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JP3332605B2 - Transparent functional film containing functional ultrafine particles, transparent functional film, and method for producing the same - Google Patents

Transparent functional film containing functional ultrafine particles, transparent functional film, and method for producing the same

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Publication number
JP3332605B2
JP3332605B2 JP23080194A JP23080194A JP3332605B2 JP 3332605 B2 JP3332605 B2 JP 3332605B2 JP 23080194 A JP23080194 A JP 23080194A JP 23080194 A JP23080194 A JP 23080194A JP 3332605 B2 JP3332605 B2 JP 3332605B2
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JP
Japan
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hard coat
layer
coat layer
refractive index
film
Prior art date
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JP23080194A
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典永 中村
泰 山田
清隆 竹松
俊夫 吉原
夏子 山下
裕子 鈴木
素裕 岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、紫外線遮断効果、帯電
防止効果、反射防止効果等の各種機能を有する機能性超
微粒子を塗膜中に、特に、空気と接する或いは近い層の
表面に、機能性超微粒子を極在化させることにより、機
能性超微粒子の持つ機能を発現する透明機能性膜、透明
機能性フィルム及びその製造方法に関する。さらに本発
明は、前記透明機能性フィルムが反射防止機能を持つ反
射防止フィルム及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a method for coating functional ultrafine particles having various functions such as an ultraviolet ray blocking effect, an antistatic effect and an antireflection effect in a coating film, in particular, on the surface of a layer in contact with or close to air. The present invention relates to a transparent functional film, a transparent functional film, and a method for producing the same, which exhibit the functions of the functional ultrafine particles by localizing the functional ultrafine particles. Further, the present invention relates to an antireflection film in which the transparent functional film has an antireflection function and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、紫外線遮断効果、帯電防止効果、
反射防止効果等の特定の性質を有する機能性超微粒子が
分散された透明樹脂組成物を透明プラスチック基材フィ
ルムに塗布して機能性塗膜を形成することにより、紫外
線遮断性、帯電防止性又は反射防止性等の機能が付与さ
れた透明機能性フィルムを製造することが知られてい
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, ultraviolet blocking effect, antistatic effect,
By applying a transparent resin composition in which functional ultrafine particles having specific properties such as an anti-reflection effect are dispersed to a transparent plastic substrate film to form a functional coating film, ultraviolet blocking properties, antistatic properties or It is known to produce a transparent functional film having a function such as anti-reflection property.

【0003】また、このような透明機能性フィルムに、
さらに耐擦傷性、耐薬品性等の性質を付与するために、
透明プラスチック基材フィルム上に、中間層として、例
えば、電離放射線硬化型樹脂等によるハードコート層を
形成し、その上に機能性超微粒子を分散した透明樹脂組
成物を塗布することによりハード性が付与された透明機
能性フィルムを製造することが知られている。
[0003] Further, such a transparent functional film,
Furthermore, in order to impart properties such as abrasion resistance and chemical resistance,
On a transparent plastic substrate film, as a middle layer, for example, a hard coat layer made of an ionizing radiation curable resin or the like is formed, and the hard property is obtained by applying a transparent resin composition in which functional ultrafine particles are dispersed thereon. It is known to produce applied transparent functional films.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】前記の機能性超微粒子
を含有した透明機能性フィルムは、その製法上、機能性
超微粒子がその透明機能性膜中に分散して存在してい
る。その機能性超微粒子の機能をさらに強化するために
は、その膜中に機能性超微粒子を多く存在させればよい
が、そのために樹脂中に分散する機能性超微粒子の混入
率を高くしなければならず、そうすれば成膜が困難にな
ってしまうという問題があった。また、電離放射線硬化
型樹脂等のハードコート層を有する透明機能性フィルム
においては、そのハードコート層と透明機能性膜との密
着が十分ではなく、透明機能性膜が剥離しやすい等の問
題があった。
The above-mentioned transparent functional film containing the functional ultrafine particles has the functional ultrafine particles dispersed in the transparent functional film due to its production method. In order to further enhance the function of the functional ultrafine particles, it is necessary to increase the amount of the functional ultrafine particles in the film.However, the mixing ratio of the functional ultrafine particles dispersed in the resin must be increased. In such a case, there is a problem that film formation becomes difficult. Further, in a transparent functional film having a hard coat layer such as an ionizing radiation curable resin, there is a problem that the hard coat layer is not sufficiently adhered to the transparent functional film, and the transparent functional film is easily peeled off. there were.

【0005】そこで本発明は、透明機能性膜、透明機能
性フィルム及び反射防止フィルムを製造するのに、機能
性超微粒子をハードコート層中に高密度に極在化させ
て、機能性超微粒子層として配置することにより、機能
性超微粒子の機能を発揮させることができ、しかもハー
ドコート層と機能性超微粒子との密着性に優れた透明機
能性膜、透明機能性フィルム、反射防止フィルム及びそ
れらの製造方法を提供することを目的とする。
Accordingly, the present invention provides a method for producing a transparent functional film, a transparent functional film, and an anti-reflection film, in which functional ultrafine particles are localized at a high density in a hard coat layer, thereby obtaining functional ultrafine particles. By arranging as a layer, the function of the functional ultrafine particles can be exerted, and the transparent functional film, the transparent functional film, the antireflection film, and the adhesiveness between the hard coat layer and the functional ultrafine particles are excellent. It is an object to provide a method for producing them.

【0006】さらに本発明は透明機能性フィルムが反射
防止機能を持つ反射防止フィルム及びその製造方法を提
供することを目的とする。
Another object of the present invention is to provide an antireflection film in which the transparent functional film has an antireflection function and a method for producing the same.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】透明機能性膜及び透明機能性フィルム :前記した問題点
を解決するために、本発明の一番目の透明機能性膜は、
機能性超微粒子が空気層との界面からハードコート層の
内部にかけて極在化して固定されている透明機能性膜で
あることを特徴とする。
Means for Solving the Problems Transparent functional film and transparent functional film : In order to solve the above-mentioned problems, the first transparent functional film of the present invention comprises:
It is characterized by being a transparent functional film in which the functional ultrafine particles are localized and fixed from the interface with the air layer to the inside of the hard coat layer.

【0008】また、本発明の二番目の透明機能性膜は、
機能性超微粒子が空気層との界面からハードコート層の
内部にかけて極在化して固定され、且つ空気層と接して
いる機能性超微粒子にハードコート層の薄膜が存在せず
機能性超微粒子の一部がハードコート層から特に露出し
ている透明機能性膜であることを特徴とする。
Further, the second transparent functional film of the present invention comprises:
The functional ultrafine particles are polarized and fixed from the interface with the air layer to the inside of the hard coat layer, and the functional ultrafine particles in contact with the air layer do not have a thin film of the hard coat layer, and the functional ultrafine particles A feature is that the transparent functional film is partially exposed particularly from the hard coat layer.

【0009】本発明の透明機能性フィルムは、前記した
一番目及び二番目の各透明機能性膜が各々透明プラスチ
ック基材フィルム上に形成されていることを特徴とす
る。
The transparent functional film of the present invention is characterized in that the first and second transparent functional films are formed on a transparent plastic substrate film.

【0010】図1は、本発明の一番目の透明機能性フィ
ルムの断面を示す。その透明機能性フィルムは、透明プ
ラスチック基材フィルム3上に塗布されたハードコート
層4の表面から内部にかけて形成された機能性超微粒子
層2を有している。図1に示すように、機能性超微粒子
層2は、各機能性超微粒子5自身の結着力により、或い
は機能性超微粒子5が完全に埋没されない程度の量のバ
インダー樹脂の結着力により相互に結着されて形成され
ており、機能性超微粒子層2の最表層がハードコート層
用樹脂の薄膜が形成される程度にハードコート層4に埋
没している。なお、この機能性超微粒子層2を有してい
るハードコート層4自体は、本発明の一番目の透明機能
性膜である。
FIG. 1 shows a cross section of the first transparent functional film of the present invention. The transparent functional film has a functional ultrafine particle layer 2 formed from the surface to the inside of the hard coat layer 4 applied on the transparent plastic base film 3. As shown in FIG. 1, the functional ultrafine particle layers 2 are mutually connected by the binding force of each functional ultrafine particle 5 or by the binding force of a binder resin in such an amount that the functional ultrafine particles 5 are not completely buried. The outermost layer of the functional ultrafine particle layer 2 is buried in the hard coat layer 4 to such an extent that a thin film of the resin for the hard coat layer is formed. The hard coat layer 4 having the functional ultrafine particle layer 2 is the first transparent functional film of the present invention.

【0011】図2は、本発明の二番目の透明機能性フィ
ルムの断面を示す。その透明機能性フィルムは、透明プ
ラスチック基材フィルム3上に塗布されたハードコート
層4の内部から表面にかけて形成された機能性超微粒子
層2を有している。図2に示すように、機能性超微粒子
層2は、各機能性超微粒子5自身の結着力により、或い
は機能性超微粒子5が完全に埋没されない程度の量のバ
インダー樹脂の結着力により相互に結着されて形成され
ており、機能性超微粒子層2全体は、ハードコート層4
に完全に埋没しておらず、機能性超微粒子5の一部がハ
ードコート層4表面から露出しており、したがって、機
能性超微粒子5の表面にはハードコート層用樹脂の薄膜
が存在せず、直接、空気層と接触している。なお、その
一部が露出した機能性超微粒子層2を有しているハード
コート層4自体は、本発明の二番目の透明機能性膜であ
る。
FIG. 2 shows a cross section of a second transparent functional film of the present invention. The transparent functional film has a functional ultrafine particle layer 2 formed from the inside to the surface of the hard coat layer 4 applied on the transparent plastic substrate film 3. As shown in FIG. 2, the functional ultrafine particle layers 2 are mutually connected by the binding force of each functional ultrafine particle 5 or by the binding force of a binder resin in such an amount that the functional ultrafine particles 5 are not completely buried. The entirety of the functional ultrafine particle layer 2 is bonded to the hard coat layer 4.
The functional ultrafine particles 5 are not completely buried, and a part of the functional ultrafine particles 5 is exposed from the surface of the hard coat layer 4. Not in direct contact with the air layer. The hard coat layer 4 itself having the partially exposed functional ultrafine particle layer 2 is the second transparent functional film of the present invention.

【0012】本発明の一番目及び二番目の透明機能性膜
又は透明機能性フィルムは、上記したように機能性超微
粒子が空気層との界面からハードコート層の内部にかけ
て極在化して固定されているので、機能性超微粒子を多
量に使用することなく、少量で機能性超微粒子の性質を
発現させやすい効果を有し、さらに、単にハードコート
層上に機能性超微粒子を含む層を形成するよりも機能性
超微粒子とハードコート層との密着性が良いという効果
を有する。
In the first and second transparent functional films or transparent functional films of the present invention, as described above, the functional ultrafine particles are poled and fixed from the interface with the air layer to the inside of the hard coat layer. Therefore, without using a large amount of functional ultrafine particles, it has the effect of easily expressing the properties of functional ultrafine particles with a small amount, and furthermore, simply forming a layer containing functional ultrafine particles on the hard coat layer This has the effect that the adhesiveness between the functional ultrafine particles and the hard coat layer is better than the above.

【0013】透明機能性フィルムの製造方法:本発明の
前記一番目及び二番目の透明機能性フィルムの、一番目
の製造方法は、(1)離型フィルム上に機能性超微粒子
層を形成し、(2)一方、透明プラスチック基材フィル
ム上にハードコート層用樹脂組成物を塗工し、(3)前
記ハードコート層用樹脂組成物が溶剤で希釈されている
場合には溶剤乾燥した後に、前記ハードコート層用樹脂
組成物が溶剤を含有していない場合にはそのままで、前
記工程で得られた離型フィルムの機能性超微粒子層側の
面と、前記工程で得られた透明プラスチック基材フィル
ムのハードコート層用樹脂組成物側の面を圧着してラミ
ネートして、機能性超微粒子層をハードコート層用樹脂
組成物中に埋没させるか又は機能性超微粒子層の一部を
埋没させ、(4)前記工程で得られたラミネート物をフ
ルキュアーさせた後、離型フィルムを剥離して機能性超
微粒子層を透明プラスチック基材フィルム側に転写する
ことを特徴とする。
Method for producing transparent functional film : The first method for producing the first and second transparent functional films of the present invention comprises the following steps : (1) forming a functional ultrafine particle layer on a release film; (2) On the other hand, after coating the resin composition for a hard coat layer on a transparent plastic substrate film, and (3) drying the solvent when the resin composition for a hard coat layer is diluted with a solvent, In the case where the resin composition for a hard coat layer does not contain a solvent, as it is, the surface of the release film obtained in the step on the side of the functional ultrafine particle layer and the transparent plastic obtained in the step The surface of the base film on the side of the resin composition for the hard coat layer is pressed and laminated, and the functional ultrafine particle layer is buried in the resin composition for the hard coat layer or a part of the functional ultrafine particle layer. Buried, (4) After full curing the resulting laminate was in serial process, characterized by transferring the peel to the functional ultrafine particle layer a transparent plastic substrate film side release film.

【0014】本発明の前記一番目及び二番目の透明機能
性フィルムの、前記一番目の製造方法の変法は、(1)
離型フィルム上に機能性超微粒子層を形成し、(2)一
方、透明プラスチック基材フィルム上にハードコート層
用樹脂組成物を塗工し、(3)前記ハードコート層用樹
脂組成物が溶剤で希釈されている場合には溶剤乾燥した
後に、前記ハードコート層用樹脂組成物が溶剤を含有し
ていない場合にはそのままで、前記工程で得られた離型
フィルムの機能性超微粒子層側の面と、前記工程で得ら
れた透明プラスチック基材フィルムのハードコート層用
樹脂組成物側の面を圧着してラミネートして、機能性超
微粒子層をハードコート層用樹脂組成物中に埋没させる
か又は機能性超微粒子層の一部を埋没させ、(4)前記
工程で得られたラミネート物をハーフキュアーさせた
後、離型フィルムを剥離して機能性超微粒子層を前記透
明プラスチック基材フィルム側に転写し、(5)ハーフ
キュアーされた前記ハードコート層上に他の機能性膜を
形成し、(6)次いで、フルキュアーさせることを特徴
とする。
The first and second transparent functional films of the present invention have the following modifications of the first production method: (1)
A functional ultrafine particle layer is formed on a release film, and (2) a resin composition for a hard coat layer is coated on a transparent plastic substrate film, and (3) the resin composition for a hard coat layer is If the solvent is diluted with a solvent, after drying the solvent, if the resin composition for a hard coat layer does not contain a solvent, it is left as it is, and the functional ultrafine particle layer of the release film obtained in the step is obtained. Side and the surface of the transparent plastic substrate film obtained in the above step on the side of the resin composition for the hard coat layer of the transparent plastic substrate film are pressed and laminated to form a functional ultrafine particle layer in the resin composition for the hard coat layer. (4) The laminate obtained in the above step is half-cured, and then the release film is peeled off to make the functional ultrafine particle layer a transparent plastic. Base material Transferred to Irumu side, (5) forming another functional membrane on the half cured been the hard coat layer, characterized by (6) then be fully cured.

【0015】図3は、上記した本発明の一番目及び二番
目の透明機能性フィルムのための一番目の製造方法のプ
ロセス図である。図3(a)は離型フィルム1上に機能
性超微粒子5のゾルを塗布して、機能性超微粒子層2を
形成した状態である。(b)は透明プラスチック基材フ
ィルム3上にハードコート層4を形成したものに、前記
機能性超微粒子層2が形成された離型フィルム1を圧着
しようとする状態である。さらに(c)は両者が圧着さ
れている状態である。この圧着状態で、ハードコート層
用樹脂を硬化させた後に、離型フィルム1を剥離してい
る状態が(d)である。
FIG. 3 is a process diagram of a first manufacturing method for the first and second transparent functional films of the present invention described above. FIG. 3A shows a state in which a sol of the functional ultrafine particles 5 is applied on the release film 1 to form the functional ultrafine particle layer 2. (B) shows a state in which the release film 1 on which the functional ultrafine particle layer 2 is formed is to be pressure-bonded to a transparent plastic substrate film 3 on which a hard coat layer 4 is formed. Further, (c) shows a state where both are pressed. The state in which the release film 1 is peeled off after the resin for the hard coat layer is cured in the pressed state is shown in FIG.

【0016】前記(c)工程において、ハードコート層
用樹脂をフルキュアーさせてもよいし(一番目の製造方
法)、或いは前記(c)工程においてはハードコート層
樹脂をハーフキュアーさせた状態として引き続いて前記
(d)工程の離型フィルム1の剥離後にハードコート層
樹脂をフルキュアーさせてもよい(一番目の製造方法の
変法)。このようにハードコート層の硬化をハーフキュ
アーとフルキュアーに分けることは、例えば、ハーフキ
ュアー後にさらにその上に層を設けるような場合に、ハ
ードコート層とその上の層との密着性が増す利点があ
る。
In the step (c), the resin for the hard coat layer may be fully cured (first production method), or in the step (c), the resin for the hard coat layer may be half-cured. Subsequently, the hard coat layer resin may be fully cured after the release film 1 is removed in the step (d) (a modification of the first manufacturing method). Separating the curing of the hard coat layer into half cure and full cure in this way, for example, in the case where a layer is further provided thereon after half cure, the adhesion between the hard coat layer and the layer thereon increases. There are advantages.

【0017】本発明の一番目及び二番目の透明機能性フ
ィルムの二番目の製造方法は、(1)離型フィルム上に
機能性超微粒子層を形成し、(2)該機能性超微粒子層
上に、ハードコート層用樹脂組成物を機能性超微粒子層
の膜厚以上となるように塗工して、機能性超微粒子層を
ハードコート層用樹脂中に埋没させるか又は機能性超微
粒子層の一部を埋没させ、フルキュアーさせてハードコ
ート層を形成し、(3)該ハードコート層が形成された
離型フィルムのハードコート層側を内側にし、接着剤層
を介して、透明プラスチック基材フィルムとラミネート
し、(4)前記工程で得られたラミネート物から離型フ
ィルムを剥離してハードコート層を透明プラスチック基
材フィルム側に転写することを特徴とする。
The second method for producing the first and second transparent functional films of the present invention comprises: (1) forming a functional ultrafine particle layer on a release film; and (2) forming the functional ultrafine particle layer. On top, the resin composition for a hard coat layer is applied so as to have a thickness not less than the thickness of the functional ultrafine particle layer, and the functional ultrafine particle layer is buried in the resin for the hard coat layer or the functional ultrafine particles. Part of the layer is buried and fully cured to form a hard coat layer. (3) The release film on which the hard coat layer is formed has the hard coat layer side inside, and is transparent through an adhesive layer. (4) Laminating with a plastic substrate film, releasing the release film from the laminate obtained in the above step, and transferring the hard coat layer to the transparent plastic substrate film side.

【0018】本発明の一番目の透明機能性フィルムの二
番目の製造方法の変法は、(1)離型フィルム上に機能
性超微粒子層を形成し、(2)該機能性超微粒子層上
に、ハードコート層用樹脂組成物を機能性超微粒子層の
膜厚以上となるように塗工して、機能性超微粒子層をハ
ードコート層用樹脂中に埋没させるか又は機能性超微粒
子層の一部を埋没させ、ハーフキュアーさせてハードコ
ート層を形成し、(3)該ハードコート層が形成された
離型フィルムのハードコート層側を内側にし、接着剤層
を介して、透明プラスチック基材フィルムとラミネート
し、(4)前記工程で得られたラミネート物から前記離
型フィルムを剥離して前記ハードコート層を前記透明プ
ラスチック基材フィルム側に転写し、(5)ハーフキュ
アーされた前記ハードコート層上に他の機能性膜を形成
し、(6)前記ハードコート層をフルキュアーさせるこ
とを特徴とする。
The second variant of the first method for producing a transparent functional film of the present invention comprises the steps of (1) forming a functional ultrafine particle layer on a release film, and (2) forming the functional ultrafine particle layer. On top, the resin composition for a hard coat layer is applied so as to have a thickness not less than the thickness of the functional ultrafine particle layer, and the functional ultrafine particle layer is buried in the resin for the hard coat layer or the functional ultrafine particles. A part of the layer is buried and half-cured to form a hard coat layer. (3) The hard coat layer side of the release film on which the hard coat layer is formed is turned inside, and transparent through an adhesive layer. (4) The release film is peeled off from the laminate obtained in the above step, and the hard coat layer is transferred to the transparent plastic substrate film side. The said har The coating layer to form another functional film, characterized in that to fully cure the hard coat layer (6).

【0019】図4は、上記した本発明の一番目及び二番
目の透明機能性フィルムのための二番目の製造方法のプ
ロセス図である。図4(a)は離型フィルム1上に機能
性超微粒子5のゾルを塗布して、機能性超微粒子層2を
形成し、さらにその上にハードコート層用樹脂組成物を
機能性超微粒子層2の膜厚以上の膜厚となるように塗工
し、ハードコート層4を形成した状態である。この
(a)工程においてハードコート層4をフルキュアーさ
せてもよく、或いはハーフキュアーさせてもよい(変
法)。(b)は前記(a)工程で得られたハードコート
層4が形成された離型フィルム1を接着剤層6を介して
透明プラスチック基材フィルム3とラミネートしようと
する状態である。この接着剤層6の形成は、ハードコー
ト層4に塗布して形成しても、或いは透明プラスチック
基材フィルム3に塗布して形成してもよい。さらに
(c)は両者が圧着されている状態である。この圧着状
態で、離型フィルム1を剥離している状態が(d)であ
る。
FIG. 4 is a process diagram of a second manufacturing method for the first and second transparent functional films of the present invention described above. FIG. 4A shows a functional ultrafine particle layer 2 formed by applying a sol of functional ultrafine particles 5 on a release film 1, and further applying a resin composition for a hard coat layer to the functional ultrafine particles. This is a state in which coating is performed so as to have a thickness equal to or greater than the thickness of the layer 2 to form the hard coat layer 4. In the step (a), the hard coat layer 4 may be fully cured or half-cured (variation). (B) shows a state in which the release film 1 on which the hard coat layer 4 obtained in the step (a) is formed is to be laminated with the transparent plastic substrate film 3 via the adhesive layer 6. The adhesive layer 6 may be formed by applying to the hard coat layer 4 or may be formed by applying to the transparent plastic substrate film 3. Further, (c) shows a state where both are pressed. The state in which the release film 1 has been peeled off in this pressed state is (d).

【0020】図4の(a)工程において、ハードコート
層用樹脂を完全にハーフキュアーさせた場合には、前記
(d)工程の離型フィルム1の剥離後にハードコート層
樹脂をフルキュアーさせることができる。このようにハ
ードコート層のキュアーをハーフキュアーとフルキュア
ーに分けることは、例えば、ハーフキュアー後にさらに
その上に層を設けるような場合に、ハードコート層とそ
の上の層との密着性が増す利点がある。
In the step (a) of FIG. 4, when the resin for the hard coat layer is completely cured, the resin of the hard coat layer is fully cured after the release film 1 is removed in the step (d). Can be. Separating the cure of the hard coat layer into half cure and full cure in this way, for example, in the case where a layer is further provided thereon after half cure, the adhesion between the hard coat layer and the layer thereon increases. There are advantages.

【0021】本発明の一番目及び二番目の透明機能性フ
ィルムの三番目の製造方法は、(1)離型フィルム上に
機能性超微粒子層を形成し、(2)該機能性超微粒子層
上に、ハードコート層用樹脂組成物を機能性超微粒子層
の膜厚以上となるように塗工して、機能性超微粒子層を
ハードコート層用樹脂中に埋没させるか又は機能性超微
粒子層の一部を埋没させ、(3)該ハードコート層用樹
脂組成物が塗工された離型フィルムの該ハードコート層
用樹脂組成物の側を内側にして透明プラスチック基材フ
ィルムとラミネートし、フルキュアーさせてハードコー
ト層を形成し、(4)前記工程で得られたラミネート物
から離型フィルムを剥離してハードコート層を透明プラ
スチック基材フィルム側に転写することを特徴とする。
The third method for producing the first and second transparent functional films of the present invention comprises (1) forming a functional ultrafine particle layer on a release film, and (2) forming the functional ultrafine particle layer. On top, the resin composition for a hard coat layer is applied so as to have a thickness not less than the thickness of the functional ultrafine particle layer, and the functional ultrafine particle layer is buried in the resin for the hard coat layer or the functional ultrafine particles. Part of the layer is buried, and (3) a release film coated with the resin composition for a hard coat layer is laminated with a transparent plastic substrate film with the side of the resin composition for a hard coat layer facing inside. (4) peeling off the release film from the laminate obtained in the above step, and transferring the hard coat layer to the transparent plastic substrate film side.

【0022】本発明の一番目及び二番目の透明機能性フ
ィルムの三番目の製造方法の変法は、(1)離型フィル
ム上に機能性超微粒子層を形成し、(2)該機能性超微
粒子層上に、ハードコート層用樹脂組成物を機能性超微
粒子層の膜厚以上となるように塗工して、機能性超微粒
子層をハードコート層用樹脂中に埋没させるか又は機能
性超微粒子層の一部を埋没させ、(3)該ハードコート
層用樹脂組成物が塗工された離型フィルムの該ハードコ
ート層用樹脂組成物の側を内側にして透明プラスチック
基材フィルムとラミネートし、ハーフキュアーさせてハ
ードコート層を形成し、(4)前記工程で得られたハー
フキュアーラミネート物から離型フィルムを剥離してハ
ードコート層を透明プラスチック基材フィルム側に転写
し、(5)ハーフキュアーされた前記ハードコート層上
に他の機能性膜を形成し、(6)前記ハードコート層を
フルキュアーさせることを特徴とする。
The third and second production methods of the transparent functional film of the present invention are modified as follows: (1) forming a functional ultrafine particle layer on a release film; On the ultrafine particle layer, a hard coat layer resin composition is applied so as to have a thickness equal to or more than the thickness of the functional ultrafine particle layer, and the functional ultrafine particle layer is buried in the hard coat layer resin or has a function. (3) a transparent plastic substrate film in which a part of the functional ultrafine particle layer is buried, and (3) a release film coated with the resin composition for hard coat layer has the side of the resin composition for hard coat layer facing inside. (4) peeling off the release film from the half-cured laminate obtained in the above step, and transferring the hard-coat layer to the transparent plastic substrate film side; (5) Half Forming another functional membrane on Yua been the hard coat layer, characterized in that to fully cure the hard coat layer (6).

【0023】図5は、上記した本発明の一番目及び二番
目の透明機能性フィルムのための三番目の製造方法のプ
ロセス図である。図5(a)は離型フィルム1上に機能
性超微粒子5のゾルを塗布して、機能性超微粒子層2を
形成し、さらにその上にハードコート層用樹脂組成物を
機能性超微粒子層2の膜厚以上となるように塗工し、ハ
ードコート層4を形成した状態である。この(a)工程
においてハードコート層4はまだ、硬化処理をうけてい
ない。(b)は前記(a)工程で得られた未硬化のハー
ドコート層4が形成された離型フィルム1を透明プラス
チック基材フィルム3とラミネートしようとするところ
の状態である。さらに(c)は両者が圧着されている状
態である。この(c)の状態で、硬化処理を行い、ハー
ドコート層4をフルキュアー或いはハーフキュアーさせ
る。次いで、離型フィルム1を剥離している状態が
(d)である。
FIG. 5 is a process diagram of a third manufacturing method for the first and second transparent functional films of the present invention. FIG. 5A shows a functional ultrafine particle layer 2 formed by applying a sol of the functional ultrafine particles 5 on the release film 1, and further forming a functional ultrafine particle with the resin composition for a hard coat layer thereon. This is a state in which the coating is performed so as to have a thickness equal to or greater than the thickness of the layer 2 to form the hard coat layer 4. In the step (a), the hard coat layer 4 has not yet been subjected to a curing treatment. (B) is a state in which the release film 1 on which the uncured hard coat layer 4 obtained in the step (a) is formed is to be laminated with the transparent plastic substrate film 3. Further, (c) shows a state where both are pressed. In this state (c), a hardening treatment is performed, and the hard coat layer 4 is fully cured or half cured. Next, the state in which the release film 1 is peeled is (d).

【0024】前記(c)工程において、ハードコート層
用樹脂組成物をフルキュアーさせてもよいし、或いは前
記(c)工程においては、ハードコート層用樹脂組成物
をハーフキュアーさせた状態とし、次いで前記(d)工
程の離型フィルム1の剥離後にハードコート層4をフル
キュアーさせてもよい。このようにハードコート層4の
キュアーをハーフキュアーとフルキュアーに分けること
は、例えば、ハーフキュアー後にさらにその上に層を設
けるような場合に、ハードコート層4とその上の層との
密着性が増す利点がある。
In the step (c), the resin composition for a hard coat layer may be fully cured, or in the step (c), the resin composition for a hard coat layer may be half-cured, Next, after the release film 1 is peeled off in the step (d), the hard coat layer 4 may be fully cured. Dividing the cure of the hard coat layer 4 into half cure and full cure as described above means that, for example, when a layer is further provided thereon after half cure, the adhesion between the hard coat layer 4 and the layer thereon There is an advantage that increases.

【0025】上記の透明機能性フィルムの各製造方法に
おいて、特に、機能性超微粒子層がハードコート層中に
完全に埋没しておらず、機能性超微粒子層の一部がハー
ドコート層から露出している透明機能性フィルム(本発
明の二番目の透明機能性フィルム)を製造するために
は、ハードコート層用樹脂の粘度、該樹脂の種類、該樹
脂の表面張力、さらには、機能性超微粒子の粒径、該超
微粒子の充填率、ハードコート層用樹脂と機能性超微粒
子との濡れ性等を考慮することによって、本発明の二番
目の機能性フィルムを製造することができる。
In each of the above methods for producing a transparent functional film, in particular, the functional ultrafine particle layer is not completely buried in the hard coat layer, and a part of the functional ultrafine particle layer is exposed from the hard coat layer. In order to produce a transparent functional film (the second transparent functional film of the present invention), the viscosity of the resin for the hard coat layer, the type of the resin, the surface tension of the resin, and the functional properties The second functional film of the present invention can be produced by considering the particle size of the ultrafine particles, the filling rate of the ultrafine particles, the wettability between the resin for the hard coat layer and the functional ultrafine particles, and the like.

【0026】具体的には、ハードコート層用樹脂として
粘度が高く、或いは塗工時に指触乾燥性(後述)を有す
るもの(指触乾燥状態のこと)を選択することにより、
機能性超微粒子の一部が露出しやすい。又、その他、該
樹脂の表面張力が低いものを選択するか、機能性超微粒
子の粒径が小さく、充填率が高いものを選択することに
よってもいい。また、該樹脂と該超微粒子を選択するに
あたり、濡れ性が悪いものを選択することによってもよ
い。
Specifically, by selecting a resin having a high viscosity as the resin for the hard coat layer or having a dryness to the touch (described later) at the time of coating (in a dry state to the touch),
Part of the functional ultrafine particles is easily exposed. Alternatively, a resin having a low surface tension may be selected, or a resin having a small particle size and a high filling rate of the functional ultrafine particles may be used. In selecting the resin and the ultrafine particles, a resin having poor wettability may be selected.

【0027】図6は、本発明の二番目の透明機能性フィ
ルムのための製造方法の一例を示すプロセス図である。
図6(a)は離型フィルム1上に機能性超微粒子5のゾ
ルを塗布して、機能性超微粒子層2を形成した状態であ
る。(b)は透明プラスチック基材フィルム3上にハー
ドコート層用樹脂組成物を塗布して、その塗膜が指触乾
燥状態において、前記機能性超微粒子層2が形成された
離型フィルム1を圧着しようとする状態であり、さらに
(c)は圧着されている状態である。ハードコート層用
樹脂組成物が指触乾燥状態の時に前記離型フィルム1を
圧着しているので、離型フィルム1上の機能性超微粒子
層2の全体は、ハードコート層4内に完全に埋没せず、
機能性超微粒子層2の一部はハードコート層外に残るこ
とになる。この圧着状態で電子線または紫外線等の電離
放射線を照射して電離放射線硬化型樹脂を完全に硬化さ
せた後に、離型フィルム1を剥離している状態が(d)
である。
FIG. 6 is a process diagram showing an example of a production method for the second transparent functional film of the present invention.
FIG. 6A shows a state in which a sol of the functional ultrafine particles 5 is applied on the release film 1 to form the functional ultrafine particle layer 2. (B) is a method in which a resin composition for a hard coat layer is applied on a transparent plastic substrate film 3 and the release film 1 on which the functional ultrafine particle layer 2 is formed is dried in a touch-dry state. This is a state in which crimping is to be performed, and (c) is a state in which crimping is performed. Since the release film 1 is pressure-bonded when the resin composition for a hard coat layer is dry to the touch, the entire functional ultrafine particle layer 2 on the release film 1 is completely contained in the hard coat layer 4. Not buried,
Part of the functional ultrafine particle layer 2 remains outside the hard coat layer. The state in which the release film 1 is peeled off after the ionizing radiation-curable resin is completely cured by irradiating ionizing radiation such as an electron beam or ultraviolet light in this pressed state.
It is.

【0028】離型フィルム:一般的にシート上にシリコ
ン、フッ素、アクリル−メラミンなど離型処理を施した
もの、または、未処理のものが使用される。その表面は
凹凸を有していてもよく、この場合、最終製品の表面に
凹凸が形成されるので、得られる透明機能性フィルム
に、反射防止効果又は防眩効果を付与することができ
る。
Release film : Generally, a film obtained by subjecting a sheet to a release treatment such as silicon, fluorine, acryl-melamine or the like, or an untreated film is used. The surface may have unevenness. In this case, since the unevenness is formed on the surface of the final product, the obtained transparent functional film can be provided with an antireflection effect or an antiglare effect.

【0029】機能性超微粒子:前記機能性超微粒子層に
使用される機能性超微粒子には、200nm以下の超微
粒子で、紫外線遮断性、導電性、帯電防止性、反射防止
性等の機能を有するものが挙げられる。例えば、透明機
能性フィルムに導電性又は帯電防止性を付与するにはS
nO2 やITO等の超微粒子が使用され、反射防止性を
付与するにはMgF2 やSiO2 等の低屈折率超微粒子
やSb2 5 、ZnO、ITO、SnO2 、TiO2
の高屈折率超微粒子が使用される。
Functional ultra-fine particles : The functional ultra-fine particles used in the functional ultra-fine particle layer are ultra-fine particles having a size of 200 nm or less, and have functions such as ultraviolet blocking property, conductivity, antistatic property and anti-reflection property. Ones having. For example, to impart conductivity or antistatic property to a transparent functional film, use S
nO 2 and ultrafine particles of ITO or the like is used, the low refractive index ultrafine particles and Sb 2 O 5, ZnO, such as MgF 2 and SiO 2 to impart antireflection properties, ITO, SnO 2, such as TiO 2 high Ultrafine particles of refractive index are used.

【0030】なお、前記高屈折率超微粒子を用いた反射
防止膜の製造は、高屈折率超微粒子を含有する塗膜の上
に、さらに、低屈折率のMgF2 、SiO2 等の無機質
材料や金属材料で蒸着、スパッタリング、プラズマCV
D等により薄膜を単層又は多層形成するか、或いは低屈
折率のMgF2 、SiO2 等無機質材料や、金属材料等
を含有させた低屈折率の樹脂組成物の塗膜を単層又は多
層形成することにより反射防止膜とすることができる。
The production of the antireflection film using the high refractive index ultrafine particles is carried out by coating a coating material containing the high refractive index ultrafine particles with an inorganic material such as MgF 2 or SiO 2 having a low refractive index. , Sputtering, plasma CV with metal and metal materials
D or the like to form a single-layer or multi-layer thin film, or a low-refractive-index inorganic material such as MgF 2 or SiO 2, or a low-refractive-index resin composition containing a metal material or the like to form a single-layer or multi-layer coating. By forming, an antireflection film can be obtained.

【0031】また、紫外線遮断性を付与するにはSb2
5 、ZnO、TiO2 等の超微粒子が使用される。
Further, in order to impart ultraviolet blocking properties, Sb 2
Ultra fine particles such as O 5 , ZnO, and TiO 2 are used.

【0032】これらの機能性超微粒子は、その表面がカ
ップリング剤で疎水化処理されていてもよく、このよう
な疎水化処理により機能性超微粒子表面への疎水性基の
導入が行われるので、電離放射線硬化型樹脂に馴染みや
すくなり、電離放射線硬化型樹脂との結合がより強固と
なる。このようなカップリング剤には、シランカップリ
ング剤、チタネート系カップリング剤、アルミナ系カッ
プリング剤等が用いられる。そのカップリング剤の添加
量は0(0を含まず)〜30重量部、望ましくは0(0
を含まず)〜10重量部である。
The surface of these functional ultrafine particles may be subjected to a hydrophobic treatment with a coupling agent, and a hydrophobic group is introduced into the surface of the functional ultrafine particles by such a hydrophobic treatment. Therefore, the resin becomes easily compatible with the ionizing radiation-curable resin, and the bond with the ionizing radiation-curable resin becomes stronger. As such a coupling agent, a silane coupling agent, a titanate coupling agent, an alumina coupling agent, or the like is used. The addition amount of the coupling agent is 0 (excluding 0) to 30 parts by weight, preferably 0 (0
) To 10 parts by weight.

【0033】また、機能性超微粒子がMgF2 のように
表面が不活性な場合、予めSiO2ゾルを添加し、機能
性超微粒子の表面をSiO2 でコーティングした後、カ
ップリング剤で処理してもよい。このようなSiO2
皮膜処理により、機能性超微粒子の表面に親水性基を多
く導入させることができ、その後のカップリング剤での
処理により疎水性基を確実により多く導入でき、したが
って、機能性超微粒子が樹脂へさらに馴染みやすくなり
結合性が増す。
When the surface of the functional ultrafine particles is inert such as MgF 2 , an SiO 2 sol is added in advance, the surface of the functional ultrafine particles is coated with SiO 2 , and then treated with a coupling agent. You may. By such a coating treatment of SiO 2, a large number of hydrophilic groups can be introduced into the surface of the functional ultrafine particles, and a subsequent treatment with a coupling agent can surely introduce a large number of hydrophobic groups. The ultrafine particles are more easily blended into the resin, and the bonding property is increased.

【0034】離型フィルム上への機能性超微粒子層の形
成方法:離型フィルム上への機能性超微粒子層の形成方
法は、機能性超微粒子のゾル自体又は機能性超微粒子の
ゾルにバインダー樹脂を含有させたものを離型フィルム
上に塗布して形成する。離型フィルム上に機能性超微粒
子層を形成する場合には、バインダー樹脂を使用しなく
ても、機能性超微粒子自身の持つ結着作用により形成す
ることができるが、その結着作用が弱いような場合には
必要に応じて、バインダー樹脂を使用してもよい。その
バインダー樹脂の量は、機能性超微粒子がバインダー樹
脂中に完全に埋没されない程度の量とすることが、機能
性超微粒子の表面が露出された状態で機能性超微粒子相
互が結着されるので、機能性を発現するのに、特に、反
射防止膜に利用する場合に好ましい。
Shape of Functional Ultrafine Particle Layer on Release Film
Forming methods: a method of forming the mold release functional ultrafine particle layer on the film, by applying what the sol of the functional ultrafine particle sol itself or functional ultrafine particles obtained by incorporating a binder resin on a release film Form. When the functional ultrafine particle layer is formed on the release film, the functional ultrafine particle can be formed by the binding action of the functional ultrafine particle itself without using a binder resin, but the binding action is weak. In such a case, a binder resin may be used as necessary. The amount of the binder resin is such that the functional ultrafine particles are not completely buried in the binder resin, and the functional ultrafine particles are bound to each other in a state where the surface of the functional ultrafine particles is exposed. Therefore, it is preferable to exhibit functionality, particularly when it is used for an antireflection film.

【0035】このようなバインダー樹脂には、熱硬化性
樹脂、熱可塑性樹脂、電離放射線硬化型樹脂等の一般的
なものが用いられるが、下層(電離放射線硬化型樹脂)
との密着性を考慮すると電離放射線硬化型樹脂が望まし
く、その電離放射線硬化型樹脂は溶剤乾燥半硬化型樹脂
であることが望ましい。また、このようなバインダー樹
脂に着色剤を混入することもできる。
As such a binder resin, a general resin such as a thermosetting resin, a thermoplastic resin, or an ionizing radiation-curable resin is used.
Considering the adhesion to the resin, an ionizing radiation-curable resin is desirable, and the ionizing radiation-curable resin is preferably a solvent-dried semi-curable resin. Further, a coloring agent can be mixed in such a binder resin.

【0036】透明プラスチック基材フィルム:透明機能
性フィルムに適した透明プラスチック基材フィルムに
は、透明性のあるフィルムであればよく、例えば、トリ
アセチルセルロースフィルム、ジアセチルセルロースフ
ィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポ
リエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィ
ルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィ
ルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィル
ム、ポリエーテルフィルム、トリメチルペンテンフィル
ム、ポリエーテルケトンフィルム、(メタ)アクリロニ
トリルフィルム等が使用できるが、特に、トリアセチル
セルロースフィルム、及び一軸延伸ポリエステルが透明
性に優れ、光学的に異方性が無い点で好適に用いられ
る。その厚みは、通常は8μm〜1000μm程度のも
のが好適に用いられる。
Transparent plastic substrate film : The transparent plastic substrate film suitable for the transparent functional film may be any transparent film, for example, triacetyl cellulose film, diacetyl cellulose film, acetate butyrate cellulose film. , Polyethersulfone film, polyacrylic resin film, polyurethane resin film, polyester film, polycarbonate film, polysulfone film, polyether film, trimethylpentene film, polyetherketone film, (meth) acrylonitrile film, etc. can be used. In particular, a triacetyl cellulose film and a uniaxially stretched polyester are preferably used because they are excellent in transparency and have no optical anisotropy. Usually, the thickness of about 8 μm to 1000 μm is suitably used.

【0037】ハードコート層:ハードコート層に用いる
ことのできるバインダー樹脂には、透明性のあるもので
あればどのような樹脂(例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化
型樹脂、電離放射線硬化型樹脂等)でも使用することが
できる。ハード性能を付与するためには、ハードコート
層の厚みは0.5μm以上、好ましくは、3μm以上と
することにより、硬度を維持することができ、反射防止
フィルムにハード性能を付与することができる。
Hard coat layer : The binder resin which can be used for the hard coat layer is any resin as long as it is transparent (for example, thermoplastic resin, thermosetting resin, ionizing radiation curable resin, etc.). ) Can also be used. In order to impart hard performance, the thickness of the hard coat layer is 0.5 μm or more, preferably 3 μm or more, whereby the hardness can be maintained, and the hard performance can be imparted to the antireflection film. .

【0038】なお、本発明において、「ハード性能を有
する」或いは「ハードコート」とは、JIS K540
0で示される鉛筆硬度試験で、H以上の硬度を示すもの
をいう。
In the present invention, “having a hard property” or “hard coat” is defined in JIS K540.
A pencil hardness test indicated by 0 indicates a hardness of H or higher.

【0039】また、ハードコート層の硬度をより向上さ
せるために、ハードコート層に使用するバインダー樹脂
には、反応硬化型樹脂、即ち、熱硬化型樹脂及び/又は
電離放射線硬化型樹脂を使用することが好ましい。前記
熱硬化型樹脂には、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリ
ルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不
飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹
脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹
脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が使用され、これ
らの樹脂に必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化
剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えて使用す
る。
In order to further improve the hardness of the hard coat layer, a reaction curable resin, that is, a thermosetting resin and / or an ionizing radiation curable resin is used as the binder resin used for the hard coat layer. Is preferred. The thermosetting resin includes phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, amino alkyd resin, melamine-urea cocondensation resin, silicon resin, A siloxane resin or the like is used, and a crosslinking agent, a curing agent such as a polymerization initiator, a polymerization accelerator, a solvent, a viscosity modifier and the like are added to these resins as necessary.

【0040】前記電離放射線硬化型樹脂には、好ましく
は、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比
較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、
アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッ
ド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、
ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能
化合物の(メタ)アクリレート等のオリゴマーまたはプ
レポリマーおよび反応性希釈剤としてエチル(メタ)ア
クリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ス
チレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等の単
官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、トリメチ
ロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジ
オール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メ
タ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メ
タ)アクリレート、1、6−ヘキサンジオールジ(メ
タ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)
アクリレート等を比較的多量に含有するものが使用でき
る。
The ionizing radiation-curable resin preferably has an acrylate-based functional group, for example, a polyester resin or polyether resin having a relatively low molecular weight.
Acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, spiro acetal resin, polybutadiene resin,
Polythiol polyene resin, oligomer or prepolymer of polyfunctional compound such as polyhydric alcohol such as (meth) acrylate, and ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone as reactive diluent And monofunctional monomers such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) Acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth)
Those containing a relatively large amount of acrylate or the like can be used.

【0041】特に好適には、ポリエステルアクリレート
とポリウレタンアクリレートの混合物が用いられる。そ
の理由は、ポリエステルアクリレートは塗膜が非常に硬
くてハードコートを得るのに適しているが、ポリエステ
ルアクリレート単独ではその塗膜は衝撃性が低く、脆く
なるので、塗膜に耐衝撃性及び柔軟性を与えるためにポ
リウレタンアクリレートを併用する。ポリエステルアク
リレート100重量部に対するポリウレタンアクリレー
トの配合割合は30重量部以下とする。この値を越える
と塗膜が柔らかすぎてハード性がなくなってしまうから
である。
Particularly preferably, a mixture of a polyester acrylate and a polyurethane acrylate is used. The reason is that polyester acrylate has a very hard coating and is suitable for obtaining a hard coat.However, polyester acrylate alone has low impact resistance and becomes brittle, so that the coating has high impact resistance and flexibility. Polyurethane acrylate is used in combination to impart properties. The mixing ratio of the polyurethane acrylate to 100 parts by weight of the polyester acrylate is 30 parts by weight or less. If it exceeds this value, the coating film is too soft and loses the hard property.

【0042】さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂組成
物を紫外線硬化型樹脂組成物とするには、この中に光重
合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン
類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシ
ムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、
チオキサントン類や、光増感剤としてn−ブチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリーn−ブチルホスフィン等
を混合して用いることができる。特に本発明では、オリ
ゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジ
ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等を
混合するのが好ましい。
Furthermore, in order to make the above-mentioned ionizing radiation-curable resin composition into an ultraviolet-curable resin composition, acetophenones, benzophenones, Michler benzoyl benzoate, α-amyloxime are used as photopolymerization initiators. Esters, tetramethylthiuram monosulfide,
Thioxanthone and n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine and the like as a photosensitizer can be mixed and used. In particular, in the present invention, it is preferable to mix urethane acrylate as an oligomer and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate as a monomer.

【0043】ハードコート層に、特に、屈曲性を付与す
るためには、電離放射線硬化型樹脂100重量部に対し
溶剤乾燥型樹脂を10重量部以上100重量部以下含ま
せてもよい。前記溶剤乾燥型樹脂には、主として熱可塑
性樹脂が用いられる。電離放射線硬化型樹脂に添加する
溶剤乾燥型熱可塑性樹脂の種類は通常用いられるものが
使用されるが、特に、電離放射線硬化型樹脂にポリエス
テルアクリレートとポリウレタンアクリレートの混合物
を使用した場合には、使用する溶剤乾燥型樹脂にはポリ
メタクリル酸メチルアクリレート又はポリメタクリル酸
ブチルアクリレートが塗膜の硬度を高く保つことができ
る。しかも、この場合、主たる電離放射線硬化型樹脂と
の屈折率が近いので塗膜の透明性を損なわず、透明性、
特に、低ヘイズ値、高透過率、また相溶性の点において
有利である。
In order to impart flexibility to the hard coat layer, the solvent-drying resin may be contained in an amount of 10 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the ionizing radiation-curable resin. As the solvent drying type resin, a thermoplastic resin is mainly used. The type of the solvent-dried thermoplastic resin to be added to the ionizing radiation-curable resin is commonly used, but especially when a mixture of polyester acrylate and polyurethane acrylate is used for the ionizing radiation-curable resin. Polymethyl methacrylate or polybutyl methacrylate can keep the hardness of the coating film high as the solvent-drying type resin. Moreover, in this case, since the refractive index of the main ionizing radiation-curable resin is close, the transparency of the coating film is not impaired.
In particular, it is advantageous in terms of low haze value, high transmittance, and compatibility.

【0044】また、透明プラスチック基材フィルムとし
て、特にトリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂
を用いるときには、電離放射線硬化型樹脂に含ませる溶
剤乾燥型樹脂には、ニトロセルロース、アセチルセルロ
ース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒ
ドロキシエチルセルロース等のセルロース系樹脂が塗膜
の密着性及び透明性の点で有利である。
When a cellulosic resin such as triacetyl cellulose is used as the transparent plastic substrate film, nitrocellulose, acetyl cellulose, cellulose acetate propionate, etc. may be used as the solvent-drying resin contained in the ionizing radiation-curable resin. Cellulose resins such as acrylate and ethylhydroxyethylcellulose are advantageous in terms of adhesion and transparency of the coating film.

【0045】その理由は、上記のセルロース系樹脂に溶
媒としてトルエンを使用した場合、透明プラスチック基
材フィルムであるトリアセチルセルロースの非溶解性の
溶剤であるトルエンを用いるにもかかわらず、透明プラ
スチック基材フィルムにこの溶剤乾燥型樹脂を含む塗料
の塗布を行っても、透明プラスチック基材フィルムと塗
膜樹脂との密着性を良好にすることができ、しかもこの
トルエンは、透明プラスチック基材フィルムであるトリ
アセチルセルロースを溶解しないので、透明プラスチッ
ク基材フィルムの表面は白化せず、透明性が保たれる利
点があるからである。
The reason is that when toluene is used as a solvent for the above-mentioned cellulose-based resin, the transparent plastic base resin is used in spite of using toluene which is a solvent insoluble in triacetyl cellulose which is a transparent plastic base film. Even if the coating containing the solvent-drying resin is applied to the material film, the adhesion between the transparent plastic substrate film and the coating resin can be improved, and the toluene is used in the transparent plastic substrate film. This is because, since a certain triacetyl cellulose is not dissolved, the surface of the transparent plastic substrate film is not whitened, and there is an advantage that transparency is maintained.

【0046】ハードコート層にバインダー樹脂として電
離放射線硬化型樹脂が使用される場合には、その硬化方
法は通常の電離放射線硬化型樹脂の硬化方法、即ち、電
子線または紫外線の照射によって硬化することができ
る。例えば、電子線硬化の場合にはコックロフトワルト
ン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器
型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子
線加速器から放出される50〜1000KeV、好まし
くは100〜300KeVのエネルギーを有する電子線
等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高
圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアー
ク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等
が利用できる。
When an ionizing radiation-curable resin is used as a binder resin in the hard coat layer, the curing method is a usual method of curing an ionizing radiation-curable resin, that is, curing by irradiation with an electron beam or ultraviolet rays. Can be. For example, in the case of electron beam curing, 50 to 1000 KeV emitted from various electron beam accelerators such as Cockloft-Walton type, Bande graph type, Resonant transformation type, Insulating core transformer type, Linear type, Dynamitron type, High frequency type, Preferably, an electron beam or the like having an energy of 100 to 300 KeV is used. In the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays or the like emitted from light beams such as an ultra-high pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, and a metal halide lamp can be used. .

【0047】ハーフキュアー:本発明の透明機能性フィ
ルムの製造方法において、ハーフキュアーとは、次の
a.電離放射線硬化型樹脂半架橋型ハーフキュアー、
b.電離放射線硬化型樹脂・熱硬化型樹脂(又は熱可塑
性樹脂)ブレンド型ハーフキュアー、及びc.溶剤乾燥
型・ハーフキュア型複合ハーフキュアーが挙げられる。
Half Cure : In the method for producing a transparent functional film of the present invention, half cure is defined as a. Ionizing radiation curable resin semi-crosslinked half cure,
b. An ionizing radiation-curable resin / thermosetting resin (or thermoplastic resin) blend type half cure, and c. Solvent drying type / half cure type composite half cure may be mentioned.

【0048】a.電離放射線硬化型樹脂半架橋型ハーフ
キュアー 通常の電離放射線硬化型樹脂を用いて塗布し、塗膜に紫
外線又は電子線等の電離放射線の照射条件を調整して半
架橋を行うことにより形成されるハーフキュアーの状態
をいう。
A. Ionizing radiation-curable resin semi-crosslinked half-cured It is formed by applying a normal ionizing radiation-curable resin and performing semi-crosslinking by adjusting the irradiation conditions of ionizing radiation such as ultraviolet rays or electron beams on the coating film. It refers to the state of half cure.

【0049】b.電離放射線硬化型樹脂・熱硬化型樹脂
(又は熱可塑性樹脂)ブレンド型ハーフキュアー 電離放射線硬化型樹脂に、熱硬化型樹脂又は熱可塑性樹
脂を混合して樹脂組成物を塗布し、熱硬化型樹脂を用い
た場合、塗膜に熱を加えることにより形成されるハーフ
キュアーの状態をいう。
B. Ionizing radiation curable resin / thermosetting resin (or thermoplastic resin) blend type half cure Ionizing radiation curable resin is mixed with thermosetting resin or thermoplastic resin to apply resin composition and thermosetting resin In the case where is used, it refers to a half-cured state formed by applying heat to the coating film.

【0050】c.溶剤乾燥型・ハーフキュア型複合ハー
フキュアー 通常の電離放射線硬化型樹脂に溶剤を加えたものを塗布
し、溶剤を乾燥させることによって形成される塗膜に、
さらに電離放射線を照射してハーフキュアーする状態を
いう。このハーフキュアーの状態は、特開平1−202
49号公報に説明されている半硬化状態と同じである。
C. Solvent drying type, half-curing type composite half-curing A coating of a normal ionizing radiation-curable resin with a solvent applied to it, and drying of the solvent is applied to the coating film.
Further, it refers to a state in which half curing is performed by irradiation with ionizing radiation. The state of this half cure is described in JP-A-1-202.
This is the same as the semi-cured state described in JP-A-49-49.

【0051】指触乾燥状態:本発明の二番目の透明機能
性フィルムを製造するにあたっては、機能性超微粒子層
の一部をハードコート層から露出させる必要がある。そ
のためには、塗工されたハードコート層用樹脂組成物の
塗膜が指触乾燥状態のときにはその粘度が高いので、機
能性超微粒子層を接触させることにより、機能性超微粒
子層の全部がハードコート層内に完全に埋没せずに機能
性超微粒子層の一部が露出するようになる。また、ハー
ドコート層を指触乾燥状態とすることにより、このハー
ドコート層と機能性超微粒子層の密着性がよくなるとい
う利点がある。
Dry state to the touch : In producing the second transparent functional film of the present invention, it is necessary to expose a part of the functional ultrafine particle layer from the hard coat layer. For this purpose, when the applied coating film of the resin composition for a hard coat layer is in a touch-dry state, its viscosity is high, so that by contacting the functional ultrafine particle layer, all of the functional ultrafine particle layer is A part of the functional ultrafine particle layer is exposed without being completely buried in the hard coat layer. Further, by bringing the hard coat layer into a touch-dry state, there is an advantage that the adhesion between the hard coat layer and the functional ultrafine particle layer is improved.

【0052】このハードコート層用樹脂組成物の塗膜を
指触乾燥状態とするためには、指触乾燥性を有する電
離放射線硬化型樹脂を使用する方法、及び電離放射線
硬化型樹脂に粘着性を有する樹脂を混入する方法が挙げ
られる。
In order to make the coating film of the resin composition for a hard coat layer dry to the touch, a method of using an ionizing radiation-curable resin having dryness to the touch, and a method of using an adhesive to the ionizing radiation-curable resin And a method of mixing a resin having the following formula:

【0053】上記の指触乾燥性を有する電離放射線硬
化型樹脂を使用する方法には、例えば、次の(イ)、
(ロ)に示す指触乾燥性を有する電離放射線硬化型樹脂
を使用することができる。
The method of using the ionizing radiation-curable resin having dryness to the touch as described above includes, for example, the following (A)
An ionizing radiation-curable resin having a dryness to the touch shown in (b) can be used.

【0054】(イ)ガラス転移温度が0〜250℃のポ
リマー中にラジカル重合性不飽和基を有する樹脂。
(A) A resin having a radical polymerizable unsaturated group in a polymer having a glass transition temperature of 0 to 250 ° C.

【0055】具体的には次に列挙した単量体を重合又は
共重合させたものに対し、後述するa)〜d)の方法に
よりラジカル共重合性不飽和基を導入した樹脂である。
Specifically, it is a resin obtained by polymerizing or copolymerizing the following monomers and introducing a radical copolymerizable unsaturated group by the following methods a) to d).

【0056】水酸基を有する単量体:例えば、N−メチ
ロール(メタ)アクリルアミド、2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アク
リレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレー
ト等がある。
Monomers having a hydroxyl group: N-methylol (meth) acrylamide, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy And propyl (meth) acrylate.

【0057】カルボキシル基を有する単量体:例えば、
(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリロイルオキシエチ
ルモノサクシネート等がある。
Monomer having a carboxyl group: For example,
(Meth) acrylic acid, (meth) acryloyloxyethyl monosuccinate and the like.

【0058】エポキシ基を有する単量体:例えば、グリ
シジル(メタ)アクリレート等がある。
Monomer having an epoxy group: for example, glycidyl (meth) acrylate and the like.

【0059】アジリジニル基を有する単量体:2−アジ
リジニルエチル(メタ)アクリレート、2−アジリジニ
ルプロピオン酸アリル等がある。
Monomers having an aziridinyl group: 2-aziridinylethyl (meth) acrylate, allyl 2-aziridinylpropionate and the like.

【0060】アミノ基を有する単量体:(メタ)アクリ
ルアミド、ダイアセトン(メタ)アクリルアミド、ジメ
チルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミ
ノエチル(メタ)アクリレート等がある。
Monomers having an amino group: (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate and the like.

【0061】スルフォン基を有する単量体:2−(メ
タ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルフォン酸
等がある。
Monomers having a sulfone group: 2- (meth) acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid and the like.

【0062】イソシアネート基を有する単量体:2,4
−トルエンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレートの1モル対1モルの付加物などの
ジイソシアネートと活性水素を有するラジカル共重合体
の付加物等がある。
Monomer having isocyanate group: 2,4
-Adducts of a diisocyanate and a radical copolymer having active hydrogen, such as adducts of 1 mol to 1 mol of toluene diisocyanate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate.

【0063】さらに,共重合体のガラス転移温度を調節
したり、硬化膜の物性を調節したりするために、上記に
列挙した各単量体と次に示す化合物を共重合させること
ができる。このような共重合可能な単量体としては、例
えば、メチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)
アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチ
ル(メタ)アクリレート、gt−ブチル(メタ)アクリ
レート、イソアミル(メタ)アクリレート、シクロヘキ
シル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メ
タ)アクリレート等が挙げられる。
Further, in order to adjust the glass transition temperature of the copolymer or to adjust the physical properties of the cured film, the above-listed monomers and the following compounds can be copolymerized. Such copolymerizable monomers include, for example, methyl (meth) acrylate, propyl (meth)
Examples include acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, gt-butyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate.

【0064】上記の各単量体を重合、もしくは共重合さ
せたものに対して、次のa)〜d)の方法により、ラジ
カル重合性不飽和基を導入することによって、紫外線硬
化型樹脂又は電子線硬化型樹脂等の電離放射線硬化型樹
脂が得られる。
By introducing a radical polymerizable unsaturated group into the polymerized or copolymerized monomer described above by the following methods a) to d), an ultraviolet curable resin or An ionizing radiation curable resin such as an electron beam curable resin is obtained.

【0065】a)水酸基を有する単量体の重合体または
共重合体の場合には、(メタ)アクリル酸等のカルボキ
シル基を有する単量体などを縮合反応させる。
A) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a hydroxyl group, a monomer having a carboxyl group such as (meth) acrylic acid is subjected to a condensation reaction.

【0066】b)カルボキシル基、スルフォン基を有す
る単量体の重合体又は共重合体の場合には、前述の水酸
基を有する単量体を縮合反応させる。
B) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a carboxyl group or a sulfone group, the above-mentioned monomer having a hydroxyl group is subjected to a condensation reaction.

【0067】c)エポキシ基、イソシアネート基又はア
ジリジニル基を有する単量体の重合体又は共重合体の場
合には、前述の水酸基を有する単量体又はカルボキシル
基を有する単量体を付加反応させる。
C) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having an epoxy group, an isocyanate group or an aziridinyl group, the above-mentioned monomer having a hydroxyl group or monomer having a carboxyl group is subjected to an addition reaction. .

【0068】d)水酸基又はカルボキシル基を有する単
量体の重合体又は共重合体の場合には、エポキシ基を有
する単量体又はアジリジニル基を有する単量体又はジイ
ソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステル単
量体の1モル対1モルの付加物を付加反応させる。
D) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a hydroxyl group or a carboxyl group, a monomer having an epoxy group or a monomer having an aziridinyl group or a diisocyanate compound and a hydroxyl group-containing acrylate One mole to one mole of the adduct of the monomer is subjected to an addition reaction.

【0069】上記反応を行うには、微量のハイドロキノ
ンなどの重合禁止剤を加え、乾燥空気を送りながら行う
ことが望ましい。
To carry out the above reaction, it is desirable to add a trace amount of a polymerization inhibitor such as hydroquinone and to carry out the reaction while sending dry air.

【0070】(ロ)融点が常温(20℃)〜250℃で
あり、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂。
(B) A resin having a melting point of room temperature (20 ° C.) to 250 ° C. and having a radically polymerizable unsaturated group.

【0071】具体的には、ステアリルアクリレート、ス
テアリル(メタ)アクリレート、トリアクリルイソシア
ネート、シクロヘキサンジオール(メタ)アクリレー
ト、スピログリコールジアクリレート、スピログリコー
ル(メタ)アクリレート等がある。
Specific examples include stearyl acrylate, stearyl (meth) acrylate, triacryl isocyanate, cyclohexanediol (meth) acrylate, spiroglycol diacrylate, spiroglycol (meth) acrylate, and the like.

【0072】上記のの電離放射線硬化型樹脂に粘着性
を有する樹脂を混入する方法に使用される粘着性を有す
る樹脂は、電離放射線硬化型樹脂に粘性を付与するもの
である。一般的には、粘着剤と電離放射線硬化型樹脂と
の混合物から形成することできるが、電離放射線硬化型
樹脂が未架橋状態で液状ではなく且つ粘着性を有してい
ればそのまま使用することができる。特に、塗膜の硬度
を高く保つためにはポリメチルメタクリレート、ポリブ
チルメタクリレート等の熱可塑性樹脂が、電離放射線硬
化型樹脂への粘性の付与のために好適に使用できる。
The adhesive resin used in the method of mixing the adhesive resin into the ionizing radiation-curable resin gives the ionizing radiation-curable resin a viscosity. Generally, it can be formed from a mixture of an adhesive and an ionizing radiation-curable resin, but if the ionizing radiation-curable resin is not liquid in an uncrosslinked state and has tackiness, it can be used as it is. it can. In particular, in order to keep the hardness of the coating film high, a thermoplastic resin such as polymethyl methacrylate or polybutyl methacrylate can be suitably used for imparting viscosity to the ionizing radiation-curable resin.

【0073】その他、電離放射線硬化型樹脂への粘性付
与に適した樹脂には、従来公知の粘着テープや粘着シー
ルに使用されているものでもよく、例えば、ポリイソプ
レンゴム、ポリイソブチレンゴム、スチレンブタジエン
ゴム、ブタジエンアクリロニトリルゴム等のゴム系樹
脂、(メタ)アクリル酸エステル系樹脂、ポリビニルエ
ーテル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニル
/酢酸ビニル共重合系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ
アミド系樹脂、ポリ塩素化オレフィン系樹脂、ポリビニ
ルブチラール樹脂等に適当な粘着付与剤、例えば、ロジ
ン、ダンマル、重合ロジン、部分水添ロジン、エステル
ロジン、ポリテルペン系樹脂、テルペン変性体、石油系
樹脂、シクロペンタジエン系樹脂、フェノール系樹脂、
クマロン−インデン系樹脂を適宜添加したもの、さらに
必要に応じて軟化剤、充填剤、老化防止剤等を添加した
ものが挙げられる。
Other resins suitable for imparting viscosity to the ionizing radiation-curable resin may be those conventionally used for adhesive tapes and adhesive seals, such as polyisoprene rubber, polyisobutylene rubber, and styrene butadiene. Rubber, rubber resins such as butadiene acrylonitrile rubber, (meth) acrylate resin, polyvinyl ether resin, polyvinyl acetate resin, polyvinyl chloride / vinyl acetate copolymer resin, polystyrene resin, polyamide resin, Tackifiers suitable for polychlorinated olefin resins, polyvinyl butyral resins, etc., for example, rosin, dammar, polymerized rosin, partially hydrogenated rosin, ester rosin, polyterpene resin, modified terpene, petroleum resin, cyclopentadiene Resin, phenolic resin,
Examples thereof include those to which a coumarone-indene-based resin is appropriately added, and those to which a softener, a filler, an antioxidant, and the like are further added as necessary.

【0074】電離放射線硬化型樹脂に対する粘着性を有
する樹脂の混合割合は、電離放射線硬化型樹脂が100
重量部に対して、50重量部以下とすることが、塗膜を
指触乾燥状態とする目的のためには好ましい。
The mixing ratio of the resin having adhesiveness to the ionizing radiation-curable resin is such that the ionizing radiation-curable resin is 100%.
It is preferable that the content be 50 parts by weight or less with respect to parts by weight for the purpose of bringing the coating film into a touch-dry state.

【0075】反射防止フィルム及びその製造方法:本発
明の反射防止フィルムには、機能性超微粒子として低屈
折率超微粒子を使用したもの2種類と、機能性超微粒子
として高屈折率超微粒子を使用したもの2種類、計四種
類のものがある。
Antireflection Film and Method for Producing the Same : Two types of antireflection films of the present invention using low refractive index ultrafine particles as functional ultrafine particles, and high refractive index ultrafine particles as functional ultrafine particles There are two types, four types.

【0076】本発明の第一番目の反射防止フィルムは、
空気層との界面からハードコート層の内部にかけて低屈
折率超微粒子が極在化して固定されているハードコート
層が、透明プラスチック基材フィルム上に固定され、前
記ハードコート層の屈折率は、前記低屈折率超微粒子の
屈折率よりも高いことを特徴とする。この反射防止フィ
ルムは、図1に示される透明機能性フィルムにおいて、
機能性超微粒子が低屈折率超微粒子である場合に相当す
る。
The first antireflection film of the present invention comprises:
A hard coat layer in which the low refractive index ultrafine particles are localized and fixed from the interface with the air layer to the inside of the hard coat layer is fixed on a transparent plastic substrate film, and the refractive index of the hard coat layer is The low refractive index ultrafine particles are higher in refractive index. This antireflection film is a transparent functional film shown in FIG.
This corresponds to the case where the functional ultrafine particles are low refractive index ultrafine particles.

【0077】本発明の第二番目の反射防止フィルムは、
空気層との界面からハードコート層の内部にかけて低屈
折率超微粒子が極在化して固定され且つ該低屈折率超微
粒子の一部が該ハードコート層の表面から露出してなる
ハードコート層が、透明プラスチック基材フィルム上に
固定され、前記ハードコート層の屈折率は、前記低屈折
率超微粒子の屈折率よりも高いことを特徴とする。この
反射防止フィルムは、図2に示される透明機能性フィル
ムにおいて、機能性超微粒子が低屈折率超微粒子である
場合に相当する。
The second antireflection film of the present invention comprises:
A hard coat layer in which the low refractive index ultrafine particles are localized and fixed from the interface with the air layer to the inside of the hard coat layer and a part of the low refractive index ultrafine particles are exposed from the surface of the hard coat layer is formed. Fixed on a transparent plastic substrate film, wherein the refractive index of the hard coat layer is higher than the refractive index of the low refractive index ultrafine particles. This antireflection film corresponds to the case where the functional ultrafine particles are low refractive index ultrafine particles in the transparent functional film shown in FIG.

【0078】本発明の第三番目の反射防止フィルムは、
ハードコート層の表面から内部にかけて高屈折率超微粒
子が極在化して固定されているハードコート層が、該ハ
ードコート層の裏面において透明プラスチック基材フィ
ルム上に固定され、前記高屈折率超微粒子が極在化して
いる前記ハードコート層の表面上に、さらに低屈折率層
が形成されており、前記ハードコート層の屈折率は、前
記高屈折率超微粒子の屈折率より低いことを特徴とす
る。この反射防止フィルムは、図9に示される透明機能
性フィルムにおいて、機能性超微粒子が高屈折率超微粒
子である場合に相当する。
The third antireflection film of the present invention comprises:
The hard coat layer in which the high refractive index ultrafine particles are poled and fixed from the surface to the inside of the hard coat layer is fixed on a transparent plastic substrate film on the back surface of the hard coat layer, and the high refractive index ultrafine particles are fixed. Wherein a low refractive index layer is further formed on the surface of the hard coat layer that is localized, and the refractive index of the hard coat layer is lower than the refractive index of the high refractive index ultrafine particles. I do. This antireflection film corresponds to the case where the functional ultrafine particles are high refractive index ultrafine particles in the transparent functional film shown in FIG.

【0079】本発明の第四番目の反射防止フィルムは、
ハードコート層の表面から内部にかけて高屈折率超微粒
子が極在化して固定され且つ該高屈折率超微粒子の一部
が該ハードコート層の表面から露出してなるハードコー
ト層が、透明プラスチック基材フィルム上に固定され、
前記高屈折率超微粒子が極在化し、且つ該高屈折率超微
粒子の一部が該ハードコート層の表面から露出している
方の前記ハードコート層の表面上に、さらに低屈折率層
が形成されており、前記ハードコート層の屈折率は、前
記高屈折率超微粒子の屈折率より低いことを特徴とす
る。この反射防止フィルムは、図12に示される透明機
能性フィルムにおいて、機能性超微粒子が高屈折率超微
粒子である場合に相当する。
The fourth antireflection film of the present invention comprises:
The hard coat layer, in which the high refractive index ultrafine particles are localized and fixed from the surface to the inside of the hard coat layer and a part of the high refractive index ultrafine particles are exposed from the surface of the hard coat layer, is formed of a transparent plastic base. Fixed on the material film,
On the surface of the hard coat layer where the high refractive index ultrafine particles are localized and a part of the high refractive index ultrafine particles are exposed from the surface of the hard coat layer, a low refractive index layer is further formed. And wherein the refractive index of the hard coat layer is lower than the refractive index of the high refractive index ultrafine particles. This antireflection film corresponds to the case where the functional ultrafine particles are high refractive index ultrafine particles in the transparent functional film shown in FIG.

【0080】本発明の一番目の反射防止フィルムの製造
方法は、前記した一番目の透明機能性フィルムを製造す
るための一番目の製造方法において、機能性超微粒子に
低屈折率超微粒子を使用し、ハードコート層用樹脂組成
物に前記低屈折率超微粒子の屈折率よりも高い屈折率を
持つハードコート層用樹脂組成物を使用した点に特徴を
有する。
The first method for producing an anti-reflection film according to the present invention is the same as the first method for producing the first transparent functional film, wherein the low refractive index ultrafine particles are used as the functional ultrafine particles. The present invention is characterized in that a resin composition for a hard coat layer having a refractive index higher than that of the ultrafine particles having a low refractive index is used for the resin composition for a hard coat layer.

【0081】本発明の二番目の反射防止フィルムの製造
方法は、前記した二番目の透明機能性フィルムの製造方
法において、機能性超微粒子に低屈折率超微粒子を使用
し、ハードコート層用樹脂組成物に前記低屈折率超微粒
子の屈折率よりも高い屈折率を持つハードコート層用樹
脂組成物を使用した点に特徴を有する。
The second method for producing an antireflection film according to the present invention is the same as the method for producing a transparent functional film described above, except that the low refractive index ultrafine particles are used as the functional ultrafine particles, It is characterized in that a resin composition for a hard coat layer having a refractive index higher than the refractive index of the low refractive index ultrafine particles is used for the composition.

【0082】本発明の三番目の反射防止フィルムを製造
するための一番目の製造方法は、(1)離型フィルム上
に高屈折率超微粒子層を形成し、(2)一方、透明プラ
スチック基材フィルム上に、前記高屈折率超微粒子層の
屈折率より低い屈折率を持つハードコート層用樹脂組成
物を塗工し、(3)前記ハードコート層用樹脂組成物が
溶剤で希釈されている場合には溶剤乾燥した後に、前記
ハードコート層用樹脂組成物が溶剤を含有していない場
合にはそのままで、前記工程で得られた離型フィルムの
高屈折率超微粒子層側の面と、前記工程で得られた透明
プラスチック基材フィルムのハードコート層用樹脂組成
物側の面を圧着してラミネートして、高屈折率超微粒子
層をハードコート層用樹脂組成物中に埋没させるか又は
高屈折率超微粒子層の一部を埋没させ、(4)前記工程
で得られたラミネート物をフルキュアーさせてハードコ
ート層を形成した後、離型フィルムを剥離して高屈折率
超微粒子層を透明プラスチック基材フィルム側に転写
し、(5)次いで、前記ハードコート層上に低屈折率層
を形成することを特徴とする。
The first method for producing the third anti-reflection film of the present invention comprises (1) forming a high refractive index ultrafine particle layer on a release film, and (2) forming a transparent plastic substrate. On the material film, the high refractive index ultrafine particle layer
Coating the resin composition for a hard coat layer having a refractive index lower than the refractive index, and (3) drying the solvent when the resin composition for a hard coat layer is diluted with a solvent, and then drying the hard coat layer. When the resin composition for solvent does not contain a solvent as it is, the surface of the release film obtained in the step on the high refractive index ultrafine particle layer side, the transparent plastic substrate film obtained in the step The surface on the resin composition side for the hard coat layer is pressed and laminated, and the high refractive index ultrafine particle layer is buried in the resin composition for the hard coat layer or a part of the high refractive index ultrafine particle layer is buried. (4) After the cured product obtained in the above step is fully cured to form a hard coat layer, the release film is peeled off, and the high refractive index ultrafine particle layer is transferred to the transparent plastic substrate film side, 5) Then, And forming a low refractive index layer on the serial hard coat layer.

【0083】また、本発明の三番目の反射防止フィルム
を製造するための一番目の製造方法の変法は、(1)離
型フィルム上に高屈折率超微粒子層を形成し、(2)一
方、透明プラスチック基材フィルム上に、前記高屈折率
超微粒子層の屈折率より低い屈折率を持つハードコート
層用樹脂組成物を塗工し、(3)前記ハードコート層用
樹脂組成物が溶剤で希釈されている場合には溶剤乾燥し
た後に、前記ハードコート層用樹脂組成物が溶剤を含有
していない場合にはそのままで、前記工程で得られた離
型フィルムの高屈折率超微粒子層側の面と、前記工程で
得られた透明プラスチック基材フィルムのハードコート
層用樹脂組成物側の面を圧着してラミネートして、高屈
折率超微粒子層をハードコート層用樹脂組成物中に埋没
させるか又は高屈折率超微粒子層の一部を埋没させ、
(4)前記工程で得られたラミネート物をハーフキュア
ーさせてハードコート層を形成した後、離型フィルムを
剥離して高屈折率超微粒子層を透明プラスチック基材フ
ィルム側に転写し、(5)ハーフキュアーされた前記ハ
ードコート層上に、低屈折率層を形成し、(6)次い
で、前記ハードコート層をフルキュアーさせることを特
徴とする。
Further, a modification of the first production method for producing the third antireflection film of the present invention is as follows: (1) forming a high refractive index ultrafine particle layer on a release film; On the other hand, a resin composition for a hard coat layer having a refractive index lower than the refractive index of the high refractive index ultrafine particle layer is coated on a transparent plastic substrate film, and (3) the resin composition for a hard coat layer is When the solvent composition is diluted with a solvent, after drying the solvent, if the resin composition for a hard coat layer does not contain a solvent, the resin composition remains as it is, and the high refractive index ultrafine particles of the release film obtained in the step are obtained. The layer side surface and the hard coat layer resin composition side surface of the transparent plastic substrate film obtained in the above step are pressure-bonded and laminated to form a high refractive index ultrafine particle layer for the hard coat layer resin composition. Buried inside or highly bent Is buried a portion of the rate ultrafine particle layer,
(4) After half-curing the laminate obtained in the above step to form a hard coat layer, the release film is peeled off, and the high refractive index ultrafine particle layer is transferred to the transparent plastic substrate film side. A) forming a low refractive index layer on the half-cured hard coat layer; and (6) fully curing the hard coat layer.

【0084】本発明の三番目の反射防止フィルムを製造
するための二番目の製造方法は、(1)離型フィルム上
に高屈折率超微粒子層を形成し、(2)該高屈折率超微
粒子層上に、高屈折率超微粒子層の屈折率より低い屈折
率を持つハードコート層用樹脂組成物を高屈折率超微粒
子層の膜厚以上となるように塗工して、高屈折率超微粒
子層をハードコート層用樹脂中に埋没させるか又は高屈
折率層超微粒子層の一部を埋没させ、フルキュアーさせ
てハードコート層を形成し、(3)該ハードコート層が
形成された離型フィルムのハードコート層側を内側に
し、接着剤層を介して、透明プラスチック基材フィルム
とラミネートし、(4)前記工程で得られたラミネート
物から離型フィルムを剥離してハードコート層を透明プ
ラスチック基材フィルム側に転写し、(5)次いで、前
記ハードコート層上に低屈折率層を形成することを特徴
とする。
The second production method for producing the third antireflection film of the present invention comprises the steps of (1) forming a high refractive index ultrafine particle layer on a release film, and (2) forming the high refractive index ultrafine particle layer. On the fine particle layer, a resin composition for a hard coat layer having a refractive index lower than the refractive index of the high refractive index ultrafine particle layer is applied so as to have a film thickness of the high refractive index ultrafine particle layer or more. The ultrafine particle layer is buried in the resin for the hard coat layer, or a part of the high refractive index layer ultrafine particle layer is buried and fully cured to form a hard coat layer. (3) The hard coat layer is formed. With the hard coat layer side of the release film facing inside, a transparent plastic substrate film is laminated via an adhesive layer, and (4) the release film is peeled from the laminate obtained in the above step to form a hard coat. Layer on a transparent plastic substrate Transferred to arm side, (5) then, and forming a low refractive index layer on the hard coat layer.

【0085】また、本発明の三番目の反射防止フィルム
を製造するための二番目の製造方法の変法は、(1)離
型フィルム上に高屈折率超微粒子層を形成し、(2)該
高屈折率超微粒子層上に、高屈折率超微粒子層の屈折率
より低い屈折率を持つハードコート層用樹脂組成物を高
屈折率超微粒子層の膜厚以上となるように塗工して、高
屈折率超微粒子層をハードコート層用樹脂中に埋没させ
るか又は高屈折率層超微粒子層の一部を埋没させ、ハー
フキュアーさせてハードコート層を形成し、(3)該ハ
ードコート層が形成された離型フィルムのハードコート
層側を内側にし、接着剤層を介して、透明プラスチック
基材フィルムとラミネートし、(4)前記工程で得られ
たラミネート物から離型フィルムを剥離してハードコー
ト層を透明プラスチック基材フィルム側に転写し、
(5)ハーフキュアーされた前記ハードコート層上に低
屈折率層を形成し、(6)前記ハードコート層をフルキ
ュアーさせることを特徴とする。
Further, the second modification of the second method for producing the antireflection film of the present invention is as follows: (1) forming a high refractive index ultrafine particle layer on a release film; the high-refractive index ultrafine particles layer, the refractive index of the high refractive index ultrafine particles layer
Applying a resin composition for a hard coat layer having a lower refractive index so as to be not less than the thickness of the high refractive index ultrafine particle layer, and burying the high refractive index ultrafine particle layer in the resin for the hard coat layer. Alternatively, a part of the high-refractive-index layer ultrafine particle layer is buried and half-cured to form a hard coat layer, and (3) the hard coat layer side of the release film on which the hard coat layer is formed is set to the inner side and adhered. (4) peeling off the release film from the laminate obtained in the above step, and transferring the hard coat layer to the transparent plastic substrate film side,
(5) A low refractive index layer is formed on the half-cured hard coat layer, and (6) the hard coat layer is fully cured.

【0086】本発明の三番目の反射防止フィルムを製造
するための三番目の製造方法は、(1)離型フィルム上
に高屈折率超微粒子層を形成し、(2)該高屈折率超微
粒子層上に、高屈折率超微粒子層の屈折率より低い屈折
率を持つハードコート層用樹脂組成物を高屈折率超微粒
子層の膜厚以上となるように塗工して、高屈折率超微粒
子層をハードコート層用樹脂中に埋没させるか又は高屈
折率層超微粒子層の一部を埋没させ、(3)該ハードコ
ート層用樹脂組成物が塗工された前記離型フィルムのハ
ードコート層用樹脂組成物の側を内側にして透明プラス
チック基材フィルムとラミネートし、フルキュアーさせ
てハードコート層を形成し、(4)前記工程で得られた
ラミネート物から離型フィルムを剥離してハードコート
層を透明プラスチック基材フィルム側に転写し、(5)
次いで、前記ハードコート層上に低屈折率層を形成する
ことを特徴とする。
The third production method for producing the third antireflection film of the present invention comprises the steps of (1) forming a high refractive index ultrafine particle layer on a release film; On the fine particle layer, a resin composition for a hard coat layer having a refractive index lower than the refractive index of the high refractive index ultrafine particle layer is applied so as to have a film thickness of the high refractive index ultrafine particle layer or more. The ultrafine particle layer is buried in the resin for the hard coat layer, or a part of the ultrafine particle layer of the high refractive index layer is buried in the resin for the hard coat layer. The resin composition for the hard coat layer is laminated with a transparent plastic substrate film with the side facing inward, and the composition is fully cured to form a hard coat layer. (4) The release film is peeled from the laminate obtained in the above step To make the hard coat layer transparent plastic Transferred to click the side of the substrate film (5)
Next, a low refractive index layer is formed on the hard coat layer.

【0087】また、本発明の三番目の反射防止フィルム
を製造するための三番目の製造方法の変法は、(1)離
型フィルム上に高屈折率超微粒子層を形成し、(2)該
高屈折率超微粒子層上に、高屈折率超微粒子層の屈折率
より低い屈折率を持つハードコート層用樹脂組成物を高
屈折率超微粒子層の膜厚以上となるように塗工して、高
屈折率超微粒子層をハードコート層用樹脂中に埋没させ
るか又は高屈折率層超微粒子層の一部を埋没させ、
(3)該ハードコート層用樹脂組成物が塗工された前記
離型フィルムのハードコート層用樹脂組成物の側を内側
にして透明プラスチック基材フィルムとラミネートし、
ハーフキュアーさせてハードコート層を形成し、(4)
前記工程で得られたハーフキュアーラミネート物から離
型フィルムを剥離してハードコート層を透明プラスチッ
ク基材フィルム側に転写し、(5)ハーフキュアーされ
た前記ハードコート層上に低屈折率層を形成し、(6)
前記ハードコート層をフルキュアーさせることを特徴と
する。
Further, a modification of the third production method for producing the third antireflection film of the present invention is as follows: (1) forming a high refractive index ultrafine particle layer on a release film; the high-refractive index ultrafine particles layer, the refractive index of the high refractive index ultrafine particles layer
Applying a resin composition for a hard coat layer having a lower refractive index so as to be not less than the thickness of the high refractive index ultrafine particle layer, and burying the high refractive index ultrafine particle layer in the resin for the hard coat layer. Or buried a part of the high refractive index layer ultrafine particle layer,
(3) laminating the release film coated with the hard coat layer resin composition with a transparent plastic substrate film with the hard coat layer resin composition side facing in;
Half-cure to form a hard coat layer, (4)
The release film is peeled from the half-cured laminate obtained in the above step, and the hard coat layer is transferred to the transparent plastic substrate film side. (5) A low refractive index layer is formed on the half-cured hard coat layer. Forming (6)
The hard coat layer is fully cured.

【0088】上記の反射防止フィルムの各製造方法にお
いて、特に、高屈折率超微粒子がハードコート層中に完
全に埋没しておらず、高屈折率超微粒子の一部がハード
コート層から露出している反射防止フィルム(本発明の
四番目の反射防止フィルム)を製造するためには、ハー
ドコート層用樹脂の粘度を上げ、該樹脂の種類を選択
し、該樹脂の表面張力を大きいものを選択し、さらに
は、高屈折率超微粒子の粒径、該超微粒子の充填率、ハ
ードコート層用樹脂と高屈折率超微粒子との濡れ性等を
考慮することによって、製造することができる。
In each of the above methods for producing an antireflection film, particularly, the high refractive index ultrafine particles are not completely buried in the hard coat layer, and a part of the high refractive index ultrafine particles is exposed from the hard coat layer. In order to manufacture the anti-reflection film (the fourth anti-reflection film of the present invention), increase the viscosity of the resin for the hard coat layer, select the type of the resin, and increase the surface tension of the resin. It can be produced by selecting and further considering the particle diameter of the high refractive index ultrafine particles, the filling rate of the ultrafine particles, the wettability between the resin for the hard coat layer and the high refractive index ultrafine particles, and the like.

【0089】本発明の四番目の反射防止フィルムを製造
するための製造方法の一例としては、(1)離型フィル
ム上に高屈折率超微粒子層を形成し、(2)一方、透明
プラスチック基材フィルム上に、前記高屈折率超微粒子
層の屈折率より低い屈折率を持つハードコート層用樹脂
組成物を塗工し、(3)該ハードコート層用樹脂組成物
の塗膜が指触乾燥状態のときに、前記工程で得られた離
型フィルムの高屈折率超微粒子層側の面と、前記工程で
得られた透明プラスチック基材フィルムの塗工側の面を
圧着してラミネートして、高屈折率超微粒子層の一部を
ハードコート層用樹脂組成物中に埋没させ、(4)前記
工程で得られたラミネート物をフルキュアーさせてハー
ドコート層を形成した後、離型フィルムを剥離して高屈
折率超微粒子層を透明プラスチック基材フィルム側に転
写し、(5)次いで、前記ハードコート層から一部露出
している前記高屈折率超微粒子層上に低屈折率層を形成
する方法が挙げられる。
Examples of the production method for producing the fourth antireflection film of the present invention include (1) forming a high refractive index ultrafine particle layer on a release film, and (2) forming a transparent plastic A resin composition for a hard coat layer having a refractive index lower than the refractive index of the high refractive index ultrafine particle layer is coated on a material film, and (3) a coating film of the resin composition for a hard coat layer is touched. When in the dry state, the surface on the high refractive index ultrafine particle layer side of the release film obtained in the above step and the surface on the coating side of the transparent plastic substrate film obtained in the above step are laminated by pressing. Then, a part of the high-refractive-index ultrafine particle layer is buried in the resin composition for a hard coat layer, and (4) the laminate obtained in the above step is fully cured to form a hard coat layer. Remove the film to form a high refractive index ultrafine particle layer. And transferred to a light plastic base film side, (5) Next, a method of forming a low refractive index layer and the like on the high refractive index ultrafine particles layer exposed in part from the hard coat layer.

【0090】また、本発明の四番目の反射防止フィルム
を製造するための別の製造方法の一例は、(1)離型フ
ィルム上に高屈折率超微粒子層を形成し、(2)一方、
透明プラスチック基材フィルム上に、前記高屈折率超微
粒子層の屈折率より低い屈折率を持つハードコート層用
樹脂組成物を塗工し、(3)該ハードコート層用樹脂組
成物の塗膜が指触乾燥状態のときに、前記工程で得られ
た離型フィルムの高屈折率超微粒子層側の面と、前記工
程で得られた透明プラスチック基材フィルムの塗工側の
面を圧着してラミネートして、高屈折率超微粒子層の一
部をハードコート層用樹脂組成物中に埋没させ、(4)
前記工程で得られたラミネート物をハーフキュアーさせ
てハードコート層を形成した後、離型フィルムを剥離し
て高屈折率超微粒子層を透明プラスチック基材フィルム
側に転写し、(5)前記ハードコート層から一部露出し
ている前記高屈折率超微粒子層上に低屈折率層を形成
し、(6)次いで、フルキュアーさせる方法が挙げられ
る。
Further, another example of the production method for producing the fourth antireflection film of the present invention is as follows: (1) forming a high refractive index ultrafine particle layer on a release film;
A resin composition for a hard coat layer having a refractive index lower than the refractive index of the high refractive index ultrafine particle layer is applied on a transparent plastic substrate film, and (3) a coating film of the resin composition for a hard coat layer When in the dry to the touch state, the surface on the high refractive index ultrafine particle layer side of the release film obtained in the above step and the surface on the coating side of the transparent plastic substrate film obtained in the above step are pressed. And laminating a part of the high refractive index ultrafine particle layer in the resin composition for the hard coat layer, and (4)
After the laminate obtained in the above step is half-cured to form a hard coat layer, the release film is peeled off, and the high refractive index ultrafine particle layer is transferred to the transparent plastic substrate film side. A method of forming a low-refractive-index layer on the high-refractive-index ultrafine particle layer partially exposed from the coat layer, and (6) then performing a full cure.

【0091】本発明の反射防止フィルムの製造方法にお
いて、ハードコート層上に低屈折率層を塗装或いは気相
法によって形成する場合に、ハーフキュアーされたハー
ドコート層上に形成し、その後フルキュアーを行うと、
低屈折率層の密着性がよくなるという利点がある。な
お、ハーフキュアーについては、透明機能性フィルムに
おいて説明したものと同様である。
In the method for producing an antireflection film of the present invention, when a low refractive index layer is formed on a hard coat layer by painting or a vapor phase method, the low refractive index layer is formed on a half-cured hard coat layer. When you do
There is an advantage that the adhesion of the low refractive index layer is improved. The half cure is the same as that described for the transparent functional film.

【0092】反射防止フィルムにおける高屈折率超微粒
子層:本発明の反射防止フィルムにおける高屈折率超微
粒子層に使用される高屈折率超微粒子には、例えば、Z
nO(屈折率1.90)、TiO2 (屈折率2.3〜
2.7)、CeO2 (屈折率1.95)、Sb2
5 (屈折率1.71)、SnO2 、ITO(屈折率1.
95)、Y2 3 (屈折率1.87)、La2 3 (屈
折率1.95)、ZrO2 (屈折率2.05)、Al2
3 (屈折率1.63)等が挙げられる。これらの高屈
折率超微粒子のうち、ZnO、TiO2 、CeO2 等を
用いることにより、本発明の反射防止フィルムにUV遮
蔽効果がさらに付与されるので好ましい。また、アンチ
モンがドープされたSnO2 或いはITOを用いること
により、電子伝導性が向上し、帯電防止効果によるホコ
リの付着防止、或いは本発明の反射防止フィルムをCR
Tに用いた場合の電磁波シールド効果が得られるので好
ましい。高屈折率超微粒子の粒径は、ハードコート層を
透明とするためには400nm以下であることが好まし
い。
High refractive index ultrafine particles in antireflection film
Sublayer : The high refractive index ultrafine particles used for the high refractive index ultrafine particle layer in the antireflection film of the present invention include, for example, Z
nO (refractive index 1.90), TiO 2 (refractive index 2.3 to
2.7), CeO 2 (refractive index: 1.95), Sb 2 O
5 (refractive index 1.71), SnO 2 , ITO (refractive index 1.71)
95), Y 2 O 3 (refractive index 1.87), La 2 O 3 (refractive index 1.95), ZrO 2 (refractive index 2.05), Al 2
O 3 (refractive index 1.63) and the like. It is preferable to use ZnO, TiO 2 , CeO 2, or the like among these high refractive index ultrafine particles, since a UV shielding effect is further provided to the antireflection film of the present invention. Further, by using SnO 2 or ITO doped with antimony, the electron conductivity is improved, and the adhesion of dust due to the antistatic effect is prevented, or the antireflection film of the present invention is replaced with CR.
This is preferable because an electromagnetic wave shielding effect when used for T is obtained. The particle size of the high refractive index ultrafine particles is preferably 400 nm or less in order to make the hard coat layer transparent.

【0093】反射防止フィルムにおける低屈折率超微粒
子層:本発明の反射防止フィルムにおける低屈折率超微
粒子層に使用される低屈折率超微粒子には、例えば、L
iF(屈折率1.4)、MgF2 (屈折率1.4)、3
NaF・AlF3 (屈折率1.4)、AlF3 (屈折率
1.4)、Na3 AlF6 (氷晶石、屈折率1.3
3)、SiOX (x:1.50≦x≦2.00)(屈折
率1.35〜1.48)等の無機材料が使用される。
Low refractive index ultrafine particles in antireflection film
Sublayer : The low-refractive-index ultrafine particles used in the low-refractive-index ultrafine particle layer in the antireflection film of the present invention include, for example, L
iF (refractive index 1.4), MgF 2 (refractive index 1.4), 3
NaF.AlF 3 (refractive index 1.4), AlF 3 (refractive index 1.4), Na 3 AlF 6 (cryolites, refractive index 1.3)
3) Inorganic materials such as SiO x (x: 1.50 ≦ x ≦ 2.00) (refractive index: 1.35 to 1.48) are used.

【0094】反射防止フィルムにおける低屈折率層:本
発明の反射防止フィルムにおいて、高屈折率超微粒子が
極在化している方のハードコート層の表面上に、さらに
低屈折率層が設けられている。この低屈折率層の屈折率
は、ハードコート層及び高屈折率微粒子層の屈折率より
も低い。この低屈折率層の屈折率nL は、ハードコート
層の屈折率nH に比べて低い範囲のものであることは勿
論であるが、下記の式(1)
Low refractive index layer in antireflection film : In the antireflection film of the present invention, a low refractive index layer is further provided on the surface of the hard coat layer where the high refractive index ultrafine particles are localized. I have. The low refractive index layer has a lower refractive index than the hard coat layer and the high refractive index fine particle layer. The refractive index n L of this low refractive index layer is, of course, in a range lower than the refractive index n H of the hard coat layer.

【0095】[0095]

【数1】 に近づく程、反射防止効果は向上するので、上記式
(1)の条件に近づけることが望ましい。
(Equation 1) , The antireflection effect is improved, so that it is desirable to approach the condition of the above equation (1).

【0096】低屈折率層の形成に使用される低屈折率材
料は上記条件を満足するものであればどのような材料で
もよく、無機材料、有機材料が使用できる。
The low-refractive-index material used for forming the low-refractive-index layer may be any material as long as it satisfies the above conditions, and inorganic and organic materials can be used.

【0097】低屈折率無機材料としては、例えば、Li
F(屈折率1.4)、MgF2 (屈折率1.4)、3N
aF・AlF3 (屈折率1.4)、AlF3 (屈折率
1.4)、Na3 AlF6 (氷晶石、屈折率1.3
3)、SiOX (x:1.50≦x≦2.00)(屈折
率1.35〜1.48)等の無機材料が使用される。
As the low refractive index inorganic material, for example, Li
F (refractive index 1.4), MgF 2 (refractive index 1.4), 3N
aF · AlF 3 (refractive index 1.4), AlF 3 (refractive index 1.4), Na 3 AlF 6 (cryolites, refractive index 1.3)
3) Inorganic materials such as SiO x (x: 1.50 ≦ x ≦ 2.00) (refractive index: 1.35 to 1.48) are used.

【0098】低屈折率無機材料で形成される膜は、硬度
が高く、特にプラズマCVD法で、SiOX (xは1.
50≦x≦4.00、望ましくは1.70≦x≦2.2
0)の膜を形成したものは硬度が良好であり、且つハー
ドコート層との密着性に優れ、透明プラスチック基材フ
ィルムの熱ダメージを他の気相法に比べて軽減できるの
で好ましい。
A film formed of a low refractive index inorganic material has a high hardness, and in particular, a film formed of SiO x (x: 1.
50 ≦ x ≦ 4.00, preferably 1.70 ≦ x ≦ 2.2
Forming the film of 0) is preferable because it has good hardness, excellent adhesion to the hard coat layer, and can reduce thermal damage to the transparent plastic substrate film as compared with other vapor phase methods.

【0099】低屈折率有機材料には、フッ素原子の導入
されたポリマー等の有機物がその屈折率が1.45以下
と低い点から好ましい。溶剤が使用できる樹脂としてそ
の取扱いが容易であることからポリフッ化ビニリデン
(屈折率n=1.40)が挙げられる。低屈折率の有機
材料としてこのポリフッ化ビニリデンを用いた場合に
は、低屈折率層の屈折率はほぼ1.40程度となるが、
さらに低屈折率層の屈折率を低くするためにはトリフル
オロエチルアクリレート(屈折率n=1.32)のよう
な低屈折率アクリレートを10重量部から300重量
部、好ましくは100重量部から200重量部添加して
もよい。
As the low refractive index organic material, an organic substance such as a polymer into which a fluorine atom is introduced is preferable because its refractive index is as low as 1.45 or less. As a resin in which a solvent can be used, polyvinylidene fluoride (refractive index n = 1.40) can be mentioned because of its easy handling. When this polyvinylidene fluoride is used as the low refractive index organic material, the low refractive index layer has a refractive index of about 1.40,
In order to further lower the refractive index of the low refractive index layer, a low refractive index acrylate such as trifluoroethyl acrylate (refractive index n = 1.32) is used in an amount of 10 to 300 parts by weight, preferably 100 to 200 parts by weight. You may add by weight.

【0100】なお、このトリフルオロエチルアクリレー
トは単官能型であり、そのため低屈折率層の膜強度が十
分ではないので、さらに多官能アクリレート、例えば、
電離放射線硬化型樹脂であるジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレート(略号:DPHA,4官能型)を添加
することが望ましい。このDPHAによる膜強度は添加
量が多いほど高いが、低屈折率層の屈折率を低くする観
点からはその添加量は少ない方がよく、1〜50重量
部、好ましくは5〜20重量部添加することが推奨され
る。
Incidentally, this trifluoroethyl acrylate is a monofunctional type, and therefore, the film strength of the low refractive index layer is not sufficient.
It is desirable to add dipentaerythritol hexaacrylate (abbreviation: DPHA, tetrafunctional type) which is an ionizing radiation-curable resin. Although the film strength of DPHA increases as the amount of addition increases, the amount of addition is preferably small from the viewpoint of lowering the refractive index of the low refractive index layer, and 1 to 50 parts by weight, preferably 5 to 20 parts by weight is added. It is recommended that

【0101】低屈折率層の形成方法は、高屈折率のハー
ドコート層上に、さらに低屈折率の無機質材料で蒸着、
スパッタリング、イオンプレーティング、プラズマCV
D等の気相法により皮膜を単層又は多層形成するか、或
いは、低屈折率の無機質材料を含有させた低屈折率樹脂
組成物又は低屈折率有機材料を塗布し単層又は多層の塗
膜を形成して行うことができる。
The low-refractive-index layer is formed by depositing a low-refractive-index inorganic material on the high-refractive-index hard coat layer.
Sputtering, ion plating, plasma CV
A single-layer or multi-layer coating is performed by forming a single-layer or multi-layer film by a vapor phase method such as D, or by applying a low-refractive-index resin composition or a low-refractive-index organic material containing a low-refractive-index inorganic material. It can be performed by forming a film.

【0102】特に、プラズマCVD法により形成したS
iOx 膜は、通常の真空蒸着膜と比べて密度が高く、ガ
スバリヤー性が高い。そのため、防湿性に優れ、本発明
の反射防止フィルムを偏光素子にラミネートして使用す
る場合に、湿気に弱いとされている偏光素子の防湿機能
を果たす利点がある。下記の表1にプラズマCVD法に
より形成したSiOx 膜の優位性を示す実験データを示
す。防湿実験の対象としたフィルムには、トリアセチル
セルロースフィルム(TACと表示する)、トリアセチ
ルセルロースフィルム上に膜厚7μmのハードコート樹
脂の塗膜を形成したもの〔HC(7μm)/TACと表
示する〕、トリアセチルセルロースフィルム上に膜厚1
μmのフッ化ビニリデンの塗膜を形成したもの〔Kコー
ト:フッ化ビニリデン(1μm)/TACと表示す
る〕、トリアセチルセルロースフィルム上に膜厚100
0ÅのSiOx のプラズマCVD膜を形成したもの〔S
iOx(1000Å)/TACと表示する〕を使用し
た。これらの各フィルムを湿度90%、温度40℃で、
JISの防湿試験に従ってその1日当りの透湿度を測定
した。
In particular, S formed by the plasma CVD method
The iO x film has a higher density and a higher gas barrier property than a normal vacuum deposited film. Therefore, when the anti-reflection film of the present invention is used by laminating it on a polarizing element, there is an advantage that the polarizing element, which is considered to be vulnerable to moisture, has a moisture-proof function. Table 1 below shows experimental data indicating the superiority of the SiO x film formed by the plasma CVD method. The films subjected to the moisture-proof experiment were a triacetylcellulose film (denoted as TAC), and a film formed by forming a 7 μm-thick hard coat resin coating on the triacetylcellulose film [denoted as HC (7 μm) / TAC. To a film thickness of 1 on a triacetylcellulose film.
μm of a vinylidene fluoride coating film [K coat: expressed as vinylidene fluoride (1 μm) / TAC], a film thickness of 100 on a triacetyl cellulose film
0 ° SiO x plasma CVD film formed [S
iO x (1000 °) / TAC] was used. Each of these films was subjected to a humidity of 90% and a temperature of 40 ° C.
The moisture permeability per day was measured according to the JIS moisture-proof test.

【0103】[0103]

【表1】 上記表1によれば、SiOx (1000Å)/TACが
透湿度が一番少なく、防湿性に優れていることが分か
る。なお、Kコート:フッ化ビニリデン(1μm)/T
ACは、防湿性はやや良いが、その塗膜が柔らかいこと
及び経時的に黄変するため光学材料として用いることは
好ましくない。
[Table 1] According to Table 1, it can be seen that SiO x (1000 °) / TAC has the lowest moisture permeability and is excellent in moisture proof properties. In addition, K coat: vinylidene fluoride (1 μm) / T
Although AC has a somewhat good moisture-proof property, it is not preferable to use it as an optical material because its coating film is soft and yellows over time.

【0104】さらにその偏光素子や、その他の層中に染
料等が使用されている場合には、プラズマCVD膜はそ
れらの劣化を防止することができる。プラズマCVD法
により形成したSiOx 膜は、密度が高いことから、耐
擦傷性の膜となる。
When a dye or the like is used in the polarizing element or other layers, the plasma CVD film can prevent the deterioration thereof. Since the SiO x film formed by the plasma CVD method has a high density, it becomes a scratch-resistant film.

【0105】また、プラズマCVD法により形成したS
iOx 膜は通常の真空蒸着膜と比べて、SiOx 膜のx
の値の変更が比較的容易であり、さらに通常の真空蒸着
膜のxがせいぜい2未満であるのに対して、プラズマC
VD法により形成したSiOx 膜は2を越えることが可
能である。そのため、プラズマCVD法により形成した
SiOx 膜は、通常の真空蒸着膜よりも低屈折率とする
ことができ、得られた膜は透明性が高いとう利点があ
る。また、プラズマCVD法により形成したSiOx
は、通常の真空蒸着膜よりも基板との接着性に優れてい
る。
Further, S formed by the plasma CVD method
iO x film as compared to conventional vacuum evaporation film, the SiO x film x
Is relatively easy to change, and while the value of x of a normal vacuum deposited film is less than 2 at most, the plasma C
The number of SiO x films formed by the VD method can exceed 2. Therefore, the SiO x film formed by the plasma CVD method can have a lower refractive index than a normal vacuum deposited film, and has an advantage that the obtained film has high transparency. Further, the SiO x film formed by the plasma CVD method has better adhesiveness to the substrate than a normal vacuum deposited film.

【0106】反射防止フィルムにおけるハードコート層の屈折率 : 本発明の一番目と二番目の反射防止フィルムにおいて
は、ハードコート層の屈折率は、低屈折率超微粒子の
折率よりも高くしているが、このような屈折率を持つ層
構成とすることにより、反射防止効果を高め、ハードコ
ート層と他の層との界面の反射を防ぐことができる。
に反射防止効果を高めるためには、透明プラスチック基
材フィルムの屈折率よりもハードコート層の屈折率が高
いことが望ましい。ハードコート層の屈折率を高める方
法には、高屈折率を持つバインダー樹脂をハードコート
層に使用するか、ハードコート層の屈折率より高い屈折
率を持つ高屈折率超微粒子をハードコート層に添加する
か、或いはこれらの方法を併用する。
[0106] The refractive index of the hard coat layer in the antireflection film: In one th and second antireflection film of the present invention, the refractive index of the hard coat layer, bending of the low refractive index ultrafine particles
Although the refractive index is higher than the refractive index, the layer configuration having such a refractive index can enhance the antireflection effect and prevent reflection at the interface between the hard coat layer and another layer. Change
To increase the anti-reflection effect, use a transparent plastic
The refractive index of the hard coat layer is higher than the refractive index of the material film
Is desirable. To increase the refractive index of the hard coat layer, use a binder resin having a high refractive index for the hard coat layer, or use high refractive index ultrafine particles with a refractive index higher than the refractive index of the hard coat layer for the hard coat layer. Add or use these methods together.

【0107】前記高屈折率を持つバインダー樹脂には、
芳香環を含む樹脂、F以外のハロゲン化元素、例え
ば、Br、I、Cl等を含む樹脂、S、N、P等の原
子を含む樹脂等があげられ、これらの少なくとも一つの
条件を満足する樹脂が高屈折率となるために望ましい。
The binder resin having a high refractive index includes:
Resins containing an aromatic ring, halogenated elements other than F, for example, resins containing Br, I, Cl, etc., resins containing atoms such as S, N, P, etc., satisfying at least one of these conditions. Resin is desirable because it has a high refractive index.

【0108】前記の樹脂の例には、ポリスチレン等の
スチロール系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
ビニルカルバゾール、ビスフェノールAのポリカーボネ
ート等が挙げられる。前記の樹脂の例には、ポリ塩化
ビニル、ポリテトラブロモビスフェノールAグリシジル
エーテル等が挙げられる。
Examples of the above resins include styrene resins such as polystyrene, polyethylene terephthalate, polyvinyl carbazole, and bisphenol A polycarbonate. Examples of the resin include polyvinyl chloride, polytetrabromobisphenol A glycidyl ether, and the like.

【0109】本発明の三番目と四番目の反射防止フィル
ムにおいては、高屈折率超微粒子層の存在しない部分の
ハードコート層自体の屈折率は、高屈折率超微粒子層の
屈折率よりも低くしているが、このような屈折率を持つ
層構成とすることにより、反射防止効果を高め、ハード
コート層と他の層との界面の反射を防ぐことができる。
更に反射防止効果を高めるためには、透明プラスチック
基材フィルムの屈折率よりもハードコート層の屈折率が
高いことが望ましい。
In the third and fourth antireflection films of the present invention, the refractive index of the hard coat layer itself in the portion where the high refractive index ultrafine particle layer does not exist is the same as that of the high refractive index ultrafine particle layer.
Although it is lower than the refractive index, by adopting a layer configuration having such a refractive index, the antireflection effect can be enhanced, and reflection at the interface between the hard coat layer and another layer can be prevented.
To further enhance the anti-reflection effect, use transparent plastic
The refractive index of the hard coat layer is higher than that of the base film
High is desirable.

【0110】他の層:本発明の反射防止フィルムには、
上記に説明した各層の他に、各種機能性を付与するため
の層をさらに付加して設けることができる。例えば、透
明プラスチック基材フィルムとの接着性を向上させる等
の理由で、透明プラスチック基材フィルム上にプライマ
ー層や或いは接着剤層を設けたり、また、ハード性能向
上のためにハードコート層を複数層設けてもよい。上記
のように透明プラスチック基材フィルムとハードコート
層の中間に設けられるその他の層の屈折率は、透明プラ
スチック基材フィルムの屈折率とハードコート層の屈折
率との中間の値とすることが好ましい。
Other layers : In the antireflection film of the present invention,
In addition to the above-described layers, layers for imparting various functionalities can be further provided. For example, a primer layer or an adhesive layer is provided on the transparent plastic substrate film for the purpose of improving the adhesiveness with the transparent plastic substrate film, and a plurality of hard coat layers are provided for improving the hard performance. Layers may be provided. The refractive index of the other layers provided between the transparent plastic substrate film and the hard coat layer as described above may be an intermediate value between the refractive index of the transparent plastic substrate film and the refractive index of the hard coat layer. preferable.

【0111】他の層の形成方法は、上記のように透明プ
ラスチック基材フィルム上に直接又は間接的に塗布して
形成してもよく、また透明プラスチック基材フィルム上
にハードコート層を転写により形成する場合には、予め
転写フィルム上に形成したハードコート層上に、他の層
を塗布して形成し、その後、透明プラスチック基材フィ
ルムに転写してもよい。
The other layer may be formed by coating directly or indirectly on the transparent plastic substrate film as described above, or by transferring a hard coat layer onto the transparent plastic substrate film by transfer. When forming, another layer may be applied and formed on the hard coat layer previously formed on the transfer film, and then transferred to a transparent plastic substrate film.

【0112】本発明の反射防止フィルムの下面には、粘
着剤が塗布されていてもよく、この反射防止フィルムは
反射防止すべき対象物、例えば、偏光素子に貼着して用
いることができる。
The lower surface of the antireflection film of the present invention may be coated with a pressure-sensitive adhesive, and this antireflection film can be used by attaching it to an object to be antireflection, for example, a polarizing element.

【0113】偏光板及び液晶表示装置:偏光素子に本発
明の反射防止フィルムをラミネートすることによって、
反射防止性の改善された偏光板とすることができる。こ
の偏光素子には、よう素又は染料により染色し、延伸し
てなるポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホル
マールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を用いる
ことができる。このラミネート処理にあたって接着性を
増すため及び静電防止のために、前記反射防止フィルム
の基材フィルムが例えば、トリアセチルセルロースフィ
ルムである場合には、トリアセチルセルロースフィルム
にケン化処理を行う。このケン化処理はトリアセチルセ
ルロースフィルムにハードコートを施す前または後のど
ちらでもよい。
Polarizing plate and liquid crystal display device : By laminating the antireflection film of the present invention on a polarizing element,
A polarizing plate with improved antireflection properties can be obtained. As the polarizing element, a polyvinyl alcohol film, a polyvinyl formal film, a polyvinyl acetal film, a saponified ethylene-vinyl acetate copolymer film, or the like, which is dyed and stretched with iodine or a dye, can be used. When the base film of the antireflection film is, for example, a triacetylcellulose film, a saponification treatment is performed on the triacetylcellulose film in order to increase adhesiveness and prevent static electricity in the lamination process. This saponification treatment may be performed before or after applying the hard coat to the triacetyl cellulose film.

【0114】図13に本発明の反射防止フィルムが使用
された偏光板の一例を示す。図中、12は本発明の反射
防止フィルムであり、該反射防止フィルム12が偏光素
子13上にラミネートされており、一方、偏光素子13
の他面にはトリアセチルセルロースフィルム(略:TA
Cフィルム)14がラミネートされている。また偏光素
子13の両面に本発明の反射防止フィルム12がラミネ
ートされてもよい。
FIG. 13 shows an example of a polarizing plate using the antireflection film of the present invention. In the figure, reference numeral 12 denotes an antireflection film of the present invention, and the antireflection film 12 is laminated on a polarizing element 13.
On the other side, a triacetyl cellulose film (abbreviation: TA)
C film) 14 is laminated. Further, the antireflection film 12 of the present invention may be laminated on both surfaces of the polarizing element 13.

【0115】図14に本発明の反射防止フィルムが使用
された液晶表示装置の一例を示す。液晶表示素子15上
に、図13に示した偏光板、即ち、TACフィルム/偏
光素子/反射防止フィルムからなる層構成の偏光板がラ
ミネートされており、また液晶表示素子15の他方の面
には、TACフィルム/偏光素子/TACフィルムから
なる層構成の偏光板がラミネートされている。なお、S
TN型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との
間に、位相差板が挿入される。
FIG. 14 shows an example of a liquid crystal display device using the antireflection film of the present invention. The polarizing plate shown in FIG. 13, that is, a polarizing plate having a layer structure composed of a TAC film / a polarizing element / an anti-reflection film is laminated on the liquid crystal display element 15. , A polarizing plate having a layer structure of TAC film / polarizing element / TAC film is laminated. Note that S
In a TN-type liquid crystal display device, a phase difference plate is inserted between a liquid crystal display element and a polarizing plate.

【0116】[0116]

【実施例】【Example】

〔実施例1〕離型フィルム(MC−19:商品名、麗光
製、表面にアクリル−メラミン処理が施されている)上
に、屈折率1.4のMgF2 ゾル(日産化学製)を膜厚
100nmになるように塗工する。
[Example 1] MgF 2 sol having a refractive index of 1.4 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) on a release film (MC-19: trade name, manufactured by Reiko Co., Ltd., the surface of which is subjected to acryl-melamine treatment) Coating is performed to a thickness of 100 nm.

【0117】一方、厚さ80μmのトリアセチルセルロ
ースフィルム上に、電子線硬化型樹脂(EXG:商品
名、大日精化製)を膜厚5μm/dryになるように塗
工し、上記の離型フィルムと塗膜面相互を合わせて圧着
ラミネートして、電子線を4Mrad、10m/分で照
射して電子線硬化型樹脂を硬化させた後、離型フィルム
を剥離した。得られた透明機能性フィルムは、全光線透
過率が95%(基材フィルムであるトリアセチルセルロ
ースフィルム92%)で、表面は爪スクラッチで傷つか
なかった。この透明機能性フィルムは、反射防止フィル
ムとしての機能を有する。
On the other hand, on a triacetyl cellulose film having a thickness of 80 μm, an electron beam-curable resin (EXG: trade name, manufactured by Dainichi Seika) was applied so as to have a thickness of 5 μm / dry. The film and the coating film surface were bonded together and pressure-bonded and laminated, and an electron beam was irradiated at 4 Mrad at 10 m / min to cure the electron beam-curable resin, and then the release film was peeled off. The resulting transparent functional film had a total light transmittance of 95% (92% of a triacetyl cellulose film as a base film), and the surface was not damaged by nail scratches. This transparent functional film has a function as an antireflection film.

【0118】本実施例1により得られた透明機能性フィ
ルムは、図1に示されるものに相当する。
The transparent functional film obtained in Example 1 corresponds to the one shown in FIG.

【0119】〔実施例2〕前記実施例1で使用したもの
と同じ離型フィルム上に屈折率1.4のMgF2ゾル
(日産化学製)とフッ素系アクリレート(大阪有機化学
製)を1:2の混合比で混ぜたものを膜厚100nmに
なるように塗工する。
Example 2 An MgF 2 sol having a refractive index of 1.4 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) and a fluorine-based acrylate (manufactured by Osaka Organic Chemicals) were used on the same release film as used in Example 1 above: A mixture obtained by mixing at a mixing ratio of 2 is applied so as to have a film thickness of 100 nm.

【0120】PETフィルム上に電子線硬化型樹脂(信
越化学製、X−12−2400)と屈折率1.68のS
2 5 (日産化学製)を1:2で配合したものを膜厚
5μm/dryになるように塗工し、上記離型フィルム
をラミネートして、電子線を4Mrad、10m/分で
照射して電子線硬化型樹脂を硬化した後、離型フィルム
を剥離した。得られた透明機能性フィルムは、全光線透
過率が91%(基材フィルムであるPETフィルム87
%)で、表面は爪スクラッチで傷つかなかった。この透
明機能性フィルムは、反射防止フィルムとしての機能を
有する。
An electron beam-curable resin (X-12-2400, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and PET having a refractive index of 1.68 were formed on a PET film.
A mixture of b 2 O 5 (manufactured by Nissan Chemical Industries) at a ratio of 1: 2 was applied so as to have a film thickness of 5 μm / dry, the release film was laminated, and an electron beam was irradiated at 4 Mrad at 10 m / min. Then, after the electron beam-curable resin was cured, the release film was peeled off. The obtained transparent functional film has a total light transmittance of 91% (PET film 87 as a base film).
%), The surface was not damaged by nail scratches. This transparent functional film has a function as an antireflection film.

【0121】図7は本実施例2により得られた透明機能
性フィルムの断面を示し、その透明機能性フィルムは、
透明プラスチック基材フィルム3上に塗布された電子線
硬化型樹脂のハードコート層4の内部から表面にかけて
形成された機能性超微粒子層2を有している。図7に示
すように、機能性超微粒子層2は、各機能性超微粒子5
自身の結着力及びバインダー樹脂7により結着されてお
り、機能性超微粒子層2全体は電子線硬化型樹脂からな
るハードコート層4に完全に埋没している。また、ハー
ドコート層4内には、Sb2 5 超微粒子8(屈折率
1.68)が混入されている。
FIG. 7 shows a cross section of the transparent functional film obtained in Example 2, and the transparent functional film was
It has a functional ultrafine particle layer 2 formed from the inside to the surface of a hard coat layer 4 of an electron beam-curable resin applied on a transparent plastic substrate film 3. As shown in FIG. 7, the functional ultrafine particle layer 2
The functional ultrafine particle layer 2 is completely buried in the hard coat layer 4 made of an electron beam curable resin because it is bound by its own binding power and the binder resin 7. Further, Sb 2 O 5 ultrafine particles 8 (refractive index: 1.68) are mixed in the hard coat layer 4.

【0122】〔実施例3〕前記実施例1の離型フィルム
として、表面に微細な凹凸が形成されているマットPE
T(X−45:商品名、東レ製)を用いた以外は、前記
実施例1と同じ条件で反射防止効果を有する透明機能性
フィルムを製造した。
Example 3 As the release film of Example 1, a matte PE having fine irregularities on the surface was used.
A transparent functional film having an antireflection effect was produced under the same conditions as in Example 1 except that T (X-45: trade name, manufactured by Toray Industries, Inc.) was used.

【0123】図8は本実施例3により得られた透明機能
性フィルムの断面を示し、その透明機能性フィルムは、
透明プラスチック基材フィルム3上に塗布された電子線
硬化型樹脂のハードコート層4の内部から表面にかけて
形成された機能性超微粒子層2を有している。図8に示
すように、機能性超微粒子層2の表面は、離型フィルム
の表面と同一の微細な凹凸模様が賦形されている。
FIG. 8 shows a cross section of the transparent functional film obtained in Example 3, and the transparent functional film was
It has a functional ultrafine particle layer 2 formed from the inside to the surface of a hard coat layer 4 of an electron beam-curable resin applied on a transparent plastic substrate film 3. As shown in FIG. 8, the surface of the functional ultrafine particle layer 2 has the same fine irregularities as the surface of the release film.

【0124】〔実施例4〕前記実施例2の離型フィルム
として、表面に微細な凹凸が形成されているマットPE
T(X−45:商品名、東レ製)を用いた以外は、前記
実施例2と同じ条件で反射防止効果を有する透明機能性
フィルムを製造した。
Example 4 As the release film of Example 2, a matte PE having fine irregularities on the surface was used.
A transparent functional film having an anti-reflection effect was produced under the same conditions as in Example 2 except that T (X-45: trade name, manufactured by Toray) was used.

【0125】〔実施例5〕離型フィルム(MC−19:
商品名、麗光製、表面にアクリル−メラミン処理が施さ
れている)上に屈折率1.9のZnO超微粒子分散液を
72nmになるように塗工した。一方、厚さ80μmの
トリアセチルセルロースフィルム(TACフィルム)上
に電子線硬化型樹脂(EXG:商品名、大日精化製)を
5μm/dryとなるように塗工した。両者の塗工面を
合わせてラミネートし、電子線を2Mradで照射し、
樹脂を半硬化させた後、離型フィルムを剥離してZnO
超微粒子層を電子線硬化型樹脂に転写した。この転写さ
れた層上に、フッ素系アクリレート(ビスコート8F:
商品名、大阪有機化学製)を100nmとなるように塗
工し、電子線を3Mrad照射し、樹脂層を完全硬化し
て反射防止効果を有する透明機能性フィルムを得た。得
られた透明機能性フィルムは、全光線透過率が95%で
あった。
Example 5 Release Film (MC-19:
(Trade name, manufactured by Reiko Co., Ltd., surface of which is subjected to acryl-melamine treatment)) was coated with a ZnO ultrafine particle dispersion having a refractive index of 1.9 to a thickness of 72 nm. On the other hand, an electron beam-curable resin (EXG: trade name, manufactured by Dainichi Seika) was applied on a triacetyl cellulose film (TAC film) having a thickness of 80 μm so as to be 5 μm / dry. Laminated with both coated surfaces together, irradiating with electron beam at 2 Mrad,
After the resin is semi-cured, the release film is peeled off and ZnO
The ultrafine particle layer was transferred to an electron beam-curable resin. On this transferred layer, a fluorine-based acrylate (Biscoat 8F:
(Trade name, manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) was applied to a thickness of 100 nm, irradiated with 3 Mrad of electron beam, and the resin layer was completely cured to obtain a transparent functional film having an antireflection effect. The resulting transparent functional film had a total light transmittance of 95%.

【0126】図9は本実施例5により得られた透明機能
性フィルムの断面を示す。その透明機能性フィルムは、
透明プラスチック基材フィルム3上に、電子線硬化型樹
脂のハードコート層4の内部から表面にかけて高屈折率
の機能性超微粒子5が極在化して固定され最表面が薄い
電子線硬化型樹脂の膜によって完全に覆われて、機能性
超微粒子層2を形成している。さらにこの膜上に低屈折
率層9が形成されて、反射防止効果を有する透明機能性
フィルムとなっている。
FIG. 9 shows a cross section of the transparent functional film obtained in Example 5. The transparent functional film,
On the transparent plastic substrate film 3, functional ultrafine particles 5 having a high refractive index are localized and fixed from the inside to the surface of the hard coat layer 4 of the electron beam-curable resin, and the outermost surface of the electron beam-curable resin is thin. The functional ultrafine particle layer 2 is completely covered with the film. Further, a low refractive index layer 9 is formed on this film to form a transparent functional film having an antireflection effect.

【0127】〔実施例6〕離型フィルム(MC−19:
商品名,麗光製、表面にアクリル−メラミン処理が施さ
れている)上に屈折率1.9のZnO超微粒子分散液を
72nmになるように塗工し、一方、厚さ80μmのト
リアセチルセルロースフィルム(TACフィルム)上に
ZnO超微粒子分散液と電子線硬化型樹脂(HN−5
A:商品名、三菱油化製)を重量比で2:1に混合した
樹脂(屈折率1.65)を5μm/dryとなるように
塗工した。両者をラミネートし、電子線を2Mradで
照射し、樹脂を半硬化させた後、離型フィルムを剥離し
てZnO超微粒子層を超微粒子分散電子線硬化型樹脂に
転写した。この転写された層上に、フッ素系アクリレー
ト(ビスコート8F:商品名、大阪有機化学製)を10
0nmとなるように塗工し、電子線を3Mrad照射
し、樹脂層を完全硬化して反射防止効果を有する透明機
能性フィルムを得た。得られた透明機能性フィルムは、
全光線透過率が95%であった。
Example 6 Release Film (MC-19:
(Trade name, manufactured by Reiko, surface treated with acryl-melamine) coated with a ZnO ultrafine particle dispersion having a refractive index of 1.9 to a thickness of 72 nm, and triacetyl having a thickness of 80 μm. A ZnO ultrafine particle dispersion and an electron beam-curable resin (HN-5) are formed on a cellulose film (TAC film).
A: A resin (refractive index: 1.65) obtained by mixing 2: 1 by weight ratio of trade name, manufactured by Mitsubishi Yuka Co., Ltd. was applied so as to be 5 μm / dry. After laminating both, the resin was irradiated with an electron beam at 2 Mrad and the resin was semi-cured. Then, the release film was peeled off, and the ZnO ultrafine particle layer was transferred to the ultrafine particle dispersed electron beam-curable resin. On this transferred layer, a fluorine-based acrylate (Biscoat 8F: trade name, manufactured by Osaka Organic Chemicals) was added for 10 minutes.
Coating was performed to a thickness of 0 nm, and electron beam irradiation was performed at 3 Mrad to completely cure the resin layer to obtain a transparent functional film having an antireflection effect. The resulting transparent functional film is
The total light transmittance was 95%.

【0128】〔実施例7〕離型フィルム(MC−19:
商品名,麗光製、表面にアクリル−メラミン処理が施さ
れている)上に屈折率1.9のZnO超微粒子分散液を
72nmになるように塗工し、その層上にZnO超微粒
子分散液と電子線硬化型樹脂(HN−5A:商品名、三
菱油化製)を重量比で2:1に混合した樹脂(屈折率
1.65)を3μm/dryとなるように塗工した。こ
のフィルムに電子線を10Mradで照射し、樹脂を完
全に硬化させ、この層上にウレタン系接着剤(タケラッ
ク:商品名、武田薬品製)に硬化剤を6:1の配合で混
合したものを塗工し、厚さ80μmのトリアセチルセル
ロースフィルムとラミネートした。
Example 7 Release Film (MC-19:
(Trade name, manufactured by Reiko, surface treated with acryl-melamine) coated with a ZnO ultrafine particle dispersion having a refractive index of 1.9 so as to have a thickness of 72 nm, and ZnO ultrafine particles dispersed on the layer. A resin (refractive index: 1.65) obtained by mixing the liquid and an electron beam-curable resin (HN-5A: trade name, manufactured by Mitsubishi Yuka) at a weight ratio of 2: 1 was applied so as to be 3 μm / dry. The film was irradiated with an electron beam at 10 Mrad to completely cure the resin. On this layer, a mixture of a urethane-based adhesive (Takelac: trade name, manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.) and a curing agent mixed at a ratio of 6: 1 was used. It was coated and laminated with a triacetyl cellulose film having a thickness of 80 μm.

【0129】このフィルムを40℃で3日間エージング
し、離型フィルムを剥離した後、この層上に、SiOx
膜をプラズマ蒸着法で膜厚100nmで形成した。こう
して得られた透明機能性フィルムは全光線透過率が9
5.1%であった。
This film was aged at 40 ° C. for 3 days, and the release film was peeled off.
The film was formed with a thickness of 100 nm by a plasma deposition method. The transparent functional film thus obtained has a total light transmittance of 9
It was 5.1%.

【0130】〔実施例8〕離型フィルム(MC−19:
商品名,麗光製、表面にアクリル−メラミン処理が施さ
れている)上に屈折率1.9のZnO超微粒子分散液を
72nmになるように塗工し、その層上にZnO超微粒
子分散液と電子線硬化型樹脂(HN−5A:商品名、三
菱油化製)を重量比で2:1に混合した樹脂(屈折率
1.65)を3μm/dryとなるように塗工した。こ
のフィルムに電子線を2Mradで照射し、樹脂をハー
フキュアーし、この層上にウレタン系接着剤(タケラッ
ク:商品名、武田薬品製)に硬化剤を6:1の配合で混
合したものを塗工し、厚さ80μmのトリアセチルセル
ロースフィルムとラミネートした。
Example 8 Release Film (MC-19:
(Trade name, manufactured by Reiko, surface treated with acryl-melamine) coated with a ZnO ultrafine particle dispersion having a refractive index of 1.9 so as to have a thickness of 72 nm, and ZnO ultrafine particles dispersed on the layer. A resin (refractive index: 1.65) obtained by mixing the liquid and an electron beam-curable resin (HN-5A: trade name, manufactured by Mitsubishi Yuka) at a weight ratio of 2: 1 was applied so as to be 3 μm / dry. The film is irradiated with an electron beam at 2 Mrad, the resin is half-cured, and a mixture of a urethane-based adhesive (Takelac: trade name, manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.) and a curing agent mixed at a ratio of 6: 1 is applied on this layer. And laminated with an 80 μm thick triacetyl cellulose film.

【0131】このフィルムを40℃で3日間エージング
し、離型フィルムを剥離した後、この層上に、フッ素系
アクリレート(ビスコート8F:商品名、大阪有機化学
製)を100nmとなるように塗工し、電子線を3Mr
ad照射し、樹脂層を完全硬化して反射防止効果を有す
る透明機能性フィルムを得た。得られた透明機能性フィ
ルムは、全光線透過率が95%であった。
This film was aged at 40 ° C. for 3 days, and after the release film was peeled off, a fluorine-based acrylate (Biscoat 8F: trade name, manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) was applied on this layer to a thickness of 100 nm. And the electron beam is 3Mr
Irradiation was performed to completely cure the resin layer to obtain a transparent functional film having an antireflection effect. The resulting transparent functional film had a total light transmittance of 95%.

【0132】〔実施例9〕離型フィルム(MC−19:
商品名,麗光製、表面にアクリル−メラミン処理が施さ
れている)上に屈折率1.9のZnO超微粒子分散液を
72nmになるように塗工し、その層上に電子線硬化型
樹脂(EXG:商品名、大日精化製)を5μm/dry
となるように塗工した。この樹脂面と厚さ80μmのト
リアセチルセルロースフィルムをラミネートした後、電
子線を5Mrd照射し、樹脂を完全に硬化した後、離型
フィルムを剥離した。この層上にSiOx膜をプラズマ
蒸着法で膜厚100nmで形成した。こうして得られた
透明機能性フィルムは全光線透過率が95.1%であっ
た。
Example 9 Release Film (MC-19:
(Trade name, manufactured by Reiko Co., Ltd., surface of which is treated with acryl-melamine) coated with a ZnO ultrafine particle dispersion having a refractive index of 1.9 so as to have a thickness of 72 nm, and an electron beam curing type is formed on the layer. Resin (EXG: trade name, manufactured by Dainichi Seika) is 5 μm / dry
It was applied so that After laminating the resin surface and a triacetyl cellulose film having a thickness of 80 μm, an electron beam was irradiated at 5 Mrd to completely cure the resin, and then the release film was peeled off. An SiOx film was formed on this layer with a thickness of 100 nm by a plasma deposition method. The transparent functional film thus obtained had a total light transmittance of 95.1%.

【0133】〔実施例10〕離型フィルム(MC−1
9:商品名,麗光製、表面にアクリル−メラミン処理が
施されている)上に屈折率1.9のZnO超微粒子分散
液を72nmになるように塗工し、その層上に電子線硬
化型樹脂(EXG:商品名、大日精化製)を5μm/d
ryとなるように塗工した。この樹脂面と厚さ80μm
のトリアセチルセルロースフィルムをラミネートした
後、電子線を2Mrad照射し、樹脂をハーフキュアー
した後、離型フィルムを剥離した。この層上にフッ素系
アクリレート(ビスコート8F、商品名、大阪有機化学
製)を100nmとなるように塗工し、電子線を3Mr
ad照射し、樹脂層を完全に硬化して、反射防止硬化を
有する透明機能性フィルムを得た。得られた透明機能性
フィルムは全光線透過率が95.3%であった。
Example 10 Release Film (MC-1)
9: trade name, manufactured by Reiko, the surface of which is treated with acryl-melamine) is coated with a ZnO ultrafine particle dispersion having a refractive index of 1.9 to a thickness of 72 nm, and an electron beam is formed on the layer. 5 μm / d of curable resin (EXG: trade name, manufactured by Dainichi Seika)
ry. This resin surface and thickness 80μm
After laminating the triacetyl cellulose film, the resin was half-cured with an electron beam, and the release film was peeled off. On this layer, a fluorine-based acrylate (Biscoat 8F, trade name, manufactured by Osaka Organic Chemicals) is applied so as to have a thickness of 100 nm, and an electron beam is applied to the layer at 3 Mr.
The resin layer was completely cured by ad irradiation to obtain a transparent functional film having antireflection curing. The resulting transparent functional film had a total light transmittance of 95.3%.

【0134】〔実施例11〕離型フィルム(MC−1
9:商品名、麗光製、表面にアクリル−メラミン処理が
施されている)上に、屈折率1.4のMgF2 ゾル(日
産化学製)を膜厚100nmになるように塗工した。
Example 11 Release Film (MC-1)
9: trade name, manufactured by Reiko Co., Ltd., the surface of which is treated with acryl-melamine), coated with MgF 2 sol having a refractive index of 1.4 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) to a film thickness of 100 nm.

【0135】一方、厚さ100μmのPETフィルム上
に、電子線硬化型粘着剤と電子線硬化型樹脂とのブレン
ド系樹脂を膜厚5μm/dryになるように塗工し、溶
剤乾燥(100℃、30分)後、上記の離型フィルムと
塗膜面相互を合わせて圧着ラミネートして、電子線を4
Mrad、10m/分で照射して電子線硬化型のブレン
ド系樹脂を硬化させた後、離型フィルムを剥離した。得
られた透明機能性フィルムは、全光線透過率が92%
(基材フィルムであるPETフィルム87%)で、表面
は爪スクラッチで傷つかなかった。この透明機能性フィ
ルムは、反射防止フィルムとしての機能を有する。
On the other hand, a blended resin of an electron beam-curable pressure-sensitive adhesive and an electron beam-curable resin was applied on a 100 μm-thick PET film so as to have a film thickness of 5 μm / dry, and the solvent was dried (100 ° C. After 30 minutes), the above-mentioned release film and the coating film surface were put together and pressure-bonded and laminated, and an electron beam was applied for 4 minutes.
After irradiating Mrad at 10 m / min to cure the electron beam-curable blend resin, the release film was peeled off. The obtained transparent functional film has a total light transmittance of 92%.
(87% of PET film as a base film), the surface was not damaged by nail scratches. This transparent functional film has a function as an antireflection film.

【0136】本実施例11により得られた透明機能性フ
ィルムは、図2に示されるものに相当する。
The transparent functional film obtained in Example 11 corresponds to the one shown in FIG.

【0137】〔実施例12〕前記実施例11で使用した
ものと同じ離型フィルム上に屈折率1.4のMgF2
ル(日産化学製)とフッ素系アクリレート(大阪有機化
学製)を1:2の混合比で混ぜたものを膜厚100nm
になるように塗工した。
Example 12 On the same release film as used in Example 11, MgF 2 sol having a refractive index of 1.4 (manufactured by Nissan Chemical) and fluorine-based acrylate (manufactured by Osaka Organic Chemical) were used: A mixture with a mixing ratio of 2 is 100 nm thick
It was coated so that it becomes.

【0138】PETフィルム上に電子線硬化型粘着剤と
電子線硬化型樹脂とのブレンド樹脂と、屈折率1.68
のSb2 5 (日産化学製)を1:2で配合したものを
膜厚5μm/dryになるように塗工し、このPETフ
ィルムの塗工面に対し、上記離型フィルムを塗工側を内
側にしてラミネートして、電子線を4Mrad、10m
/分で照射して電子線硬化型ブレンド系樹脂を硬化した
後、離型フィルムを剥離した。得られた透明機能性フィ
ルムは全光線透過率が93%(基材フィルムであるPE
Tフィルム87%)で、表面は爪スクラッチで傷つかな
かった。この透明機能性フィルムは、反射防止フィルム
としての機能を有する。
A blend resin of an electron beam-curable adhesive and an electron beam-curable resin on a PET film, and a refractive index of 1.68
Of Sb 2 O 5 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) in a ratio of 1: 2 was coated so as to have a film thickness of 5 μm / dry, and the coating side of the PET film was coated with the release film. Laminate inside, electron beam 4Mrad, 10m
The release film was peeled off after curing the electron beam-curable blend resin by irradiating at a rate of / min. The resulting transparent functional film has a total light transmittance of 93% (PE film as a base film).
(T film 87%), the surface was not damaged by nail scratches. This transparent functional film has a function as an antireflection film.

【0139】図10は、本実施例12により得られた透
明機能性フィルムの断面を示し、その透明機能性フィル
ムは透明プラスチック基材フィルム3上に塗布された電
子線硬化型粘着剤と電子線硬化型樹脂とのブレンド系樹
脂のハードコート層4の内部から表面にかけて形成され
た機能性超微粒子層2を有している。図10に示すよう
に、機能性超微粒子層2は、各機能性超微粒子5自身の
結着力及びバインダー樹脂7により結着されており、機
能性超微粒子層2全体は電子線硬化型ブレンド系樹脂か
らなるハードコート層4に完全に埋没しておらず、その
表面が空気層と直接接している。また、ハードコート層
4内には、Sb2 5 超微粒子8(屈折率1.68)が
混入されている。
FIG. 10 shows a cross section of the transparent functional film obtained in Example 12, and the transparent functional film is composed of an electron beam-curable pressure-sensitive adhesive applied on a transparent plastic substrate film 3 and an electron beam. It has a functional ultrafine particle layer 2 formed from the inside to the surface of a hard coat layer 4 of a resin blended with a curable resin. As shown in FIG. 10, the functional ultrafine particle layer 2 is bound by the binding force of each functional ultrafine particle 5 itself and the binder resin 7, and the entire functional ultrafine particle layer 2 is made of an electron beam-curable blend system. It is not completely buried in the hard coat layer 4 made of resin, and its surface is in direct contact with the air layer. Further, Sb 2 O 5 ultrafine particles 8 (refractive index: 1.68) are mixed in the hard coat layer 4.

【0140】〔実施例13〕離型フィルムとして、表面
に微細な凹凸が形成されているマットPET(X−4
5:商品名、東レ製)を用いた以外は、前記実施例11
と同じ条件で反射防止フィルムを製造した。
Example 13 As a release film, a mat PET (X-4) having fine irregularities formed on the surface was used.
5: trade name, manufactured by Toray Industries, Inc.
An anti-reflection film was produced under the same conditions as described above.

【0141】図11は、本実施例13により得られた透
明機能性フィルムの断面を示し、その透明機能性フィル
ムは、透明プラスチック基材フィルム3上に塗布された
電子線硬化型粘着剤と電子線硬化型樹脂とのブレンド系
樹脂からなるハードコート層4の内部から表面にかけて
形成された機能性超微粒子層2を有している。図11に
示すように、機能性超微粒子層2の表面は離型フィルム
の表面と同一の微細な凹凸模様が賦形されている。
FIG. 11 shows a cross section of the transparent functional film obtained in Example 13, and the transparent functional film is composed of an electron beam-curable pressure-sensitive adhesive applied on a transparent plastic substrate film 3 and an electron beam. It has a functional ultrafine particle layer 2 formed from the inside to the surface of a hard coat layer 4 made of a resin blended with a line-curable resin. As shown in FIG. 11, the surface of the functional ultrafine particle layer 2 has the same fine irregularities as the surface of the release film.

【0142】〔実施例14〕前記実施例11で得られた
透明機能性フィルムの表面に、フッソ系アクリレート
(ビスコート8F:商品名、大阪有機化学製)を100
nmとなるように塗工し、電子線を3Mrad照射し、
樹脂層を完全硬化して反射防止効果を有する透明機能性
フィルムを得た。得られた透明機能性フィルムは、全光
線透過率が95%であった。
Example 14 On the surface of the transparent functional film obtained in the above Example 11, 100 fluorine-based acrylate (Biscoat 8F, trade name, manufactured by Osaka Organic Chemicals) was applied.
nm, and irradiate with 3 Mrad of electron beam.
The resin layer was completely cured to obtain a transparent functional film having an antireflection effect. The resulting transparent functional film had a total light transmittance of 95%.

【0143】図12は本実施例14により得られた透明
機能性フィルムの断面を示す。その透明機能性フィルム
は、透明プラスチック基材フィルム3上に、塗布された
電子線硬化型粘着剤と電子線硬化型樹脂とのブレンド系
樹脂のハードコート層4の内部から表面にかけて形成さ
れた機能性超微粒子層2を有し、さらにこの機能性超微
粒子層2上に低屈折率層9が形成されて、反射防止効果
を有する透明機能性フィルムとなっている。
FIG. 12 shows a cross section of the transparent functional film obtained in Example 14. The transparent functional film is formed on the transparent plastic substrate film 3 from the inside to the surface of the hard coat layer 4 of the blend resin of the electron beam curable pressure-sensitive adhesive and the electron beam curable resin applied. The functional ultrafine particle layer 2 is further provided with a low refractive index layer 9 on the functional ultrafine particle layer 2 to form a transparent functional film having an antireflection effect.

【0144】[0144]

【発明の効果】本発明の一番目及び二番目の透明機能性
膜又は透明機能性フィルムは、機能性超微粒子が空気層
との界面からハードコート層の内部にかけて極在化して
固定されているので、単に塗膜に機能性超微粒子を混入
したものとは違って、機能性超微粒子を多量に使用する
ことなく、少量で機能性超微粒子の性質を発現させやす
い効果を有する。さらに、単にハードコート層上に機能
性超微粒子を含む層を形成するよりも機能性超微粒子と
ハードコート層との密着性が良いという効果を有する。
また、機能性超微粒子として低屈折率超微粒子又は高屈
折率超微粒子を使用した本発明の反射防止フィルムも、
前記透明機能性フィルムと同様な効果が奏される。
According to the first and second transparent functional films or transparent functional films of the present invention, the functional ultrafine particles are poled and fixed from the interface with the air layer to the inside of the hard coat layer. Therefore, unlike the case where the functional ultrafine particles are simply mixed into the coating film, there is an effect that the properties of the functional ultrafine particles can be easily expressed in a small amount without using a large amount of the functional ultrafine particles. Further, there is an effect that adhesion between the functional ultrafine particles and the hard coat layer is better than simply forming a layer containing the functional ultrafine particles on the hard coat layer.
Also, the antireflection film of the present invention using low refractive index ultrafine particles or high refractive index ultrafine particles as functional ultrafine particles,
The same effect as that of the transparent functional film is obtained.

【0145】本発明の一番目と二番目の反射防止フィル
ムにおいては、ハードコート層の屈折率は、低屈折率超
微粒子の屈折率よりも高く、かつ透明プラスチック基材
フィルムの屈折率よりも高くしているので、反射防止効
果を高め、ハードコート層と他の層との界面の反射を防
ぐことができる。
In the first and second antireflection films of the present invention, the refractive index of the hard coat layer is higher than that of the ultrafine particles having a low refractive index and higher than that of the transparent plastic substrate film. As a result, the antireflection effect can be enhanced, and reflection at the interface between the hard coat layer and another layer can be prevented.

【0146】本発明の三番目と四番目の反射防止フィル
ムにおいては、高屈折率超微粒子層の存在しない部分の
ハードコート層自体の屈折率は、高屈折率超微粒子層の
屈折率を越えない範囲で、透明プラスチック基材フィル
ムの屈折率よりも高くしているので、反射防止効果を高
め、ハードコート層と他の層との界面の反射を防ぐこと
ができる。
In the third and fourth antireflection films of the present invention, the refractive index of the hard coat layer itself in the portion where the high refractive index ultrafine particle layer does not exist does not exceed the refractive index of the high refractive index ultrafine particle layer. Within this range, the refractive index is higher than the refractive index of the transparent plastic substrate film, so that the antireflection effect can be enhanced and the reflection at the interface between the hard coat layer and another layer can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一番目の透明機能性フィルムの断面を
示す。
FIG. 1 shows a cross section of a first transparent functional film of the present invention.

【図2】本発明の二番目の透明機能性フィルムの断面を
示す。
FIG. 2 shows a cross section of a second transparent functional film of the present invention.

【図3】本発明の一番目の透明機能性フィルムのための
一番目の製造方法のプロセス図である。
FIG. 3 is a process diagram of a first manufacturing method for a first transparent functional film of the present invention.

【図4】本発明の一番目の透明機能性フィルムのための
二番目の製造方法のプロセス図である。
FIG. 4 is a process diagram of a second manufacturing method for the first transparent functional film of the present invention.

【図5】本発明の一番目の透明機能性フィルムのための
三番目の製造方法のプロセス図である。
FIG. 5 is a process diagram of a third manufacturing method for the first transparent functional film of the present invention.

【図6】本発明の二番目の透明機能性フィルムのための
製造方法のプロセス図である。
FIG. 6 is a process diagram of a manufacturing method for a second transparent functional film of the present invention.

【図7】実施例2により得られた透明機能性フィルムの
断面を示す。
FIG. 7 shows a cross section of the transparent functional film obtained in Example 2.

【図8】実施例3により得られた透明機能性フィルムの
断面を示す。
FIG. 8 shows a cross section of the transparent functional film obtained in Example 3.

【図9】本実施例5により得られた透明機能性フィルム
の断面を示す。
FIG. 9 shows a cross section of a transparent functional film obtained in Example 5.

【図10】実施例12により得られた透明機能性フィル
ムの断面を示す。
FIG. 10 shows a cross section of the transparent functional film obtained in Example 12.

【図11】実施例13により得られた透明機能性フィル
ムの断面を示す。
FIG. 11 shows a cross section of the transparent functional film obtained in Example 13.

【図12】実施例14により得られた透明機能性フィル
ムの断面を示す。
FIG. 12 shows a cross section of the transparent functional film obtained in Example 14.

【図13】本発明の反射防止フィルムがラミネートされ
てなる偏光板の層構成を示す。
FIG. 13 shows a layer configuration of a polarizing plate on which the antireflection film of the present invention is laminated.

【図14】本発明の反射防止フィルムがラミネートされ
ている偏光板を使用した液晶表示装置の層構成を示す。
FIG. 14 shows a layer structure of a liquid crystal display device using a polarizing plate on which the antireflection film of the present invention is laminated.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 離型フィルム 2 機能性超微粒子層 3 透明プラスチック基材フィルム 4 ハードコート層 5 機能性超微粒子 6 接着剤層 7 バインダー樹脂 8 Sb2 5 超微粒子 9 低屈折率層 10 高屈折率ハードコート層 11 プライマー層 12 反射防止フィルム 13 偏光素子 14 TACフィルム 15 液晶表示装置First release film 2 functional ultrafine particle layer 3 transparent plastic substrate film 4 Hard coat layer 5 functional ultrafine particles 6 adhesive layer 7 binder resin 8 Sb 2 O 5 ultrafine particles 9 low refractive index layer 10 high-refractive index hardcoat Layer 11 Primer layer 12 Anti-reflection film 13 Polarizer 14 TAC film 15 Liquid crystal display

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C08J 7/04 C08J 7/04 A G02B 1/11 G02B 1/10 A (72)発明者 山下 夏子 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 鈴木 裕子 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 岡 素裕 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 審査官 中田 とし子 (56)参考文献 特開 平7−156326(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B32B 1/00 - 35/00 G02B 1/10 - 1/12 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI C08J 7/04 C08J 7/04 A G02B 1/11 G02B 1/10 A (72) Inventor Natsuko Yamashita Nagiko-cho, Shinjuku-ku, Tokyo 1-1-1 Dai Nippon Printing Co., Ltd. (72) Inventor Yuko Suzuki 1-1-1, Ichigaya Kaga-cho, Shinjuku-ku, Tokyo (72) Inventor Motohiro Oka Ichigaya, Shinjuku-ku, Tokyo 1-1-1, Kagacho Inspector, Dai Nippon Printing Co., Ltd. Toshiko Nakata (56) References JP-A-7-156326 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) B32B 1/00-35/00 G02B 1/10-1/12

Claims (43)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 機能性超微粒子が空気層との界面からハ
ードコート層の内部にかけて極在化して固定されている
ことを特徴とする透明機能性膜。
1. A transparent functional film, wherein the functional ultrafine particles are poled and fixed from the interface with the air layer to the inside of the hard coat layer.
【請求項2】 機能性超微粒子が空気層との界面からハ
ードコート層の内部にかけて極在化して固定され、且つ
空気層と接している機能性超微粒子にハードコート層用
樹脂の薄膜が存在せず機能性超微粒子の一部がハードコ
ート層から露出していることを特徴とする透明機能性
膜。
2. The functional ultrafine particles are polarized and fixed from the interface with the air layer to the inside of the hard coat layer, and the functional ultrafine particles in contact with the air layer have a thin film of the resin for the hard coat layer. A transparent functional film, characterized in that a part of the functional ultrafine particles is exposed from the hard coat layer without performing.
【請求項3】 請求項1又は2記載の透明機能性膜の表
面が微細な凹凸状となっていることを特徴とする透明機
能性膜。
3. The transparent functional film according to claim 1, wherein the surface of the transparent functional film has fine irregularities.
【請求項4】 前記ハードコート層が膜厚0.5μm以
上の樹脂層からなることを特徴とする請求項1、2又は
3記載の透明機能性膜。
4. The transparent functional film according to claim 1, wherein the hard coat layer comprises a resin layer having a thickness of 0.5 μm or more.
【請求項5】 前記ハードコート層が電離放射線硬化型
樹脂を主たる成分としていることを特徴とする請求項
1、2、3又は4記載の透明機能性膜。
5. The transparent functional film according to claim 1, wherein the hard coat layer contains an ionizing radiation curable resin as a main component.
【請求項6】 請求項1、2、3、4又は5記載の透明
機能性膜が、透明プラスチック基材フィルム上に形成さ
れていることを特徴とする透明機能性フィルム。
6. A transparent functional film, wherein the transparent functional film according to claim 1, 2, 3, 4, or 5 is formed on a transparent plastic substrate film.
【請求項7】 請求項1、2、3、4又は5記載の透明
機能性膜が、他の層を介して、透明プラスチック基材フ
ィルム上に形成されていることを特徴とする透明機能性
フィルム。
7. The transparent functional film according to claim 1, wherein the transparent functional film according to claim 1, 2, 3, 4, or 5 is formed on a transparent plastic substrate film via another layer. the film.
【請求項8】 (1)空気層との界面からハードコート
層の内部にかけて低屈折率超微粒子が極在化して固定さ
れているハードコート層が、 (2)透明プラスチック基材フィルム上に固定され、 (3)前記ハードコート層の屈折率は、前記低屈折率超
微粒子の屈折率よりも高いことを特徴とする反射防止フ
ィルム。
8. A hard coat layer in which ultra-fine particles of low refractive index are localized and fixed from the interface with the air layer to the inside of the hard coat layer, and (2) fixed on a transparent plastic substrate film. (3) The antireflection film, wherein the refractive index of the hard coat layer is higher than the refractive index of the ultrafine particles having a low refractive index.
【請求項9】 (1)空気層との界面からハードコート
層の内部にかけて低屈折率超微粒子が極在化して固定さ
れ且つ該低屈折率超微粒子の一部が該ハードコート層の
表面から露出してなるハードコート層が、 (2)透明プラスチック基材フィルム上に固定され、 (3)前記ハードコート層の屈折率は、前記低屈折率超
微粒子の屈折率よりも高いことを特徴とする反射防止フ
ィルム。
9. (1) From the interface with the air layer to the inside of the hard coat layer, the ultra-fine particles of low refractive index are localized and fixed, and a part of the ultra-fine particles of low refractive index is partially removed from the surface of the hard coat layer. The exposed hard coat layer is fixed on (2) a transparent plastic substrate film, and (3) the refractive index of the hard coat layer is higher than the refractive index of the low refractive index ultrafine particles. Anti-reflection film.
【請求項10】 (1)ハードコート層の表面から内部
にかけて高屈折率超微粒子が極在化して固定されている
ハードコート層が、 (2)該ハードコート層の裏面において透明プラスチッ
ク基材フィルム上に固定され、 (3)前記高屈折率超微粒子が極在化している前記ハー
ドコート層の表面上に、さらに低屈折率層が形成されて
おり、 (4)前記ハードコート層の屈折率は、前記高屈折率超
微粒子の屈折率よりも低いことを特徴とする反射防止フ
ィルム。
10. The hard coat layer in which ultra-high refractive index ultrafine particles are localized and fixed from the surface to the inside of the hard coat layer, and (2) a transparent plastic substrate film on the back surface of the hard coat layer (3) a low refractive index layer is further formed on the surface of the hard coat layer on which the high refractive index ultrafine particles are localized; (4) a refractive index of the hard coat layer Is an antireflection film characterized by having a refractive index lower than that of the high refractive index ultrafine particles.
【請求項11】 (1)ハードコート層の表面から内部
にかけて高屈折率超微粒子が極在化して固定され且つ該
高屈折率超微粒子の一部が該ハードコート層の表面から
露出してなるハードコート層が、 (2)透明プラスチック基材フィルム上に固定され、 (3)前記高屈折率超微粒子が極在化し、且つ該高屈折
率超微粒子の一部が該ハードコート層の表面から露出し
ている方の前記ハードコート層の表面上に、さらに低屈
折率層が形成されており、 (4)前記ハードコート層の屈折率は、前記高屈折率超
微粒子の屈折率よりも低いことを特徴とする反射防止フ
ィルム。
(1) High refractive index ultrafine particles are localized and fixed from the surface to the inside of the hard coat layer, and a part of the high refractive index ultrafine particles is exposed from the surface of the hard coat layer. (2) the high-refractive-index ultrafine particles are localized, and a part of the high-refractive-index ultrafine particles is partially removed from the surface of the hard coat layer. A low refractive index layer is further formed on the exposed surface of the hard coat layer, and (4) the refractive index of the hard coat layer is lower than the refractive index of the high refractive index ultrafine particles. An anti-reflection film, characterized in that:
【請求項12】 請求項8、9、10又は11記載の反
射防止フィルムの表面が微細な凹凸状となっていること
を特徴とする請求項8、9、10及び11記載の反射防
止フィルム。
12. The anti-reflection film according to claim 8, 9, 10 or 11, wherein the surface of the anti-reflection film according to claim 8, 9, 10 or 11 has fine irregularities.
【請求項13】 前記ハードコート層が膜厚0.5μm
以上の樹脂層からなることを特徴とする請求項8、9、
10、11又は12記載の反射防止フィルム。
13. The hard coat layer has a thickness of 0.5 μm.
10. The method according to claim 8, comprising the resin layer described above.
13. The antireflection film according to 10, 11, or 12.
【請求項14】 前記ハードコート層が電離放射線硬化
型樹脂を主たる成分としていることを特徴とする請求項
8、9、10、11、12又は13記載の反射防止フィ
ルム。
14. The anti-reflection film according to claim 8, wherein the hard coat layer comprises an ionizing radiation-curable resin as a main component.
【請求項15】 前記ハードコート層と前記透明プラス
チック基材フィルムの間に、他の層が介していることを
特徴とする請求項8、9、10、11、12、13又は
14記載の反射防止フィルム。
15. The reflection according to claim 8, 9, 10, 11, 12, 13, or 14, wherein another layer is interposed between the hard coat layer and the transparent plastic substrate film. Prevention film.
【請求項16】 (1)離型フィルム上に機能性超微粒
子層を形成し、 (2)一方、透明プラスチック基材フィルム上にハード
コート層用樹脂組成物を塗工し、 (3)前記ハードコート層用樹脂組成物が溶剤で希釈さ
れている場合には溶剤乾燥した後に、前記ハードコート
層用樹脂組成物が溶剤を含有していない場合にはそのま
まで、前記工程で得られた離型フィルムの機能性超微粒
子層側の面と、前記工程で得られた透明プラスチック基
材フィルムのハードコート層用樹脂組成物側の面を圧着
してラミネートして、機能性超微粒子層をハードコート
層用樹脂組成物中に埋没させるか又は機能性超微粒子層
の一部を埋没させ、 (4)前記工程で得られたラミネート物をフルキュアー
させた後、離型フィルムを剥離して機能性超微粒子層を
透明プラスチック基材フィルム側に転写することを特徴
とする透明機能性フィルムの製造方法。
(1) forming a functional ultrafine particle layer on a release film; (2) applying a resin composition for a hard coat layer on a transparent plastic substrate film; When the resin composition for a hard coat layer is diluted with a solvent, the solvent is dried, and when the resin composition for a hard coat layer does not contain a solvent, it is left as it is in the above step. The surface of the functional ultra-fine particle layer side of the mold film and the surface of the transparent plastic substrate film obtained in the above step on the side of the resin composition for the hard coat layer are pressure-bonded and laminated to form the functional ultra-fine particle layer hard. Embedded in the resin composition for the coating layer or embedded in a part of the functional ultrafine particle layer; (4) after fully curing the laminate obtained in the above step, peeling off the release film to function Transparent ultrafine particle layer A method for producing a transparent functional film, comprising transferring the film to a plastic substrate film side.
【請求項17】 (1)離型フィルム上に機能性超微粒
子層を形成し、 (2)一方、透明プラスチック基材フィルム上にハード
コート層用樹脂組成物を塗工し、 (3)前記ハードコート層用樹脂組成物が溶剤で希釈さ
れている場合には溶剤乾燥した後に、前記ハードコート
層用樹脂組成物が溶剤を含有していない場合にはそのま
まで、前記工程で得られた離型フィルムの機能性超微粒
子層側の面と、前記工程で得られた透明プラスチック基
材フィルムのハードコート層用樹脂組成物側の面を圧着
してラミネートして、機能性超微粒子層をハードコート
層用樹脂組成物中に埋没させるか又は機能性超微粒子層
の一部を埋没させ、 (4)前記工程で得られたラミネート物をハーフキュア
ーさせた後、離型フィルムを剥離して機能性超微粒子層
を前記透明プラスチック基材フィルム側に転写し、 (5)ハーフキュアーされた前記ハードコート層上に他
の機能性膜を形成し、 (6)次いで、フルキュアーさせることを特徴とする透
明機能性フィルムの製造方法。
(1) forming a functional ultrafine particle layer on a release film; (2) applying a resin composition for a hard coat layer on a transparent plastic substrate film; When the resin composition for a hard coat layer is diluted with a solvent, the solvent is dried, and when the resin composition for a hard coat layer does not contain a solvent, it is left as it is in the above step. The surface of the functional ultra-fine particle layer side of the mold film and the surface of the transparent plastic substrate film obtained in the above step on the side of the resin composition for the hard coat layer are pressure-bonded and laminated to form the functional ultra-fine particle layer hard. Embedded in the resin composition for the coat layer or embedded in a part of the functional ultrafine particle layer; (4) half-curing the laminate obtained in the above step, and then releasing the release film to function In front of conductive ultrafine particle layer (5) Forming another functional film on the half-cured hard coat layer, and (6) Next, performing full curing on the half-cured hard coat layer. Manufacturing method.
【請求項18】 (1)離型フィルム上に機能性超微粒
子層を形成し、 (2)該機能性超微粒子層上に、ハードコート層用樹脂
組成物を機能性超微粒子層の膜厚以上となるように塗工
して、機能性超微粒子層をハードコート層用樹脂中に埋
没させるか又は機能性超微粒子層の一部を埋没させ、フ
ルキュアーさせてハードコート層を形成し、 (3)該ハードコート層が形成された離型フィルムのハ
ードコート層側を内側にし、接着剤層を介して、透明プ
ラスチック基材フィルムとラミネートし、 (4)前記工程で得られたラミネート物から離型フィル
ムを剥離してハードコート層を透明プラスチック基材フ
ィルム側に転写することを特徴とする透明機能性フィル
ムの製造方法。
(18) A functional ultrafine particle layer is formed on a release film, and (2) a resin composition for a hard coat layer is coated on the functional ultrafine particle layer with a thickness of the functional ultrafine particle layer. Coating as described above, the functional ultrafine particle layer is buried in the resin for the hard coat layer or a part of the functional ultrafine particle layer is buried, fully cured to form a hard coat layer, (3) Laminating with a transparent plastic substrate film via an adhesive layer with the hard coat layer side of the release film having the hard coat layer formed inside, and (4) the laminate obtained in the above step A method for producing a transparent functional film, comprising: releasing a release film from a substrate and transferring a hard coat layer to a transparent plastic substrate film side.
【請求項19】 (1)離型フィルム上に機能性超微粒
子層を形成し、 (2)該機能性超微粒子層上に、ハードコート層用樹脂
組成物を機能性超微粒子層の膜厚以上となるように塗工
して、機能性超微粒子層をハードコート層用樹脂中に埋
没させるか又は機能性超微粒子層の一部を埋没させ、ハ
ーフキュアーさせてハードコート層を形成し、 (3)該ハードコート層が形成された離型フィルムのハ
ードコート層側を内側にし、接着剤層を介して、透明プ
ラスチック基材フィルムとラミネートし、 (4)前記工程で得られたラミネート物から前記離型フ
ィルムを剥離して前記ハードコート層を前記透明プラス
チック基材フィルム側に転写し、 (5)ハーフキュアーされた前記ハードコート層上に他
の機能性膜を形成し、 (6)前記ハードコート層をフルキュアーさせることを
特徴とする透明機能性フィルムの製造方法。
(19) A functional ultrafine particle layer is formed on a release film, and (2) a resin composition for a hard coat layer is coated on the functional ultrafine particle layer with a thickness of the functional ultrafine particle layer. Coating as described above, the functional ultrafine particle layer is buried in the resin for the hard coat layer or a part of the functional ultrafine particle layer is buried, half-cured to form a hard coat layer, (3) Laminating with a transparent plastic substrate film via an adhesive layer with the hard coat layer side of the release film having the hard coat layer formed inside, and (4) the laminate obtained in the above step (5) forming another functional film on the half-cured hard coat layer; (6) forming the functional film on the half-cured hard coat layer; The hard coat The method for producing a transparent functional film, characterized in that to fully cure the layer.
【請求項20】 (1)離型フィルム上に機能性超微粒
子層を形成し、 (2)該機能性超微粒子層上に、ハードコート層用樹脂
組成物を機能性超微粒子層の膜厚以上となるように塗工
して、機能性超微粒子層をハードコート層用樹脂中に埋
没させるか又は機能性超微粒子層の一部を埋没させ、 (3)該ハードコート層用樹脂組成物が塗工された離型
フィルムの該ハードコート層用樹脂組成物の側を内側に
して透明プラスチック基材フィルムとラミネートし、フ
ルキュアーさせてハードコート層を形成し、 (4)前記工程で得られたラミネート物から離型フィル
ムを剥離してハードコート層を透明プラスチック基材フ
ィルム側に転写することを特徴とする透明機能性フィル
ムの製造方法。
20. (1) forming a functional ultrafine particle layer on a release film; and (2) coating a resin composition for a hard coat layer on the functional ultrafine particle layer with a thickness of the functional ultrafine particle layer. By coating as described above, the functional ultrafine particle layer is buried in the resin for the hard coat layer or a part of the functional ultrafine particle layer is buried, (3) the resin composition for the hard coat layer The release film coated with is laminated with a transparent plastic substrate film with the side of the resin composition for a hard coat layer facing inside, and fully cured to form a hard coat layer. (4) Obtained in the above step A method for producing a transparent functional film, comprising: releasing a release film from the obtained laminate and transferring a hard coat layer to a transparent plastic substrate film side.
【請求項21】 (1)離型フィルム上に機能性超微粒
子層を形成し、 (2)該機能性超微粒子層上に、ハードコート層用樹脂
組成物を機能性超微粒子層の膜厚以上となるように塗工
して、機能性超微粒子層をハードコート層用樹脂中に埋
没させるか又は機能性超微粒子層の一部を埋没させ、 (3)該ハードコート層用樹脂組成物が塗工された離型
フィルムの該ハードコート層用樹脂組成物の側を内側に
して透明プラスチック基材フィルムとラミネートし、ハ
ーフキュアーさせてハードコート層を形成し、 (4)前記工程で得られたハーフキュアーラミネート物
から離型フィルムを剥離してハードコート層を透明プラ
スチック基材フィルム側に転写し、 (5)ハーフキュアーされた前記ハードコート層上に他
の機能性膜を形成し、 (6)前記ハードコート層をフルキュアーさせることを
特徴とする透明機能性フィルムの製造方法。
21. (1) A functional ultrafine particle layer is formed on a release film, and (2) a resin composition for a hard coat layer is coated on the functional ultrafine particle layer with a thickness of the functional ultrafine particle layer. By coating as described above, the functional ultrafine particle layer is buried in the resin for the hard coat layer or a part of the functional ultrafine particle layer is buried, (3) the resin composition for the hard coat layer The coated release film was laminated with a transparent plastic substrate film with the side of the resin composition for a hard coat layer facing inward, and half-cured to form a hard coat layer. (4) Obtained in the above step Peeling off the release film from the obtained half-cured laminate and transferring the hard coat layer to the transparent plastic substrate film side; (5) forming another functional film on the half-cured hard coat layer; (6) Before The method for producing a transparent functional film, characterized in that to fully cure the hard coat layer.
【請求項22】 前記、機能性超微粒子層をハードコー
ト層用樹脂中に埋没させるか又は機能性超微粒子層の一
部を埋没させる方法は、ハードコート層用樹脂の粘度、
該樹脂の種類、該樹脂の表面張力、機能性超微粒子の粒
径、該超微粒子の充填率、ハードコート層用樹脂と機能
性超微粒子との濡れ性によって制御されるものであるこ
とを特徴とする請求項16、17、18、19、20又
は21記載の透明機能性フィルムの製造方法。
22. The method of embedding the functional ultrafine particle layer in the resin for the hard coat layer or embedding a part of the functional ultrafine particle layer includes the steps of:
It is controlled by the type of the resin, the surface tension of the resin, the particle size of the functional ultrafine particles, the filling rate of the ultrafine particles, and the wettability between the resin for the hard coat layer and the functional ultrafine particles. The method for producing a transparent functional film according to claim 16, 17, 18, 19, 20, or 21.
【請求項23】 前記ハードコート層用樹脂組成物が、
電離放射線硬化型樹脂を主たる成分とすることを特徴と
する請求項16、17、18、19、20、21又は2
2記載の透明機能性フィルムの製造方法。
23. The resin composition for a hard coat layer,
The ionizing radiation-curable resin is used as a main component.
3. The method for producing a transparent functional film according to 2.
【請求項24】 前記ハードコート層用樹脂組成物が、
塗工時に指触乾燥状態の樹脂であることを特徴とする請
求項16、17、18、19、20、21、22又は2
3記載の透明機能性フィルムの製造方法。
24. The resin composition for a hard coat layer,
The resin is in a touch-dry state at the time of coating, wherein the resin is in a dry state.
4. The method for producing a transparent functional film according to 3.
【請求項25】 前記ハードコート層用樹脂組成物が、
電離放射線硬化型樹脂を主たる成分とし且つ熱硬化性樹
脂を含有していることを特徴とする請求項16、17、
18、19、20、21、22、23又は24記載の透
明機能性フィルムの製造方法。
25. The resin composition for a hard coat layer,
18. An ionizing radiation-curable resin as a main component, and containing a thermosetting resin.
18. The method for producing a transparent functional film according to 18, 19, 20, 21, 22, 23 or 24.
【請求項26】 前記離型フィルム上に形成された機能
性超微粒子層が、機能性超微粒子がそのバインダー樹脂
に完全に埋没されない程度の量のバインダー樹脂を含有
していることを特徴とする請求項16、17、18、1
9、20、21、22、23、24又は25記載の透明
機能性フィルムの製造方法。
26. The functional ultrafine particle layer formed on the release film contains a binder resin in such an amount that the functional ultrafine particles are not completely buried in the binder resin. Claims 16, 17, 18, 1
9. The method for producing a transparent functional film according to 9, 20, 21, 22, 23, 24 or 25.
【請求項27】 前記機能性超微粒子は、カップリング
剤によりその表面に疎水性が付与されていることを特徴
とする請求項16、17、18、19、20、21、2
2、23、24、25又は26記載の透明機能性フィル
ムの製造方法。
27. The functional ultrafine particle, wherein the surface thereof is imparted with hydrophobicity by a coupling agent.
27. The method for producing a transparent functional film according to 2, 23, 24, 25 or 26.
【請求項28】 前記離型フィルムは、その表面に微細
な凹凸が形成されていることを特徴とする請求項16、
17、18、19、20、21、22、23、24、2
5、26又は27記載の透明機能性フィルムの製造方
法。
28. The release film according to claim 16, wherein fine irregularities are formed on a surface of the release film.
17, 18, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 2
28. The method for producing a transparent functional film according to 5, 26 or 27.
【請求項29】 (1)離型フィルム上に高屈折率超微
粒子層を形成し、 (2)一方、透明プラスチック基材フィルム上に、前記
高屈折率超微粒子層の屈折率より低い屈折率を持つハー
ドコート層用樹脂組成物を塗工し、 (3)前記ハードコート層用樹脂組成物が溶剤で希釈さ
れている場合には溶剤乾燥した後に、前記ハードコート
層用樹脂組成物が溶剤を含有していない場合にはそのま
まで、前記工程で得られた離型フィルムの高屈折率超微
粒子層側の面と、前記工程で得られた透明プラスチック
基材フィルムのハードコート層用樹脂組成物側の面を圧
着してラミネートして、高屈折率超微粒子層をハードコ
ート層用樹脂組成物中に埋没させるか又は高屈折率超微
粒子層の一部を埋没させ、 (4)前記工程で得られたラミネート物をフルキュアー
させてハードコート層を形成した後、離型フィルムを剥
離して高屈折率超微粒子層を透明プラスチック基材フィ
ルム側に転写し、 (5)次いで、前記ハードコート層上に低屈折率層を形
成することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
29. (1) forming a high-refractive-index ultrafine particle layer on a release film; and (2) a refractive index lower than the refractive index of the high-refractive-index ultrafine particle layer on a transparent plastic substrate film. (3) When the resin composition for a hard coat layer is diluted with a solvent, the solvent is dried, and then the resin composition for a hard coat layer is coated with a solvent. If it does not contain, as it is, the surface of the release film obtained in the above step on the high refractive index ultrafine particle layer side, the resin composition for the hard coat layer of the transparent plastic substrate film obtained in the above step The object side surface is pressed and laminated, and the high refractive index ultrafine particle layer is buried in the resin composition for the hard coat layer, or a part of the high refractive index ultrafine particle layer is buried in the resin composition for the hard coat layer. The laminate obtained in After forming a hard coat layer, the release film is peeled off and the high refractive index ultrafine particle layer is transferred to the transparent plastic substrate film side. (5) Then, a low refractive index layer is formed on the hard coat layer. Forming an anti-reflection film.
【請求項30】 (1)離型フィルム上に高屈折率超微
粒子層を形成し、 (2)一方、透明プラスチック基材フィルム上に、前記
高屈折率超微粒子層の屈折率より低い屈折率を持つハー
ドコート層用樹脂組成物を塗工し、 (3)前記ハードコート層用樹脂組成物が溶剤で希釈さ
れている場合には溶剤乾燥した後に、前記ハードコート
層用樹脂組成物が溶剤を含有していない場合にはそのま
まで、前記工程で得られた離型フィルムの高屈折率超微
粒子層側の面と、前記工程で得られた透明プラスチック
基材フィルムのハードコート層用樹脂組成物側の面を圧
着してラミネートして、高屈折率超微粒子層をハードコ
ート層用樹脂組成物中に埋没させるか又は高屈折率超微
粒子層の一部を埋没させ、 (4)前記工程で得られたラミネート物をハーフキュア
ーさせてハードコート層を形成した後、離型フィルムを
剥離して高屈折率超微粒子層を透明プラスチック基材フ
ィルム側に転写し、 (5)ハーフキュアーされた前記ハードコート層上に、
低屈折率層を形成し、 (6)次いで、前記ハードコート層をフルキュアーさせ
ることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
30. (1) forming a high-refractive-index ultrafine particle layer on a release film; and (2) a refractive index lower than the refractive index of the high-refractive-index ultrafine particle layer on a transparent plastic substrate film. (3) When the resin composition for a hard coat layer is diluted with a solvent, the solvent is dried, and then the resin composition for a hard coat layer is coated with a solvent. If it does not contain, as it is, the surface of the release film obtained in the above step on the high refractive index ultrafine particle layer side, the resin composition for the hard coat layer of the transparent plastic substrate film obtained in the above step The object side surface is pressed and laminated, and the high refractive index ultrafine particle layer is buried in the resin composition for the hard coat layer, or a part of the high refractive index ultrafine particle layer is buried in the resin composition for the hard coat layer. Half of the laminate obtained in After curing to form a hard coat layer, the release film is peeled off to transfer the high refractive index ultrafine particle layer to the transparent plastic substrate film side. (5) On the half-cured hard coat layer,
(6) A method for producing an antireflection film, wherein the hard coat layer is fully cured.
【請求項31】 (1)離型フィルム上に高屈折率超微
粒子層を形成し、 (2)該高屈折率超微粒子層上に、高屈折率超微粒子層
屈折率より低い屈折率を持つハードコート層用樹脂組
成物を高屈折率超微粒子層の膜厚以上となるように塗工
して、高屈折率超微粒子層をハードコート層用樹脂中に
埋没させるか又は高屈折率層超微粒子層の一部を埋没さ
せ、フルキュアーさせてハードコート層を形成し、
(3)該ハードコート層が形成された離型フィルムのハ
ードコート層側を内側にし、接着剤層を介して、透明プ
ラスチック基材フィルムとラミネートし、 (4)前記工程で得られたラミネート物から離型フィル
ムを剥離してハードコート層を透明プラスチック基材フ
ィルム側に転写し、 (5)次いで、前記ハードコート層上に低屈折率層を形
成することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
31. (1) a high refractive index ultrafine particle layer formed on a release film, (2) in the high refractive index ultrafine particles layer, refractive index lower than the refractive index of the high refractive index ultrafine particles layer Coating the resin composition for a hard coat layer having a thickness of the high refractive index ultrafine particle layer or more, or burying the high refractive index ultrafine particle layer in the resin for the hard coat layer or the high refractive index layer A part of the ultrafine particle layer is buried and fully cured to form a hard coat layer,
(3) Laminating with a transparent plastic substrate film via an adhesive layer with the hard coat layer side of the release film having the hard coat layer formed inside, and (4) the laminate obtained in the above step (5) Then, a low refractive index layer is formed on the hard coat layer to produce an anti-reflection film. Method.
【請求項32】 (1)離型フィルム上に高屈折率超微
粒子層を形成し、 (2)該高屈折率超微粒子層上に、高屈折率超微粒子層
屈折率より低い屈折率を持つハードコート層用樹脂組
成物を高屈折率超微粒子層の膜厚以上となるように塗工
して、高屈折率超微粒子層をハードコート層用樹脂中に
埋没させるか又は高屈折率層超微粒子層の一部を埋没さ
せ、ハーフキュアーさせてハードコート層を形成し、 (3)該ハードコート層が形成された離型フィルムのハ
ードコート層側を内側にし、接着剤層を介して、透明プ
ラスチック基材フィルムとラミネートし、 (4)前記工程で得られたラミネート物から離型フィル
ムを剥離してハードコート層を透明プラスチック基材フ
ィルム側に転写し、 (5)ハーフキュアーされた前記ハードコート層上に低
屈折率層を形成し、 (6)前記ハードコート層をフルキュアーさせることを
特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
32. (1) forming a high-refractive index ultrafine particles layer on a release film, (2) in the high refractive index ultrafine particles layer, refractive index lower than the refractive index of the high refractive index ultrafine particles layer Coating the resin composition for a hard coat layer having a thickness of the high refractive index ultrafine particle layer or more, or burying the high refractive index ultrafine particle layer in the resin for the hard coat layer or the high refractive index layer A part of the ultra-fine particle layer is buried and half-cured to form a hard coat layer. (3) The hard coat layer side of the release film on which the hard coat layer is formed is set to the inside, and via the adhesive layer (4) The release film was peeled off from the laminate obtained in the above step, and the hard coat layer was transferred to the transparent plastic substrate film side. (5) Half-cured The hard coat layer Low refractive index layer is formed, (6) the production method of the antireflective film, characterized in that to fully cure the hard coat layer.
【請求項33】 (1)離型フィルム上に高屈折率超微
粒子層を形成し、 (2)該高屈折率超微粒子層上に、高屈折率超微粒子層
屈折率より低い屈折率を持つハードコート層用樹脂組
成物を高屈折率超微粒子層の膜厚以上となるように塗工
して、高屈折率超微粒子層をハードコート層用樹脂中に
埋没させるか又は高屈折率層超微粒子層の一部を埋没さ
せ、 (3)該ハードコート層用樹脂組成物が塗工された前記
離型フィルムのハードコート層用樹脂組成物の側を内側
にして透明プラスチック基材フィルムとラミネートし、
フルキュアーさせてハードコート層を形成し、 (4)前記工程で得られたラミネート物から離型フィル
ムを剥離してハードコート層を透明プラスチック基材フ
ィルム側に転写し、 (5)次いで、前記ハードコート層上に低屈折率層を形
成することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
33. (1) forming a high-refractive index ultrafine particles layer on a release film, (2) in the high refractive index ultrafine particles layer, refractive index lower than the refractive index of the high refractive index ultrafine particles layer Coating the resin composition for a hard coat layer having a thickness of the high refractive index ultrafine particle layer or more, or burying the high refractive index ultrafine particle layer in the resin for the hard coat layer or the high refractive index layer A part of the ultrafine particle layer is buried; (3) a transparent plastic substrate film with the side of the resin composition for hard coat layer of the release film coated with the resin composition for hard coat layer facing inside; Laminate,
(4) peeling off the release film from the laminate obtained in the above step to transfer the hard coat layer to the transparent plastic substrate film side; (5) A method for producing an antireflection film, comprising forming a low refractive index layer on a hard coat layer.
【請求項34】 (1)離型フィルム上に高屈折率超微
粒子層を形成し、 (2)該高屈折率超微粒子層上に、高屈折率超微粒子層
屈折率より低い屈折率を持つハードコート層用樹脂組
成物を高屈折率超微粒子層の膜厚以上となるように塗工
して、高屈折率超微粒子層をハードコート層用樹脂中に
埋没させるか又は高屈折率層超微粒子層の一部を埋没さ
せ、 (3)該ハードコート層用樹脂組成物が塗工された前記
離型フィルムのハードコート層用樹脂組成物の側を内側
にして透明プラスチック基材フィルムとラミネートし、
ハーフキュアーさせてハードコート層を形成し、 (4)前記工程で得られたハーフキュアーラミネート物
から離型フィルムを剥離してハードコート層を透明プラ
スチック基材フィルム側に転写し、 (5)ハーフキュアーされた前記ハードコート層上に低
屈折率層を形成し、 (6)前記ハードコート層をフルキュアーさせることを
特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
34. (1) forming a high-refractive index ultrafine particles layer on a release film, (2) in the high refractive index ultrafine particles layer, refractive index lower than the refractive index of the high refractive index ultrafine particles layer Coating the resin composition for a hard coat layer having a thickness of the high refractive index ultrafine particle layer or more, or burying the high refractive index ultrafine particle layer in the resin for the hard coat layer or the high refractive index layer A part of the ultrafine particle layer is buried; (3) a transparent plastic substrate film with the side of the resin composition for hard coat layer of the release film coated with the resin composition for hard coat layer facing inside; Laminate,
(4) peeling off the release film from the half-cured laminate obtained in the above step and transferring the hard-coat layer to the transparent plastic substrate film side; (6) A method for producing an antireflection film, comprising: forming a low refractive index layer on the cured hard coat layer; and (6) fully curing the hard coat layer.
【請求項35】 前記、高屈折率超微粒子層をハードコ
ート層用樹脂中に埋没させるか又は高屈折率超微粒子層
の一部を埋没させる方法は、ハードコート層用樹脂の粘
度、該樹脂の種類、該樹脂の表面張力、高屈折率超微粒
子の粒径、高屈折率超微粒子の充填率、ハードコート層
用樹脂と高屈折率超微粒子との濡れ性によって制御され
るものであることを特徴とする請求項29、30、3
1、32、33又は34記載の透明機能性フィルムの製
造方法。
35. The method of embedding the high-refractive-index ultrafine particle layer in the resin for the hard coat layer or embedding a part of the high-refractive-index ultrafine particle layer in the resin for the hard coat layer, , The surface tension of the resin, the particle size of the high refractive index ultrafine particles, the filling rate of the high refractive index ultrafine particles, and the wettability between the resin for the hard coat layer and the high refractive index ultrafine particles. 29. The method of claim 29, 30, or 3,
35. The method for producing a transparent functional film according to 1, 32, 33 or 34.
【請求項36】 前記ハードコート層用樹脂組成物が、
電離放射線硬化型樹脂を主たる成分とすることを特徴と
する請求項29、30、31、32、33、34又は3
5記載の反射防止フィルムの製造方法。
36. The resin composition for a hard coat layer,
The ionizing radiation curable resin is used as a main component.
6. The method for producing the antireflection film according to 5.
【請求項37】 前記ハードコート層用樹脂組成物が、
塗工時に指触乾燥状態の樹脂であることを特徴とする請
求項29、30、31、32、33、34、35又は3
6記載の反射防止フィルムの製造方法。
37. The resin composition for a hard coat layer,
The resin is in a dry-to-touch state at the time of coating, wherein the resin is in a dry state.
7. The method for producing an antireflection film according to item 6.
【請求項38】 前記ハードコート層用樹脂組成物が、
電離放射線硬化型樹脂を主たる成分とし且つ熱硬化性樹
脂を含有していることを特徴とする請求項29、30、
31、32、33、34、35、36又は37記載の反
射防止フィルムの製造方法。
38. The resin composition for a hard coat layer,
31. An ionizing radiation-curable resin as a main component and containing a thermosetting resin.
The method for producing an antireflection film according to 31, 32, 33, 34, 35, 36 or 37.
【請求項39】 前記離型フィルム上に形成された高屈
折率超微粒子層が、高屈折率超微粒子がそのバインダー
樹脂に完全に埋没されない程度の量のバインダー樹脂を
含有していることを特徴とする請求項29、30、3
1、32、33、34、35、36、37又は38記載
の反射防止フィルムの製造方法。
39. The high refractive index ultrafine particle layer formed on the release film contains a binder resin in such an amount that the high refractive index ultrafine particles are not completely buried in the binder resin. Claims 29, 30, and 3
The method for producing an antireflection film according to 1, 32, 33, 34, 35, 36, 37 or 38.
【請求項40】 前記高屈折率超微粒子は、その表面が
カップリング剤により疎水性が付与されている請求項2
9、30、31、32、33、34、35、36、3
7、38又は39記載の反射防止フィルムの製造方法。
40. The surface of the high refractive index ultrafine particles is provided with hydrophobicity by a coupling agent.
9, 30, 31, 32, 33, 34, 35, 36, 3,
40. The method for producing an antireflection film according to 7, 38 or 39.
【請求項41】 前記離型フィルムは、その表面に微細
な凹凸が形成されている請求項29、30、31、3
2、33、34、35、36、37、38、39又は4
0記載の反射防止フィルムの製造方法。
41. The release film having fine irregularities formed on the surface thereof.
2, 33, 34, 35, 36, 37, 38, 39 or 4
0. The method for producing an antireflection film according to 0.
【請求項42】 前記低屈折率層は、塗布によって形成
されたものである請求項29、30、31、32、3
3、34、35、36、37、38、39、40又は4
1記載の反射防止フィルムの製造方法。
42. The low refractive index layer is formed by coating.
3, 34, 35, 36, 37, 38, 39, 40 or 4
2. The method for producing the antireflection film according to 1.
【請求項43】 前記低屈折率層は、気相法によって形
成されたものである請求項29、30、31、32、3
3、34、35、36、37、38、39、40又は4
1記載の反射防止フィルムの製造方法。
43. The low-refractive-index layer is formed by a vapor phase method.
3, 34, 35, 36, 37, 38, 39, 40 or 4
2. The method for producing the antireflection film according to 1.
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