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JP3313054B2 - Die attach paste - Google Patents

Die attach paste

Info

Publication number
JP3313054B2
JP3313054B2 JP34690297A JP34690297A JP3313054B2 JP 3313054 B2 JP3313054 B2 JP 3313054B2 JP 34690297 A JP34690297 A JP 34690297A JP 34690297 A JP34690297 A JP 34690297A JP 3313054 B2 JP3313054 B2 JP 3313054B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
component
die attach
attach paste
weight
phosphoric acid
Prior art date
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JP34690297A
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Japanese (ja)
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JPH11171943A (en
Inventor
敏郎 竹田
克利 安藤
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
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    • H01L24/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L24/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/102Material of the semiconductor or solid state bodies
    • H01L2924/1025Semiconducting materials
    • H01L2924/10251Elemental semiconductors, i.e. Group IV
    • H01L2924/10253Silicon [Si]

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  • Die Bonding (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a die attach paste for semiconductor which has excellent adhesiveness, low stress property and solder crack resistance, and further can be cured in a very short time. SOLUTION: This die attach paste is obtained by including (A) a product by the reaction of a urethane diacrylate and/or urethane dimethacrylate with a phosphoric acid group-containing acrylate and/or a phosphoric acid group- containing methacrylate shown by formula I and an alicyclic epoxy group- containing alkoxysilane at 0-50 deg.C, (B) a monoacrylate shown by formula IIA or a monomethacrylate shown by formula IIB, (C) an initiator, and (D) silver powder, wherein R is H or CH3 (a) is 0 or 1, (b) and (c) are each 1 or 2, (b)+(c)=3, and R1 is a group containing alicylic and/or aromatic group(s) and having ten carbon atoms or more.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、低応力性、接着性
及び速硬化性に優れた半導体接着用ペーストに関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a paste for bonding a semiconductor, which is excellent in low stress property, adhesive property and quick curing property.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年半導体パッケージの生産量は増加の
一歩をたどっており、これに伴い製造コスト削減は重要
な課題となっている。半導体パッケージ組立の中で、ダ
イアタッチペーストで半導体とリードフレームを接着す
る工程が有るが、この工程に関しては時間短縮、及び低
温硬化がポイントになっている。硬化の過程はバッチ式
オーブン法、インライン(熱盤等)で硬化させる方法に
大別されるが、コスト削減という観点からいずれの方法
でも硬化時間の短縮が重要となっている。インラインで
用いられるいわゆる速硬化性ペーストを用いた場合、通
常のダイマウントは、150℃から200℃で30秒か
ら60秒の間で行われる。しかし今後は更に低温、短時
間硬化可能なペーストの開発が望まれている。
2. Description of the Related Art In recent years, the production volume of semiconductor packages has been on an increasing trend, and accordingly, reduction of manufacturing costs has become an important issue. In the process of assembling a semiconductor package, there is a process of bonding a semiconductor and a lead frame with a die attach paste, and in this process, time reduction and low-temperature curing are important. The curing process is roughly classified into a batch oven method and a method of curing in an in-line (hot platen or the like). From the viewpoint of cost reduction, it is important to shorten the curing time in any method. When a so-called fast-curing paste used in-line is used, ordinary die mounting is performed at 150 to 200 ° C. for 30 to 60 seconds. However, in the future, development of a paste that can be cured at a lower temperature and for a shorter time is desired.

【0003】更に 、オーブン硬化の場合も同様に生産
性の向上が要求されているので、硬化時間の短縮が不可
欠となる。オーブン硬化の場合、通常のダイマウントは
150℃から200℃で60分から120分の間で行わ
れるが、今後は20分以内で硬化させることが要求され
るようになる。また現在はオーブン硬化からインライン
硬化へと移る過渡期にあるため、完全にインライン硬化
のみに絞り込むことはできない。従って、オーブン/イ
ンライン硬化併用ペーストの開発も併せて要求されてい
る。
[0003] Furthermore, in the case of oven curing, there is also a demand for an improvement in productivity, so it is essential to shorten the curing time. In the case of oven curing, ordinary die mounting is performed at 150 to 200 ° C. for 60 to 120 minutes, but in the future, curing within 20 minutes will be required. In addition, it is currently in a transition period from oven curing to in-line curing, so it is not possible to completely narrow down to only in-line curing. Therefore, the development of a combined oven / in-line curing paste is also required.

【0004】一方、パッケージとしての信頼性は、特に
耐半田クラック性が重要であるが、ダイアタッチペース
トとしては特に低応力性、高接着性が必要である。ダイ
アタッチペーストのベースレジンはエポキシ樹脂、シア
ネート樹脂、ビスマレイミド樹脂、等が知られている
が、例えばインライン硬化で30秒以内に硬化が可能及
び/又はオーブン硬化で15分以内で硬化が可能であり
且つ耐半田クラック性に適した特性を維持する材料は全
く見いだされていなかった。又、特性を満足したとして
も常温での粘度上昇が激しすぎ使用に適さない材料しか
なかった。
[0004] On the other hand, the reliability of the package is particularly important for solder crack resistance, but the die attach paste requires particularly low stress and high adhesiveness. Epoxy resin, cyanate resin, bismaleimide resin, etc. are known as the base resin of the die attach paste. For example, it can be cured within 30 seconds by in-line curing and / or can be cured within 15 minutes by oven curing. No material has been found which has properties that are suitable for solder crack resistance. Further, even if the properties were satisfied, there was only a material which was unsuitable for use because the viscosity at room temperature increased too much.

【0005】その他の樹脂としてはアクリレート樹脂が
あるが、硬化収縮の問題、接着性が乏しい等実用性のあ
るものは見いだされていなかった。その中でもヒドロキ
シアルキルアクリル、ジアルキレングリコール、ジイソ
シアネートを反応させて得られるウレタンアクリレート
は主鎖骨格の柔軟性から低応力化が期待される樹脂系で
ある。しかし、この樹脂単独では応力性に優れているも
のの、依然接着力に乏しく問題があった。そこで、この
問題を解決する方法として、さらにリン酸エステル類を
用いる方法が特開平7ー292048号公報等で提案さ
れている。しかしながら本発明者らの検討により、半導
体分野において、半導体チップを金属のリードフレーム
又はガラスーエポキシ樹脂を代表とする有機基板との接
着に対してはそれらの成分のみでは全く接着強度が得ら
れない事が判明した。これは、半導体チップとリードフ
レームに金線等を取り付ける工程(以下ワイヤーボンデ
ィングという)には200℃以上まで温度を上げる必要
があるためであり、前記構成要素のみでは熱時接着力が
全く得られず、本発明用途のような高温時(200℃〜
350℃)における無機表面と有機物の密着性には更な
る改良が必要であった。
[0005] As other resins, there are acrylate resins, but no practical resins have been found such as curing shrinkage problem and poor adhesion. Among them, urethane acrylate obtained by reacting hydroxyalkyl acryl, dialkylene glycol and diisocyanate is a resin system expected to reduce stress due to flexibility of the main chain skeleton. However, although this resin alone has excellent stress properties, it still has a problem in that the adhesive strength is poor. Therefore, as a method for solving this problem, a method using a phosphoric acid ester has been proposed in JP-A-7-292048 and the like. However, according to the study of the present inventors, in the semiconductor field, with respect to the bonding of a semiconductor chip to an organic substrate typified by a metal lead frame or a glass-epoxy resin, no adhesive strength can be obtained by only those components. The thing turned out. This is because it is necessary to raise the temperature to 200 ° C. or higher in the step of attaching a gold wire or the like to the semiconductor chip and the lead frame (hereinafter referred to as “wire bonding”). At high temperatures (200 ° C.
At 350 ° C.), the adhesion between the inorganic surface and the organic substance required further improvement.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記アクリ
レート樹脂の欠点を改良すべく検討を行った結果、特定
のアクリレート樹脂、重合開始剤、カップリング剤とし
ての特定のリン酸系化合物及び脂環式エポキシ基を含む
アルコキシシラン、及び銀粉を組み合わせたところ、前
記半導体チップと金属フレーム又は有機基板との接着性
が優れていることを見いだした。しかし、ペースト製造
工程において接着剤全成分を混練し得られたペーストの
可使時間(粘度が10%上昇する時間)が著しく悪くな
り、長時間、正確な塗布量を要求されるダイアタッチ用
途には問題があることがわかった。そこで原因を追究し
た結果、特定のウレタンジ(メタ)アクリレート、リン
酸エステル類、脂環式アルコキシシランを予め混練し、
それぞれ常温又は加温状態で所定の時間静置し、脂環式
エポキシ基アルコキシシランとリン酸基を有する(メ
タ)アクリレートを希釈条件下において十分に反応させ
た後、残りの成分を配合し混練することによりペースト
可使時間が充分に延長されることを見いだした。更に得
られたペーストは、優れた接着性、低応力性、耐半田ク
ラック性を維持し、且つ非常に短時間でも硬化が可能な
ダイアタッチペーストであることを見いだし、本発明を
完成させるに至ったものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been studied to improve the disadvantages of the acrylate resin, and as a result, a specific acrylate resin, a polymerization initiator, a specific phosphoric acid compound as a coupling agent and By combining an alkoxysilane containing a cyclic epoxy group and silver powder, it was found that the adhesiveness between the semiconductor chip and a metal frame or an organic substrate was excellent. However, in the paste manufacturing process, the working life of the paste obtained by kneading all the components of the adhesive (the time during which the viscosity increases by 10%) is significantly deteriorated. Turned out to be a problem. Therefore, as a result of investigating the cause, specific urethane di (meth) acrylate, phosphates, and alicyclic alkoxysilane were kneaded in advance,
The mixture is allowed to stand at room temperature or in a heated state for a predetermined period of time, and the alicyclic epoxy group alkoxysilane and the (meth) acrylate having a phosphate group are sufficiently reacted under dilution conditions. It has been found that the working life of the paste is sufficiently prolonged. Furthermore, the obtained paste was found to be a die attach paste that maintains excellent adhesiveness, low stress, and solder crack resistance, and can be cured even in a very short time, and has completed the present invention. It is a thing.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、次の(A)成
分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分を含有する
事を特徴とするダイアタッチペーストである。 (A)ウレタンジアクリレート及び/又はウレタンジメ
タクリレート、下記構造(1)を有するリン酸基含有ア
クリレート及び/又はリン酸基含有メタクリレート、脂
環式エポキシ基を含むアルコキシシランを0〜50℃で
反応させたもの、(B)下記構造(2a)を有するモノ
アクリレート又は下記構造(2b)を有するモノメタク
リレート、(C)重合開始剤、(D)銀粉。
According to the present invention, there is provided a die attach paste comprising the following components (A), (B), (C) and (D). (A) Urethane diacrylate and / or urethane dimethacrylate, a phosphoric acid group-containing acrylate and / or a phosphoric acid group-containing methacrylate having the following structure (1), and an alicyclic epoxy group-containing alkoxysilane are reacted at 0 to 50 ° C. (B) Monoacrylate having the following structure (2a) or monomethacrylate having the following structure (2b), (C) a polymerization initiator, and (D) silver powder.

【0008】[0008]

【化1】 (式中、R:-H又は-CH3 a:0又は1、b:1又は2、c:1又は2、b+c=3)Embedded image (Wherein, R: -H or -CH 3 a: 0 or 1, b: 1 or 2, c: 1 or 2, b + c = 3)

【0009】[0009]

【化2】 (式中、R1:脂環族、及び/又は芳香族基を含み、炭素
数10以上の置換基)
Embedded image (In the formula, R 1 : a substituent containing an alicyclic and / or aromatic group and having 10 or more carbon atoms)

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明に用いられるウレタンアク
リレートは常法によりヒドロキシアルキルアクリル酸、
ポリアルキレングリコール、ジイソシアネートの反応に
より合成される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Urethane acrylate used in the present invention is hydroxyalkyl acrylic acid,
It is synthesized by the reaction of polyalkylene glycol and diisocyanate.

【0011】ヒドロキシアルキルアクリル酸の例として
は2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシ
プロピルアクリレートがある。ポリアルキレングリコー
ルの例としてはポリエチレングリコールやポリプロピレ
ングリコール、ポリブチレングリコール等がある。又、
ジイソシアネートの例としてはヘキサメチレンジイソシ
アネート、イソフォロンジイソシアネート、トルエンジ
イソシアネート及びその水素添加物等がある。
Examples of hydroxyalkyl acrylic acid include 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxypropyl acrylate. Examples of the polyalkylene glycol include polyethylene glycol, polypropylene glycol, polybutylene glycol and the like. or,
Examples of diisocyanates include hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, toluene diisocyanate and hydrogenated products thereof.

【0012】また、一般にウレタンジアクリレートは粘
度が高いためこのままではペースト化しても塗布作業性
が悪く実用に適さない。そこで希釈剤として(メタ)ア
クリル基を一つ含むモノ(メタ)アクリレートを添加す
る。更に本発明に使用されるモノ(メタ)アクリレート
は式(2a)、(2b)で示され、さらには置換基R1
が脂環族、及び/又は芳香族基を含み置換基R1中の全
炭素数が10個以上であることが必須である。この条件
を満たす事により希釈剤としての効果だけでなく嵩高い
置換基を有するため硬化中の収縮を押さえることがで
き、界面の接着信頼性を高めることができる。脂環族、
芳香族基を含まず炭素数が10個以上の置換基の場合は
硬化収縮に関しては低減できるが脂肪族炭化水素の特性
により接着性が低下してしまうので好ましくない。モノ
(メタ)アクリレートの例としては
Further, since urethane diacrylate generally has a high viscosity, even if it is made into a paste as it is, the coating workability is poor and it is not suitable for practical use. Therefore, a mono (meth) acrylate containing one (meth) acryl group is added as a diluent. Further, the mono (meth) acrylate used in the present invention is represented by the formulas (2a) and (2b), and further has a substituent R 1
Contains an alicyclic and / or aromatic group, and the total number of carbon atoms in the substituent R 1 must be 10 or more. By satisfying this condition, not only the effect as a diluent but also the presence of a bulky substituent can suppress shrinkage during curing, thereby improving the bonding reliability of the interface. Alicyclic,
In the case of a substituent containing no aromatic group and having 10 or more carbon atoms, curing shrinkage can be reduced, but the adhesiveness is undesirably reduced due to the characteristics of the aliphatic hydrocarbon. Examples of mono (meth) acrylates

【0013】[0013]

【化3】 Embedded image

【0014】等が挙げられる。本発明に用いられるリン
酸基含有エステル類は式(1)で示されるもので有れば
特に限定されるものではないが、例を挙げると日本化薬
(株)製PM−21等である。
And the like. The phosphate group-containing ester used in the present invention is not particularly limited as long as it is represented by the formula (1).
And PM-21 manufactured by the company.

【0015】成分(A)と成分(B)の比は重量比で8
0/20〜20/80である事が好ましい。成分(A)
の量が80/20を超えるとペースト粘度が高すぎて塗
布作業性が悪くなる。一方、20/80よりも少ない
と、接着強度が得られなくなる。
The ratio of component (A) to component (B) is 8 by weight.
It is preferably 0/20 to 20/80. Component (A)
If the amount exceeds 80/20, the viscosity of the paste is too high and the coating workability deteriorates. On the other hand, if it is less than 20/80, the adhesive strength cannot be obtained.

【0016】次に、重合開始剤の例としては、有機過酸
化物やアゾ化合物等がある。有機過酸化物は、急速加熱
試験(試料1gを電熱板の上にのせ4℃/分で昇温したと
きの分解開始温度)における分解温度が40℃から14
0℃であることが好ましい。分解温度が40℃に満たな
い場合は、常温における保存性が悪くなり、140℃を
超えると硬化時間が極端に長くなるためである。
Next, examples of the polymerization initiator include organic peroxides and azo compounds. The decomposition temperature of the organic peroxide in the rapid heating test (decomposition start temperature when 1 g of a sample is placed on an electric heating plate and heated at a rate of 4 ° C./min) is from 40 ° C. to 14 ° C.
Preferably it is 0 ° C. If the decomposition temperature is lower than 40 ° C., the storage stability at room temperature becomes poor, and if it exceeds 140 ° C., the curing time becomes extremely long.

【0017】有機過酸化物の例としては、キュミルパー
オキシネオデカネート、t−ブチルパーオキシネオデカ
ネート、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオ
キシネオデカネート、1,1,3,3−テトラメチルブ
チルパーオキシネオデカネート、1,1,3,3−テト
ラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネート、
ビス(4−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボ
ネート、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボ
ネート、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,
3,5−トリメチルシクロヘキサン、t−ブチルパーオ
キシベンゾエート、t−ブチルパーオキシ3,5,5−
トリメチルヘキサネート、t−ブチルパーオキシ−2−
エチルヘキシルモノカーボネート、t−ヘキシルパーオ
キシ−2−エチルヘキサネート等があり、アゾ化合物の
例としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、
1,1’−アゾビス(1−アセトキシ−1−フェニルエ
タン)等がある。
Examples of the organic peroxide include cumylperoxyneodecanate, t-butylperoxyneodecanate, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxyneodecanate, 1,1,3,3 -Tetramethylbutyl peroxy neodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutyl peroxy-2-ethylhexanate,
Bis (4-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,
3,5-trimethylcyclohexane, t-butylperoxybenzoate, t-butylperoxy 3,5,5-
Trimethylhexanate, t-butylperoxy-2-
Examples include ethylhexyl monocarbonate and t-hexylperoxy-2-ethylhexanate. Examples of the azo compound include 2,2′-azobisisobutyronitrile,
1,1′-azobis (1-acetoxy-1-phenylethane) and the like.

【0018】これら有機過酸化物及び/又はアゾ化合物
は単独あるいは硬化性を制御するため2種類以上を混合
して用いることもできる。更に、樹脂の保存性を向上す
るために各種重合禁止剤を予め添加しておくことも可能
である。
These organic peroxides and / or azo compounds can be used alone or in combination of two or more to control curability. Further, various polymerization inhibitors can be added in advance in order to improve the storage stability of the resin.

【0019】これら有機過酸化物及び/又はアゾ化合物
の添加量としては、成分(A)+成分(B)の総重量に
対して0.1重量%から5重量%であることがることが
好ましく、0.1%以下だと硬化速度が遅くなり、5重
量%以上だと接着強度が低下するので好ましくない。
The addition amount of these organic peroxides and / or azo compounds may be from 0.1% by weight to 5% by weight based on the total weight of the component (A) + the component (B). If it is 0.1% or less, the curing speed is slow, and if it is 5% by weight or more, the adhesive strength is unfavorably reduced.

【0020】次に銀粉の例としては、球状又はフレーク
状の銀粉がある。平均粒径としては、0.5μm〜15
μmが好ましい。平均粒径が0.5μmより小さいと製
品粘度が高くなり、ロール等の混練が不可能となり、ま
た平均粒径が15μmより大きいとディスペンサー等を
用いたペースト塗布時のノズル詰まり、または接着剤層
の厚みが制御しにくく好ましくない。添加量としては、
全ペーストに対し60重量%から85重量%の範囲であ
ることが好ましい。60%に満たない場合、体積抵抗率
が高くなり、85%を超えるとペースト粘度が高くな
り、塗布作業性において好ましくない。
Next, examples of silver powder include spherical or flaky silver powder. The average particle size is 0.5 μm to 15 μm.
μm is preferred. If the average particle size is smaller than 0.5 μm, the product viscosity increases, and kneading with a roll or the like becomes impossible. If the average particle size is larger than 15 μm, nozzle clogging during paste application using a dispenser or the like, or an adhesive layer Is difficult to control, which is not preferable. As the addition amount,
It is preferably in the range of 60% to 85% by weight based on the total paste. When it is less than 60%, the volume resistivity increases, and when it exceeds 85%, the paste viscosity increases, which is not preferable in application workability.

【0021】次に、脂環式エポキシ基を含むアルコキシ
シランとは例えば、信越化学工業(株)・製、KBM−3
03等が知られている。
The alkoxysilane containing an alicyclic epoxy group is, for example, KBM-3 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
03 and the like are known.

【0022】式(1)で示されるアクリレート又はメタ
クリレートと脂環式エポキシ基を含むアルコキシシラン
の総添加量は成分(A)+成分(B)の総重量に対して
0.1重量%から5重量%であることが好ましい。0.
1%以下だと接着性に効果を示さず、5%より多いと粘
度が著しく上昇する。
The total amount of the acrylate or methacrylate represented by the formula (1) and the alkoxysilane containing an alicyclic epoxy group is from 0.1% by weight to 5% by weight based on the total weight of the component (A) + the component (B). % By weight. 0.
If it is 1% or less, no effect is exerted on the adhesiveness, and if it is more than 5%, the viscosity is significantly increased.

【0023】更には、本発明において成分(A)の各成
分は予め0〜50℃の温度で反応させておくことが必須
である。0℃より低い温度では反応が充分に進まないの
で好ましくなく、50℃を越えると副反応が起こるので
好ましくない。0〜50℃の範囲で一時間以上反応させ
たものを本発明の成分(A)として用いると得られるペ
ーストは保存安定性に優れ、低応力性、接着性及び速硬
化性に優れたものとなるので好ましい。
Further, in the present invention, it is essential that each component of the component (A) is reacted at a temperature of 0 to 50 ° C. in advance. If the temperature is lower than 0 ° C, the reaction does not proceed sufficiently, which is not preferable. If the temperature is higher than 50 ° C, a side reaction occurs, which is not preferable. When the paste obtained by reacting in the range of 0 to 50 ° C. for 1 hour or more is used as the component (A) of the present invention, the obtained paste has excellent storage stability, low stress, excellent adhesion, and excellent fast curing property. Is preferred.

【0024】本発明における樹脂ペーストは必要により
前述の重合禁止剤、消泡剤、界面活性剤、溶剤等の添加
剤を用いることができる。以下本発明を実施例で具体的
に説明する。
In the resin paste of the present invention, the above-mentioned additives such as a polymerization inhibitor, an antifoaming agent, a surfactant and a solvent can be used, if necessary. Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples.

【0025】[0025]

【実施例】実施例1 ヒドロキシエチルアクリレート、ポリブチレングリコー
ル、イソフォロンジイソシアネートから成るウレタンジ
アクリレート(東亞合成(株)・製、Mー1600)
50重量部 リン酸基含有メタクリレート(日本化薬(株)、KAYA
MER,PM−21)1重量部 脂環式エポキシアルコキシシラン(信越化学工業(株)、
KBM−303)0.5重量部
EXAMPLE 1 Urethane diacrylate comprising hydroxyethyl acrylate, polybutylene glycol and isophorone diisocyanate (M-1600, manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
50 parts by weight Phosphate group-containing methacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYA
MER, PM-21) 1 part by weight alicyclic epoxyalkoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
KBM-303) 0.5 parts by weight

【0026】上記原材料を3本ロールにて混練、透明均
一粘稠溶液とした後に25℃恒温器中にて24時間静置
し反応させる。得られた溶液(以下ワニスという)25
重量部に対してフェノキシジエチレングリコールモノア
クリレート(新中村化学工業(株)・製、AMP−20G
Y)25重量部、有機過酸化物開始剤(日本油脂(株)、
パークミルND)1.0重量部、銀粉(デグサ社製、S
F−65)130重量部及び銀粉((株)徳力化学研究所
・製、TCGー1)20重量部を混合し、再度3本ロー
ルにて分散混練する。続いて真空下脱泡処理をして銀ペ
ーストを得た。
The above-mentioned raw materials are kneaded with three rolls to form a transparent uniform viscous solution, and then allowed to stand in a thermostat at 25 ° C. for 24 hours to react. The resulting solution (hereinafter referred to as varnish) 25
Phenoxydiethylene glycol monoacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., AMP-20G)
Y) 25 parts by weight of an organic peroxide initiator (Nippon Yushi Co., Ltd.
Park mill ND) 1.0 part by weight, silver powder (manufactured by Degussa, S
130 parts by weight of F-65) and 20 parts by weight of silver powder (manufactured by Tokurika Chemical Laboratory Co., Ltd., TCG-1) are mixed and dispersed and kneaded again with three rolls. Subsequently, a degassing treatment was performed under vacuum to obtain a silver paste.

【0027】得られた銀ペーストの粘度は、E型回転粘
度計を用いて調製直後及び1週間経過後(25℃下)に
測定、2.5rpmでの値から粘度上昇率を算出した。
その結果、粘度上昇率は約9%に留まり、冷凍保存しな
くても長期保存可能であることが明らかになった。更に
42アロイ製フレームに得られた銀ペーストを塗布後6
mm角のチップをマウントし、オーブン中(150℃1
5分)又は熱盤上(175℃60秒)にて硬化させた。
接着強度は常温(25℃)及び熱時(250℃)にて自
動せん断強度測定装置を用いて測定した。その結果、ワ
イヤーボンディング温度(約250℃)においても十分
な接着強度が得られることが確認され、超音波探傷機を
用いてもチップの剥離は全く観測されなかった(表1に
示す)。
The viscosity of the obtained silver paste was measured using an E-type rotational viscometer immediately after preparation and one week after (at 25 ° C.), and the viscosity increase rate was calculated from the value at 2.5 rpm.
As a result, the rate of increase in viscosity was only about 9%, and it was clarified that long-term storage was possible without freezing. After applying the obtained silver paste to a 42 alloy frame,
Mount the chip of the square mm and place it in an oven (150 ° C 1
5 minutes) or on a hot platen (175 ° C., 60 seconds).
The adhesive strength was measured at room temperature (25 ° C.) and hot (250 ° C.) using an automatic shear strength measuring device. As a result, it was confirmed that a sufficient bonding strength was obtained even at a wire bonding temperature (about 250 ° C.), and no peeling of the chip was observed at all even by using an ultrasonic flaw detector (shown in Table 1).

【0028】その他の評価方法 ワイヤーボンディング後の剥離:リードフレームに6m
m×15mmのチップをマウント後硬化し、250℃に
てワイヤーボンディングを行いチップの剥離の有無を観
察した。
Other evaluation methods Peeling after wire bonding: 6 m on lead frame
A chip of mx15 mm was hardened after mounting, and wire bonding was performed at 250 ° C, and the presence or absence of peeling of the chip was observed.

【0029】反り値:低応力性の評価として測定した。
厚み200μmの銅フレームに6mm×15mm×0.
3mmのシリコンチップをペーストを用いて175℃6
0秒でペースト厚が20μmになるように接着し、接触
式表面粗さ計を用いて長手方向のチップの変位を測定し
その高低差により反り値を測定した。
Warpage value: Measured for evaluation of low stress property.
6mm x 15mm x 0.2mm on a copper frame with a thickness of 200m.
3mm silicon chip at 175 ° C using paste
The paste was adhered so that the paste thickness became 20 μm in 0 seconds, the displacement of the chip in the longitudinal direction was measured using a contact type surface roughness meter, and the warpage value was measured based on the height difference.

【0030】耐半田クラック性:スミコンEME−73
20(住友ベークライト(株)・製)の封止材料を用い、
下記の条件で成形したパッケージを85℃、相対湿度8
5%、168時間吸水処理した後、IRリフロー(24
0℃、10秒)にかけ、断面観察により内部クラックの
数を測定し耐半田クラック性の指標とした。
Solder crack resistance: Sumicon EME-73
Using 20 (Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) sealing material,
A package molded under the following conditions is 85 ° C and relative humidity 8
After a water absorption treatment of 5% for 168 hours, IR reflow (24
(0 ° C., 10 seconds), the number of internal cracks was measured by cross-sectional observation, and the index was used as an index of solder crack resistance.

【0031】パッケージ:80pQFP(14×20×
2mm) チップサイズ:7.5×7.5mm(アルミ配線のみ) リードフレーム:42アロイ 成形:175℃、2分間 ポストモールドキュア:175℃、4時間 全パッケージ数:12 総合評価:ダイアタッチペーストとして使用できるもの
を○、使用不可能なものを×として評価した。
Package: 80pQFP (14 × 20 ×
2mm) Chip size: 7.5 × 7.5mm (Aluminum wiring only) Lead frame: 42 alloy Molding: 175 ° C, 2 minutes Post-mold cure: 175 ° C, 4 hours Total number of packages: 12 Overall evaluation: As die attach paste Those which can be used were evaluated as ○, and those which could not be used were evaluated as ×.

【0032】実施例2 表1に示した組成、条件以外は全く実施例1と同一の方
法にて銀ペーストを得、その特性を評価した。結果は表
1に示した。
Example 2 A silver paste was obtained in exactly the same manner as in Example 1 except for the composition and conditions shown in Table 1, and the characteristics were evaluated. The results are shown in Table 1.

【0033】実施例3 表1に示した組成で、実施例1のオーブン中(150℃
15分)硬化を、熱盤上(175℃60秒)硬化に替え
た以外は実施例1と同様にして銀ペーストを得、その特
性を評価した。結果は表1に示した。
Example 3 The composition shown in Table 1 was used in the oven of Example 1 (150 ° C.
15 minutes) A silver paste was obtained in the same manner as in Example 1 except that the curing was changed to curing on a hot platen (175 ° C., 60 seconds), and the characteristics were evaluated. The results are shown in Table 1.

【0034】実施例4〜8、比較例1〜4 表1及び表2に示した組成、条件以外は全く実施例1と
同一の方法にて銀ペーストを得、その特性を評価した。
結果は表1及び表2に示してあるとおりである。
Examples 4 to 8, Comparative Examples 1 to 4 A silver paste was obtained in exactly the same manner as in Example 1 except for the composition and conditions shown in Tables 1 and 2, and the characteristics were evaluated.
The results are as shown in Tables 1 and 2.

【0034】比較例5 実施例1のワニスの成分からリン酸基含有メタクリレー
トを除いた以外はすべて実施例1と同様の方法でペース
トを得、評価した。
Comparative Example 5 A paste was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the varnish of the varnish of Example 1 was replaced with the methacrylate containing a phosphoric acid group.

【0035】比較例6 実施例1のワニスの成分から脂環式アルコキシシランを
除いた以外はすべて実施例1と同様の方法でペーストを
得、評価した。
Comparative Example 6 A paste was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the alicyclic alkoxysilane was removed from the components of the varnish of Example 1.

【0036】[0036]

【表1】 [Table 1]

【0037】[0037]

【表2】 [Table 2]

【0038】[0038]

【化4】 Embedded image

【0039】[0039]

【化5】 Embedded image

【0040】重合開始剤1:日本油脂(株)・製、キュミ
ルパーオキシネオデカネート(急速加熱試験における分
解温度:65℃) 重合開始剤2:日本油脂(株)・製、t−ブチルパーオキ
シイソプロピルモノカーボネート(急速加熱試験におけ
る分解温度:108℃) 重合開始剤3:和光純薬工業(株)・製、2,2’−アゾ
ビスイソブチロニトリル 重合開始剤4:日本油脂(株)・製、1,1,3,3−テ
トラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネート
(急速加熱試験における分解温度:81℃) 銀分1:デグサ社製、SF−65 銀粉2:(株)徳力化学研究所製、TCG−1
Polymerization initiator 1: Cumyl peroxyneodecanate, manufactured by NOF Corporation (decomposition temperature in a rapid heating test: 65 ° C.) Polymerization initiator 2: t-butyl, manufactured by NOF Corporation Peroxyisopropyl monocarbonate (decomposition temperature in rapid heating test: 108 ° C) Polymerization initiator 3: 2,2'-azobisisobutyronitrile, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Polymerization initiator 4: Nippon Yushi ( Co., Ltd., 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanate (decomposition temperature in rapid heating test: 81 ° C) Silver content 1: Degussa, SF-65 Silver powder 2: ( TCG-1 manufactured by Tokuriki Chemical Laboratory Co., Ltd.

【0041】[0041]

【発明の効果】本発明により、低応力性及び速硬化性の
他に、従来の課題であった保存性及び接着性を併せ持っ
た工業的に有用な半導体接着用ペーストが製造可能とな
った。
Industrial Applicability According to the present invention, it is possible to produce an industrially useful semiconductor bonding paste having not only low stress properties and rapid curing properties, but also the conventional problems of storability and adhesiveness.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H01L 21/52 H01L 21/52 E // C08F 290/06 C08F 290/06 (56)参考文献 特開 平11−172205(JP,A) 特開 平7−25957(JP,A) 特開 平6−87938(JP,A) 特開 昭63−284213(JP,A) 特開 昭61−7369(JP,A) 特開 平7−48422(JP,A) 特開 昭64−11108(JP,A) 特開 平3−160077(JP,A) 特開 昭57−16077(JP,A) 特開 平11−189763(JP,A) 特開 平11−60654(JP,A) 特開 平11−61086(JP,A) 特開 平11−189747(JP,A) 特開 平11−71436(JP,A) 特開 平9−100450(JP,A) 特開 平11−171944(JP,A) 特表 平7−508555(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C09J 1/00 - 201/10 H01B 1/22 H01L 21/52 C08F 290/00 - 290/14 C08F 299/00 - 299/08 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI H01L 21/52 H01L 21/52 E // C08F 290/06 C08F 290/06 (56) References JP-A-11-172205 (JP) JP-A-7-25957 (JP, A) JP-A-6-87938 (JP, A) JP-A-63-284213 (JP, A) JP-A-61-7369 (JP, A) JP-A-7-48422 (JP, A) JP-A-64-11108 (JP, A) JP-A-3-160077 (JP, A) JP-A-57-16077 (JP, A) JP-A-11-189763 (JP, A) A) JP-A-11-60654 (JP, A) JP-A-11-61086 (JP, A) JP-A-11-189747 (JP, A) JP-A-11-71436 (JP, A) JP-A-9 -100450 (JP, A) JP-A-11-171944 (JP, A) JP-A-7-508555 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7) , DB name) C09J 1/00-201/10 H01B 1/22 H01L 21/52 C08F 290/00-290/14 C08F 299/00-299/08

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 次の(A)成分、(B)成分、(C)成
分及び(D)成分を含有する事を特徴とするダイアタッ
チペースト。 (A)ウレタンジアクリレート及び/又はウレタンジメ
タクリレート、下記構造(1)を有するリン酸基含有ア
クリレート及び/又はリン酸基含有メタクリレート、脂
環式エポキシ基を含むアルコキシシランを0〜50℃で
反応させたもの、(B)下記構造(2a)を有するモノ
アクリレート又は下記構造(2b)を有するモノメタク
リレート、(C)重合開始剤、(D)銀粉。 【化1】 (式中、R:-H又は-CH3 a:0又は1、b:1又は2、c:1又は2、b+c=3) 【化2】 (式中、R1:脂環族、及び/又は芳香族基を含み、炭素
数10以上の置換基)
1. A die attach paste comprising the following components (A), (B), (C) and (D). (A) Urethane diacrylate and / or urethane dimethacrylate, a phosphoric acid group-containing acrylate and / or a phosphoric acid group-containing methacrylate having the following structure (1), and an alicyclic epoxy group-containing alkoxysilane are reacted at 0 to 50 ° C. (B) Monoacrylate having the following structure (2a) or monomethacrylate having the following structure (2b), (C) a polymerization initiator, and (D) silver powder. Embedded image (Wherein R: -H or -CH 3 a: 0 or 1, b: 1 or 2, c: 1 or 2, b + c = 3) (In the formula, R 1 : a substituent containing an alicyclic and / or aromatic group and having 10 or more carbon atoms)
【請求項2】 成分(A)と成分(B)の比が、重量比で8
0/20〜20/80である請求項1記載のダイアタッ
チペースト。
2. The ratio of component (A) to component (B) is 8 by weight.
The die attach paste according to claim 1, wherein the ratio is 0/20 to 20/80.
【請求項3】 成分(C)が、急速加熱試験における分
解温度が40℃〜140℃である有機過酸化物、及び/
又はアゾ化合物である請求項1又は2記載のダイアタッ
チペースト。
3. An organic peroxide whose component (C) has a decomposition temperature of 40 ° C. to 140 ° C. in a rapid heating test, and / or
3. The die attach paste according to claim 1, which is an azo compound.
【請求項4】 成分(C)の添加量が、成分A+成分B
総重量に対して0.1重量%〜5重量%である請求項
1、2又は3記載のダイアタッチペースト。
4. The amount of component (C) added is component A + component B
4. The die attach paste according to claim 1, wherein the amount is 0.1% by weight to 5% by weight based on the total weight.
【請求項5】 成分(D)の平均粒径が0.5〜15μ
mである請求項1〜4のいずれか1項に記載のダイアタ
ッチペースト。
5. Component (D) having an average particle size of 0.5 to 15 μm.
The die attach paste according to any one of claims 1 to 4, wherein m is m.
【請求項6】 成分(D)の添加量が成分A〜成分F総
重量の60重量%〜85重量%である請求項1〜5のい
ずれか1項に記載のダイアタッチペースト。
6. The die attach paste according to claim 1, wherein the component (D) is added in an amount of 60 to 85% by weight based on the total weight of the components A to F.
【請求項7】 成分(A)に用いられるリン酸基含有ア
クリレート及び/又はリン酸基含有メタクリレートと脂
環式エポキシを含むアルコキシシランの総重量が、成分
(A)+成分(B)の総重量に対して、0.1〜5重量
%である請求項1〜6のいずれか1項に記載のダイアタ
ッチペースト。
7. The total weight of the phosphoric acid group-containing acrylate and / or the phosphoric acid group-containing methacrylate used for the component (A) and the alkoxysilane containing the alicyclic epoxy is the total of the component (A) + the component (B). The die attach paste according to any one of claims 1 to 6, which is 0.1 to 5% by weight based on the weight.
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