用材料公司 | 制程减降反应器 |
GB0611968D0 (en) * | 2006-06-16 | 2006-07-26 | Boc Group Plc | Method and apparatus for the removal of fluorine from a gas system |
GB0613044D0 (en) * | 2006-06-30 | 2006-08-09 | Boc Group Plc | Gas combustion apparatus |
US20080016768A1 (en) | 2006-07-18 | 2008-01-24 | Togna Keith A | Chemically-modified mixed fuels, methods of production and used thereof |
DE102006052586B4 (de) * | 2006-11-08 | 2008-07-03 | Schott Solar Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung der Abgase einer Siliziumdünnschicht-Produktionsanlage |
JP5232407B2 (ja) * | 2007-05-25 | 2013-07-10 | 日本パイオニクス株式会社 | 排ガスの浄化装置 |
JP2008298399A (ja) * | 2007-06-01 | 2008-12-11 | Sunray Reinetsu Co Ltd | バーナー、排ガス処理装置、および排ガス処理方法 |
JPWO2009125457A1 (ja) * | 2008-04-11 | 2011-07-28 | カンケンテクノ株式会社 | シラン系ガス及びフッ素系ガス含有排ガスの処理方法及び該方法を用いた排ガス処理装置 |
GB0902234D0 (en) * | 2009-02-11 | 2009-03-25 | Edwards Ltd | Method of treating an exhaust gas stream |
JP5479756B2 (ja) * | 2009-02-20 | 2014-04-23 | カンケンテクノ株式会社 | 熱処理炉およびこれを用いた排ガス処理装置 |
CN102230630B (zh) * | 2011-06-03 | 2013-01-16 | 芜湖三峰节能设备有限公司 | 一种可用于废气焚烧的热风炉 |
CN102230633B (zh) * | 2011-06-03 | 2012-11-21 | 王兴文 | 一种废气焚烧热风炉的烧嘴部 |
WO2013163192A1 (en) * | 2012-04-24 | 2013-10-31 | Applied Materials, Inc. | Gas reclamation and abatement system for high volume epitaxial silicon deposition system |
GB2504468B (en) * | 2012-07-27 | 2017-03-22 | Edwards Ltd | Burner Nozzle Reciprocating Scraper Arrangement for Reducing Effluent Gas Deposits |
GB2515017B (en) * | 2013-06-10 | 2017-09-20 | Edwards Ltd | Process gas abatement |
GB2516267B (en) * | 2013-07-17 | 2016-08-17 | Edwards Ltd | Head assembly |
CN104096464B (zh) * | 2014-07-18 | 2015-11-18 | 杭州电子科技大学 | 一种栅栏电晕簇射放电处理挥发性有机污染物的方法 |
CN104296146B (zh) * | 2014-10-22 | 2018-06-22 | 天津升华机械设备有限公司 | 一种喷火头、燃烧罐及燃烧罐在处理燃料中的用途 |
SG10202001086WA (en) * | 2017-07-07 | 2020-04-29 | Siw Eng Pte Ltd | Device and system for decomposing and oxidizing gaseous pollutant |
KR102242310B1 (ko) * | 2019-06-25 | 2021-04-20 | 오브유니티 주식회사 | 배기장치 및 그 제어 방법 |
CN111676464A (zh) * | 2020-06-17 | 2020-09-18 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 半导体加工设备的排气装置及半导体加工设备 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2360187C2 (de) * | 1973-12-03 | 1985-07-11 | Volvo Flygmotor AB, Trollhättan | Verbrennungskammer für die Reinigung von Prozeßabgasen |
DE2742070C2 (de) * | 1977-09-19 | 1982-10-07 | Fa. J. Aichelin, 7015 Korntal | Industriebrenner zur Beheizung von Ofenräumen in Industrieöfen |
US4801437A (en) * | 1985-12-04 | 1989-01-31 | Japan Oxygen Co., Ltd. | Process for treating combustible exhaust gases containing silane and the like |
JPS6387519A (ja) * | 1986-09-29 | 1988-04-18 | Mitsubishi Jushi Eng Kk | 半導体製造装置の排ガス燃焼方法 |
FR2612606B1 (fr) * | 1987-03-18 | 1990-09-14 | Air Liquide | Procede et dispositif de destruction d'effluents gazeux toxiques |
US5462429A (en) * | 1993-10-20 | 1995-10-31 | Praxair Technology, Inc. | Mechanical wiper for waste gas incinerator |
US5510093A (en) * | 1994-07-25 | 1996-04-23 | Alzeta Corporation | Combustive destruction of halogenated compounds |
DE19511644A1 (de) * | 1995-03-30 | 1996-10-02 | Das Duennschicht Anlagen Sys | Verfahren und Einrichtung zur Reinigung von schadstoffhaltigen Abgasen durch chemische Umsetzung |
-
1995
- 1995-10-16 JP JP26750095A patent/JP3486022B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-10-15 US US08/730,580 patent/US5891404A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-10-16 EP EP96402217A patent/EP0768109B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-16 DE DE69615303T patent/DE69615303T2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0768109A3 (en) | 1997-12-17 |
JPH09108532A (ja) | 1997-04-28 |
DE69615303D1 (de) | 2001-10-25 |
EP0768109A2 (en) | 1997-04-16 |
DE69615303T2 (de) | 2002-07-04 |
US5891404A (en) | 1999-04-06 |
EP0768109B1 (en) | 2001-09-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3486022B2 (ja) | 排ガス処理装置 | |
US7985379B2 (en) | Reactor design to reduce particle deposition during process abatement | |
TWI434729B (zh) | 用於自氣體流移除氟之方法及裝置 | |
JP4109334B2 (ja) | ガス流から有害物質を除去する方法 | |
EP1312860A1 (en) | Method and device for combustion type exhaust gas treatment | |
DE59600454D1 (de) | Vorrichtung zur reinigung von abgasen | |
JP2006170603A (ja) | 廃ガス処理装置 | |
JP3864092B2 (ja) | 難燃性物質分解バーナ | |
EP0933120A1 (en) | Exhaust gas treatment installation | |
JPH0268414A (ja) | 有毒性ガスの燃焼処理法及び装置 | |
JPS62134414A (ja) | 半導体製造排ガスの燃焼方法及び同燃焼装置 | |
JP2001082723A (ja) | 燃焼式除害装置及び燃焼式除害装置用バーナー | |
JPS6387519A (ja) | 半導体製造装置の排ガス燃焼方法 | |
JP2002061821A (ja) | 燃焼式排ガス処理方法及び装置 | |
JPH0352616A (ja) | 有毒性排ガスの処理方法及び装置 | |
JP4535558B2 (ja) | 燃焼式排ガス処理装置 | |
JP3993686B2 (ja) | 排ガス除害装置 | |
JPH1061934A (ja) | 燃焼式排ガス処理装置 | |
JPH02103311A (ja) | 有毒性排ガスの燃焼処理方法 | |
JP3030493B2 (ja) | 半導体製造工程からの排ガスの除害装置 | |
JPH02126014A (ja) | 有毒性ガスの燃焼処理方法及び装置 | |
JP2963792B2 (ja) | 有毒性排ガスの処理方法及び装置 | |
JPH11257640A (ja) | 排ガスの除害装置 | |
KR200337058Y1 (ko) | 화염통로를 갖는 반도체 폐가스 처리장치 | |
JP2004053219A (ja) | 燃焼除害装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081024 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081024 Year of fee payment: 5 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081024 Year of fee payment: 5 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081024 Year of fee payment: 5 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081024 Year of fee payment: 5 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091024 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091024 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101024 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111024 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111024 Year of fee payment: 8 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111024 Year of fee payment: 8 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111024 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121024 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131024 Year of fee payment: 10 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |