JP3323242B2 - 温冷浴洗浄装置 - Google Patents
温冷浴洗浄装置Info
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- JP3323242B2 JP3323242B2 JP22791092A JP22791092A JP3323242B2 JP 3323242 B2 JP3323242 B2 JP 3323242B2 JP 22791092 A JP22791092 A JP 22791092A JP 22791092 A JP22791092 A JP 22791092A JP 3323242 B2 JP3323242 B2 JP 3323242B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、例えば、半導体やプ
リント基板、ディスク基板等のワークに付着した異物を
洗浄除去するために用いられる温冷浴洗浄装置に関す
る。
リント基板、ディスク基板等のワークに付着した異物を
洗浄除去するために用いられる温冷浴洗浄装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、上述例のようなワークを洗浄する
装置としては、例えば、気密状態に密閉された洗浄室内
に温浴槽と冷浴槽とを独立して設け、一方の温浴槽に貯
液された高温の洗浄液中にワーク全体を浸漬して温浴洗
浄処理した後、他方の冷浴槽に貯液された低温の洗浄液
中にワーク全体を浸漬して冷浴洗浄処理するので、同各
槽に貯液された洗浄液の温度差によりワーク全体が膨脹
収縮され、複数枚重合してなる各ワークの隙間部分に洗
浄液を侵入させて、同各ワークに付着した研磨粉や油分
等の異物を洗浄除去する装置がある。
装置としては、例えば、気密状態に密閉された洗浄室内
に温浴槽と冷浴槽とを独立して設け、一方の温浴槽に貯
液された高温の洗浄液中にワーク全体を浸漬して温浴洗
浄処理した後、他方の冷浴槽に貯液された低温の洗浄液
中にワーク全体を浸漬して冷浴洗浄処理するので、同各
槽に貯液された洗浄液の温度差によりワーク全体が膨脹
収縮され、複数枚重合してなる各ワークの隙間部分に洗
浄液を侵入させて、同各ワークに付着した研磨粉や油分
等の異物を洗浄除去する装置がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のように
ワークの温浴洗浄処理と冷浴洗浄処理とを専用の各処理
槽で行うため、独立して設けられた温浴槽と冷浴槽とに
ワークを移動させなければならず、ワークの洗浄作業に
手間及び時間が掛かる。且つ、移動途中に於いてワーク
の表面温度が変化するので、洗浄液の温度差による効果
が損なわれてしまい、ワークの隙間部分に付着した異物
を確実に洗浄除去することが困難であるという問題点を
有している。また、洗浄室内に温浴槽と冷浴槽とを設置
するだけの広いスペースが必要であり、装置が大型化す
るという問題点も有している。
ワークの温浴洗浄処理と冷浴洗浄処理とを専用の各処理
槽で行うため、独立して設けられた温浴槽と冷浴槽とに
ワークを移動させなければならず、ワークの洗浄作業に
手間及び時間が掛かる。且つ、移動途中に於いてワーク
の表面温度が変化するので、洗浄液の温度差による効果
が損なわれてしまい、ワークの隙間部分に付着した異物
を確実に洗浄除去することが困難であるという問題点を
有している。また、洗浄室内に温浴槽と冷浴槽とを設置
するだけの広いスペースが必要であり、装置が大型化す
るという問題点も有している。
【０００４】この発明は上記問題に鑑み、一つの洗浄槽
内に貯液された洗浄液中にワーク全体を浸漬して温浴洗
浄処理と冷浴洗浄処理とを連続して行うことより、ワー
クの隙間部分に付着した研磨粉、フラックス、油分等の
異物を確実に洗浄除去することができ、処理能力の向上
及び装置の小型化を図ることができる温冷浴洗浄装置の
提供を目的とする。
内に貯液された洗浄液中にワーク全体を浸漬して温浴洗
浄処理と冷浴洗浄処理とを連続して行うことより、ワー
クの隙間部分に付着した研磨粉、フラックス、油分等の
異物を確実に洗浄除去することができ、処理能力の向上
及び装置の小型化を図ることができる温冷浴洗浄装置の
提供を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明の請求項１記載
の発明は、洗浄室内の洗浄槽に貯液された洗浄液中にワ
ーク全体を浸漬して洗浄処理する洗浄装置であって、上
方貯液領域に上方から供給される高温の洗浄液を所定量
貯液し、下方貯液領域に低温の洗浄液を所定量貯液する
洗浄槽を設け、上記洗浄槽内に上方からワークを浸漬移
動させ、上方貯液領域の高温洗浄液内で温浴洗浄した
後、下方の低温洗浄液内で冷浴洗浄する温冷浴洗浄装置
であることを特徴とする。
の発明は、洗浄室内の洗浄槽に貯液された洗浄液中にワ
ーク全体を浸漬して洗浄処理する洗浄装置であって、上
方貯液領域に上方から供給される高温の洗浄液を所定量
貯液し、下方貯液領域に低温の洗浄液を所定量貯液する
洗浄槽を設け、上記洗浄槽内に上方からワークを浸漬移
動させ、上方貯液領域の高温洗浄液内で温浴洗浄した
後、下方の低温洗浄液内で冷浴洗浄する温冷浴洗浄装置
であることを特徴とする。
【０００６】この発明の請求項２記載の発明は、上記請
求項１記載の構成と併せて、上記洗浄槽の上方貯液領域
と下方貯液領域とを、該洗浄槽に貯液された洗浄液を下
方貯液領域から上方貯液領域に向けて循環供給する液循
環路で接続した請求項１記載の温冷浴洗浄装置であるこ
とを特徴とする。
求項１記載の構成と併せて、上記洗浄槽の上方貯液領域
と下方貯液領域とを、該洗浄槽に貯液された洗浄液を下
方貯液領域から上方貯液領域に向けて循環供給する液循
環路で接続した請求項１記載の温冷浴洗浄装置であるこ
とを特徴とする。
【０００７】
【作用】請求項１記載の温冷浴洗浄装置は、洗浄槽内に
上方からワークを浸漬移動させ、洗浄槽の上方貯液領域
に貯液された高温の洗浄液中にワーク全体を浸漬して温
浴洗浄処理し、同洗浄槽内の下方貯液領域に貯液された
低温の洗浄液中にワーク全体を浸漬して冷浴洗浄処理す
るので、上下貯液領域に貯液した洗浄液の温度差により
ワーク全体が膨脹収縮して、ワークの隙間部分に洗浄液
が確実に侵入するため、ワークに付着した研磨粉や油分
等の異物を洗浄除去することができる。
上方からワークを浸漬移動させ、洗浄槽の上方貯液領域
に貯液された高温の洗浄液中にワーク全体を浸漬して温
浴洗浄処理し、同洗浄槽内の下方貯液領域に貯液された
低温の洗浄液中にワーク全体を浸漬して冷浴洗浄処理す
るので、上下貯液領域に貯液した洗浄液の温度差により
ワーク全体が膨脹収縮して、ワークの隙間部分に洗浄液
が確実に侵入するため、ワークに付着した研磨粉や油分
等の異物を洗浄除去することができる。
【０００８】請求項２記載の温冷浴洗浄装置は、上記の
請求項１記載の作用と併せて、低温洗浄液を、洗浄槽の
下方貯液領域から上方貯液領域に向けて液循環路を介し
て循環供給し、高温洗浄液と低温洗浄液との割合を一定
に保つ。
請求項１記載の作用と併せて、低温洗浄液を、洗浄槽の
下方貯液領域から上方貯液領域に向けて液循環路を介し
て循環供給し、高温洗浄液と低温洗浄液との割合を一定
に保つ。
【０００９】
【発明の効果】この発明によれば、ワークを、一つの洗
浄槽内に貯液された高温洗浄液と低温洗浄液とに上方か
ら浸漬移動して、温浴洗浄処理と冷浴洗浄処理とを連続
して行うので、従来例のようにワークを温浴槽と冷浴槽
とに順次浸漬したり、高温洗浄液と低温洗浄液とを入れ
換えたりする手間及び作業が省けると共に、洗浄作業に
要する処理時間が大幅に短縮され、処理能力の向上及び
装置の小型化を図ることができる。しかも、洗浄槽内に
貯液された洗浄液の温度差によりワーク全体を膨脹収縮
させるので、ワークの隙間部分に付着した研磨粉、フラ
ックス、油分等の異物を洗浄除去するのに最適である。
且つ、洗浄液を、洗浄槽の上方貯液領域と下方貯液領域
との間で循環させるので、貯液量の変動が少なく、高温
洗浄液と低温洗浄液との割合を一定に保つことができ、
洗浄液の温度差による洗浄効果が安定して得られる。
浄槽内に貯液された高温洗浄液と低温洗浄液とに上方か
ら浸漬移動して、温浴洗浄処理と冷浴洗浄処理とを連続
して行うので、従来例のようにワークを温浴槽と冷浴槽
とに順次浸漬したり、高温洗浄液と低温洗浄液とを入れ
換えたりする手間及び作業が省けると共に、洗浄作業に
要する処理時間が大幅に短縮され、処理能力の向上及び
装置の小型化を図ることができる。しかも、洗浄槽内に
貯液された洗浄液の温度差によりワーク全体を膨脹収縮
させるので、ワークの隙間部分に付着した研磨粉、フラ
ックス、油分等の異物を洗浄除去するのに最適である。
且つ、洗浄液を、洗浄槽の上方貯液領域と下方貯液領域
との間で循環させるので、貯液量の変動が少なく、高温
洗浄液と低温洗浄液との割合を一定に保つことができ、
洗浄液の温度差による洗浄効果が安定して得られる。
【００１０】
【実施例】この発明の一実施例を以下図面に基づいて詳
述する。図面は一つの洗浄槽内に貯液された洗浄液でワ
ークを温浴洗浄処理及び冷浴洗浄処理するときに用いら
れる温冷浴洗浄装置を示し、図１に於いて、この温冷浴
洗浄装置１は、気密状態に密閉される洗浄室２の底部
に、メチレンクロライド等の洗浄液Ａを蒸発気化するた
めの煮沸槽３と、同一の洗浄液Ａを上下貯液領域に分離
貯液するための洗浄槽４とを配設すると共に、同室内の
上方蒸気領域と対応する側部壁面に溶剤及び水分を分離
するための水分離槽５を連設している。
述する。図面は一つの洗浄槽内に貯液された洗浄液でワ
ークを温浴洗浄処理及び冷浴洗浄処理するときに用いら
れる温冷浴洗浄装置を示し、図１に於いて、この温冷浴
洗浄装置１は、気密状態に密閉される洗浄室２の底部
に、メチレンクロライド等の洗浄液Ａを蒸発気化するた
めの煮沸槽３と、同一の洗浄液Ａを上下貯液領域に分離
貯液するための洗浄槽４とを配設すると共に、同室内の
上方蒸気領域と対応する側部壁面に溶剤及び水分を分離
するための水分離槽５を連設している。
【００１１】上述の洗浄室２は、同室上面にワークＢを
出入れするためのワーク出入口２ａを開口すると共に、
同ワーク出入口２ａを密閉する大きさに形成した密閉蓋
２ｂを開閉自在に嵌合又は連結している。且つ、同室内
の上方蒸気領域と対応する側部内壁面に沿って蒸気Ａｃ
を冷却凝縮するための冷却ジャケット６，６を上下段に
配設し、同室側部に連設した水分離槽５内の上方蒸気領
域と対応する側部内壁面に蒸気Ａｃを凝縮液化するため
の冷却コイル７を配設すると共に、後述する冷凍装置で
適宜温度に冷却された冷媒（図示省略）を冷却ジャケッ
ト６及び冷却コイル７に循環供給して、洗浄室２内の上
方蒸気領域に放出された蒸気Ａｃ及び室内に侵入する大
気中の水分が冷却凝縮する温度に冷却ジャケット６を保
温し、且つ、水分離槽５内の上方蒸気領域に放出された
蒸気Ａｃが凝縮液化する温度に冷却コイル７を保温して
いる。
出入れするためのワーク出入口２ａを開口すると共に、
同ワーク出入口２ａを密閉する大きさに形成した密閉蓋
２ｂを開閉自在に嵌合又は連結している。且つ、同室内
の上方蒸気領域と対応する側部内壁面に沿って蒸気Ａｃ
を冷却凝縮するための冷却ジャケット６，６を上下段に
配設し、同室側部に連設した水分離槽５内の上方蒸気領
域と対応する側部内壁面に蒸気Ａｃを凝縮液化するため
の冷却コイル７を配設すると共に、後述する冷凍装置で
適宜温度に冷却された冷媒（図示省略）を冷却ジャケッ
ト６及び冷却コイル７に循環供給して、洗浄室２内の上
方蒸気領域に放出された蒸気Ａｃ及び室内に侵入する大
気中の水分が冷却凝縮する温度に冷却ジャケット６を保
温し、且つ、水分離槽５内の上方蒸気領域に放出された
蒸気Ａｃが凝縮液化する温度に冷却コイル７を保温して
いる。
【００１２】前述の煮沸槽３は、同槽底部の中央部内壁
面に洗浄液Ａを蒸発気化するための加熱ヒータ８を配設
し、例えば、適宜温度に加熱されたオイルや水溶液等の
加熱媒体（図示省略）を加熱ヒータ８に循環供給して、
メチレンクロライド等の洗浄液Ａが蒸発気化する温度
（例えば４０．４℃）に加熱ヒータ８を加熱する。
面に洗浄液Ａを蒸発気化するための加熱ヒータ８を配設
し、例えば、適宜温度に加熱されたオイルや水溶液等の
加熱媒体（図示省略）を加熱ヒータ８に循環供給して、
メチレンクロライド等の洗浄液Ａが蒸発気化する温度
（例えば４０．４℃）に加熱ヒータ８を加熱する。
【００１３】前述の洗浄槽４は、同槽内部の上方貯液領
域に貯液された洗浄液Ａを高温に加温し、同槽内部の下
方貯液領域に貯液された洗浄液Ａを低温に保温して、上
方貯液領域に高温洗浄液Ａａを所定量貯液し、下方貯液
領域に低温洗浄液Ａｂを所定量貯液すると共に、上下貯
液領域に貯液した高温洗浄液Ａａと低温洗浄液Ａｂとを
比重差により上下領域に分離している。且つ、同槽底部
の中央部内壁面に、例えば、２７KHz 〜２００KHz の振
動周波数で超音波振動する超音波振動子９を配設してい
る。
域に貯液された洗浄液Ａを高温に加温し、同槽内部の下
方貯液領域に貯液された洗浄液Ａを低温に保温して、上
方貯液領域に高温洗浄液Ａａを所定量貯液し、下方貯液
領域に低温洗浄液Ａｂを所定量貯液すると共に、上下貯
液領域に貯液した高温洗浄液Ａａと低温洗浄液Ａｂとを
比重差により上下領域に分離している。且つ、同槽底部
の中央部内壁面に、例えば、２７KHz 〜２００KHz の振
動周波数で超音波振動する超音波振動子９を配設してい
る。
【００１４】すなわち、冷却ジャケット６で凝縮液化さ
れた高温の洗浄液Ａを滴下し、水分離槽５で蒸留された
高温の洗浄液Ａをオーバーフローして、蒸留された高温
の洗浄液Ａを洗浄槽４に供給する。且つ、洗浄槽４の上
方貯液領域と対応する側部壁面と、同槽の下方貯液領域
と対応する底部壁面とを、電磁弁１０，１１と、循環ポ
ンプ１２と、フィルター１３と、熱交換器１４とを介し
て液循環路１５で接続し、同循環ポンプ１２の移送力に
より、洗浄槽４に貯液された洗浄液Ａをフィルター１３
で清浄濾過すると共に、熱交換器１４で冷却処理された
低温の洗浄液Ａを洗浄槽４内に循環供給する。
れた高温の洗浄液Ａを滴下し、水分離槽５で蒸留された
高温の洗浄液Ａをオーバーフローして、蒸留された高温
の洗浄液Ａを洗浄槽４に供給する。且つ、洗浄槽４の上
方貯液領域と対応する側部壁面と、同槽の下方貯液領域
と対応する底部壁面とを、電磁弁１０，１１と、循環ポ
ンプ１２と、フィルター１３と、熱交換器１４とを介し
て液循環路１５で接続し、同循環ポンプ１２の移送力に
より、洗浄槽４に貯液された洗浄液Ａをフィルター１３
で清浄濾過すると共に、熱交換器１４で冷却処理された
低温の洗浄液Ａを洗浄槽４内に循環供給する。
【００１５】前述の水分離槽５は、同槽内部に仕切り板
５ａを立設して各分離槽５ｂ，５ｃを分割形成し、上方
蒸気領域の冷却ジャケット６及び冷却コイル７で凝縮液
化された高温の洗浄液Ａを水分離槽５の分離槽５ｂに滴
下して、液面上に浮上した比重の軽い水分のみを分離槽
５ｂから槽外部に排出し、液面下に降下した比重の重い
高温の洗浄液Ａを分離槽５ｃからオーバーフローして洗
浄槽４に返還する。
５ａを立設して各分離槽５ｂ，５ｃを分割形成し、上方
蒸気領域の冷却ジャケット６及び冷却コイル７で凝縮液
化された高温の洗浄液Ａを水分離槽５の分離槽５ｂに滴
下して、液面上に浮上した比重の軽い水分のみを分離槽
５ｂから槽外部に排出し、液面下に降下した比重の重い
高温の洗浄液Ａを分離槽５ｃからオーバーフローして洗
浄槽４に返還する。
【００１６】前述の冷却ジャケット６及び冷却コイル７
は冷凍装置１６の蒸発器（エバポレータ）により構成さ
れ、この冷凍装置１６は、圧縮機１７の吸引側にアキュ
ムレータ１８を介して冷却ジャケット６及び冷却コイル
７を並列接続し、圧縮機１７の吐出側に凝縮器１９と、
受液器２０と、電磁弁２１と、膨脹弁２２（キャピラリ
ーチューブ）とを介して冷却ジャケット６及び冷却コイ
ル７を並列接続している。すなわち、圧縮機１７を駆動
して、圧縮され高圧となった冷媒を凝縮器１９に送り、
ここで液化して受液器２０に至った後に、この高圧冷媒
液は電磁弁２１を介して膨脹弁２２に導びかれ、同膨脹
弁２２で絞り膨脹されて低圧となった冷媒は冷却ジャケ
ット６及び冷却コイル７に夫々供給され、周囲より熱を
奪って蒸発気化し、アキュムレータ１８を介して再び圧
縮機１７に吸引される。
は冷凍装置１６の蒸発器（エバポレータ）により構成さ
れ、この冷凍装置１６は、圧縮機１７の吸引側にアキュ
ムレータ１８を介して冷却ジャケット６及び冷却コイル
７を並列接続し、圧縮機１７の吐出側に凝縮器１９と、
受液器２０と、電磁弁２１と、膨脹弁２２（キャピラリ
ーチューブ）とを介して冷却ジャケット６及び冷却コイ
ル７を並列接続している。すなわち、圧縮機１７を駆動
して、圧縮され高圧となった冷媒を凝縮器１９に送り、
ここで液化して受液器２０に至った後に、この高圧冷媒
液は電磁弁２１を介して膨脹弁２２に導びかれ、同膨脹
弁２２で絞り膨脹されて低圧となった冷媒は冷却ジャケ
ット６及び冷却コイル７に夫々供給され、周囲より熱を
奪って蒸発気化し、アキュムレータ１８を介して再び圧
縮機１７に吸引される。
【００１７】図示実施例は上記の如く構成するものとし
て、以下、温冷浴洗浄装置１によるワークＢの洗浄方法
を説明する。先ず、図１に示すように、洗浄室２内の煮
沸槽３に配設した加熱ヒータ８を加熱して、同煮沸槽３
内に貯液された洗浄液Ａを蒸発気化させ、各槽３，４，
５と対応する上方蒸気領域に蒸発気化した蒸気Ａｃを放
出する。この後、洗浄室２のワーク出入口２ａを一部開
放又は全部開放して、複数枚の各ワークＢ…を重合した
状態のまま洗浄室２内に搬入し、同室内に放出された蒸
気Ａｃ中を通過させて、洗浄槽４内に貯液された洗浄液
Ａ中にワークＢ全体を上方から浸漬する。
て、以下、温冷浴洗浄装置１によるワークＢの洗浄方法
を説明する。先ず、図１に示すように、洗浄室２内の煮
沸槽３に配設した加熱ヒータ８を加熱して、同煮沸槽３
内に貯液された洗浄液Ａを蒸発気化させ、各槽３，４，
５と対応する上方蒸気領域に蒸発気化した蒸気Ａｃを放
出する。この後、洗浄室２のワーク出入口２ａを一部開
放又は全部開放して、複数枚の各ワークＢ…を重合した
状態のまま洗浄室２内に搬入し、同室内に放出された蒸
気Ａｃ中を通過させて、洗浄槽４内に貯液された洗浄液
Ａ中にワークＢ全体を上方から浸漬する。
【００１８】すなわち、洗浄室２のワーク出入口２ａを
完全密閉した後、洗浄槽４内の上方貯液領域に貯液され
た高温洗浄液Ａａ中から下方貯液領域に貯液された低温
洗浄液Ａｂ中にワークＢを一定速度で移動して、同槽内
の上方貯液領域に貯液された高温洗浄液Ａａ中にワーク
Ｂ全体を一定時間浸漬して温浴洗浄処理し、この後、同
槽内の下方貯液領域に貯液された低温洗浄液Ａｂ中にワ
ークＢ全体を一定時間浸漬して冷浴洗浄処理するので、
上下貯液領域に貯液した高温洗浄液Ａａと低温洗浄液Ａ
ｂとの温度差によりワークＢが膨脹収縮して、複数枚重
合してなる各ワークＢ…が分離するため、同各ワークＢ
…の隙間部分に洗浄液Ａが確実に侵入して、ワークＢに
付着した研磨粉、フラックス、油分等の異物を洗浄除去
することができる。なお、浸漬時に於いて、洗浄槽４底
部に配設した超音波振動子９を振動させて超音波洗浄す
るもよい。
完全密閉した後、洗浄槽４内の上方貯液領域に貯液され
た高温洗浄液Ａａ中から下方貯液領域に貯液された低温
洗浄液Ａｂ中にワークＢを一定速度で移動して、同槽内
の上方貯液領域に貯液された高温洗浄液Ａａ中にワーク
Ｂ全体を一定時間浸漬して温浴洗浄処理し、この後、同
槽内の下方貯液領域に貯液された低温洗浄液Ａｂ中にワ
ークＢ全体を一定時間浸漬して冷浴洗浄処理するので、
上下貯液領域に貯液した高温洗浄液Ａａと低温洗浄液Ａ
ｂとの温度差によりワークＢが膨脹収縮して、複数枚重
合してなる各ワークＢ…が分離するため、同各ワークＢ
…の隙間部分に洗浄液Ａが確実に侵入して、ワークＢに
付着した研磨粉、フラックス、油分等の異物を洗浄除去
することができる。なお、浸漬時に於いて、洗浄槽４底
部に配設した超音波振動子９を振動させて超音波洗浄す
るもよい。
【００１９】同時に、洗浄室２内の上方蒸気領域に放出
された蒸気Ａｃを冷却ジャケット６及び冷却コイル７で
凝縮液化して、蒸留した高温の洗浄液Ａを洗浄槽４内に
返還供給するので、洗浄槽４内に貯液された洗浄液Ａを
常時連続蒸留しながら洗浄処理することができる。且
つ、循環ポンプ１２を駆動して、洗浄槽４に貯液された
洗浄液Ａをフィルター１３で清浄濾過し、熱交換器１４
で冷却処理した低温の洗浄液Ａを洗浄槽４内に循環供給
するので、洗浄槽４内に貯液された洗浄液Ａを常時連続
濾過しながら洗浄処理することができる。
された蒸気Ａｃを冷却ジャケット６及び冷却コイル７で
凝縮液化して、蒸留した高温の洗浄液Ａを洗浄槽４内に
返還供給するので、洗浄槽４内に貯液された洗浄液Ａを
常時連続蒸留しながら洗浄処理することができる。且
つ、循環ポンプ１２を駆動して、洗浄槽４に貯液された
洗浄液Ａをフィルター１３で清浄濾過し、熱交換器１４
で冷却処理した低温の洗浄液Ａを洗浄槽４内に循環供給
するので、洗浄槽４内に貯液された洗浄液Ａを常時連続
濾過しながら洗浄処理することができる。
【００２０】次に、洗浄処理終了後、洗浄室２のワーク
出入口２ａを一部開放又は全部開放して、洗浄槽４内に
貯液された洗浄液Ａ中から洗浄処理済みのワークＢを取
り出すと共に、洗浄室２内に放出された蒸気Ａｃでワー
クＢを沸点温度や蒸気温度等の適宜温度に加熱してから
室外に搬出する。
出入口２ａを一部開放又は全部開放して、洗浄槽４内に
貯液された洗浄液Ａ中から洗浄処理済みのワークＢを取
り出すと共に、洗浄室２内に放出された蒸気Ａｃでワー
クＢを沸点温度や蒸気温度等の適宜温度に加熱してから
室外に搬出する。
【００２１】以上のように、ワークＢを、一つの洗浄槽
４内の上方貯液領域に貯液された高温洗浄液Ａａと、同
槽内の下方貯液領域に貯液された低温洗浄液Ａｂとに上
方から浸漬移動して、温浴洗浄処理と冷浴洗浄処理とを
連続して行うので、従来例のようにワークＢを温浴槽と
冷浴槽とに順次浸漬したり、高温洗浄液Ａａと低温洗浄
液Ａｂとを入れ換えたりする手間及び作業が省けると共
に、洗浄作業に要する処理時間が大幅に短縮され、処理
能力の向上及び装置の小型化を図ることができる。しか
も、洗浄槽４内に貯液された高温洗浄液Ａａと低温洗浄
液Ａｂとの温度差によりワークＢ全体を膨脹収縮させる
ので、ワークＢの隙間部分に付着した研磨粉、フラック
ス、油分等の異物を洗浄除去するのに最適である。且
つ、液循環路１５を介して、洗浄槽４の上方貯液領域と
下方貯液領域との間で洗浄液Ａを循環させるので、貯液
量の変動が少なく、高温洗浄液Ａａと低温洗浄液Ａｂと
の割合を一定に保つことができ、洗浄液Ａの温度差によ
る洗浄効果が安定して得られる。
４内の上方貯液領域に貯液された高温洗浄液Ａａと、同
槽内の下方貯液領域に貯液された低温洗浄液Ａｂとに上
方から浸漬移動して、温浴洗浄処理と冷浴洗浄処理とを
連続して行うので、従来例のようにワークＢを温浴槽と
冷浴槽とに順次浸漬したり、高温洗浄液Ａａと低温洗浄
液Ａｂとを入れ換えたりする手間及び作業が省けると共
に、洗浄作業に要する処理時間が大幅に短縮され、処理
能力の向上及び装置の小型化を図ることができる。しか
も、洗浄槽４内に貯液された高温洗浄液Ａａと低温洗浄
液Ａｂとの温度差によりワークＢ全体を膨脹収縮させる
ので、ワークＢの隙間部分に付着した研磨粉、フラック
ス、油分等の異物を洗浄除去するのに最適である。且
つ、液循環路１５を介して、洗浄槽４の上方貯液領域と
下方貯液領域との間で洗浄液Ａを循環させるので、貯液
量の変動が少なく、高温洗浄液Ａａと低温洗浄液Ａｂと
の割合を一定に保つことができ、洗浄液Ａの温度差によ
る洗浄効果が安定して得られる。
【００２２】この発明の構成と、上述の実施例との対応
において、この発明の洗浄液は、実施例の洗浄液Ａに対
応し、以下同様に、高温の洗浄液は、高温洗浄液Ａａに
対応し、低温の洗浄液は、低温洗浄液Ａｂに対応する
も、この発明は、上述の実施例の構成のみに限定される
ものではない。
において、この発明の洗浄液は、実施例の洗浄液Ａに対
応し、以下同様に、高温の洗浄液は、高温洗浄液Ａａに
対応し、低温の洗浄液は、低温洗浄液Ａｂに対応する
も、この発明は、上述の実施例の構成のみに限定される
ものではない。
【００２３】例えば、洗浄槽４の上方貯液領域と対応す
る外面部分に加熱ヒータ等の加熱手段を装着し、同洗浄
槽４の下方貯液領域と対応する外面部分に冷却コイル等
の冷却手段を装着して、洗浄槽４内に貯液された洗浄液
Ａを各手段で加温又は冷却するもよい。
る外面部分に加熱ヒータ等の加熱手段を装着し、同洗浄
槽４の下方貯液領域と対応する外面部分に冷却コイル等
の冷却手段を装着して、洗浄槽４内に貯液された洗浄液
Ａを各手段で加温又は冷却するもよい。
【図１】温冷浴洗浄装置を構成する各槽の配管系統図。
Ａ…洗浄液 Ａａ…高温洗浄液 Ａｂ…低温洗浄液 Ｂ…ワーク １…温冷浴洗浄装置 ２…洗浄室 ３…煮沸槽 ４…洗浄槽 ５…水分離槽
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B08B 1/00 - 7/04 H01L 21/304 H05K 3/26
Claims (2)
- 【請求項１】洗浄室内の洗浄槽に貯液された洗浄液中に
ワーク全体を浸漬して洗浄処理する洗浄装置であって、上方貯液領域に上方から供給される高温の洗浄液を所定
量貯液し、下方貯液領域に低温の洗浄液を所定量貯液す
る洗浄槽を設け、 上記洗浄槽内に上方からワークを浸漬移動させ、上方貯
液領域の高温洗浄液内で温浴洗浄した後、下方の低温洗
浄液内で冷浴洗浄する 温冷浴洗浄装置。 - 【請求項２】上記洗浄槽の上方貯液領域と下方貯液領域
とを、該洗浄槽に貯液された洗浄液を下方貯液領域から
上方貯液領域に向けて循環供給する液循環路で接続した
請求項１記載の温冷浴洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22791092A JP3323242B2 (ja) | 1992-08-03 | 1992-08-03 | 温冷浴洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22791092A JP3323242B2 (ja) | 1992-08-03 | 1992-08-03 | 温冷浴洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0655152A JPH0655152A (ja) | 1994-03-01 |
| JP3323242B2 true JP3323242B2 (ja) | 2002-09-09 |
Family
ID=16868221
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22791092A Expired - Lifetime JP3323242B2 (ja) | 1992-08-03 | 1992-08-03 | 温冷浴洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3323242B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4573043B2 (ja) * | 2005-09-30 | 2010-11-04 | 栗田工業株式会社 | 硫酸リサイクル型洗浄システム |
| JP6709052B2 (ja) * | 2013-09-25 | 2020-06-10 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板処理装置 |
-
1992
- 1992-08-03 JP JP22791092A patent/JP3323242B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0655152A (ja) | 1994-03-01 |
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