JP3291939B2 - 水滴感知センサ - Google Patents
水滴感知センサInfo
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は衣類乾燥機、空調機器等
において有用とされる水滴感知センサに関するものであ
る。
において有用とされる水滴感知センサに関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来より、絶縁性基板上に適当な間隔を
おいて一対の電極を設け、その上に吸水性を有する紙等
を設けてなる水滴感知センサがある。これは紙表面に付
着した水滴を毛細管現象によって紙の内部に吸収し、電
極間を導通させて水滴を感知するという機能を持つ。
おいて一対の電極を設け、その上に吸水性を有する紙等
を設けてなる水滴感知センサがある。これは紙表面に付
着した水滴を毛細管現象によって紙の内部に吸収し、電
極間を導通させて水滴を感知するという機能を持つ。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来の水
滴感知センサにおいては、微少量の水滴では必ずしも感
知できなかった。すなわち、微少量の水滴は紙の内部に
のみ吸収され、電極間を導通するには至らなかった。
滴感知センサにおいては、微少量の水滴では必ずしも感
知できなかった。すなわち、微少量の水滴は紙の内部に
のみ吸収され、電極間を導通するには至らなかった。
【０００４】そこで本発明は前記の問題点を解決し、微
少の水滴でも感知できる水滴感知センサを提供すること
を目的とする。
少の水滴でも感知できる水滴感知センサを提供すること
を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明の水滴感知センサは、絶縁性基板上に少なくと
も一対の電極を所定間隔離して設けられ、前記電極間が
水滴によって電気的に短絡されることにより前記水滴の
付着を感知する水滴感知センサであって、少なくとも前
記電極間の絶縁性基板上に親水性の化学吸着薄膜が設け
られるとともに、前記化学吸着薄膜の表層に親水性基と
して−ＯＨ基、−ＮＨ 2 基、−ＳＯ 3 Ｈ基、−ＣＯＯＨ基
から選ばれる少なくとも一つを含み、この親水性化学吸
着薄膜がＳｉの共有結合を介して基板表面に形成される
ことを特徴とする。
に本発明の水滴感知センサは、絶縁性基板上に少なくと
も一対の電極を所定間隔離して設けられ、前記電極間が
水滴によって電気的に短絡されることにより前記水滴の
付着を感知する水滴感知センサであって、少なくとも前
記電極間の絶縁性基板上に親水性の化学吸着薄膜が設け
られるとともに、前記化学吸着薄膜の表層に親水性基と
して−ＯＨ基、−ＮＨ 2 基、−ＳＯ 3 Ｈ基、−ＣＯＯＨ基
から選ばれる少なくとも一つを含み、この親水性化学吸
着薄膜がＳｉの共有結合を介して基板表面に形成される
ことを特徴とする。
【０００６】前記構成においては、少なくとも絶縁性基
板表面が粗面加工されていることが好ましい。
板表面が粗面加工されていることが好ましい。
【０００７】
【０００８】
【作用】前記本発明の構成によれば、本発明の水滴感知
センサは絶縁性基板上に設けられた一対の電極間の絶縁
性基板上を覆うように、親水性の化学吸着膜が設けられ
ている。すなわち、化学吸着膜はナノメータレベルの膜
厚であるため、センサ表面に付着した水滴を内部にほと
んど吸収することなく、すばやく濡れ広げて電極間を導
通させるので、微少な水滴でも確実に感知できるものと
なる。
センサは絶縁性基板上に設けられた一対の電極間の絶縁
性基板上を覆うように、親水性の化学吸着膜が設けられ
ている。すなわち、化学吸着膜はナノメータレベルの膜
厚であるため、センサ表面に付着した水滴を内部にほと
んど吸収することなく、すばやく濡れ広げて電極間を導
通させるので、微少な水滴でも確実に感知できるものと
なる。
【０００９】さらに絶縁性基板表面が粗面加工されてい
る前記本発明の望ましい構成によれば、基板表面に設け
られた親水性化学吸着膜の親水性が強調され、より高い
濡れ性を付与することができる。その結果、より高感度
の水滴感知センサとすることができる。
る前記本発明の望ましい構成によれば、基板表面に設け
られた親水性化学吸着膜の親水性が強調され、より高い
濡れ性を付与することができる。その結果、より高感度
の水滴感知センサとすることができる。
【００１０】また、化学吸着膜の表層に−ＯＨ基、−Ｎ
Ｈ2基、−ＳＯ3Ｈ基、−ＣＯＯＨ基から選ばれる少なく
とも一つを含む前記本発明の好ましい構成によれば、所
望の親水性を有する化学吸着膜とすることができる。
Ｈ2基、−ＳＯ3Ｈ基、−ＣＯＯＨ基から選ばれる少なく
とも一つを含む前記本発明の好ましい構成によれば、所
望の親水性を有する化学吸着膜とすることができる。
【００１１】また、本発明に供せられる親水性化学吸着
膜はＳｉの共有結合を介して基板表面に形成されている
ので、剥離しにくく、耐久性に優れたものとなる。
膜はＳｉの共有結合を介して基板表面に形成されている
ので、剥離しにくく、耐久性に優れたものとなる。
【００１２】
【実施例】図１は本発明の水滴感知センサの一実施例で
ある。絶縁性基板１１の表面に一対のくし歯状の電極１
２を設け、その上に親水性化学吸着膜１３を形成させ
る。
ある。絶縁性基板１１の表面に一対のくし歯状の電極１
２を設け、その上に親水性化学吸着膜１３を形成させ
る。
【００１３】絶縁性基板１１としては、例えばアルミ
ナ、石英ガラス等のような、その表面に化学吸着膜を結
合させるための活性水素を有しているものであればよ
い。なお、このように活性水素を有していなかったり、
あるいは濃度が低い基板の場合には、表面を酸化処理
（例えば酸素プラズマ処理、水蒸気プラズマ処理、コロ
ナ処理、もしくはクロム酸混液処理等）することによっ
て、活性水素を付与することが可能である。
ナ、石英ガラス等のような、その表面に化学吸着膜を結
合させるための活性水素を有しているものであればよ
い。なお、このように活性水素を有していなかったり、
あるいは濃度が低い基板の場合には、表面を酸化処理
（例えば酸素プラズマ処理、水蒸気プラズマ処理、コロ
ナ処理、もしくはクロム酸混液処理等）することによっ
て、活性水素を付与することが可能である。
【００１４】この基板上に設けられる化学吸着膜１３は
その表層に例えば−ＯＨ基、−ＮＨ 2基、−ＳＯ3Ｈ基、
−ＣＯＯＨ基等の親水性基を含むものとされる。
その表層に例えば−ＯＨ基、−ＮＨ 2基、−ＳＯ3Ｈ基、
−ＣＯＯＨ基等の親水性基を含むものとされる。
【００１５】以下、実施例をあげて順に説明する。 実施例１（−ＯＨ基の付与） くし型電極を設けたアルミナ製の基板３１を用意し（図
３（ａ））、洗浄した後、クロル基を複数個もつシラン
系化学吸着物質、例えばＳｉＣｌ4（Ｃｌ3ＳｉＯＳｉＣ
ｌ3や、ＳｉＨＣｌ3、Ｃｌ3ＳｉＯＳｉＣｌ2ＯＳｉＣｌ
3等でもよい）を非水系溶媒（例えばシクロヘキサン）
に１ｗｔ％溶解した溶液に３０分程度浸漬して化学吸着
を行なうと、基板表面に含まれる水酸基３２と反応し
て、下記（化１）等で示される結合が生成した。
３（ａ））、洗浄した後、クロル基を複数個もつシラン
系化学吸着物質、例えばＳｉＣｌ4（Ｃｌ3ＳｉＯＳｉＣ
ｌ3や、ＳｉＨＣｌ3、Ｃｌ3ＳｉＯＳｉＣｌ2ＯＳｉＣｌ
3等でもよい）を非水系溶媒（例えばシクロヘキサン）
に１ｗｔ％溶解した溶液に３０分程度浸漬して化学吸着
を行なうと、基板表面に含まれる水酸基３２と反応し
て、下記（化１）等で示される結合が生成した。
【００１６】
【化１】
【００１７】次に、基板３１を溶液から取り出して乾燥
させると、（化１）とＳｉＣｌ4とからなるＣｌ基を多
く含むシラン化合物層３３が形成された（図３
（ｂ））。
させると、（化１）とＳｉＣｌ4とからなるＣｌ基を多
く含むシラン化合物層３３が形成された（図３
（ｂ））。
【００１８】次に、基板３１表面に水を反応させると、
脱塩酸反応が起こりシラン化合物層３３は共有結合して
ポリマー化され、さらに、共有結合しなかったＳｉＣｌ
基はＳｉＯＨ基に置換された。これにより、ＯＨ基を多
数含むきわめて親水性の高い化学吸着膜３４がＳｉ共有
結合を介して基板３１表面に形成された（図３
（ｃ））。
脱塩酸反応が起こりシラン化合物層３３は共有結合して
ポリマー化され、さらに、共有結合しなかったＳｉＣｌ
基はＳｉＯＨ基に置換された。これにより、ＯＨ基を多
数含むきわめて親水性の高い化学吸着膜３４がＳｉ共有
結合を介して基板３１表面に形成された（図３
（ｃ））。
【００１９】実施例２（−ＮＨ2基の付与） 電極１２を設けたガラスエポキシ製の基板４１を用意
し、洗浄した後、酸素プラズマ処理を行なって基板４１
表面に水酸基４２を付与した（図４（ａ））。この基板
４１を、シアノ基及びクロロシリル基を含む物質、例え
ばＮＣ（ＣＨ2）1 7ＳｉＣｌ3をフッ素系溶媒（例えばフ
ロリナートＦＣ−４０：住友スリーエム（株）製）に１
ｗｔ％程度溶かした溶液に２時間程度浸漬すると、ＮＣ
（ＣＨ2）1 7ＳｉＣｌ3のＳｉＣｌ基と基板４１表面の水
酸基４２とが反応して、基板表面全面に亘り、下記（化
２）で示される結合が生成され、シアノ基を含む化学吸
着膜４３が形成された（図４（ｂ））。
し、洗浄した後、酸素プラズマ処理を行なって基板４１
表面に水酸基４２を付与した（図４（ａ））。この基板
４１を、シアノ基及びクロロシリル基を含む物質、例え
ばＮＣ（ＣＨ2）1 7ＳｉＣｌ3をフッ素系溶媒（例えばフ
ロリナートＦＣ−４０：住友スリーエム（株）製）に１
ｗｔ％程度溶かした溶液に２時間程度浸漬すると、ＮＣ
（ＣＨ2）1 7ＳｉＣｌ3のＳｉＣｌ基と基板４１表面の水
酸基４２とが反応して、基板表面全面に亘り、下記（化
２）で示される結合が生成され、シアノ基を含む化学吸
着膜４３が形成された（図４（ｂ））。
【００２０】
【化２】
【００２１】次に、リチウムアルミニウムハイドライド
を溶解させたエーテル（１０ｍｇ／ｍｌ）に基板４１を
浸漬し、１２時間程度反応させた。溶液から取りだした
後、エーテル、続いてエーテルと同容量の１０ｗｔ％の
塩酸を加えた。さらにトリエチルアミン溶液に入れて２
時間反応させると、下記（化３）に示す親水性の高い化
学吸着膜を得た。これにより、−ＮＨ2基を多数含むき
わめて親水性の高い化学吸着膜４４がＳｉ共有結合を介
して基板４１表面に形成された（図４（ｃ））。
を溶解させたエーテル（１０ｍｇ／ｍｌ）に基板４１を
浸漬し、１２時間程度反応させた。溶液から取りだした
後、エーテル、続いてエーテルと同容量の１０ｗｔ％の
塩酸を加えた。さらにトリエチルアミン溶液に入れて２
時間反応させると、下記（化３）に示す親水性の高い化
学吸着膜を得た。これにより、−ＮＨ2基を多数含むき
わめて親水性の高い化学吸着膜４４がＳｉ共有結合を介
して基板４１表面に形成された（図４（ｃ））。
【００２２】
【化３】
【００２３】実施例３（−ＣＯＯＨ基の付与） 電極１２を設けたガラスエポキシ製の基板５１を用意
し、洗浄した後、酸素プラズマ処理を行なって基板表面
に水酸基５２を付与した（図５（ａ））。この基板５１
を、エステル結合（Ｒ−ＣＯ−ＯＣＨ2−：Ｒは官能
基）及びクロロシリル基を含む物質、例えばＣＨ3ＯＯ
Ｃ（ＣＨ2）10ＳｉＣｌ3をフッ素系溶媒（例えばアフル
ード：旭硝子（株）製）に２ｗｔ％程度溶かした溶液に
４時間程度浸漬すると、ＣＨ3ＯＯＣ（ＣＨ2）10ＳｉＣ
ｌ3のＳｉＣｌ基と基板表面の水酸基５２とが反応し
て、基板５１表面全体に亘り、下記（化４）で示される
結合が生成され、エステル結合を含む化学吸着膜５３が
形成された（図５（ｂ））。
し、洗浄した後、酸素プラズマ処理を行なって基板表面
に水酸基５２を付与した（図５（ａ））。この基板５１
を、エステル結合（Ｒ−ＣＯ−ＯＣＨ2−：Ｒは官能
基）及びクロロシリル基を含む物質、例えばＣＨ3ＯＯ
Ｃ（ＣＨ2）10ＳｉＣｌ3をフッ素系溶媒（例えばアフル
ード：旭硝子（株）製）に２ｗｔ％程度溶かした溶液に
４時間程度浸漬すると、ＣＨ3ＯＯＣ（ＣＨ2）10ＳｉＣ
ｌ3のＳｉＣｌ基と基板表面の水酸基５２とが反応し
て、基板５１表面全体に亘り、下記（化４）で示される
結合が生成され、エステル結合を含む化学吸着膜５３が
形成された（図５（ｂ））。
【００２４】
【化４】
【００２５】次に、この基板５１を塩酸（ＨＣｌ）の３
６ｗｔ％溶液中、６５℃で３０分反応させて、末端に親
水性のカルボキシル基を形成した。このようにして、下
記（化５）に示される、−ＣＯＯＨ基を多数含むきわめ
て親水性の高い化学吸着膜５４がＳｉ共有結合を介して
基板５１表面に形成された（図５（ｃ））。
６ｗｔ％溶液中、６５℃で３０分反応させて、末端に親
水性のカルボキシル基を形成した。このようにして、下
記（化５）に示される、−ＣＯＯＨ基を多数含むきわめ
て親水性の高い化学吸着膜５４がＳｉ共有結合を介して
基板５１表面に形成された（図５（ｃ））。
【００２６】
【化５】
【００２７】実施例４（−ＳＯ3Ｈ基の付与） 電極１２を設けたガラスエポキシ製の基板６１を用意
し、洗浄した後、酸素プラズマ処理を行なって基板表面
に水酸基６２を付与した（図６（ａ））。この基板６１
を、メルカプト基及びアルコキシシリル基を含む物質、
例えばＨＳ（ＣＨ 2）3Ｓｉ（ＯＥｔ）3をフッ素系溶媒
（例えばアフルード：旭硝子（株）製）に１ｗｔ％程度
溶かした溶液に４時間程度浸漬すると、ＨＳ（ＣＨ2）
10Ｓｉ（ＯＥｔ）3のＳｉＯＥｔ基と基板表面の水酸基
６２とが反応して、基板６１表面全体に亘り、下記（化
６）で示される結合が生成され、メルカプト基を含む化
学吸着膜６３が形成された（図６（ｂ））。
し、洗浄した後、酸素プラズマ処理を行なって基板表面
に水酸基６２を付与した（図６（ａ））。この基板６１
を、メルカプト基及びアルコキシシリル基を含む物質、
例えばＨＳ（ＣＨ 2）3Ｓｉ（ＯＥｔ）3をフッ素系溶媒
（例えばアフルード：旭硝子（株）製）に１ｗｔ％程度
溶かした溶液に４時間程度浸漬すると、ＨＳ（ＣＨ2）
10Ｓｉ（ＯＥｔ）3のＳｉＯＥｔ基と基板表面の水酸基
６２とが反応して、基板６１表面全体に亘り、下記（化
６）で示される結合が生成され、メルカプト基を含む化
学吸着膜６３が形成された（図６（ｂ））。
【００２８】
【化６】
【００２９】次に、この基板６１を１０ｗｔ％過酸化水
素水と１０ｗｔ％酢酸の容量比１：５の混合溶液中に浸
漬して、４０〜５０℃で３０分反応させると、下記（化
７）で示される親水性の高い化学吸着膜が得られた。こ
のようにして、−ＳＯ3Ｈ基を多数含むきわめて親水性
の高い化学吸着膜６４がＳｉ共有結合を介して基板６１
表面に形成された（図６（ｃ））。
素水と１０ｗｔ％酢酸の容量比１：５の混合溶液中に浸
漬して、４０〜５０℃で３０分反応させると、下記（化
７）で示される親水性の高い化学吸着膜が得られた。こ
のようにして、−ＳＯ3Ｈ基を多数含むきわめて親水性
の高い化学吸着膜６４がＳｉ共有結合を介して基板６１
表面に形成された（図６（ｃ））。
【００３０】
【化７】
【００３１】なお、粗面加工を施した基板表面に親水性
化学吸着膜を形成すると、表面形態の効果により、親水
性が強調されて、より高感度で応答性の良好なセンサと
することができる。基板表面を粗面加工するには、サン
ドブラスト処理や湿式エッチング処理、プラズマエッチ
ング処理、ゾル−ゲル膜塗布等の通常の方法を用いるこ
とができる。
化学吸着膜を形成すると、表面形態の効果により、親水
性が強調されて、より高感度で応答性の良好なセンサと
することができる。基板表面を粗面加工するには、サン
ドブラスト処理や湿式エッチング処理、プラズマエッチ
ング処理、ゾル−ゲル膜塗布等の通常の方法を用いるこ
とができる。
【００３２】実施例５（基板表面の粗面化） 電極１２を設けたガラスエポキシ製の基板を用意し、サ
ンドブラストにより粗面化した。この基板を洗浄した
後、酸素プラズマ処理を行なって基板表面に水酸基を付
与した。次に、実施例１と同様にして、−ＯＨ基を含む
親水性の化学吸着膜を粗面化した基板表面に形成した。
ンドブラストにより粗面化した。この基板を洗浄した
後、酸素プラズマ処理を行なって基板表面に水酸基を付
与した。次に、実施例１と同様にして、−ＯＨ基を含む
親水性の化学吸着膜を粗面化した基板表面に形成した。
【００３３】以上のようにして得られた本実施例１〜５
の効果を次のようにして調べた。なお、比較例として以
下の２つを用いた。 （比較例１）電極１２を設けたガラスエポキシ製基板の
表面にポリエステルファイバー紙を貼り付けたものを比
較例１とした。 （比較例２）電極１２を設けたガラスエポキシ製基板だ
けのものを比較例２とした。
の効果を次のようにして調べた。なお、比較例として以
下の２つを用いた。 （比較例１）電極１２を設けたガラスエポキシ製基板の
表面にポリエステルファイバー紙を貼り付けたものを比
較例１とした。 （比較例２）電極１２を設けたガラスエポキシ製基板だ
けのものを比較例２とした。
【００３４】実験は、センサの電極１２面を水平、上向
きに置き、５ｃｍの高さから水滴を滴下して、センサが
感知できるかどうかつまり水滴で電極１２間が短絡され
たか否かを電気的に検知した。
きに置き、５ｃｍの高さから水滴を滴下して、センサが
感知できるかどうかつまり水滴で電極１２間が短絡され
たか否かを電気的に検知した。
【００３５】（表１）は実施例と比較例の試料にそれぞ
れ１０〜１００μｌの水滴を滴下したときの結果を示し
たもので、感知したものには○、感知しなかったものに
は×を記入してある。その結果比較例１及び２ではある
程度の大きさ以上の水滴でないと感知しなかったが、実
施例１〜５では１０μｌの水滴でも感知した。このこと
から、本実施例の水滴感知センサは、比較例では感知で
きないような微少量の水滴でも感知できることがわか
る。
れ１０〜１００μｌの水滴を滴下したときの結果を示し
たもので、感知したものには○、感知しなかったものに
は×を記入してある。その結果比較例１及び２ではある
程度の大きさ以上の水滴でないと感知しなかったが、実
施例１〜５では１０μｌの水滴でも感知した。このこと
から、本実施例の水滴感知センサは、比較例では感知で
きないような微少量の水滴でも感知できることがわか
る。
【００３６】
【表１】
【００３７】なお、実施例１〜５における親水性の化学
吸着膜３４，４４，５４，６４はいずれも各基板表面の
みならず、電極１２の表面も覆っているが、これらの化
学吸着膜３４，４４，５４，６４は水分子から見ると多
孔質である。したがって、図２の（ａ），（ｂ）のごと
く基板表面に水滴２４が滴下され、それが親水性の化学
吸着膜３４，４４，５４，６４によって図２の（ｃ），
（ｄ）のごとく広げられると、その一部は多孔部を介し
て電極１２と接し、これにより電極１２間の導通がとれ
ることとなる。
吸着膜３４，４４，５４，６４はいずれも各基板表面の
みならず、電極１２の表面も覆っているが、これらの化
学吸着膜３４，４４，５４，６４は水分子から見ると多
孔質である。したがって、図２の（ａ），（ｂ）のごと
く基板表面に水滴２４が滴下され、それが親水性の化学
吸着膜３４，４４，５４，６４によって図２の（ｃ），
（ｄ）のごとく広げられると、その一部は多孔部を介し
て電極１２と接し、これにより電極１２間の導通がとれ
ることとなる。
【００３８】また電極１２は例えば１０μｍの膜厚があ
るのに対し、上記化学吸着膜３４，４４，５４，６４は
数十オングストロームときわめて薄いので、多孔といえ
ども水滴を吸水してしまって電極１２間の短絡を阻害す
ることはない。
るのに対し、上記化学吸着膜３４，４４，５４，６４は
数十オングストロームときわめて薄いので、多孔といえ
ども水滴を吸水してしまって電極１２間の短絡を阻害す
ることはない。
【００３９】
【発明の効果】以上のように、本発明の水滴感知センサ
は絶縁性基板上に設けられた一対の電極間を覆うように
親水性の化学吸着膜が設けられているので、センサ表面
に付着した水滴は濡れ広がり、たとえ微少な水滴であっ
ても感知できるものとなる。また、親水性の化学吸着膜
はＳｉ共有結合を介して形成されているので、剥離し難
く、耐久性に優れたものとなる。
は絶縁性基板上に設けられた一対の電極間を覆うように
親水性の化学吸着膜が設けられているので、センサ表面
に付着した水滴は濡れ広がり、たとえ微少な水滴であっ
ても感知できるものとなる。また、親水性の化学吸着膜
はＳｉ共有結合を介して形成されているので、剥離し難
く、耐久性に優れたものとなる。
【図１】（ａ）は本発明の水滴感知センサの一実施例の
斜視図 （ｂ）はその基板表面を分子レベルまで拡大した断面図
斜視図 （ｂ）はその基板表面を分子レベルまで拡大した断面図
【図２】本発明の水滴感知センサの作用を説明するため
に、図１の基板表面を拡大して示した説明図
に、図１の基板表面を拡大して示した説明図
【図３】（ａ）は本発明の第１の実施例である水滴感知
センサを説明するために、基板表面を分子レベルまで拡
大した断面図 （ｂ）は同断面図 （ｃ）は同断面図
センサを説明するために、基板表面を分子レベルまで拡
大した断面図 （ｂ）は同断面図 （ｃ）は同断面図
【図４】（ａ）は本発明の第２の実施例である水滴感知
センサを説明するために、基板表面を分子レベルまで拡
大した断面図 （ｂ）は同断面図 （ｃ）は同断面図
センサを説明するために、基板表面を分子レベルまで拡
大した断面図 （ｂ）は同断面図 （ｃ）は同断面図
【図５】（ａ）は本発明の第３の実施例である水滴感知
センサを説明するために、基板表面を分子レベルまで拡
大した断面図 （ｂ）は同断面図 （ｃ）は同断面図
センサを説明するために、基板表面を分子レベルまで拡
大した断面図 （ｂ）は同断面図 （ｃ）は同断面図
【図６】（ａ）は本発明の第４の実施例である水滴感知
センサを説明するために、基板表面を分子レベルまで拡
大した断面図 （ｂ）は同断面図 （ｃ）は同断面図
センサを説明するために、基板表面を分子レベルまで拡
大した断面図 （ｂ）は同断面図 （ｃ）は同断面図
１１ 基板 １２ 電極 １３ 親水性の化学吸着膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−209101（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−211346（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−98993（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−200951（ＪＰ，Ａ) 実開 昭51−44979（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01N 27/12 ＪＩＣＳＴファイル（ＪＯＩＳ)
Claims (2)
- 【請求項１】 絶縁性基板上に少なくとも一対の電極を
所定間隔離して設けられ、前記電極間が水滴によって電
気的に短絡されることにより前記水滴の付着を感知する
水滴感知センサであって、少なくとも前記電極間の絶縁
性基板上に親水性の化学吸着薄膜が設けられるととも
に、前記化学吸着薄膜の表層に親水性基として−ＯＨ
基、−ＮＨ 2 基、−ＳＯ 3 Ｈ基、−ＣＯＯＨ基から選ばれ
る少なくとも一つを含み、この親水性化学吸着薄膜がＳ
ｉの共有結合を介して基板表面に形成されることを特徴
とする水滴感知センサ。 - 【請求項２】 絶縁性基板表面が粗面加工されているこ
とを特徴とする請求項１に記載の水滴感知センサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26357794A JP3291939B2 (ja) | 1994-10-27 | 1994-10-27 | 水滴感知センサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26357794A JP3291939B2 (ja) | 1994-10-27 | 1994-10-27 | 水滴感知センサ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08122291A JPH08122291A (ja) | 1996-05-17 |
| JP3291939B2 true JP3291939B2 (ja) | 2002-06-17 |
Family
ID=17391491
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26357794A Expired - Fee Related JP3291939B2 (ja) | 1994-10-27 | 1994-10-27 | 水滴感知センサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3291939B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11486843B2 (en) * | 2017-09-01 | 2022-11-01 | National Institute For Materials Science | Dryness/wetness responsive sensor |
-
1994
- 1994-10-27 JP JP26357794A patent/JP3291939B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08122291A (ja) | 1996-05-17 |
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