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JP3476901B2 - Cleaning method and cleaning device - Google Patents

Cleaning method and cleaning device

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Publication number
JP3476901B2
JP3476901B2 JP08415994A JP8415994A JP3476901B2 JP 3476901 B2 JP3476901 B2 JP 3476901B2 JP 08415994 A JP08415994 A JP 08415994A JP 8415994 A JP8415994 A JP 8415994A JP 3476901 B2 JP3476901 B2 JP 3476901B2
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JP
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cleaning
water
aqueous
aqueous solvent
drying
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JP08415994A
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肇 滝本
剛 柳沢
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Olympus Corp
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Publication date
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  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光学部品、電子部品等
の被洗浄物を洗浄する洗浄方法および洗浄装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning method and a cleaning apparatus for cleaning objects to be cleaned such as optical parts and electronic parts.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、例えば光学素子等の洗浄において
は、非水系溶剤〜洗剤〜親水性溶剤〜フロンベーパーと
いった洗浄系をとるのが一般的であった。しかし、フロ
ンは周知の通り環境に及ぼす影響が大きく、世界的に全
廃の方向に進んでいる。そこで近年、このフロンを用い
た洗浄系の代替え法が各種提案されている。そのうち、
一つの可能な代替え洗浄法として、特許国際公開番号W
O 91/13697号に開示された洗浄方法がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, for cleaning optical elements, for example, a cleaning system such as a non-aqueous solvent, a detergent, a hydrophilic solvent, and a fluorocarbon was generally used. However, as is well known, CFCs have a large impact on the environment, and they are heading for global abolition. Therefore, in recent years, various alternative methods of cleaning systems using this CFC have been proposed. Of which
As one possible alternative cleaning method, patent international publication number W
There is a cleaning method disclosed in O 91/13697.

【0003】この洗浄方法は、第1の洗浄工程におい
て、水切りあるいは洗浄剤として、低分子量シロキサン
若しくはイソパラフィン等の非水系洗浄剤を基調とする
基礎洗浄剤またはこれらと界面活性剤や親水性溶剤の洗
浄性能向上剤との混合物を用い、これを第2の洗浄で更
に低分子量シロキサンまたはイソパラフィン等を基調と
する基礎洗浄剤に浸漬した後、乾燥させるという方法を
とっている。そして、乾燥方法としては、60℃以下の
温風乾燥またはパーフルオロカーボンのベーパー乾燥を
行い、付帯装置として、洗浄液中の水、オイルの比重差
分離、基礎洗浄剤のみの分離、再供給システムを提案し
ている。
In this cleaning method, in the first cleaning step, a basic cleaning agent based on a non-aqueous cleaning agent such as low molecular weight siloxane or isoparaffin as a drainer or cleaning agent, or a basic cleaning agent and a surfactant or hydrophilic solvent are used. The method is such that a mixture with a cleaning performance improver is used, and this is further dipped in a basic cleaning agent based on low molecular weight siloxane or isoparaffin in the second cleaning, and then dried. Then, as a drying method, hot air drying at 60 ° C or lower or vapor drying of perfluorocarbon is performed, and as an auxiliary device, water in the cleaning liquid, specific gravity difference separation of oil, separation of only basic cleaning agent, and re-supply system are proposed. is doing.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術において
は、第1の工程(水切り・洗浄の工程)において、被洗
浄物を低分子量シロキサン若しくはイソパラフィン等の
非水系溶剤またはこれらと界面活性剤若しくは親水性溶
剤との混合物への浸漬を実施している。しかし、非水系
溶剤では第1工程前段の工程において被洗浄物に残留し
た水や界面活性剤をほとんど溶解しないため、水切り・
洗浄は効果的に行うことができず、第2の非水系の基礎
洗浄剤による洗浄工程に達した被洗浄物表面には水分等
が付着した状態になってしまう欠点があった。被洗浄物
表面に水分が残留した場合、次工程では化学的な溶解力
がないので、何らかの物理力を付与しないと水がきれな
い。しかし、化学的な溶解力に比べて物理力は比較的均
一性に欠けたり、ハードの使用条件に左右され易いた
め、精密な洗浄を達成させるためには問題があるのが現
状である。
In the above prior art, in the first step (draining / washing step), the article to be washed is treated with a non-aqueous solvent such as low molecular weight siloxane or isoparaffin, or a surfactant or hydrophilic agent. Immersion in a mixture with an organic solvent is carried out. However, the non-aqueous solvent hardly dissolves the water and the surfactant remaining in the object to be cleaned in the step before the first step, so
The cleaning cannot be effectively performed, and there is a drawback that moisture or the like is attached to the surface of the object to be cleaned that has reached the cleaning step using the second non-aqueous basic cleaning agent. When water remains on the surface of the object to be cleaned, it has no chemical dissolving power in the next step, so that water cannot be drained unless some physical force is applied. However, the physical force is comparatively lacking in uniformity as compared with the chemical dissolving power, and it is easily influenced by the usage conditions of the hardware, and thus there is a problem in achieving precise cleaning.

【0005】また、第1工程において界面活性剤等の洗
浄性能向上剤を非水系溶剤に混入させたものを使用した
場合、界面活性剤をリンスすることが第2の非水系溶剤
のみの工程においてはたいへん困難である。すなわち、
結果的に両者の場合とも、被洗浄物表面に残渣が残り易
く、特に外観品質を問題とする分野の洗浄では従来の方
法の使用は不適当であった。
When a cleaning performance improver such as a surfactant is mixed in the non-aqueous solvent in the first step, rinsing the surfactant is performed in the second non-aqueous solvent only step. Is very difficult. That is,
As a result, in both cases, a residue is likely to remain on the surface of the object to be cleaned, and the conventional method is unsuitable for cleaning especially in the field where the appearance quality is a problem.

【0006】さらに、上記従来技術においては、乾燥温
度が低いために、被洗浄物が温度に影響を受け易いもの
の場合には有効である反面、一律に乾燥時間がかかると
いう欠点があった。
Further, in the above-mentioned prior art, since the drying temperature is low, it is effective when the object to be cleaned is easily affected by temperature, but there is a drawback that it takes a uniform drying time.

【0007】本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので、請求項1に係る発明は、被洗浄物の最良
な洗浄品質を得ることができる洗浄方法を提供すること
を目的とする。請求項2に係る発明は、上記目的に加
え、イソプロピルアルコールの置換と非水系溶剤による
洗浄・乾燥とを同時に行う多機能化を図ることにより、
一工程を省略することができる洗浄方法を提供すること
を目的とする。請求項3および4に係る発明は、それぞ
れ請求項1および2に係る発明の洗浄方法を実施するこ
とができるとともに、非水系溶剤を再生することができ
る洗浄装置を提供することを目的とする
[0007] The present invention has been made in view of such conventional problems, the invention according to claim 1, aims to provide a cleaning method capable of obtaining the best cleaning quality of the object to be cleaned To do. In addition to the above-mentioned object, the invention according to claim 2 achieves a multi-function by simultaneously performing replacement of isopropyl alcohol and cleaning / drying with a non-aqueous solvent,
It is an object of the present invention to provide a cleaning method capable of omitting one step. The inventions according to claims 3 and 4 are respectively
The cleaning method of the invention according to claims 1 and 2 can be carried out.
In addition to being able to regenerate non-aqueous solvents
It is an object of the present invention to provide a cleaning device .

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1に係る発明は、光学部品、電子部品等の被
洗浄物を洗浄するにあたり、水系洗浄剤により脱脂する
かまたは親水性溶剤を主成分とする準水系洗浄剤により
脱脂する第1工程と、水または純水で洗浄・リンスする
第2工程と、イソプロピルアルコールで脱水する第3工
程と、イソプロピルアルコールを直鎖状ポリジオルガノ
シロキサンおよび環状ポリジオルガノシロキサンから選
択された低分子量ポリオルガノシロキサンまたはイソパ
ラフィン系溶剤から選択された少なくとも1種である
水系溶剤で置換して被洗浄物を洗浄する第4工程と、当
該非水系溶剤の減圧下でベーパー洗浄・乾燥を行う第5
工程とを設けることとした。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 uses a water-based cleaning agent to degrease or hydrophilic the object to be cleaned such as optical parts and electronic parts. A first step of degreasing with a semi-aqueous detergent containing a solvent as a main component, a second step of washing and rinsing with water or pure water, a third step of dehydrating with isopropyl alcohol, and a linear polydiorgano of isopropyl alcohol.
Select from siloxane and cyclic polydiorganosiloxane
Selected low molecular weight polyorganosiloxane or isopa
A fourth step of cleaning the object to be cleaned by substituting it with a non-aqueous solvent which is at least one selected from the raffinic solvents , and a fifth step of performing vapor cleaning and drying under reduced pressure of the non-aqueous solvent.
And the process.

【0009】請求項2に係る発明は、請求項1に係る洗
浄方法において、イソプロピルアルコールを非水系溶剤
で置換する第4工程を省略して、直接第5工程(事実上
第4工程)に移行することとした。
The invention according to claim 2 is the cleaning method according to claim 1, wherein the fourth step of substituting the isopropyl alcohol with the non-aqueous solvent is omitted, and the process directly shifts to the fifth step (actually the fourth step). It was decided to.

【0010】請求項1または2に係る洗浄方法におい
て、直鎖状ポリジオルガノシロキサンとしては、例えば
オクタメチルトリシロキサン、ヘキサメチルジシロキサ
ン、デカメチルテトラロキサンが好ましく、環状ポリジ
オルガノシロキサンとしては、例えばオクタメチルシク
ロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサ
ンが好ましい。
In the cleaning method according to claim 1 or 2,
As the linear polydiorganosiloxane, for example, octamethyltrisiloxane, hexamethyldisiloxane, and decamethyltetraloxane are preferable, and as the cyclic polydiorganosiloxane, for example, octamethylcyclotetrasiloxane and decamethylcyclopentasiloxane are preferable. preferable.

【0011】請求項3に係る発明は、水系洗浄剤により
脱脂するかまたは親水性溶剤を主成分とする準水系洗浄
剤により脱脂する処理手段と、水または純水で洗浄・リ
ンスする処理手段と、イソプロピルアルコールで脱水す
る処理手段と、イソプロピルアルコールを可溶性の非水
系溶剤で置換して被洗浄物を洗浄する処理手段と、当該
非水系溶剤の減圧下でベーパー洗浄・乾燥を行う洗浄・
乾燥手段と、イソプロピルアルコールを溶解した非水系
溶剤を再生する手段とを備えて洗浄装置を構成した。
The invention according to claim 3 is a processing means for degreasing with an aqueous cleaning agent or a dewatering with a semi-aqueous cleaning agent containing a hydrophilic solvent as a main component, and a processing means for cleaning / rinsing with water or pure water. A treatment means for dehydrating with isopropyl alcohol, a treatment means for substituting isopropyl alcohol with a soluble non-aqueous solvent to wash an object to be washed, and a washing for performing vapor cleaning / drying under reduced pressure of the non-aqueous solvent.
Drying means and non-aqueous system in which isopropyl alcohol is dissolved
A cleaning device was configured with means for regenerating the solvent .

【0012】請求項4に係る発明は、水系洗浄剤により
脱脂するかまたは親水性溶剤を主成分とする準水系洗浄
剤により脱脂する処理手段と、水または純水で洗浄・リ
ンスする処理手段と、イソプロピルアルコールで脱水す
る処理手段と、イソプロピルアルコールを可溶性の非水
系溶剤の減圧下で置換すると同時にベーパー洗浄・乾燥
を行う洗浄・乾燥手段と、イソプロピルアルコールを溶
解した非水系溶剤を再生する手段とを備えて洗浄装置を
構成した。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a processing means for degreasing with an aqueous cleaning agent or a dewatering with a semi-aqueous cleaning agent containing a hydrophilic solvent as a main component, and a processing means for cleaning / rinsing with water or pure water. , A treatment means for dehydration with isopropyl alcohol, a cleaning / drying means for performing vapor cleaning / drying while replacing isopropyl alcohol under a reduced pressure of a soluble non-aqueous solvent, and a means for dissolving isopropyl alcohol.
And a means for regenerating the solved non-aqueous solvent to constitute a cleaning device.

【0013】[0013]

【作用】すなわち、請求項1に係る発明においては、被
洗浄物は、まず水系あるいは準水系洗浄液による脱脂の
後、水または純水による前工程の洗浄・リンスを行い、
次にイソプロピルアルコール(以下、単に「IPA」と
いう。)による水切りを行い、その後乾燥性の高い非水
系溶剤(シロキサン等)に浸漬して、IPAを非水系溶
剤により液置換し、最終的に減圧下でベーパー洗浄・乾
燥する一連の洗浄ラインにより処理が施される。
That is, in the invention according to claim 1, the object to be cleaned is first degreased with an aqueous or semi-aqueous cleaning liquid, and then washed and rinsed in the previous step with water or pure water.
Next, water is drained with isopropyl alcohol (hereinafter simply referred to as "IPA"), and then immersed in a highly dry non-aqueous solvent (such as siloxane) to replace the IPA with the non-aqueous solvent, and finally to reduce the pressure. Processing is performed by a series of cleaning lines where vapor cleaning and drying are performed below.

【0014】ここで、第1および第2工程は、通常の付
着オイルや指紋等を脱脂しあるいは研磨剤を除去した
後、その洗浄液を洗浄・リンスするものである。すなわ
ち、界面活性剤の水による洗浄・リンスである。また、
第3の工程にIPAを用いることにより、本工程に被洗
浄物表面に付着して持ち込まれた水分はIPAにより速
やかに溶解され、溶剤液中に均一に溶解分散することと
なる。したがって、水または純水を用いる第2工程を経
た被洗浄物でも第3工程のIPA浸漬を行えば、被洗浄
面の水分の残留は皆無となるため、第4工程で非水系溶
剤に浸漬した場合、表面のIPAは完全に非水系溶剤で
置換され、均一に濡れることになる。この状態より、被
洗浄物を引き上げてベーパー洗浄・乾燥すると、被洗浄
面の水分残りを原因とするシミの発生はなくなり、良好
な洗浄品質が得られる。
Here, in the first and second steps, ordinary adhered oil, fingerprints, etc. are degreased or the abrasive is removed, and then the cleaning liquid is washed and rinsed. That is, washing / rinsing with water of the surfactant. Also,
By using IPA in the third step, the water adhering to the surface of the object to be cleaned and brought into this step is quickly dissolved by IPA, and is uniformly dissolved and dispersed in the solvent liquid. Therefore, even if the object to be cleaned that has been subjected to the second step using water or pure water is subjected to the IPA immersion in the third step, there will be no residual water on the surface to be cleaned. Therefore, the object to be cleaned was immersed in the non-aqueous solvent in the fourth step. In this case, the IPA on the surface is completely replaced with the non-aqueous solvent, and the surface is wetted uniformly. When the object to be cleaned is lifted from this state and cleaned and dried by vapor, generation of spots due to residual water on the surface to be cleaned is eliminated, and good cleaning quality can be obtained.

【0015】また、本洗浄方法は最終仕上げの工程に減
圧ベーパー洗浄を適用していることから、浸漬引き上げ
〜温風乾燥といった一連の方法に比較すると、洗浄仕上
がり品質は向上し液残りの多い複雑な形状の洗浄サンプ
ルに対しても所望の洗浄品質を満足することが可能とな
る。
Further, since the present cleaning method uses the reduced pressure vapor cleaning in the final finishing step, compared with a series of methods such as dipping and pulling up to warm air drying, the cleaning finish quality is improved and the liquid residue is complicated. It is possible to satisfy a desired cleaning quality even for a cleaning sample having a different shape.

【0016】さらに、洗浄の目的で第3工程に着目する
と、IPAを用いることによりその極性故に十分な脱脂
力も発揮される。つまり、被洗浄物に付着した汚れや第
1工程の洗浄液が、たとえ第3工程に持ち込まれたとし
ても、IPAの場合、非水系のシロキサンやイソパラフ
ィンを用いた場合と比べてその洗浄力が大きいので、次
の第4工程に持ち込む汚れを皆無にできる。したがっ
て、最終に用いる非水系溶剤の寿命を延ばすことがで
き、仕上がりの洗浄品質を長期的に良好に保つことがで
きる。
Further, paying attention to the third step for the purpose of cleaning, by using IPA, a sufficient degreasing force can be exhibited due to its polarity. That is, even if the dirt attached to the object to be cleaned and the cleaning liquid of the first step are brought into the third step, IPA has a greater cleaning power than the case of using non-aqueous siloxane or isoparaffin. Therefore, it is possible to completely eliminate the dirt brought into the next fourth step. Therefore, the life of the non-aqueous solvent used finally can be extended and the finished cleaning quality can be kept good for a long period of time.

【0017】例えば光学素子の洗浄に請求項1に係る発
明を適用する場合、第1工程(水系洗浄剤または準水系
洗浄剤による脱脂工程)で研磨剤、芯取り油、指紋等を
除去し、第2工程では水または純水による前記洗浄剤の
洗浄・リンスを行い、第3工程でIPAによる水の置換
(脱水)を行い、第4工程で非水系溶剤によるIPAの
置換を行い、第5工程で減圧下での非水系洗浄液のベー
パーによる洗浄・乾燥を行うこととなる。
For example, when the invention according to claim 1 is applied to the cleaning of the optical element, the polishing agent, the centering oil, the fingerprint, etc. are removed in the first step (the step of degreasing with the aqueous cleaning agent or the semi-aqueous cleaning agent), In the second step, the cleaning agent is washed and rinsed with water or pure water, the water is replaced (dehydrated) with IPA in the third step, and the IPA is replaced with a non-aqueous solvent in the fourth step. In the process, the non-aqueous cleaning liquid is cleaned and dried with a vapor under reduced pressure.

【0018】なお、第3工程のIPAは、前述のように
水切りの目的で使用しているが、実際の洗浄ラインにお
いては第3工程に水の持ち込みが多く、IPAの水分量
の管理が必要である。このため、生産量と持ち込み量よ
りIPAの交換時間を規定して使用するとよい。一方、
次の第4工程の非水系溶剤は再生装置を設けて品質の維
持を行うとよい。
The IPA in the third step is used for the purpose of draining water as described above, but in the actual cleaning line, much water is brought into the third step, and it is necessary to control the water content of IPA. Is. Therefore, it is advisable to define and use the IPA replacement time based on the production amount and the carry-in amount. on the other hand,
The quality of the non-aqueous solvent in the following fourth step may be maintained by installing a regenerator.

【0019】このように、水切りの後、減圧ベーパーを
使用すれば、浸漬〜温風乾燥による仕上がり品質よりも
良好な結果が得られる。また、ベーパーによる洗浄であ
るため、たとえ汚れてもベーパーとして被洗浄物の表面
に凝縮付着し洗浄の作用をする液は、蒸留の場合と同様
に清浄であり、減圧下でのベーパーにより安全かつより
清浄な液による洗浄が成される。
As described above, when the reduced pressure vapor is used after the water is drained, a better result can be obtained than the finish quality obtained by dipping to warm air drying. Further, since the cleaning is performed with a vapor, even if it becomes dirty, the liquid that condenses and adheres to the surface of the object to be cleaned as a vapor and has a cleaning action is clean as in the case of distillation, and is safe and vaporized under reduced pressure. Cleaning with a cleaner liquid is performed.

【0020】また、最終仕上げ液として使用する非水系
溶剤の再生は、水、IPAとの溶解度差および比重差を
利用した水分離機が用いられる。減圧ベーパー乾燥後の
排ガスと排液は、冷却されつつ、水タンクへ通される。
前の脱水工程で用いたIPAは水に溶解するが、ベーパ
ー乾燥に用いた非水系溶剤は水に不溶のため、水分離機
中では比重差により純度の高い非水系溶剤の上層とIP
Aを溶解した水の下層とに分離が起こり、結果的に非水
系溶剤のみを取り出すことができる。その非水系溶剤を
ベーパー槽へ送ることで繰り返し使用が可能となる。な
お、脱水工程でのIPAは、常に10wt%以下(好ま
しくは5wt%以下)の水分の溶解量となるように管理
しているが、その乾燥用非水系溶剤に溶解した僅かの水
分も、水分離機へ通すことで完全に取り除かれる。した
がって、このような再生手法は、IPA含有量の極めて
低い良好な再生方法である。
Further, for the regeneration of the non-aqueous solvent used as the final finishing liquid, a water separator utilizing the difference in solubility between water and IPA and the difference in specific gravity is used. The exhaust gas and the waste liquid after drying under reduced pressure vapor are passed through a water tank while being cooled.
The IPA used in the previous dehydration step is soluble in water, but the non-aqueous solvent used for vapor drying is insoluble in water.
Separation occurs in the lower layer of water in which A is dissolved, and as a result, only the non-aqueous solvent can be taken out. The non-aqueous solvent can be used repeatedly by sending it to the vapor tank. Although IPA in the dehydration step is controlled so that the amount of water dissolved is always 10 wt% or less (preferably 5 wt% or less), even a small amount of water dissolved in the drying non-aqueous solvent is It is completely removed by passing it through a separator. Therefore, such a regeneration method is a good regeneration method having an extremely low IPA content.

【0021】[0021]

【実施例1】図1に示すような洗浄工程を設定し、洗浄
を行った。図1において、A部は脱脂工程(第1工
程)、B部は洗浄・リンス工程(第2工程)、C部は脱
水工程(第3工程)、D部はIPAと非水系溶剤との置
換工程(第4工程)および洗浄・乾燥工程(第5工程)
である。本実施例の洗浄装置は、11槽の処理槽1から
なる構成であり、第1,2の処理槽1には界面活性剤2
(オリンパスケミテック(株)製、水系洗浄液;EE−
1110)、第3,4の処理槽1にはアルカリ性界面活
性剤3(オリンパスケミテック(株)製、水系洗浄液;
EE−1120)を投入し、第5〜7の処理槽1は純水
4の掛け流し、第8,9の処理槽1にはIPA5、第1
0,11の処理槽1には低分子量ポリシロキサン6(オ
リンパスケミテック(株)製、非水系洗浄液;EE−3
110)を投入した。
Example 1 A washing process as shown in FIG. 1 was set and washing was performed. In FIG. 1, part A is a degreasing step (first step), part B is a cleaning / rinsing step (second step), part C is a dehydration step (third step), and part D is a replacement of IPA with a non-aqueous solvent. Process (4th process) and washing / drying process (5th process)
Is. The cleaning apparatus according to the present embodiment has a structure including 11 processing tanks 1, and the first and second processing tanks 1 include a surfactant 2
(Olympus Chemtech Co., Ltd., water-based cleaning solution; EE-
1110), an alkaline surfactant 3 (manufactured by Olympus Chemitech Co., Ltd., an aqueous cleaning solution) in the third and fourth treatment tanks 1;
EE-1120), the pure water 4 is poured into the fifth to seventh treatment tanks 1, and the IPA 5 and the first treatment tanks 1 and 8 are used in the eighth and ninth treatment tanks 1.
Low molecular weight polysiloxane 6 (manufactured by Olympus Chemtech Co., Ltd., non-aqueous cleaning liquid; EE-3)
110) was added.

【0022】上記低分子量ポリシロキサン6はオクタメ
チルトリシロキサンを主成分としたものを使用した。第
1〜9槽の処理槽1の底部にはすべて超音波振動子7を
配設し、純水4を入れた槽以外はクローズドなポンプ8
によるオーバーフローの循環槽を用いた。9で示すのは
フィルターである。特に、第10の処理槽1には、循環
過程にIPA分離機10を介装し、持ち込まれるIPA
5(下層)と低分子量ポロシロキサン6とを分離し、低
分子量ポロシロキサン6のみを再生することとした。
The low molecular weight polysiloxane 6 used was one containing octamethyltrisiloxane as a main component. An ultrasonic transducer 7 is provided at all bottoms of the processing tanks 1 to 9 and a pump 8 is closed except for the tank in which pure water 4 is put.
An overflow circulation tank was used. Reference numeral 9 is a filter. In particular, the IPA separator 10 is introduced into the tenth treatment tank 1 during the circulation process and brought in.
5 (lower layer) and the low molecular weight polysiloxane 6 were separated, and only the low molecular weight polysiloxane 6 was regenerated.

【0023】超音波の周波数および出力は40KHz お
よび600Wとし、オーバーフローの流量は5ml/m
inとした。被洗浄物(洗浄サンプル)11として光学
レンズを用い、これを揺動アーム12の先端に取り付け
た三点支持のカゴにやとい洗浄を行った。三点支持のカ
ゴは図2および図3に示す。このカゴはロッド状のSU
S枠13が被洗浄物11の外周に3箇所から当接するこ
とにより被洗浄物11を支持するものであり、支持され
た被洗浄物11の横移動を防ぐため、鋸歯状の固定用部
材(テフロン爪)14が設けられている。本実施例にお
いて1カゴの洗浄レンズ数は60個とした。
The frequency and output of ultrasonic waves are 40 kHz and 600 W, and the flow rate of overflow is 5 ml / m.
in. An optical lens was used as the object to be cleaned (cleaning sample) 11, and this basket was attached to the tip of the swing arm 12 and was quickly cleaned. The three-point support basket is shown in FIGS. This basket is a rod-shaped SU
The S frame 13 supports the article 11 to be cleaned by abutting the outer periphery of the article 11 to be cleaned from three locations, and in order to prevent the supported article 11 from laterally moving, a sawtooth fixing member ( A Teflon claw) 14 is provided. In this embodiment, the number of cleaning lenses for one basket is 60.

【0024】また、第11の処理槽1は、図1に示すよ
うに、減圧ベーパー機であり、低分子量ポリシロキサン
6の減圧下でベーパー洗浄・乾燥を行うことができるよ
うに、減圧乾燥槽15とベーパー発生装置16とを備え
ている。また、この減圧乾燥槽15とベーパー発生装置
16との間には、ポンプ8およびフィルター9により低
分子量ポリシロキサン6をリサイクルすべく、回収槽1
7とリサイクル槽18とが介装されている。
The eleventh processing tank 1 is a vacuum vapor machine as shown in FIG. 1, and the vacuum drying tank is used so that the vapor cleaning and drying can be performed under the reduced pressure of the low molecular weight polysiloxane 6. 15 and a vapor generator 16. Further, between the vacuum drying tank 15 and the vapor generator 16, a recovery tank 1 is provided to recycle the low molecular weight polysiloxane 6 by a pump 8 and a filter 9.
7 and the recycling tank 18 are interposed.

【0025】本実施例において、揺動アーム12の揺動
速度は往復2S/50mmストローク、洗浄時間は各槽
1minとした。また、減圧ベーパー条件として、真空
度100Torr、減圧時間1min、蒸気送り時間1
0sec、掃気時間15secとし、溶剤蒸気温度を1
40℃に設定した。
In this embodiment, the swinging speed of the swinging arm 12 is a reciprocating 2S / 50 mm stroke, and the cleaning time is 1 min for each tank. Further, as the reduced pressure vapor conditions, a vacuum degree of 100 Torr, a reduced pressure time of 1 min, and a steam feed time of 1
0 sec, scavenging time 15 sec, solvent vapor temperature 1
It was set to 40 ° C.

【0026】上記洗浄工程により洗浄し、蛍光灯下での
目視評価を、洗浄上がり、コート及び耐性後実施した。
その結果を表1に示す。本実施例によれば、洗浄品質は
良好なレベルとなった。
After washing in the above washing step, visual evaluation under a fluorescent lamp was carried out after washing, coating and resistance.
The results are shown in Table 1. According to this example, the cleaning quality was at a good level.

【0027】[0027]

【表1】 [Table 1]

【0028】[0028]

【実施例2】上記実施例1の第4工程を省略し、第3工
程を実施した後に、直接非水系溶剤の減圧下でのベーパ
ー洗浄・乾燥工程に移行した。その他の工程、条件等は
実施例1と同様に行った。本実施例により洗浄した被洗
浄物についても実施例1と同様に評価を行ったところ、
実施例1と同様に洗浄品質は良好なレベルとなった。
[Embodiment 2] The fourth step of the above-mentioned Example 1 was omitted, and after the third step was carried out, the process directly proceeded to the vapor cleaning / drying step under reduced pressure of the non-aqueous solvent. Other steps and conditions were the same as in Example 1. When the object to be cleaned washed according to this example was evaluated in the same manner as in Example 1,
Similar to Example 1, the cleaning quality was at a good level.

【0029】本発明の効果を前述の従来技術との比較に
おいて検証すべく、その従来技術を実施したところ、前
記従来技術にあってはほとんどのレンズ(被洗浄物)に
シミ等が発生してしまった。そこで、上記実施例で使用
した洗浄液等を使用して独自に、実験を行った。 (比較例1) 図4に示すような洗浄工程を設定し、洗浄を行った。洗
浄装置は11槽の構成であり、第1,2の処理槽1には
界面活性剤2(前記水系洗浄液EE−1110)、第
3,4の処理槽1にはアルカリ性界面活性剤3(前記水
系洗浄液EE−1120)を投入し、第5〜7の処理槽
1は純水4の掛け流し、第8〜11の処理槽1には低分
子量ポリシロキサン6(前記非水系洗浄液EE−311
0)を投入した。洗浄装置のA部は脱脂工程、B部は洗
浄・リンス工程、E部は水切り及び乾燥工程である。第
10,11の処理槽1を除いて処理槽1にはすべて超音
波振動子7を配設し、また純水4を入れた処理槽1以外
はクローズドなオーバーフローの循環槽を用いた。図4
中、19は水分離機である。上記低分子量ポリシロキサ
ン6としてオクタメチルトリシロキサンを主成分とした
ものを使用した。洗浄サンプルとして、光学レンズを三
点支持カゴにやとい洗浄を行った。その他の詳細な実験
条件は実施例1と同様である。また、乾燥工程として第
11の処理槽1では減圧ベーパー機を使用した。
In order to verify the effect of the present invention in comparison with the above-mentioned conventional technique, the conventional technique was carried out. As a result, in the above-mentioned conventional technique, most lenses (objects to be cleaned) have stains or the like. Oops. Therefore, an experiment was independently conducted using the cleaning liquid and the like used in the above examples. (Comparative Example 1) Cleaning was performed by setting a cleaning process as shown in FIG. The cleaning device has a structure of 11 tanks. The first and second processing tanks 1 have a surfactant 2 (the above-mentioned aqueous cleaning liquid EE-1110), and the third and fourth processing tanks 1 have an alkaline surfactant 3 (the above-mentioned). Aqueous cleaning liquid EE-1120) is charged, pure water 4 is poured into the fifth to seventh processing tanks 1, and low molecular weight polysiloxane 6 (the non-aqueous cleaning liquid EE-311 is supplied to the eighth to eleventh processing tanks 1).
0) was added. Part A of the cleaning apparatus is a degreasing process, part B is a cleaning / rinsing process, and part E is a draining and drying process. Except for the tenth and eleventh treatment tanks 1, all the treatment tanks 1 were provided with ultrasonic vibrators 7, and a closed overflow circulation tank was used except for the treatment tank 1 containing pure water 4. Figure 4
Inside, 19 is a water separator. As the low molecular weight polysiloxane 6, one having octamethyltrisiloxane as a main component was used. As a cleaning sample, an optical lens was quickly cleaned on a three-point supporting basket. The other detailed experimental conditions are the same as in Example 1. Further, a vacuum vapor machine was used in the eleventh treatment tank 1 as the drying step.

【0030】減圧ベーパー条件は、真空度100Tor
r、減圧時間1min、蒸気送り時間10sec、掃気
時間15sec、溶剤蒸気温度を140℃に設定した。
本比較例1で洗浄した被洗浄物についても、実施例1と
同様の評価を行い、その結果を実施例1と共に表1に示
した。本比較例1では、実施例1に比較して不良品が多
く発生した。
The reduced-pressure vapor condition is a vacuum degree of 100 Tor.
r, decompression time 1 min, vapor feed time 10 sec, scavenging time 15 sec, and solvent vapor temperature 140 ° C.
The same evaluation as in Example 1 was performed on the article to be cleaned in Comparative Example 1, and the results are shown in Table 1 together with Example 1. In Comparative Example 1, more defective products were generated than in Example 1.

【0031】(比較例2) 図5に示すような洗浄工程を設定し、洗浄を行った。洗
浄装置は6槽の構成であり、第1,2の処理槽1には準
水系洗浄液20(オリンパスケミテック(株)製、EE
−2210)、第3,4の処理槽1にはイソパラフィン
21、第5,6の処理槽1には低分子量ポリシロキサン
6(オリンパスケミテック(株)製、EE−3110)
を投入した。洗浄装置のF部は脱脂工程、G部は準水系
溶剤の置換および洗浄・乾燥工程である。第1〜4まで
の処理槽1には超音波振動子7を配設した。処理槽1の
構造はすべての槽において、クローズドでポンプ8によ
るフィルター9を介した液循環を行うこととした。液の
流れはオーバーフローの形式である。図5中、19は水
分離機である。洗浄サンプルとして、20mm×20m
mのアルミニウム、銅製のテストピースとスライドガラ
スを用いた。洗浄時間は各槽共、1minとし、第1〜
4槽のみ超音波をかけながら全槽で揺動を行い洗浄し
た。その他の洗浄条件は実施例1と同様である。減圧ベ
ーパー条件は、真空度100Torr、減圧時間1mi
n、蒸気送り時間10sec、掃気時間15secと
し、溶剤蒸気温度を140℃に設定した。
(Comparative Example 2) A cleaning process as shown in FIG. 5 was set and cleaning was performed. The cleaning device has a structure of 6 tanks, and the first and second processing tanks 1 have a semi-aqueous cleaning liquid 20 (made by Olympus Chemtech Co., Ltd., EE).
-2210), isoparaffin 21 in the third and fourth treatment tanks 1, and low molecular weight polysiloxane 6 in the fifth and sixth treatment tanks 1 (EE-3110 manufactured by Olympus Chemitec Co., Ltd.).
Was thrown in. The F part of the cleaning device is a degreasing process, and the G part is a semi-aqueous solvent replacement and cleaning / drying process. An ultrasonic transducer 7 was provided in each of the first to fourth processing tanks 1. The structure of the processing tank 1 is such that all the tanks are closed and liquid is circulated through the filter 9 by the pump 8. The liquid flow is in the form of overflow. In FIG. 5, 19 is a water separator. 20mm x 20m as a cleaning sample
A test piece made of aluminum and copper and a glass slide were used. Cleaning time is 1 min for each tank
Only four tanks were shaken and washed while applying ultrasonic waves. The other cleaning conditions are the same as in Example 1. The reduced pressure vapor conditions are a vacuum degree of 100 Torr and a reduced pressure time of 1 mi.
n, vapor feed time was 10 sec, scavenging time was 15 sec, and the solvent vapor temperature was set to 140 ° C.

【0032】洗浄性評価は洗浄上がりのサンプルを蛍光
灯下で目視および顕微鏡による観察を実施した。その結
果を表2に示す。外観の観察結果は、表2に示す通り、
アルミニウムとスライドガラスにおいてシミの発生が顕
著であった。
For the evaluation of the cleaning property, the sample after cleaning was visually and microscopically observed under a fluorescent lamp. The results are shown in Table 2. The results of the appearance observation are as shown in Table 2.
Staining was noticeable on aluminum and glass slides.

【0033】[0033]

【表2】 [Table 2]

【0034】(参考例) 図6に示す4槽の簡易洗浄評価装置を用いて、親水性溶
剤と非水系溶剤の組み合わせにより、水切り、乾燥性を
調べた。第1の処理槽1は水の掛け流しのオーバーフロ
ー、第2の処理槽1は親水性溶剤若しくは非水系溶剤ま
たはそれらの組み合わせであり、クローズドなオーバー
フローの循環系、第3の処理槽1は非水系溶剤の再生装
置付きのクローズドなオーバーフロー槽である。第1,
2槽には超音波振動子7を備え付けた。乾燥工程は第4
槽で、第3の処理槽1と同じ排水系溶剤6を用いた減圧
ベーパー機であり、真空度100Torr、減圧時間1
min、蒸気送り時間10sec、掃気時間15sec
とし、溶剤蒸気温度を140℃に設定した。洗浄サンプ
ルはスライドガラスとした。各槽、試験を行った液の組
み合わせおよび試験結果(外観目視評価)を表3に示
す。この結果より、水切りの効果は、IPAと非水系溶
剤の組み合わせ(本発明)の場合が良好であることがわ
かった。
Reference Example Using the four-tank simple cleaning evaluation apparatus shown in FIG. 6, draining and drying properties were examined by combining a hydrophilic solvent and a non-aqueous solvent. The first treatment tank 1 is an overflow of flowing water, the second treatment tank 1 is a hydrophilic solvent or a non-aqueous solvent or a combination thereof, and the closed overflow circulation system and the third treatment tank 1 are not. It is a closed overflow tank equipped with a regeneration device for water-based solvents. First,
An ultrasonic oscillator 7 was attached to each of the two tanks. 4th drying process
The tank is a vacuum vapor machine using the same drainage solvent 6 as in the third treatment tank 1, the vacuum degree is 100 Torr, and the vacuum time is 1
min, steam feed time 10 sec, scavenging time 15 sec
And the solvent vapor temperature was set to 140 ° C. The washed sample was a slide glass. Table 3 shows each tank, the combination of the tested liquids, and the test results (visual appearance visual evaluation). From this result, it was found that the effect of draining was good in the case of the combination of IPA and the non-aqueous solvent (the present invention).

【0035】[0035]

【表3】 [Table 3]

【0036】シロキサンにはIPAの溶解性があり、溶
解度は5〜10wt%であり、シロキサン中のIPA
は、水に対する溶解度の違いを利用した水分離機により
再生される。このなかで、直鎖以外の環状シロキサンで
あるオクタメチルシクロテトラシロキサンおよびデカメ
チルシクロテトラシロキサンにおいても同様に良好な結
果が得られている。このIPAを含んだ水は比重差によ
り槽下方に分離し、殆どのIPAが水槽に吸収されるた
め液交換が容易となる。
Siloxane has a solubility of IPA, and the solubility is 5 to 10 wt%.
Is regenerated by a water separator utilizing the difference in solubility in water. Of these, similarly good results were obtained with octamethylcyclotetrasiloxane and decamethylcyclotetrasiloxane, which are cyclic siloxanes other than straight chain. The water containing the IPA is separated below the tank due to the difference in specific gravity, and most of the IPA is absorbed in the water tank, which facilitates liquid exchange.

【0037】以下に、水系洗浄剤後の工程が請求項1に
係る工程と同一である例、具体的には非水系溶剤または
準水系溶剤による一次の脱脂である第1の工程を実施し
た後、水系洗浄剤による二次の脱脂である第2の工程を
実施し、その後水または純水で第2工程液を洗浄・リン
スする第3工程を実施し、IPAによる水リンスである
第4工程を実施し、その後IPAを非水系溶剤で置換し
被洗浄物を洗浄する第5工程を実施し、更に当該非水系
溶剤の減圧下でのベーパー洗浄・乾燥を行う第6工程よ
りなる洗浄方法および装置について説明する。この洗浄
方法は、光学素子研磨加工後に残るピッチあるいはその
後の工程のために塗布する樹脂系保護膜を除去する場合
の洗浄工程として、有効な方法である。レンズ等に付着
した固形のピッチ、樹脂等は、水系洗浄剤の洗浄工程の
みでは脱脂できず、非水系または準水系溶剤による脱脂
工程が不可欠となる。この洗浄プロセスは乳化ではな
く、溶解である。被洗浄物と同等の溶解パラメータを持
つ溶剤の性質を利用し相溶させるのである。次の工程
は、水の置換〜乾燥性の高い非水系溶剤によるIPA置
換〜減圧ベーパー乾燥といった一連の洗浄工程の流れを
とる。つまり、水系洗浄剤による脱脂後の工程は請求項
1に係る発明の工程と同一であり、作用も同様である。
この工程を行うことにより、ピッチ等の固形付着物およ
び指紋、研磨剤、オイル等が一度に除去でき、仕上がり
品質もシミなく、良好にできる。
Hereinafter, an example in which the steps after the aqueous cleaning agent are the same as the steps according to claim 1, specifically, after carrying out the first step of primary degreasing with a non-aqueous solvent or a semi-aqueous solvent, A second step of secondary degreasing with an aqueous cleaning agent, and then a third step of cleaning and rinsing the second step liquid with water or pure water, and a fourth step of water rinse with IPA And then performing a fifth step of substituting IPA with a non-aqueous solvent to wash an object to be cleaned, and further performing a vapor cleaning / drying of the non-aqueous solvent under reduced pressure. The device will be described. This cleaning method is an effective method as a cleaning step for removing the pitch remaining after the optical element polishing process or the resin-based protective film applied for the subsequent steps. The solid pitch, resin, etc. adhering to the lens cannot be degreased only by the washing step of the water-based cleaning agent, and a degreasing step with a non-aqueous or semi-aqueous solvent is indispensable. This washing process is dissolution, not emulsification. The property of the solvent having the same solubility parameter as the object to be cleaned is utilized to make them compatible. The next step takes a flow of a series of washing steps such as water replacement, IPA replacement with a non-aqueous solvent having high drying property, and vacuum vapor drying. That is, the steps after degreasing with the water-based cleaning agent are the same as the steps of the invention according to claim 1, and the operation is also the same.
By performing this step, solid deposits such as pitch and fingerprints, abrasives, oils, etc. can be removed at once, and the finished quality can be made good without stains.

【0038】次に、この請求項1に係る工程を有する洗
浄方法を実施した具体例を変形例1とし、図7に基づい
て説明する。図7に示すような洗浄工程を設定し、洗浄
を行った。洗浄装置は、14槽の処理槽1からなる構成
であり、第1〜3の処理槽1には有機溶剤22(オリン
パスケミテック(株)製、EE−4110)、第4〜7
の処理槽1にはアルカリ性界面活性剤3(例えば前記E
E−1120)、第8〜10の処理槽1には純水4の掛
け流し、第11,12の処理槽1にはIPA5、第1
3,14の処理槽1には低分子量ポリシロキサン6(例
えば前記EE−3110)を投入した。EE−4110
とは非水系テルペン炭化水素系溶剤である。図7におい
て、H部は一次脱脂工程、I部は二次脱脂工程、J部は
洗浄リンス工程、K部は水切り工程、L部はIPA置換
およびベーパー洗浄・乾燥工程である。
Next, a concrete example in which the cleaning method having the steps according to the first aspect of the present invention is carried out will be described as a modified example 1 with reference to FIG. Cleaning was performed by setting a cleaning process as shown in FIG. 7. The cleaning device is composed of 14 processing tanks 1, and in the first to third processing tanks 1, an organic solvent 22 (EE-4110 manufactured by Olympus Chemtech Co., Ltd.), and 4th to 7th.
Alkaline surfactant 3 (for example, E
E-1120), pure water 4 is poured over the eighth to tenth treatment tanks 1, and IPA5 and the first treatment tanks 11 and 12 are used.
Low-molecular-weight polysiloxane 6 (for example, EE-3110 described above) was placed in the treatment tanks 1 and 3 of No. 3. EE-4110
Is a non-aqueous terpene hydrocarbon solvent. In FIG. 7, the H part is the primary degreasing process, the I part is the secondary degreasing process, the J part is the cleaning rinse process, the K part is the draining process, and the L part is the IPA replacement and vapor cleaning / drying process.

【0039】上記低分子量ポリシロキサン6としてオク
タメチルトリシロキサンを主成分としたものを使用し
た。第13,14槽を除く処理槽1にはすべて超音波振
動子7を配設し、クローズドなオーバーフローの循環槽
を用いた。洗浄サンプルとして、研磨後のピッチ付きレ
ンズを洗浄した。その他、洗浄条件は実施例1と同様で
ある。洗浄時間は各槽1minで超音波をかけながら、
第1〜13槽において揺動を行った。本洗浄工程により
洗浄し、洗浄仕上がりのレンズに反射防止コートを施し
た。なお、乾燥工程としては、減圧ベーパー(使用液オ
リンパスケミテック(株)製、EE−3110)を使用
した。減圧ベーパー条件は、真空度100Torr、減
圧時間1min、蒸気送り時間10sec、掃気時間1
5secとし、溶剤蒸気温度を140℃に設定した。洗
浄後、外観の評価においてシミの発生はなく、良好な結
果となり、従来の14槽レベルのトリクレン〜フロン洗
浄機の場合と同等の洗浄品質が確認された。その結果
(変形例1として)を表4に示す。
As the low molecular weight polysiloxane 6, one having octamethyltrisiloxane as a main component was used. An ultrasonic transducer 7 was provided in each of the treatment tanks 1 except the 13th and 14th tanks, and a closed overflow circulation tank was used. As a cleaning sample, the lens with pitch after polishing was washed. Other cleaning conditions are the same as in Example 1. As for the cleaning time, while applying ultrasonic waves in each tank for 1 min,
Rocking was performed in the first to thirteenth tanks. The lens was washed in the main washing step, and an antireflection coat was applied to the finished lens. In the drying step, a reduced pressure vapor (use liquid Olympus Chemitec Co., Ltd., EE-3110) was used. The depressurization vapor conditions are a vacuum degree of 100 Torr, a depressurization time of 1 min, a steam feed time of 10 sec, and a scavenging time of 1.
The solvent vapor temperature was set to 140 ° C. for 5 seconds. After the cleaning, the appearance was free from stains in the appearance evaluation, and the result was good, and the same cleaning quality as that of the conventional 14 tank level trichlene-flon cleaning machine was confirmed. The results (as a first modification) are shown in Table 4.

【0040】[0040]

【表4】 [Table 4]

【0041】なお、低分子量ポリシロキサン6はオクタ
メチルシロキサン、デカメチルテトラシロキサンを最終
仕上げ工程に用いた場合において、同様な実験結果とな
り、効果が確認された。
The low-molecular-weight polysiloxane 6 had the same experimental result and its effect was confirmed when octamethylsiloxane and decamethyltetrasiloxane were used in the final finishing step.

【0042】また、請求項1に係る発明において、準水
系の脱脂洗浄剤を使用した場合、水によるリンス工程で
ある第2工程を省略し、直接IPAによるリンスである
第3工程に移行する洗浄方法も考えられる。この方法
は、準水系溶剤による脱脂を実施後の仕上げ乾燥工程と
して、最短で、品質の良好な洗浄工程である。準水系溶
剤の脱脂工程の後、準水系溶剤のIPAのような親水性
溶剤への溶解が良好であることを利用して、直接置換を
行い最終の非水系溶剤の減圧ベーパー洗浄・乾燥を実施
する。この洗浄方法によれば、所望の洗浄品質が、最短
の洗浄工程で実現できる。
In the invention according to claim 1, when a semi-water-based degreasing detergent is used, the second step, which is a rinse step with water, is omitted, and the cleaning is performed by moving directly to the third step, which is a rinse with IPA. A method is also possible. This method is a shortest and good quality cleaning step as a finishing drying step after degreasing with a semi-aqueous solvent. After the degreasing step of the semi-aqueous solvent, direct replacement is performed by utilizing the good solubility of the semi-aqueous solvent in a hydrophilic solvent such as IPA, and the final non-aqueous solvent vacuum vapor cleaning and drying is performed. To do. According to this cleaning method, desired cleaning quality can be realized in the shortest cleaning process.

【0043】次に、この請求項1に係る第2工程を省略
した洗浄方法を実施した具体例を変形例2とし、図8に
基づいて説明する。図8に示すような洗浄工程を設定
し、洗浄を行った。洗浄装置は、6槽の処理槽1から構
成されており、第1,2の処理槽1には準水系洗浄液2
0(オリンパスケミテック(株)製、EE−221
0)、第3,4の処理槽1にはIPA5、第5,6の処
理槽1には低分子量ポリシロキサン6(オリンパスケミ
テック(株)製、EE−3110)を投入した。図8に
おいて、M部は脱脂工程、N部は準水系溶剤の置換工
程、O部はIPA置換工程である。第1〜4の処理槽1
までに超音波振動子7を配設した。処理槽1の構造はす
べての槽において、クローズドでポンプ8によるフィル
ター9を介した液循環を行っている。ポンプ8により処
理槽1に送られた液はオーバーフローしてポンプ8に戻
るようになっている。
Next, a concrete example in which the cleaning method in which the second step according to the first aspect of the present invention is omitted is carried out as a modified example 2 and will be described with reference to FIG. Cleaning was performed by setting a cleaning process as shown in FIG. The cleaning device is composed of six processing tanks 1, and the first and second processing tanks 1 have a semi-aqueous cleaning liquid 2
0 (EE-221 manufactured by Olympus Chemtech Co., Ltd.)
0), IPA 5 was charged in the third and fourth treatment tanks 1, and low molecular weight polysiloxane 6 (EE-3110, manufactured by Olympus Chemtech Co., Ltd.) was charged in the fifth and sixth treatment tanks 1. In FIG. 8, the M part is a degreasing process, the N part is a semi-aqueous solvent replacement process, and the O part is an IPA replacement process. First to fourth processing tanks 1
Up to this, the ultrasonic transducer 7 was arranged. The structure of the processing tank 1 is such that all the tanks are closed and liquid is circulated through a filter 9 by a pump 8. The liquid sent to the processing tank 1 by the pump 8 overflows and returns to the pump 8.

【0044】洗浄サンプルとして、20mm×20mm
のアルミニウム、銅製のテストピースとスライドガラス
を用いた。洗浄時間は各槽共、1minとし、第1〜4
槽のみ超音波をかけながら全槽で揺動を行い、洗浄し
た。乾燥工程としては、減圧ベーパー機を使用した。減
圧ベーパー条件は、真空度100Torr、減圧時間1
min、蒸気送り時間10sec、掃気時間15sec
とし、溶剤蒸気温度を120℃に設定した。その他、洗
浄条件等は実施例1と同様である。洗浄サンプルとし
て、光学レンズを用い、洗浄性評価は洗浄上がりのサン
プルを蛍光灯下で、目視および顕微鏡による観察を実施
した。その結果(変形例2として)を比較例2と共に表
2に示す。外観の観察結果は、表2に示す通り、および
光学レンズにおいてもシミの発生はなく、良好であっ
た。なお、最終仕上げの低分子量ポリシロキサン6は、
オクタメチルトリシロキサンのみならず、ヘキサジメチ
ルシロキサン、デカメチルテトラシロキサンでも同様な
結果となり、効果が確認された。
As a cleaning sample, 20 mm × 20 mm
A test piece made of aluminum and copper and a glass slide were used. The cleaning time is 1 min for each tank, and the first to fourth
Only the tank was shaken in all the tanks while applying ultrasonic waves and washed. A vacuum vapor machine was used for the drying step. The reduced pressure vapor conditions are a vacuum degree of 100 Torr and a reduced pressure time of 1.
min, steam feed time 10 sec, scavenging time 15 sec
And the solvent vapor temperature was set to 120 ° C. In addition, the washing conditions and the like are the same as those in the first embodiment. As the cleaning sample, an optical lens was used, and the cleaning property was evaluated by visually observing the sample after cleaning under a fluorescent lamp and observing with a microscope. The results (as Modification 2) are shown in Table 2 together with Comparative Example 2. The results of the appearance observation were good, as shown in Table 2, and there were no spots on the optical lens. The final low molecular weight polysiloxane 6 is
Not only octamethyltrisiloxane, but also hexadimethylsiloxane and decamethyltetrasiloxane produced similar results, confirming the effect.

【0045】[0045]

【発明の効果】以上のように、請求項1および2に係る
発明の洗浄方法によれば、水切り工程を充分にし、被洗
浄物の最終仕上がりが良好で安定した品質に仕上げるこ
とができる。また、請求項3および4に係る発明の洗浄
装置によれば、非水系溶剤を再生することによって、シ
ミのない良好な洗浄品質が得られる。
As described above, according to claims 1 and 2
According to the cleaning method of the present invention , the draining step can be sufficiently performed, and the final finish of the object to be cleaned can be excellent and stable quality can be achieved. Further, the cleaning of the invention according to claims 3 and 4
According to the device, by recycling the non-aqueous solvent,
Good cleaning quality without defects can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例1の洗浄方法を示す工程図である。FIG. 1 is a process diagram illustrating a cleaning method according to a first embodiment.

【図2】同実施例1で用いたカゴを示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a basket used in the first embodiment.

【図3】同実施例1で用いたカゴを示す側面図である。FIG. 3 is a side view showing a basket used in the first embodiment.

【図4】比較例1の洗浄方法を示す工程図である。FIG. 4 is a process diagram showing a cleaning method of Comparative Example 1.

【図5】比較例2の洗浄方法を示す工程図である。FIG. 5 is a process diagram showing a cleaning method of Comparative Example 2.

【図6】参考例の洗浄方法を示す工程図である。FIG. 6 is a process drawing showing the cleaning method of the reference example.

【図7】 変形例1の洗浄方法を示す工程図である。FIG. 7 is a process drawing showing the cleaning method of the first modification.

【図8】 変形例2の洗浄方法を示す工程図である。FIG. 8 is a process drawing showing the cleaning method of the second modification.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 処理槽 2 界面活性剤 3 アルカリ性界面活性剤 4 純水 5 IPA 6 低分子量ポリシロキサン 11 被洗浄物 20 準水系洗浄液 22 有機溶剤 1 processing tank 2 Surfactant 3 Alkaline surfactant 4 Pure water 5 IPA 6 Low molecular weight polysiloxane 11 Items to be cleaned 20 Semi-aqueous cleaning liquid 22 Organic solvent

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−245451(JP,A) 特開 平5−128595(JP,A) 特開 平5−68951(JP,A) 特開 平5−96220(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B08B 1/00 - 7/04 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) Reference JP 5-245451 (JP, A) JP 5-128595 (JP, A) JP 5-68951 (JP, A) JP 5- 96220 (JP, A) (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) B08B 1/00-7/04

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 水系洗浄剤により脱脂するかまたは親水
性溶剤を主成分とする準水系洗浄剤により脱脂する第1
工程と、水または純水で洗浄・リンスする第2工程と、
イソプロピルアルコールで脱水する第3工程と、イソプ
ロピルアルコールを直鎖状ポリジオルガノシロキサンお
よび環状ポリジオルガノシロキサンから選択された低分
子量ポリオルガノシロキサンまたはイソパラフィン系溶
剤から選択された少なくとも1種である非水系溶剤で置
換して被洗浄物を洗浄する第4工程と、当該非水系溶剤
の減圧下でベーパー洗浄・乾燥を行う第5工程とからな
る洗浄方法。
1. A degreaser that is degreased with a water-based detergent or a semi-water-based detergent whose main component is a hydrophilic solvent.
A second step of washing and rinsing with water or pure water,
The third step of dehydrating with isopropyl alcohol, and isopropyl alcohol with linear polydiorganosiloxane
And low content selected from cyclic polydiorganosiloxanes
Molecular weight polyorganosiloxane or isoparaffin-based solution
A cleaning method comprising a fourth step of cleaning the object to be cleaned by substituting it with a non-aqueous solvent which is at least one selected from the agents , and a fifth step of performing vapor cleaning / drying under reduced pressure of the non-aqueous solvent. .
【請求項2】 水系洗浄剤により脱脂するかまたは親水
性溶剤を主成分とする準水系洗浄剤により脱脂する第1
工程と、水または純水で洗浄・リンスする第2工程と、
イソプロピルアルコールで脱水する第3工程と、イソプ
ロピルアルコールを直鎖状ポリジオルガノシロキサンお
よび環状ポリジオルガノシロキサンから選択された低分
子量ポリオルガノシロキサンまたはイソパラフィン系溶
剤から選択された少なくとも1種である非水系溶剤の減
圧下で置換すると同時にベーパー洗浄・乾燥を行う第4
工程とからなる洗浄方法。
2. A first degreasing method using a water-based cleaning agent or a semi-water-based cleaning agent containing a hydrophilic solvent as a main component.
A second step of washing and rinsing with water or pure water,
The third step of dehydration with isopropyl alcohol and isop
Ropyl alcohol was added to linear polydiorganosiloxane
And low content selected from cyclic polydiorganosiloxanes
Molecular weight polyorganosiloxane or isoparaffin-based solution
Of at least one non-aqueous solvent selected from the agents
The fourth that performs vacuum cleaning and drying at the same time as replacing under pressure
A cleaning method comprising steps.
【請求項3】 水系洗浄剤により脱脂するかまたは親水3. Degreasing or hydrophilicity with an aqueous detergent
性溶剤を主成分とする準水系洗浄剤により脱脂する処理Of degreasing with a semi-aqueous cleaning agent whose main component is an organic solvent
手段と、水または純水で洗浄・リンスする処理手段と、Means and a treatment means for cleaning and rinsing with water or pure water,
イソプロピルアルコールで脱水する処理手段と、イソプA means of dehydration with isopropyl alcohol and an isop
ロピルアルコールを可溶性の非水系溶剤で置換して被洗Replace the ropyl alcohol with a soluble non-aqueous solvent and wash
浄物を洗浄する処理手段と、当該非水系溶剤の減圧下でUnder the reduced pressure of the non-aqueous solvent and the processing means to wash the purified product
ベーパー洗浄・乾燥を行う洗浄・乾燥手段と、イソプロCleaning / drying means to perform vapor cleaning / drying and isoprop
ピルアルコールを溶解した非水系溶剤を再生する手段とMeans to regenerate the non-aqueous solvent in which pill alcohol is dissolved
を備えたことを特徴とする洗浄装置。A cleaning device comprising:
【請求項4】 水系洗浄剤により脱脂するかまたは親水
性溶剤を主成分とする準水系洗浄剤により脱脂する処理
手段と、水または純水で洗浄・リンスする処理手段と、
イソプロピルアルコールで脱水する処理手段と、イソプ
ロピルアルコールを可溶性の非水系溶剤の減圧下で置換
すると同時にベーパー洗浄・乾燥を行う洗浄・乾燥手段
と、イソプロピルアルコールを溶解した非水系溶剤を再
生する手段とを備えたことを特徴とする洗浄装置。
4. A processing means for degreasing with an aqueous cleaning agent or a degreasing with a semi-aqueous cleaning agent containing a hydrophilic solvent as a main component, and a processing means for cleaning / rinsing with water or pure water.
Replace the isopropyl alcohol under a reduced pressure of a soluble non-aqueous solvent with a treatment means for dehydration with isopropyl alcohol
Washing / drying means to perform vapor washing / drying at the same time
And the non-aqueous solvent containing isopropyl alcohol
Cleaning apparatus characterized by comprising a means for raw.
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