JP3372911B2 - 電子ビーム描画装置の鏡筒内洗浄装置 - Google Patents
電子ビーム描画装置の鏡筒内洗浄装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビーム描画装
置において、鏡筒内に設置されているビーム偏向器など
の部品の表面に付着した堆積物をエッチングして除去す
るための鏡筒内洗浄装置に係る。
置において、鏡筒内に設置されているビーム偏向器など
の部品の表面に付着した堆積物をエッチングして除去す
るための鏡筒内洗浄装置に係る。
【０００２】
【従来の技術】電子ビーム描画装置は、長時間継続使用
すると、鏡筒内に設けられている部品、特にビーム偏向
器に堆積物が付着する。この様に付着した堆積物の内、
絶縁性を有するもの（絶縁膜）には帯電が生ずるので、
電子ビームのドリフトの原因となり、描画精度の劣化の
原因となる。
すると、鏡筒内に設けられている部品、特にビーム偏向
器に堆積物が付着する。この様に付着した堆積物の内、
絶縁性を有するもの（絶縁膜）には帯電が生ずるので、
電子ビームのドリフトの原因となり、描画精度の劣化の
原因となる。
【０００３】この様な問題に対処すべく、特開平８−１
３９０１０号公報には、放電管中で洗浄ガス（例えば、
Ｏ２とＣＦ４との混合ガス）にマイクロ波を照射してラ
ジカルを発生させ、ラジカル（遊離基）を含んだエッチ
ングガスを鏡筒内に流して、部品の表面に付着した堆積
物をエッチングして除去する鏡筒内洗浄装置が記載され
ている。
３９０１０号公報には、放電管中で洗浄ガス（例えば、
Ｏ２とＣＦ４との混合ガス）にマイクロ波を照射してラ
ジカルを発生させ、ラジカル（遊離基）を含んだエッチ
ングガスを鏡筒内に流して、部品の表面に付着した堆積
物をエッチングして除去する鏡筒内洗浄装置が記載され
ている。
【０００４】上記の鏡筒内洗浄装置は、描画の際には鏡
筒の内部から遮断する必要があるので、ゲートバルブを
介して鏡筒の側壁に接続されている。そこで、鏡筒内を
洗浄する際には、ゲートバルブの開閉をする必要があ
る。また、マイクロ波によって放電管の中の洗浄ガス内
で放電を起こさせることが比較的困難であるので、放電
の発生を確認する必要があるなど操作が煩雑であった。
また、電子ビーム描画装置では、塵埃による描画不良を
生じさせない様にするため、装置に人が近付くことを極
力避ける必要がある。
筒の内部から遮断する必要があるので、ゲートバルブを
介して鏡筒の側壁に接続されている。そこで、鏡筒内を
洗浄する際には、ゲートバルブの開閉をする必要があ
る。また、マイクロ波によって放電管の中の洗浄ガス内
で放電を起こさせることが比較的困難であるので、放電
の発生を確認する必要があるなど操作が煩雑であった。
また、電子ビーム描画装置では、塵埃による描画不良を
生じさせない様にするため、装置に人が近付くことを極
力避ける必要がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上の様な
ラジカルを含んだエッチングガスを用いた従来の鏡筒内
洗浄装置の問題点に鑑み成されたもので、本発明の目的
は、遠隔操作によって確実に実施することができる電子
ビーム描画装置の鏡筒内洗浄装置を提供することにあ
る。
ラジカルを含んだエッチングガスを用いた従来の鏡筒内
洗浄装置の問題点に鑑み成されたもので、本発明の目的
は、遠隔操作によって確実に実施することができる電子
ビーム描画装置の鏡筒内洗浄装置を提供することにあ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の電子ビーム描画
装置の鏡筒内洗浄装置は、電子ビーム描画装置の鏡筒内
にラジカルを含んだエッチングガスを流して、内部に配
置された部品を洗浄する鏡筒内洗浄装置において、前記
鏡筒の側壁に取り付けられたゲートバルブと、前記ゲー
トバルブを介して先端が前記鏡筒に接続されたガラス製
の放電管と、前記放電管の後端に接続され、洗浄ガスを
前記放電管内に供給する洗浄ガス供給装置と、マイクロ
波発生端子とマッチングタブを有し、これら間のキャビ
ティ内を前記放電管が貫通し、前記放電管内を流れる洗
浄ガス内で放電を起こさせて、ラジカルを発生させるマ
イクロ波発生装置と、前記マイクロ波発生装置に隣接し
て配置され、前記放電管の外から中に向けて、前記マイ
クロ波発生装置よりも強力なマイクロ波のパルスを発射
することによって、前記放電管内で放電を開始させるテ
スラーコイルと、前記放電管内が放電状態にあることを
検出するためのセンサと、前記洗浄ガス供給装置、前記
ゲートバルブ、前記マイクロ波発生装置及び前記テスラ
ーコイルをそれぞれ制御して、前記放電管内での放電の
開始及び終了を行う制御部とを備え、前記制御部は、前
記テスラーコイルの作動から予め定められた時間の経過
後に、前記放電管内が放電状態にあることが前記センサ
によって確認されなかったとき、再び前記テスラーコイ
ルを作動させる様に構成されていることを特徴とする。
装置の鏡筒内洗浄装置は、電子ビーム描画装置の鏡筒内
にラジカルを含んだエッチングガスを流して、内部に配
置された部品を洗浄する鏡筒内洗浄装置において、前記
鏡筒の側壁に取り付けられたゲートバルブと、前記ゲー
トバルブを介して先端が前記鏡筒に接続されたガラス製
の放電管と、前記放電管の後端に接続され、洗浄ガスを
前記放電管内に供給する洗浄ガス供給装置と、マイクロ
波発生端子とマッチングタブを有し、これら間のキャビ
ティ内を前記放電管が貫通し、前記放電管内を流れる洗
浄ガス内で放電を起こさせて、ラジカルを発生させるマ
イクロ波発生装置と、前記マイクロ波発生装置に隣接し
て配置され、前記放電管の外から中に向けて、前記マイ
クロ波発生装置よりも強力なマイクロ波のパルスを発射
することによって、前記放電管内で放電を開始させるテ
スラーコイルと、前記放電管内が放電状態にあることを
検出するためのセンサと、前記洗浄ガス供給装置、前記
ゲートバルブ、前記マイクロ波発生装置及び前記テスラ
ーコイルをそれぞれ制御して、前記放電管内での放電の
開始及び終了を行う制御部とを備え、前記制御部は、前
記テスラーコイルの作動から予め定められた時間の経過
後に、前記放電管内が放電状態にあることが前記センサ
によって確認されなかったとき、再び前記テスラーコイ
ルを作動させる様に構成されていることを特徴とする。
【０００７】本発明の鏡筒内洗浄装置によれば、前記制
御部からの指令に基づき所定のシーケンスに従って、ガ
ス供給装置、ゲートバルブ、マイクロ波発生装置及びテ
スラーコイルを作動させて、自動的に洗浄ガス中で放電
を開始させる。もし、放電が起こらなかった場合にはセ
ンサによってこれを検知し、その結果に基づいて再びテ
スラーコイルを作動させて、放電を開始させる。この様
なテスラーコイルの再作動は、センサによって放電状態
が確認されるまで、所定回数、繰り返し行われる。
御部からの指令に基づき所定のシーケンスに従って、ガ
ス供給装置、ゲートバルブ、マイクロ波発生装置及びテ
スラーコイルを作動させて、自動的に洗浄ガス中で放電
を開始させる。もし、放電が起こらなかった場合にはセ
ンサによってこれを検知し、その結果に基づいて再びテ
スラーコイルを作動させて、放電を開始させる。この様
なテスラーコイルの再作動は、センサによって放電状態
が確認されるまで、所定回数、繰り返し行われる。
【０００８】好ましくは、前記制御部を、テスラーコイ
ルの再作動の回数が、予め設定された上限回数に到達す
るまでに放電状態が確認されなかったときには、ガス供
給装置及びマイクロ波発生装置の作動を停止するととも
に、ゲートバルブを閉じる様に構成する。
ルの再作動の回数が、予め設定された上限回数に到達す
るまでに放電状態が確認されなかったときには、ガス供
給装置及びマイクロ波発生装置の作動を停止するととも
に、ゲートバルブを閉じる様に構成する。
【０００９】好ましくは、前記センサとして光電センサ
を使用するとともに、放電管の中間部の周囲を遮光カバ
ーによって覆い、この遮光カバーの中に前記マイクロ波
発生装置のキャビティ部分及び前記センサを収容する。
を使用するとともに、放電管の中間部の周囲を遮光カバ
ーによって覆い、この遮光カバーの中に前記マイクロ波
発生装置のキャビティ部分及び前記センサを収容する。
【００１０】好ましくは、前記遮光カバーを、その内部
を排気することができる様に構成する。
を排気することができる様に構成する。
【００１１】好ましくは、前記ゲートバルブを、フラン
ジを介して鏡筒の側壁に取り付け、前記放電管及び前記
ゲートバルブを、それぞれの軸が一直線上に並ぶ様に配
置する。この様に構成することによって、前記マイクロ
波発生装置によって洗浄ガス内に生成されたラジカル
を、効率良く鏡筒内へ送り込むことができる。
ジを介して鏡筒の側壁に取り付け、前記放電管及び前記
ゲートバルブを、それぞれの軸が一直線上に並ぶ様に配
置する。この様に構成することによって、前記マイクロ
波発生装置によって洗浄ガス内に生成されたラジカル
を、効率良く鏡筒内へ送り込むことができる。
【００１２】好ましくは、前記マイクロ波発生装置及び
前記テスラーコイルを、電気絶縁材製のベースプレート
によって支持し、このベースプレートを鏡筒に固定す
る。この様に構成することによって、前記マイクロ波発
生装置及び前記テスラーコイルが、電子ビーム描画装置
本体に対して電気的あるいは磁気的ノイズを与えること
を防止することができる。
前記テスラーコイルを、電気絶縁材製のベースプレート
によって支持し、このベースプレートを鏡筒に固定す
る。この様に構成することによって、前記マイクロ波発
生装置及び前記テスラーコイルが、電子ビーム描画装置
本体に対して電気的あるいは磁気的ノイズを与えること
を防止することができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明に基づく鏡筒内洗浄
装置の一例について、図面を用いて説明する。
装置の一例について、図面を用いて説明する。
【００１４】図１に、本発明に基づく鏡筒内洗浄装置が
取り付けられた電子ビーム描画装置の概略構成を示す。
図中、１０は電子ビーム描画装置の鏡筒部分であり、そ
の中に、電子ビーム発生部１１、各種電子レンズ１２、
１３、１４、１５、可変成形ビーム用の第一アパーチャ
１６及び第二アパーチャ１７、ビーム成形用偏向器１８
ａ、１８ｂ、ビーム位置制御用偏向器１９などが配置さ
れている。鏡筒１０の下部には描画室２０が設けられ、
その内部にＸＹステージ２２が設けられている。被描画
材２１は、ＸＹステージ２２の上に保持される。本発明
の鏡筒内洗浄装置３０は、鏡筒１０の第一アパーチャ１
６と電子レンズ１３の間に該当する位置で、ゲートバル
ブ３４を介して鏡筒１０に取り付けられている。
取り付けられた電子ビーム描画装置の概略構成を示す。
図中、１０は電子ビーム描画装置の鏡筒部分であり、そ
の中に、電子ビーム発生部１１、各種電子レンズ１２、
１３、１４、１５、可変成形ビーム用の第一アパーチャ
１６及び第二アパーチャ１７、ビーム成形用偏向器１８
ａ、１８ｂ、ビーム位置制御用偏向器１９などが配置さ
れている。鏡筒１０の下部には描画室２０が設けられ、
その内部にＸＹステージ２２が設けられている。被描画
材２１は、ＸＹステージ２２の上に保持される。本発明
の鏡筒内洗浄装置３０は、鏡筒１０の第一アパーチャ１
６と電子レンズ１３の間に該当する位置で、ゲートバル
ブ３４を介して鏡筒１０に取り付けられている。
【００１５】この電子ビーム描画装置では、電子ビーム
発生部１１から発射された電子ビームを、電子レンズ１
２によって第一アパーチャ１６上で焦点を結ばせて、所
定の断面形状の電子ビームとする。これを電子レンズ１
３、１４によって第二アパーチャ１７上で焦点を結ばせ
るとともに、ビーム成形用偏向器１８ａ、１８ｂによっ
て偏向させて、所望の断面形状の電子ビームとする。こ
れを電子レンズ１５によって被描画材２１上で焦点を結
ばせるとともに、ビーム位置制御用偏向器１９によって
電子ビームを被描画材２１上に導いて、被描画材２１上
に所定のパターンを描画する。
発生部１１から発射された電子ビームを、電子レンズ１
２によって第一アパーチャ１６上で焦点を結ばせて、所
定の断面形状の電子ビームとする。これを電子レンズ１
３、１４によって第二アパーチャ１７上で焦点を結ばせ
るとともに、ビーム成形用偏向器１８ａ、１８ｂによっ
て偏向させて、所望の断面形状の電子ビームとする。こ
れを電子レンズ１５によって被描画材２１上で焦点を結
ばせるとともに、ビーム位置制御用偏向器１９によって
電子ビームを被描画材２１上に導いて、被描画材２１上
に所定のパターンを描画する。
【００１６】なお、電子ビーム描画装置の本体部分の構
成自体は、本発明の主題ではないので、公知の種々の形
態でも良く、このため、概要のみを示して詳細な説明は
省略する。
成自体は、本発明の主題ではないので、公知の種々の形
態でも良く、このため、概要のみを示して詳細な説明は
省略する。
【００１７】図２に、鏡筒内洗浄装置３０の主要部の軸
方向断面図を示す。鏡筒内洗浄装置３０は、ゲートバル
ブ３４、放電管４０、洗浄ガス供給装置４５、マイクロ
波発生装置４８、テスラーコイル４９及び光電センサ５
０（センサ）などから構成される。
方向断面図を示す。鏡筒内洗浄装置３０は、ゲートバル
ブ３４、放電管４０、洗浄ガス供給装置４５、マイクロ
波発生装置４８、テスラーコイル４９及び光電センサ５
０（センサ）などから構成される。
【００１８】鏡筒１０の側壁には、フランジ３１がボル
ト３２によって固定されている。このフランジ３１の背
面（図２において左側面）には、ゲートバルブ３４がボ
ルト３３によって固定されている。フランジ３１の背面
には、更に、ブラケット５６を介して電気絶縁材製（例
えば、塩化ビニールの様な樹脂製）のベースプレート５
５が取り付けられている。
ト３２によって固定されている。このフランジ３１の背
面（図２において左側面）には、ゲートバルブ３４がボ
ルト３３によって固定されている。フランジ３１の背面
には、更に、ブラケット５６を介して電気絶縁材製（例
えば、塩化ビニールの様な樹脂製）のベースプレート５
５が取り付けられている。
【００１９】ゲートバルブ３４は、フランジ３１を介し
て鏡筒１０に取り付けられている。フランジ３１は、そ
の中央に、前後に貫通する孔３５を有している。この孔
３５は、ゲートバルブ３４の出口側の通孔３６に対して
一直線上で連通し、孔３５の鏡筒１０側には、ガス導入
用のノズル３７が取り付けられている。ゲートバルブ３
４は、圧空式で、空圧シリンダ（図示せず）によって自
動的に開閉される。
て鏡筒１０に取り付けられている。フランジ３１は、そ
の中央に、前後に貫通する孔３５を有している。この孔
３５は、ゲートバルブ３４の出口側の通孔３６に対して
一直線上で連通し、孔３５の鏡筒１０側には、ガス導入
用のノズル３７が取り付けられている。ゲートバルブ３
４は、圧空式で、空圧シリンダ（図示せず）によって自
動的に開閉される。
【００２０】ゲートバルブ３４の入口側の通孔３８に
は、石英ガラス製の放電管４０の先端部が、継手３９を
介して気密に取り付けられている。放電管４０は、上記
通孔３８に対して一直線上で連通する様に配置されてい
る。
は、石英ガラス製の放電管４０の先端部が、継手３９を
介して気密に取り付けられている。放電管４０は、上記
通孔３８に対して一直線上で連通する様に配置されてい
る。
【００２１】放電管４０の後端には、洗浄ガス供給装置
４５が、継手４３及び管継手４４を介して気密に接続さ
れている。継手４３は、ブラケット５７を介して、ベー
スプレート５５の先端部分（図２では左端）の上に支持
されている。
４５が、継手４３及び管継手４４を介して気密に接続さ
れている。継手４３は、ブラケット５７を介して、ベー
スプレート５５の先端部分（図２では左端）の上に支持
されている。
【００２２】ベースプレート５５の中央付近には、取付
台４６を介して遮光カバー４７が取り付けられている。
遮光カバー４７は、放電管４０の中間部分の周囲を覆う
様に設けられている。この遮光カバー４７の中に、マイ
クロ波発生装置４８のキャビティ部分が収容されてい
る。マイクロ波発生装置４８は、互いに対を成すマイク
ロ波発生端子４８ａ及び調整用のマッチングタブ４８ｂ
を有し、これらの間に形成されたキャビティ（共振空
洞）内を放電管４０が貫通している。更に、遮光カバー
４７の中には、放電管４０内での放電の有無を検出する
ための光電センサ５０が収容されている。遮光カバー４
７には、マイクロ波によって発生するオゾンガスなどを
排気するためのパイプ４７ａが接続されている。
台４６を介して遮光カバー４７が取り付けられている。
遮光カバー４７は、放電管４０の中間部分の周囲を覆う
様に設けられている。この遮光カバー４７の中に、マイ
クロ波発生装置４８のキャビティ部分が収容されてい
る。マイクロ波発生装置４８は、互いに対を成すマイク
ロ波発生端子４８ａ及び調整用のマッチングタブ４８ｂ
を有し、これらの間に形成されたキャビティ（共振空
洞）内を放電管４０が貫通している。更に、遮光カバー
４７の中には、放電管４０内での放電の有無を検出する
ための光電センサ５０が収容されている。遮光カバー４
７には、マイクロ波によって発生するオゾンガスなどを
排気するためのパイプ４７ａが接続されている。
【００２３】更に、遮光カバー４７に隣接して、放電管
４０に沿ってマイクロ波発生装置４８よりも上流側に、
テスラーコイル４９が配置されている。このテスラーコ
イル４９もベースプレート５５上に支持されている。
４０に沿ってマイクロ波発生装置４８よりも上流側に、
テスラーコイル４９が配置されている。このテスラーコ
イル４９もベースプレート５５上に支持されている。
【００２４】図３に、図２のＡ−Ａ断面図を示す。テス
ラーコイル４９は、図３に示す様に、その端子４９ａの
先端が放電管４０の中心軸に向けられ、マイクロ波発生
装置４８よりも強力なマイクロ波のパルスを発射して、
放電管４０内で放電を開始させる様になっている。遮光
カバー４７の中には、先に述べた様に、光電センサ５０
が収容されている。
ラーコイル４９は、図３に示す様に、その端子４９ａの
先端が放電管４０の中心軸に向けられ、マイクロ波発生
装置４８よりも強力なマイクロ波のパルスを発射して、
放電管４０内で放電を開始させる様になっている。遮光
カバー４７の中には、先に述べた様に、光電センサ５０
が収容されている。
【００２５】図４に、鏡筒内洗浄装置の制御ブロック図
を示す。洗浄ガス供給装置４５、ゲートバルブ３４、マ
イクロ波発生装置４８及びテスラーコイル４９は、制御
部６２からの指令に従って制御される。制御部６２は、
操作部６１からの洗浄開始の信号を受けて、所定のシー
ケンスに従って上記各装置を作動させ、放電管４０内で
の放電を開始させるとともに、鏡筒１０内へラジカルを
含んだエッチングガスを供給する。同様に、制御部６２
は、操作部６１からの洗浄終了の信号を受けて、放電管
４０内での放電を停止させるとともに、鏡筒１０内へ洗
浄ガスの供給を停止する。また、後述する様に、放電管
４０内で放電が起こらなかった場合には、制御部６２
は、光電センサ５０からの検出信号を受けてテスラーコ
イル４９の作動を制御することにより、放電開始動作を
繰り返す。
を示す。洗浄ガス供給装置４５、ゲートバルブ３４、マ
イクロ波発生装置４８及びテスラーコイル４９は、制御
部６２からの指令に従って制御される。制御部６２は、
操作部６１からの洗浄開始の信号を受けて、所定のシー
ケンスに従って上記各装置を作動させ、放電管４０内で
の放電を開始させるとともに、鏡筒１０内へラジカルを
含んだエッチングガスを供給する。同様に、制御部６２
は、操作部６１からの洗浄終了の信号を受けて、放電管
４０内での放電を停止させるとともに、鏡筒１０内へ洗
浄ガスの供給を停止する。また、後述する様に、放電管
４０内で放電が起こらなかった場合には、制御部６２
は、光電センサ５０からの検出信号を受けてテスラーコ
イル４９の作動を制御することにより、放電開始動作を
繰り返す。
【００２６】図５に、制御部６２による制御のフローチ
ャートを示す。なお、（ａ）は洗浄開始のフロー、
（ｂ）は洗浄終了のフローである。
ャートを示す。なお、（ａ）は洗浄開始のフロー、
（ｂ）は洗浄終了のフローである。
【００２７】累計描画時間や電子ビームのドリフト量か
ら、鏡筒内の洗浄が必要と判断されたとき、描画作業を
中断し、操作部６１（図４）から制御部６２へ洗浄開始
の指令信号を与える。制御部６２は、この指令信号を受
けて、図５（ａ）に示す洗浄開始フローを実行し、洗浄
ガス供給装置４５、ゲートバルブ３４、マイクロ波発生
装置４８及びテスラーコイル４９を作動させる。
ら、鏡筒内の洗浄が必要と判断されたとき、描画作業を
中断し、操作部６１（図４）から制御部６２へ洗浄開始
の指令信号を与える。制御部６２は、この指令信号を受
けて、図５（ａ）に示す洗浄開始フローを実行し、洗浄
ガス供給装置４５、ゲートバルブ３４、マイクロ波発生
装置４８及びテスラーコイル４９を作動させる。
【００２８】即ち、先ず、洗浄ガス供給装置４５から洗
浄ガスの供給を開始する（ステップＳＴ１）。次いで、
ゲートバルブ３４を開く（ステップＳＴ２）。これによ
り、洗浄ガス（例えば、Ｏ２とＣＦ４の混合ガス）が、
洗浄ガス供給装置４５から放電管４０、ゲートバルブ３
４及びノズル３７を順に通って、鏡筒１０内へ送り込ま
れる。
浄ガスの供給を開始する（ステップＳＴ１）。次いで、
ゲートバルブ３４を開く（ステップＳＴ２）。これによ
り、洗浄ガス（例えば、Ｏ２とＣＦ４の混合ガス）が、
洗浄ガス供給装置４５から放電管４０、ゲートバルブ３
４及びノズル３７を順に通って、鏡筒１０内へ送り込ま
れる。
【００２９】この状態で、マイクロ波発生装置４８を作
動させる（ステップＳＴ３）。なお、このマイクロ波発
生装置４８の作動のみでは、放電管４０内で放電は起こ
らない。次のステップで（ステップＳＴ４）、テスラー
コイル４９を作動させることによって放電が起こり、そ
の後は、マイクロ波発生装置４８によって放電状態が維
持される。このマイクロ波発生装置４８による放電状態
は、光電センサ５０によって検出される。しかしなが
ら、テスラーコイル４９による放電の開始、あるいはこ
れに続くマイクロ波発生装置４８による放電状態の維持
に失敗することがある。このため、テスラーコイル４９
の作動後、２〜３秒待機した後（ステップＳＴ５）、光
電センサ５０を用いて放電管５０内での放電状態を確認
する。
動させる（ステップＳＴ３）。なお、このマイクロ波発
生装置４８の作動のみでは、放電管４０内で放電は起こ
らない。次のステップで（ステップＳＴ４）、テスラー
コイル４９を作動させることによって放電が起こり、そ
の後は、マイクロ波発生装置４８によって放電状態が維
持される。このマイクロ波発生装置４８による放電状態
は、光電センサ５０によって検出される。しかしなが
ら、テスラーコイル４９による放電の開始、あるいはこ
れに続くマイクロ波発生装置４８による放電状態の維持
に失敗することがある。このため、テスラーコイル４９
の作動後、２〜３秒待機した後（ステップＳＴ５）、光
電センサ５０を用いて放電管５０内での放電状態を確認
する。
【００３０】その結果、放電管５０内で放電状態が維持
されていない場合には、ステップＳＴ４に戻り、再び、
テスラーコイル４９を作動させて、放電を開始させる。
この様なテスラーコイル４９の再作動の動作は、光電セ
ンサ５０によって放電状態が確認されるまで繰り返し行
われる。
されていない場合には、ステップＳＴ４に戻り、再び、
テスラーコイル４９を作動させて、放電を開始させる。
この様なテスラーコイル４９の再作動の動作は、光電セ
ンサ５０によって放電状態が確認されるまで繰り返し行
われる。
【００３１】なお、予め設定された所定の回数、テスラ
ーコイル４９を再作動させても、放電が確認されない場
合には、放電管４０の破損など装置が故障している可能
性があるので、マイクロ波発生装置４８及び洗浄ガス供
給装置４５の作動を停止するとともに、ゲートバルブ３
４を閉じる。一方、ステップＳＴ６で放電状態が確認さ
れた場合には、ラジカル生成開始を表示して（ステップ
ＳＴ７）、洗浄開始フローを終了する。
ーコイル４９を再作動させても、放電が確認されない場
合には、放電管４０の破損など装置が故障している可能
性があるので、マイクロ波発生装置４８及び洗浄ガス供
給装置４５の作動を停止するとともに、ゲートバルブ３
４を閉じる。一方、ステップＳＴ６で放電状態が確認さ
れた場合には、ラジカル生成開始を表示して（ステップ
ＳＴ７）、洗浄開始フローを終了する。
【００３２】放電管４０内における洗浄ガス中での放電
によって、洗浄ガス中にラジカルが生成され、ラジカル
を含んだエッチングガスが、ゲートバルブ３４及びフラ
ンジ３１を通ってノズル３７から鏡筒１０内へ供給され
る。ラジカルを含んだエッチングガスは、ビーム成形用
偏向器１８ａ、１８ｂ（図１）などの部品に沿って流
れ、それらの表面に堆積している絶縁膜などをエッチン
グした後、排気口２５（図１）を介して排出される。
によって、洗浄ガス中にラジカルが生成され、ラジカル
を含んだエッチングガスが、ゲートバルブ３４及びフラ
ンジ３１を通ってノズル３７から鏡筒１０内へ供給され
る。ラジカルを含んだエッチングガスは、ビーム成形用
偏向器１８ａ、１８ｂ（図１）などの部品に沿って流
れ、それらの表面に堆積している絶縁膜などをエッチン
グした後、排気口２５（図１）を介して排出される。
【００３３】このとき、ラジカルの発生位置、即ち、マ
イクロ波発生装置４８のキャビティを貫通する放電管４
０の内部（放電位置）は、ゲートバルブ３４及びフラン
ジ３１のみの短く且つ直線状の経路を介して、鏡筒１０
に接続されているので、生成されたラジカルの失活が少
なく、ラジカルの密度が高い洗浄ガスが鏡筒１０内へ供
給される。
イクロ波発生装置４８のキャビティを貫通する放電管４
０の内部（放電位置）は、ゲートバルブ３４及びフラン
ジ３１のみの短く且つ直線状の経路を介して、鏡筒１０
に接続されているので、生成されたラジカルの失活が少
なく、ラジカルの密度が高い洗浄ガスが鏡筒１０内へ供
給される。
【００３４】この様にして、鏡筒１０（図１）内の洗浄
工程が終了した後、操作部６１（図４）から制御部６２
へ洗浄終了の指令信号を与える。制御部６２は、この指
令信号を受けて、図５（ｂ）に示す洗浄終了フローを実
行する。即ち、操作部６１からの洗浄終了の指令信号を
受けて、マイクロ波発生装置４８を停止し（ステップＳ
Ｔ１１）、次いで、洗浄ガス供給装置４５からの洗浄ガ
スの供給を停止するとともに（ステップＳＴ１２）、ゲ
ートバルブ３４を閉じる（ステップＳＴ１３）。
工程が終了した後、操作部６１（図４）から制御部６２
へ洗浄終了の指令信号を与える。制御部６２は、この指
令信号を受けて、図５（ｂ）に示す洗浄終了フローを実
行する。即ち、操作部６１からの洗浄終了の指令信号を
受けて、マイクロ波発生装置４８を停止し（ステップＳ
Ｔ１１）、次いで、洗浄ガス供給装置４５からの洗浄ガ
スの供給を停止するとともに（ステップＳＴ１２）、ゲ
ートバルブ３４を閉じる（ステップＳＴ１３）。
【００３５】なお、この洗浄終了フローは、図５（ａ）
に示したステップＳＴ７からの経過時間や、排気口２５
（図１）から排出されるガスの分析データなどに基づい
て自動的に実行させる様にしてもよい。
に示したステップＳＴ７からの経過時間や、排気口２５
（図１）から排出されるガスの分析データなどに基づい
て自動的に実行させる様にしてもよい。
【００３６】以上の鏡筒内の洗浄作業自体は、描画を停
止させて行うので、描画精度に悪影響を及ぼすことはな
い。但し、マイクロ波発生装置４８及びテスラーコイル
４９はいずれも接地され、鏡筒１０も接地されているの
で（図示せず）、仮に、マイクロ波発生装置４８及びテ
スラーコイル４９を鏡筒１０に対して電気的に絶縁して
おかないと、これらを結ぶ電気回路が構成され、マイク
ロ波発生装置４８及びテスラーコイル４９の非作動時に
も、電子ビーム描画装置本体に電気的または磁気的ノイ
ズを与えるおそれがある。このため、図２に示した例で
は、マイクロ波発生装置４８及びテスラーコイル４９
を、電気絶縁材製（例えば、塩化ビニール）のベースプ
レート５５の上に支持し、このベースプレート５５をブ
ラケット５６を介して鏡筒１０に取り付けている。従っ
て、マイクロ波発生装置４８及びテスラーコイル４９
が、電子ビーム描画装置本体に電気的または磁気的ノイ
ズを与えるおそれはない。
止させて行うので、描画精度に悪影響を及ぼすことはな
い。但し、マイクロ波発生装置４８及びテスラーコイル
４９はいずれも接地され、鏡筒１０も接地されているの
で（図示せず）、仮に、マイクロ波発生装置４８及びテ
スラーコイル４９を鏡筒１０に対して電気的に絶縁して
おかないと、これらを結ぶ電気回路が構成され、マイク
ロ波発生装置４８及びテスラーコイル４９の非作動時に
も、電子ビーム描画装置本体に電気的または磁気的ノイ
ズを与えるおそれがある。このため、図２に示した例で
は、マイクロ波発生装置４８及びテスラーコイル４９
を、電気絶縁材製（例えば、塩化ビニール）のベースプ
レート５５の上に支持し、このベースプレート５５をブ
ラケット５６を介して鏡筒１０に取り付けている。従っ
て、マイクロ波発生装置４８及びテスラーコイル４９
が、電子ビーム描画装置本体に電気的または磁気的ノイ
ズを与えるおそれはない。
【００３７】
【発明の効果】本発明の鏡筒内洗浄装置によれば、ラジ
カルを含んだエッチングガスによる鏡筒内の洗浄作業
を、遠隔操作によって確実に実施することができる。
カルを含んだエッチングガスによる鏡筒内の洗浄作業
を、遠隔操作によって確実に実施することができる。
【図１】本発明に基づく鏡筒内洗浄装置が取り付けられ
た電子ビーム描画装置の構成を示す概略図。
た電子ビーム描画装置の構成を示す概略図。
【図２】本発明に基づく鏡筒内洗浄装置の主要部の構成
を示す詳細図。
を示す詳細図。
【図３】図２のＡ−Ａ断面図。
【図４】本発明に基づく鏡筒内洗浄装置の制御ブロック
図。
図。
【図５】本発明に基づく鏡筒内洗浄装置の制御フローチ
ャートであって、（ａ）は洗浄開始のフロー、（ｂ）は
洗浄終了のフローである。
ャートであって、（ａ）は洗浄開始のフロー、（ｂ）は
洗浄終了のフローである。
１０・・・鏡筒、
１１・・・電子ビーム発生部、
１２，１３，１４，１５・・・電子レンズ、
１６・・・第一アパーチャ、
１７・・・第二アパーチャ、
１８ａ、１８ｂ・・・ビーム成形用偏向器、
１９・・・ビーム位置制御用偏向器、
２０・・・描画室、
２１・・・被描画材、
２２・・・ＸＹステージ、
２５・・・排気口、
３０・・・鏡筒内洗浄装置、
３１・・・フランジ、
３４・・・ゲートバルブ、
３７・・・ノズル、
３９・・・継手部、
４０・・・放電管、
４３・・・継手、
４４・・・管継手、
４５・・・ガス供給装置、
４６・・・取付台、
４７・・・遮光カバー、
４７ａ・・・（排気用の）パイプ、
４８・・・マイクロ波発生装置、
４８ａ・・・マイクロ波発生端子、
４８ｂ・・・マッチングタブ、
４９・・・テスラーコイル、
５０・・・光電センサ（センサ）、
５５・・・ベースプレート、
５６・・・ブラケット、
５７・・・ブラケット、
６１・・・操作部、
６２・・・制御部。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
Ｈ０１Ｌ 21/30 ５４１Ｇ
Claims (6)
- 【請求項１】 電子ビーム描画装置の鏡筒内にラジカル
を含んだエッチングガスを流して、内部に配置された部
品を洗浄する鏡筒内洗浄装置において、 前記鏡筒の側壁に取り付けられたゲートバルブと、 前記ゲートバルブを介して先端が前記鏡筒に接続された
ガラス製の放電管と、 前記放電管の後端に接続され、洗浄ガスを前記放電管内
に供給する洗浄ガス供給装置と、 マイクロ波発生端子とマッチングタブを有し、これら間
のキャビティ内を前記放電管が貫通し、前記放電管内を
流れる洗浄ガス内で放電を起こさせて、ラジカルを発生
させるマイクロ波発生装置と、 前記マイクロ波発生装置に隣接して配置され、前記放電
管の外から中に向けて、前記マイクロ波発生装置よりも
強力なマイクロ波のパルスを発射することによって、前
記放電管内で放電を開始させるテスラーコイルと、 前記放電管内が放電状態にあることを検出するためのセ
ンサと、 前記洗浄ガス供給装置、前記ゲートバルブ、前記マイク
ロ波発生装置及び前記テスラーコイルをそれぞれ制御し
て、前記放電管内での放電の開始及び終了を行う制御部
とを備え、 前記制御部は、前記テスラーコイルの作動から予め定め
られた時間の経過後に、前記放電管内が放電状態にある
ことが前記センサによって確認されなかったとき、再び
前記テスラーコイルを作動させる様に構成されているこ
とを特徴とする電子ビーム描画装置の鏡筒内洗浄装置。 - 【請求項２】 前記制御部は、前記テスラーコイルの再
作動の回数が、予め設定された上限回数に到達するまで
に放電状態が確認されなかったとき、前記洗浄ガス供給
装置及び前記マイクロ波発生装置の作動を停止するとと
もに、前記ゲートバルブを閉じる様に構成されているこ
とを特徴とする請求項１記載の電子ビーム描画装置の鏡
筒内洗浄装置。 - 【請求項３】 前記センサは光電センサであって、 前記放電管の中間部の周囲は遮光カバーによって覆わ
れ、この遮光カバーの中に前記マイクロ波発生装置のキ
ャビティ部分及び前記センサが収容されていることを特
徴とする請求項１に記載の電子ビーム描画装置の鏡筒内
洗浄装置。 - 【請求項４】 前記遮光カバーは、内部を排気可能に構
成されていることを特徴とする請求項３に記載の電子ビ
ーム描画装置の鏡筒内洗浄装置。 - 【請求項５】 前記ゲートバルブは、フランジを介して
鏡筒の側壁に取り付けられ、 前記放電管及び前記ゲートバルブは、それぞれの軸が一
直線上に並ぶ様に配置されていることを特徴とする請求
項１に記載の電子ビーム描画装置の鏡筒内洗浄装置。 - 【請求項６】 前記マイクロ波発生装置及び前記テスラ
ーコイルは、電気絶縁材製のベースプレートによって支
持され、このベースプレートを介して鏡筒に取り付けら
れていることを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム
描画装置の鏡筒内洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29398599A JP3372911B2 (ja) | 1999-10-15 | 1999-10-15 | 電子ビーム描画装置の鏡筒内洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29398599A JP3372911B2 (ja) | 1999-10-15 | 1999-10-15 | 電子ビーム描画装置の鏡筒内洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001118767A JP2001118767A (ja) | 2001-04-27 |
| JP3372911B2 true JP3372911B2 (ja) | 2003-02-04 |
Family
ID=17801767
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29398599A Expired - Lifetime JP3372911B2 (ja) | 1999-10-15 | 1999-10-15 | 電子ビーム描画装置の鏡筒内洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3372911B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7465943B2 (en) * | 2005-12-08 | 2008-12-16 | Asml Netherlands B.V. | Controlling the flow through the collector during cleaning |
| JP4945698B1 (ja) * | 2010-12-28 | 2012-06-06 | 株式会社Ｐａｒａｍ | 電子ビーム装置 |
| CN114392985B (zh) * | 2022-01-19 | 2023-10-10 | 南京理工大学 | 一种利用特斯拉线圈清理三维原子探针近局域电极的方法 |
| CN115208227B (zh) * | 2022-07-26 | 2025-01-07 | 山东大学 | 适用于电离层卫星载荷的高压发生电路、清洁系统和方法 |
-
1999
- 1999-10-15 JP JP29398599A patent/JP3372911B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2001118767A (ja) | 2001-04-27 |
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