JP3455194B2 - Phase contrast microscope - Google Patents
Phase contrast microscopeInfo
- Publication number
- JP3455194B2 JP3455194B2 JP2001134054A JP2001134054A JP3455194B2 JP 3455194 B2 JP3455194 B2 JP 3455194B2 JP 2001134054 A JP2001134054 A JP 2001134054A JP 2001134054 A JP2001134054 A JP 2001134054A JP 3455194 B2 JP3455194 B2 JP 3455194B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polarization
- light
- light source
- phase
- wavelength
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、光の干渉を利用して試
料の位相分布を観測する位相差顕微鏡に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a phase contrast microscope for observing a phase distribution of a sample by utilizing light interference.
【0002】[0002]
【従来の技術】光の干渉を利用して試料の位相分布を観
察する顕微鏡として、位相差顕微鏡がある。従来の位相
差顕微鏡の構成図を示すと、図18のようになる。光源
1から射出された光は、その一部がリング状の開口から
成る輪体開口部11から射出され、この光はコンデンサ
ーレンズ12で集光されてスライドガラス4上の試料5
に照射される。ここで、この光は透過光と回折光とに分
かれ、透過光はλ/4のリタデーションを持つ位相膜1
3そして位相膜13が取り付けられた透明基板14を透
過する。又、回折光はこの透明基板14全体を通過する
ことになる。そして、これら透過光と回折光はCCD9
上で干渉する。ここで得られる干渉像は、試料5のフー
リエ変換像を表している。従って、この位相差顕微鏡で
は、透明な試料でもその像を観察することができる。2. Description of the Related Art There is a phase contrast microscope as a microscope for observing the phase distribution of a sample by utilizing the interference of light. FIG. 18 shows a block diagram of a conventional phase contrast microscope. The light emitted from the light source 1 is emitted from the ring-shaped opening 11 which is partly composed of a ring-shaped opening, and this light is condensed by the condenser lens 12 to form the sample 5 on the slide glass 4.
Is irradiated. Here, this light is divided into transmitted light and diffracted light, and the transmitted light is a phase film 1 having a retardation of λ / 4.
3 and the transparent film 14 on which the phase film 13 is attached is transmitted. Also, the diffracted light will pass through the entire transparent substrate 14. Then, the transmitted light and the diffracted light are transferred to the CCD 9
Interfere on. The interference image obtained here represents a Fourier transform image of the sample 5. Therefore, with this phase contrast microscope, the image can be observed even with a transparent sample.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】ところで、位相差顕微
鏡において、最も見やすい明暗の像を生成するために幾
つかの工夫が成されている。例えば、位相膜13をλ/
4の位相差を持つように設定することで、コントラスト
が最良の像が生成されている。しかしながら、コントラ
ストは位相膜13の厚さで決定されるため、一度決定さ
れたらユーザーがコントラストを変えることはできな
い。そのため、ユーザー等が観察時や検査時等に干渉像
のコントラストを調整したいという場合があっても、変
化させることができないという欠点がある。By the way, in the phase contrast microscope, some contrivances have been made in order to generate the most visible bright and dark image. For example, if the phase film 13 is λ /
By setting so as to have a phase difference of 4, an image with the best contrast is generated. However, since the contrast is determined by the thickness of the phase film 13, the user cannot change the contrast once determined. Therefore, even if the user or the like wants to adjust the contrast of the interference image at the time of observation or inspection, there is a drawback that it cannot be changed.
【0004】本発明は、このような課題に鑑みて、コン
トラストを容易且つスムーズに設定できて、しかも適宜
調整することができるようにした位相差顕微鏡を提供す
ることを目的とする。In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide a phase contrast microscope in which the contrast can be set easily and smoothly and can be adjusted appropriately.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明による位相差顕微
鏡は、試料を照射する光源と、この試料から射出される
透過光と回折光とを観察面上に導いて干渉像を得る干渉
像生成手段と、該干渉像を検出する検出手段とを有する
位相差顕微鏡において、光源から検出手段までの間に配
置されていて光の偏波状態を変化させる偏波状態可変手
段と、光源と共役な位置に配置されている開口と、該開
口が投影される第一の偏波摘出部とその他の第二の偏波
摘出部からなっていて該開口と共役な位置に配置されて
おり第一の偏波摘出部は透過光から特定の偏波成分を摘
出し第二の偏波摘出部は第一の偏波摘出部が摘出する偏
光方向と交差する偏光成分を回折光から摘出する複合偏
光板と、を備えたことを特徴とするものである。SUMMARY OF THE INVENTION A phase contrast microscope according to the present invention comprises a light source for illuminating a sample, and an interference image generation for guiding a transmitted light and a diffracted light emitted from the sample onto an observation surface to obtain an interference image. In a phase contrast microscope having a means and a detecting means for detecting the interference image, a polarization state changing means arranged between the light source and the detecting means for changing a polarization state of light, and a polarization state conjugating means. Position of the opening and the opening
First polarization extractor with mouth projected and other second polarization
It consists of an extraction part and is placed at a position conjugate with the opening.
The first polarization extraction unit extracts a specific polarization component from the transmitted light, and the second polarization extraction unit extracts from the diffracted light a polarization component that intersects the polarization direction extracted by the first polarization extraction unit. Complex polarization
And a light plate .
【0006】又、本発明による位相差顕微鏡は、試料を
照射する光源と、試料から射出される透過光と回折光と
を観察面上に導いて干渉像を得る干渉像生成手段とを有
する位相差顕微鏡において、光源は射出する光の波長を
変化させる波長可変機能を有するか、又は光源とは別個
に波長可変手段を備えていることを特徴とするものであ
る。Further, the phase contrast microscope according to the present invention has a light source for illuminating the sample, and an interference image generating means for guiding the transmitted light and the diffracted light emitted from the sample onto the observation surface to obtain an interference image. In the phase contrast microscope, the light source has a wavelength variable function for changing the wavelength of the emitted light, or is provided with a wavelength variable means separately from the light source.
【0007】[0007]
【作用】本発明の位相差顕微鏡によれば、偏波状態可変
手段又は波長可変手段を作動させること等によって偏波
光の位相差又は波長を変化させ、容易にコントラストの
設定及び調整を行うことができる。According to the phase contrast microscope of the present invention, the phase difference or wavelength of polarized light can be changed by operating the polarization state varying means or the wavelength varying means, and the contrast can be easily set and adjusted. it can.
【0008】[0008]
【実施例】以下、添付図面に基づいて本発明の各実施例
を説明する。図1及び図2は本発明の第一実施例を示す
ものであり、図1は位相差顕微鏡の構成図、図2は偏光
の各偏波状態を示す図である。又、図3乃至図10は第
一実施例に用いられる光源システムの構成例を示すもの
である。図1に示す位相差顕微鏡において、光源システ
ム16は射出する光の偏波状態を変化させることができ
るようになっている。これらの偏波状態は振動する方向
が互いに直角である2つの直線偏波に分解して考えるこ
とができる。これら2つの直線偏波を夫々x偏波及びy
偏波と呼ぶことにすると、偏波状態の変化はx偏波とy
偏波の位相差の変化によって得られると考えることがで
きる。例えば図2に示すように、位相差を90°づつ変
えることによって偏波状態を直線偏光や円偏光や楕円偏
光に変えることができるものである。そして、光源シス
テム16はこのような偏波状態の変化を連続的又は離散
的に制御できるものである。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. 1 and 2 show a first embodiment of the present invention. FIG. 1 is a configuration diagram of a phase contrast microscope, and FIG. 2 is a diagram showing polarization states of polarized light. 3 to 10 show an example of the configuration of the light source system used in the first embodiment. In the phase contrast microscope shown in FIG. 1, the light source system 16 is capable of changing the polarization state of the emitted light. These polarization states can be considered by being decomposed into two linearly polarized waves whose vibrating directions are perpendicular to each other. These two linear polarizations are x polarization and y, respectively.
If we call it polarization, the change of polarization state is x polarization and y
It can be considered that it is obtained by the change of the phase difference of the polarization. For example, as shown in FIG. 2, the polarization state can be changed to linearly polarized light, circularly polarized light, or elliptically polarized light by changing the phase difference by 90 °. The light source system 16 can control such a change in the polarization state continuously or discretely.
【0009】このような光源システム16の構成例を図
3により説明する。図中、光源システム16は、可干渉
光を発する光源17と偏波可変素子18とから成ってい
る。偏波可変素子18内には、光源からの可干渉光が入
射される回転制御可能な1/2波長板19と、その後方
に固定配置された1/4波長板20とが設けられてい
る。1/2波長板19はホルダー21に保持されてお
り、このホルダー21は歯車22に結合されている。歯
車22は噛合する小歯車23を介してモータ24に連結
されており、回転制御回路25で駆動制御されるモータ
24によって、1/2波長板19を回転制御させるよう
になっている。又、1/2波長板19の回転角はモータ
軸に連結された角度センサ26によって検出されるよう
になっている。An example of the structure of such a light source system 16 will be described with reference to FIG. In the figure, the light source system 16 includes a light source 17 that emits coherent light and a polarization variable element 18. The polarization variable element 18 is provided with a rotation-controllable half-wave plate 19 on which coherent light from a light source is incident, and a quarter-wave plate 20 fixed behind the half-wave plate 19. . The half-wave plate 19 is held by a holder 21, and the holder 21 is connected to a gear 22. The gear 22 is connected to a motor 24 via a meshing small gear 23, and the rotation of the half-wave plate 19 is controlled by the motor 24 driven and controlled by the rotation control circuit 25. The rotation angle of the half-wave plate 19 is detected by an angle sensor 26 connected to the motor shaft.
【0010】又、図1の位相差顕微鏡は、光源システム
16(の回転制御回路25)に電気的に接続された偏波
制御装置28によって、光源システム16から射出され
る光の偏波状態を変えることができるようになってい
る。In the phase contrast microscope of FIG. 1, the polarization state of the light emitted from the light source system 16 is controlled by the polarization control device 28 electrically connected to (the rotation control circuit 25 of) the light source system 16. It can be changed.
【0011】光源システム16の後方には、図18に示
す従来例と同様に輪体開口部11,コンデンサーレンズ
12が設けられており、光が試料5に照射されること
で、透過光と回折光とに分かれるようになっている。そ
の後方には、偏光軸が互いに直角方向に異なる2枚の偏
光板66,67から成る例えば円形の複合偏光板68が
配設されており、一方の偏光板66はドーナツ型に、他
方の偏光板67はその前後領域を占めるリング及び円形
状に構成されている(図11(A)参照)。複合偏光板
68は、ドーナツ型偏光板66の偏光軸をx軸とし、他
方の偏光板67の偏光軸をx軸に直交するy軸として、
試料5の透過光がドーナツ型偏光板66に入射し、回折
光が他方の偏光板67に入射するように構成されてい
る。そのため、試料5の透過光はx偏波だけが偏光板6
6を透過し、回折光はy偏波だけが偏光板67を透過す
るようになっている。複合偏光板68とCCD9との間
には偏光板8が配置されており、偏光板8は、複合偏光
板68のx軸とy軸に対して45°だけ傾いた偏光軸を
有している(図11(B)参照)。そのため、透過光と
回折光がCCD9で干渉する。なお、偏光板8は、その
偏光軸がx偏波とy偏波に対して所定の角度を以て配置
される。所定の角度とはCCD9で得られる干渉像のコ
ントラストが高くなる偏光軸方向を表しており、x偏波
とy偏波が同じ光強度を持つ場合その角度は図11
(B)に示すようにおよそ45°である。そして、CC
D9で撮像された干渉像はフレームメモリー29に取り
込まれ、フレームメモリー29と偏波制御装置28に接
続されているコンピュータ30において、フレームメモ
リー29から入力される干渉像に基づいて演算され、試
料5の位相分布の情報が得られるようになっている。A ring opening 11 and a condenser lens 12 are provided at the rear of the light source system 16 as in the conventional example shown in FIG. It is divided into light and light. A circular composite polarizing plate 68, which is composed of two polarizing plates 66 and 67 whose polarization axes are different from each other in a direction orthogonal to each other, is disposed behind the polarizing plate 66. The plate 67 is formed in a ring and a circular shape occupying the front and rear regions thereof (see FIG. 11A). In the composite polarizing plate 68, the polarization axis of the doughnut-shaped polarizing plate 66 is the x axis, and the polarization axis of the other polarizing plate 67 is the y axis orthogonal to the x axis.
The transmitted light of the sample 5 enters the donut type polarizing plate 66, and the diffracted light enters the other polarizing plate 67. Therefore, only the x-polarized light transmitted through the sample 5 is the polarizing plate 6.
6, the diffracted light passes through the polarizing plate 67 only in the y-polarized light. The polarizing plate 8 is arranged between the composite polarizing plate 68 and the CCD 9, and the polarizing plate 8 has a polarization axis inclined by 45 ° with respect to the x axis and the y axis of the composite polarizing plate 68. (See FIG. 11B). Therefore, the transmitted light and the diffracted light interfere at the CCD 9. The polarizing plate 8 is arranged such that its polarization axis forms a predetermined angle with respect to the x polarization and the y polarization. The predetermined angle represents the polarization axis direction in which the contrast of the interference image obtained by the CCD 9 is high, and when the x polarization and the y polarization have the same light intensity, the angle is as shown in FIG.
It is about 45 ° as shown in (B). And CC
The interference image captured in D9 is captured in the frame memory 29, and is calculated in the computer 30 connected to the frame memory 29 and the polarization controller 28 based on the interference image input from the frame memory 29 to obtain the sample 5 Information on the phase distribution of is obtained.
【0012】本実施例は上述のように構成されており、
次に作用を説明する。光源システム16において、光源
17から射出された可干渉光は偏波可変素子18内の1
/2波長板19を透過する(図3参照)が、その際光の
振動方向は回転制御される1/2波長板19の方位方向
に従って変化する。そして、1/4波長板20に入射す
ると、振動方向によって直線偏波になったり円偏波にな
ったりする。これは、上述のように互いに直角に振動す
るx偏波とy偏波との位相差が変化するためと考えるこ
とができる。ここで、1/2波長板19の回転速度をθ
とすると、1/4波長板20を射出したx偏波とy偏波
の位相差は4θで変化する。従って、角度センサ26で
1/2波長板19の角度を検出しながら、コンピュータ
30によって回転制御回路25を通して所定の角度まで
1/2波長板19を回転させる。This embodiment is constructed as described above,
Next, the operation will be described. In the light source system 16, the coherent light emitted from the light source 17
Although the light passes through the 1/2 wavelength plate 19 (see FIG. 3), the vibration direction of the light at that time changes according to the azimuth direction of the 1/2 wavelength plate 19 whose rotation is controlled. Then, when it enters the quarter-wave plate 20, it becomes a linearly polarized wave or a circularly polarized wave depending on the vibration direction. It can be considered that this is because the phase difference between the x polarized wave and the y polarized wave that vibrate at right angles to each other as described above. Here, the rotation speed of the half-wave plate 19 is θ
Then, the phase difference between the x-polarized light and the y-polarized light emitted from the quarter-wave plate 20 changes by 4θ. Therefore, while the angle sensor 26 detects the angle of the half-wave plate 19, the computer 30 rotates the half-wave plate 19 to a predetermined angle through the rotation control circuit 25.
【0013】このようにして、光源システム16から所
要の偏波状態で射出された光は、従来例と同様に、その
一部が輪体開口部11、コンデンサーレンズ12を経て
試料5に入射して、透過光と回折光とに分かれる。試料
5の透過光は、ドーナツ型偏光板66に入射し、x偏波
だけが偏光板66を透過する。また、試料5の回折光
は、他方の偏光板67に入射し、y偏波だけが偏光板6
7を透過する。そして、偏光軸がx偏波とy偏波に対し
て干渉像のコントラストが高くなるような所定の角度を
以て配置された偏光板8を介して、2つの偏波はCCD
9上で干渉する。このCCD9で撮像された干渉像を、
ユーザーはモニター等で観察することができる。次に、
偏波制御装置28によって、光源システム16から発す
る光の偏波状態を変えると、x偏波とy偏波の位相差が
変化して観察している試料5の像の明暗か変化する。そ
のため、ユーザーは像が一番見やすいコントラストにな
るように調整することができる。In this way, a part of the light emitted from the light source system 16 in the required polarization state enters the sample 5 through the ring opening 11 and the condenser lens 12 as in the conventional example. It is divided into transmitted light and diffracted light. The transmitted light of the sample 5 enters the donut type polarizing plate 66, and only the x-polarized light passes through the polarizing plate 66. In addition, the diffracted light of the sample 5 enters the other polarizing plate 67, and only the y-polarized light is polarized by the polarizing plate 6.
Through 7. Then, the two polarized waves pass through the polarizing plate 8 arranged at a predetermined angle so that the contrast of the interference image is high with respect to the x-polarized light and the y-polarized light.
Interfere on 9. The interference image picked up by this CCD 9
The user can observe it on a monitor or the like. next,
When the polarization state of the light emitted from the light source system 16 is changed by the polarization control device 28, the phase difference between the x polarization and the y polarization changes, and the brightness or darkness of the image of the sample 5 being observed changes. Therefore, the user can adjust the image so that it has the best contrast.
【0014】又、本発明では、干渉する2光の位相差を
高精度で変化させることができるため、干渉計装置等で
用いられている縞走査法を干渉顕微鏡による観察に取り
入れることができる。この縞走査法を用いれば、試料5
の位相分布を定量的に知ることができる。例えば、半導
体メモリーのリソグラフィには位相シフトと呼ばれる手
法が用いられているが、ここで使用する位相膜の位相分
布はパターンの精度に大きな影響を与える。本発明によ
れば、この位相膜の位相分布を定量的に測定することが
可能になる。Further, in the present invention, the phase difference between the two light beams that interfere can be changed with high accuracy, so that the fringe scanning method used in an interferometer device or the like can be incorporated in observation by an interference microscope. Using this fringe scanning method, sample 5
It is possible to quantitatively know the phase distribution of. For example, a technique called phase shift is used in the lithography of semiconductor memory, but the phase distribution of the phase film used here has a great influence on the accuracy of the pattern. According to the present invention, it becomes possible to quantitatively measure the phase distribution of this phase film.
【0015】次に、その具体的な測定方法を説明する。
まず、光源システム16から射出される光の偏波状態を
x偏波とy偏波とで特定の位相差に設定した状態の下
で、CCD9で得られた像をフレームメモリー29に取
り込み、この像を第一干渉像とする。次に、x偏波とy
偏波の位相差が第一干渉像の場合よりも90°だけ変化
するように、偏波制御装置28によって光源システム1
6から発せられる光の偏波状態を変えるようにする。こ
れにより、CCD9で得られる干渉像の明暗が変化す
る。この像をフレームメモリー29で取り込み、これを
第二干渉像とする。このようにして、x偏波とy偏波の
位相差を90°づつ変化させて、第三,第四干渉像を取
り込むようにする。Next, the specific measuring method will be described.
First, under the condition that the polarization state of the light emitted from the light source system 16 is set to a specific phase difference between the x polarization and the y polarization, the image obtained by the CCD 9 is loaded into the frame memory 29, and Let the image be the first interference image. Then the x polarization and y
The polarization controller 28 controls the light source system 1 so that the phase difference between the polarized waves changes by 90 ° as compared with the case of the first interference image.
The polarization state of the light emitted from 6 is changed. As a result, the contrast of the interference image obtained by the CCD 9 changes. This image is captured by the frame memory 29 and is used as the second interference image. In this way, the phase difference between the x polarization and the y polarization is changed by 90 ° so that the third and fourth interference images are captured.
【0016】次に縞走査法のアルゴリズムを用いて、こ
れら4枚の干渉像から試料5の位相分布を計算する。C
CD9の受光平面をxy座標平面として、4パターンの
干渉強度分布In(x,y)は次式で表される。
I1(x,y,d)=A(x,y) +B(x,y) cos〔(2π/λ)ω(x,y) 〕
I2(x,y,d)=A(x,y) −B(x,y) sin〔(2π/λ)ω(x,y) 〕
I3(x,y,d)=A(x,y) −B(x,y) cos〔(2π/λ)ω(x,y) 〕
I4(x,y,d)=A(x,y) +B(x,y) sin〔(2π/λ)ω(x,y) 〕 (1)
ここで、A(x,y) は平均光強度、B(x,y) は干渉強度、
λは波長、ω(x,y) は干渉光の位相差であり、微分干渉
顕微鏡の場合は試料5の位相分布を微分したものにな
る。Next, the phase distribution of the sample 5 is calculated from these four interference images by using the algorithm of the fringe scanning method. C
The interference intensity distribution In (x, y) of four patterns is represented by the following equation, with the light receiving plane of the CD 9 as the xy coordinate plane. I1 (x, y, d) = A (x, y) + B (x, y) cos [(2π / λ) ω (x, y)] I2 (x, y, d) = A (x, y) -B (x, y) sin [(2π / λ) ω (x, y)] I3 (x, y, d) = A (x, y) -B (x, y) cos [(2π / λ) ω (x, y)] I4 (x, y, d) = A (x, y) + B (x, y) sin [(2π / λ) ω (x, y)] (1) where A ( x, y) is the average light intensity, B (x, y) is the interference intensity,
λ is the wavelength, and ω (x, y) is the phase difference of the interference light. In the case of the differential interference microscope, the phase distribution of the sample 5 is differentiated.
【0017】これらの画像に基づき、コンピュータ30
によって、
ω(x,y) =(λ/2π)tan-1〔(I4 −I2 )/(I1 −I3 )〕 (2)
の計算をCCD9の1画素づつ行えば、位相分布ωの情
報だけを得ることができる。次に、x偏波とy偏波の分
離幅でωを積分すれば試料5の位相分布を求めることが
できる。尚、この例では、4パターンの画像を用いる場
合について示したが、これに限定されることなく少なく
とも3パターンの画像を用いれば位相分布の情報を得る
ことができる。Based on these images, the computer 30
Therefore, if ω (x, y) = (λ / 2π) tan-1 [(I4−I2) / (I1−I3)] (2) is calculated for each pixel of the CCD 9, only the information of the phase distribution ω will be obtained. Can be obtained. Next, the phase distribution of the sample 5 can be obtained by integrating ω with the separation width of the x polarization and the y polarization. In this example, the case of using the images of four patterns is shown, but the present invention is not limited to this, and the information of the phase distribution can be obtained by using the images of at least three patterns.
【0018】上述のように本実施例によれば、位相差顕
微鏡において、偏波可変素子18によって結像関係に影
響を与えることなくコントラスト設定を行うことができ
る。又、光源システム16内に偏波制御手段を有してい
るから、光源システム16に取り外し機能を設ければ、
多種の位相差顕微鏡にも適用させることが可能である。
又、フレームメモリー29やコンピュータ30を接続す
ることで、試料の位相分布を定量的に測定することがで
きる。位相分布測定の場合には、明暗の異なった複数枚
の干渉像をメモリフレーム29に取り込み、そして上述
の式(2)の計算をコンピュータ30によって行う。位
相差顕微鏡の場合、ここで得られる結果は試料5の位相
分布をフーリエ変換したものであり、よって、逆フーリ
エ変換することによって試料5の位相分布を定量的に求
めることができる。As described above, according to the present embodiment, in the phase contrast microscope, the contrast can be set by the polarization variable element 18 without affecting the image formation relationship. Further, since the light source system 16 has the polarization control means, if the light source system 16 is provided with a detaching function,
It can also be applied to various phase contrast microscopes.
Further, by connecting the frame memory 29 and the computer 30, the phase distribution of the sample can be quantitatively measured. In the case of measuring the phase distribution, a plurality of interference images of different brightness are captured in the memory frame 29, and the computer 30 performs the calculation of the above formula (2). In the case of a phase contrast microscope, the result obtained here is a Fourier transform of the phase distribution of the sample 5. Therefore, the phase distribution of the sample 5 can be quantitatively obtained by performing the inverse Fourier transform.
【0019】次に、光源システム16の別の構成例を図
4乃至図10によって説明する。図4に示す光源システ
ム16では、1/2波長板19等に代えてファラデー素
子32を配置し、その旋光性によって光源17から入射
する直線偏光の振動方向を変えるようにしたものであ
る。又、ファラデー素子32の周囲に配置された磁界発
生器33は磁界制御回路34に接続されており、磁界制
御回路34で磁界発生器33が生じる磁界の強さを調節
することで、偏波の振動方向を制御できるようになって
いる。Next, another configuration example of the light source system 16 will be described with reference to FIGS. In the light source system 16 shown in FIG. 4, a Faraday element 32 is arranged in place of the half-wave plate 19 and the like, and the oscillation direction of the linearly polarized light incident from the light source 17 is changed by its optical activity. Further, the magnetic field generator 33 arranged around the Faraday element 32 is connected to the magnetic field control circuit 34, and by adjusting the strength of the magnetic field generated by the magnetic field generator 33 in the magnetic field control circuit 34, the polarization of The direction of vibration can be controlled.
【0020】図5に示す光源システム16は、1/2波
長板19等に代えて旋光性液晶を一対配設したものであ
る。光源17側に位置する液晶36は偏波の振動方向を
90°変えることができるものであり、1/4波長板2
0側に位置する液晶37は振動方向を45°変えること
ができるものである。これらの液晶36,37は夫々両
側に設けられた透明電極38への通電をON,OFF制
御することで、入射する直線偏光の振動方向を0°,4
5°,90°,135°と変えることができる。The light source system 16 shown in FIG. 5 has a pair of optical rotatory liquid crystals instead of the half-wave plate 19 and the like. The liquid crystal 36 located on the side of the light source 17 is capable of changing the vibration direction of the polarized wave by 90 °.
The liquid crystal 37 located on the 0 side can change the vibration direction by 45 °. These liquid crystals 36 and 37 are controlled to turn on and off the energization of the transparent electrodes 38 provided on both sides thereof so that the vibration direction of the incident linearly polarized light is 0 °, 4 °.
It can be changed to 5 °, 90 ° and 135 °.
【0021】次に、図6に示す光源システム16は、偏
波可変素子18としてバビネソレイユ板39を使用した
ものであり、バビネソレイユ板39のくさび型結晶を光
軸に対して垂直に移動させることによって、x偏波とy
偏波の位相差を直接変えることができる。図6では、ピ
エゾ素子40によって一つのくさび型結晶39aの位置
移動を行うようになっており、ピエゾ素子40は電圧制
御回路41に接続されていて、この回路41によって駆
動されるようになっている。Next, the light source system 16 shown in FIG. 6 uses the Babinet-Soleil plate 39 as the polarization variable element 18, and moves the wedge-shaped crystal of the Babinet-Soleil plate 39 perpendicularly to the optical axis. Thus, x polarization and y
The phase difference of polarization can be changed directly. In FIG. 6, the position of one wedge-shaped crystal 39a is moved by the piezo element 40, and the piezo element 40 is connected to the voltage control circuit 41 and driven by this circuit 41. There is.
【0022】図7に示す光源システム16は、偏波可変
素子18として電気光学効果を持つKDP等の結晶43
を用いて、複屈折率を変えることで位相差を変えるよう
にしたものである。結晶43は一対の電極44で挟ま
れ、電圧制御回路41で結晶43に印加する電界強度を
制御するようになっている。又、図8に示す光源システ
ム16は、偏波可変素子18としてネマティック液晶4
5を用いたものである。液晶45に印加する電界強度を
変化させることで、液晶の配光方向を代えて複屈折率を
変えるようにしている。The light source system 16 shown in FIG. 7 has a crystal 43 such as KDP having an electro-optical effect as the polarization variable element 18.
Is used to change the phase difference by changing the birefringence. The crystal 43 is sandwiched by a pair of electrodes 44, and the voltage control circuit 41 controls the electric field strength applied to the crystal 43. In addition, the light source system 16 shown in FIG. 8 uses the nematic liquid crystal 4 as the polarization variable element 18.
5 is used. By changing the intensity of the electric field applied to the liquid crystal 45, the light distribution direction of the liquid crystal is changed to change the birefringence.
【0023】図9に示す光源システム16の偏波可変素
子18では、光軸上に偏光ビームスプリッター46を配
置し、光軸を挟んで偏光ビームスプリッター46の両側
に、1/4波長板47及びミラー48と、1/4波長板
47,ミラー48及びピエゾ素子40とが夫々配置され
ている。そのため、光源17から射出された光の内、P
波は偏光ビームスプリッター46を透過するが、S波は
反射される。そして、S波は1/4波長板47を通過し
てミラー48で反射され再び1/4波長板47を通過す
ることで、P波に変換される。このため、反射光は偏光
ビームスプリッター46を透過して同様に1/4波長板
47を通過してミラー48で反射され、再び1/4波長
板47を通過してS波となって偏光ビームスプリッター
46で反射されて射出することになる。一方のミラー4
8の裏面にはピエゾ素子40が固定接着されており、電
圧制御回路41によってミラー48を光軸方向に移動さ
せることができる。これによって、P波とS波との位相
差を変化させることができる。In the polarization variable element 18 of the light source system 16 shown in FIG. 9, a polarization beam splitter 46 is arranged on the optical axis, and a ¼ wavelength plate 47 and a quarter wavelength plate 47 are provided on both sides of the polarization beam splitter 46 with the optical axis interposed therebetween. A mirror 48, a quarter-wave plate 47, a mirror 48 and a piezo element 40 are arranged respectively. Therefore, of the light emitted from the light source 17, P
The wave passes through the polarizing beam splitter 46, but the S wave is reflected. Then, the S wave passes through the quarter-wave plate 47, is reflected by the mirror 48, passes through the quarter-wave plate 47 again, and is converted into the P-wave. Therefore, the reflected light passes through the polarization beam splitter 46, similarly passes through the quarter-wave plate 47, is reflected by the mirror 48, passes through the quarter-wave plate 47 again, and becomes an S wave. It is reflected by the splitter 46 and emitted. One mirror 4
A piezo element 40 is fixedly adhered to the back surface of 8, and the mirror 48 can be moved in the optical axis direction by the voltage control circuit 41. Thereby, the phase difference between the P wave and the S wave can be changed.
【0024】図10に示す光源システム16は、光源と
してゼーマンレーザ50を用いて位相差を変化させるよ
うにしたものである。ゼーマンレーザ50は、周波数が
異なり且つ互いに直角に振動する直線偏光を発する。つ
まり、この偏光は時間と共に位相差が変化しているx偏
波とy偏波として射出されており、ゼーマンレーザ50
に内蔵されている発振器からタイミングパルスを生成し
てこのパルスを基に画像取り込みを行うようになってい
る。上述した各構成例により、本実施例では、干渉する
2光の共通光路上に位相差を変える光学素子が設置され
ているから、温度変化や振動等の外乱の影響を受けにく
いという利点を有する。The light source system 16 shown in FIG. 10 uses a Zeeman laser 50 as a light source to change the phase difference. The Zeeman laser 50 emits linearly polarized light having different frequencies and oscillating at right angles to each other. That is, this polarized light is emitted as x-polarized light and y-polarized light whose phase difference changes with time, and the Zeeman laser 50
A timing pulse is generated from the oscillator built in the and the image is captured based on this pulse. According to the above-described configuration examples, the present embodiment has an advantage that it is less susceptible to the influence of disturbance such as temperature change and vibration because the optical element that changes the phase difference is installed on the common optical path of the two light beams that interfere with each other. .
【0025】尚、本実施例では、複合偏光板68を構成
する2枚の偏光板66,67の偏光軸が互いに直交する
場合について示したが、偏波状態の変化のしかたによっ
ては必ずしも直交している必要はない。又、透過光と回
折光の強度差の値によっては後方の偏光板8も45°で
ある必要はない。又、光源システム16は図3乃至図1
0に示された構成のものを使用することができる。これ
らの光源システム16の内、偏波可変素子18は光源1
7とは分離して光源17から偏光板8に至る光路のいづ
れの位置に挿入配置するようにしてもよい。或いは、偏
波可変素子18として、偏光板8を回転可能として偏光
板8と複合偏光板68との間に1/4波長板20を挿入
配置してもよい。In this embodiment, the polarization axes of the two polarizing plates 66 and 67 constituting the composite polarizing plate 68 are shown as being orthogonal to each other, but they are not necessarily orthogonal to each other depending on how the polarization state is changed. You don't have to. Further, depending on the value of the intensity difference between the transmitted light and the diffracted light, the rear polarizing plate 8 need not be 45 °. The light source system 16 is shown in FIGS.
The configuration shown in 0 can be used. Of these light source systems 16, the polarization variable element 18 is the light source 1
7 may be separated and inserted into any position of the optical path from the light source 17 to the polarizing plate 8. Alternatively, as the polarization variable element 18, the polarizing plate 8 may be rotatable and the quarter wavelength plate 20 may be inserted and disposed between the polarizing plate 8 and the composite polarizing plate 68.
【0026】次に、本発明の第二実施例を図12により
説明する。図12は本発明の第二実施例である位相差顕
微鏡の構成図を示すものである。本実施例においては、
光源システム16に代えて、射出する偏光の波長を変化
させることができる波長可変光源54と、この光源54
から射出された偏光に関して、互いに直角な振動方向を
持つ偏波について異なる光路長を持つ光路長差生成部5
5とが備えられている。この互いに直角な偏波をx偏波
とy偏波とする。又、波長可変光源54は波長制御装置
56に接続されていて、この波長制御装置56によって
波長可変光源54からの偏光の波長を変化させ得るよう
になっている。Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 12 is a block diagram of the phase contrast microscope which is the second embodiment of the present invention. In this embodiment,
Instead of the light source system 16, a variable wavelength light source 54 that can change the wavelength of emitted polarized light, and the light source 54
The optical path length difference generation unit 5 having different optical path lengths for the polarized light emitted from the
And 5 are provided. These polarized waves orthogonal to each other are defined as x polarized wave and y polarized wave. Further, the variable wavelength light source 54 is connected to a wavelength control device 56, and the wavelength of the polarized light from the variable wavelength light source 54 can be changed by the wavelength control device 56.
【0027】ここで、図13により光路長差生成部55
の構成例を説明する。図13において、光軸上に偏光ビ
ームスプリッター57を配置し、光軸を挟んで偏光ビー
ムスプリッター57の両側に、夫々1/4波長板58及
びミラー59が配置されている。そのため、波長可変光
源54から射出された光の内、P波は偏光ビームスプリ
ッター57を透過するが、S波は反射される。そして、
S波は1/4波長板58を通過してミラー59で反射さ
れ再び1/4波長板58を通過することで、P波に変換
される。このため、偏光ビームスプリッター57を透過
して同様に1/4波長板58を通過してミラー59で反
射され、再び1/4波長板58を通過してS波となって
偏光ビームスプリッター57で反射されて射出すること
になる。このようにして、光路長差生成部55でP波と
S波との間に偏光ビームスプリッター57の2往復分の
光路長差が生じることになる。このP波とS波をx偏波
とy偏波として使用する。そして、光路長差生成部55
を伝播した偏光は、x偏波とy偏波の位相に変化が与え
られている。Here, referring to FIG. 13, the optical path length difference generator 55 is shown.
An example of the configuration will be described. In FIG. 13, a polarization beam splitter 57 is arranged on the optical axis, and a quarter wavelength plate 58 and a mirror 59 are arranged on both sides of the polarization beam splitter 57 with the optical axis interposed therebetween. Therefore, of the light emitted from the variable wavelength light source 54, the P wave passes through the polarization beam splitter 57, but the S wave is reflected. And
The S wave passes through the quarter-wave plate 58, is reflected by the mirror 59, passes through the quarter-wave plate 58 again, and is converted into the P-wave. Therefore, the light passes through the polarization beam splitter 57, similarly passes through the quarter wavelength plate 58, is reflected by the mirror 59, passes through the quarter wavelength plate 58 again, and becomes an S wave. It will be reflected and emitted. In this way, the optical path length difference generation unit 55 causes an optical path length difference of two round trips of the polarization beam splitter 57 between the P wave and the S wave. The P wave and S wave are used as the x polarization and the y polarization. Then, the optical path length difference generation unit 55
In the polarized light propagated through, the phase of the x polarization and the phase of the y polarization are changed.
【0028】本実施例において、波長制御装置56によ
って波長可変光源54から射出される偏光の波長を変化
させると、光路長差生成部55で生じる位相差も変化す
る。この位相差の変化量Δθは、
Δθ=2πΔλ・d/λ2 (3)
で表される。ここで、Δλは波長シフト量、dは光路長
差である。よって、位相差の変化量Δθを2πにするた
めには、次式の波長シフト量Δλだけ波長を変えてやれ
ばよい。
Δλ=λ2 /d (4)
従って、x偏波とy偏波との位相差が90°づつ変化す
るように波長を線形的又はステップ状に変えることによ
って、明暗の異なる干渉像を得ることができる。位相分
布の測定の場合の処理方法は上述の実施例と同様であ
る。In this embodiment, when the wavelength of the polarized light emitted from the variable wavelength light source 54 is changed by the wavelength control device 56, the phase difference generated in the optical path length difference generator 55 also changes. The change amount Δθ of the phase difference is represented by Δθ = 2πΔλ · d / λ2 (3). Here, Δλ is the wavelength shift amount, and d is the optical path length difference. Therefore, in order to set the change amount Δθ of the phase difference to 2π, the wavelength may be changed by the wavelength shift amount Δλ of the following equation. Δλ = λ2 / d (4) Therefore, by changing the wavelength linearly or stepwise so that the phase difference between the x-polarized wave and the y-polarized wave changes by 90 °, it is possible to obtain an interference image with different light and dark. it can. The processing method in the case of measuring the phase distribution is the same as that of the above-mentioned embodiment.
【0029】尚、式(4)から理解できるように、光路
長差生成部55で生じる光路長差dが大きければ大きい
ほど、少ない波長シフト量Δλで大きく明暗を変えるこ
とができる。波長シフト量Δλが大きいと、色分散の影
響により誤差や位相の変化量Δθが非線形になり、位相
分布測定では大きな誤差が生じる。光路長差生成部55
はこの問題を解決するために使用するものであり、この
ような問題が生じない場合には、光路長差生成部55は
取り除いてもよい。尚、波長可変光源54としては、半
導体レーザや色素レーザやFセンターレーザを使用する
ことができる。又、白色光源と可変波長フィルタを組み
合わせる方法を採用してもよい。特に半導体レーザは、
注入電流の増減によって波長を容易に変えることができ
る。As can be understood from the equation (4), the larger the optical path length difference d generated by the optical path length difference generating section 55, the greater the brightness can be changed with a small wavelength shift amount Δλ. If the wavelength shift amount Δλ is large, the error and the phase change amount Δθ become non-linear due to the influence of chromatic dispersion, and a large error occurs in the phase distribution measurement. Optical path length difference generation unit 55
Is used to solve this problem, and when such a problem does not occur, the optical path length difference generation unit 55 may be removed. As the variable wavelength light source 54, a semiconductor laser, a dye laser, or an F center laser can be used. Alternatively, a method of combining a white light source and a variable wavelength filter may be adopted. Especially semiconductor lasers
The wavelength can be easily changed by increasing or decreasing the injection current.
【0030】上述のように本実施例は、機械的可動部が
存在しないために可動部の駆動による振動等を発生させ
ることもなく、安定的に優れているという利点を有す
る。尚、上述の実施例では光源を波長可変光源54とし
て、光源が波長可変機能を有するものとしたが、これに
代えて光源を白色光源とすると共に、その前方にフィル
ター等の波長可変手段を配設して、波長を変化させるよ
うに構成してもよい。As described above, this embodiment has the advantage that it does not generate vibrations due to the driving of the movable part because it has no mechanically movable part, and is stable and excellent. Although the light source is the variable wavelength light source 54 and the light source has a variable wavelength function in the above-described embodiment, instead of this, the light source is a white light source and a variable wavelength means such as a filter is arranged in front of it. It may be arranged to change the wavelength.
【0031】次に、光路長差生成部55の他の構成例に
ついて、図14乃至図16により説明する。図14に示
す光路長差生成部55は、複屈折素子を61を用いたも
のであり、この複屈折素子61の方位軸をx軸とy軸と
すると、波長可変光源54で射出された直線偏波の振動
方向を45°傾けて入射させると、複屈折素子61を伝
播することによってx偏波とy偏波との間に光路長差を
設定することができる。複屈折素子61としては、水晶
や方解石やルチルを用いることができる。図15に示す
光路長差生成部55は、2つの偏光プリズム62,63
から構成されている。これら偏光プリズム62,63の
結晶軸は、図中矢印で示すように光軸に対して互いに反
対方向に45°傾いており、互いの結晶軸は90°異な
る方向に向いている。よって、紙面に対して垂直な偏光
成分は常光、平行な偏光成分は異常光となって、第一の
偏光プリズム62で一方の光軸が横ずれする。そして、
第二の偏光プリズム63によってその光軸は再び他方の
光軸に一致する。この2つの偏光プリズム62,63に
よって、常光と異常光との間に光路長差が付与される。Next, another configuration example of the optical path length difference generating section 55 will be described with reference to FIGS. 14 to 16. The optical path length difference generation unit 55 shown in FIG. 14 uses a birefringent element 61. When the azimuth axes of the birefringent element 61 are the x-axis and the y-axis, the straight line emitted from the variable wavelength light source 54 is used. When the polarized wave is incident with the vibration direction inclined by 45 °, the optical path length difference can be set between the x polarized wave and the y polarized wave by propagating through the birefringent element 61. As the birefringent element 61, quartz, calcite, or rutile can be used. The optical path length difference generation unit 55 shown in FIG. 15 has two polarization prisms 62 and 63.
It consists of The crystal axes of the polarizing prisms 62 and 63 are inclined by 45 ° in directions opposite to each other with respect to the optical axis as indicated by arrows in the figure, and the crystal axes of the prisms are different by 90 °. Therefore, the polarization component perpendicular to the paper surface becomes ordinary light, and the parallel polarization component becomes extraordinary light, and one optical axis of the first polarization prism 62 is laterally displaced. And
The optical axis of the second polarizing prism 63 again coincides with the other optical axis. The two polarization prisms 62 and 63 provide an optical path length difference between the ordinary light and the extraordinary light.
【0032】図16に示す他の光路長差生成部55は、
偏波面保存光ファイバ64によって構成されている。偏
波面保存光ファイバ64は一般に複屈折性を持ってお
り、図14の構成例と同等であると考えてよい。しかし
ながら、本構成例においては、偏波面保存光ファイバ6
4は光伝達手段としても機能するため、光源54と試料
5との間の距離を遠くに離して設定したい場合には有効
である。Another optical path length difference generator 55 shown in FIG.
The polarization-maintaining optical fiber 64 is used. The polarization-maintaining optical fiber 64 generally has birefringence and may be considered to be equivalent to the configuration example of FIG. However, in the present configuration example, the polarization-maintaining optical fiber 6
Since 4 also functions as a light transmitting means, it is effective when it is desired to set the distance between the light source 54 and the sample 5 at a large distance.
【0033】このよう構成された本実施例の位相差顕微
鏡では、波長可変光源54を発した偏光は光路長差生成
部55を透過して試料5で透過光と回折光とに分離させ
られる。そして、複合偏光板68を通過することでx偏
波とy偏波とに成り、偏光板8によってCCD9上で干
渉する。本実施例において、光路長差生成部55はx偏
波とy偏波とに光路長差を設けるものであり、波長可変
光源54から発せられる光の波長を変えると、x偏波と
y偏波との位相差が変化して明暗が変化することにな
る。また、本実施例において、光路長差生成部55は光
源54から偏光板8までの光路上のどの位置に挿入配置
してもよい。In the phase contrast microscope of the present embodiment having such a configuration, the polarized light emitted from the variable wavelength light source 54 is transmitted through the optical path length difference generating section 55 and is separated into transmitted light and diffracted light by the sample 5. Then, when it passes through the composite polarizing plate 68, it becomes x-polarized light and y-polarized light, and interferes on the CCD 9 by the polarizing plate 8. In the present embodiment, the optical path length difference generation unit 55 provides an optical path length difference between the x polarization and the y polarization, and when the wavelength of the light emitted from the tunable light source 54 is changed, the x polarization and the y polarization are changed. The phase difference with the wave changes, and the brightness changes. Further, in the present embodiment, the optical path length difference generation unit 55 may be inserted and arranged at any position on the optical path from the light source 54 to the polarizing plate 8.
【0034】又、光路長差生成部55は、x偏波とy偏
波との光路長差を増大させるためのものである。従っ
て、従来の位相差顕微鏡に用いられる位相膜69の厚さ
を十分厚くすることによってx偏波とy偏波との光路長
差を設定するようにしてもよく、これを第三実施例とし
て図17に示す。勿論、この場合は光路長差生成部55
は必要ない。The optical path length difference generator 55 is for increasing the optical path length difference between the x polarization and the y polarization. Therefore, the optical path length difference between the x polarization and the y polarization may be set by sufficiently increasing the thickness of the phase film 69 used in the conventional phase contrast microscope. It shows in FIG. Of course, in this case, the optical path length difference generation unit 55
Is not necessary.
【0035】[0035]
【発明の効果】上述のように、本発明に係る位相差顕微
鏡によれば、結像関係に影響を与えることなく容易且つ
スムーズにコントラスト設定及び調整を行うことができ
る。As described above, according to the phase contrast microscope of the present invention, contrast setting and adjustment can be performed easily and smoothly without affecting the image formation relationship.
【図1】本発明の第一実施例である位相差顕微鏡の構成
図である。FIG. 1 is a configuration diagram of a phase contrast microscope that is a first embodiment of the present invention.
【図2】x偏波とy偏波の位相差が90°づつ異なる場
合の偏波状態を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing polarization states when the phase difference between the x polarization and the y polarization differs by 90 °.
【図3】第一実施例による光源システムの構成の一例を
示す図である。FIG. 3 is a diagram showing an example of a configuration of a light source system according to a first embodiment.
【図4】他の光源システムの構成を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a configuration of another light source system.
【図5】他の光源システムの構成を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a configuration of another light source system.
【図6】他の光源システムの構成を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a configuration of another light source system.
【図7】他の光源システムの構成を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a configuration of another light source system.
【図8】他の光源システムの構成を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing a configuration of another light source system.
【図9】他の光源システムの構成を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing a configuration of another light source system.
【図10】他の光源システムの構成を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing a configuration of another light source system.
【図11】(A)は複合偏光板の構成を示す平面図、
(B)は偏光板の平面図である。FIG. 11A is a plan view showing a structure of a composite polarizing plate,
(B) is a plan view of a polarizing plate.
【図12】本発明の第二実施例である位相差顕微鏡の構
成図である。FIG. 12 is a configuration diagram of a phase contrast microscope that is a second embodiment of the present invention.
【図13】第二実施例の波長可変光源と光路長差生成部
との構成例を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing a configuration example of a wavelength variable light source and an optical path length difference generation unit of a second embodiment.
【図14】波長可変光源と他の光路長差生成部との構成
を示す図である。FIG. 14 is a diagram showing a configuration of a variable wavelength light source and another optical path length difference generation unit.
【図15】波長可変光源と他の光路長差生成部との構成
を示す図である。FIG. 15 is a diagram showing a configuration of a variable wavelength light source and another optical path length difference generation unit.
【図16】波長可変光源と他の光路長差生成部との構成
を示す図である。FIG. 16 is a diagram showing a configuration of a variable wavelength light source and another optical path length difference generation unit.
【図17】本発明の第三実施例である位相差顕微鏡の構
成図である。FIG. 17 is a configuration diagram of a phase contrast microscope that is a third embodiment of the present invention.
【図18】従来の位相差顕微鏡の構成図である。FIG. 18 is a configuration diagram of a conventional phase contrast microscope.
5……試料、8……偏光板、9……CCD、17……光
源、18……偏波可変素子、20……1/4波長板、2
8……偏波制御装置、54……波長可変光源、55……
光路長差生成部、68……複合偏光板、69……位相
膜。5 ... Sample, 8 ... Polarizer, 9 ... CCD, 17 ... Light source, 18 ... Polarization variable element, 20 ... Quarter wave plate, 2
8 ... Polarization control device, 54 ... Tunable wavelength light source, 55 ...
Optical path length difference generator, 68 ... Composite polarizing plate, 69 ... Phase film.
Claims (2)
れる透過光と回折光とを干渉像が得られるように観察面
上に導くための干渉像生成手段と、該干渉像を検出する
検出手段とを有する位相差顕微鏡において、 前記光源から検出手段までの間に配置されていて光の偏
波状態を変化させる偏波状態可変手段と、前記光源と共
役な位置に配置されている開口と、前記開口が投影され
る第一の偏波摘出部とその他の第二の偏波摘出部からな
っていて前記開口と共役な位置に配置されており該第一
の偏波摘出部は前記透過光から特定の偏波成分を摘出し
該第二の偏波摘出部は該第一の偏波摘出部が摘出する偏
光方向と交差する偏光成分を前記回折光から摘出する複
合偏光板と、を備えたことを特徴とする位相差顕微鏡。1. A light source for irradiating a sample, an interference image generating means for guiding transmitted light and diffracted light emitted from the sample onto an observation surface so as to obtain an interference image, and the interference image is detected. In the phase contrast microscope having a detecting means for performing the polarization state changing means arranged between the light source and the detecting means for changing the polarization state of the light,
The openings that are placed in useful positions and the openings are projected
The first polarization extraction part and the other second polarization extraction part.
And is arranged at a position conjugate with the opening.
The polarization excised section was excised specific polarization component from the transmitted light
Double polarization excised portion of the second is to remove the polarization component crossing the polarizing direction of the polarization extraction portion of the first is removed from the diffracted light
A phase contrast microscope comprising: a polarizing plate .
れる透過光と回折光とを干渉像が得られるように観察面
上に導くための干渉像生成手段とを有する位相差顕微鏡
において、 前記光源は射出する光の波長を変化させる波長可変機能
を有するか、又は前記光源とは別個に波長可変手段が備
えられていることを特徴とする位相差顕微鏡。2. A phase contrast microscope having a light source for irradiating a sample, and an interference image generating means for guiding transmitted light and diffracted light emitted from the sample onto an observation plane so as to obtain an interference image. The phase difference microscope, wherein the light source has a wavelength variable function of changing the wavelength of emitted light, or a wavelength variable means is provided separately from the light source.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001134054A JP3455194B2 (en) | 2001-05-01 | 2001-05-01 | Phase contrast microscope |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001134054A JP3455194B2 (en) | 2001-05-01 | 2001-05-01 | Phase contrast microscope |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4031062A Division JPH05232384A (en) | 1992-02-18 | 1992-02-18 | Interference microscope |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001311875A JP2001311875A (en) | 2001-11-09 |
JP3455194B2 true JP3455194B2 (en) | 2003-10-14 |
Family
ID=18981810
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001134054A Expired - Fee Related JP3455194B2 (en) | 2001-05-01 | 2001-05-01 | Phase contrast microscope |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3455194B2 (en) |
-
2001
- 2001-05-01 JP JP2001134054A patent/JP3455194B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2001311875A (en) | 2001-11-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH05232384A (en) | Interference microscope | |
JP4205704B2 (en) | Imaging polarization measurement method | |
CN107462149B (en) | A phase shift interferometry system and its wave plate phase shift method | |
EP2327953B1 (en) | Apparatus and method for determining a height map of a surface through both interferometric and non interferometric measurements. | |
JP4895353B2 (en) | Interferometer and shape measuring method | |
US7180602B2 (en) | Agile spectral interferometric microscopy | |
US4865450A (en) | Dual photoelastic modulator heterodyne interferometer | |
US11248955B2 (en) | Polarization measurement with interference patterns of high spatial carrier frequency | |
JP3455194B2 (en) | Phase contrast microscope | |
US7123364B2 (en) | Acoustic imaging microscope | |
JP2807965B2 (en) | Small angle cross beam orthogonal two-frequency light source for heterodyne interferometer | |
KR102339215B1 (en) | Inspection apparatus and inspection method | |
JP3893691B2 (en) | Imaging optics | |
JP4072190B2 (en) | Differential interference microscope | |
US20240361233A1 (en) | Methods and systems for measuring optical characteristics of objects | |
WO2004034079A2 (en) | Inspection system calibration methods | |
JP2521324Y2 (en) | Interferometer | |
JPH09280811A (en) | Interferometer | |
JPH10213486A (en) | Polarization interferometer | |
JPH0712545A (en) | Atomic force microscope detector with differential heterodyne interferometer using optical fiber array | |
JPH08313947A (en) | Optical information processor | |
JPH0961718A (en) | Differential interference microscope | |
JPH06147984A (en) | Polarized light measuring method | |
WO1999042908A1 (en) | Linear conoscopic holography | |
JPH0460403A (en) | Epi-illuminated dual beam interferometer |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20030708 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080725 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |