JP3326430B2 - 低温気相連続蒸解カンおよびその使用方法 - Google Patents
低温気相連続蒸解カンおよびその使用方法Info
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Description
蒸解カンに関し、特に、満液式蒸解カンの利点を有しつ
つ、液面上にガス充満ゾーンがある気相蒸解カンの特徴
を生かす装置および方法に関する。
蒸解して、紙製品の原料であるセルロースパルプを製造
する技術には、実質的に二種の蒸解カン:満液蒸解カン
と、2相(または気相)蒸解カンとがある。満液蒸解カ
ンは、耐圧の槽で、内部に細砕セルロース繊維材と液が
満杯になっているものであり、この槽へ液を入れたりあ
るいは槽かから液を抜いたりすると、通常大気圧より高
い槽内圧力は影響を受ける。気相蒸解カンは、液が満杯
になっておらず、頂部には大気圧より高い圧力のスチー
ムが充満している。このガスゾーンは、下部の液ゾーン
に較べて圧縮性が高いので、気相蒸解カン内の圧力は、
普通、蒸解カン頂部に存在するガスの圧力によって定ま
る。従来技術の気相蒸解カンは、米国特許第3,38
0,883号、第3,429,773号、第3,53
2,594号、第3,578,554号および第3,8
02,956号に記載されている。
応させて化学パルプを製造するには、140〜180℃
の範囲の温度が必要である。大気圧条件では、セルロー
ス材を処理するのに使われる薬剤水溶液は、そのような
温度では沸騰してしまうので、商業的化学パルプ製造工
程は、少なくとも約5バールゲージ(すなわち、少なく
とも約70psiゲージ)の圧力の下で耐圧槽の中で行
われるのが普通である。
な差の一つは、蒸解カンの内容物が所望の140〜18
0℃へ如何に加熱されるかである。満液蒸解カンでは、
細砕セルロース繊維材(普通は木材チップ)と蒸解液と
は、加熱液循環手段、すなわち、一本または複数の循環
ループによって加熱されるのが普通である。液は、普
通、蒸解カンから、例えば、円環式スクリーンアセンブ
リとポンプとを用いて抜き出され、間接熱交換器でスチ
ームで加熱され、槽の中心に挿入されているパイプを用
いて槽内のセルロース材に再導入される。気相蒸解カン
では、チップは、スチームにチップを曝すことによって
加熱されるのが普通である。このスチーム加熱は、蒸解
カンの頂部にあるスチーム充満ゾーンにチップが導入さ
れる時に行われるのが普通である。
解カンとの操作は、槽内のチップと液のレベルを監視、
制御するのに用いられる方法においても異なる。満液蒸
解カンは液が満杯であるので、チップのレベルだけを監
視すればよい。満液蒸解カンのチップレベルは、普通、
機械式回転羽根を用いて監視される。回転羽根の曲がり
を電子式ストレインゲージなどのデバイスで検出する。
普通は二個以上、好ましくは三個以上の電子/機械式デ
バイスを満液蒸解カンの内面に備える。回転羽根の位置
にチップがあるかないかは、チップで各回転羽根が曲が
るか動かされる程度で決定される。各回転羽根の動かさ
れかたは、ストレインゲージで検出され、満液蒸解カン
内のチップの概略レベルが数学的アルゴリズムで決定さ
れ、パーセント表示される。オペレーターは、満液蒸解
カン出入のパルプ量を変えてチップレベルを変化させる
ことができる。
し、制御しなければならない。チップのレベルは、満液
蒸解カンと同様であるが、これに液のレベルが加わる。
しかし、満液蒸解カンとは異なり、気相蒸解カンではチ
ップは蒸解カンの頂部の液に浸漬してはいない。気相蒸
解カンの性質上、チップを加熱スチームに直接曝す必要
があるので、気相蒸解カンのチップレベルは液面の上に
なる。この浸漬されていない(露出した)チップ面は、
普通、蒸解カンの側面に取り付けられたガンマ線放射/
検出デバイスで検出される。気相蒸解カンの液面は、従
来の液圧検出デバイス、例えば、「DPセル」で検出さ
れる。
なる機械装置で導入される。木材チップ、または他の細
砕セルロース繊維材は、普通、別個の供給装置を用いて
連続蒸解カンの入口へ供給される。供給装置に普通備え
られるのは、脱気、加熱、加圧の装置や、チップと液と
のスラリーを蒸解カンへ移送する前にチップに蒸解液を
混ぜる装置である。満液蒸解カンの場合は、このチップ
/液スラリーは、技術に「トップセパレータ」と呼ばれ
る下向きのスクリュー式コンベヤーで導入される。気相
蒸解カンでは、スラリーが気相へ導入されるので、チッ
プ/液のスラリーは、スクリュー式コンベヤーで上向き
に輸送され、コンベヤーの頂部でチップと液が溢流し、
スチーム充満の雰囲気に自由落下する。この上向き流
と、チップと液の溢流とは、気相蒸解カンに理想的に適
合したものである。スラリーを蒸解カンへ導入する時の
ガスの漏洩が防止されるとともに、過剰の液を除去する
のに堰式液貯留部ができるからである。この装置は、
「反転式トップセパレーター」として技術に知られてい
る。両装置とも、スラリーから過剰の液を分離し、この
液を、スラリー化用の源として供給システム(例えば、
従来の高圧フィーダー)へ戻すことができる。これらの
装置の機能は同じようなものではあるが、蒸解カンの形
式に応じて明確に適用される。
と操作は、明確に異なるものである。一の形式の蒸解カ
ンを他の形式の蒸解カンと同じように操作しようという
ことは、当業者なら考えもしない筈である。少なくとも
それぞれの蒸解カンに顕著な改造を加えなければならな
い。例えば、気相蒸解カンには、満液蒸解カンの加熱に
必要な円環式スクリーンや液循環は同じ数だけは備わっ
ていないのが普通である。また、満液蒸解カンには、気
相蒸解カンが必要とする液面上のチップレベルを検出す
るデバイスは備わっていない。更に、二種の頂部セパレ
ータは構造も操作モードも異なっている。
て欠点が幾つかある。例えば、木材チップをスチームに
直接曝すのはチップ繊維に有害な恐れがある。チップを
スチームに曝すことによって普通起こる温度の急激な変
化は、チップに不均一処理を引き起こす恐れがある。例
えば、チップに蒸解薬剤が均一に浸透しない場合は、蒸
解薬剤と、チップのセルロース成分と非セルロース成分
との間に不均一反応が起こる恐れがある。この結果、パ
ルプの品質が低下し、例えば、紙の強度が落ちることに
なることもあるし、不均一脱リグニンとなることもあ
る。液満杯の満液蒸解カンでは、より均一の加熱と処理
が行われるので、液に浸漬されているチップに不均一処
理が行われる危険性は少ない。
ルの変化に敏感でもある。気相蒸解カンではチップを蒸
解温度まで加熱する主要素は、スチーム雰囲気にある滞
留時間であるので、この滞留時間が少なくなれば、加熱
に不足することを意味する。従って、気相蒸解カンで
は、チップレベルは、適切な加熱を確実に行うには、液
面上に十分に高く常時維持する必要がある。スチーム雰
囲気の滞留時間が少なくなると、チップの加熱が不十分
となり、生成パルプ中に未蒸解チップ粒子、つまり
「滓」が増えることになる。であるから、気相蒸解カン
の運転員は、チップと液の相対的レベルを連続的に監視
し、調節しなければならない。この問題は、循環液を用
いて加熱する満液蒸解カンには存在しない。
ップ山は、不均一な圧力分布を引き起こしやすいので、
蒸解カンのチップの垂直運動に不均一性をもたらす。す
なわち、これら不均一性は「チップ柱運動」と呼ばれる
ものに影響を与える。液に浸漬されていると、チップ重
量は、液から受ける浮力である程度軽くなる。しかし、
浸漬されていない方のチップは、蒸解カン中のチップ分
布次第で、下方のチップに上方から押付力を及ぼす。チ
ップは、普通、蒸解カンの中心付近から導入されるの
で、円錐形のチップ山ができ、蒸解カンの壁よりもチッ
プ柱の中央部に下向きの荷重が大きくかかる。このよう
に中心付近に余分の荷重がかかり、一方、槽の壁には摩
擦力がある関係で、蒸解カンの中央部でチップが下降す
る動き、つまり「チャネリング」として知られる現象が
促進される。この結果起こるチップの不均一運動によっ
て、チップは不均一処理されることになる。これが起こ
ると、滓が増え、紙強度が低下し、蒸解液の消費量が増
え、蒸解カンの操作性が悪くなる。一方、満液蒸解カン
では、チップ柱の荷重変化や不均一運動は起こらない。
えることができる能力は、有利なこともある。チップ山
の下向きの動きを制限して置くと、例えば、運転条件が
乱れた時とか、望ましい場合には、未浸漬のチップ山を
使って下向きに荷重を掛け、チップ柱の下向きの動きを
促進することが考えられる。従って、液面に相対的にチ
ップレベルを変化させる自由度を持つと、運転員は蒸解
カンを制御する付加的な柔軟性を有することになる。こ
のオプションは、従来の満液蒸解カンには本質的に欠け
ているものである。この能力は従来の気相蒸解カンにも
本質的に持たせられていない。蒸解カンの気相ゾーンに
必要な滞留時間で制約されているからである。従って、
蒸解カンにこのような能力を賦与することは当該技術に
おいて新規である。
制御するために普通用いられるガンマ線放射/検出器も
望ましいものではない。放射線を発するデバイスは、ど
んな種類のものであれ、工場では望ましくない。安全の
問題があるばかりか、運用・維持に資格者が必要だから
である。このようなデバイスを必要としない蒸解カン、
例えば、満液蒸解カンが、工場経営者や維持管理者にと
って好ましい。
均一にチップの加熱を行うことができる。向流加熱循環
系を有する満液蒸解カンは、チップ柱に対する熱と蒸解
薬剤の分散をより効率的に、より均一に行うことができ
ることが示されている。例えば、アールストローム マ
シーナリー社から市販され、米国特許第5,489,3
63号、第5,547,012号、および第5,53
6,366号に記載のローソリッド(登録商標「Lo−
Solids」)蒸解に用いられる満液蒸解カンでは、
加熱された蒸解液兼希釈液の流れが設けられ、これを、
下向きに流れるチップに対して向流に流すと、チップ柱
の加熱をより均一に行うことができるし、チップ柱への
液分散をより均一に行うことができる。特に、前に気相
蒸解カンとして構成された蒸解カンを構成し直して、向
流加熱循環系を有する満液蒸解カンとすれば、元の気相
蒸解カンが持っていた加熱機能と薬剤分散機能を置き換
え、更には改良することができる。スチームに直接曝し
て加熱することは、スチームエネルギーの効率的利用法
でないし、更にセルロース繊維を損傷させるばかりか、
システムに新たな液を持ち込んでしまうことにもなる。
新たに持ち込まれた液、すなわち、スチームの凝縮液
が、チップに存在する所望の液を希釈してしまうだけで
ある。この水分を持ち込んでしまうことは、チップへス
チームを直接曝す場合の本質的問題である。スチームの
直接曝露を行うと、満液蒸解カンに較べ、気相蒸解カン
では液/木材比が更に0.1〜0.3上がることにな
る。この追加の液は蒸解プロセスでは何ら益となること
はなく、回収システムでの蒸発必要量を上げるに過ぎな
いので不利である。更に、この加熱媒体であるスチーム
凝縮液を後段のパルプ製造工程で損失してしまうことに
なる。これは、間接スチーム加熱の場合と全く対照的で
ある。間接スチーム加熱では、加熱媒体は実質的になく
ならず、スチーム回路に循環され、必要に応じて他のと
ころで使用もできるし、あるいはスチームを発生するの
に再使用することもできる。本発明は、エネルギーと液
のこの非効率な使用を回避するものである。
ンは、気相蒸解カンを超える明快な利点を幾つか有する
のみならず、既存の気相蒸解カンを改変し、あるいは
「付け替えて」、満液蒸解カンと同じモードで、より効
率的に操作するのに用いることができる。
ンとしては操作することは不可能である。ハードウェア
とオペレーションに決定的な違いがあるからである。特
に、普通、気相蒸解カンを満液蒸解カンとして運転でき
ないのは、気相蒸解カンでは液にチップを浸漬する前に
加熱スチームにチップを直接曝露することが必須だから
である。しかし、本発明では、気相蒸解カンを、満液蒸
解カンとして効果的に機能するように転換させることが
可能であり、しかもその運転上・性能上の利点を保持
し、更にチップ加熱に要する有利なメカニズムも提供す
るのである。
例えば、チップと液のレベルの上にガス充満の空間があ
るお陰で、圧力調節に対して蒸解カンへの液流の変動が
小さくなり得る。満液蒸解カンでは槽内の圧力は、導入
液、例えば、従来の圧力制御バルブ経由で導入される洗
浄濾液の量を制御することによって調節される。他にも
変化する条件があれば、これは圧力制御される流れに過
剰な変動を与えかねない。しかし、気相蒸解カンでは圧
力はガス充満空間の圧力を制御して調節される。これ
は、普通、蒸解カンの頂部のガス充満空間の近くにある
入口を通して圧縮ガスを入れることによって行われる。
蒸解カンの頂部にガスを導入しても、液の流れやその下
のチップ柱の動きは干渉されない。従って、そのような
ガス充満空間があれば、これにスチームや圧縮ガスを含
ませて、変動を緩和することになるので、蒸解カンへの
液の流れが、より安定化する。
スイッチする能力を持たせることも有利である。例え
ば、加熱循環スクリーンが満液式加熱の際に、万一閉塞
した場合、本発明に従って設計された蒸解カンの運転員
は、チップを蒸解温度に加熱するのに、蒸解カンの頂部
にスチームを導入するというオプションを有し、加熱ス
クリーンを使わないで、閉塞物を取り除くためにチップ
柱で「拭き」とり掃除したり、液で逆洗浄する余裕が生
じる。
蒸解液で処理する例も幾つかある。しかし、これらの蒸
解カンでは、クラフト蒸解の前に、「予備加水分解」と
呼ばれる工程を行うのが普通である。予備加水分解と
は、セルロース材の酸処理であり、セルロースのヘミセ
ルロース成分を除去し、比較的純粋な形のセルロースを
得ようとするものである。このようなパルプは、「ビス
コースパルプ」あるいは「溶解パルプ」と呼ばれ、レー
ヨン繊維やセロファンなどのセルロースフィルムの製造
原料に使われる。例えば、米国特許第3,380,88
3号に示されるように、このチップは連続蒸解カンの気
相で加水分解処理され、次いでアルカリ液に浸漬されて
酸による加水分解反応が停止され、その後アルカリクラ
フトパルプ製造反応が開始される。このアルカリ処理は
向流的に行われる。
ラフトプロセスとは明確に異なる(本発明はビスコース
パルプの製造には適用されない)。クラフトパルプから
ヘミセルロースを除くことは望ましくない(ヘミセルロ
ースは、クラフトパルプの強度などに重要である)ばか
りか、例えば、米国特許第3,380,883号に記載
の処理は、明らかに、予備加水分解処理をしてから次に
クラフト処理をするという特別な要求に対する問題に対
処するものである。アルカリ液の向流の流れは、明らか
に、アルカリ液から酸性液を分離するのに助けになるか
ら行われている。
蒸解カンの頂部に前処理または浸透ゾーンを備えた蒸解
カンおよびその蒸解カンを用いる方法を提供する。従来
の気相蒸解カンでは、蒸解カンの頂部へ導入されるチッ
プは、普通、高温のスチーム、つまり、130℃を超
え、普通は150℃を超える温度のスチームに直接曝露
される。これらの温度では、蒸解プロセスが始まってし
まうので、更に前処理するとか浸透操作を行う余裕はな
い。この理由は、前と同じく、従来の気相蒸解カンで
は、チップの温度を所望の蒸解温度、すなわち、160
〜170℃に上げるのにこのスチーム加熱に実質的に依
存するからである。
に限定するものではない。蒸解カンの頂部より下のとこ
ろでチップを蒸解温度に加熱すること、好ましくは向流
満液式加熱を行うことによって、加熱ゾーンの上の蒸解
カン部を、低い温度で、例えば、前処理に用いることが
できる。例えば、蒸解カンの上部を、蒸解温度より低い
温度でチップの並流または向流浸透操作に用いることが
できる。この処理ゾーンの温度は、80〜150℃、普
通は90〜140℃、好ましくは100〜130℃であ
る。この処理の温度は、ガス充満の空間に導入されるス
チームの圧力や温度を調節することによって、蒸解温度
とは別個に制御することができる。この処理の時間は、
5分から2時間であるが、好ましくは10分から60分
である。
収率または強度向上剤、例えば、アントラキノンとその
誘導体または同等品、またはポリサルファイドとその誘
導体または同等品を有するチップの処理に特に有利であ
る。例えば、アントラキノンでの処理は、普通、90〜
110℃の温度に限定され、ポリサルファイドでの処理
は、普通、90〜140℃の温度に限定される。従来の
気相蒸解カンでは蒸解カンの頂部でそのような処理を行
おうとしても効果はなかった。スチームの温度が高いの
で、普通、添加物に干渉してしまうか、時には添加物を
単純に分解してしまうからである。
例えば、蒸解カンの前に設けられる浸透槽を有する二槽
式システムにも適用できる。本発明は、一槽式システム
と同じように多槽式システムにも同じような柔軟性を持
たせるものである。例えば、二槽式システムでの浸透時
間は、第二槽の頂部の蒸解温度より低い温度で行うこと
により、長くすることができる。現在の二槽式気相シス
テムでは、第二槽の頂部に高温スチームを導入するの
で、制約がある。
スパルプ気相蒸解カンを実質的に満液蒸解カンとして機
能するように改造する方法が提供される。なお、この既
存気相蒸解カンは、頂部と底部、頂部の反転式トップセ
パレーター、蒸解カンの液面より上のチップレベルを検
出するデバイス、反転式トップセパレーターから第一距
離に位置する蒸解カン第一液面、およびポンプを含むト
リム循環系(ただし、普通は加熱装置は含まない)を備
えている。本方法は、(a)チップレベルを検出するデ
バイスを除去または動かさないようにし、(b)反転式
トップセパレーターから垂直に位置する第二液面を、反
転式トップセパレーターと第一液面レベルとの第一距離
よりもはるかに短い第二距離に設け、(c)トリム循環
系を改造または取替して循環系の液を加熱する加熱装置
を組み込むものである。普通は、液面センサは、液面を
変えても動かす必要がない「DPセル」である。この
「DPセル」は、参照レベルより上の水柱のヘッドを検
出する。
系と反転式トップセパレーターとの間で蒸解カンから液
を抜き出すスクリーンアセンブリを設けるのを含めても
よい。本法には、上の(a)〜(d)の後に(e)改造
された蒸解カンを運転するに際し、蒸解カン液面をチッ
プレベルより上であるが反転式トップセパレーターより
下に形成し、(f)液面より上のガス充満ゾーンを温度
160℃未満、圧力3.45〜13.8×10 5 Pa
(50〜200psig)に形成し、(g)蒸解カンの
底部近くからセルロースパルプを抜き出すのを含めても
よい。すなわち、ガス充満ゾーンのガスは大気圧より高
く、例えば、3.45〜13.8×10 5 Pa(50〜
200psig)で、好ましくは5.51〜10.3×
10 5 Pa(80〜150psig)である。ガス充満
ゾーンの温度は160℃未満で、普通は140℃未満
で、好ましくは130℃未満である。ガス充満ゾーンの
ガスは空気、窒素または他の如何なるガスでもよく、ス
チームでもかまわないが、好ましいのは圧縮されたガス
である。
に反転式トップセパレーター、底部に排出口を備えたセ
ルロースパルプ蒸解カンを運転する方法が提供される。
本方法は、(a)細砕セルロース繊維材と蒸解液(例え
ば、クラフト蒸解液)とのスラリーを反転式トップセパ
レーターから蒸解カンへ導入し、(b)蒸解カン液面を
反転式トップセパレーターの下に形成し、(c)蒸解カ
ンセルロース繊維材レベルを反転式トップセパレーター
の下(例えば、液面の下)に形成し、(d)液面より上
のガス充満ゾーンを温度160℃未満、圧力3.45〜
13.8×10 5 Pa(50〜200psig)におい
て形成し、(e)蒸解カンの底部近くからセルロース
(例えば、クラフト)パルプを抜き出す各ステップを含
むものである。上記ステップ(d)は、ガス充満ゾーン
の温度約130℃未満、圧力5.51〜10.3×10
5 Pa(80〜150psig)を維持するように行わ
れる。更に(f)液面より下のセルロース材とこれに接
触する高温蒸解液との向流を形成することによって蒸解
カンの頂部近くの蒸解カンセルロース材を均一に加熱す
る。ステップ(f)は、溶解有機物を高濃度に含有する
液を抜き出し、循環ループを形成し、循環ループに抜き
出された液を加熱し、蒸解液と、蒸解液とは異なる補充
液とを導入するように行われる。補充液は、溶解有機物
の濃度が低いものである。
から化学セルロースパルプを製造する連続式蒸解カンシ
ステムが提供される。このシステムは、頂部と底部を有
する連続式蒸解カン、蒸解カン頂部のセパレーターであ
って、チップと液とを蒸解カンへ導入し、チップから液
をある程度分離するセパレーター、セパレーターの下に
形成された蒸解カンの液面、セパレーターの下(例え
ば、液面の下)に形成された蒸解カンのチップレベル、
満液式加熱を行って蒸解カンのチップを蒸解温度に上げ
る手段、液面より上に形成された蒸解カンのガス充満ゾ
ーン、および蒸解カンの底部近くからパルプを抜き出す
手段を備える。
ーが好ましいが、ガスを上にして液面を維持できる分離
装置なら如何なる装置でも用いて差し支えない。ガス充
満ゾーンは、ガス充満ゾーンへ圧縮ガスを導入すること
により形成されるのが好ましいが、この機能を果たす如
何なる従来構造も用いて差し支えない。蒸解カンでチッ
プを満液式に加熱する手段は、蒸解カン頂部近くに、循
環スクリーン、ポンプ、間接加熱器、導管を備えた循環
ループを備え、ポンプでスクリーンから抜き出された液
を加熱器で加熱し、導管で蒸解カンへ戻すものが好まし
いが、その機能を果たす他の如何なる従来構造も用いて
差し支えない。しかし、チップを満液式に加熱する手段
は、普通、更に、循環スクリーンとセパレーターとの間
に抜き出しスクリーンを備え、チップを加熱するため
に、これと加熱された液との向流の流れを確立する。
て、蒸解カンは、普通、チップレベルを検出する手段を
備える。例えば、電子ストレインゲージ付の従来的機械
的回転羽根のような電子/機械デバイス一基または複数
基を備える。しかし、この究極の機能を果たす好適な従
来構造は如何なるものでもチップレベル確立手段として
用いて差し支えない。同様に、液面確立手段は、DPセ
ルが好ましいが、その究極の機能を果たす好適な従来構
造は如何なるものでも液面確立のために用いて差し支え
ない。
備えた連続式セルロース蒸解カンを運転する方法が提供
される。本方法は、(a)チップと液とを蒸解カンへ導
入し、分離ゾーンでチップから液を幾分分離し、(b)
蒸解カンの液面を分離ゾーンの下に形成し、(c)蒸解
カンのチップレベルを分離ゾーンの下(例えば、液面の
下)に形成し、(d)蒸解カンでチップを満液式に加熱
し、蒸解温度まで上げ、(e)液面より上に蒸解カンの
ガス充満ゾーンを形成し、(f)蒸解カンの底部近くか
らパルプを抜き出す各ステップを含むものである。ステ
ップ(e)は、液面より上の蒸解カンの頂部に圧縮ガス
(例えば、不活性ガス)を加えて行うことができる。ガ
ス充満ゾーンは、温度約140℃未満、圧力5.51〜
13.8×10 5 Pa(80〜200psig)である
のが好ましい。ステップ(d)は、チップレベルより下
でチップから液を取り出し、取り出された液を加熱し、
その温度を上げ、その温度が少なくとも約130℃(例
えば、160℃〜180℃またはこれ以上)とし、チッ
プレベルの下の再導入ゾーンで、この加熱された液を蒸
解カンへ戻して再循環することによって行うのが好まし
い。
に反転式トップセパレーター、底部に排出口、頂部で約
3〜5メートルの第一直径部分、および頂部より下で少
なくとも約7メートル(例えば、7〜12メートル)の
第二直径部分を備えたセルロース蒸解カンを運転する方
法が提供される。本方法は、(a)細砕セルロース繊維
材と、自由液を含むクラフト蒸解液とを、第一直径の反
転式トップセパレーター経由で蒸解カンへ導入し、
(b)蒸解カン液面を反転式トップセパレーターの下に
形成し、(c)蒸解カン細砕セルロース繊維材レベルを
トップセパレーターの下(好ましくは、必ずしも必要で
はないが、第二直径部分)に形成し、(d)液面より上
のガス充満ゾーンを温度約160℃未満、圧力3.45
〜13.8×10 5 Pa(50〜200psig)にお
いて形成し、(e)蒸解カンの底部近くからクラフトパ
ルプを、日量約1,000トンを超える速度で抜き出す
ものである。ステップ(d)は、上に記載のように行う
のが好ましい。液面とチップレベルとが狭い上部にある
蒸解カンの場合は、ステップ(c)は、チップレベルを
上部に形成するように行われる。
ーの少なくとも一つの位置(例えば、複数の異なる位
置)から液を抜き出し、導入された細砕セルロース繊維
材スラリーから自由液の実質的大部分(例えば、90%
以上)を除き、液を蒸解カンへ(例えば、細砕セルロー
ス繊維材レベルより上へ)導入し、少なくとも部分的に
はステップ(b)の液面確立を行うようにすることがで
きる。
プセパレーターの二つの(またはそれ以上の)異なる位
置(例えば、円周上に互いに約30〜180°間隔で配
置された)から液を抜き出し、この液を二つの異なるラ
インで異なる目的で用いるように行うのが好ましい。ス
テップ(b)は、普通、第一直径部分で液面を確立する
ように行われる。更に、(f)第二直径部分(例えば、
チップレベルより上)から液を抜き出し、(g)抜き出
された液の部分を循環・加熱し、(h)抜き出された部
分を第一直径部分の液面の下に再導入する別のステップ
もある。ステップ(h)は、第一直径部分の円周の回り
の複数の異なる位置に液を再導入することによって行っ
て差し支えない。
備えた連続式セルロース蒸解カンを運転する方法が提供
される。本方法は、(a)チップと液とを蒸解カンへ導
入し、分離ゾーンでチップから液を幾分分離し、(b)
蒸解カンの液面を分離ゾーンの下に形成し、(c)蒸解
カンのチップレベルを分離ゾーンの下に形成する際に、
チップレベルと液面との間に自由液が存在するように
し、(d)蒸解カンでチップを満液式に加熱する際に、
自由液部から液を抜き出し、抜き出された液を加熱し、
加熱された液を液面より下の蒸解カンへ再導入するよう
にし、(e)液面より上に蒸解カンのガス充満ゾーンを
形成し、(f)蒸解カンの底部近くからパルプを抜き出
す各ステップを含むものである。反転式トップセパレー
ターを、分離ゾーンへ設けることも差し支え無く、本方
法は、更に、反転式トップセパレーターの少なくとも一
つの位置(好ましくは、複数の離れた位置)から液を抜
き出し、導入された細砕セルロース繊維材スラリーから
自由液の実質的全部を除き、液を蒸解カンへ(例えば、
細砕セルロース繊維材レベルより上へ)導入し、少なく
とも部分的にはステップ(b)の液面確立を行うように
することができる。
から化学セルロースパルプを製造する連続式蒸解カンシ
ステムが提供される。このシステムは、頂部と底部を有
し、頂部で約3〜5メートルの第一直径部分、および頂
部より下で少なくとも約7メートルの第二直径部分を備
えた連続式蒸解カン、蒸解カン頂部の第一直径部の反転
式セパレーターであって、チップと液とを蒸解カンへ導
入し、チップから液をある程度分離する反転式セパレー
ター、反転式セパレーターの下でその第一直径部に形成
された、蒸解カンの液面、セパレーターの下(例えば、
液面の下)に形成された、蒸解カンのチップレベル、満
液式加熱を行って蒸解カンのチップを蒸解温度に上げる
手段、液面より上に形成された蒸解カンのガス充満ゾー
ン、および蒸解カンの底部近くからパルプを抜き出す手
段を備える。
隔を開けて配置された少なくとも第一と第二の抜き出し
導管を備え、これらから液を抜き出し、抜き出し導管
は、蒸解カンの異なる外部構造に連結されているのが好
ましい。また、蒸解カンには、第一直径部分と第二直径
部分の間に肩の部分があるのが好ましく、抜き出しスク
リーンは、この肩の部分の真下の第二直径部分に設けら
れる。蒸解カンでチップを満液式に加熱する手段は、抜
き出しスクリーンと抜き出しスクリーンに接続された循
環ループを備える。循環ループは、ポンプ、間接加熱
器、導管を備え、ポンプでスクリーンから抜き出された
液は、加熱器で加熱され、次いで導管で蒸解カンへ戻さ
れる。導管は、第一直径部分の円周の回りの複数の異な
る位置の蒸解カンへ液を再導入するのが好ましい。
ップから化学セルロースパルプを製造する連続式蒸解カ
ンシステムが提供される。このシステムは、頂部と底部
を有し、頂部で第一直径部分、および頂部より下で第二
直径部分を備え、第二直径部分が第一直径部分より少な
くとも20%大きく(例えば、100〜300%)、第
一直径部分と第二直径部分の間に肩の部分が形成されて
いる連続式蒸解カン、肩の部分の真下の第二直径部分に
設けられる抜き出しスクリーン、蒸解カン頂部の第一直
径部の反転式セパレーターであって、チップと液とを蒸
解カンへ導入し、チップから液をある程度分離する反転
式セパレーター、反転式セパレーターの下でその第一直
径部に形成された蒸解カンの液面、液面の下(例えば、
第二直径部分)に形成された蒸解カンのチップレベル、
満液式加熱を行って蒸解カンのチップを蒸解温度に上げ
る手段、液面より上に形成された蒸解カンのガス充満ゾ
ーン、および蒸解カンの底部近くからパルプを抜き出す
手段を備える。
いるような連続式セルロース蒸解カンを運転する方法が
提供される。本方法は、(a)チップと液とを蒸解カン
の第一直径部分へ導入し、分離ゾーンでチップから液を
幾分分離し、(b)蒸解カンの液面を分離ゾーンの下で
あるが第一直径部分に形成し、(c)蒸解カンのチップ
レベルを分離ゾーンの下(例えば、抜き出しスクリーン
の下で第二直径部分)に形成し、(d)蒸解カンでチッ
プを満液式に加熱する際に、液抜き出しスクリーン経由
でチップレベルの上から液を抜き出し、抜き出された液
を加熱し、加熱された液を液面より下で第一直径部分で
蒸解カンへ再導入するようにし、(e)液面より上に蒸
解カンのガス充満ゾーンを形成し、(f)蒸解カンの底
部近くからパルプを抜き出すものである。
の詳細な図面の説明をよく吟味し、前記の特許請求の範
囲を読めば一層明白となろう。さて、添付図面を詳細に
説明する。
ンの上部を示す。気相蒸解カン10の頂部が図1に示さ
れ、満液蒸解カン20については、図2に示される。こ
れらの蒸解カンは、パルプ製造システムでは、唯一の蒸
解槽である場合もあるし、例えば、二槽の内の一槽であ
る場合もある。後者の場合、システムには第二の槽、技
術に浸透槽として知られるものが備えられる。これらの
蒸解カンには、普通、細砕セルロース繊維材(普通は木
材チップ)と蒸解液(例えば、クラフト白液)とのスラ
リーが受け入れられる。このスラリーは、普通、供給装
置、例えば、ニューヨーク州グレンス フォールス(G
lens Falls)のアールストローム マシーナ
リー社(Ahlstrom Machinery)から
販売のローレベル(登録商標「Lo−Level」)供
給装置で先ず処理される。
にチップと液のスラリーが供給される。蒸解カンへ供給
されるスラリーは、技術に「反転式トップセパレータ
ー」として知られる従来の垂直配置のスクリューコンベ
ヤー12を用いて行われる。スラリーはセパレーター1
2に上向きに送られ、チップと液は、矢印13で示され
るようにセパレーター12の頂部から放出される。スラ
リーが上向きに送られるにつれて、円筒スクリーン14
を通って過剰の液がスラリーから取り除かれ、導管15
を経て供給装置へ戻される。セパレーター12から放出
されたチップと液13は、ガス充満ゾーン16から落下
して、チップ山17へ到る。チップのスチーム加熱を続
けるために、チップ山17は、図1に見られるように、
蒸解液レベル18より上に維持される。スチーム加熱
後、チップは蒸解液に浸漬され、図1に18として示さ
れる液面から下に動いて行き、蒸解プロセスが続行す
る。
良するために、気相蒸解カン10には液抜き出しスクリ
ーン19と循環系21とが備えられている。液を半径方
向に外側に抜き出し、真ん中に配置しているパイプ24
を経てチップ柱へと戻す。循環系21は、普通、ポンプ
25を備えるが、液加熱器25’を備えてもよい。液抜
き出しスクリーン19と関連循環系21(ポンプ25と
パイプ24とを含む)は、技術に「トリム循環」と呼ば
れている。トリム循環スクリーン19の下では熱と薬剤
とも均一な分布状態になり、蒸解プロセスは続行する。
普通、ガンマ線源と検出器で監視されている。これら
は、図1の26と26’にそれぞれ概略示され、チップ
山17の近くに対向して配置されている。線源と検出器
26と26’は、山17にチップがあるかないかを検出
し、チップレベルは、槽10へ流れ込むスラリーを変化
させるか、槽10から流出するパルプを変化させるかし
て制御することができる。パルプを槽10の底部から抜
き出すのは、全く従来の抜き出し装置を用いて行われ
る。
では液面も監視し、制御しなければならない。液面18
は、普通、従来の液面検出器を用いて監視される。これ
は、図1の27に概略示され、例えば、「DPセル」ま
たは類似品であり、参照レベルより上の液柱のヘッドを
検出する。
ン10では監視しなければならない。ゾーン16の圧力
は、普通、空気圧縮機を用いて維持される。圧縮機は、
参照圧力の低下に応答して、空気、あるいは蒸解カン1
0の化学プロセスに不活性な他のガス、例えば、殆ど純
粋な窒素ガスを蒸解カンの頂部へ送入する。過剰の圧
力、例えば、流入するチップスラリーに同伴されるガス
によって起こされる圧力は、普通、図1の28のところ
に概略示される従来の圧力逃がしデバイスを用いて放出
される。ゾーン16のところの温度は、スチーム源23
から導管22を経て圧力スチームを加えることによって
監視・制御される。
2の従来の満液蒸解カン20は導管60経由でチップと
液のスラリーが供給装置から供給される。蒸解カン20
へ供給されるスラリーは、下向きのコンベヤーである従
来の「トップセパレーター」61を用いて行われる。セ
パレーター61から導入される液は2重線矢印62で示
され、チップは単線矢印63で示される。スラリーがコ
ンベヤー61で下向きに送られるにつれて、円筒スクリ
ーン64を通って過剰の液がスラリーから取り除かれ、
導管65を経て供給装置(例えば、高圧フィーダー)へ
戻される。
3は、チップレベル66を形成する。蒸解カン20は満
液状態であるから、チップレベル66の上のゾーン67
は液で満杯であり、ガスゾーンは普通は存在しない。満
液の槽20中のチップのレベルは、普通、槽の内表面に
沿って設置される一基または複数基数の従来の機械的回
転羽根68(例えば、ニューヨーク州グレンス フォー
ルスのアールストローム マシーナリー社が「K−10
00」という名称で販売)を関連する電子式ストレイン
ゲージと一緒に用いて監視される。チップレベルがある
か、ないかは羽根68の回転運動によって検出され、チ
ップレベルは数学的アルゴリズムに基づいて、パーセン
トで計算される。ガンマー放射線機器(例えば、図1の
26と26’)はいらない。気相蒸解カンの場合と同じ
ように、満液蒸解カン20のチップレベルは、スラリー
の流入量を変えるか、蒸解されたチップの流出量を変え
るかによって制御することができる。
頂部にあるチップは、普通、完全に蒸解温度になるまで
は加熱しないで、むしろ蒸解が始まらないように加熱し
なければならない。これは、普通、一本または複数本数
の加熱蒸解循環ループ70を用いて行われる。加熱は並
流でも向流でも行い得るが、図2に示される循環ループ
70はチップを向流的に加熱している。スラリーは、先
ず導管78経由でスラリーから液を抜き出す液除去(抜
き出し)スクリーン71を通過する。導管78経由で抜
き出された液は、薬剤回収へ送っても、あるいは蒸解カ
ン20の前のチップ前処理に送ってもよい。このように
液を抜き出すと、二重線矢印76で示されるように、自
由液の流れが誘発され、単線矢印77で示される下向チ
ップ流れに向流に流れる。加熱された液76は、循環系
70から得られる。液は、先ずスクリーン72、導管7
3、ポンプ79経由でスラリーから分離され、間接スチ
ーム加熱器74で(例えば、135℃〜170℃の温度
へ)加熱され、真ん中に配置された戻り導管75によっ
てスクリーン72の近くに戻される。蒸解液、例えば、
クラフト白液が、普通、この循環系に添加される。米国
特許第5,489,363号、第5,547,012
号、および第5,536,366号に記載され、アール
ストローム マシーナリー社で販売のローソリッド(登
録商標「Lo−Solids」)蒸解が、槽20で行わ
れる場合は、導管73経由で取り出された液の一部を薬
剤回収システムに送り、これを、溶解有機物の濃度の小
さい液と置き換えて、例えば、蒸解液と希釈液(または
希釈水)との組み合わせとしても差し支えない。循環系
70で蒸解温度まで加熱後は、スラリーを蒸解すること
ができるが、更にスクリーン72の下で処理することも
できる。
う蒸解カン30を示す。蒸解カン30は蒸解カン10を
改造することによって構成される。その際、センサ素子
26,26’を除去するか、または動かさないように
し、回転羽根68を追加し、更に加熱器74を追加し、
そして恐らく「トリム循環系」を再配置することにな
る。普通、DPセル27は、位置も変えず、取り外しも
しない。別法としては、蒸解カン30を全く新設しても
よい。
に、導管31とアールストローム社販売の従来の反転式
トップセパレーター32とを経由して気相蒸解カン30
の頂部にチップと液のスラリーが供給される。このスラ
リーは、普通、温度90〜130℃で蒸解カン30へ導
入される。この温度は、蒸解カン30の前の供給装置で
チップを処理する仕方に依存する。例えば、供給装置
が、ニューヨーク州グレンス フォールスのアールスト
ローム マシーナリー社から販売され、米国特許第5,
5476,572号、および1995年4月25日出願
の同時係属米国出願第08/428,302号に記載さ
れるローレベル(登録商標「Lo−Level」)供給
装置である場合は、スラリーは、約95〜100℃で蒸
解カンに入る。チップが、従来の供給装置、例えば、水
平設置の加圧スチーム処理槽で供給される場合は、スラ
リーは、115〜120℃で蒸解カンに入る。従来のよ
うに、トップセパレーター32は、スラリーが上向きに
送られるにつれて、過剰の液をスラリーから取り除き、
チップと液とを矢印33で示すように排出する。除かれ
た液は、導管34を経て上流工程、例えば、アールスト
ローム マシーナリー社販売の高圧フィーダーまたは浸
透槽へ戻される。
その後液面36の所に入り、落下してチップ山37へ到
る。液面36の上のガス雰囲気35は、普通、空気また
はチップと液のスラリーと一緒に蒸解カン30へ同伴さ
れるガスで構成される。必要でもあり、望むならば、こ
の空気を他のガス、例えば、スチーム、窒素で、あるい
は処理や所望の圧力を維持するのに使うことができる他
の好適なガスで補充することができる。サルファイトパ
ルプ製造装置では、ガス空間35は、普通、二酸化硫黄
(SO2)ガスが充満している。雰囲気35は、温度1
60℃未満、普通は140℃未満、好ましくは130℃
未満(120℃未満のこともある)で圧力は3.45〜
13.8×10 5 Pa(50〜200psig)、好ま
しくは5.51〜13.8×10 5 Pa(80〜200
psig)、例えば、5.51〜10.3×10 5 Pa
(80〜150psig)に維持される。空間35の圧
力を維持するためには、従来技術に普通なように、圧縮
されたガスを源39から導管38を経て導入してよい。
また、技術に既知のように、過剰な圧力は、従来の圧力
逃がしデバイス80を用いて逃がすことができる。蒸解
カン30の頂部では、矢印42で示されるチップは、2
重線矢印43で示される液と並流に流れる。
えば、「DPセル」27で監視される。もっとも、他の
デバイスも用いることができる。液面は蒸解カン30へ
の液の出入りを調節することによって、例えば、導管5
1または蒸解カン30への液を増減する他の導管の流出
量を調節することによって変えることができる。チップ
レベル37も、チップレベル37の近くの蒸解カン30
壁に取り付けられた1基または複数基数の従来の機械式
回転羽根とストレインゲージ装置との組み合わせ68を
用いて独立に監視される。従来のように、チップのレベ
ル37は、蒸解カン30へ流入するチップの流れを増加
または減少することによって、または蒸解カン30から
流出するパルプの流れを増加または減少することによっ
て調節することができる。
スチームに曝されないのが好ましいので、チップの蒸解
温度への加熱は、満液式に、例えば、一つまたはそれ以
上の液循環系を用いて行うのが好ましい。チップを処理
する好ましい方法の一つは、スクリーンアセンブリ40
と41とを用いることである。液は、スクリーンアセン
ブリ41を経て導管44を経て、普通は、従来のポンプ
53を用いて取り出される。取り出された液は、間接熱
交換器45を経て(例えば、少なくとも130℃へ)加
熱され、その後で導管46を経てスクリーン41の近く
に戻される。普通は、蒸解液、例えば、クラフト白液ま
たは黒液が導管47から導管44へ添加される。好まし
くは、米国特許第5,489,363号、第5,54
7,012号、および第5,536,366号に記載さ
れ、アールストローム マシーナリー社で販売されてい
るローソリッド(登録商標「Lo−Solids」)蒸
解も、蒸解カン30で行われる。この場合は、希釈液、
例えば、洗滌濾過液、漂白プラント濾液、または弱黒液
のような溶解有機物の濃度の小さい液を、導管48経由
で導管44へ添加することができる。
る加熱された液は、矢印50にて示される下向き流のチ
ップに対し、2重線矢印49で示されるように向流に流
れるのが好ましい。液49は、液がスクリーン40経由
で導管51へ取り出された結果、向流的に誘発される。
液の流れ49は、普通、下向き流のチップ50を140
〜180℃の蒸解温度まで加熱する。図3に示される液
の流れは、向流であるけれども、加熱された並流の液
も、向流液の代わりに、または向流液と一緒に用いるこ
とができる。導管51の液は、薬剤回収系に送ることも
できるし、蒸解カン30の処理前もしくは処理中にチッ
プを前処理するのに用いることができる。選択肢として
は、戻し循環系52も設けることができる。
チップスラリーは、普通、パルプ製造プロセスを続行す
る温度に維持されるが、蒸解カン30の後半のゾーンで
更に何らかの処理を施し、その後で排出することも差し
支えない。
130℃以下)、収率および/または強度向上剤(例え
ば、アントラキノンとその誘導体、および/またはポリ
サルファイドとその誘導体または同等品)を用いて、こ
れら添加剤を損なうことなく、パルプを処理し、その後
でパルプを槽30へ導入することができる。雰囲気35
の温度は、アントラキノンまたはその誘導体での処理
(または連続処理)が行われるならば、90〜110℃
に維持すべきであるし、ポリサルファイドまたはその誘
導体または同等品での処理(または連続処理)が行われ
るならば、90〜140℃に維持すべきである。雰囲気
35での処理の時間は、5分から2時間であるが、好ま
しくは約10分から60分であり、所望の条件は、図3
の38の箇所に導入されるスチームの温度、圧力を調節
することによって維持される。
ので、図3に示される態様と同じようである。図4に示
されるものの多くは、図3に示されるものと同一でない
にしても似たものであるので、図3の番号の頭に「1」
を付けて示すものとする。例えば、図4の反転式トップ
セパレーター132は図3の反転式トップセパレーター
32と同じようなものである。
を蒸解カン130へ供給する導管131を備える。スラ
リーは、セパレーター132へ導入され、セパレーター
はスクリューコンベヤーでスラリーを上方へ持ち上げ、
一方、スラリー中の液は、従来のように円筒スクリー
ン、小空間、導管134を経て除かれる。チップと未除
去の液とは、矢印133で示されるようにセパレーター
から排出され、スチーム(またはガス)雰囲気135に
曝される。スチーム(またはガス)は源139から導管
138経由で導入される。チップと過剰の液とは、液面
136として記された液の所へ落下し、チップはチップ
山137の所に堆積する。液とチップとのレベルは、普
通、図1、図2、および図3に示される態様に関して記
載のように調節される。
との相違は、図4のシステムが第一直径部分(入口部)
95を有する蒸解カン130を備え、この部分が第二直
径部分(主ボディ)98より小さい直径であるというこ
とである。第二直径部分98は第一直径部分95よりも
少なくとも20%大きい(例えば、約100%〜300
%大きい)。この部分95は、大規模の蒸解カン、例え
ば、日量1,000米トン以上生産する蒸解カン130
でセルロース材を処理するときに好ましい。この部分9
5は、普通は、約3〜5メートルしかない直径を有する
が、一方、蒸解カン130の主槽(第二直径部分)は約
7〜12メートル以上の直径を有することもある。この
態様は、主槽の直径とは異なる入口部直径を有する蒸解
カンに限定されるわけでなく、部分95と部分98との
直径が大体同じでも本発明は依然として有効である。部
分95と部分98との直径の差は、如何に本発明を既存
のシステムに導入することができるか、特に既存の二槽
式満液蒸解カンシステムに導入できるかについて特に示
唆的である。そのような設備の場合は、主な改造項目と
して、既存の入口またはトップセパレーターを、図4に
示される反転式トップセパレーター132と入口131
とに置き換えればよいのである。
らの液出口86を備え、導管134経由で抜き出される
液の他にトップセパレーターからも液を取り出す。出口
134,86は、(設けられる他の出口と同様に)円周
上に互いに約30〜120°間隔で配置されるのが好ま
しい。この新しく設けられた液出口86があると、導管
134経由で普通取り出されるよりもたくさんの液をセ
パレーター132から取りだし、供給装置、例えば、ニ
ューヨーク州グレンス フォールスのアールストローム
マシーナリー社から販売されている高圧フィーダーま
たはローレベル(登録商標「Lo−Level」)供給
装置へのスラリー液、または前処理槽の底部へのスラリ
ー液、例えば、浸透槽に対するスルース液を供給するこ
とができる。導管86の流出量は、生産パルプトン当た
り0.5〜5立方メートル(すなわち、m3/tp)の
範囲であるが、普通は約1〜3m3/tpである。
質的全部を取り出すために他の方法も用いることができ
る。例えば、セパレーター132自体の構造を変えて、
例えば、セパレーター132のスクリューと抽出スクリ
ーン部分を従来よりも長くして、あるいは、実質的にプ
ラグフィーダーとして機能する先細スクリュー型プレス
構造を持たせて、殆ど自由液を含まない(例えば、普通
は自由液の最初の量の10%未満、好ましくは約5%未
満)か、あるいは全く含まないスラリーを排出すること
も可能である。あるいは、単純に、図4に見られる追加
導管86’を設けることによって、より多くの液をBC
戻り導管134自体から抜き出すことができる。
取り出す上記の方法は、導管131に導入され前の処理
で用いられた処理液を、液面136として示されるセパ
レーター132下存在の液から隔離するのに特に適用し
得る。例えば、槽130に先立つ処理が、冷却液による
処理(1996年8月7日出願の米国特許出願第08/
11,366号に記載のような)の場合、導管134で
は過剰な冷却液が除けなかったにしても、導管86から
は除けるので、液面136で示される熱い液には、冷た
い液はほんの僅かしか、あるいは全く導入されないで済
む。また、このシステムが有利なのは、槽130に存在
している液から他の前処理液、例えば、アントラキノン
またはポリサルファイドまたは硫化水素およびこれらの
同等品と誘導体のような強度または収率向上添加剤含有
の液を隔離する時である。導管86から除かれた液は、
薬剤回収系へ送ることもできるし、必要に応じて、漂白
プラントを含めてパルプミルの何処でも用いることがで
きる。
に関連するものとして、肩99の直下に配置された抜き
出しスクリーン87、導管88、ポンプ89、導管9
0、間接スチーム加熱器91、戻り導管92、液分散ヘ
ッダー93、および複数の入口ノズル94がある。この
循環は、トップセパレーター132の下にある液を抜き
出し、加熱し、所望に応じて、新規液を添加するのに用
いられる。例えば、クラフト白液または黒液、または蒸
解添加剤を含む他の液、またはスクリーン87の所にあ
る液よりも溶解固形物濃度が小さい希釈液を、導管96
経由で循環85へ導入することができる。液を導管96
経由で導入すると同時に、または導入する代わりに、液
を導管97から抜き出すこともできる。例えば、蒸解カ
ン130の上部で液の向流の流れが望ましい時には、導
管96から液を導入するのではなく、導管97から液を
抜き出すこともできる。図4に示されるシステムは、既
存の二槽式満液蒸解カンシステムを改造するのに特に適
用できる。この場合、既存の頂部循環スクリーンが液抜
き出しスクリーン87として用いられる。一槽式蒸解カ
ンと気相蒸解カンも本発明を実施できるように改造でき
る。
カン130の運転では、供給装置からまたは前の処理か
ら、例えば、浸透槽から送られてきた細砕セルロース繊
維材、例えば、針葉樹チップのスラリーは、導管131
経由で反転式トップセパレーター132へ導入され、液
がセパレーターから除かれ、前のシステムまたは槽へ導
管134経由で戻される。これらは従来と同じである。
また従来のように、セパレーター132のスクリューコ
ンベヤーがスラリーを上方へ持ち上げ、液は除かれるか
ら、その結果、チップと残っていた液は、矢印133で
示されるように、セパレーター132の堰の頂部から滝
のように落下する。セパレーター132から排出された
チップはガス/スチーム雰囲気135から下に落ちて、
槽130にある液に入って、液面136が形成される。
次にチップはチップ山137に沈積し、その後所望のよ
うに処理される。例えば、処理できる方法としては、次
の米国特許第5,489,363号、第5,536,3
66号、第5,547,012号、第5,575,89
0号、第5,620,562号、および第5,662,
775号などに記載のローソリッド(登録商標「Lo−
Solids」)蒸解プロセス、または米国特許第5,
635,026号に記載のEAPCTM蒸解プロセスが
挙げられる。
レーター132から更に液を抜き出すことができる。こ
の付加的に液を抜き出すことは、導管131から導入さ
れた自由液(すなわち、チップと結合していない)が液
面136で示される内部液へ流れるのを制約し、あるい
は実質的に無くして(つまり、自由液の約10%以下し
か残らない)しまうのに好ましいことである。また、更
に加熱したり液を添加することも、例えば、液面136
の液面センサで制御されるライン96中の弁を用いて、
上記のように循環85で行うことができる。139の所
で導入される圧縮されたガス/スチームは、図3の態様
と同じ方法で導入し、同じ条件を確立することが好まし
い。
は、細砕セルロース繊維材を処理して、木材パルプを製
造する方法、または既存の気相蒸解カンを改造してクラ
フトパルプを製造する方法を提供するものであり、この
方法を用いると、チップの加熱や処理が、より均一とな
り、チップレベル変動に対して変化が敏感でなくなり、
チャネリングが起き難くなり、チップレベルを検出する
のに放射線源の手当をする必要がなくなり、結果として
運転のし易い蒸解カンが提供される。
好ましい態様であると現在考えられたものについて本明
細書に示し、かつ説明したものであるので、本発明の範
囲内で多くの部分的改変を行い得ることは当業者には明
白であろう。従って、本発明の特許請求の範囲について
は、すべての等価の構造および方法を含むように最も広
く解釈すべきである。
の概略側面図で、一部断面、一部立面を示す図である。
の概略側面図で、図1と同じような図である。
行うのに使用される蒸解カンの典型的な入口部と上部の
概略側面図で、図1と図2と同じような図である。
3と同じような図である。
Claims (18)
- 【請求項1】 頂部と底部、頂部に反転式トップセパレ
ーター、底部に排出口を備えた、化学セルロースパルプ
製造用蒸解カンを運転する方法であり、 (a)細砕セルロース繊維材とクラフト蒸解液とのスラ
リーを反転式トップセパレーターから蒸解カンへ導入
し、 (b)蒸解カン液面を反転式トップセパレーターの下に
形成し、 (c)蒸解カンセルロース繊維材レベルを蒸解カン液面
の下に形成し、 (d)前記液面より上にガス充満ゾーンを温度160℃
未満、圧力3.45〜13.8×105Pa(50〜2
00psig)において形成し、そして (e)蒸解カンの底部近くからクラフトパルプを抜き出
す各ステップを含む方法。 - 【請求項2】 上記ステップ(d)が、ガス充満ゾーン
の温度120℃未満、圧力6.89〜10.3×105
Pa(100〜150psig)を維持するように行わ
れることを特徴とする請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 上記ステップ(d)が、(d1)110
℃未満で行われ、パルプがガス充満ゾーンに入る前に、
アントラキノンまたはその誘導体で、あるいはポリサル
ファイドまたはその誘導体または同等品で、パルプを処
理する更なる工程を含むことを特徴とする請求項1記載
の方法。 - 【請求項4】 上記ステップ(d)が、(d2)120
℃未満で行われ、パルプがガス充満ゾーンに入る前に、
ポリサルファイドまたはその誘導体または同等品で、パ
ルプを処理する更なる工程を含むことを特徴とする請求
項1記載の方法。 - 【請求項5】 更に、(f)液面より下のセルロース材
とこれに接触する高温蒸解液との向流を確立することに
よって、蒸解カンの頂部近くの蒸解カンセルロース材を
均一に加熱するステップを含むことを特徴とする請求項
1記載の方法。 - 【請求項6】 ステップ(f)が、溶解有機物を高濃度
に含有する液を抜き出し、循環ループを確立し、循環ル
ープに抜き出された液を加熱し、蒸解液と、溶解有機物
の濃度が低く蒸解液とは異なる補充液とを導入すること
によって行われることを特徴とする請求項5記載の方
法。 - 【請求項7】 更に(g)反転式トップセパレーターの
少なくとも一つの箇所から液を取り出し、導入された細
砕セルロース繊維材スラリーから自由液の90%以上を
除くことを特徴とする請求項1記載の方法。 - 【請求項8】 セルロースチップから化学セルロースパ
ルプを製造する連続式蒸解カンシステムであり、 頂部と底部を有する連続式蒸解カン、 蒸解カン頂部のセパレーターであって、チップと液とを
蒸解カンへ導入し、チップから液をある程度分離するセ
パレーター、 セパレーターの下に形成された前記蒸解カンの液面、 液面の下に形成された前記蒸解カンのチップレベル、 満液式加熱を行って前記蒸解カンのチップを蒸解温度に
上げる手段、 液面より上に形成された蒸解カンのガス充満ゾーン、お
よび前記蒸解カンの底部近くからパルプを抜き出す手
段、 を備え、前記蒸解カンでチップを満液式に加熱する前記手段が、
前記蒸解カン頂部近くに、循環スクリーン、ポンプ、間
接加熱器、導管を備えた循環ループを備え、前記ポンプ
で前記スクリーンから抜き出された液を前記加熱器で加
熱し、前記導管で前記蒸解カンへ戻すものであり、 チップを満液式に加熱する前記手段が、更に、前記循環
スクリーンと前記セパレーターとの間に抜き出しスクリ
ーンを備え、チップを加熱するために、チップと加熱さ
れた液との向流の流れを確立するものであることを特徴
とする 連続式蒸解カンシステム。 - 【請求項9】 前記セパレーターが反転式トップセパレ
ーターであることを特徴とする請求項8記載のシステ
ム。 - 【請求項10】 液面より上に形成される蒸解カンのガ
ス充満ゾーンが、圧縮されたガスを導入することにより
達成されることを特徴とする請求項9記載のシステム。 - 【請求項11】 前記蒸解カンが、その頂部で3〜5メ
ートルの第一直径部分、前記頂部より下で少なくとも7
メートルの第二直径部分を有することを特徴とする請求
項8記載のシステム。 - 【請求項12】 頂部と底部を有する連続式化学セルロ
ースパルプ製造用蒸解カンを運転する方法であって、 (a)チップと液とを蒸解カンへ導入し、分離ゾーンで
チップから液を幾分分離し、 (b)蒸解カンの液面を分離ゾーンの下で形成し、 (c)蒸解カンのチップレベルを蒸解カンの液面の下に
形成し、 (d)蒸解カンでチップを満液式に加熱し、蒸解温度ま
で上げ、 (e)液面より上の蒸解カンにガス充満ゾーンを形成
し、そして (f)蒸解カンの底部近くからパルプを抜き出す各ステ
ップを含む方法。 - 【請求項13】 ステップ(e)が、液面より上の蒸解
カンの頂部に圧縮されたガスを添加することによって行
われ、ガス充満ゾーンが温度140℃未満、圧力5.5
1〜13.8×105Pa(80〜200psig)を
有するように行われることを特徴とする請求項12記載
の方法。 - 【請求項14】 ステップ(d)が、液面より下のチッ
プから液を取り出し、取り出された液を加熱し、その温
度を上げ、その温度が少なくとも130℃とし、そして
加熱された液を、チップレベルより下の再導入ゾーンで
蒸解カンへ循環するように行われることを特徴とする請
求項12記載の方法。 - 【請求項15】 ステップ(d)が、更に、再導入ゾー
ンとチップレベルとの間で蒸解カンから液を抜き出し、
加熱された液の向流の流れを確立するように行われるこ
とを特徴とする請求項14記載の方法。 - 【請求項16】 既存の化学セルロースパルプ製造用気
相蒸解カンを実質的に満液蒸解カンとして機能するよう
に改造し、運転する方法であって、前記既存気相蒸解カ
ンが、頂部と底部、頂部の反転式トップセパレーター、
蒸解カンの液面より上のチップレベルを検出するデバイ
ス、反転式トップセパレーターから垂直に第一距離に位
置する蒸解カンの第一液面、蒸解カンの第一液面を検出
するデバイス、およびポンプを含むトリム循環系を備え
ており、前記方法が、 (a)チップレベルを検出するデバイスを除去または動
かさないようにし、 (b)反転式トップセパレーターから垂直に位置する蒸
解カンの第二液面を、反転式トップセパレーターと第一
液面レベルとの第一距離よりも短く、かつ反転トップセ
パレータとチップレベルとの距離よりも短い第二距離に
設け、そして (c)トリム循環系を改造または取替して循環系の液を
加熱する加熱装置を組み込むものであることを特徴とす
る方法。 - 【請求項17】 更に、ステップ(d)加熱装置付の循
環系と反転式トップセパレーターとの間で蒸解カンから
液を抜き出すスクリーンアセンブリを設けることを特徴
とする請求項16記載の方法。 - 【請求項18】 ステップ(a)〜(d)の後に、更
に、ステップ(e)改造された蒸解カンを運転するに際
し、蒸解カン液面をチップレベルより上であるが反転式
トップセパレーターより下に確立し、ステップ(f)液
面より上のガス充満ゾーンを温度160℃未満、圧力
3.45〜13.8×105Pa(50〜200psi
g)に維持し、そしてステップ(g)蒸解カンの底部近
くからセルロースパルプを抜き出すのを設けることを特
徴とする請求項17記載の方法。
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