JP3380237B2 - 2のcpiサブユニットを有する新規cc―1065アナログ類 - Google Patents
2のcpiサブユニットを有する新規cc―1065アナログ類Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D519/00—Heterocyclic compounds containing more than one system of two or more relevant hetero rings condensed among themselves or condensed with a common carbocyclic ring system not provided for in groups C07D453/00 or C07D455/00
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K31/00—Medicinal preparations containing organic active ingredients
- A61K31/33—Heterocyclic compounds
- A61K31/395—Heterocyclic compounds having nitrogen as a ring hetero atom, e.g. guanethidine or rifamycins
- A61K31/40—Heterocyclic compounds having nitrogen as a ring hetero atom, e.g. guanethidine or rifamycins having five-membered rings with one nitrogen as the only ring hetero atom, e.g. sulpiride, succinimide, tolmetin, buflomedil
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P35/00—Antineoplastic agents
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Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
抗生物質CC−1065、(7bR,8aS)−7−[[1,6−ジヒ
ドロ−4−ヒドロキシ−5−メトキシ−7−[(4,5,8,
8a−テトラヒドロ−7−メチル−4−オキソシクロプロ
パ[c]ピロロ[3,2−e]インドール−2(1H)−イ
ル)カルボニル]ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール
−3(2H)−イル]カルボニル]1,6−ジヒドロ−4−
ヒドロキシ−5−メトキシ−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']
ジピロール−3(2H)−カルボキシアミドはエル・ジェ
イ・ハンカら(L.J.Hanka et al)の米国特許第4169888
号に、好気性発酵法による抗生物質CC−1065の製法、お
よびそれからの抗生物質CC−1065の回収法と共に開示さ
れ特許請求されている。
ドロ−4−ヒドロキシ−5−メトキシ−7−[(4,5,8,
8a−テトラヒドロ−7−メチル−4−オキソシクロプロ
パ[c]ピロロ[3,2−e]インドール−2(1H)−イ
ル)カルボニル]ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール
−3(2H)−イル]カルボニル]1,6−ジヒドロ−4−
ヒドロキシ−5−メトキシ−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']
ジピロール−3(2H)−カルボキシアミドはエル・ジェ
イ・ハンカら(L.J.Hanka et al)の米国特許第4169888
号に、好気性発酵法による抗生物質CC−1065の製法、お
よびそれからの抗生物質CC−1065の回収法と共に開示さ
れ特許請求されている。
ザ・ジャーナル・オブ・アンティバイオティックス
(The Journal of Antibiotics),1985,38,746におい
て、デイ・ジイ・マーチンら(D.G.Martin et al)は、
酢酸がCC−1065のスピロシクロプロピルシクロヘキサジ
エニル(SCPCH)系を横切って付加し、フェノール性酢
酸生成物(AAP)、7−[[7−[[1−[(アセチル
オキシ)メチル]−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−
8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3
(2H)−イル]カルボニル]−1,6−ジヒドロ−4−ヒ
ドロキシ−5−メトキシベンゾ[1,2−b:4,3−b']−ジ
ピロール−3(2H)−イル]カルボニル]−1,6−ジヒ
ドロ−4−ヒドロキシ−5−メトキシ−ベンゾ[1,2−
b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−カルボキシアミド
が得られることを報告している。AAPをin vitroおよびi
n vivoで試験し、個々のテスト系に応じ、103ないし104
の係数だけ、CC−1065よりも優れないことが報告されて
おり、従って、有用な抗腫瘍剤としての、またはCC−10
65アナログへのプロドラッグとしてのSCPCH系のアダク
トから注意がそらされがちである。
(The Journal of Antibiotics),1985,38,746におい
て、デイ・ジイ・マーチンら(D.G.Martin et al)は、
酢酸がCC−1065のスピロシクロプロピルシクロヘキサジ
エニル(SCPCH)系を横切って付加し、フェノール性酢
酸生成物(AAP)、7−[[7−[[1−[(アセチル
オキシ)メチル]−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−
8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3
(2H)−イル]カルボニル]−1,6−ジヒドロ−4−ヒ
ドロキシ−5−メトキシベンゾ[1,2−b:4,3−b']−ジ
ピロール−3(2H)−イル]カルボニル]−1,6−ジヒ
ドロ−4−ヒドロキシ−5−メトキシ−ベンゾ[1,2−
b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−カルボキシアミド
が得られることを報告している。AAPをin vitroおよびi
n vivoで試験し、個々のテスト系に応じ、103ないし104
の係数だけ、CC−1065よりも優れないことが報告されて
おり、従って、有用な抗腫瘍剤としての、またはCC−10
65アナログへのプロドラッグとしてのSCPCH系のアダク
トから注意がそらされがちである。
ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイェ
ティ(J.Am.Chem.Soc.),103,18号、1981において、ダ
ブリュー・ウィーレンガ(W.Wierenga)は「抗腫瘍剤CC
−1065の左側セグメントの合成(Synthesis of the Lef
t−Hand Segment of the Antitumor Agent CC−106
5)」を発表している。
ティ(J.Am.Chem.Soc.),103,18号、1981において、ダ
ブリュー・ウィーレンガ(W.Wierenga)は「抗腫瘍剤CC
−1065の左側セグメントの合成(Synthesis of the Lef
t−Hand Segment of the Antitumor Agent CC−106
5)」を発表している。
欧州特許出願0154445号(85年9月11日公開)は、式E
P−IおよびEP−II(欧州特許出願0154445号の一般式チ
ャート参照)[式EP−II中、R1はCH3−、−CH2Ph、CH=
CHCH2−、−CH2SCH3、−CH2OCH3、−CH2OCH2CH2OCH3、
−CH2CCl3、−CH2CH2Si(R2)3、またはH、ここに、P
hはフェニル;Rはアルキル(C1−C5)、フェニル、また
はH;R2'はC1ないしC5−アルキル、フェニルまたは水素
であって、必ずしも1の化合物におけるRと同一でな
い;R3はアルキル(C1−C5)、フェニル、またはH;およ
びXはCl、Br、IまたはOSO2R40、ここにR40はC1ないし
C5−アルキル、フェニル、トシル、ブロモフェニル、ニ
トロフェニル、またはトリフルオロメチルを意味する]
で示される化合物を含めた種々の抗生物質CC−1065のア
ナログ類を開示している。式EP−IIのO−脱保護化合物
は化学的に安定であり、特別の化学条件下でのみ除去可
能である。しかしながら、式EP−IIの化合物をO−脱保
護すると、それらは環化できてEP−Iの化合物が得られ
る。
P−IおよびEP−II(欧州特許出願0154445号の一般式チ
ャート参照)[式EP−II中、R1はCH3−、−CH2Ph、CH=
CHCH2−、−CH2SCH3、−CH2OCH3、−CH2OCH2CH2OCH3、
−CH2CCl3、−CH2CH2Si(R2)3、またはH、ここに、P
hはフェニル;Rはアルキル(C1−C5)、フェニル、また
はH;R2'はC1ないしC5−アルキル、フェニルまたは水素
であって、必ずしも1の化合物におけるRと同一でな
い;R3はアルキル(C1−C5)、フェニル、またはH;およ
びXはCl、Br、IまたはOSO2R40、ここにR40はC1ないし
C5−アルキル、フェニル、トシル、ブロモフェニル、ニ
トロフェニル、またはトリフルオロメチルを意味する]
で示される化合物を含めた種々の抗生物質CC−1065のア
ナログ類を開示している。式EP−IIのO−脱保護化合物
は化学的に安定であり、特別の化学条件下でのみ除去可
能である。しかしながら、式EP−IIの化合物をO−脱保
護すると、それらは環化できてEP−Iの化合物が得られ
る。
また、欧州特許出願0154445号は−CO−(CH2)n1によ
って結合されたCPIダイマー[式中n1は2〜12]ならび
に連結基−C(O)−(−R11−)−C(O)−X7−
(−CH2CH2−X7)n4−C(O)−(−R11−)−C
(O)−[式中、R11=CH2CH2、CH=CH;およびX7=O、
NH、およびn4は1〜4]によって結合されたCPIダイマ
ーならびにX7=NHについてはHClおよびMe I塩を開示し
ている。
って結合されたCPIダイマー[式中n1は2〜12]ならび
に連結基−C(O)−(−R11−)−C(O)−X7−
(−CH2CH2−X7)n4−C(O)−(−R11−)−C
(O)−[式中、R11=CH2CH2、CH=CH;およびX7=O、
NH、およびn4は1〜4]によって結合されたCPIダイマ
ーならびにX7=NHについてはHClおよびMe I塩を開示し
ている。
さらに、−CO−(CH2)n1−CO−[式中、n1は2〜1
2]によって連結したCPIプロドラッグならびに連結基−
C(O)(−R11−)−C(O)−X7−(−CH2CH2−
X7)n4−C(O)−(−R11−)−C(O)−[式中、R
11=CH2CH2、CH=CH;およびX7=O、NH、およびn4=1
〜4を意味する]によって連結したCPIダイマーおよびX
7=NHについてのHClおよびMe I塩が1986年12月19日に出
願され、現在は放棄されている米国特許出願944633号お
よび1988年7月14日に公開された1987年12月11日に出願
されたPCT/US出願87/03227号に開示されている。
2]によって連結したCPIプロドラッグならびに連結基−
C(O)(−R11−)−C(O)−X7−(−CH2CH2−
X7)n4−C(O)−(−R11−)−C(O)−[式中、R
11=CH2CH2、CH=CH;およびX7=O、NH、およびn4=1
〜4を意味する]によって連結したCPIダイマーおよびX
7=NHについてのHClおよびMe I塩が1986年12月19日に出
願され、現在は放棄されている米国特許出願944633号お
よび1988年7月14日に公開された1987年12月11日に出願
されたPCT/US出願87/03227号に開示されている。
物質の種々の経口およびポスター提示が1986年12月19
日出願の米国特許出願944633号でなされている。
日出願の米国特許出願944633号でなされている。
発明の要約
本発明は紫外線吸収物質として、または化学中間体と
して有用である、後記にて定義する式I(一般式チャー
ト参照)の新しく合成により得られたいくつかの化合物
を提供する。また、代表的な式I化合物は標準的な実験
室的動物テストで有用な範囲の抗腫瘍活性を有すること
が示された。本発明の化合物は反応経路1〜6に示した
化学プロセスによって得られ、実施例で詳細に説明す
る。
して有用である、後記にて定義する式I(一般式チャー
ト参照)の新しく合成により得られたいくつかの化合物
を提供する。また、代表的な式I化合物は標準的な実験
室的動物テストで有用な範囲の抗腫瘍活性を有すること
が示された。本発明の化合物は反応経路1〜6に示した
化学プロセスによって得られ、実施例で詳細に説明す
る。
発明の詳細な記載
更に詳しくは、本発明は一般式I(一般式シート参
照): [式中、CPI1およびCPI2は、同一または異なり、式Aま
たはB(一般式シート参照)から選択され; ここに、WはC1−C5アルキル、フェニルまたは水素か
ら選択され; ここに、Xはアジド、ハロゲン原子、シアナート、チ
オシアナート、イソシアナート、チオイソシアナート、
リン酸ジエステル(−O−PO(OR)2)、ホスホニル
(−O−PO2R)、チオホスホニル(−O−RSOR)、スル
フィニル(−O−SOR)またはスルホニル(−O−SO
2R); ここに、Yは水素、−C(O)R、−C(S)R、−
C(O)OR1、−S(O)2R1、−C(O)NR2R3、−C
(S)NR2R3、または−C(O)NHSO2R4; ここに、ZはC1−C5アルキル、フェニルまたは水素よ
りなる群から選択され; ここに、Rは、C1−C20アルキル;C2−C6アルケニル;C
2−C6アルキニル;所望により1、2または3個のC1−C
4アルキル、C1−C3アルコキシ、ハロ、C1−C3アルキル
チオ、トリフルオロメチル、C2−C6ジアルキルアミノ、
またはニトロによって置換されていてもよいフェニル;
所望により1個または2個のC1−C4アルキル、C1−C3ア
ルコキシ、ハロ、トリフルオロメチル、C2−C6ジアルキ
ルアミノ、C1−C3アルキルチオまたはニトロによって置
換されていてもよいナフチルよりなる群から選択され; ここに、R1はC1−C20アルキルまたは所望により1、
2または3個のC1−C4アルキル、C1−C3アルコキシ、ハ
ロ、C1−C3アルキルチオ、トリフルオロメチル、C2−C6
ジアルキルアミノ、またはニトロによって置換されてい
てもよいフェニル; ここに、R2およびR3は、同一または異なり、水素、C1
−C20アルキル、または1、2もしくは3個のC1−C4ア
ルキル、C1−C3アルコキシ、ハロ、C1−C3アルキルチ
オ、トリフルオロメチル、C2−C6ジアルキルアミノ、ま
たはニトロによって置換されていてもよいフェニルから
選択され;但し、R2およびR3の両方がフェニルまたは置
換フェニルではあり得ず; ここに、R4はC1−C10アルキル;所望により1、2ま
たは3個のC1−C4アルキル、C1−C3アルコキシ、ハロ、
C1−C3アルキルチオ、トリフルオロメチル、C2−C6ジア
ルキルアミノ、またはニトロによて置換されていてもよ
いフェニル;所望により1個または2個のC1−C4アルキ
ル、C1−C3アルコキシ、ハロ、トリフルオロメチル、C2
−C6ジアルキルアミノ、C1−C3アルキルチオまたはニト
ロによって置換されていてもよいナフチル; ここに、Tは、 a)アミノカルボニル(−NHC(O)−); b)カルボニルアミノ(−C(O)NH−); c)カルボニルオキシ(−C(O)O−); d)オキシカルボニル(−OC(O)−); e)式−NR13−T'−NR14−のアミノ−連結基−アミノ (式中、R13およびR14は、同一または異なり、水素、ま
たはC1−C8アルキル、あるいは一緒になる場合は、nが
2または3である−(CH2)n−;ここに、T'はカルボ
ニル(−C(O)−)、ジカルボニル(−C(O)C
(O)−)、nが1ないし5である(−C(O)(C
H2)nC(O)−)、Phが1,3−または1,4−フェニレンで
ある(−C(O)PhC(O)−)、または−het−が後記
定義に同じである式−C(O)−het−C(O)−の基
よりなる群から選択される) f)R5およびR'5が共に直接結合である場合、 −C(O)−het−C(O)− (式中、−het−は、所望により、1個または2個のC1
−C4アルキル、C1−C3アルコキシ、ハロ、C1−C3アルキ
ルチオ、トリフルオロメチル、C2−C6ジアルキルアミ
ノ、またはニトロで置換されていてもよい、酸素、窒素
または硫黄よりなる群から選択される1、2または3個
の異項原子を含有する5ないし12員の縮合したモノ−、
ジ−、またはトリサイクリックヘテロアリールを意味す
る) よりなる群から選択される連結基; ここに、R5およびR'5は、同一または異なり、直接結
合またはチャートCで定義した式(ii)、(vi)、(vi
ii)、(x)、(xi)、(xvii)、(xvii a)、(xvii
b)、(xviii)、(xix)、(xx)、(xxi)、(xxi
i)、(xxiii)、(xxiv)、(xxv)、(xxvi)の化合
物よりなる群から選択されるカルボニルアシル基であ
り、ここに、該カルボニル炭素に結合した示された遊離
結合手はCPI1またはCPI2における窒素(N−)の示され
た遊離結合手に結合し、他の示された遊離結合手は連結
基Tに結合した結合を表す] で示される新しい化学化合物を提供する。
照): [式中、CPI1およびCPI2は、同一または異なり、式Aま
たはB(一般式シート参照)から選択され; ここに、WはC1−C5アルキル、フェニルまたは水素か
ら選択され; ここに、Xはアジド、ハロゲン原子、シアナート、チ
オシアナート、イソシアナート、チオイソシアナート、
リン酸ジエステル(−O−PO(OR)2)、ホスホニル
(−O−PO2R)、チオホスホニル(−O−RSOR)、スル
フィニル(−O−SOR)またはスルホニル(−O−SO
2R); ここに、Yは水素、−C(O)R、−C(S)R、−
C(O)OR1、−S(O)2R1、−C(O)NR2R3、−C
(S)NR2R3、または−C(O)NHSO2R4; ここに、ZはC1−C5アルキル、フェニルまたは水素よ
りなる群から選択され; ここに、Rは、C1−C20アルキル;C2−C6アルケニル;C
2−C6アルキニル;所望により1、2または3個のC1−C
4アルキル、C1−C3アルコキシ、ハロ、C1−C3アルキル
チオ、トリフルオロメチル、C2−C6ジアルキルアミノ、
またはニトロによって置換されていてもよいフェニル;
所望により1個または2個のC1−C4アルキル、C1−C3ア
ルコキシ、ハロ、トリフルオロメチル、C2−C6ジアルキ
ルアミノ、C1−C3アルキルチオまたはニトロによって置
換されていてもよいナフチルよりなる群から選択され; ここに、R1はC1−C20アルキルまたは所望により1、
2または3個のC1−C4アルキル、C1−C3アルコキシ、ハ
ロ、C1−C3アルキルチオ、トリフルオロメチル、C2−C6
ジアルキルアミノ、またはニトロによって置換されてい
てもよいフェニル; ここに、R2およびR3は、同一または異なり、水素、C1
−C20アルキル、または1、2もしくは3個のC1−C4ア
ルキル、C1−C3アルコキシ、ハロ、C1−C3アルキルチ
オ、トリフルオロメチル、C2−C6ジアルキルアミノ、ま
たはニトロによって置換されていてもよいフェニルから
選択され;但し、R2およびR3の両方がフェニルまたは置
換フェニルではあり得ず; ここに、R4はC1−C10アルキル;所望により1、2ま
たは3個のC1−C4アルキル、C1−C3アルコキシ、ハロ、
C1−C3アルキルチオ、トリフルオロメチル、C2−C6ジア
ルキルアミノ、またはニトロによて置換されていてもよ
いフェニル;所望により1個または2個のC1−C4アルキ
ル、C1−C3アルコキシ、ハロ、トリフルオロメチル、C2
−C6ジアルキルアミノ、C1−C3アルキルチオまたはニト
ロによって置換されていてもよいナフチル; ここに、Tは、 a)アミノカルボニル(−NHC(O)−); b)カルボニルアミノ(−C(O)NH−); c)カルボニルオキシ(−C(O)O−); d)オキシカルボニル(−OC(O)−); e)式−NR13−T'−NR14−のアミノ−連結基−アミノ (式中、R13およびR14は、同一または異なり、水素、ま
たはC1−C8アルキル、あるいは一緒になる場合は、nが
2または3である−(CH2)n−;ここに、T'はカルボ
ニル(−C(O)−)、ジカルボニル(−C(O)C
(O)−)、nが1ないし5である(−C(O)(C
H2)nC(O)−)、Phが1,3−または1,4−フェニレンで
ある(−C(O)PhC(O)−)、または−het−が後記
定義に同じである式−C(O)−het−C(O)−の基
よりなる群から選択される) f)R5およびR'5が共に直接結合である場合、 −C(O)−het−C(O)− (式中、−het−は、所望により、1個または2個のC1
−C4アルキル、C1−C3アルコキシ、ハロ、C1−C3アルキ
ルチオ、トリフルオロメチル、C2−C6ジアルキルアミ
ノ、またはニトロで置換されていてもよい、酸素、窒素
または硫黄よりなる群から選択される1、2または3個
の異項原子を含有する5ないし12員の縮合したモノ−、
ジ−、またはトリサイクリックヘテロアリールを意味す
る) よりなる群から選択される連結基; ここに、R5およびR'5は、同一または異なり、直接結
合またはチャートCで定義した式(ii)、(vi)、(vi
ii)、(x)、(xi)、(xvii)、(xvii a)、(xvii
b)、(xviii)、(xix)、(xx)、(xxi)、(xxi
i)、(xxiii)、(xxiv)、(xxv)、(xxvi)の化合
物よりなる群から選択されるカルボニルアシル基であ
り、ここに、該カルボニル炭素に結合した示された遊離
結合手はCPI1またはCPI2における窒素(N−)の示され
た遊離結合手に結合し、他の示された遊離結合手は連結
基Tに結合した結合を表す] で示される新しい化学化合物を提供する。
CPI1およびCPI2は、同一または異なり、好ましくは、
1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−8−メチル−
5−ヒドロキシ−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール
−3(2H)−イルまたは4,5,8,8a−テトラヒドロ−7−
メチル−4−オキソシクロプロパ[c]ピロロ(3,2−
e)インドール−2(1H)−イルである。
1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−8−メチル−
5−ヒドロキシ−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール
−3(2H)−イルまたは4,5,8,8a−テトラヒドロ−7−
メチル−4−オキソシクロプロパ[c]ピロロ(3,2−
e)インドール−2(1H)−イルである。
Wは好ましくはメチルである。
Xは好ましくはハロゲン、より好ましくはクロロまた
はブロモである。
はブロモである。
Yは好ましくは−CORであり、ここに、RはC1−C10ア
ルキル;所望により、1、2または3個のC1−C4アルキ
ル、C1−C3アルコキシ、ハロ、C1−C3アルキルチオ、ト
リフルオロメチル、C2−C6ジアルキルアミノ、またはニ
トロによって置換されていてもよいフェニル;−C
(O)NHSO2R4;または−C(O)NR2R3−から選択され
る。
ルキル;所望により、1、2または3個のC1−C4アルキ
ル、C1−C3アルコキシ、ハロ、C1−C3アルキルチオ、ト
リフルオロメチル、C2−C6ジアルキルアミノ、またはニ
トロによって置換されていてもよいフェニル;−C
(O)NHSO2R4;または−C(O)NR2R3−から選択され
る。
Zは好ましくは水素である。
Tは好ましくはアミド(アミノカルボニル);カルボ
ニルアミノ(−C(O)NH−);または式−NR13−T'−
NR14−[式中、R13およびR14は水素であって、ここに、
T'はカルボニル(−C(O)−)または式−C(O)−
het−C(O)−の基から選択され、ここに、−het−は
補足式チャートより選択されるヘテロアリールであり、
特に好ましいものはピロール−2,5−ジイル、フル−2,5
−ジイル、インドール−2,5−ジイル、ベンゾフラン−
2,5−ジイルまたは3,6−ジヒドロベンゾ[1,2−b:4,3−
b']ジピロール−2,7−ジイルである]である。−het−
の示した遊離結合手はカルボニル炭素原子に結合する
(−C(O)−het−C(O)−)。
ニルアミノ(−C(O)NH−);または式−NR13−T'−
NR14−[式中、R13およびR14は水素であって、ここに、
T'はカルボニル(−C(O)−)または式−C(O)−
het−C(O)−の基から選択され、ここに、−het−は
補足式チャートより選択されるヘテロアリールであり、
特に好ましいものはピロール−2,5−ジイル、フル−2,5
−ジイル、インドール−2,5−ジイル、ベンゾフラン−
2,5−ジイルまたは3,6−ジヒドロベンゾ[1,2−b:4,3−
b']ジピロール−2,7−ジイルである]である。−het−
の示した遊離結合手はカルボニル炭素原子に結合する
(−C(O)−het−C(O)−)。
R5は、好ましくは、2−カルボニルインドール−5−
イル、2−カルボニル−6−ヒドロキシ−7−メチルイ
ンドール−5−イル、2−カルボニル−1,2,3,6−テト
ラヒドロベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−7−イ
ル、2−カルボニル−4−ヒドロキシ−5−メトキシ−
1,2,3,6−テトラヒドロベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピ
ロール−7−イルである。
イル、2−カルボニル−6−ヒドロキシ−7−メチルイ
ンドール−5−イル、2−カルボニル−1,2,3,6−テト
ラヒドロベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−7−イ
ル、2−カルボニル−4−ヒドロキシ−5−メトキシ−
1,2,3,6−テトラヒドロベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピ
ロール−7−イルである。
ハロゲン原子(ハロ)とは臭素、塩素、ヨウ素または
フッ素原子をいう。
フッ素原子をいう。
C1−C20アルキルの例は、その異性体形を含めたメチ
ル、エチル、プロピル、ブチルおよびブチル等である。
C1−C3アルコキシの例は、メトキシ、エトキシ、プロポ
キシおよびその異性体形である。C2−C6ジアルキルアミ
ノの例は、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルエ
チルアミノ、ジプロピルアミノおよびエチルプロピルア
ミノである。アミノカルボニルアルキル(C1−C10)の
例は、アミノカルボニルペンチル(−NHCOC5H11)およ
びアミノカルボニルメチル(−NHCOCH3)である。
ル、エチル、プロピル、ブチルおよびブチル等である。
C1−C3アルコキシの例は、メトキシ、エトキシ、プロポ
キシおよびその異性体形である。C2−C6ジアルキルアミ
ノの例は、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルエ
チルアミノ、ジプロピルアミノおよびエチルプロピルア
ミノである。アミノカルボニルアルキル(C1−C10)の
例は、アミノカルボニルペンチル(−NHCOC5H11)およ
びアミノカルボニルメチル(−NHCOCH3)である。
hetの例はフラン−2,4−ジイル、フラン−2,5−ジイ
ル、ピロール−2,4−ジイル、ピロール−2,5−ジイル、
チオフェン−2,4−ジイル、チオフェン−2,5−ジイル、
インドール−2,5−ジイル、ベンゾフラン−2,5−ジイ
ル、ベンゾチオフェン−2,5−ジイル、ピリジン−2,6−
ジイル、ピラジン−2,6−ジイル、ピリミジン−2,6−ジ
イル、キノリン−2,6−ジイル、キノキサリン−2,6−ジ
イル、キナゾリン−2,6−ジイル、ベンゾ[1,2−b:4,3
−b']−ジピロール−2,7−ジイル、ベンゾ[1,2−b:4,
3−b']ジフラン−2,7−ジイル、ベンゾオキサゾール−
2,5−ジイルを包含する。
ル、ピロール−2,4−ジイル、ピロール−2,5−ジイル、
チオフェン−2,4−ジイル、チオフェン−2,5−ジイル、
インドール−2,5−ジイル、ベンゾフラン−2,5−ジイ
ル、ベンゾチオフェン−2,5−ジイル、ピリジン−2,6−
ジイル、ピラジン−2,6−ジイル、ピリミジン−2,6−ジ
イル、キノリン−2,6−ジイル、キノキサリン−2,6−ジ
イル、キナゾリン−2,6−ジイル、ベンゾ[1,2−b:4,3
−b']−ジピロール−2,7−ジイル、ベンゾ[1,2−b:4,
3−b']ジフラン−2,7−ジイル、ベンゾオキサゾール−
2,5−ジイルを包含する。
所望により置換されていてもよいhetの例は、3,4−ジ
クロロフラン−2,5−ジイル、3,4−ジメチルフラン−2,
5−ジイル、3−クロロピロール−2,5−ジイル、3,4−
ジクロロピロール−2,5−ジイル、3−メトキシピロー
ル−2,5−ジイル、3−メチル−4−エチル−ピロール
−2,5−ジイル、3,4−ジフルオロピロール−2,5−ジイ
ル、3−ブロモ−チオフェン−2,5−ジイル、4−クロ
ロピリジン−2,6−ジイル、4,5−ジメトキシベンゾ[1,
2−b:4,3−b']ジピロール−2,7−ジイル、3,5−ジクロ
ロピリジン−2,6−ジイルである。
クロロフラン−2,5−ジイル、3,4−ジメチルフラン−2,
5−ジイル、3−クロロピロール−2,5−ジイル、3,4−
ジクロロピロール−2,5−ジイル、3−メトキシピロー
ル−2,5−ジイル、3−メチル−4−エチル−ピロール
−2,5−ジイル、3,4−ジフルオロピロール−2,5−ジイ
ル、3−ブロモ−チオフェン−2,5−ジイル、4−クロ
ロピリジン−2,6−ジイル、4,5−ジメトキシベンゾ[1,
2−b:4,3−b']ジピロール−2,7−ジイル、3,5−ジクロ
ロピリジン−2,6−ジイルである。
一般式シートの式Bの化合物は一般式シートに示した
番号付与系(B')の誘導体として命名できる。かかる化
合物は1,2,3,6−テトラヒドロ−8−W−5−Y−ベン
ゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−1−[Z−CH(X)
−]−構造を持つ。
番号付与系(B')の誘導体として命名できる。かかる化
合物は1,2,3,6−テトラヒドロ−8−W−5−Y−ベン
ゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−1−[Z−CH(X)
−]−構造を持つ。
式Iの化合物はラセミ混合物として描き、ラセミ混合
物から分割できおよび/または天然の、すなわち1
(S)−コンフィギュレーションの出発物質から調製で
きる式I'aの天然異性体を包含する。
物から分割できおよび/または天然の、すなわち1
(S)−コンフィギュレーションの出発物質から調製で
きる式I'aの天然異性体を包含する。
本発明の式I化合物の例は:
[S−(R*,R*)]−6,6'−[カルボニルビス(イ
ミノ−1H−インドール−5,2−ジカルボニル)]ビス
[8−クロロメチル)−3,6,7,8−テトラヒドロ−1−
メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−4−オ
ール(化合物1); [7bR−[2(7'bR*,8'aS*),7bR*,8aS*]]−2,
2'−[カルボニルビス(イミノ−1H−インドール−5,2
−ジカルボニル)]ビス[1,2,8,8a−テトラヒドロ−7
−メチル−シクロプロパ(c)ピロロ[3,2−e]イン
ドール−4(5H)−オン(化合物2); (R*,S*)−N,N'−ビス[2−[[1−(クロロメ
チル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチル
ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イ
ル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]−エタ
ンジアミド(化合物3); [S−(R*,R*)]−6,6'−(1H−ピロール−2,5
−ジイルジカルボニル)ビス[8−(クロロメチル)−
3,6,7,8−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:
4,3−b']ジピーロール4−オール(化合物4); [S−(R*,R*)]−6,6'−(2,5−フランジイル
ジカルボニル)ビス[8−(クロロメチル)−3,6,7,8
−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−
b']ジピロール−4−オール(化合物5); [S−(R*,R*)]−N,N'−ビス[2−[[1−
(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−
8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3
(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イ
ル]−2,5−フランジカルボキシアミド(化合物6); [S−(R*,R*)]−N,N'−ビス]2−[[1−
(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−
8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3
(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イ
ル]−1H−ピロール−2,5−ジカルボキシアミド(化合
物7); [R−(R*,S*)]−N,N'−ビス[2−[[1−
(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−
8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3
(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イ
ル]−プロパンジアミド(化合物8); [S−(R*,R*)]−6,6'−[カルボニルビス(イ
ミノ−1H−インドール−5,2−ジイルカルボニル)−ビ
ス[8−(クロロメチル)−3,6,7,8−テトラヒドロ−
1−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−4
−オール・ジアセテート(化合物9); [S−(R*,R*)]−6,6'−(1H−インドール−2,
5−ジイルジカルボニル)ビス[8−(クロロメチル)
−3,6,7,8−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−
b:4,3−b']ジピロール−4−オール(化合物10); [S−(R*,R*)]−N,N'−ビス[2−[[1−
(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−
8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3
(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イ
ル]−1H−インドール−2,5−ジカルボキシアミド(化
合物11); [S−(R*,R*)]−2−[[1−(クロロメチ
ル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベ
ンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]
カルボニル]−N−[3−[[1−(クロロメチル)−
1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]カル
ボニル]−1H−インドール−6−イル]−1H−インドー
ル−5−カルボキシアミド(化合物12); [S−(R*,R*)]−5−[[1−(クロロメチ
ル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベ
ンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]
−カルボニル)−N−[2−[[1−(クロロメチル)
−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]カル
ボニル)−1H−インドール−5−イル]−1H−インドー
ル−2−カルボキシアミド(化合物13); [S−(R*,R*)]−カルボニルビス[イミノ−1H
−インドール−5,2−ジイルカルボニル[1−(クロロ
メチル)−1,6−ジヒドロ−8−メチルベンゾ[1,2−b:
4,3−b']ジピロール−3,5(2H)−ジイル]]エステ
ル、2,2−ジメチルプロパン酸(化合物14); [S−(R*,R*)]−カルボニルビス[イミノ−1H
−インドール−5,2−ジイルカルボニル[1−(クロロ
メチル)−1,6−ジヒドロ−8−メチルベンゾ[1,2−b:
4,3−b']ジピロール−3,5(2H)−ジイル]]エステ
ル、デカン酸(化合物15); [S−(R*,R*)]−6,6'−[カルボニルビス
[(7,8−ジヒドロベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロー
ル−6,2(3H)−ジイル)カルボニル]]ビス[8−
(クロロメチル)−3,6,7,8−テトラヒドロ−1−メチ
ル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−4−オール
(化合物16); を包含する。
ミノ−1H−インドール−5,2−ジカルボニル)]ビス
[8−クロロメチル)−3,6,7,8−テトラヒドロ−1−
メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−4−オ
ール(化合物1); [7bR−[2(7'bR*,8'aS*),7bR*,8aS*]]−2,
2'−[カルボニルビス(イミノ−1H−インドール−5,2
−ジカルボニル)]ビス[1,2,8,8a−テトラヒドロ−7
−メチル−シクロプロパ(c)ピロロ[3,2−e]イン
ドール−4(5H)−オン(化合物2); (R*,S*)−N,N'−ビス[2−[[1−(クロロメ
チル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチル
ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イ
ル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]−エタ
ンジアミド(化合物3); [S−(R*,R*)]−6,6'−(1H−ピロール−2,5
−ジイルジカルボニル)ビス[8−(クロロメチル)−
3,6,7,8−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:
4,3−b']ジピーロール4−オール(化合物4); [S−(R*,R*)]−6,6'−(2,5−フランジイル
ジカルボニル)ビス[8−(クロロメチル)−3,6,7,8
−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−
b']ジピロール−4−オール(化合物5); [S−(R*,R*)]−N,N'−ビス[2−[[1−
(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−
8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3
(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イ
ル]−2,5−フランジカルボキシアミド(化合物6); [S−(R*,R*)]−N,N'−ビス]2−[[1−
(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−
8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3
(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イ
ル]−1H−ピロール−2,5−ジカルボキシアミド(化合
物7); [R−(R*,S*)]−N,N'−ビス[2−[[1−
(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−
8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3
(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イ
ル]−プロパンジアミド(化合物8); [S−(R*,R*)]−6,6'−[カルボニルビス(イ
ミノ−1H−インドール−5,2−ジイルカルボニル)−ビ
ス[8−(クロロメチル)−3,6,7,8−テトラヒドロ−
1−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−4
−オール・ジアセテート(化合物9); [S−(R*,R*)]−6,6'−(1H−インドール−2,
5−ジイルジカルボニル)ビス[8−(クロロメチル)
−3,6,7,8−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−
b:4,3−b']ジピロール−4−オール(化合物10); [S−(R*,R*)]−N,N'−ビス[2−[[1−
(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−
8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3
(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イ
ル]−1H−インドール−2,5−ジカルボキシアミド(化
合物11); [S−(R*,R*)]−2−[[1−(クロロメチ
ル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベ
ンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]
カルボニル]−N−[3−[[1−(クロロメチル)−
1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]カル
ボニル]−1H−インドール−6−イル]−1H−インドー
ル−5−カルボキシアミド(化合物12); [S−(R*,R*)]−5−[[1−(クロロメチ
ル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベ
ンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]
−カルボニル)−N−[2−[[1−(クロロメチル)
−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]カル
ボニル)−1H−インドール−5−イル]−1H−インドー
ル−2−カルボキシアミド(化合物13); [S−(R*,R*)]−カルボニルビス[イミノ−1H
−インドール−5,2−ジイルカルボニル[1−(クロロ
メチル)−1,6−ジヒドロ−8−メチルベンゾ[1,2−b:
4,3−b']ジピロール−3,5(2H)−ジイル]]エステ
ル、2,2−ジメチルプロパン酸(化合物14); [S−(R*,R*)]−カルボニルビス[イミノ−1H
−インドール−5,2−ジイルカルボニル[1−(クロロ
メチル)−1,6−ジヒドロ−8−メチルベンゾ[1,2−b:
4,3−b']ジピロール−3,5(2H)−ジイル]]エステ
ル、デカン酸(化合物15); [S−(R*,R*)]−6,6'−[カルボニルビス
[(7,8−ジヒドロベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロー
ル−6,2(3H)−ジイル)カルボニル]]ビス[8−
(クロロメチル)−3,6,7,8−テトラヒドロ−1−メチ
ル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−4−オール
(化合物16); を包含する。
式Iの化合物は、以下の反応条件を用い、反応経路
1、2、2a、3、4、5および6に示すごとく、適当な
4,5,8,8a−テトラヒドロ−4−オキソシクロプロパン
(c)ピロロ(3,2−e)−インドールアナログ(式
B)をビスカルボン酸、ビスイソジアナート、ビス−ア
ミノカルボキシレートまたはオキシカルボキシレート剤
と反応させ、次いで、他の適当な4,5,8,8a−テトラヒド
ロ−4−オキソシクロプロパン(c)ピロロ(3,2−
e)インドールアナログ(式B)と反応させることによ
って容易に調製される。
1、2、2a、3、4、5および6に示すごとく、適当な
4,5,8,8a−テトラヒドロ−4−オキソシクロプロパン
(c)ピロロ(3,2−e)−インドールアナログ(式
B)をビスカルボン酸、ビスイソジアナート、ビス−ア
ミノカルボキシレートまたはオキシカルボキシレート剤
と反応させ、次いで、他の適当な4,5,8,8a−テトラヒド
ロ−4−オキソシクロプロパン(c)ピロロ(3,2−
e)インドールアナログ(式B)と反応させることによ
って容易に調製される。
工程1および4:1〜5MのHCl、またはHBrのごときガス
状酸あるいはCF3CO3Hのごとき強酸を含む酢酸エチル、
塩化メチレンまたは1,2−ジクロロメタンのような溶媒
中1mg〜100mg/mの溶液で行う。反応は0゜〜50℃で行
う。アミン塩としての生成物を溶媒および酸の蒸発によ
って単離する。反応は10分〜48時間行うことができる。
状酸あるいはCF3CO3Hのごとき強酸を含む酢酸エチル、
塩化メチレンまたは1,2−ジクロロメタンのような溶媒
中1mg〜100mg/mの溶液で行う。反応は0゜〜50℃で行
う。アミン塩としての生成物を溶媒および酸の蒸発によ
って単離する。反応は10分〜48時間行うことができる。
工程2:反応はDMF、DMA、またはTHFのごとき極性溶媒
中、−10゜〜50℃で行う。CPI部位:ビスカルボン酸:
脱水剤の比は好ましくは2:1:2である。脱水剤またはカ
ップリング剤はジシクロヘキシルカルボジイミド(DC
C)またはエチルジメチルアミノプロピルカルボジイミ
ド(EDC)のごときカルボジイミドあるいは当該分野で
公知の他のアミド脱水剤であり得る。反応は10分〜72時
間行うことができる。
中、−10゜〜50℃で行う。CPI部位:ビスカルボン酸:
脱水剤の比は好ましくは2:1:2である。脱水剤またはカ
ップリング剤はジシクロヘキシルカルボジイミド(DC
C)またはエチルジメチルアミノプロピルカルボジイミ
ド(EDC)のごときカルボジイミドあるいは当該分野で
公知の他のアミド脱水剤であり得る。反応は10分〜72時
間行うことができる。
工程5および7:工程2に同じであめが、CPI部位:
酸:脱水剤の比は好ましくは1:1:1である。
酸:脱水剤の比は好ましくは1:1:1である。
工程3、8、9、11、14、15および17:反応は水性有
機塩基中で行う。好ましい条件は1:1:1の比のアセトニ
トリル:水:トリエチルアミンである。これらの剤の比
は1:2:2〜5:1:1まで変化させることができる。また、溶
媒は、アセトニトリルの代わりにDMF、DMA、N−メチル
ピロリドン、THF等を用いることができる。また、有機
塩基は、1,5ジアザ−ビシクロ[3.3.3]オクタン(DABC
O)、またはエチルジイソプロピルアミンのごとき他の
第三級有機アミンに変更することができる。通常、温度
は0℃ないし50℃であり、通常、反応は5分〜10時間行
う。
機塩基中で行う。好ましい条件は1:1:1の比のアセトニ
トリル:水:トリエチルアミンである。これらの剤の比
は1:2:2〜5:1:1まで変化させることができる。また、溶
媒は、アセトニトリルの代わりにDMF、DMA、N−メチル
ピロリドン、THF等を用いることができる。また、有機
塩基は、1,5ジアザ−ビシクロ[3.3.3]オクタン(DABC
O)、またはエチルジイソプロピルアミンのごとき他の
第三級有機アミンに変更することができる。通常、温度
は0℃ないし50℃であり、通常、反応は5分〜10時間行
う。
工程6:脱保護は保護基Rに依存する。それがt−ブチ
ルである場合、該基は工程1と同様の酸処理によって除
去することができる。R=ベンジルである場合、それは
酢酸エチルまたはTHF中のPd触媒での水素化分解によっ
て、例えば、ギ酸アンモニウム、メタノール、水および
Pd/Cによって除去することができる。
ルである場合、該基は工程1と同様の酸処理によって除
去することができる。R=ベンジルである場合、それは
酢酸エチルまたはTHF中のPd触媒での水素化分解によっ
て、例えば、ギ酸アンモニウム、メタノール、水および
Pd/Cによって除去することができる。
R=SiR3である場合、それは酸またはフッ化物イオンに
よって除去することができる。これらの方法は当該分野
でよく知られている。
よって除去することができる。これらの方法は当該分野
でよく知られている。
工程5aおよび7a:反応は非プロトン性極性溶媒中で行
うことができる。好ましいものはピリジン、DMF、DMA、
THF、または塩化メチレンである。溶媒がピリジン以外
である場合、トリエチルアミンのごとき塩基を添加する
ことができる。反応はCPI部位対活性化カルボニル化合
物の比が約1:1で行うことができる。反応は−50℃〜100
℃にて、5分〜72時間行うことができる。
うことができる。好ましいものはピリジン、DMF、DMA、
THF、または塩化メチレンである。溶媒がピリジン以外
である場合、トリエチルアミンのごとき塩基を添加する
ことができる。反応はCPI部位対活性化カルボニル化合
物の比が約1:1で行うことができる。反応は−50℃〜100
℃にて、5分〜72時間行うことができる。
工程10および16:試薬はCPI部位対活性カルボニルの比
が約2:1で合することができる。反応はTHF、DMF、DMA、
ピリジン、アセトニトリル等のごとき極性非プロトン性
溶媒中で行うことができる。反応は−50℃〜100℃に
て、10分〜数週間行うことができる。
が約2:1で合することができる。反応はTHF、DMF、DMA、
ピリジン、アセトニトリル等のごとき極性非プロトン性
溶媒中で行うことができる。反応は−50℃〜100℃に
て、10分〜数週間行うことができる。
工程12、13、18および19:CPI部位対活性カルボニル部
位の比は約1:1である。他は工程10のごとく行う。
位の比は約1:1である。他は工程10のごとく行う。
以下の実施例において、NMRスペクトルデータは、特
に断りのない限り、DMSO−d6中で記録した。IRスペクト
ルはヌジョールマルから記録した。UVスペルトル用の溶
媒は、特に断りのない限り、固体をDMFまたはジメチル
アセトアミド(DMA)の数滴に溶解し、95%エタノール
またはメタノールで希釈することによって調製した。TL
CデータはシリカゲルGFのアナルテヒ(Analtech)ユニ
プレート(Uniplate)にて与える。
に断りのない限り、DMSO−d6中で記録した。IRスペクト
ルはヌジョールマルから記録した。UVスペルトル用の溶
媒は、特に断りのない限り、固体をDMFまたはジメチル
アセトアミド(DMA)の数滴に溶解し、95%エタノール
またはメタノールで希釈することによって調製した。TL
CデータはシリカゲルGFのアナルテヒ(Analtech)ユニ
プレート(Uniplate)にて与える。
実施例1 [S−(R*,R*)]−6,6'−[カルボニル
ビス(イミノ−1H−インドール−5,2−ジカルボニ
ル)]ビス[8−クロロメチル)−3,6,7,8−テトラヒ
ドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロー
ル−4−オール(化合物) パートA;5,5'−(カルボニルジイミノ)ビス−1H−イン
ドール−2−カルボン酸ジエチルエステルの調製 THF80mLに溶解した5−アミノインドール−2−カル
ボン酸エチルエステル6.82g(33.4mM)および4−ジメ
チルアミノピリジン19mg(0.15mM)の溶液を凍結メタノ
ール浴中、−98℃まで冷却する。これに、ジイソプロピ
ルエチルアミン7mL(40.2mM)、続いてトルエン8.5mL
(16.4mM)中の1.93Mホスゲンを添加した。反応物を−9
8℃で1時間撹拌し、次いで−78℃で1時間撹拌した。
次いで、−13℃で一晩貯蔵した。次いで、反応物を水で
クエンチし、水および酢酸エチルで希釈した。水性層を
分離し、酢酸エチルで2回再抽出した。合した酢酸エチ
ル層をN HClで洗浄して混合物を得、これを濾過によ
って分離した。濾過した固体は純粋な生成物5,5'−(カ
ルボニルジイミノ)ビス−1H−インドール−2−カルボ
ン酸ジエチルエステル6.38g(88%)であることが判明
する。濾液を乾燥し、濃縮して暗色固体1.49gを得る。
この物質を、トルエン中の10%DMFで溶出させるシリカ
ゲル100g上のクロマトグラフィーに付す。生成物はTLC
によると画分23〜50に見い出される。これらの画分を高
真空下で濃縮して残渣を得、これをDMF−メタノールか
ら晶出させる。かくして、生成物がさらに0.80g得られ
る。
ビス(イミノ−1H−インドール−5,2−ジカルボニ
ル)]ビス[8−クロロメチル)−3,6,7,8−テトラヒ
ドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロー
ル−4−オール(化合物) パートA;5,5'−(カルボニルジイミノ)ビス−1H−イン
ドール−2−カルボン酸ジエチルエステルの調製 THF80mLに溶解した5−アミノインドール−2−カル
ボン酸エチルエステル6.82g(33.4mM)および4−ジメ
チルアミノピリジン19mg(0.15mM)の溶液を凍結メタノ
ール浴中、−98℃まで冷却する。これに、ジイソプロピ
ルエチルアミン7mL(40.2mM)、続いてトルエン8.5mL
(16.4mM)中の1.93Mホスゲンを添加した。反応物を−9
8℃で1時間撹拌し、次いで−78℃で1時間撹拌した。
次いで、−13℃で一晩貯蔵した。次いで、反応物を水で
クエンチし、水および酢酸エチルで希釈した。水性層を
分離し、酢酸エチルで2回再抽出した。合した酢酸エチ
ル層をN HClで洗浄して混合物を得、これを濾過によ
って分離した。濾過した固体は純粋な生成物5,5'−(カ
ルボニルジイミノ)ビス−1H−インドール−2−カルボ
ン酸ジエチルエステル6.38g(88%)であることが判明
する。濾液を乾燥し、濃縮して暗色固体1.49gを得る。
この物質を、トルエン中の10%DMFで溶出させるシリカ
ゲル100g上のクロマトグラフィーに付す。生成物はTLC
によると画分23〜50に見い出される。これらの画分を高
真空下で濃縮して残渣を得、これをDMF−メタノールか
ら晶出させる。かくして、生成物がさらに0.80g得られ
る。
NMR:δ1.36(t,6H);4.35(q,4H);7.10(s,2H);7.2
6(d,2H,J=9Hz);7.39(d,2H,J=9Hz);7.88(s,2H);
8.25(s,2H);11.77(bs,2H) IR:3330、3260、1705、1695、1645、1250cm-1 UV:λmax(THF)=338nm(ε=7000):301nm(ε=28
000);292nm(ε=26000);250nm(ε=31000) MS(FAB)m/z435(M+H),406,362,253,204,159,13
2 TLC:(10−90)DMF−トルエンにてRf=0.30 パートB;5,5'−(カルボニルジイミノ)ビス−1H−イン
ドール−2−カルボン酸の調製 インドールダイマージエステル、5,5'−(カルボニル
ジイミノ)ビス−1H−インドール−2−カルボン酸ジエ
チルエステル7.16g(16.5mM)をピリジン300mおよび
N NaOH60mで処理する。得られた混合物を25℃で24
時間、50〜60℃で7時間、さらに25℃で48時間撹拌し、
その時点でTLCは反応が完了したことを示す。反応物を
真空下、25℃で濃縮してほとんど乾燥状態とする。残渣
を3N HClで酸性化し、得られた固体を濾過によって収集
する。濾過した固体をDMF100mに約100℃で溶解させ
る。次いで、溶液をメタノール400mおよび水10mで
希釈する。溶液を冷却し、結晶性生成物5,5'−(カルボ
ニルジイミノ)ビス−1H−インドール−2−カルボン酸
を濾過によって収集する(5.11g、82%)。
6(d,2H,J=9Hz);7.39(d,2H,J=9Hz);7.88(s,2H);
8.25(s,2H);11.77(bs,2H) IR:3330、3260、1705、1695、1645、1250cm-1 UV:λmax(THF)=338nm(ε=7000):301nm(ε=28
000);292nm(ε=26000);250nm(ε=31000) MS(FAB)m/z435(M+H),406,362,253,204,159,13
2 TLC:(10−90)DMF−トルエンにてRf=0.30 パートB;5,5'−(カルボニルジイミノ)ビス−1H−イン
ドール−2−カルボン酸の調製 インドールダイマージエステル、5,5'−(カルボニル
ジイミノ)ビス−1H−インドール−2−カルボン酸ジエ
チルエステル7.16g(16.5mM)をピリジン300mおよび
N NaOH60mで処理する。得られた混合物を25℃で24
時間、50〜60℃で7時間、さらに25℃で48時間撹拌し、
その時点でTLCは反応が完了したことを示す。反応物を
真空下、25℃で濃縮してほとんど乾燥状態とする。残渣
を3N HClで酸性化し、得られた固体を濾過によって収集
する。濾過した固体をDMF100mに約100℃で溶解させ
る。次いで、溶液をメタノール400mおよび水10mで
希釈する。溶液を冷却し、結晶性生成物5,5'−(カルボ
ニルジイミノ)ビス−1H−インドール−2−カルボン酸
を濾過によって収集する(5.11g、82%)。
NMR:δ7.07(d,2H,J=2Hz);7.28(dd,2H,J=1.8Hz,J
=9Hz);7.40(d,2H,J=9Hz);7.89(d,2H,J=1.8Hz);
8.59(bs,2H);11.65(d,2H,J=1.5Hz) IR:3400〜2300,1680,1530,1225cm-1 UV;λmax=294nm(ε=23000) MS(FAB):m/z379(M+H),362,331,253,176,158,1
32 TLC:(40−60−2)DMF−トルエン−酢酸にてRf=0.3
3 パートC;(S)−1−(クロロメチル)−1,6−ジヒド
ロ−5−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3
−b']ジピロール−3(2H)−カルボン酸・1,1−ジメ
チルエステル[(Boc)CPIフェノールクロライド]と塩
化水素との反応、続いての5,5'−(カルボニルジイミ
ノ)ビス−1H−インドール−2−カルボン酸との縮合 (S)−1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5
−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']
ジピロール−3(2H)−カルボン酸・1,1−ジメチルエ
ステル[(Boc)CPIフェノールクロライド]128mg(0.3
8mM)を酢酸エチル6mに溶解し、溶液を新たに調製し
た酢酸エチル6m中の飽和HClの溶液で処理する。反応
物を1時間撹拌し、その時点でTLCは出発物質の完全な
消失を示す。反応溶液を真空下で濃縮し、窒素下で大気
圧に戻す。得られた残渣を塩化メチレンから2度再蒸発
させて(S)−1−(クロロメチル)−5−ヒドロキシ
−8−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロ−ベンゾ[1,2−
b:4,3−b']ジピロール塩酸塩(CPIフェノールクロライ
ド塩酸塩)を得る。この出発物質を二酸5,5'−(カルボ
ニルジイミノ)ビス−1H−インドール−2−カルボン酸
78mg(0.21mM)の乾燥ジメチルアセトアミド4m中溶液
で処理する。次いで、1−エチル−3−(3−ジメチル
アミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(EDC、68mg、
0.08mM)を固体として添加する。45分後、EDCの第2の
量を添加する(68mg)。撹拌を50分間継続する。反応物
を水で沈澱させ、固体を遠心する。それを0.1N HCl、0.
5%NaHCO3および水で洗浄し、各回、遠心し、水性物を
捨てる。残渣を20トール未満の真空中で2日間にわたっ
て蒸発させる。粗生成物をDMFからセライトに吸着さ
せ、トルエン中の30%DMFで溶出させるシリカゲルカラ
ム15g上のクロマトグラフィーに付す。10mずつの画分
を収集する。[S−(R*,R*)]−6,6'−[カルボニ
ルビス(イミノ−1H−インドール−5,2−ジカルボニ
ル)]ビス[8−クロロメチル)−3,6,7,8−テトラヒ
ドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロー
ル−4−オールは画分4〜16に見い出される(115.1mg
固体、BocCPIに基づき74%収率)。NMR、IR、UV、FAB NMR:δ2.356(s,6H);3.582(m,2H);3.92(m,2H);
4.03(m,2H);4.548(m,2H);4.67(m,2H);7.044(s,4
H);7.26(d,2H);7.42(d,2H);7.64(bs,2H);7.849
(s,2H);8.466(bs,2H);9.767(bs,2H);10.704(bs,
2H);11.531(bs,2H) IR:3260,1580,1195cm-1 UV:λmax=348nm(ε=25000);295nm(ε=31000) MS(FAB):m/z815(M+H),779,579,236,187,159 DNA結合: Δ▲[Φ]24h λ▼〜O TLC:(30−70)DMF−トルエンにてRf=0.44 実施例2 [7bR−[2(7'bR*,8'aS*),7bR*,8aS
*]]−2,2'−[カルボニルビス(イミノ−1H−インド
ール−5,2−ジカルボニル)]ビス[1,2,8,8a−テトラ
ヒドロ−7−メチル−シクロプロパ(c)ピロロ[3,2
−e]インドール−4(5H)−オン(化合物2)の調製 [S−(R*,R*)]−6,6'−[カルボニルビス(イ
ミノ−1H−インドール−5,2−ジカルボニル)]−ビス
[8−クロロメチル)−3,6,7,8−テトラヒドロ−1−
メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−4−オ
ール80mg(0.1mM)をアセトニトリル10mL、水3mLおよび
トリエチルアミン3mLで処理する。反応物を室温にて窒
素下で撹拌する。40分後、沈澱した生成物を濾過によっ
て収集する。濾液を水および酢酸エチルで希釈し、生成
物の第2収量を濾過によって収集する。固体を合して、
[7bR−[2(7'bR*,8'aS*),7bR*,8aS*]]−2,2'
−[カルボニルビス(イミノ−1H−インドール−5,2−
ジカルボニル)]ビス[1,2,8,8a−テトラヒドロ−7−
メチル−シクロプロパン(c)ピロロ[3,2−e]イン
ドール−4(5H)−オン38mg(52%)を得る。
=9Hz);7.40(d,2H,J=9Hz);7.89(d,2H,J=1.8Hz);
8.59(bs,2H);11.65(d,2H,J=1.5Hz) IR:3400〜2300,1680,1530,1225cm-1 UV;λmax=294nm(ε=23000) MS(FAB):m/z379(M+H),362,331,253,176,158,1
32 TLC:(40−60−2)DMF−トルエン−酢酸にてRf=0.3
3 パートC;(S)−1−(クロロメチル)−1,6−ジヒド
ロ−5−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3
−b']ジピロール−3(2H)−カルボン酸・1,1−ジメ
チルエステル[(Boc)CPIフェノールクロライド]と塩
化水素との反応、続いての5,5'−(カルボニルジイミ
ノ)ビス−1H−インドール−2−カルボン酸との縮合 (S)−1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5
−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']
ジピロール−3(2H)−カルボン酸・1,1−ジメチルエ
ステル[(Boc)CPIフェノールクロライド]128mg(0.3
8mM)を酢酸エチル6mに溶解し、溶液を新たに調製し
た酢酸エチル6m中の飽和HClの溶液で処理する。反応
物を1時間撹拌し、その時点でTLCは出発物質の完全な
消失を示す。反応溶液を真空下で濃縮し、窒素下で大気
圧に戻す。得られた残渣を塩化メチレンから2度再蒸発
させて(S)−1−(クロロメチル)−5−ヒドロキシ
−8−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロ−ベンゾ[1,2−
b:4,3−b']ジピロール塩酸塩(CPIフェノールクロライ
ド塩酸塩)を得る。この出発物質を二酸5,5'−(カルボ
ニルジイミノ)ビス−1H−インドール−2−カルボン酸
78mg(0.21mM)の乾燥ジメチルアセトアミド4m中溶液
で処理する。次いで、1−エチル−3−(3−ジメチル
アミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(EDC、68mg、
0.08mM)を固体として添加する。45分後、EDCの第2の
量を添加する(68mg)。撹拌を50分間継続する。反応物
を水で沈澱させ、固体を遠心する。それを0.1N HCl、0.
5%NaHCO3および水で洗浄し、各回、遠心し、水性物を
捨てる。残渣を20トール未満の真空中で2日間にわたっ
て蒸発させる。粗生成物をDMFからセライトに吸着さ
せ、トルエン中の30%DMFで溶出させるシリカゲルカラ
ム15g上のクロマトグラフィーに付す。10mずつの画分
を収集する。[S−(R*,R*)]−6,6'−[カルボニ
ルビス(イミノ−1H−インドール−5,2−ジカルボニ
ル)]ビス[8−クロロメチル)−3,6,7,8−テトラヒ
ドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロー
ル−4−オールは画分4〜16に見い出される(115.1mg
固体、BocCPIに基づき74%収率)。NMR、IR、UV、FAB NMR:δ2.356(s,6H);3.582(m,2H);3.92(m,2H);
4.03(m,2H);4.548(m,2H);4.67(m,2H);7.044(s,4
H);7.26(d,2H);7.42(d,2H);7.64(bs,2H);7.849
(s,2H);8.466(bs,2H);9.767(bs,2H);10.704(bs,
2H);11.531(bs,2H) IR:3260,1580,1195cm-1 UV:λmax=348nm(ε=25000);295nm(ε=31000) MS(FAB):m/z815(M+H),779,579,236,187,159 DNA結合: Δ▲[Φ]24h λ▼〜O TLC:(30−70)DMF−トルエンにてRf=0.44 実施例2 [7bR−[2(7'bR*,8'aS*),7bR*,8aS
*]]−2,2'−[カルボニルビス(イミノ−1H−インド
ール−5,2−ジカルボニル)]ビス[1,2,8,8a−テトラ
ヒドロ−7−メチル−シクロプロパ(c)ピロロ[3,2
−e]インドール−4(5H)−オン(化合物2)の調製 [S−(R*,R*)]−6,6'−[カルボニルビス(イ
ミノ−1H−インドール−5,2−ジカルボニル)]−ビス
[8−クロロメチル)−3,6,7,8−テトラヒドロ−1−
メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−4−オ
ール80mg(0.1mM)をアセトニトリル10mL、水3mLおよび
トリエチルアミン3mLで処理する。反応物を室温にて窒
素下で撹拌する。40分後、沈澱した生成物を濾過によっ
て収集する。濾液を水および酢酸エチルで希釈し、生成
物の第2収量を濾過によって収集する。固体を合して、
[7bR−[2(7'bR*,8'aS*),7bR*,8aS*]]−2,2'
−[カルボニルビス(イミノ−1H−インドール−5,2−
ジカルボニル)]ビス[1,2,8,8a−テトラヒドロ−7−
メチル−シクロプロパン(c)ピロロ[3,2−e]イン
ドール−4(5H)−オン38mg(52%)を得る。
NMR:δ1.394(m,2H);2.008(s+m,8H);3.169(m,2
H);4.44(m,2H);4.522(m,2H);6.693(s,2H);6.881
(s,2H);7.120(s,2H);7.266(d,2H);7.402(d,2
H);7.872(s,2H);8.512(bs,2H);11.536(bs,2H);1
1.675(bs,2H) IR:3250,1560,1375,1255cm-1 UV;λmax=365nm(ε=36000);316nm(ε=31000) MS(FAB):C43H35N8O5として 計算値743.2730;実測
値743.2737 m/z543、368、201にてイオン DNA結合: Δ▲[Φ]24h λ▼〜O TLC:(30−70)DMF−トルエンにてRf=0.43 実施例3 (R*,S*)−N,N'−ビス[2−[[1−
(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−
8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3
(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イ
ル]エタンジアミド(化合物3)の調製 パートA;5,5'−[(12,2−ジオキソ−1,2−エタンジイ
ル)ジイミノ]ビス−1H−インドール−2−カルボン酸
ジエチルエステルの調製 5−アミノインドール−2−カルボン酸エチルエステ
ル190.4mg(0.93mM)を窒素雰囲気下にて蒸留THF15m
に溶解し、溶液を−78℃まで冷却する。ジイソプロピル
エチルアミン175μ(1.00mM)、続いて塩化オキサリ
ル41μ(0.47mM)をシリンジで入れる。反応物を−78
℃で1時間撹拌する。反応物を真空中で蒸発させて半分
の容量とし、次いで、水で処理する。生成物5,5'−
[(1,2−ジオキソ−1,2−エタンジイル)ジイミノ]ビ
ス−1H−インドール−2−カルボン酸ジエチルエステル
が白色固体として沈澱し、これを遠心によって収集し、
20トール未満で72時間乾燥する(232mg)。
H);4.44(m,2H);4.522(m,2H);6.693(s,2H);6.881
(s,2H);7.120(s,2H);7.266(d,2H);7.402(d,2
H);7.872(s,2H);8.512(bs,2H);11.536(bs,2H);1
1.675(bs,2H) IR:3250,1560,1375,1255cm-1 UV;λmax=365nm(ε=36000);316nm(ε=31000) MS(FAB):C43H35N8O5として 計算値743.2730;実測
値743.2737 m/z543、368、201にてイオン DNA結合: Δ▲[Φ]24h λ▼〜O TLC:(30−70)DMF−トルエンにてRf=0.43 実施例3 (R*,S*)−N,N'−ビス[2−[[1−
(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−
8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3
(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イ
ル]エタンジアミド(化合物3)の調製 パートA;5,5'−[(12,2−ジオキソ−1,2−エタンジイ
ル)ジイミノ]ビス−1H−インドール−2−カルボン酸
ジエチルエステルの調製 5−アミノインドール−2−カルボン酸エチルエステ
ル190.4mg(0.93mM)を窒素雰囲気下にて蒸留THF15m
に溶解し、溶液を−78℃まで冷却する。ジイソプロピル
エチルアミン175μ(1.00mM)、続いて塩化オキサリ
ル41μ(0.47mM)をシリンジで入れる。反応物を−78
℃で1時間撹拌する。反応物を真空中で蒸発させて半分
の容量とし、次いで、水で処理する。生成物5,5'−
[(1,2−ジオキソ−1,2−エタンジイル)ジイミノ]ビ
ス−1H−インドール−2−カルボン酸ジエチルエステル
が白色固体として沈澱し、これを遠心によって収集し、
20トール未満で72時間乾燥する(232mg)。
NMR:δ1.348(t,6H);4.35(q,4H);7.16(s,2H);7.
45(d,2H);7.68(d,2H);8.224(s,2H);10.732(bs,2
H);11.92(bs,2H) IR:3360,3320,1690,1670,1525,1255,1215cm-1 UV:λmax=330nm(ε=5000);299nm(ε=10000); MS(EI):m/z462(M+),417,230,204,158 パートB;5,5'−[(1,2−ジオキソ−1,2−エタンジイ
ル)ジイミノ]ビス−1H−インドール−2−カルボン酸
の調製 5,5'−[(1,2−ジオキソ−1,2−エチンジイル)ジイ
ミノ]ビス−1H−インドール−2−カルボン酸ジエチル
エステル220mg(0.48mM)をピリジン9mLに懸濁し、1N N
aOH1.5mLで処理する。ミルク状混合物を窒素下で60℃ま
で加熱する。24時間後、N NaOHを再度添加し(1mL)、
反応物をさらに3時間加熱する。次いで、反応物を1N H
Clの添加(2.5mL)によって中和し、20トール未満で1/2
の容量まで濃縮する。次いで、残渣を1N HCl50mLで処理
し、遠心して残存するわずかにピンク色の固体を得る。
これを水で洗浄し、遠心し、真空オーブン中で乾燥して
生成物5,5'−[(1,2−ジオキソ−1,2−エタンジイル)
ジイミノ]ビス−1H−インドール−2−カルボン酸148m
gを得る。
45(d,2H);7.68(d,2H);8.224(s,2H);10.732(bs,2
H);11.92(bs,2H) IR:3360,3320,1690,1670,1525,1255,1215cm-1 UV:λmax=330nm(ε=5000);299nm(ε=10000); MS(EI):m/z462(M+),417,230,204,158 パートB;5,5'−[(1,2−ジオキソ−1,2−エタンジイ
ル)ジイミノ]ビス−1H−インドール−2−カルボン酸
の調製 5,5'−[(1,2−ジオキソ−1,2−エチンジイル)ジイ
ミノ]ビス−1H−インドール−2−カルボン酸ジエチル
エステル220mg(0.48mM)をピリジン9mLに懸濁し、1N N
aOH1.5mLで処理する。ミルク状混合物を窒素下で60℃ま
で加熱する。24時間後、N NaOHを再度添加し(1mL)、
反応物をさらに3時間加熱する。次いで、反応物を1N H
Clの添加(2.5mL)によって中和し、20トール未満で1/2
の容量まで濃縮する。次いで、残渣を1N HCl50mLで処理
し、遠心して残存するわずかにピンク色の固体を得る。
これを水で洗浄し、遠心し、真空オーブン中で乾燥して
生成物5,5'−[(1,2−ジオキソ−1,2−エタンジイル)
ジイミノ]ビス−1H−インドール−2−カルボン酸148m
gを得る。
NMR:δ7.098(s,2H);7.42(d,2H,J=9Hz);7.66(d,
2H,J=9Hz);8.201(s,2H);10.709(bs,2H);11.80(b
s,2H) IR:3420,3310,1660,1510,1220cm-1 MS(FAB):m/z407(M+H),385,331,253,177 TLC:(40−60−2)DMF−トルエン−酢酸にてRf=0.3
1 パートC;5,5'−[(1,2−ジオキソ−1,2−エタンジイ
ル)ジイミノ]ビス−1H−インドール−2−カルボン酸
と(S)−1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5
−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']
ジピロール−3(2H)−カルボン酸・1,1−ジメチルエ
ステル[(Boc)CPIフェノールクロライド]との反応 暗所にて、窒素雰囲気下、(S)−1−(クロロメチ
ル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチル−
ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−カル
ボン酸・1,1−ジメチルエステル[(Boc)CPIフェノー
ルクロライド]42.5mg(0.13mM)を酢酸エチル15mLに溶
解する。反応物をHClで飽和した酢酸エチル3mLで処理す
る。反応物を1時間撹拌し、真空中で蒸発させる。真空
を解放するときは、窒素を導入する。CH2Cl2での2回の
再蒸発により、(S)−1−(クロロメチル)−5−ヒ
ドロキシ−8−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロ−ベン
ゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール塩酸塩(CPIフェノー
ルクロライド塩酸塩)を固体として得る。5,5'−[(1,
2−ジオキソ−1,2−エタンジイル)ジイミノ]ビス−1H
−インドール−2−カルボン酸28.4mg(0.06mM)のジメ
チルアセトアミド2m中懸濁液を反応物に添加する。ED
Cを固体として添加する(43.4mg、0.23mM)。反応物を
室温、窒素下、暗所にて100分間撹拌する。水を添加し
て生成物を沈澱させる。遠心によって単離した固体を5
%NaHCO3で2回、次いで0.1N HClおよび水で洗浄する。
固体を真空下で乾燥する。固体をDMFからシリカゲルに
吸着させ、トルエン中の20%〜30%DMFを用いるシリカ
ゲルカラム3g上のクロマトグラフィーに付す。1〜2m
ずつの画分を収集する。(R*,S*)−N,N'−ビス[2
−[[1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒ
ドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロ
ール−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール
−5−イル]−エタンジアミドが画分15〜22で見い出さ
れる(24.6mg、45%収率)。
2H,J=9Hz);8.201(s,2H);10.709(bs,2H);11.80(b
s,2H) IR:3420,3310,1660,1510,1220cm-1 MS(FAB):m/z407(M+H),385,331,253,177 TLC:(40−60−2)DMF−トルエン−酢酸にてRf=0.3
1 パートC;5,5'−[(1,2−ジオキソ−1,2−エタンジイ
ル)ジイミノ]ビス−1H−インドール−2−カルボン酸
と(S)−1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5
−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']
ジピロール−3(2H)−カルボン酸・1,1−ジメチルエ
ステル[(Boc)CPIフェノールクロライド]との反応 暗所にて、窒素雰囲気下、(S)−1−(クロロメチ
ル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチル−
ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−カル
ボン酸・1,1−ジメチルエステル[(Boc)CPIフェノー
ルクロライド]42.5mg(0.13mM)を酢酸エチル15mLに溶
解する。反応物をHClで飽和した酢酸エチル3mLで処理す
る。反応物を1時間撹拌し、真空中で蒸発させる。真空
を解放するときは、窒素を導入する。CH2Cl2での2回の
再蒸発により、(S)−1−(クロロメチル)−5−ヒ
ドロキシ−8−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロ−ベン
ゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール塩酸塩(CPIフェノー
ルクロライド塩酸塩)を固体として得る。5,5'−[(1,
2−ジオキソ−1,2−エタンジイル)ジイミノ]ビス−1H
−インドール−2−カルボン酸28.4mg(0.06mM)のジメ
チルアセトアミド2m中懸濁液を反応物に添加する。ED
Cを固体として添加する(43.4mg、0.23mM)。反応物を
室温、窒素下、暗所にて100分間撹拌する。水を添加し
て生成物を沈澱させる。遠心によって単離した固体を5
%NaHCO3で2回、次いで0.1N HClおよび水で洗浄する。
固体を真空下で乾燥する。固体をDMFからシリカゲルに
吸着させ、トルエン中の20%〜30%DMFを用いるシリカ
ゲルカラム3g上のクロマトグラフィーに付す。1〜2m
ずつの画分を収集する。(R*,S*)−N,N'−ビス[2
−[[1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒ
ドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロ
ール−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール
−5−イル]−エタンジアミドが画分15〜22で見い出さ
れる(24.6mg、45%収率)。
NMR:(DMF−d7)δ2.216(s,6H);3.47(m,2H);3.77
(m,2H);3.918(d,2H);4.51(m,4H);6.95(s,2H);
7.03(s,2H);7.40(d,2H);7.62(d,2H);8.22)(s,2
H) UV:λmax=341nm(ε=38000);293nm(ε=52000) TLC:(30−70)DMF−トルエンにてRf=0.58 実施例4 [S−(R*,R*)]−6,6'−(1H−ピロー
ル−2,5−ジイルジカルボニル)ビス[8−(クロロメ
チル)−3,6,7,8−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロー
ル−4−オール(化合物4)の調製 (S)−1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5
−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']
ジピロール−3(2H)−カルボン酸・1,1−ジメチルエ
ステル[(Boc)CPIフェノールクロライド]40mg(0.12
nM)を窒素雰囲気下で酢酸エチル1mLに溶解する。反応
物を、新たにHClで飽和させた酢酸エチル3mLで処理し、
得られ溶液を室温で1時間撹拌する。溶媒を真空中で除
去し、紫色がかった残存固体としての(S)−1−(ク
ロロメチル)−5−ヒドロキシ−8−メチル−1,2,3,6
−テトラヒドロ−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール
塩酸塩(CPIフェノールクロライド塩酸塩)をCH2Cl2と
共に2回再蒸発させ、蒸発と蒸留の間に窒素でフラッシ
ュする。これを乾燥ジメチルアセトアミド1mLおよびEDC
24mg(0.125mM)中のピロール−2,5−ジカルボン酸8.9m
g(0.057mM)で処理し、得られた溶液を25℃で撹拌す
る。50分後、EDC24mg(0.125mM)をさらに添加する。さ
らに55分後、反応物を水5mLおよび飽和水性塩化ナトリ
ウム溶液5mLで希釈し、酢酸エチルで4回抽出する。合
した有機層を乾燥し(Na2SO4)、蒸発させる。粗製残渣
を酢酸エチル−アセトンからシリカゲル5gに吸着させ、
10%DMF−トルエン、続いて15%DMF−トルエンを用いる
シリカゲルカラム6g上のクロマトグラフィーに付す。3
〜4mずつの画分を収集する。[S−(R*,R*)]−
6,6'−(1H−ピロール−2,5−ジイルジカルボニル)ビ
ス[8−(クロロメチル)−3,6,7,8−ベンゾ[1,2−b:
4,3−b']ジピロール−4−オールが画分23〜37に見い
出される(25mg)。
(m,2H);3.918(d,2H);4.51(m,4H);6.95(s,2H);
7.03(s,2H);7.40(d,2H);7.62(d,2H);8.22)(s,2
H) UV:λmax=341nm(ε=38000);293nm(ε=52000) TLC:(30−70)DMF−トルエンにてRf=0.58 実施例4 [S−(R*,R*)]−6,6'−(1H−ピロー
ル−2,5−ジイルジカルボニル)ビス[8−(クロロメ
チル)−3,6,7,8−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロー
ル−4−オール(化合物4)の調製 (S)−1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5
−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']
ジピロール−3(2H)−カルボン酸・1,1−ジメチルエ
ステル[(Boc)CPIフェノールクロライド]40mg(0.12
nM)を窒素雰囲気下で酢酸エチル1mLに溶解する。反応
物を、新たにHClで飽和させた酢酸エチル3mLで処理し、
得られ溶液を室温で1時間撹拌する。溶媒を真空中で除
去し、紫色がかった残存固体としての(S)−1−(ク
ロロメチル)−5−ヒドロキシ−8−メチル−1,2,3,6
−テトラヒドロ−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール
塩酸塩(CPIフェノールクロライド塩酸塩)をCH2Cl2と
共に2回再蒸発させ、蒸発と蒸留の間に窒素でフラッシ
ュする。これを乾燥ジメチルアセトアミド1mLおよびEDC
24mg(0.125mM)中のピロール−2,5−ジカルボン酸8.9m
g(0.057mM)で処理し、得られた溶液を25℃で撹拌す
る。50分後、EDC24mg(0.125mM)をさらに添加する。さ
らに55分後、反応物を水5mLおよび飽和水性塩化ナトリ
ウム溶液5mLで希釈し、酢酸エチルで4回抽出する。合
した有機層を乾燥し(Na2SO4)、蒸発させる。粗製残渣
を酢酸エチル−アセトンからシリカゲル5gに吸着させ、
10%DMF−トルエン、続いて15%DMF−トルエンを用いる
シリカゲルカラム6g上のクロマトグラフィーに付す。3
〜4mずつの画分を収集する。[S−(R*,R*)]−
6,6'−(1H−ピロール−2,5−ジイルジカルボニル)ビ
ス[8−(クロロメチル)−3,6,7,8−ベンゾ[1,2−b:
4,3−b']ジピロール−4−オールが画分23〜37に見い
出される(25mg)。
NMR:δ2.349(s,6H);3.59(m,2H);3.90(m,2H);4.
01(m,2H);4.40(m,2H);4.55(m,2H);6.850(s,2
H);7.039(m,2H);7.60(m,2H);9.77(s,2H);10.71
(bs,2H);11.36(bs,1H) UV;λmax=356nm(ε=16000);290nm(ε=21000) TLC:(20−80)DMF−トルエンにてRf=0.47 実施例5 [S−(R*.R*)]−6,6'−(2,5−フラ
ンジイルジカルボニル)ビス[8−(クロロメチル)−
3,6,7,8−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:
4,3−b']ジピロール−4−オール(化合物5)の調製 (S)−1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5
−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']
ジピロール−3(2H)−カルボン酸・1,1−ジメチルエ
ステル[(Boc)CPIフェノールクロライド]40.6mg(0.
12mM)を酢酸エチル1mLに溶解し、窒素下に置き、HCl−
飽和酢酸エチル3mLで処理する。50分後、反応物を真空
中で蒸発させ、窒素下で大気圧に戻す。CH2Cl2から再蒸
発させて(S)−1−(クロロメチル)−5−ヒドロキ
シ−8−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロ−ベンゾ[1,2
−b:4,3−b']ジピロール塩酸塩(CPIフェノールクロラ
イド塩酸塩)を固体として得る。固体をフラン−2,5−
ジカルボン酸9.7mg(0.062mM)の乾燥ジメチルアセトア
ミド1mL中溶液で処理する。EDC43.1mg(0.22mM)を2回
の等量で45分離して添加する。酢酸エチルおよび水を添
加することによって、第2の添加の170分後、反応を停
止させる。該水を酢酸エチルで再抽出する。合した有機
層を0.5N HCl、1%NaCO3、および水で洗浄する。乾燥
(Na2SO4)および濃縮により黄色固体55.2mgを得る。固
体をDMF−アセトンからシリカゲル0.7gに吸着させる。
これを、トルエン中の10%〜15%DMFで溶出するシリカ
ゲルカラム7g上のクロマトグラフィーに付す。3〜4m
ずつの画分を収集する。画分23〜31を濃縮することによ
って、[S−(R*,R*)]−6,6'−(2,5−フランジ
イルジカルボニル)ビス[8−(クロロメチル)−3,6,
7,8−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3
−b']ジピロール−4−オールを鮮やかな黄色固体とし
て単離する(22.3mg、63%収率)。
01(m,2H);4.40(m,2H);4.55(m,2H);6.850(s,2
H);7.039(m,2H);7.60(m,2H);9.77(s,2H);10.71
(bs,2H);11.36(bs,1H) UV;λmax=356nm(ε=16000);290nm(ε=21000) TLC:(20−80)DMF−トルエンにてRf=0.47 実施例5 [S−(R*.R*)]−6,6'−(2,5−フラ
ンジイルジカルボニル)ビス[8−(クロロメチル)−
3,6,7,8−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:
4,3−b']ジピロール−4−オール(化合物5)の調製 (S)−1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5
−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']
ジピロール−3(2H)−カルボン酸・1,1−ジメチルエ
ステル[(Boc)CPIフェノールクロライド]40.6mg(0.
12mM)を酢酸エチル1mLに溶解し、窒素下に置き、HCl−
飽和酢酸エチル3mLで処理する。50分後、反応物を真空
中で蒸発させ、窒素下で大気圧に戻す。CH2Cl2から再蒸
発させて(S)−1−(クロロメチル)−5−ヒドロキ
シ−8−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロ−ベンゾ[1,2
−b:4,3−b']ジピロール塩酸塩(CPIフェノールクロラ
イド塩酸塩)を固体として得る。固体をフラン−2,5−
ジカルボン酸9.7mg(0.062mM)の乾燥ジメチルアセトア
ミド1mL中溶液で処理する。EDC43.1mg(0.22mM)を2回
の等量で45分離して添加する。酢酸エチルおよび水を添
加することによって、第2の添加の170分後、反応を停
止させる。該水を酢酸エチルで再抽出する。合した有機
層を0.5N HCl、1%NaCO3、および水で洗浄する。乾燥
(Na2SO4)および濃縮により黄色固体55.2mgを得る。固
体をDMF−アセトンからシリカゲル0.7gに吸着させる。
これを、トルエン中の10%〜15%DMFで溶出するシリカ
ゲルカラム7g上のクロマトグラフィーに付す。3〜4m
ずつの画分を収集する。画分23〜31を濃縮することによ
って、[S−(R*,R*)]−6,6'−(2,5−フランジ
イルジカルボニル)ビス[8−(クロロメチル)−3,6,
7,8−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3
−b']ジピロール−4−オールを鮮やかな黄色固体とし
て単離する(22.3mg、63%収率)。
NMR:δ2.344(s,6H);3.63(m,2H);3.89(m,2H);4.
029(m,2H);4.51(m,2H);4.60(m,2H);7.048(s,2
H);7.37(s,2H);7.64(m,2H);9.82(s,2H);10.75
(bs,2H) UV:λmax=360nm(ε=20000);295nm(ε=24000) TLC:(20−80)DMF−トルエンにてRf=0.47 実施例6 [S−(R*,R*)−N,N'−ビス[2−
[[1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒド
ロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b;4,3−b']ジピロー
ル−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−
5−イル]−2,5−フランジカルボキシアミド(化合物
6)の調製 パートA;5,5'−[2,5−フランジイルビス(カルボニル
イミノ)]−ビス−1H−インドール−2−カルボン酸ジ
エチルエステルの調製 フラン−2,5−ジカルボン酸50mg(0.32mM、エイ・ゾ
ストおよびビイ・トレンス(A.Sohst and B.Tollen
s)、ユースティッヒ・リービッヒス・アナーレン・デ
ル・ヘミー(Justig Liebigs Ann.Chem.),245,1(188
8))および5−アミノ−インドール−2−カルボン酸
エチルエステル130mg(0.64mM)をジメチルアセトアミ
ド2mLに溶解し、溶液をEDC132mg(0.69mM)で処理す
る。20時間後、反応物を水20mLで希釈し、酢酸エチルで
2回抽出する。合した酢酸エチル溶液をN HClおよびN N
aOHで洗浄し、乾燥する(MgSO4)。真空中での酢酸エチ
ルの濃縮により、残渣154mgを得る。これを、ヘキサン
中の50%〜60%酢酸エチル、続いてトルエン中の50%酢
酸エチルで溶出するシリカゲル10g上のクロマトグラフ
ィーに付す。4mLずつの画分を収集する。画分22〜50を
蒸発させて、5,5'−[2,5−フランジイルビス(カルボ
ニルイミノ)]ビス−1H−インドール−2−カルボン酸
ジエチルエステル107mgを得る。
029(m,2H);4.51(m,2H);4.60(m,2H);7.048(s,2
H);7.37(s,2H);7.64(m,2H);9.82(s,2H);10.75
(bs,2H) UV:λmax=360nm(ε=20000);295nm(ε=24000) TLC:(20−80)DMF−トルエンにてRf=0.47 実施例6 [S−(R*,R*)−N,N'−ビス[2−
[[1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒド
ロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b;4,3−b']ジピロー
ル−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−
5−イル]−2,5−フランジカルボキシアミド(化合物
6)の調製 パートA;5,5'−[2,5−フランジイルビス(カルボニル
イミノ)]−ビス−1H−インドール−2−カルボン酸ジ
エチルエステルの調製 フラン−2,5−ジカルボン酸50mg(0.32mM、エイ・ゾ
ストおよびビイ・トレンス(A.Sohst and B.Tollen
s)、ユースティッヒ・リービッヒス・アナーレン・デ
ル・ヘミー(Justig Liebigs Ann.Chem.),245,1(188
8))および5−アミノ−インドール−2−カルボン酸
エチルエステル130mg(0.64mM)をジメチルアセトアミ
ド2mLに溶解し、溶液をEDC132mg(0.69mM)で処理す
る。20時間後、反応物を水20mLで希釈し、酢酸エチルで
2回抽出する。合した酢酸エチル溶液をN HClおよびN N
aOHで洗浄し、乾燥する(MgSO4)。真空中での酢酸エチ
ルの濃縮により、残渣154mgを得る。これを、ヘキサン
中の50%〜60%酢酸エチル、続いてトルエン中の50%酢
酸エチルで溶出するシリカゲル10g上のクロマトグラフ
ィーに付す。4mLずつの画分を収集する。画分22〜50を
蒸発させて、5,5'−[2,5−フランジイルビス(カルボ
ニルイミノ)]ビス−1H−インドール−2−カルボン酸
ジエチルエステル107mgを得る。
NMR:δ1.413(t,6H);4.38(g,4H);7.137(s,2H);
7.51(d,2H);7.58(d,2H);8.021(s,2H);8.097(bs,
2H);10.146(bs,2H);11.742(bs,2H) TLC:(60−40)酢酸エチル−ヘキサンにてRf=0.38 パートB;5,5'−[2,5−フランジイルビス(カルボニル
イミノ)]−ビス−1H−インドール−2−カルボン酸の
調製 5,5'−[2,5−フランジイルビス(カルボニルアミ
ノ)]ビス−1H−インドール−2−カルボン酸ジエチル
エステル60mg(0.11mM)をメタノール0.4mLに懸濁さ
せ、N NaOH0.25mLで処理する。5日後、反応物を真空中
で蒸発させ、残渣を水に溶解させ、溶液をN HClでpH2に
酸性化する。この溶液を凍結乾燥して5,5'−[2,5−フ
ランジイルビス(カルボニルイミノ)]ビス−1H−イン
ドール−2−カルボン酸22mgを得る。
7.51(d,2H);7.58(d,2H);8.021(s,2H);8.097(bs,
2H);10.146(bs,2H);11.742(bs,2H) TLC:(60−40)酢酸エチル−ヘキサンにてRf=0.38 パートB;5,5'−[2,5−フランジイルビス(カルボニル
イミノ)]−ビス−1H−インドール−2−カルボン酸の
調製 5,5'−[2,5−フランジイルビス(カルボニルアミ
ノ)]ビス−1H−インドール−2−カルボン酸ジエチル
エステル60mg(0.11mM)をメタノール0.4mLに懸濁さ
せ、N NaOH0.25mLで処理する。5日後、反応物を真空中
で蒸発させ、残渣を水に溶解させ、溶液をN HClでpH2に
酸性化する。この溶液を凍結乾燥して5,5'−[2,5−フ
ランジイルビス(カルボニルイミノ)]ビス−1H−イン
ドール−2−カルボン酸22mgを得る。
パートC;5,5'−[2,5−フランジイルビス(カルボニル
イミノ)]ビス−1H−インドール−2−カルボン酸と
(Boc)CPIフェノールクロライドとの反応 (S)−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒ
ドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピ
ロール−3(2H)−カルボン酸・1,1−ジメチルエステ
ル[(Boc)CPIフェノールクロライド]33mg(0.098m
M)を酢酸エチル1mLに溶解し、得られた溶液をアルゴン
雰囲気下で撹拌し、新たに調製した酢酸エチル中の飽和
HCl溶液3mLで処理する。45分後、混合物を真空中で蒸発
させ、得られた(S)−1−(クロロメチル)−5−ヒ
ドロキシ−8−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロ−ベン
ゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール塩酸塩(CPIフェノー
ルクロライド塩酸塩)をCH2Cl2で2回処理し、再蒸発さ
せる。これを5,5'−[2,5−フランジイルビス(カルボ
ニルイミノ)ビス−1H−インドール−2−カルボン酸22
mg(0.047mg)を含有するジメチルアセトアミド1mLで処
理する。得られた溶液をEDC40mg(0.21mM)で約50分間
離して2回処理する。50分後、反応物を水で希釈し、混
合物をTHF−酢酸エチルで抽出する。合した有機層をMgS
O4上で乾燥し、真空中で濃縮して固体15mgを得る。この
物質をトルエン中の20%〜30%DMFで溶出するシリカゲ
ル5g上のクロマトグラフィーに付す。3mLずつの画分を
収集する。画分16〜28の蒸発によって、[S−(R*,R
*)−N,N'−ビス[2−[[1−(クロロメチル)−1,
6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2
−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]−カルボ
ニル]−1H−インドール−5−イル]−2,5−フランジ
カルボキシアミド5mgを得る。
イミノ)]ビス−1H−インドール−2−カルボン酸と
(Boc)CPIフェノールクロライドとの反応 (S)−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒ
ドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピ
ロール−3(2H)−カルボン酸・1,1−ジメチルエステ
ル[(Boc)CPIフェノールクロライド]33mg(0.098m
M)を酢酸エチル1mLに溶解し、得られた溶液をアルゴン
雰囲気下で撹拌し、新たに調製した酢酸エチル中の飽和
HCl溶液3mLで処理する。45分後、混合物を真空中で蒸発
させ、得られた(S)−1−(クロロメチル)−5−ヒ
ドロキシ−8−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロ−ベン
ゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール塩酸塩(CPIフェノー
ルクロライド塩酸塩)をCH2Cl2で2回処理し、再蒸発さ
せる。これを5,5'−[2,5−フランジイルビス(カルボ
ニルイミノ)ビス−1H−インドール−2−カルボン酸22
mg(0.047mg)を含有するジメチルアセトアミド1mLで処
理する。得られた溶液をEDC40mg(0.21mM)で約50分間
離して2回処理する。50分後、反応物を水で希釈し、混
合物をTHF−酢酸エチルで抽出する。合した有機層をMgS
O4上で乾燥し、真空中で濃縮して固体15mgを得る。この
物質をトルエン中の20%〜30%DMFで溶出するシリカゲ
ル5g上のクロマトグラフィーに付す。3mLずつの画分を
収集する。画分16〜28の蒸発によって、[S−(R*,R
*)−N,N'−ビス[2−[[1−(クロロメチル)−1,
6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2
−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]−カルボ
ニル]−1H−インドール−5−イル]−2,5−フランジ
カルボキシアミド5mgを得る。
NMR:δ2.363(s,6H);3.60(m,2H);3.90(m,2H);4.
03(m,2H);4.56(m,2H);4.68(m,2H);6.616(s,1
H);7.05(s,2H);7.16(m,2H);7.41(s,2H);7.53
(s,4H);7.64(m,1H);8.16(s,2H);9.79(s,2H);1
0.29(bs,2H);10.73(bs,2H);11.73(bs,2H) UV:λmax(MeOH)=350nm(ε=41000);283nm(ε=
50500) MS(FAB):m/z911(M+H),909(M+H),412,39
5,335,300,253,210 TLC:Rf=(20−80)DMF−トルエンにてRf=0.217 実施例7 [S−(R*,R*)]−N,N'−ビス[2
[[1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒド
ロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロー
ル−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−
5−イル]−1H−ピロール−2,5−ジカルボキシアミド
(化合物7)の調製 パートA;ピロール−2,5−ジカルボン酸の5−アミノ−
インドール−2−カルボン酸エチルエステルへのカップ
リング ピロール−2,5−ジカルボン酸50mg(0.32mM、キュー
ン・アールおよびドゥリィ・ケイ(Kuhn,R.and Dury,
K.)、ユスタス・リービッヒス・アナーレン・デル・ヘ
ミー(Justus Liebigs Ann.Chem.),571,44(1951))
および5−アミノ−インドール−2−カルボン酸エチル
エステル130mg(0.64mM)をジメチルアセトアミド2mLに
溶解し、溶液をEDC129mg(0.67mM)で処理する。22時間
後、混合物を氷水20mLで処理し、沈澱した固体を濾過す
る。この物質をトルエン中の10%〜15%DMFで溶出する
シリカゲル10g上のクロマトグラフィーに付す。4mLずつ
の画分を収集する。生成物72mgを含有する残渣を画分22
〜42の蒸発によって得る。この残渣を酢酸エチルでトリ
チュレートし、乾燥して5,5'−[1H−ピロール−2,5−
ジイルビス(カルボニルイミノ)−ビス−1H−インドー
ル−2−カルボン酸ジエチルエステル42mgを得る。
03(m,2H);4.56(m,2H);4.68(m,2H);6.616(s,1
H);7.05(s,2H);7.16(m,2H);7.41(s,2H);7.53
(s,4H);7.64(m,1H);8.16(s,2H);9.79(s,2H);1
0.29(bs,2H);10.73(bs,2H);11.73(bs,2H) UV:λmax(MeOH)=350nm(ε=41000);283nm(ε=
50500) MS(FAB):m/z911(M+H),909(M+H),412,39
5,335,300,253,210 TLC:Rf=(20−80)DMF−トルエンにてRf=0.217 実施例7 [S−(R*,R*)]−N,N'−ビス[2
[[1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒド
ロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロー
ル−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−
5−イル]−1H−ピロール−2,5−ジカルボキシアミド
(化合物7)の調製 パートA;ピロール−2,5−ジカルボン酸の5−アミノ−
インドール−2−カルボン酸エチルエステルへのカップ
リング ピロール−2,5−ジカルボン酸50mg(0.32mM、キュー
ン・アールおよびドゥリィ・ケイ(Kuhn,R.and Dury,
K.)、ユスタス・リービッヒス・アナーレン・デル・ヘ
ミー(Justus Liebigs Ann.Chem.),571,44(1951))
および5−アミノ−インドール−2−カルボン酸エチル
エステル130mg(0.64mM)をジメチルアセトアミド2mLに
溶解し、溶液をEDC129mg(0.67mM)で処理する。22時間
後、混合物を氷水20mLで処理し、沈澱した固体を濾過す
る。この物質をトルエン中の10%〜15%DMFで溶出する
シリカゲル10g上のクロマトグラフィーに付す。4mLずつ
の画分を収集する。生成物72mgを含有する残渣を画分22
〜42の蒸発によって得る。この残渣を酢酸エチルでトリ
チュレートし、乾燥して5,5'−[1H−ピロール−2,5−
ジイルビス(カルボニルイミノ)−ビス−1H−インドー
ル−2−カルボン酸ジエチルエステル42mgを得る。
NMR:δ1.413(t,6H);4.38(q,4H);7.137(s,2H);
7.51(d,2H);7.58(d,2H);8.021(s,2H);8.097(bs,
2H);10.146(bs,2H);11.742(bs,2H) TLC:(60−40)酢酸エチル−ヘキサンにてRf=0.38 パートB;5,5'−[1H−ピロール−2,5−ジイルビス(カ
ルボニルイミノ)−ビス−1H−インドール−2−カルボ
ン酸の調製 5,5'−[1H−ピロール−2,5−ジイルビス(カルボニ
ルイミノ)−ビス−1H−インドール−2−カルボン酸ジ
エチルエステル42mg(.08mM)をピリジン1mLに溶解し、
溶液をN NaOH0.2mLで処理する。24時間後、反応物をさ
らにN NaOH0.4mLで処理する。さらに96時間後、反応物
を真空中で蒸発させ、残渣を水5mLに溶解させる。水性
溶液をN HClでpH2に酸性化し、次いで、凍結乾燥して、
5,5'−[1H−ピロール−2,5−ジイルビス(カルボニル
イミノ)−ビス−1H−インドール−2−カルボン酸を得
る。
7.51(d,2H);7.58(d,2H);8.021(s,2H);8.097(bs,
2H);10.146(bs,2H);11.742(bs,2H) TLC:(60−40)酢酸エチル−ヘキサンにてRf=0.38 パートB;5,5'−[1H−ピロール−2,5−ジイルビス(カ
ルボニルイミノ)−ビス−1H−インドール−2−カルボ
ン酸の調製 5,5'−[1H−ピロール−2,5−ジイルビス(カルボニ
ルイミノ)−ビス−1H−インドール−2−カルボン酸ジ
エチルエステル42mg(.08mM)をピリジン1mLに溶解し、
溶液をN NaOH0.2mLで処理する。24時間後、反応物をさ
らにN NaOH0.4mLで処理する。さらに96時間後、反応物
を真空中で蒸発させ、残渣を水5mLに溶解させる。水性
溶液をN HClでpH2に酸性化し、次いで、凍結乾燥して、
5,5'−[1H−ピロール−2,5−ジイルビス(カルボニル
イミノ)−ビス−1H−インドール−2−カルボン酸を得
る。
TLC:(2−15−85)酢酸−DMF−トルエンにてRf=0.1
8 パートC;5,5'−[1H−ピロール−2,5−ジイルビス(カ
ルボニルイミノ)−ビス−1H−インドール−2−カルボ
ン酸と(S)−1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ
−5−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−
b']ジピロール−3(2H)−カルボン酸1,1−ジメチル
エステル[(Boc)CPIフェノールクロライド]とのカッ
プリング (S)−1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5
−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']
ジピロール−3(2H)−カルボン酸1,1−ジメチルエス
テル[(Boc)CPIフェノールクロライド]40mg(0.12n
M)を窒素雰囲気下で酢酸エチル1mLに溶解する。新たに
HClで飽和させた酢酸エチル3mLで反応物を処理し、得ら
れた溶液を室温で45分間撹拌する。真空中で溶媒を除去
し、残渣を窒素で大気圧に戻す。残渣をCH2Cl2と共に2
回再蒸発させて、(S)−1−(クロロメチル)−5−
ヒドロキシ−8−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロ−ベ
ンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール塩酸塩(CPIフェノ
ールクロライド塩酸塩)を得る。この物質をジメチルア
セトアミド1mLに溶解し、溶液を5,5'−[1H−ピロール
−2,5−ジイルビス(カルボニルイミノ)−ビス−1H−
インドール−2−カルボン酸28mgで、およびEDC25mg
(0.13mM)で処理する。50分後、反応物をさらにEDC25m
gで処理する。さらに50分後、反応物を水で希釈し、沈
殿した固体をTHF−酢酸エチルに分配する。合した有機
層を乾燥し(MgSO4)、真空中で濃縮して固体80mgを得
る。この物質をトルエン中の20%DMFで溶出させるシリ
カゲル10g上のクロマトグラフィーに付す。3mLずつの画
分を収集する。画分26〜45の蒸発により、[S−(R
*,R*)]−N,N'−ビス[2[[1−(クロロメチル)
−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]カル
ボニル]−1H−インドール−5−イル]−1H−ピロール
−2,5−ジカルボキシアミド11mgを得る。
8 パートC;5,5'−[1H−ピロール−2,5−ジイルビス(カ
ルボニルイミノ)−ビス−1H−インドール−2−カルボ
ン酸と(S)−1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ
−5−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−
b']ジピロール−3(2H)−カルボン酸1,1−ジメチル
エステル[(Boc)CPIフェノールクロライド]とのカッ
プリング (S)−1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5
−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']
ジピロール−3(2H)−カルボン酸1,1−ジメチルエス
テル[(Boc)CPIフェノールクロライド]40mg(0.12n
M)を窒素雰囲気下で酢酸エチル1mLに溶解する。新たに
HClで飽和させた酢酸エチル3mLで反応物を処理し、得ら
れた溶液を室温で45分間撹拌する。真空中で溶媒を除去
し、残渣を窒素で大気圧に戻す。残渣をCH2Cl2と共に2
回再蒸発させて、(S)−1−(クロロメチル)−5−
ヒドロキシ−8−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロ−ベ
ンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール塩酸塩(CPIフェノ
ールクロライド塩酸塩)を得る。この物質をジメチルア
セトアミド1mLに溶解し、溶液を5,5'−[1H−ピロール
−2,5−ジイルビス(カルボニルイミノ)−ビス−1H−
インドール−2−カルボン酸28mgで、およびEDC25mg
(0.13mM)で処理する。50分後、反応物をさらにEDC25m
gで処理する。さらに50分後、反応物を水で希釈し、沈
殿した固体をTHF−酢酸エチルに分配する。合した有機
層を乾燥し(MgSO4)、真空中で濃縮して固体80mgを得
る。この物質をトルエン中の20%DMFで溶出させるシリ
カゲル10g上のクロマトグラフィーに付す。3mLずつの画
分を収集する。画分26〜45の蒸発により、[S−(R
*,R*)]−N,N'−ビス[2[[1−(クロロメチル)
−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]カル
ボニル]−1H−インドール−5−イル]−1H−ピロール
−2,5−ジカルボキシアミド11mgを得る。
NMR:δ2.363(s,6H);3.60(m,2H);3.91(m,2H);4.
032(m,2H);4.54(m,2H);4.68(m,2H);6.625(s,1
H);7.05(s,2H);7.09(s,2H);7.13(s,2H);7.49
(m,4H);7.64(m,1H);8.18(s,2H);9.78(s,2H);1
0.09(bs,2H);10.72(bs,2H);11.67(bs,2H);12.22
(bs,1H) UV:λmax(メタノール)=344nm(ε=58600);296nm
(ε=68000) MS(FAB):C48H39Cl2N9O6として 計算値;908.2478
実測値908.2496 m/z543、368、201にてイオン TLC:(20−80)DMF−トルエンにてRf=0.21 実施例8 [R−(R*,S*)]−N,N'−ビス[2−
[[1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒド
ロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b 4,3−b']ジピロ
ール−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール
−5−イル]−プロパンジアミド(化合物8)の調製 パートA;5−アミノインドール−2−カルボン酸エチル
エステルとマロニルジクロライドとの反応 5−アミノインドール−2−カルボン酸エチルエステ
ル196mg(0.93mM)の乾燥蒸留THF15m中溶液を、窒素
下、氷浴中で冷却する。N,N−ジイソプロピルエチルア
ミン350μ(2.01mM)およびマロニルジクロライド80
μ(0.82mM)をシリンジで添加する。1時間後、溶媒
を部分的に除去し、5,5'−[(1,3−ジオキソ−1,3−プ
ロパンジイル)−ジイミノ]ビス−1H−インドール−2
−カルボン酸ジエチルエステルを水で沈殿させる。混合
物を遠心し、液体層を捨てる。固体を真空下で乾燥す
る。残渣を、トルエン中の25%アセトン、トルエン中の
40%アセトン、トルエン中の60%アセトン、トルエン中
の80%アセトンおよびアセトンで溶出するシリカゲル2g
上のクロマトグラフィーに付す。15mLずつの画分を収集
する。生成物5,5'−[(1,3−ジオキソ−1,3−プロパン
ジイル)−ジイミノ]ビス−1H−インドール−2−カル
ボン酸ジエチルエステルは画分9〜13中に見い出される
(77mg)。
032(m,2H);4.54(m,2H);4.68(m,2H);6.625(s,1
H);7.05(s,2H);7.09(s,2H);7.13(s,2H);7.49
(m,4H);7.64(m,1H);8.18(s,2H);9.78(s,2H);1
0.09(bs,2H);10.72(bs,2H);11.67(bs,2H);12.22
(bs,1H) UV:λmax(メタノール)=344nm(ε=58600);296nm
(ε=68000) MS(FAB):C48H39Cl2N9O6として 計算値;908.2478
実測値908.2496 m/z543、368、201にてイオン TLC:(20−80)DMF−トルエンにてRf=0.21 実施例8 [R−(R*,S*)]−N,N'−ビス[2−
[[1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒド
ロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b 4,3−b']ジピロ
ール−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール
−5−イル]−プロパンジアミド(化合物8)の調製 パートA;5−アミノインドール−2−カルボン酸エチル
エステルとマロニルジクロライドとの反応 5−アミノインドール−2−カルボン酸エチルエステ
ル196mg(0.93mM)の乾燥蒸留THF15m中溶液を、窒素
下、氷浴中で冷却する。N,N−ジイソプロピルエチルア
ミン350μ(2.01mM)およびマロニルジクロライド80
μ(0.82mM)をシリンジで添加する。1時間後、溶媒
を部分的に除去し、5,5'−[(1,3−ジオキソ−1,3−プ
ロパンジイル)−ジイミノ]ビス−1H−インドール−2
−カルボン酸ジエチルエステルを水で沈殿させる。混合
物を遠心し、液体層を捨てる。固体を真空下で乾燥す
る。残渣を、トルエン中の25%アセトン、トルエン中の
40%アセトン、トルエン中の60%アセトン、トルエン中
の80%アセトンおよびアセトンで溶出するシリカゲル2g
上のクロマトグラフィーに付す。15mLずつの画分を収集
する。生成物5,5'−[(1,3−ジオキソ−1,3−プロパン
ジイル)−ジイミノ]ビス−1H−インドール−2−カル
ボン酸ジエチルエステルは画分9〜13中に見い出される
(77mg)。
NMR:(アセトン−d6)δ1.37(t,6H);3.571(s,2
H);4.36(q,4H);7.16(s,2H);7.48(m,4H);8.17
(s,2H);9.71(bs,2H);10.92(bs,2H) IR:3300,1650,1200cm-1 UV:λmax=340nm(ε=5400);297nm(ε=28000) MS(EI):m/z476(M+),340,272,226,204,158 TLC:(40−60)アセトン−ヘキサンにてRf=0.21 パートB;5,5'−[(1,3−ジオキソ−1,3−プロパンジイ
ル)−ジイミノ]ビス−1H−インドール−2−カルボン
酸の調製 パートAのジエステル0.16mMをピリジン3mおよび1N
水酸化ナトリウム0.53mに溶解する。反応混合物を窒
素下、50℃にて約2時間撹拌し、次いで室温で4時間撹
拌する。反応混合物を1N HClで処理し、蒸発乾固す
る。生成物を水で沈殿させ、遠心によって単離し、水で
洗浄し、5,5'−[(1,3−ジオキソ−1,3−プロパンジイ
ル)−ジイミノ]ビス−1H−インドール−2−カルボン
酸を得る。
H);4.36(q,4H);7.16(s,2H);7.48(m,4H);8.17
(s,2H);9.71(bs,2H);10.92(bs,2H) IR:3300,1650,1200cm-1 UV:λmax=340nm(ε=5400);297nm(ε=28000) MS(EI):m/z476(M+),340,272,226,204,158 TLC:(40−60)アセトン−ヘキサンにてRf=0.21 パートB;5,5'−[(1,3−ジオキソ−1,3−プロパンジイ
ル)−ジイミノ]ビス−1H−インドール−2−カルボン
酸の調製 パートAのジエステル0.16mMをピリジン3mおよび1N
水酸化ナトリウム0.53mに溶解する。反応混合物を窒
素下、50℃にて約2時間撹拌し、次いで室温で4時間撹
拌する。反応混合物を1N HClで処理し、蒸発乾固す
る。生成物を水で沈殿させ、遠心によって単離し、水で
洗浄し、5,5'−[(1,3−ジオキソ−1,3−プロパンジイ
ル)−ジイミノ]ビス−1H−インドール−2−カルボン
酸を得る。
NMR:δ3.47(s,2H);7.04(s,2H);7.36(m,4H);8.0
3(s,2H);10.09(bs,2H);11.68(bs,2H) UV:λmax=294nm(ε=13000) パートC;5,5'−[(1,3−ジオキソ−1,3−プロパンジイ
ル)ジイミノ]−ビス−1H−インドール−2−カルボン
酸および(S)−1−(クロロメチル)−1,6−ジヒド
ロ−5−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3
−b']ジピロール−3(2H)−カルボン酸1,1−ジメチ
ルエステル[(Boc)CPIフェノールクロライド]のカッ
プリング (S)−1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5
−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']
ジピロール−3(2H)−カルボン酸1,1−ジメチルエス
テル[(Boc)CPIフェノールクロライド]67.8mg(0.11
mM)を窒素雰囲気下で酢酸エチル0.5mLに溶解する。溶
液をHCl−飽和酢酸エチル3mLで1時間処理する。反応物
を蒸発させ、窒素で真空を解放する。得られた(S)−
1−(クロロメチル)−5−ヒドロキシ−8−メチル−
1,2,3,6−テトラヒドロ−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジ
ピロール塩酸塩(CPIフェノールクロライド塩酸塩)をC
H2Cl2と共に2回再蒸発させる。この物質を乾燥ジメチ
ルアセトアミド1mL中の5,5'−[(1,3−ジオキソ−1,3
−プロパンジイル)ジイミノ]ビス−1H−インドール−
2−カルボン酸24.3mg(0.058mM)で処理する。EDC49mg
(0.156mM)を秤量し、約半分を反応物に添加する。混
合物を室温で45分間撹拌する。次いで、EDCの残りを添
加し、撹拌を40分間継続する。反応物を酢酸エチルおよ
び水で希釈する。不溶性物質を濾過によって除去し、溜
める。濾液を層分離し、水性層を酢酸エチルで再抽出す
る。合した有機層を乾燥し(Na2SO4)、真空中で濃縮す
る。残渣を前記からの濾過固体と合し、シリカゲル0.4g
に吸収させ、シリカゲルカラム5gの頂部に添加する。該
カラムをトルエン中の22%〜28%DMFで溶出させ、2mLず
つの画分を収集する。生成物5,5'−[(1,3−ジオキソ
−1,3−プロパンジイル)ジイミノ]ビス−1H−インド
ール−2−カルボン酸を画分14〜28から単離する(36m
g)。
3(s,2H);10.09(bs,2H);11.68(bs,2H) UV:λmax=294nm(ε=13000) パートC;5,5'−[(1,3−ジオキソ−1,3−プロパンジイ
ル)ジイミノ]−ビス−1H−インドール−2−カルボン
酸および(S)−1−(クロロメチル)−1,6−ジヒド
ロ−5−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3
−b']ジピロール−3(2H)−カルボン酸1,1−ジメチ
ルエステル[(Boc)CPIフェノールクロライド]のカッ
プリング (S)−1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5
−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']
ジピロール−3(2H)−カルボン酸1,1−ジメチルエス
テル[(Boc)CPIフェノールクロライド]67.8mg(0.11
mM)を窒素雰囲気下で酢酸エチル0.5mLに溶解する。溶
液をHCl−飽和酢酸エチル3mLで1時間処理する。反応物
を蒸発させ、窒素で真空を解放する。得られた(S)−
1−(クロロメチル)−5−ヒドロキシ−8−メチル−
1,2,3,6−テトラヒドロ−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジ
ピロール塩酸塩(CPIフェノールクロライド塩酸塩)をC
H2Cl2と共に2回再蒸発させる。この物質を乾燥ジメチ
ルアセトアミド1mL中の5,5'−[(1,3−ジオキソ−1,3
−プロパンジイル)ジイミノ]ビス−1H−インドール−
2−カルボン酸24.3mg(0.058mM)で処理する。EDC49mg
(0.156mM)を秤量し、約半分を反応物に添加する。混
合物を室温で45分間撹拌する。次いで、EDCの残りを添
加し、撹拌を40分間継続する。反応物を酢酸エチルおよ
び水で希釈する。不溶性物質を濾過によって除去し、溜
める。濾液を層分離し、水性層を酢酸エチルで再抽出す
る。合した有機層を乾燥し(Na2SO4)、真空中で濃縮す
る。残渣を前記からの濾過固体と合し、シリカゲル0.4g
に吸収させ、シリカゲルカラム5gの頂部に添加する。該
カラムをトルエン中の22%〜28%DMFで溶出させ、2mLず
つの画分を収集する。生成物5,5'−[(1,3−ジオキソ
−1,3−プロパンジイル)ジイミノ]ビス−1H−インド
ール−2−カルボン酸を画分14〜28から単離する(36m
g)。
NMR:δ2.354(s,6H);3.51(m,2H);3.60(m,2H);3.
91(m,2H);4.03(m,2H);4.52(m,2H);4.67(m,2H);
7.05(s,2H);7.10(s,2H);7.38(d,2H);7.46(d,2
H);7.64(m,2H);8.10(s,2H);9.78(s,2H);10.13
(bs,2H);10.72(bs2H);11.64(bs,2H) UV:λmax=336nm(ε=35000);294nm(ε=44000) TLC:(30−70)DMF−トルエンにてRf=0.46 実施例9 [S−(R*,R*)]−6,6'−[カルボニル
ビス(イミノ−1H−インドール−5,2−ジイルカルボニ
ル)]ビス[8−(クロロメチル)−3,6,7,8−テトラ
ヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロ
ール−4−オール・ジアセテート(化合物9)の調製 [7bR−[2(7'bR*,8'aS*),7bR*,8aS*]]−2,
2'−[カルボニルビス(イミノ−1H−インドール−5,2
−ジカルボニル)]ビス[1,2,8,8a−テトラヒドロ−7
−メチル−シクロプロパ(c)ピロロ[3,2−e]イン
ドール−4(5H)−オン5mg(0.007mM)をDMF200μお
よびアセトン0.5mに溶解し、溶液をピリジン塩酸塩8.
3mg(0.07mM)で処理する。反応物を室温にて暗所で110
分間撹拌し、次いで濃縮して小容量とし、水で処理す
る。混合物を遠心し、液体を除去して[S−(R*,R
*)]−6,6'−[カルボニルビス(イミノ−1H−インド
ール−5,2−ジカルボニル)]ビス[8−クロロメチ
ル)−3,6,7,8−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−4−オールを固体とし
て得る。該固体をピリジン100μLに溶解し、無水酢酸
6μL(0.06mM)で処理する。反応物を室温、暗所にて
85分間撹拌し、水でクエンチし、濃縮乾固する。残渣を
水で処理し、遠心する。液体を除去し、固体を真空下で
乾燥する。固体をDMFからシリカゲル0.07gに吸着させ
る。吸着された化合物を含むシリカをシリカゲルカラム
1g上に乗せ、トルエン中の10%〜40%DMFで溶出させ
る。1/2mずつの画分を採る。[S−(R*,R*)]−
6,6'−[カルボニルビス(イミノ−1H−インドール−5,
2−ジイルカルボニル)]ビス[8−(クロロメチル)
−3,6,7,8−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−
b 4,3−b']ジピロール−4−オール・ジアセテート
は画分38〜47に溶出する(3.4mg)。
91(m,2H);4.03(m,2H);4.52(m,2H);4.67(m,2H);
7.05(s,2H);7.10(s,2H);7.38(d,2H);7.46(d,2
H);7.64(m,2H);8.10(s,2H);9.78(s,2H);10.13
(bs,2H);10.72(bs2H);11.64(bs,2H) UV:λmax=336nm(ε=35000);294nm(ε=44000) TLC:(30−70)DMF−トルエンにてRf=0.46 実施例9 [S−(R*,R*)]−6,6'−[カルボニル
ビス(イミノ−1H−インドール−5,2−ジイルカルボニ
ル)]ビス[8−(クロロメチル)−3,6,7,8−テトラ
ヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロ
ール−4−オール・ジアセテート(化合物9)の調製 [7bR−[2(7'bR*,8'aS*),7bR*,8aS*]]−2,
2'−[カルボニルビス(イミノ−1H−インドール−5,2
−ジカルボニル)]ビス[1,2,8,8a−テトラヒドロ−7
−メチル−シクロプロパ(c)ピロロ[3,2−e]イン
ドール−4(5H)−オン5mg(0.007mM)をDMF200μお
よびアセトン0.5mに溶解し、溶液をピリジン塩酸塩8.
3mg(0.07mM)で処理する。反応物を室温にて暗所で110
分間撹拌し、次いで濃縮して小容量とし、水で処理す
る。混合物を遠心し、液体を除去して[S−(R*,R
*)]−6,6'−[カルボニルビス(イミノ−1H−インド
ール−5,2−ジカルボニル)]ビス[8−クロロメチ
ル)−3,6,7,8−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−4−オールを固体とし
て得る。該固体をピリジン100μLに溶解し、無水酢酸
6μL(0.06mM)で処理する。反応物を室温、暗所にて
85分間撹拌し、水でクエンチし、濃縮乾固する。残渣を
水で処理し、遠心する。液体を除去し、固体を真空下で
乾燥する。固体をDMFからシリカゲル0.07gに吸着させ
る。吸着された化合物を含むシリカをシリカゲルカラム
1g上に乗せ、トルエン中の10%〜40%DMFで溶出させ
る。1/2mずつの画分を採る。[S−(R*,R*)]−
6,6'−[カルボニルビス(イミノ−1H−インドール−5,
2−ジイルカルボニル)]ビス[8−(クロロメチル)
−3,6,7,8−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−
b 4,3−b']ジピロール−4−オール・ジアセテート
は画分38〜47に溶出する(3.4mg)。
NMR(DMSO−d6,TMS):δ2.37(s,6H);2.40(s,6
H);3.72(m,2H);3.99(m,2H);4.19(m,2H);4.61
(m,2H);4.74(m,2H);7.09(s,2H);7.24(m,4H);7.
43(m,2H);7.83(bs,2H);7.87(m,2H);8.50(bs,2
H);11.12(bs,2H);11.56(bs,2H) UV(DMA+MeOH);λmax=325nm(ε=43,800);294n
m(ε=43,800) 実施例10 [S−(R*,R*)]−6,6'−(1H−インド
ール−2,5−ジイルジカルボニル)ビス[8−(クロロ
メチル)−3,6,7,8−テトラヒドロ−1−メチル−ベン
ゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−4−オール(化合物
10)の調製 (S)−1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5
−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']
ジピロール−3(2H)−カルボン酸・1,1−ジメチルエ
ステル[(Boc)CPIフェノールクロライド]49mg(0.14
6mM)を窒素下、酢酸エチル0.6mL中、室温にて撹拌す
る。ガス状HCl 3mLで飽和した酢酸エチルを添加し、反
応をTLCで追跡し、約45分以内に完結する。反応物を蒸
発させ、窒素で真空を破る。得られた(S)−1−(ク
ロロメチル)−5−ヒドロキシ−8−メチル−1,2,3,6
−テトラヒドロ−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール
塩酸塩(CPIフェノールクロライド塩酸塩)をCH2Cl2と
共に2回再蒸発させる。残存するCPIフェノールクロラ
テド塩酸塩を乾燥ジメチルアセトアミド1mLに溶解し、
窒素下、室温にて撹拌する。インドール−2,5−ジカル
ボン酸15mg(0.073mM)、続いてEDC40mg(0.21mM)を添
加する。45分後、さらにEDC23mg(0.12mM)を反応混合
物に添加し、次いで1時間反応させる。反応混合物を遠
心管に移し、DMF0.5mLで反応物をすすぎ、水で希釈して
生成物を沈澱させ、それを遠心し、デカンテーションす
る。粗生成物をアセトンを含む丸底フラスコに移し、得
られた溶液を真空下で蒸発させる。粗生成物をシリカゲ
ル0.5g上に被覆し、トルエン中の20%DMF中で作成した
シリカゲルカラム6g上のクロマトグラフィーに付し、同
溶媒で溶出させ、1mずつの画分を収集する。[S−
(R*,R*)]−6,6'−(1H−インドール−2,5−ジイ
ルジカルボニル)ビス[8−(クロロメチル)−3,6,7,
8−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−
b']ジピロール−4−オールは画分22〜47に収集され、
蒸発乾固により得る(31mg)。
H);3.72(m,2H);3.99(m,2H);4.19(m,2H);4.61
(m,2H);4.74(m,2H);7.09(s,2H);7.24(m,4H);7.
43(m,2H);7.83(bs,2H);7.87(m,2H);8.50(bs,2
H);11.12(bs,2H);11.56(bs,2H) UV(DMA+MeOH);λmax=325nm(ε=43,800);294n
m(ε=43,800) 実施例10 [S−(R*,R*)]−6,6'−(1H−インド
ール−2,5−ジイルジカルボニル)ビス[8−(クロロ
メチル)−3,6,7,8−テトラヒドロ−1−メチル−ベン
ゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−4−オール(化合物
10)の調製 (S)−1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5
−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']
ジピロール−3(2H)−カルボン酸・1,1−ジメチルエ
ステル[(Boc)CPIフェノールクロライド]49mg(0.14
6mM)を窒素下、酢酸エチル0.6mL中、室温にて撹拌す
る。ガス状HCl 3mLで飽和した酢酸エチルを添加し、反
応をTLCで追跡し、約45分以内に完結する。反応物を蒸
発させ、窒素で真空を破る。得られた(S)−1−(ク
ロロメチル)−5−ヒドロキシ−8−メチル−1,2,3,6
−テトラヒドロ−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール
塩酸塩(CPIフェノールクロライド塩酸塩)をCH2Cl2と
共に2回再蒸発させる。残存するCPIフェノールクロラ
テド塩酸塩を乾燥ジメチルアセトアミド1mLに溶解し、
窒素下、室温にて撹拌する。インドール−2,5−ジカル
ボン酸15mg(0.073mM)、続いてEDC40mg(0.21mM)を添
加する。45分後、さらにEDC23mg(0.12mM)を反応混合
物に添加し、次いで1時間反応させる。反応混合物を遠
心管に移し、DMF0.5mLで反応物をすすぎ、水で希釈して
生成物を沈澱させ、それを遠心し、デカンテーションす
る。粗生成物をアセトンを含む丸底フラスコに移し、得
られた溶液を真空下で蒸発させる。粗生成物をシリカゲ
ル0.5g上に被覆し、トルエン中の20%DMF中で作成した
シリカゲルカラム6g上のクロマトグラフィーに付し、同
溶媒で溶出させ、1mずつの画分を収集する。[S−
(R*,R*)]−6,6'−(1H−インドール−2,5−ジイ
ルジカルボニル)ビス[8−(クロロメチル)−3,6,7,
8−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−
b']ジピロール−4−オールは画分22〜47に収集され、
蒸発乾固により得る(31mg)。
NMR(d6−DMSO,TMS):δ2.33(s,3H);2.36(s,3
H);3.54〜3.68(t,2H);3.79〜3.96(m,3H);3.98〜4.
11(t,2H);4.23〜4.44(bs,1H);4.50〜4.60(d,1H);
4.62〜4.75(t,1H);7.02(s,1H);7.05(s,1H);7.22
(s,1H);7.44〜7.53(d,1H);7.53〜7.62(d,1H);7.6
2〜7.23(bs,1H);7.95(s,1H);7.98(s,1H);9.60〜
9.75(bs,1H);9.80(s,1H);10.66(s,1H);10.73(s,
1H);11.93(s,1H) 実施例11 [S−(R*,R*)]−N,N'−ビス[2−
[[1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒド
ロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロー
ル−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−
5−イル]−1H−インドール−2,5−ジカルボキシアミ
ド(化合物11)の調製 パートA;5,5'−[1H−インドール−2,5−ジイルビス
(カルボニルイミノ)ビス−1H−インドール−2−カル
ボン酸ジエチルエステルの調製 インドール−2,5−ジカルボン酸200mg(0.49mM)を窒
素下、室温にて、乾燥DMF4mL中で撹拌する。これに、5
−アミノ−インドール−2−カルボン酸エチルエステル
400mg(1.96mM)およびEDC200mg(1.05mM)を添加す
る。3日後、反応混合物を遠心管に移し、水で希釈す
る。沈澱した固体を遠心し、上澄み液体をデカンテーシ
ョンする。残渣をアセトンで洗浄して、5,5'−[1H−イ
ンドール−2,5−ジイル−ビス(カルボニルイミノ)ビ
ス−1H−インドール−2−カルボン酸ジエチルエステル
78mgを得る。濃縮乾固およびトルエン中の10%〜20%DM
Fで溶出させるシリカゲル40g上のクロマトグラフィーに
よって、さらに5,5'−[1H−インドール−2,5−ジイル
ビス(カルボニルイミノ)ビス−1H−インドール−2−
カルボン酸ジエチルエステルを前記アセトン洗液から得
る。15mLずつの画分を収集し、画分35〜40の蒸発乾固に
より5,5'−[1H−インドール−2,5−ジイルビス(カル
ボニルイミノ)ビス−1H−インドール−2−カルボン酸
ジエチルエステル83mgを得る。
H);3.54〜3.68(t,2H);3.79〜3.96(m,3H);3.98〜4.
11(t,2H);4.23〜4.44(bs,1H);4.50〜4.60(d,1H);
4.62〜4.75(t,1H);7.02(s,1H);7.05(s,1H);7.22
(s,1H);7.44〜7.53(d,1H);7.53〜7.62(d,1H);7.6
2〜7.23(bs,1H);7.95(s,1H);7.98(s,1H);9.60〜
9.75(bs,1H);9.80(s,1H);10.66(s,1H);10.73(s,
1H);11.93(s,1H) 実施例11 [S−(R*,R*)]−N,N'−ビス[2−
[[1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒド
ロキシ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロー
ル−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドール−
5−イル]−1H−インドール−2,5−ジカルボキシアミ
ド(化合物11)の調製 パートA;5,5'−[1H−インドール−2,5−ジイルビス
(カルボニルイミノ)ビス−1H−インドール−2−カル
ボン酸ジエチルエステルの調製 インドール−2,5−ジカルボン酸200mg(0.49mM)を窒
素下、室温にて、乾燥DMF4mL中で撹拌する。これに、5
−アミノ−インドール−2−カルボン酸エチルエステル
400mg(1.96mM)およびEDC200mg(1.05mM)を添加す
る。3日後、反応混合物を遠心管に移し、水で希釈す
る。沈澱した固体を遠心し、上澄み液体をデカンテーシ
ョンする。残渣をアセトンで洗浄して、5,5'−[1H−イ
ンドール−2,5−ジイル−ビス(カルボニルイミノ)ビ
ス−1H−インドール−2−カルボン酸ジエチルエステル
78mgを得る。濃縮乾固およびトルエン中の10%〜20%DM
Fで溶出させるシリカゲル40g上のクロマトグラフィーに
よって、さらに5,5'−[1H−インドール−2,5−ジイル
ビス(カルボニルイミノ)ビス−1H−インドール−2−
カルボン酸ジエチルエステルを前記アセトン洗液から得
る。15mLずつの画分を収集し、画分35〜40の蒸発乾固に
より5,5'−[1H−インドール−2,5−ジイルビス(カル
ボニルイミノ)ビス−1H−インドール−2−カルボン酸
ジエチルエステル83mgを得る。
パートB;5,5'−[1H−インドール−2,5−ジイルビス
(カルボニルイミノ)]ビス−1H−インドール−2−カ
ルボン酸の調製 5,5'−[1H−インドール−2,5−ジイルビス(カルボ
ニルイミノ)ビス−1H−インドール−2−カルボン酸ジ
エチルエステル161mg(0.28mM)を窒素下、室温にて撹
拌しつつピリジン5mLおよび無水エタノール5mLに溶解す
る。得られた溶液をN NaOH1mLを添加し、これを5時
間放置する。次いで、溶媒を真空下でほとんど蒸発さ
せ、水を添加し、反応混合物を凍結乾燥する。得られた
粗生成物をセライト(Celite)1.5g上に被覆し、C−18
逆相シリカゲルカラム15gの頂部に添加する。該カラム
を以下の:水中の50%DMF(200mL);水中の60%DMF(1
00mL);水中の70%DMF〜30%(100mL);80%DMF〜20%
水(300m)で溶出させる。5mずつの画分を収集し、
TLCによってそれを分析する。5,5'−[1H−インドール
−2,5−ジイルビス(カルボニルイミノ)]ビス−1H−
インドール−2−カルボン酸46mgは画分7〜21に見い出
される。
(カルボニルイミノ)]ビス−1H−インドール−2−カ
ルボン酸の調製 5,5'−[1H−インドール−2,5−ジイルビス(カルボ
ニルイミノ)ビス−1H−インドール−2−カルボン酸ジ
エチルエステル161mg(0.28mM)を窒素下、室温にて撹
拌しつつピリジン5mLおよび無水エタノール5mLに溶解す
る。得られた溶液をN NaOH1mLを添加し、これを5時
間放置する。次いで、溶媒を真空下でほとんど蒸発さ
せ、水を添加し、反応混合物を凍結乾燥する。得られた
粗生成物をセライト(Celite)1.5g上に被覆し、C−18
逆相シリカゲルカラム15gの頂部に添加する。該カラム
を以下の:水中の50%DMF(200mL);水中の60%DMF(1
00mL);水中の70%DMF〜30%(100mL);80%DMF〜20%
水(300m)で溶出させる。5mずつの画分を収集し、
TLCによってそれを分析する。5,5'−[1H−インドール
−2,5−ジイルビス(カルボニルイミノ)]ビス−1H−
インドール−2−カルボン酸46mgは画分7〜21に見い出
される。
パートC;5,5'−[1H−インドール−2,5−ジイルビス
(カルボニルイミノ)]ビス−1H−インドール−2−カ
ルボン酸と(Boc)CPIフェノールクロライドとの反応 室温、暗所にて、(S)−1−(クロロメチル)−1,
6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−カルボン酸
1,1−ジメチルエステル[(Boc)CPIフェノールクロラ
イド]59mg(0.176mM)を窒素下、酢酸エチル1mLおよび
ガス状HClで飽和した酢酸エチル4mL中で45分間撹拌す
る。30分後、TLCは反応が完了したことを示す。反応混
合物を真空下で蒸発させ、CH2Cl2と共に2回再蒸発さ
せ、各回窒素を導入し、(S)−1−(クロロメチル)
−5−ヒドロキシ−8−メチル−1,2,3,6−テトラヒド
ロ−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール塩酸塩(CPI
フェノールクロライド塩酸塩)を得る。該CPIフェノー
ルクロライド塩酸塩を窒素下で撹拌しつつ、暗所にて乾
燥DMA 1mLに溶解する。溶液を5,5'−[1H−インドール
−2,5−ジイルビス(カルボニルイミノ)]ビス−1H−
インドール−2−カルボン酸46mg(0.088mM)およびEDC
50mg(0.26mM)で処理する。30分後、さらにEDC26mg
(0.13mM)を添加する。反応物をさらに1時間放置し、
次いで、遠心管に移し、DMF1mLで洗浄する。水を添加し
て生成物を沈澱させ、次いで、これを遠心によって収集
する。固体をアセトンを含むRBフラスコ中に洗い入れ、
真空下で蒸発させる。残渣をシリカゲル1g上に被覆し、
シリカゲル9g上のクロマトグラフィーに付す。該カラム
をトルエン中の25%DMF、続いてトルエン中の30%〜40
%DMFで溶出させる。2mずつの画分を収集し、TLCによ
って分析する。[S−(R*,R*)]−N,N'−ビス[2
−[[1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒ
ドロキシ−8−メチルベンゾ−[1,2−b:4,3−b']ジピ
ロール−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドー
ル−5−イル]−1H−インドール−2,5−ジカルボキシ
アミドは画分30〜80に見い出される。不純な生成物は画
分8〜30に見い出される。トルエン中の20%DMF〜トル
エン中の30%で溶出するシリカゲルカラム4.5g上のクロ
マトグラフィーにこれらを再度付す。[S−(R*,R
*)]−N,N'−ビス[2−[[1−(クロロメチル)−
1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]カル
ボニル]−1H−インドール−5−イル]−1H−2,5−ジ
カルボキシアミドは画分25〜75中に見い出される。2回
のクロマトグラフィーからの物質を合して、[S−(R
*,R*)]−N,N'−ビス[2−[[1−(クロロメチ
ル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベ
ンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]
カルボニル]−1H−インドール−5−イル]−1H−イン
ドール−2,5−ジカルボキシアミド47mgを得る。
(カルボニルイミノ)]ビス−1H−インドール−2−カ
ルボン酸と(Boc)CPIフェノールクロライドとの反応 室温、暗所にて、(S)−1−(クロロメチル)−1,
6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−カルボン酸
1,1−ジメチルエステル[(Boc)CPIフェノールクロラ
イド]59mg(0.176mM)を窒素下、酢酸エチル1mLおよび
ガス状HClで飽和した酢酸エチル4mL中で45分間撹拌す
る。30分後、TLCは反応が完了したことを示す。反応混
合物を真空下で蒸発させ、CH2Cl2と共に2回再蒸発さ
せ、各回窒素を導入し、(S)−1−(クロロメチル)
−5−ヒドロキシ−8−メチル−1,2,3,6−テトラヒド
ロ−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール塩酸塩(CPI
フェノールクロライド塩酸塩)を得る。該CPIフェノー
ルクロライド塩酸塩を窒素下で撹拌しつつ、暗所にて乾
燥DMA 1mLに溶解する。溶液を5,5'−[1H−インドール
−2,5−ジイルビス(カルボニルイミノ)]ビス−1H−
インドール−2−カルボン酸46mg(0.088mM)およびEDC
50mg(0.26mM)で処理する。30分後、さらにEDC26mg
(0.13mM)を添加する。反応物をさらに1時間放置し、
次いで、遠心管に移し、DMF1mLで洗浄する。水を添加し
て生成物を沈澱させ、次いで、これを遠心によって収集
する。固体をアセトンを含むRBフラスコ中に洗い入れ、
真空下で蒸発させる。残渣をシリカゲル1g上に被覆し、
シリカゲル9g上のクロマトグラフィーに付す。該カラム
をトルエン中の25%DMF、続いてトルエン中の30%〜40
%DMFで溶出させる。2mずつの画分を収集し、TLCによ
って分析する。[S−(R*,R*)]−N,N'−ビス[2
−[[1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒ
ドロキシ−8−メチルベンゾ−[1,2−b:4,3−b']ジピ
ロール−3(2H)−イル]カルボニル]−1H−インドー
ル−5−イル]−1H−インドール−2,5−ジカルボキシ
アミドは画分30〜80に見い出される。不純な生成物は画
分8〜30に見い出される。トルエン中の20%DMF〜トル
エン中の30%で溶出するシリカゲルカラム4.5g上のクロ
マトグラフィーにこれらを再度付す。[S−(R*,R
*)]−N,N'−ビス[2−[[1−(クロロメチル)−
1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]カル
ボニル]−1H−インドール−5−イル]−1H−2,5−ジ
カルボキシアミドは画分25〜75中に見い出される。2回
のクロマトグラフィーからの物質を合して、[S−(R
*,R*)]−N,N'−ビス[2−[[1−(クロロメチ
ル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベ
ンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]
カルボニル]−1H−インドール−5−イル]−1H−イン
ドール−2,5−ジカルボキシアミド47mgを得る。
NMR(d6−DMSO,TMS):δ2.37(s,6H);3.55〜3.68
(t,2H);3.87〜3.97(d,2H);3.97〜4.10(t,2H);4.5
1〜4.61(d,2H);4.61〜4.77(t,2H);7.07(s,2H);7.
14(s,1H);7.17(s,1H);7.45〜7.75(m,8H);7.96
(s,1H);8.23(s,2H);8.26(s,1H);8.46(s,1H);9.
82(s,2H);10.18(s,1H);10.33(s,1H);10.75(s,2
H);11.66(s,1H);11.71(s,1H);12.09(s,1H) UV(DMA+MeOH):λmax=328nm(ε=33,560);281n
m(ε=38,350) 実施例12 [S−(R*,R*)]−2−[[1−(クロ
ロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メ
チル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)
−イル]−カルボニル]−N−[3−[[1−(クロロ
メチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチ
ルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イ
ル]カルボニル]−1H−インドール−6−イル]−1H−
インドール−5−カルボキシアミド(化合物12)の調
製; パートA;5−[[(2−カルボキシ−1H−インドール−
5−イル)アミノ]カルボニル]−1H−インドール−2
−カルボン酸の調製 インドール−2,5−ジカルボン酸98mg(0.42ミリモ
ル)および5−アミノインドール−2−カルボン酸エチ
ルエステル86mg(0.42mM)を、乾燥DMF2mL中、窒素下、
室温にて撹拌する。EDC90mg(0.47mM)を添加し、25時
間反応させる。反応混合物を水で希釈し、遠心し、上澄
みをデカンテーションする。残存する固体をアセトンに
溶解し、次いで再蒸発させ、次いで、ヘキサン中の50%
酢酸エチル〜ヘキサン中の30%アセトンで溶出させるシ
リカゲル20g上のクロマトグラフィーに付す。15mずつ
の画分を収集し、TLCによって分析する。5−[[(2
−カルボキシ−1H−インドール−5−イル)アミノ]カ
ルボニル]−1H−インドール−2−カルボン酸ジエチル
エステルは画分8〜86中に見い出される(137mg,78%収
率)。
(t,2H);3.87〜3.97(d,2H);3.97〜4.10(t,2H);4.5
1〜4.61(d,2H);4.61〜4.77(t,2H);7.07(s,2H);7.
14(s,1H);7.17(s,1H);7.45〜7.75(m,8H);7.96
(s,1H);8.23(s,2H);8.26(s,1H);8.46(s,1H);9.
82(s,2H);10.18(s,1H);10.33(s,1H);10.75(s,2
H);11.66(s,1H);11.71(s,1H);12.09(s,1H) UV(DMA+MeOH):λmax=328nm(ε=33,560);281n
m(ε=38,350) 実施例12 [S−(R*,R*)]−2−[[1−(クロ
ロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メ
チル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)
−イル]−カルボニル]−N−[3−[[1−(クロロ
メチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチ
ルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イ
ル]カルボニル]−1H−インドール−6−イル]−1H−
インドール−5−カルボキシアミド(化合物12)の調
製; パートA;5−[[(2−カルボキシ−1H−インドール−
5−イル)アミノ]カルボニル]−1H−インドール−2
−カルボン酸の調製 インドール−2,5−ジカルボン酸98mg(0.42ミリモ
ル)および5−アミノインドール−2−カルボン酸エチ
ルエステル86mg(0.42mM)を、乾燥DMF2mL中、窒素下、
室温にて撹拌する。EDC90mg(0.47mM)を添加し、25時
間反応させる。反応混合物を水で希釈し、遠心し、上澄
みをデカンテーションする。残存する固体をアセトンに
溶解し、次いで再蒸発させ、次いで、ヘキサン中の50%
酢酸エチル〜ヘキサン中の30%アセトンで溶出させるシ
リカゲル20g上のクロマトグラフィーに付す。15mずつ
の画分を収集し、TLCによって分析する。5−[[(2
−カルボキシ−1H−インドール−5−イル)アミノ]カ
ルボニル]−1H−インドール−2−カルボン酸ジエチル
エステルは画分8〜86中に見い出される(137mg,78%収
率)。
パートB;5−[[(2−カルボキシ−1H−インドール−
5−イル)アミノ]カルボニル]−1H−インドール−2
−カルボン酸の調製 5−[[(2−カルボキシ−1H−インドール−5−イ
ル)アミノ]カルボニル]−1H−インドール−2−カル
ボン酸ジエチルエステル137mg(0.33mM)を室温で撹拌
しつつピリジン3mLおよび無水エタノール3mLに溶解させ
る。1N NaOH1mLを添加し、29時間反応させ、その間に
沈澱が形成される。1N HCl1mLを添加し、反応混合物を
ロータリーエバポレーターで濃縮する。残渣に水を添加
し、濁った溶液が形成される。溶液を凍結乾燥する。残
渣をセライト1g上に被覆し、次いで、C−18逆相シリカ
ゲルカラム10gの頂部に添加する。該カラムを40%DMF水
〜80%DMF水にて各100mLにつき10%増加させつつ溶出さ
せる。5mLずつの画分を収集する。5−[[(2−カル
ボキシ−1H−インドール−5−イル)アミノ]カルボニ
ル]−1H−インドール−2−カルボン酸は画分30〜70に
見い出される(40mg)。
5−イル)アミノ]カルボニル]−1H−インドール−2
−カルボン酸の調製 5−[[(2−カルボキシ−1H−インドール−5−イ
ル)アミノ]カルボニル]−1H−インドール−2−カル
ボン酸ジエチルエステル137mg(0.33mM)を室温で撹拌
しつつピリジン3mLおよび無水エタノール3mLに溶解させ
る。1N NaOH1mLを添加し、29時間反応させ、その間に
沈澱が形成される。1N HCl1mLを添加し、反応混合物を
ロータリーエバポレーターで濃縮する。残渣に水を添加
し、濁った溶液が形成される。溶液を凍結乾燥する。残
渣をセライト1g上に被覆し、次いで、C−18逆相シリカ
ゲルカラム10gの頂部に添加する。該カラムを40%DMF水
〜80%DMF水にて各100mLにつき10%増加させつつ溶出さ
せる。5mLずつの画分を収集する。5−[[(2−カル
ボキシ−1H−インドール−5−イル)アミノ]カルボニ
ル]−1H−インドール−2−カルボン酸は画分30〜70に
見い出される(40mg)。
パートC;5−[[(2−カルボキシ−1H−インドール−
5−イル)アミノ]カルボニル]−1H−インドール−2
−カルボン酸と(Boc)CPIフェノールクロライドとの反
応 暗所にて、窒素下、酢酸エチル1mLおよびガス状HClで
飽和した酢酸エチル5mL中、室温にて(S)−1−(ク
ロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−
メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2
H)−カルボン酸・1,1−ジメチルエステル[(Boc)CPI
フェノールクロライド]74mg(0.22mM)を45分間撹拌す
る。真空下で反応混合物を蒸発させ、CH2Cl2と共に2回
再蒸発させ、各回窒素を導入し、(S)−1−(クロロ
メチル)−5−ヒドロキシ−8−メチル−1,2,3,6−テ
トラヒドロ−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール塩酸
塩(CPIフェノールクロライド塩酸塩)を得る。暗所に
て、窒素下、該CPIフェノールクロライド塩酸塩を撹拌
しつつ乾燥DMF1mLに溶解する。5−[[(2−カルボキ
シ−1H−インドール−5−イル)アミノ]カルボニル]
−1H−インドール−2−カルボン酸40mg(0.11mM)およ
びEDC75mg(0.39mM)を反応物に添加し、30分間反応さ
せ、さらにEDC20mg(0.10mM)を添加し、さらに1時間
反応させる。溶液を遠心管に移し、DMF1mLで洗浄し、水
で希釈して沈澱を生成させ、遠心する。上澄みをデカン
テーションする。固体をアセトンでRBフラスコに洗い入
れ、真空下で再度蒸発させる。
5−イル)アミノ]カルボニル]−1H−インドール−2
−カルボン酸と(Boc)CPIフェノールクロライドとの反
応 暗所にて、窒素下、酢酸エチル1mLおよびガス状HClで
飽和した酢酸エチル5mL中、室温にて(S)−1−(ク
ロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−
メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2
H)−カルボン酸・1,1−ジメチルエステル[(Boc)CPI
フェノールクロライド]74mg(0.22mM)を45分間撹拌す
る。真空下で反応混合物を蒸発させ、CH2Cl2と共に2回
再蒸発させ、各回窒素を導入し、(S)−1−(クロロ
メチル)−5−ヒドロキシ−8−メチル−1,2,3,6−テ
トラヒドロ−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール塩酸
塩(CPIフェノールクロライド塩酸塩)を得る。暗所に
て、窒素下、該CPIフェノールクロライド塩酸塩を撹拌
しつつ乾燥DMF1mLに溶解する。5−[[(2−カルボキ
シ−1H−インドール−5−イル)アミノ]カルボニル]
−1H−インドール−2−カルボン酸40mg(0.11mM)およ
びEDC75mg(0.39mM)を反応物に添加し、30分間反応さ
せ、さらにEDC20mg(0.10mM)を添加し、さらに1時間
反応させる。溶液を遠心管に移し、DMF1mLで洗浄し、水
で希釈して沈澱を生成させ、遠心する。上澄みをデカン
テーションする。固体をアセトンでRBフラスコに洗い入
れ、真空下で再度蒸発させる。
粗生成物をシリカゲル1g上に被覆し、20%DMF−80%
トルエン中で作成したシリカゲルカラム9gの頂部に乗せ
る。該カラムをトルエン中の20%DMF、続いてトルエン
中の30%DMFで溶出させる。2mずつの画分を収集す
る。画分21〜78を収集し、蒸発させ、トルエン中の20%
DMFで溶出させるシリカゲルカラム5g上のクロマトグラ
フィーに残渣を付す。1mLずつの画分を収集する。[S
−(R*,R*)]−2−[[1−(クロロメチル)−1,
6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]−カ
ルボニル]−N−[3−[[1−(クロロメチル)−1,
6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2
−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]カルボニ
ル]−1H−インドール−6−イル]−1H−インドール−
5−カルボキシアミドは画分20〜45中に見い出される
(49mg、56%)。
トルエン中で作成したシリカゲルカラム9gの頂部に乗せ
る。該カラムをトルエン中の20%DMF、続いてトルエン
中の30%DMFで溶出させる。2mずつの画分を収集す
る。画分21〜78を収集し、蒸発させ、トルエン中の20%
DMFで溶出させるシリカゲルカラム5g上のクロマトグラ
フィーに残渣を付す。1mLずつの画分を収集する。[S
−(R*,R*)]−2−[[1−(クロロメチル)−1,
6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]−カ
ルボニル]−N−[3−[[1−(クロロメチル)−1,
6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2
−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]カルボニ
ル]−1H−インドール−6−イル]−1H−インドール−
5−カルボキシアミドは画分20〜45中に見い出される
(49mg、56%)。
NMR(d6−DMSO,TMS):δ2.37(s,6H);3.54〜3.68
(t,2H);3.87〜3.97(d,2H);3.98〜4.10(t,2H);4.5
0〜4.60(d,2H);4.61〜4.77(q,2H);7.07(s,2H);7.
13(s,1H);7.29(s,1H);7.45〜7.52(d,1H);7.55〜
7.73(m,4H);7.91(s,1H);8.23(s,1H);8.45(s,1
H);9.82(s,1H);9.84(s,1H);10.18(s,1H);10.75
(s,1H);10.76(s,1H);11.65(s,1H);12.00(s,1H) UV(DMA+MeOH):λmax=328nm(ε=36,830);292n
m sh(ε=43,800) 実施例13 [S−(R*,R*)]−5−[[1−(クロ
ロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メ
チルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−
イル]−カルボニル)−N−[2−[[1−(クロロメ
チル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチル
ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イ
ル]カルボニル)−1H−インドール−5−イル]−1H−
インドール−2−カルボキシアミド(化合物13)の調製 パートA;5−[[(5−カルボキシ−1H−インドール−
2−イル)カルボニル]−アミノ]−1H−インドール−
2−カルボン酸ジエチルエステルの調製 インドール−2,5−ジカルボン酸5−エチルエステル6
5mg(0.28mM)を窒素下、室温にて乾燥DMF1mL中で撹拌
する。5−アミノ−インドール−2−カルボン酸57mg
(0.28mM)およびEDC60mg(31mM)を添加する。24時間
後、反応物を水で希釈し、固体を濾過によって収集す
る。残存する固体をアセトンに溶解し、蒸発させてシリ
カゲル2gに付着させる。この物質をシリカゲルカラム18
gの頂部に添加し、トルエン中の10%DMFで溶出させる。
5−[[(5−カルボキシ−1H−インドール−2−イ
ル)カルボニル]−アミノ]−1H−インドール−2−カ
ルボン酸ジエチルエステルは画分中に見い出される(75
mg、64%収率)。
(t,2H);3.87〜3.97(d,2H);3.98〜4.10(t,2H);4.5
0〜4.60(d,2H);4.61〜4.77(q,2H);7.07(s,2H);7.
13(s,1H);7.29(s,1H);7.45〜7.52(d,1H);7.55〜
7.73(m,4H);7.91(s,1H);8.23(s,1H);8.45(s,1
H);9.82(s,1H);9.84(s,1H);10.18(s,1H);10.75
(s,1H);10.76(s,1H);11.65(s,1H);12.00(s,1H) UV(DMA+MeOH):λmax=328nm(ε=36,830);292n
m sh(ε=43,800) 実施例13 [S−(R*,R*)]−5−[[1−(クロ
ロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メ
チルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−
イル]−カルボニル)−N−[2−[[1−(クロロメ
チル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチル
ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イ
ル]カルボニル)−1H−インドール−5−イル]−1H−
インドール−2−カルボキシアミド(化合物13)の調製 パートA;5−[[(5−カルボキシ−1H−インドール−
2−イル)カルボニル]−アミノ]−1H−インドール−
2−カルボン酸ジエチルエステルの調製 インドール−2,5−ジカルボン酸5−エチルエステル6
5mg(0.28mM)を窒素下、室温にて乾燥DMF1mL中で撹拌
する。5−アミノ−インドール−2−カルボン酸57mg
(0.28mM)およびEDC60mg(31mM)を添加する。24時間
後、反応物を水で希釈し、固体を濾過によって収集す
る。残存する固体をアセトンに溶解し、蒸発させてシリ
カゲル2gに付着させる。この物質をシリカゲルカラム18
gの頂部に添加し、トルエン中の10%DMFで溶出させる。
5−[[(5−カルボキシ−1H−インドール−2−イ
ル)カルボニル]−アミノ]−1H−インドール−2−カ
ルボン酸ジエチルエステルは画分中に見い出される(75
mg、64%収率)。
パートB;5−[[(5−カルボキシ−1H−インドール−
2−イル)カルボニル]アミノ]−1H−インドール−2
−カルボン酸の調製 窒素下室温にて、5−[[(5−カルボキシ−1H−イ
ンドール−2−イル)カルボニル]−アミノ]−1H−イ
ンドール−2−カルボン酸ジエチルエステル75mg(0.18
mM)をピリジン2mL、無水エタノール2mL中で撹拌し、25
℃にて1N NaOH600μ中で120時間撹拌する。次いで、
さらに1N NaOH1mLを添加し、反応物を50℃にて20時間
加熱する。次いで、1N HCl1.6mLを添加し、反応物を真
空下で蒸発させる。残渣をセライト(Celite)1g上に被
覆し、C−18シリカゲルカラム10gに乗せる。水中の50
%DMF〜水中の80%DMF(10%増加毎に100m)で該カラ
ムを溶出させる。5mずつの画分を収集し、TLCによっ
て分析する。5−[[(5−カルボキシ−1H−インドー
ル−2−イル)カルボニル]アミノ]−1H−インドール
−2−カルボン酸は画分5〜77に見い出される。
2−イル)カルボニル]アミノ]−1H−インドール−2
−カルボン酸の調製 窒素下室温にて、5−[[(5−カルボキシ−1H−イ
ンドール−2−イル)カルボニル]−アミノ]−1H−イ
ンドール−2−カルボン酸ジエチルエステル75mg(0.18
mM)をピリジン2mL、無水エタノール2mL中で撹拌し、25
℃にて1N NaOH600μ中で120時間撹拌する。次いで、
さらに1N NaOH1mLを添加し、反応物を50℃にて20時間
加熱する。次いで、1N HCl1.6mLを添加し、反応物を真
空下で蒸発させる。残渣をセライト(Celite)1g上に被
覆し、C−18シリカゲルカラム10gに乗せる。水中の50
%DMF〜水中の80%DMF(10%増加毎に100m)で該カラ
ムを溶出させる。5mずつの画分を収集し、TLCによっ
て分析する。5−[[(5−カルボキシ−1H−インドー
ル−2−イル)カルボニル]アミノ]−1H−インドール
−2−カルボン酸は画分5〜77に見い出される。
パートC;5−[[(5−カルボキシ−1H−インドール−
2−イル)カルボニル]アミノ]−1H−インドール−2
−カルボン酸と(Boc)CPIフェノールクロライドとの反
応 暗所にて、窒素下、(S)−1−(クロロメチル)−
1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−カルボン酸
・1,1−ジメチルエステル[(Boc)CPIフェノールクロ
ライド]121mg(0.36mM)を室温にて酢酸エチル2mLおよ
びガス状HClで飽和した酢酸エチル8mL中で30分間撹拌す
る。30分後、TLCは反応が完了したことを示す。反応物
を真空下で蒸発させ、CH2Cl2と共に2回再蒸発させ、各
回窒素を導入して、(S)−1−(クロロメチル)−5
−ヒドロキシ−8−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロベ
ンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール塩酸塩(CPIフェノ
ールクロライド塩酸塩)を得る。暗所中、窒素下で撹拌
しつつ、該CPIフェノールクロライド塩酸塩を乾燥DMF1.
5mL中で撹拌する。5−[[(5−カルボキシ−1H−イ
ンドール−2−イル)カルボニル]アミノ]−1H−イン
ドール−2−カルボン酸65mg(0.18mM)およびEDC110mg
(0.57mM)を得られた溶液に添加する。30分後、反応物
をさらにEDC45mg(0.23mM)で処理し、さらに1.5時間反
応させる。反応溶液を遠心管に移し、DMF1mL中で洗浄
し、水で希釈して沈澱を生成させ、遠心する。上澄みを
デカンテーションする。固体をアセトンでRBフラスコ中
に洗い入れ、真空下で再度蒸発させる。粗生成物をシリ
カゲル1g上に被覆し、20%DMF〜80%DMFトルエン中で作
成したシリカゲルカラム10gの頂部に乗せる。該カラム
をトルエン中の20%DMF、続いてトルエン中の35%DMFで
溶出させる。[S−(R*,R*)]−5−[[1−(ク
ロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−
メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)
−イル]−カルボニル)−N−[2−[[1−(クロロ
メチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチ
ルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イ
ル]カルボニル)−1H−インドール−5−イル]−1H−
インドール−2−カルボキシアミド43mgを画分25〜47か
ら単離する。
2−イル)カルボニル]アミノ]−1H−インドール−2
−カルボン酸と(Boc)CPIフェノールクロライドとの反
応 暗所にて、窒素下、(S)−1−(クロロメチル)−
1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−カルボン酸
・1,1−ジメチルエステル[(Boc)CPIフェノールクロ
ライド]121mg(0.36mM)を室温にて酢酸エチル2mLおよ
びガス状HClで飽和した酢酸エチル8mL中で30分間撹拌す
る。30分後、TLCは反応が完了したことを示す。反応物
を真空下で蒸発させ、CH2Cl2と共に2回再蒸発させ、各
回窒素を導入して、(S)−1−(クロロメチル)−5
−ヒドロキシ−8−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロベ
ンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール塩酸塩(CPIフェノ
ールクロライド塩酸塩)を得る。暗所中、窒素下で撹拌
しつつ、該CPIフェノールクロライド塩酸塩を乾燥DMF1.
5mL中で撹拌する。5−[[(5−カルボキシ−1H−イ
ンドール−2−イル)カルボニル]アミノ]−1H−イン
ドール−2−カルボン酸65mg(0.18mM)およびEDC110mg
(0.57mM)を得られた溶液に添加する。30分後、反応物
をさらにEDC45mg(0.23mM)で処理し、さらに1.5時間反
応させる。反応溶液を遠心管に移し、DMF1mL中で洗浄
し、水で希釈して沈澱を生成させ、遠心する。上澄みを
デカンテーションする。固体をアセトンでRBフラスコ中
に洗い入れ、真空下で再度蒸発させる。粗生成物をシリ
カゲル1g上に被覆し、20%DMF〜80%DMFトルエン中で作
成したシリカゲルカラム10gの頂部に乗せる。該カラム
をトルエン中の20%DMF、続いてトルエン中の35%DMFで
溶出させる。[S−(R*,R*)]−5−[[1−(ク
ロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−
メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)
−イル]−カルボニル)−N−[2−[[1−(クロロ
メチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチ
ルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イ
ル]カルボニル)−1H−インドール−5−イル]−1H−
インドール−2−カルボキシアミド43mgを画分25〜47か
ら単離する。
NMR(d6−DMSO,TMS):δ2.33(s,3H);2.37(s,3
H);3.50〜3.70(t,2H);3.78〜3.97(m,3H);3.97〜4.
14(t,2H);4.24〜4.43(bs,1H);4.48〜4.62(d,1H);
4.62〜4.75(t,1H);7.04(s,1H);7.06(s,1H);7.16
(s,1H);7.40〜7.72(m,7H);8.00(s,1H);8.25(s,1
H);9.64〜9.80(bs,1H);9.81(s,1H);10.30(s,1
H);10.68(s,1H);10.75(s,1H);11.70(s,1H);12.0
3(s,1H) UV(DMA+MeOH):λmax=316nm sh(ε=36,830);
295nm(ε=40,030) 実施例14 [S−(R*,R*)]−カルボニルビス[イ
ミノ−1H−インドール−5,2−ジイルカルボニル[1−
(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−8−メチルベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3,5(2H)−ジイ
ル]]−エステル,2,2−ジメチルプロパン酸(化合物1
4)の調製 [7bR−[2(7'bR*,8'aS*),7bR*,8aS*]]−2,
2'−[カルボニルビス(イミノ−1H−インドール−5,2
−ジカルボニル)]ビス[1,2,8,8a−テトラヒドロ−7
−メチル−シクロプロパ(c)ピロロ[3,2−e]イン
ドール−4(5H)−オン5.4mg(7.3μM)をピリジン20
0μLに溶解し、0℃にて溶液を2,2−ジメチル−プロピ
オン酸クロライド24μL(192μM)で処理する。10分
後、反応物を25℃まで加温し、室温で20分間撹拌する。
次いで、反応物を水0.1mLでクエンチし、濃縮乾固す
る。残渣をDMFに溶解し、真空下、蒸発させてシリカゲ
ル0.1gに付着させる。この物質をシリカゲルカラム1gの
頂部に添加し、トルエン中の10%〜30%DMFで溶出させ
る。0.2mLずつの画分を収集する。画分17〜50を蒸発乾
固し、残渣をアセトンで洗浄する。次いで、アセトン洗
液からの残渣を、トルエン中の10%〜12%DMFで溶出す
るシリカゲルカラム0.3g上のクロマトグラフィーに付
す。0.2mLずつの画分を収集する。画分9〜23の蒸発に
より[S−(R*,R*)]−カルボニルビス[イミノ−
1H−インドール−5,2−ジイルカルボニル[1−(クロ
ロメチル)−1,6−ジヒドロ−8−メチルベンゾ[1,2−
b:4,3−b']ジピロール−3,5(2H)−ジイル]]−エス
テル,2,2−ジメチルプロパン酸1.1mgを得る。
H);3.50〜3.70(t,2H);3.78〜3.97(m,3H);3.97〜4.
14(t,2H);4.24〜4.43(bs,1H);4.48〜4.62(d,1H);
4.62〜4.75(t,1H);7.04(s,1H);7.06(s,1H);7.16
(s,1H);7.40〜7.72(m,7H);8.00(s,1H);8.25(s,1
H);9.64〜9.80(bs,1H);9.81(s,1H);10.30(s,1
H);10.68(s,1H);10.75(s,1H);11.70(s,1H);12.0
3(s,1H) UV(DMA+MeOH):λmax=316nm sh(ε=36,830);
295nm(ε=40,030) 実施例14 [S−(R*,R*)]−カルボニルビス[イ
ミノ−1H−インドール−5,2−ジイルカルボニル[1−
(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−8−メチルベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3,5(2H)−ジイ
ル]]−エステル,2,2−ジメチルプロパン酸(化合物1
4)の調製 [7bR−[2(7'bR*,8'aS*),7bR*,8aS*]]−2,
2'−[カルボニルビス(イミノ−1H−インドール−5,2
−ジカルボニル)]ビス[1,2,8,8a−テトラヒドロ−7
−メチル−シクロプロパ(c)ピロロ[3,2−e]イン
ドール−4(5H)−オン5.4mg(7.3μM)をピリジン20
0μLに溶解し、0℃にて溶液を2,2−ジメチル−プロピ
オン酸クロライド24μL(192μM)で処理する。10分
後、反応物を25℃まで加温し、室温で20分間撹拌する。
次いで、反応物を水0.1mLでクエンチし、濃縮乾固す
る。残渣をDMFに溶解し、真空下、蒸発させてシリカゲ
ル0.1gに付着させる。この物質をシリカゲルカラム1gの
頂部に添加し、トルエン中の10%〜30%DMFで溶出させ
る。0.2mLずつの画分を収集する。画分17〜50を蒸発乾
固し、残渣をアセトンで洗浄する。次いで、アセトン洗
液からの残渣を、トルエン中の10%〜12%DMFで溶出す
るシリカゲルカラム0.3g上のクロマトグラフィーに付
す。0.2mLずつの画分を収集する。画分9〜23の蒸発に
より[S−(R*,R*)]−カルボニルビス[イミノ−
1H−インドール−5,2−ジイルカルボニル[1−(クロ
ロメチル)−1,6−ジヒドロ−8−メチルベンゾ[1,2−
b:4,3−b']ジピロール−3,5(2H)−ジイル]]−エス
テル,2,2−ジメチルプロパン酸1.1mgを得る。
NMR(d6−DMSO,TMS):δ1.39(s,18H);2.41(s,6
H);3.73(m,2H);4.00(m,2H);4.21(m,2H);4.60
(m,2H);4.73(m,2H);7.09(s,2H);7.25(m,4H);7.
42(m,2H);7.80(bs,2H);7.88(s,2H);8.55(bs,2
H);10.87(bs,2H);11.54(bs,2H) UV(DMA+MeOH):λmax=324nm(ε=40,000);294n
m(ε=40,000) 実施例15 [S−(R*,R*)]−カルボニルビス[イ
ミノ−1H−インドール−5,2−ジイルカルボニル[1−
(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−8−メチルベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3,5(2H)−ジイ
ル]]−エステル,デカン酸(化合物15)の調製 [S−(R*,R*)]−6,6'−[カルボニルビス(イ
ミノ−1H−インドール−5,2−ジカルボニル)]−ビス
[8−クロロメチル)−3,6,7,8−テトラヒドロ−1−
メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−4−オ
ール10mg(0.012mM)をピリジン0.2mLおよびDMF0.01mL
に溶解する。溶液を無水デカン酸75mg(0.23mM)で処理
し、反応物を暗所中24時間撹拌する。次いで、反応物を
水0.05mLでクエンチし、蒸発乾固する。残渣を水および
トルエンで洗浄し、各不溶物を遠心によって収集する。
トルエン中の5%、6%、7%、および10%DMFで溶出
させるシリカゲルカラム1.2g上のクロマトグラフィーに
得られた残渣を付す。0.3mLずつの画分を収集する。
[S−(R*,R*)]−カルボニルビス[イミノ−1H−
インドール−5,2−ジイルカルボニル[1−(クロロメ
チル)−1,6−ジヒドロ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4,
3−b']ジピロール−3,5(2H)−ジイル]]−エステ
ル,デカン酸1.3mgを画分18〜60の蒸発により得る。
H);3.73(m,2H);4.00(m,2H);4.21(m,2H);4.60
(m,2H);4.73(m,2H);7.09(s,2H);7.25(m,4H);7.
42(m,2H);7.80(bs,2H);7.88(s,2H);8.55(bs,2
H);10.87(bs,2H);11.54(bs,2H) UV(DMA+MeOH):λmax=324nm(ε=40,000);294n
m(ε=40,000) 実施例15 [S−(R*,R*)]−カルボニルビス[イ
ミノ−1H−インドール−5,2−ジイルカルボニル[1−
(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−8−メチルベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3,5(2H)−ジイ
ル]]−エステル,デカン酸(化合物15)の調製 [S−(R*,R*)]−6,6'−[カルボニルビス(イ
ミノ−1H−インドール−5,2−ジカルボニル)]−ビス
[8−クロロメチル)−3,6,7,8−テトラヒドロ−1−
メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−4−オ
ール10mg(0.012mM)をピリジン0.2mLおよびDMF0.01mL
に溶解する。溶液を無水デカン酸75mg(0.23mM)で処理
し、反応物を暗所中24時間撹拌する。次いで、反応物を
水0.05mLでクエンチし、蒸発乾固する。残渣を水および
トルエンで洗浄し、各不溶物を遠心によって収集する。
トルエン中の5%、6%、7%、および10%DMFで溶出
させるシリカゲルカラム1.2g上のクロマトグラフィーに
得られた残渣を付す。0.3mLずつの画分を収集する。
[S−(R*,R*)]−カルボニルビス[イミノ−1H−
インドール−5,2−ジイルカルボニル[1−(クロロメ
チル)−1,6−ジヒドロ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4,
3−b']ジピロール−3,5(2H)−ジイル]]−エステ
ル,デカン酸1.3mgを画分18〜60の蒸発により得る。
NMR(d6−DMSO,TMS):δ0.86(t);1.24(m);1.4
5(m);2.18(t);2.40(s);3.70(m);3.98
(m);4.15(m);4.59(m);4.71(m);7.08
(s);7.27(m);7.42(m);7.80(m);7.88
(s);8.59(bs);11.05(bs);11.53(bs) UV(DMA+MeOH):λmax=324nm(ε=40,000);294n
m(ε=40,000) 実施例16 [S−(R*,R*)]−6,6'−[カルボニル
ビス[(7,8−ジヒドロベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピ
ロール−6,2(3H)−ジイル)カルボニル]]ビス[8
−(クロロメチル)−3,6,7,8−テトラヒドロ−1−メ
チル−ベンゾ[1,2−b;4,3−b']ジピロール−4−オー
ル(化合物16)の調製 パートA;6,6'−カルボニルビス[3,6,7,8−テトラヒド
ロベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−2−カルボン
酸エチルエステルはエム・エイ・ワルペホカキィ(M.A.
Warpehoski),ブイ・エス・ブラッドフォード(V.S.Br
adford),テトラヘドロン・レターズ(Tetrahedron Le
tt.),1986,27,2735に記載されている。
5(m);2.18(t);2.40(s);3.70(m);3.98
(m);4.15(m);4.59(m);4.71(m);7.08
(s);7.27(m);7.42(m);7.80(m);7.88
(s);8.59(bs);11.05(bs);11.53(bs) UV(DMA+MeOH):λmax=324nm(ε=40,000);294n
m(ε=40,000) 実施例16 [S−(R*,R*)]−6,6'−[カルボニル
ビス[(7,8−ジヒドロベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピ
ロール−6,2(3H)−ジイル)カルボニル]]ビス[8
−(クロロメチル)−3,6,7,8−テトラヒドロ−1−メ
チル−ベンゾ[1,2−b;4,3−b']ジピロール−4−オー
ル(化合物16)の調製 パートA;6,6'−カルボニルビス[3,6,7,8−テトラヒド
ロベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−2−カルボン
酸エチルエステルはエム・エイ・ワルペホカキィ(M.A.
Warpehoski),ブイ・エス・ブラッドフォード(V.S.Br
adford),テトラヘドロン・レターズ(Tetrahedron Le
tt.),1986,27,2735に記載されている。
NMR:δ1.35(t,6H),3.285(t,4H);4.123(t,4H);
4.34(q,4H);7.06(s,2H);7.22(d,2H);7.32(d,2
H);11.845(s,2H) MS(El):m/z586(M+),257,230,184,156 TLC:(25−75)アセトン−ヘキサンにてRf=0.14 パートB;6,6'−カルボニルビス[3,6,7,8−テトラヒド
ロベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−2−カルボン
酸ジエチルエステルの調製 6,6'−カルボニルビス[3,6,7,8−テトラヒドロベン
ゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−2−カルボン酸エチ
ルエステル30mg(0.13mM)を乾燥THF0.5mLに溶解し、溶
液を4−ジメチルアミノピリジン1mgで処理する。窒素
下、この溶液を液体窒素凍結メタノール浴中、−98℃ま
で冷却する。ジイソプロピルエチルアミン25μ(0.14
mM)、続いてトルエン中の1.93Mホスゲン25μ(0.067
mM)を添加する。反応物を−98℃で3時間撹拌する。次
いで、−65℃フリーザー中で一晩貯蔵する。室温で90分
間反応物を撹拌する。それを水および酢酸エチルで希釈
する。酢酸エチル層を食塩水で洗浄し、乾燥し、蒸発さ
せる。粗製残渣47.9mgを蒸留THFからシリカゲル0.5gに
吸着させる。得られた固体をシリカカラム0.5gの頂部に
添加し、トルエン中の5%〜15%アセトンで溶出させ
る。3mLずつの画分を収集する。6,6'−カルボニルビス
[3,6,7,8−テトラヒドロベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジ
ピロール−2−カルボン酸ジエチルエステル5.6mgは画
分5〜9に見い出される。
4.34(q,4H);7.06(s,2H);7.22(d,2H);7.32(d,2
H);11.845(s,2H) MS(El):m/z586(M+),257,230,184,156 TLC:(25−75)アセトン−ヘキサンにてRf=0.14 パートB;6,6'−カルボニルビス[3,6,7,8−テトラヒド
ロベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−2−カルボン
酸ジエチルエステルの調製 6,6'−カルボニルビス[3,6,7,8−テトラヒドロベン
ゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−2−カルボン酸エチ
ルエステル30mg(0.13mM)を乾燥THF0.5mLに溶解し、溶
液を4−ジメチルアミノピリジン1mgで処理する。窒素
下、この溶液を液体窒素凍結メタノール浴中、−98℃ま
で冷却する。ジイソプロピルエチルアミン25μ(0.14
mM)、続いてトルエン中の1.93Mホスゲン25μ(0.067
mM)を添加する。反応物を−98℃で3時間撹拌する。次
いで、−65℃フリーザー中で一晩貯蔵する。室温で90分
間反応物を撹拌する。それを水および酢酸エチルで希釈
する。酢酸エチル層を食塩水で洗浄し、乾燥し、蒸発さ
せる。粗製残渣47.9mgを蒸留THFからシリカゲル0.5gに
吸着させる。得られた固体をシリカカラム0.5gの頂部に
添加し、トルエン中の5%〜15%アセトンで溶出させ
る。3mLずつの画分を収集する。6,6'−カルボニルビス
[3,6,7,8−テトラヒドロベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジ
ピロール−2−カルボン酸ジエチルエステル5.6mgは画
分5〜9に見い出される。
パートC;6,6'−カルボニルビス[3,6,7,8−テトラヒド
ロベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−2−カルボン
酸ジエチルエステル7mg(0.014mM)をピリジンに溶解
し、溶液を1N NaOH0.05mLで処理する。次いで、反応物
を50℃まで6時間加熱する。反応物を1N HCl0.2mLで酸
性化し、固体として沈澱した6,6'−カルボニル[3,6,7,
8−テトラヒドロベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール
−2−カルボン酸ジエチルエステルを遠心によって収集
し、真空下で乾燥する。
ロベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−2−カルボン
酸ジエチルエステル7mg(0.014mM)をピリジンに溶解
し、溶液を1N NaOH0.05mLで処理する。次いで、反応物
を50℃まで6時間加熱する。反応物を1N HCl0.2mLで酸
性化し、固体として沈澱した6,6'−カルボニル[3,6,7,
8−テトラヒドロベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール
−2−カルボン酸ジエチルエステルを遠心によって収集
し、真空下で乾燥する。
パートD;[S−(R*,R*)]−6,6'−[カルボニルビ
ス[(7,8−ジヒドロベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロ
ール−6,2(3H)−ジイル)カルボニル]]ビス[8−
(クロロメチル)−3,6,7,8−テトラヒドロ−1−メチ
ル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−4−オール
(化合物16)の調製 (S)−1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5
−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']
ジピロール−3(2H)−カルボン酸1,1−ジメチルエス
テル[(Boc)CPIフェノールクロライド]11mg(0.033m
M)を酢酸エチル0.2mLおよびHCl−飽和酢酸エチル0.7mL
に溶解する。窒素下、混合物を室温で1時間撹拌する。
窒素気流下でそれを蒸発させる。CH2Cl2を添加し、残存
する(S)−1−(クロロメチル)−5−ヒドロキシ−
8−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロベンゾ[1,2−b:4,
3−b']ジピロール塩酸塩(CPIフェノールクロライド塩
酸塩)を窒素気流下で2回再蒸発させる。6,6'−カルボ
ニルビス[3,6,7,8−テトラヒドロベンゾ[1,2−b:4,3
−b']ジピロール−2−カルボン酸ジエチルエステル6m
g(0.014mM)をDMA0.3mLに溶解し、CPIフェノールクロ
ライド塩酸塩に添加する。次いで、混合物をEDC6.4mg
(0.034mM)で処理する。反応物を室温にて窒素下で50
分間撹拌する。さらにEDC6.4mg(0.034mM)を添加し、
撹拌を65分間継続する。水を徐々に添加することによっ
て生成物を沈澱させる。遠心によって固体28mgを収集
し、真空下で乾燥させる。この粗生成物をDMFからシリ
カゲル0.3gに吸着させる。それをシリカゲルカラム3g上
に乗せ、10,12,14,16および20%DMF−トルエンで溶出さ
せる。1mLずつの画分を収集する。[S−(R*,R
*)]−6,6'−[カルボニルビス[(7,8−ジヒドロベ
ンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−6,2(3H)−ジイ
ル)カルボニル]]ビス[8−(クロロメチル)−3,6,
7,8−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3
−b']ジピロール−4−オール6mgを画分40〜62の濃縮
により得る。
ス[(7,8−ジヒドロベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロ
ール−6,2(3H)−ジイル)カルボニル]]ビス[8−
(クロロメチル)−3,6,7,8−テトラヒドロ−1−メチ
ル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−4−オール
(化合物16)の調製 (S)−1−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5
−ヒドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']
ジピロール−3(2H)−カルボン酸1,1−ジメチルエス
テル[(Boc)CPIフェノールクロライド]11mg(0.033m
M)を酢酸エチル0.2mLおよびHCl−飽和酢酸エチル0.7mL
に溶解する。窒素下、混合物を室温で1時間撹拌する。
窒素気流下でそれを蒸発させる。CH2Cl2を添加し、残存
する(S)−1−(クロロメチル)−5−ヒドロキシ−
8−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロベンゾ[1,2−b:4,
3−b']ジピロール塩酸塩(CPIフェノールクロライド塩
酸塩)を窒素気流下で2回再蒸発させる。6,6'−カルボ
ニルビス[3,6,7,8−テトラヒドロベンゾ[1,2−b:4,3
−b']ジピロール−2−カルボン酸ジエチルエステル6m
g(0.014mM)をDMA0.3mLに溶解し、CPIフェノールクロ
ライド塩酸塩に添加する。次いで、混合物をEDC6.4mg
(0.034mM)で処理する。反応物を室温にて窒素下で50
分間撹拌する。さらにEDC6.4mg(0.034mM)を添加し、
撹拌を65分間継続する。水を徐々に添加することによっ
て生成物を沈澱させる。遠心によって固体28mgを収集
し、真空下で乾燥させる。この粗生成物をDMFからシリ
カゲル0.3gに吸着させる。それをシリカゲルカラム3g上
に乗せ、10,12,14,16および20%DMF−トルエンで溶出さ
せる。1mLずつの画分を収集する。[S−(R*,R
*)]−6,6'−[カルボニルビス[(7,8−ジヒドロベ
ンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−6,2(3H)−ジイ
ル)カルボニル]]ビス[8−(クロロメチル)−3,6,
7,8−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3
−b']ジピロール−4−オール6mgを画分40〜62の濃縮
により得る。
NMR:δ2.36(s,6H);3.3(t,4H);3.61(m,2H);3.92
(m,2H);4.03(m,2H);4.16(t,4H);4.55(m,2H);4.
69(m,2H);7.01(s,2H);7.05(s,2H);7.27(m,4H);
7.66(m,2H);9.79(s,2H);10.74(bs,2H);11.62(b
s,2H) UV:λmax−353nm(ε=28000);286nm(ε=45000) TLC:(20−80)DMF−トルエンにてRf=0.29 出発物質は公知であるか、または公知の方法によって
容易に調製することができる。エム・エイ・ワルペホス
キィ(M.A.Warpehoski)、テトラヘドロン・レターズ
(Tet.Lett.),27,4103(1986);ダブリュー・ダブリ
ュー・ウィーレンガ(W.W.Wierenga),ジャーナル・オ
ブ・アメリカン・ケミカルソサイェティ(J.Am.Chem.So
c.),103,18号,1981;デイ・ジイ・マーチン(D.J.Marti
n),ジャーナル・オブ・アンティバイオティックス
(J.Antibiotics),1985,38,746;およびエム・エイ・ワ
ルペホスキィ(M.A.Warpehoski)、アイ・ゲハールト
(I.Gehhart)、アール・シイ・ケリー(R.C.Kelly)、
ダブリュー・シイ・クルーゲル(W.C.Krueger)、エル
・エイチ・リー(L.H.Li)、ジェイ・ピイ・マクゴブレ
ン(J.P.McGovren)、エム・デイ・プライリー(M.D.Pr
airie)、エヌ・ウィクニーニスキィ(N.Wicnienski)
およびダブリュー・ウィーレンガ(W.Wierenga)、ジャ
ーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー(J.Med.Ch
em.),1988,31頁,590〜603参照。
(m,2H);4.03(m,2H);4.16(t,4H);4.55(m,2H);4.
69(m,2H);7.01(s,2H);7.05(s,2H);7.27(m,4H);
7.66(m,2H);9.79(s,2H);10.74(bs,2H);11.62(b
s,2H) UV:λmax−353nm(ε=28000);286nm(ε=45000) TLC:(20−80)DMF−トルエンにてRf=0.29 出発物質は公知であるか、または公知の方法によって
容易に調製することができる。エム・エイ・ワルペホス
キィ(M.A.Warpehoski)、テトラヘドロン・レターズ
(Tet.Lett.),27,4103(1986);ダブリュー・ダブリ
ュー・ウィーレンガ(W.W.Wierenga),ジャーナル・オ
ブ・アメリカン・ケミカルソサイェティ(J.Am.Chem.So
c.),103,18号,1981;デイ・ジイ・マーチン(D.J.Marti
n),ジャーナル・オブ・アンティバイオティックス
(J.Antibiotics),1985,38,746;およびエム・エイ・ワ
ルペホスキィ(M.A.Warpehoski)、アイ・ゲハールト
(I.Gehhart)、アール・シイ・ケリー(R.C.Kelly)、
ダブリュー・シイ・クルーゲル(W.C.Krueger)、エル
・エイチ・リー(L.H.Li)、ジェイ・ピイ・マクゴブレ
ン(J.P.McGovren)、エム・デイ・プライリー(M.D.Pr
airie)、エヌ・ウィクニーニスキィ(N.Wicnienski)
およびダブリュー・ウィーレンガ(W.Wierenga)、ジャ
ーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー(J.Med.Ch
em.),1988,31頁,590〜603参照。
CPI(Boc)HClはアール・シイ・ケリー(R.C.Kelle
y)、アイ・ゲハールド(I.Gehhard)、エヌ・ウィック
ニーンスキィ(N.Wicnienski)、ピイ・エイ・アリスト
ッフ(P.A.Aristoff)、ピイ・デイ・ジョンソン(P.D.
Johnson)、デイ・ジイ・マーチン(D.G.Martin)、ジ
ャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイェティ
(J.Am.Chem.Soc.),1987,109 6837に記載されている。
y)、アイ・ゲハールド(I.Gehhard)、エヌ・ウィック
ニーンスキィ(N.Wicnienski)、ピイ・エイ・アリスト
ッフ(P.A.Aristoff)、ピイ・デイ・ジョンソン(P.D.
Johnson)、デイ・ジイ・マーチン(D.G.Martin)、ジ
ャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイェティ
(J.Am.Chem.Soc.),1987,109 6837に記載されている。
式Aのスピロシクロプロピルシクロヘキサジエニル化
合物および1−(ハロメチル)−1,6−ヒドロ−5−ヒ
ドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピ
ロール−3(2H)−イル5−エステルまたはウレタン
(式B)もまた1986年8月7日出願の米国特許出願8943
14号(現在は放棄)および1987年12月11日出願のPCT/87
/03227号特許出願に開示されている手法および方法によ
って調製できる。共にここに参照のために挙げる。ま
た、EP出願0154445号(1985年11月9日公開)参照。
合物および1−(ハロメチル)−1,6−ヒドロ−5−ヒ
ドロキシ−8−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピ
ロール−3(2H)−イル5−エステルまたはウレタン
(式B)もまた1986年8月7日出願の米国特許出願8943
14号(現在は放棄)および1987年12月11日出願のPCT/87
/03227号特許出願に開示されている手法および方法によ
って調製できる。共にここに参照のために挙げる。ま
た、EP出願0154445号(1985年11月9日公開)参照。
本発明のすべての化合物は200nm〜380nmに紫外線吸収
を有する。かくして、本発明の化合物は以下の技術およ
び産業分野で紫外線吸収に有用である。
を有する。かくして、本発明の化合物は以下の技術およ
び産業分野で紫外線吸収に有用である。
(a)繊維材料、例えば、羊毛、絹、綿、麻、亜麻、ン
ネン等 (b)天然または合成樹脂 処理すべき材料の性質に基づき、活性および持続性の
程度に関する要件および他の因子、該材料中に入れるべ
き光スクリーニング(screening)剤の割合は、広範囲
限界内で、例えば紫外線の作用から直接に保護されるべ
き材料の重量の約0.01%〜約10%、有利には0.1%〜2
%で変化する。
ネン等 (b)天然または合成樹脂 処理すべき材料の性質に基づき、活性および持続性の
程度に関する要件および他の因子、該材料中に入れるべ
き光スクリーニング(screening)剤の割合は、広範囲
限界内で、例えば紫外線の作用から直接に保護されるべ
き材料の重量の約0.01%〜約10%、有利には0.1%〜2
%で変化する。
式Iの化合物は、特に抗腫瘍剤として有用である。実
施例の式I化合物はP388白血病マウスにおいて抗腫瘍活
性を示し、また、L1210白血病およびB16メラノーマ・マ
ウス・テスト系で有意な活性を示す。これらのマウス・
テスト系は臨床的に有用なヒト抗腫瘍剤について予測し
(例えば、エイ・ゲルディンら(A.Geldin et al),ユ
ーロピーアン・ジャーナル・オブ・キャンサー(Europe
an J.Cancer),17巻,129〜142頁,1981;ジェイ・エム・
ベンデッティ(J.M.Vendetti),キャンサー・トリート
メント・レポーツ(Cancer Treatment Reports),67巻,
767〜772頁,1983;およびジェイ・エム・ベンデッティ
(J.M.Vendetti),アドバーンシズ・イン・ファルマコ
ロジー・アンド・ケモセラピー(Advances in Pharmaco
logy and Chemotherapy),20巻,1〜20頁,1984参照)、
従って、本発明の化合物(式I)は、正確な用量は患者
の年令、体重、および症状、ならびに投与頻度に依存す
るが、例えば、1日当たり0.001μg/kg〜約10mg/kg体重
で静脈内投与した場合に、ヒトにおいて、罹患白血病を
含めた腫瘍性(癌)病気の制御および治療で有用であ
る。
施例の式I化合物はP388白血病マウスにおいて抗腫瘍活
性を示し、また、L1210白血病およびB16メラノーマ・マ
ウス・テスト系で有意な活性を示す。これらのマウス・
テスト系は臨床的に有用なヒト抗腫瘍剤について予測し
(例えば、エイ・ゲルディンら(A.Geldin et al),ユ
ーロピーアン・ジャーナル・オブ・キャンサー(Europe
an J.Cancer),17巻,129〜142頁,1981;ジェイ・エム・
ベンデッティ(J.M.Vendetti),キャンサー・トリート
メント・レポーツ(Cancer Treatment Reports),67巻,
767〜772頁,1983;およびジェイ・エム・ベンデッティ
(J.M.Vendetti),アドバーンシズ・イン・ファルマコ
ロジー・アンド・ケモセラピー(Advances in Pharmaco
logy and Chemotherapy),20巻,1〜20頁,1984参照)、
従って、本発明の化合物(式I)は、正確な用量は患者
の年令、体重、および症状、ならびに投与頻度に依存す
るが、例えば、1日当たり0.001μg/kg〜約10mg/kg体重
で静脈内投与した場合に、ヒトにおいて、罹患白血病を
含めた腫瘍性(癌)病気の制御および治療で有用であ
る。
式Iの化合物は、ボーラス注射または注入によって流
動体溶液にて静脈内投与(IV)した場合に効果的であ
る。好ましい用量はボーラス注射で0.01μg/kg〜1000μ
g/kg、および注入で0.0002〜20μg/kg/分である。正確
な用量は個々の化合物ならびに患者の年令、体重、投与
経路、および身体の状態、ならびに投与頻度に応じ変化
する。
動体溶液にて静脈内投与(IV)した場合に効果的であ
る。好ましい用量はボーラス注射で0.01μg/kg〜1000μ
g/kg、および注入で0.0002〜20μg/kg/分である。正確
な用量は個々の化合物ならびに患者の年令、体重、投与
経路、および身体の状態、ならびに投与頻度に応じ変化
する。
式Iの化合物についてのin vivoおよびin vitroL1210
テストデータの例は第1表および第2表に掲げる。第3
表は、化合物を共投与した場合の、[S−(R*,R
*)]−6,6'−[カルボニルビス(イミノ−1H−インド
ール−5,2−ジカルボニル)]ビス[8−クロロメチ
ル)−3,6,7,8−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−4−オール(化合物
1)と(7bR)−N−[2−[(4,5,8,8a−テトラヒド
ロ−7−メチル−4−オキソシクロプロパ−[c」ピロ
ロ[3,2−e]−インドール−2(1H)−イル)ガルボ
ニル]−1H−インドール−5−イル]−2−ベンゾフラ
ンカルボキシアミド(U−73975)を比較したデータを
示す。化合物Iはすべての系で化合物U−73975と少な
くとも同等に活性であり、皮下L1210アッセイにおける
ごとくある場合には、ある用量範囲にわたって優れた活
性を示す。さらに、U−73975と同様に化合物Iは死の
遅延を引き起こさないことが判明した。
テストデータの例は第1表および第2表に掲げる。第3
表は、化合物を共投与した場合の、[S−(R*,R
*)]−6,6'−[カルボニルビス(イミノ−1H−インド
ール−5,2−ジカルボニル)]ビス[8−クロロメチ
ル)−3,6,7,8−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−4−オール(化合物
1)と(7bR)−N−[2−[(4,5,8,8a−テトラヒド
ロ−7−メチル−4−オキソシクロプロパ−[c」ピロ
ロ[3,2−e]−インドール−2(1H)−イル)ガルボ
ニル]−1H−インドール−5−イル]−2−ベンゾフラ
ンカルボキシアミド(U−73975)を比較したデータを
示す。化合物Iはすべての系で化合物U−73975と少な
くとも同等に活性であり、皮下L1210アッセイにおける
ごとくある場合には、ある用量範囲にわたって優れた活
性を示す。さらに、U−73975と同様に化合物Iは死の
遅延を引き起こさないことが判明した。
in vivoL1210生物学的データは[S−(R*,R*)]
−6,6'−[カルボニルビス(イミノ−1H−インドール−
5,2−ジカルボニル)]ビス[8−クロロメチル)−3,
6,7,8−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,
3−b']ジピロール−4−オール(化合物1)が、15μg
/kgで高度に治癒力がある最も活性なアナログであるこ
とを示す。第1表および第4表に掲げた結果は標準的で
よく知られた公知の手法(In vivoキャンサー・モデ
ル、NIH公表No.84〜2635,1984)を用いて得られた。
−6,6'−[カルボニルビス(イミノ−1H−インドール−
5,2−ジカルボニル)]ビス[8−クロロメチル)−3,
6,7,8−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,
3−b']ジピロール−4−オール(化合物1)が、15μg
/kgで高度に治癒力がある最も活性なアナログであるこ
とを示す。第1表および第4表に掲げた結果は標準的で
よく知られた公知の手法(In vivoキャンサー・モデ
ル、NIH公表No.84〜2635,1984)を用いて得られた。
T/Cとは処理マウスのメジアン寿命を対照マウスのメ
ジアン寿命で割って100を掛けたものをいう。
ジアン寿命で割って100を掛けたものをいう。
式Iの化合物は抗菌剤として有用である。これらの化
合物は、標準的な微生物学技術を用いる種々の環境にお
いて罹患微生物の増殖を制御するのに有用である。かか
る環境は、式I化合物約1〜10%(w/v)を含有する処
方で浄化できるスタフィロコッカス・アウレウス(S.au
reus)で汚染した歯科用具等、および微生物学研究所に
おける実験ベンチを含む。
合物は、標準的な微生物学技術を用いる種々の環境にお
いて罹患微生物の増殖を制御するのに有用である。かか
る環境は、式I化合物約1〜10%(w/v)を含有する処
方で浄化できるスタフィロコッカス・アウレウス(S.au
reus)で汚染した歯科用具等、および微生物学研究所に
おける実験ベンチを含む。
一般式チャート
一般式チャート(つづき)
一般式チャート(つづき)
一般式チャート(つづき)
一般式チャート(つづき)
一般式チャート(つづき)
一般式チャート(つづき)
補足式チャート
−het−は以下の群から選択される。
(式中、X12およびX13は、同一または異なり、H、ハロ
ゲン、C1−C5アルキル、またはNO2) (式中、X12およびX13は前記定義に同じであって、R
1は、C1−C5アルキル) (式中、X12およびX13は前記定義に同じ) 補足式チャート(つづき) (式中、X12およびR1は前記定義に同じ) (式中、X12は前記定義に同じであって、X8は−O−、
−S−、−NH−) (式中、X8は前記定義に同じであって、X9は−CH=また
は−N=) 補足式チャート(つづき) (式中、X9、X12およびX13は前記定義に同じ) (式中、X12およびX13は前記定義に同じであって、X9お
よびX10が同一または異なる場合、−CH=または−N=
から選択される) (式中、X9、X10、X12およびX13は前記定義に同じ) (式中、X9、X10、X12およびX13は前記定義に同じ) 補足式チャート(つづき) (式中、X8、X9、X12およびX13は前記定義に同じ) チャートC (式中、X1はH、CH3、OH、OCH3、NO2、NH2、(NHNHA
c)NHNH(O)CH3、(NHBz)NHC(O)C6H5、またはハ
ロゲン) (式中、X3はH、OHまたはOCH3) (式中、R8はH、CH3またはC2H5) チャートC(つづき) (式中、R'はHまたはCH3S−) (式中、X8は−O−、−S−、NH;X9は−CH=または−
N=) チャートC(つづき) (式中、X9およびX8は前記定義の意味を有し;Y1はH、
ハロ、C1−C4アルキル、C1−C3アルコキシ、C2−C6ジア
ルキルアミノ、ニトロ、アミノカルボニル(C1−
C10)、ヒドロキシ、アミノ(−NH2)、−NHCONH2、−N
HAc(NHCOCH3)または−NHBz(NHC(O)−C6H5)) (式中、X8およびY1は前記定義の意味を有する) チャートC(つづき) (式中、X10は−CH=または−N=) (式中、X10は前記定義の意味を有する) (式中、R8は前記定義の意味を有する) チャートC(つづき) (式中、Y1、Y2およびX8は前記定義の意味を有する) (式中、Y1、Y2、X8およびX9は前記定義の意味を有す
る) (式中、X10は−CH=または−N=、Y1およびY2は前記
定義の意味を有する) チャートC(つづき) (式中、Y1およびY2は前記定義の意味を有する)
ゲン、C1−C5アルキル、またはNO2) (式中、X12およびX13は前記定義に同じであって、R
1は、C1−C5アルキル) (式中、X12およびX13は前記定義に同じ) 補足式チャート(つづき) (式中、X12およびR1は前記定義に同じ) (式中、X12は前記定義に同じであって、X8は−O−、
−S−、−NH−) (式中、X8は前記定義に同じであって、X9は−CH=また
は−N=) 補足式チャート(つづき) (式中、X9、X12およびX13は前記定義に同じ) (式中、X12およびX13は前記定義に同じであって、X9お
よびX10が同一または異なる場合、−CH=または−N=
から選択される) (式中、X9、X10、X12およびX13は前記定義に同じ) (式中、X9、X10、X12およびX13は前記定義に同じ) 補足式チャート(つづき) (式中、X8、X9、X12およびX13は前記定義に同じ) チャートC (式中、X1はH、CH3、OH、OCH3、NO2、NH2、(NHNHA
c)NHNH(O)CH3、(NHBz)NHC(O)C6H5、またはハ
ロゲン) (式中、X3はH、OHまたはOCH3) (式中、R8はH、CH3またはC2H5) チャートC(つづき) (式中、R'はHまたはCH3S−) (式中、X8は−O−、−S−、NH;X9は−CH=または−
N=) チャートC(つづき) (式中、X9およびX8は前記定義の意味を有し;Y1はH、
ハロ、C1−C4アルキル、C1−C3アルコキシ、C2−C6ジア
ルキルアミノ、ニトロ、アミノカルボニル(C1−
C10)、ヒドロキシ、アミノ(−NH2)、−NHCONH2、−N
HAc(NHCOCH3)または−NHBz(NHC(O)−C6H5)) (式中、X8およびY1は前記定義の意味を有する) チャートC(つづき) (式中、X10は−CH=または−N=) (式中、X10は前記定義の意味を有する) (式中、R8は前記定義の意味を有する) チャートC(つづき) (式中、Y1、Y2およびX8は前記定義の意味を有する) (式中、Y1、Y2、X8およびX9は前記定義の意味を有す
る) (式中、X10は−CH=または−N=、Y1およびY2は前記
定義の意味を有する) チャートC(つづき) (式中、Y1およびY2は前記定義の意味を有する)
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(51)Int.Cl.7 識別記号 FI
D01F 1/10 D01F 1/10
(56)参考文献 特開 昭60−193989(JP,A)
特開 昭59−181253(JP,A)
特開 昭55−27198(JP,A)
国際公開88/4659(WO,A2)
(58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名)
C07D 519/00
C07D 487/04
CA(STN)
REGISTRY(STN)
Claims (11)
- 【請求項1】式I: CPI1−R5−T−R'5−CPI2 [式中、CPI1およびCPI2は、同一または異なり、式Aま
たはB: から選択され、 ここに、WはC1−C5アルキル、フェニルまたは水素から
選択され; ここに、Xはアジド、ハロゲン原子、シアナート、チオ
シアナート、イソシアナート、チオイソチオシアナー
ト、リン酸ジエステル(−PO(OR)2)、ホスホニル
(−O−PO2R)、チオホスホニル(−O−RSOR)、スル
フィニル(−O−SOR)またはスルホニル(−O−SO
2R); ここに、Yは水素、−C(O)R、−C(S)R、−S
(O)OR1、−S(O)2R1、−C(O)NR2R3、−C
(S)NR2R3、または−C(O)NHSO2R4; ここに、ZはC1−C5アルキル、フェニルまたは水素より
なる群から選択され; ここに、Rは、C1−C20アルキル;C2−C6アルケニル;C2
−C6アルキニル;1、2または3個のC1−C4アルキル、C1
−C3アルコキシ、ハロ、C1−C3アルキルチオ、トリフル
オロメチル、C2−C6ジアルキルアミノ、またはニトロに
よって置換されているかまたは置換されていないフェニ
ル;1個または2個のC1−C4アルキル、C1−C3アルコキ
シ、ハロ、トリフルオロメチル、C2−C6ジアルキルアミ
ノ、C1−C3アルキルチオまたはニトロによって置換され
ているかまたは置換されていないナフチルよりなる群か
ら選択され; ここに、R1は、C1−C20アルキルあるいは1、2または
3個のC1−C4アルキル、C1−C3アルコキシ、ハロ、C1−
C3アルキルチオ、トリフルオロメチル、C2−C6ジアルキ
ルアミノ、またはニトロによって置換されているかまた
は置換されていないフェニルから選択され; ここに、R2およびR3は、同一または異なり、水素、C1−
C20アルキル、または1、2または3個のC1−C4アルキ
ル、C1−C3アルコキシ、ハロ、C1−C3アルキルチオ、ト
リフルオロメチル、C2−C6ジアルキルアミノ、またはニ
トロによって置換されているかまたは置換されていない
フェニルから選択され;但し、R2およびR3は共にはフェ
ニルまたは置換フェニルではあり得ず; ここに、R4は、C1−C10アルキル;1、2または3個のC1
−C4アルキル、C1−C3アルコキシ、ハロ、C1−C3アルキ
ルチオ、トリフルオロメチル、C2−C6ジアルキルアミ
ノ、またはニトロによって置換されているかまたは置換
されていないフェニル;1個または2個のC1−C4アルキ
ル、C1−C3アルコキシ、ハロ、トリフルオロメチル、C2
−C6ジアルキルアミノ、C1−C3アルキルチオまたはニト
ロによって置換されているかまたは置換されていないナ
フチルから選択され; ここに、R5およびR'5は、同一または異なり、直接結合
または (式中、X1はH、CH3、OH、OCH3、NO2、NH2、−NHNHC
(O)CH3、−NHC(O)C6H5、またはハロゲン); (式中、X3はH、OHまたはOCH3); (式中、R8はH、CH3またはC2H5); (式中、R'はHまたはCH3S−); (式中、X8は−O−、−S−、NH;X9は−CH=または−
N=); (式中、X9およびX8は前記定義の意味を有し;およびY1
はH、ハロ、C1−C4アルキル、C1−C3−アルコキシ、C2
−C6−ジアルキルアミノ、ニトロ、アミノ−カルボニル
アルキル(C1−C10)、ヒドロキシ、アミノ(−NH2)、
−NHCONH2、−NHCOCH3または−NHC(O)−C6H5); (式中、X8およびY1は前記定義の意味を有する); (式中、X10は−CH=または−N=); (式中、X10は前記定義の意味を有する); (式中、R8は前記定義の意味を有する); (式中、Y1およびX8は前記定義の意味を有する); (式中、Y1、X8およびX9は前記定義の意味を有する); (式中、X10は−CH=または−N=、Y1は前記定義の意
味を有する); (式中、Y1は前記定義の意味を有する); よりなる群から選択されるカルボニルアシル基から選択
され; ここに、Tは、 a)アミノカルボニル(−NHC(O)−); b)カルボニルアミノ(−C(O)NH−); c)カルボニルオキシ(−C(O)O−); d)オキシカルボニル(−OC(O)−); e)式−NR13−T'−NR14−のアミノ−連結基−アミノ (式中、R13およびR14は、同一または異なり、水素、ま
たはC1−C8アルキル、あるいは一緒になる場合はnが2
または3である−(CH2)n−; ここに、T'はカルボニル(−C(O)−)、ジカルボニ
ル(−C(O)C(O)−);nが1〜5である(−C
(O)(CH2)nC(O)−)、Phが1,3−または1,4−フ
ェニレンである(−C(O)PhC(O)−)、または式
−C(O)−het−C(O)−の基よりなる群から選択
される); f)R5およびR'5が共に直接結合である場合、 −C(O)−het−C(O)− (式中、−het−は、1個または2個のC1−C4アルキ
ル、C1−C3アルコキシ、ハロ、C1−C3アルキルチオ、ト
リフルオロメチル、C2−C6ジアルキルアミノ、またはニ
トロで置換されているかまたは置換されていない、酸
素、窒素または硫黄よりなる群から選択される1、2ま
たは3個の異項原子を含有する5〜12員の縮合したモノ
−、ジ−、またはトリサイクリックヘテロアリールを意
味する); よりなる群から選択される] で示される化合物。 - 【請求項2】Wがメチルである請求の範囲第1項記載の
化合物。 - 【請求項3】Xがハロゲンである請求の範囲第1項記載
の化合物。 - 【請求項4】Yが水素または−CORよりなる群から選択
され、ここにRはC1−C10アルキルから選択される請求
の範囲第1項記載の化合物。 - 【請求項5】Zが水素である請求の範囲第1項記載の化
合物。 - 【請求項6】Tがアミド(アミノカルボニル);カルボ
ニルアミノ(−C(O)NH−);または式−NR13−T'−
NR14−(式中、R13およびR14は水素であって、ここに、
T'はカルボニル(−C(O)−)または式−C(O)−
het−C(O)−の基から選択される)のアミノ−連結
基−アミノよりなる群から選択される請求の範囲第1項
記載の化合物。 - 【請求項7】Tが式−NR13−T'−NR14−のアミノ−連結
基−アミノよりなる群から選択され、ここに、R13およ
びR14が水素であって、T'がカルボニル(−C(O)
−)であるかまたは式−C(O)−het−C(O)−の
基から選択され、ここに、−het−がピロール−2,5−ジ
イル、フラン−2,5−ジイル、インドール−2,5−ジイ
ル、ベンゾフラン−2,5−ジイルまたは3,6−ジヒドロベ
ンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−2,7−ジイルから
選択されるヘテロアリールである請求の範囲第1項記載
の化合物。 - 【請求項8】R5およびR'5が2−カルボニルインドール
−5−イル、2−カルボニル−6−ヒドロキシ−7−メ
トキシインドール−5−イル、2−カルボニル−1,2,3,
6−テトラヒドロベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール
−7−イル、2−カルボニル−4−ヒドロキシ−5−メ
トキシ−1,2,3,6−テトラヒドロベンゾ[1,2−b:4,3−
b']ジピロール−7−イルよりなる群から選択される請
求の範囲第1項記載の化合物。 - 【請求項9】CPI1およびCPI2が、同一または異なり、1
−(クロロメチル)−1,6−ジヒドロ−8−メチル−5
−ヒドロキシ−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−
3(2H)−イルおよび4,5,8,8a−テトラヒドロ−7−メ
チル−4−オキソシクロプロパ[c]ピロロ(3,2−
e)インドール−2(1H)−イルである請求の範囲第1
項記載の化合物。 - 【請求項10】[S−(R*,R*)]−6,6'−[カルボ
ニルビス(イミノ−1H−インドール−5,2−ジカルボニ
ル)]ビス[8−(クロロメチル)−3,6,7,8−テトラ
ヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロ
ール−4−オール](化合物1); [7bR−[2(7'bR*,8'aS*),7bR*,8aS*]]−2,2'
−[カルボニルビス(イミノ−1H−インドール−5,2−
ジカルボニル)]ビス[1,2,8,8a−テトラヒドロ−7−
メチル−シクロプロパ(c)ピロロ[3,2−e]インド
ール−4(5H)−オン](化合物2); (R*,S*)−N,N'−ビス[2−[[1−(クロロメチ
ル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベ
ンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]
カルボニル]−1H−インドール−5−イル]−エタンジ
アミド(化合物3); [S−(R*,R*)]−6,6'−(1H−ピロール−2,5−
ジイルジカルボニル)ビス[8−(クロロメチル)−3,
6,7,8−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,
3−b']ジピロール−4−オール](化合物4); [S−(R*,R*)]−6,6'−(2,5−フランジイルジ
カルボニル)ビス[8−(クロロメチル)−3,6,7,8−
テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']
ジピロール−4−オール](化合物5); [S−(R*,R*)]−N,N'−ビス[2−[[1−(ク
ロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−
メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)
−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]−
2,5−フランジカルボキシアミド(化合物6); [S−(R*,R*)]−N,N'−ビス[2−[[1−(ク
ロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−
メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)
−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]−
1H−ピロール−2,5−ジカルボキシアミド(化合物
7); [R−(R*,S*)]−N,N'−ビス[2−[[1−(ク
ロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−
メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)
−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]−
プロパンジアミド(化合物8); [S−(R*,R*)]−6,6'−[カルボニルビス(イミ
ノ−1H−インドール−5,2−ジイルカルボニル)]ビス
[8−(クロロメチル)−3,6,7,8−テトラヒドロ−1
−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−4−
オール・ジアセテート](化合物9); [S−(R*,R*)]−6,6'−(1H−インドール−2,5
−ジイルジカルボニル)ビス[8−(クロロメチル)−
3,6,7,8−テトラヒドロ−1−メチル−ベンゾ[1,2−b:
4,3−b']ジピロール−4−オール](化合物10); [S−(R*,R*)]−N,N'−ビス[2−[[1−(ク
ロロメチル)−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−
メチルベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)
−イル]カルボニル]−1H−インドール−5−イル]−
1H−インドール−2,5−ジカルボキシアミド(化合物1
1); [S−(R*,R*)]−2−[[1−(クロロメチル)
−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]カル
ボニル]−N−[3−[[1−(クロロメチル)−1,6
−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2
−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]カルボニ
ル]−1H−インドール−6−イル]−1H−インドール−
5−カルボキシアミド(化合物12); [S−(R*,R*)]−5−[[1−(クロロメチル)
−1,6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ
[1,2−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]−カ
ルボニル]−N−[2−[[1−(クロロメチル)−1,
6−ジヒドロ−5−ヒドロキシ−8−メチルベンゾ[1,2
−b:4,3−b']ジピロール−3(2H)−イル]カルボニ
ル]−1H−インドール−5−イル]−1H−インドール−
2−カルボキシアミド(化合物13); [S−(R*,R*)]−カルボニルビス[イミノ−1H−
インドール−5,2−ジイルカルボニル[1−(クロロメ
チル)−1,6−ジヒドロ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4,
3−b']ジピロール−3,5(2H)−ジイル]]エステル、
2,2−ジメチルプロパン酸(化合物14); [S−(R*,R*)]−カルボニルビス[イミノ−1H−
インドール−5,2−ジイルカルボニル[1−(クロロメ
チル)−1,6−ジヒドロ−8−メチルベンゾ[1,2−b:4,
3−b']ジピロール−3,5(2H)−ジイル]]エステル、
デカン酸(化合物15) よりなる群から選択される請求の範囲第1項記載の化合
物。 - 【請求項11】[S−(R*,R*)]−6,6'−[カルボ
ニルビス[(7,8−ジヒドロベンゾ[1,2−b:4,3−b']
ジピロール−6,2(3H)−ジイル)カルボニル]]ビス
[8−(クロロメチル)−3,6,7,8−テトラヒドロ−1
−メチル−ベンゾ[1,2−b:4,3−b']ジピロール−4−
オール](化合物16)。
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