JP3213236U - Vacuum drying equipment - Google Patents
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Abstract
【課題】漏電を生じ難くすることができ、乾燥効率を向上させることができる真空乾燥装置を提供する。【解決手段】真空乾燥装置100は、ガス供給装置1と、真空乾燥室4と、第一パイプライン10を介してガス供給装置1に接続されたルーツポンプ2と、第二パイプライン20を介してルーツポンプ2に接続された温度制御装置3と、第三パイプライン30を介して温度制御装置3に接続された粗引ポンプ5と、温度制御装置3に第三パイプライン30と第六パイプライン60を介して接続され、かつ第三パイプライン30と第六パイプライン60と粗引ポンプ5と第七パイプライン70を介して接続される真空乾燥室4と、を備える。乾燥させたい部品は、各々のパイプラインに設けられたバルブの開閉により循環する40℃以上のヘリウムガスによって、真空乾燥室4内で乾かされる。【選択図】図1Disclosed is a vacuum drying apparatus which can prevent electric leakage and can improve drying efficiency. A vacuum drying apparatus (100) includes a gas supply device (1), a vacuum drying chamber (4), a roots pump (2) connected to the gas supply device (1) via a first pipeline (10), and a second pipeline (20). The temperature control device 3 connected to the roots pump 2, the roughing pump 5 connected to the temperature control device 3 through the third pipeline 30, and the third pipeline 30 and the sixth pipe to the temperature control device 3. The vacuum drying chamber 4 is connected via the line 60 and connected via the third pipeline 30, the sixth pipeline 60, the roughing pump 5, and the seventh pipeline 70. The parts to be dried are dried in the vacuum drying chamber 4 by a helium gas of 40 ° C. or higher which is circulated by opening and closing valves provided in each pipeline. [Selection] Figure 1
Description
本考案は、製品を乾燥させる乾燥装置の技術分野に関するものであり、具体的には、真空乾燥装置の技術分野に関する。 The present invention relates to a technical field of a drying apparatus for drying a product, and specifically relates to a technical field of a vacuum drying apparatus.
従来の多くの真空乾燥装置の構成として、以下のものが知られている。特許文献1には、真空乾燥室内に抵抗加熱ヒーターが設けられ、抵抗加熱ヒーターに通電することにより発生した熱により真空乾燥室内で部品を加熱して乾燥する真空乾燥装置が開示されている。 As the configuration of many conventional vacuum drying apparatuses, the following are known. Patent Document 1 discloses a vacuum drying apparatus in which a resistance heater is provided in a vacuum drying chamber, and the components are heated and dried in the vacuum drying chamber by heat generated by energizing the resistance heater.
また、特許文献2には、真空乾燥室内の温度を上昇させるために、赤外線ヒーターを用いて赤外線を部品に照射する真空乾燥装置が開示されている。
特許文献1に記載された真空乾燥装置では、抵抗加熱ヒーターに印加する電圧を低くする必要が有り、所定の電力を得るためには、大きな電流が必要となる。そして、部品を乾燥する過程で、部品の表面の水分は、加熱時間の経過につれて真空乾燥室内に蒸発する。その水蒸気が抵抗加熱ヒーターに接触すると、漏電が生じ易く、リスクがある。 In the vacuum drying apparatus described in Patent Document 1, it is necessary to lower the voltage applied to the resistance heater, and a large current is required to obtain predetermined power. In the process of drying the component, the moisture on the surface of the component evaporates in the vacuum drying chamber as the heating time elapses. When the water vapor comes into contact with the resistance heater, electric leakage is likely to occur and there is a risk.
特許文献2に記載された真空乾燥装置では、赤外線が当たる部位の温度は効率良く上昇するが、赤外線が当たり難い部位の温度は効率良く上昇しない。したがって、部品の部分ごとの乾燥効率にムラがあり、部品全体の乾燥効率が悪い。また、仮に真空乾燥室の外壁にヒーターを取り付けて壁面の輻射熱により加熱する方法を用いるとした場合でも、真空乾燥室の材料は、通常は普通鋼、又は、ステンレス鋼で製造されるため、壁の内面の温度上昇の効率が悪く、部品の乾燥効率が悪い。
In the vacuum drying apparatus described in
本考案は、上記実情に鑑み、漏電を生じ難くすることができ、乾燥効率を向上させることができる真空乾燥装置を提供することを目的とする。 In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a vacuum drying apparatus that can prevent electric leakage and can improve drying efficiency.
上記目的を達成するために、本考案に係る真空乾燥装置は、
ガス供給装置と、
減圧された真空乾燥室であって、前記ガス供給装置から供給されるガスを受け入れて、圧縮加熱された前記ガスにより内部のものを乾燥させる真空乾燥室と、
第一パイプラインを介して前記ガス供給装置に接続されたルーツポンプと、
前記第一パイプラインに設けられ、前記ルーツポンプに向かう方向に順に配置された第一バルブ、流量調整バルブ及び第一真空計と、
第二パイプラインを介して前記ルーツポンプに接続された温度制御装置と、
第三パイプラインを介して前記温度制御装置に接続された粗引ポンプと、
前記第三パイプラインに設けられ、前記粗引ポンプに向かう方向に順に配置された第二バルブ及び第三バルブと、
前記第一パイプラインの前記第一バルブと前記流量調整バルブとの間に一端部が接続され、かつ前記真空乾燥室に他端部が接続された第四パイプラインと、
前記第四パイプラインに設けられた第四バルブと、
前記第四パイプラインにおける前記第四バルブの前に一端部が接続され、かつ前記第三パイプラインにおける前記第二バルブと前記温度制御装置との間に他端部が接続された第五パイプラインと、
前記第五パイプラインに設けられた第五バルブと、
前記第三パイプラインにおける前記第二バルブと前記第三バルブとの間に一端部が接続され、かつ前記真空乾燥室に他端部が接続された第六パイプラインと、
前記第六パイプラインに設けられた第六バルブと、
を備え、
前記真空乾燥室は、室内に乾燥ボックスを有し、前記乾燥ボックスの壁に排気孔を有し、
前記真空乾燥室には、真空解除バルブが設けられ、
前記第四パイプラインは、前記真空乾燥室の内部の前記乾燥ボックスと連通し、
前記真空乾燥室の外壁にさらに中間層が設けられ、
前記粗引ポンプは、第七パイプラインを介して前記中間層に接続されている、
ことを特徴とする。
In order to achieve the above object, a vacuum drying apparatus according to the present invention comprises:
A gas supply device;
A vacuum drying chamber having a reduced pressure, receiving a gas supplied from the gas supply device, and drying the inside by the compressed and heated gas; and
A roots pump connected to the gas supply device via a first pipeline;
A first valve provided in the first pipeline, and arranged in order in a direction toward the roots pump, a flow rate adjustment valve, and a first vacuum gauge;
A temperature control device connected to the roots pump via a second pipeline;
A roughing pump connected to the temperature controller via a third pipeline;
A second valve and a third valve provided in the third pipeline and arranged in order in a direction toward the roughing pump;
A fourth pipeline having one end connected between the first valve of the first pipeline and the flow rate adjustment valve, and the other end connected to the vacuum drying chamber;
A fourth valve provided in the fourth pipeline;
A fifth pipeline having one end connected in front of the fourth valve in the fourth pipeline and the other end connected between the second valve and the temperature control device in the third pipeline. When,
A fifth valve provided in the fifth pipeline;
A sixth pipeline having one end connected between the second valve and the third valve in the third pipeline, and the other end connected to the vacuum drying chamber;
A sixth valve provided in the sixth pipeline;
With
The vacuum drying chamber has a drying box in the chamber, an exhaust hole in the wall of the drying box,
The vacuum drying chamber is provided with a vacuum release valve,
The fourth pipeline communicates with the drying box inside the vacuum drying chamber;
An intermediate layer is further provided on the outer wall of the vacuum drying chamber,
The roughing pump is connected to the intermediate layer via a seventh pipeline,
It is characterized by that.
前記ガス供給装置の内部に供給されるガスは、40℃以上のヘリウムガスであっても良い。 The gas supplied into the gas supply device may be a helium gas at 40 ° C. or higher.
前記温度制御装置の内部に循環水管及び温度計が設けられても良い。 A circulating water pipe and a thermometer may be provided inside the temperature control device.
前記第二パイプラインに第二真空計が設けられても良い。 A second vacuum gauge may be provided in the second pipeline.
前記真空乾燥室はアルミニウム合金材料により形成されても良い。 The vacuum drying chamber may be formed of an aluminum alloy material.
前記真空乾燥室の内部に赤外線ヒーターが設けられても良い。 An infrared heater may be provided inside the vacuum drying chamber.
本考案によれば、漏電を生じ難くすることができ、乾燥効率を向上させることができる。 According to the present invention, electric leakage can be made difficult to occur, and drying efficiency can be improved.
本考案が解決すべき技術的課題、技術的解決手段と利点をより明確にするために、以下には図面及び具体的な実施例を挙げて詳細に説明する。 In order to clarify the technical problems, technical solutions and advantages to be solved by the present invention, the following description will be made in detail with reference to the drawings and specific examples.
図1に示すように、本考案の一実施形態に係る真空乾燥装置100は、ガス供給装置1、ルーツポンプ2と、温度制御装置3と、粗引ポンプ5と、真空乾燥室4と、第一パイプライン10と、第二パイプライン20と、第三パイプライン30と、第四パイプライン40と、第五パイプライン50と、第六パイプライン60と、第七パイプライン70と、を備える。
As shown in FIG. 1, a
ガス供給装置1は、ヘリウムガスを送り込まれ、このヘリウムガスを真空乾燥室4に供給する装置である。ヘリウムガスが用いられるのは、熱伝導率が高いガスが望ましいためである。 The gas supply device 1 is a device that is supplied with helium gas and supplies the helium gas to the vacuum drying chamber 4. Helium gas is used because a gas with high thermal conductivity is desirable.
ルーツポンプ2は、第一パイプライン10を介してガス供給装置1に接続されている。
The
温度制御装置3は、第二パイプライン20を介してルーツポンプ2に接続されている。温度制御装置3内には、循環水管33及び温度計34が設けられる。
The temperature control device 3 is connected to the
粗引ポンプ5は、第三パイプライン30を介して温度制御装置3に接続されている。
The roughing pump 5 is connected to the temperature control device 3 via the
真空乾燥室4は、第三パイプライン30と第六パイプライン60を介して温度制御装置3に接続されている。また、真空乾燥室4は、第三パイプライン30と第七パイプライン70を介して温度制御装置3に接続されている。真空乾燥室4には、真空解除バルブ42と真空計43が接続される。真空乾燥室4はアルミニウム合金材料により形成されている。
The vacuum drying chamber 4 is connected to the temperature control device 3 via the
真空乾燥室4の内部には赤外線ヒーター8が設けられている。また、真空乾燥室4の内部には乾燥ボックス7が設けられている。乾燥ボックス7の壁には、複数の孔701が設けられている。複数の孔701が設けられていることにより、乾燥させたい部品に高温ガスを均一に吹き付けるようにしている。真空乾燥室4の外壁には、中間層9が設けられている。
An
第一パイプライン10には、ガス供給装置1からルーツポンプ2に向かう方向に順に、第一バルブ11、流量調整バルブ12及び第一真空計13が配置されている。
In the
第二パイプライン20には、第二真空計21が設けられている。
A
第三パイプライン30には、温度制御装置3から粗引ポンプ5に向かう方向に順に、第二バルブ31と第三バルブ32が設けられている。
The
第四パイプライン40の一端部は、第一パイプライン10における第一バルブ11と流量調整バルブ12との間に接続されている。第四パイプライン40の他端部は、真空乾燥室4の内部の乾燥ボックス7に接続されて連通している。第四パイプライン40には、第四バルブ41が設けられている。
One end of the
第五パイプライン50の一端部は、第四パイプライン40における第四バルブ41の手前に接続されている。第五パイプライン50の他端部は、第三パイプライン30における第二バルブ31と温度制御装置3との間に接続されている。第五パイプライン50には、第五バルブ51が設けられている。
One end of the
第六パイプライン60の一端部は、第三パイプライン30における第二バルブ31と第三バルブ32との間に接続されている。第六パイプライン60の他端部は、真空乾燥室4に接続されている。第六パイプライン60には、第六バルブ61が設けられている。
One end of the
第七パイプライン70の一端部は粗引ポンプ5に接続され、第七パイプライン70の他端部は中間層9に接続されている。
One end of the
真空乾燥装置100の動作過程を以下に説明する。
The operation process of the
(1−1)真空乾燥室4の乾燥ボックス7に、乾燥させたい製品が入れられる。その後に、真空解除バルブ42と第一バルブ11が閉じられ、残りのバルブ(流量調整バルブ12、第二バルブ31、第三バルブ32、第四バルブ41、第五バルブ51、第六バルブ61)が開かれる。この状態で、粗引ポンプ5が起動されて真空乾燥室4及び各パイプラインが真空引きされる。すなわち、真空乾燥室4、第二パイプライン20、第三パイプライン30、第四パイプライン40、第五パイプライン50、第六パイプライン60、第七パイプライン70が真空引きされる。このとき、真空乾燥室4は、減圧された部屋になっている。真空乾燥室4内は、真空状態に設定される。また、真空状態とは、通常の大気圧より低い圧力の気体で満たされた空間の状態をいうものとする。
(1-1) A product to be dried is placed in the
(1−2)そして、真空引きが完了した後に、第二バルブ31及び第四バルブ41が閉じられ、第一バルブ11が開かれる。これにより、第二パイプライン20、第三パイプライン30、第五パイプライン50、第一パイプライン10により、第一循環ラインが形成される。
(1-2) After the evacuation is completed, the
それから、第一循環ライン内において、ガス供給装置1中のヘリウムガスは、ルーツポンプ2に吸引される。そのヘリウムガスは、第一真空計13と第二真空計21で圧力が測定されながら、同時に第一循環ライン内で所定の圧力P1まで上昇させられる。
Then, the helium gas in the gas supply device 1 is sucked into the roots pump 2 in the first circulation line. While the pressure is measured by the
続いて、第一バルブ11が閉じられ、温度制御装置3内の循環水管33が起動する。同時に、流量調整バルブ12が調整され、第一循環ライン内のヘリウムガスの温度が調整され、かつ温度計34はその結果をリアルタイムで観測する。
Subsequently, the
(2−1)第一循環ライン内のヘリウムガスの温度が所定の温度まで調整された後、第五バルブ51が閉じられ、第二バルブ31、第六バルブ61及び第四バルブ41が開かれる。第二パイプライン20、第三パイプライン30、第六パイプライン60、真空乾燥室4、第四パイプライン40により第二循環ラインを形成する。
(2-1) After the temperature of the helium gas in the first circulation line is adjusted to a predetermined temperature, the
そして、真空乾燥室4内にヘリウムガスを満たし、かつルーツポンプ2によってヘリウムガスを圧縮加熱してガス循環を行う。ヘリウムガスは、40℃以上の高温に設定される。ヘリウムガスは、第六パイプライン60上の第六バルブ61から真空乾燥室4内に入り、さらに徐々に複数の孔701を経て、乾燥ボックス7を満たす。続いて、ヘリウムガスは、乾燥ボックス7と連通する第四パイプライン40から排出されて特定方向に循環し、乾燥効率が向上し、真空乾燥室4内で乱流の発生を防止される。
Then, the vacuum drying chamber 4 is filled with helium gas, and the helium gas is compressed and heated by the Roots pump 2 to perform gas circulation. The helium gas is set to a high temperature of 40 ° C. or higher. The helium gas enters the vacuum drying chamber 4 from the
(2−2)赤外線ヒーター8の設置は、真空乾燥室4内のガス温度精度を保証することができ、乾燥効率を向上させる。第一真空計13は、所定の圧力P2まで上昇したことを検知した後、第三バルブ32が開かれて所定の圧力P1まで低下したことを検知する。乾燥プログラムが終了した後、第四バルブ41及び第二バルブ31が閉じられ、第六バルブ61が開かれ、粗引ポンプ5が起動して真空乾燥室4を真空引きする。この状態で、ヘリウムガスは、第七パイプライン70を経て中間層9から室外へ排出し、ヘリウムガスの粗熱により真空乾燥室4に対して保温と加熱の作用を果たし、排出ガスの十分な利用を実現し、省エネルギーかつ環境にやさしい効果がある。
(2-2) The installation of the
(3−1)部品が所定時間乾燥された後に、第二バルブ31及び第四バルブ41が閉じられ、第三バルブ32が開かれ、到達圧力までガスが排出され、室内の水蒸気圧が低下する。
(3-1) After the parts are dried for a predetermined time, the
(3−2)この後に、第六バルブ61が閉じられ、真空解除バルブ42が開かれ、真空計43は、真空乾燥室4の圧力値を読み取り、真空乾燥室4が大気圧状態になったら、続いて部品が取り出される。
(3-2) Thereafter, the
(4)第一バルブ11が開かれ、第一真空計13が所定の圧力に到達するまでガスが吸気された後、第一バルブ11が閉じられる。第二パイプライン20、第三パイプライン30、第五パイプライン50を経て第一パイプライン10に戻ってガス循環経路が形成され、これによりガス温度を保持し、次回の乾燥まで至る。
(4) The
本実施形態の構成によれば、真空乾燥室4の内で部品が高温で熱伝導率が高いヘリウムガスによって乾燥させられる。抵抗加熱ヒーターが用いられないことから、真空乾燥時に発生する水蒸気による漏電現象が抑制され、安全性が向上する。ヘリウムガスは気体であるから部品を一定の圧力で万遍なく包み、部品の部分毎に乾燥にムラが生じ難く、乾燥効率が向上する。 According to the configuration of the present embodiment, the components are dried in the vacuum drying chamber 4 by helium gas having a high temperature and high thermal conductivity. Since a resistance heater is not used, a leakage phenomenon caused by water vapor generated during vacuum drying is suppressed, and safety is improved. Since helium gas is a gas, the parts are evenly wrapped at a constant pressure, and unevenness in drying is difficult to occur in each part of the parts, so that the drying efficiency is improved.
また、ルーツポンプ2の排気工程における気体の圧縮熱により加熱された高温ガスを、ルーツポンプ2を使って減圧下で循環させる。そのため、熱の使用効率が向上し、ガスの加熱機構が不要となる。その結果、本実施形態の真空乾燥装置100については、安全性が高く(環境に悪影響を及ぼし難く)、信頼性が高く、省エネルギー化が実現される。
Further, the high-temperature gas heated by the compression heat of the gas in the exhaust process of the roots pump 2 is circulated under reduced pressure using the roots pump 2. Therefore, the heat use efficiency is improved, and a gas heating mechanism is not required. As a result, the
さらに、真空乾燥室4の内部の乾燥ボックス7に複数の孔701が設けられることによって均一に高温ガスが部品に吹き付けられるため、乾燥効率が向上し、エネルギーが節約される。
Furthermore, since a plurality of
粗引ポンプ5の高温の排出ガスによって真空乾燥室4を保温し、排出ガス熱を十分に利用することを実現し、省エネルギーかつ環境にやさしい効果がある。 The vacuum drying chamber 4 is kept warm by the high-temperature exhaust gas of the roughing pump 5 and the exhaust gas heat is fully utilized, which has an energy-saving and environmentally friendly effect.
(変形例)
本実施形態ではヘリウムガスが用いられたが、このガスに限定されなくても良い。空気よりも熱導電率が高いガスであれば、本実施形態の真空乾燥装置100に用いても良い。
(Modification)
In this embodiment, helium gas is used, but the present invention is not limited to this gas. Any gas having higher thermal conductivity than air may be used in the
以上は、本考案の好ましい実施方式であり、注意すべきことは、当業者であれば、本考案の原理から逸脱しない前提で、様々な改良と変更を行うことができ、これらの改良と変更も本考案の保護範囲と見なされるべきである。 The above is a preferred embodiment of the present invention, and it should be noted that those skilled in the art can make various improvements and modifications without departing from the principle of the present invention. Should also be regarded as the scope of protection of the present invention.
1 ガス供給装置
2 ルーツポンプ
3 温度制御装置
4 真空乾燥室
5 粗引ポンプ
7 乾燥ボックス
8 赤外線ヒーター
9 中間層
10 第一パイプライン
100 真空乾燥装置
11 第一バルブ
12 流量調整バルブ
13 第一真空計
20 第二パイプライン
21 第二真空計
30 第三パイプライン
31 第二バルブ
32 第三バルブ
33 循環水管
34 温度計
40 第四パイプライン
41 第四バルブ
42 真空解除バルブ
43 真空計
50 第五パイプライン
51 第五バルブ
60 第六パイプライン
61 第六バルブ
70 第七パイプライン
701 孔
P1 圧力
P2 圧力
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (6)
減圧された真空乾燥室であって、前記ガス供給装置から供給されるガスを受け入れて、圧縮加熱された前記ガスにより内部のものを乾燥させる真空乾燥室と、
第一パイプラインを介して前記ガス供給装置に接続されたルーツポンプと、
前記第一パイプラインに設けられ、前記ルーツポンプに向かう方向に順に配置された第一バルブ、流量調整バルブ及び第一真空計と、
第二パイプラインを介して前記ルーツポンプに接続された温度制御装置と、
第三パイプラインを介して前記温度制御装置に接続された粗引ポンプと、
前記第三パイプラインに設けられ、前記粗引ポンプに向かう方向に順に配置された第二バルブ及び第三バルブと、
前記第一パイプラインの前記第一バルブと前記流量調整バルブとの間に一端部が接続され、かつ前記真空乾燥室に他端部が接続された第四パイプラインと、
前記第四パイプラインに設けられた第四バルブと、
前記第四パイプラインにおける前記第四バルブの前に一端部が接続され、かつ前記第三パイプラインにおける前記第二バルブと前記温度制御装置との間に他端部が接続された第五パイプラインと、
前記第五パイプラインに設けられた第五バルブと、
前記第三パイプラインにおける前記第二バルブと前記第三バルブとの間に一端部が接続され、かつ前記真空乾燥室に他端部が接続された第六パイプラインと、
前記第六パイプラインに設けられた第六バルブと、
を備え、
前記真空乾燥室は、室内に乾燥ボックスを有し、前記乾燥ボックスの壁に排気孔を有し、
前記真空乾燥室には、真空解除バルブが設けられ、
前記第四パイプラインは、前記真空乾燥室の内部の前記乾燥ボックスと連通し、
前記真空乾燥室の外壁にさらに中間層が設けられ、
前記粗引ポンプは、第七パイプラインを介して前記中間層に接続されている、
ことを特徴とする真空乾燥装置。 A gas supply device;
A vacuum drying chamber having a reduced pressure, receiving a gas supplied from the gas supply device, and drying the inside by the compressed and heated gas; and
A roots pump connected to the gas supply device via a first pipeline;
A first valve provided in the first pipeline, and arranged in order in a direction toward the roots pump, a flow rate adjustment valve, and a first vacuum gauge;
A temperature control device connected to the roots pump via a second pipeline;
A roughing pump connected to the temperature controller via a third pipeline;
A second valve and a third valve provided in the third pipeline and arranged in order in a direction toward the roughing pump;
A fourth pipeline having one end connected between the first valve of the first pipeline and the flow rate adjustment valve, and the other end connected to the vacuum drying chamber;
A fourth valve provided in the fourth pipeline;
A fifth pipeline having one end connected in front of the fourth valve in the fourth pipeline and the other end connected between the second valve and the temperature control device in the third pipeline. When,
A fifth valve provided in the fifth pipeline;
A sixth pipeline having one end connected between the second valve and the third valve in the third pipeline, and the other end connected to the vacuum drying chamber;
A sixth valve provided in the sixth pipeline;
With
The vacuum drying chamber has a drying box in the chamber, an exhaust hole in the wall of the drying box,
The vacuum drying chamber is provided with a vacuum release valve,
The fourth pipeline communicates with the drying box inside the vacuum drying chamber;
An intermediate layer is further provided on the outer wall of the vacuum drying chamber,
The roughing pump is connected to the intermediate layer via a seventh pipeline,
A vacuum drying apparatus characterized by that.
ことを特徴とする請求項1に記載の真空乾燥装置。 The gas supplied into the gas supply device is helium gas of 40 ° C. or higher.
The vacuum drying apparatus according to claim 1.
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の真空乾燥装置。 A circulating water pipe and a thermometer are provided inside the temperature control device,
The vacuum drying apparatus according to claim 1 or 2.
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の真空乾燥装置。 A second vacuum gauge is provided in the second pipeline;
The vacuum drying apparatus according to any one of claims 1 to 3.
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の真空乾燥装置。 The vacuum drying chamber is formed of an aluminum alloy material;
The vacuum drying apparatus according to claim 1, wherein the apparatus is a vacuum drying apparatus.
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の真空乾燥装置。 An infrared heater was provided inside the vacuum drying chamber,
The vacuum drying apparatus according to claim 1, wherein the apparatus is a vacuum drying apparatus.
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN116791056A (en) * | 2023-06-30 | 2023-09-22 | 安徽其芒光电科技有限公司 | Exhaust heating method of vacuum coating equipment |
CN118391881A (en) * | 2024-07-01 | 2024-07-26 | 季华实验室 | Vacuum drying system and control method thereof |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3213236 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
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