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JP3285791B2 - Removal of trace substances from high-temperature reducing gasified gas - Google Patents

Removal of trace substances from high-temperature reducing gasified gas

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Publication number
JP3285791B2
JP3285791B2 JP12356897A JP12356897A JP3285791B2 JP 3285791 B2 JP3285791 B2 JP 3285791B2 JP 12356897 A JP12356897 A JP 12356897A JP 12356897 A JP12356897 A JP 12356897A JP 3285791 B2 JP3285791 B2 JP 3285791B2
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gas
halogen
desulfurization
dust collection
heat exchanger
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新太郎 本城
洲崎  誠
晴治 香川
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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  • Gas Separation By Absorption (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、複合発電システム
や燃料電池の燃料に用いるために、石炭や重質油等をガ
ス化して得られた高温還元性のガス化ガスに含まれるハ
ロゲン、アルカリ金属、重金属等の微量物質を乾式で吸
収除去する方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a halogen or alkali contained in a high-temperature reducing gasified gas obtained by gasifying coal, heavy oil, or the like, for use as a fuel for an integrated power generation system or a fuel cell. The present invention relates to a method for dry-absorbing and removing trace substances such as metals and heavy metals.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年クリ−ン燃料の価格高騰を抑制する
観点から、安価な石炭や重質油の利用技術の開発が進め
られており、これらを原料とするガス化ガスを複合発電
あるいは燃料電池の燃料としたり、化学合成原料にする
方法はその代表的な例である。このガス化ガスには、原
料の石炭や重質油によって異なるが、数10〜数1000ppm
のH2SやCOSのような硫黄化合物や未燃カ−ボン(チャ
−)の他に、微量成分のタ−ル分、アンモニア(N
H3)、シアン(CN)化合物、ハロゲンガス成分(Cl、F
等のハロゲン化水素又はハロゲン)、アルカリ金属(N
a、K等)化合物、及び重金属(As、Cd、Hg、Pb、Zn等)
およびその化合物を含んでいるので、ガスタ−ビン等の
後流機器の腐食防止あるいは公害防止上、有害な成分を
除去する必要がある。
2. Description of the Related Art In recent years, from the viewpoint of suppressing a rise in the price of clean fuel, technology for utilizing inexpensive coal or heavy oil has been developed. The method of using it as fuel for a battery or a raw material for chemical synthesis is a typical example. This gasification gas varies depending on the raw material coal and heavy oil, but several tens to several thousand ppm
In addition to sulfur compounds such as H 2 S and COS, and unburned carbon (char), trace components such as tar and ammonia (N
H 3 ), cyanide (CN) compounds, halogen gas components (Cl, F
Hydrogen halide or halogen), alkali metal (N
a, K, etc.) Compounds and heavy metals (As, Cd, Hg, Pb, Zn, etc.)
And its compounds, it is necessary to remove harmful components in order to prevent corrosion or pollution of downstream equipment such as gas turbines.

【0003】硫黄化合物の除去方法には湿式法と乾式法
があるが、ガス化ガスでは熱効率の面から乾式法が有利
である。乾式法に使用する装置の形式としては、脱硫剤
を流動状態で吸収反応させる流動床方式、移動させなが
ら吸収反応させる移動床方式及び固定床方式があるが、
加圧下で脱硫剤の搬送移動を行うと、塔槽類、配管類の
磨耗が生じて装置の長期信頼性に問題が生じる。したが
って、本発明者らは固定床式を用いて、石炭等のガス化
ガス複合発電用乾式固定床ガス精製技術の開発を進めて
いる。そして、脱硫方法、脱硫塔及び脱硫剤に関する種
々の提案をしてきた。
[0003] There are a wet method and a dry method for removing sulfur compounds, but the dry method is advantageous for gasification gas from the viewpoint of thermal efficiency. As a type of the apparatus used in the dry method, there are a fluidized bed system in which a desulfurizing agent is absorbed and reacted in a fluidized state, a moving bed system in which an absorption reaction is performed while moving, and a fixed bed system.
When the transport of the desulfurizing agent is carried out under pressure, the tanks and pipes are worn, which causes a problem in the long-term reliability of the apparatus. Accordingly, the present inventors have been developing a fixed bed gas purification technology for combined gasification gas such as coal using a fixed bed system. And various proposals regarding the desulfurization method, desulfurization tower and desulfurizing agent have been made.

【0004】これらの技術に基づいて現状技術を以下に
説明する。図1は固定床方式ガス精製装置のシステム構
成例である。固定床式ガス精製装置はガス化ガス1中の
煤塵を除去する集塵装置2、硫黄化合物を除去する脱硫
装置3、及び除去した硫黄分を単体硫黄或いは石膏とし
て回収する回収装置4で構成される。ガス化炉本体の高
温雰囲気(1200〜2000℃)でガス状になった種々の微量
物質は、入口ガス温度400〜450℃に冷却される迄に、そ
の一部が未燃カ−ボン(チャ−)、灰分或いはタ−ル分
の固体表面上に凝縮して捕集されるが、大半はガス状で
ガス精製装置に流入する。集塵装置2の入口のガス化ガ
ス1の温度は400〜450℃、圧力は24〜26気圧程度であ
り、セラミックス製ポ−ラスフィルタが装填された集塵
装置2に導入されて、ガス中の煤塵はフィルタ上で堆積
捕集され、捕集ダスト5として系外に排出される。
[0004] The state of the art will be described below based on these techniques. FIG. 1 is an example of a system configuration of a fixed-bed gas purifier. The fixed-bed gas purifier includes a dust collector 2 for removing dust in the gasified gas 1, a desulfurizer 3 for removing sulfur compounds, and a collector 4 for collecting the removed sulfur as single sulfur or gypsum. You. Various trace substances that have become gaseous in the high temperature atmosphere (1200 to 2000 ° C) of the gasifier main body are partially unburned carbon (chamber) before being cooled to the inlet gas temperature of 400 to 450 ° C. -), Ash or tar is condensed and collected on the solid surface, but mostly flows into the gas purifier in gaseous form. The temperature of the gasified gas 1 at the inlet of the dust collecting device 2 is 400 to 450 ° C., the pressure is about 24 to 26 atm, and the gas is introduced into the dust collecting device 2 equipped with a ceramic porous filter. Is collected and collected on the filter and discharged out of the system as collected dust 5.

【0005】集塵装置2の後流に設置される脱硫装置3
の反応塔(図では2基示している)には、酸化鉄(Fe2O
3)を主成分とするハニカム脱硫剤が充填されている。
酸化鉄(Fe2O3)はガス温度400〜500℃で、ガス化ガス
1中のH2SやCOS等の硫黄化合物を吸収して硫化鉄(Fe
S)になり、反応塔出口の精製ガス6中の硫黄化合物濃
度が設定値に到達する前に、バルブを切り替えて入口ガ
スを他の反応塔へ通気することにより、連続的にガス化
ガス中の硫黄化合物を吸収除去して、精製ガス6を後流
のガスタ−ビンに供給する。一方、硫黄化合物を吸収し
た脱硫剤はO2を含有する再生ガスで加熱下に再生されて
繰り返し使用される。酸化鉄(Fe2O3)による脱硫、再
生は下記の化学反応式で示される。
[0005] Desulfurizer 3 installed downstream of dust collector 2
In the reaction tower (two shown in the figure), iron oxide (Fe 2 O
3 ) Honeycomb desulfurizing agent containing as a main component is filled.
Iron oxide (Fe 2 O 3 ) absorbs sulfur compounds such as H 2 S and COS in gasification gas 1 at a gas temperature of 400 to 500 ° C.
S), and before the concentration of the sulfur compound in the purified gas 6 at the outlet of the reaction tower reaches the set value, the valve is switched to ventilate the inlet gas to the other reaction tower, so that the gasified gas can be continuously removed. The purified gas 6 is supplied to a downstream gas turbine. On the other hand, the desulfurizing agent that has absorbed the sulfur compound is regenerated under heating with a regenerating gas containing O 2 and is used repeatedly. Desulfurization and regeneration with iron oxide (Fe 2 O 3 ) are represented by the following chemical reaction formula.

【0006】[0006]

【化1】 Embedded image

【0007】[0007]

【化2】 再生で発生した亜硫酸ガス(SO2)7は硫黄回収装置4
で単体硫黄又は石膏8として回収される。
Embedded image Sulfurous gas (SO 2 ) 7 generated by regeneration is supplied to a sulfur recovery unit 4
And recovered as elemental sulfur or gypsum 8.

【0008】本発明者らはハニカム脱硫装置及び脱硫剤
に関する種々の提案をしており、酸化チタン(TiO2)と
酸化鉄(Fe2O3)を主成分とする脱硫剤の実用性を見い
だした。しかしこの脱硫剤は硫黄化合物を吸着除去する
ものであり、石炭ガス化ガスに含有されているガス状の
アルカリ金属(Na、K)化合物、ハロゲン(Cl、F)又は
その化合物、シアン(CN)化合物、重金属(As、Cd、H
g、Pb、Zn等)、アンモニア(NH3)を除去する機能は基
本的には有しておらず、これらの一部が後流機器のガス
タ−ビンの燃料規格を満足しないことが往々にして見ら
れた。
The present inventors have made various proposals regarding a honeycomb desulfurization apparatus and a desulfurization agent, and have found practical use of a desulfurization agent containing titanium oxide (TiO 2 ) and iron oxide (Fe 2 O 3 ) as main components. Was. However, this desulfurizing agent adsorbs and removes sulfur compounds, and contains gaseous alkali metal (Na, K) compounds, halogens (Cl, F) or their compounds, and cyan (CN) contained in coal gasification gas. Compounds, heavy metals (As, Cd, H
g, Pb, Zn, etc.) and ammonia (NH 3 ) are basically not provided, and some of them do not often meet the fuel standards of gas turbines in downstream equipment. I was seen.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、石炭や重質
油のガス化ガス中の煤塵及び硫黄化合物を除去すると同
時に、後流機器のガスタ−ビンの腐食原因となるあるい
は大気排出濃度規制の観点から低減を要求されるガス状
のアルカリ金属(Na、K)化合物、ハロゲンガス成分(C
l、F等のハロゲン化水素及びハロゲン)、重金属(As、
Cd、Hg、Pb、Zn等)およびその化合物、アンモニア等の
微量物質を、特に、ハロゲンガス成分、アンモニア等の
微量物質を、ガス温度を低下させることなく、即ち熱効
率に優れる乾式法の特徴を失うことなく、効果的に除去
してガスタ−ビンの燃料規格を満たすガス化ガスを製造
するための微量物質の除去方法を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is intended to remove dust and sulfur compounds in the gasification gas of coal and heavy oil, and at the same time, to cause a gas turbine of a downstream device to corrode or to regulate the concentration in the atmosphere. Gaseous alkali metal (Na, K) compounds and halogen gas components (C
l, F and other hydrogen halides and halogens), heavy metals (As,
Cd, Hg, Pb, Zn, etc.) and its compounds, trace substances such as ammonia, especially halogen gas components, trace substances such as ammonia without lowering the gas temperature, that is, the feature of the dry method that is excellent in thermal efficiency. It is an object of the present invention to provide a method of removing trace substances for producing a gasified gas which meets the fuel specifications of a gas turbine by effectively removing it without losing it.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、高温還元
性ガスに含まれる煤塵及び硫黄化合物を乾式精製除去す
るに際し、硫黄化合物を除去する脱硫装置とその後流の
煤塵を除去する集塵装置の間に、アンモニアとハロゲン
ガス成分を反応させてアンモニウム塩を生成させるこ
と、水酸化カルシウムのような塩基性無機化合物を添加
してハロゲンガス成分を吸収除去すること、集塵装置出
口にハロゲン除去器を設置すること、及び、集塵装置出
口の精製ガスをガス加熱用熱交換器で再加熱し、両熱交
換器間を熱媒で熱交換することにより高温還元性ガス中
微量物質が熱効率よく乾式除去できることを見いだし本
発明を完成した。
Means for Solving the Problems In dry-refining and removing dust and sulfur compounds contained in a high-temperature reducing gas, the present inventors have a desulfurization apparatus for removing sulfur compounds and a dust collector for removing dust that flows downstream. Between the devices, ammonia and halogen gas components react to form ammonium salts; add a basic inorganic compound such as calcium hydroxide to absorb and remove halogen gas components; By installing a remover, and reheating the purified gas at the outlet of the dust collector with a heat exchanger for gas heating and exchanging heat with a heat medium between both heat exchangers, trace substances in the high-temperature reducing gas are reduced. The present inventors have found that dry removal can be performed with good thermal efficiency and completed the present invention.

【0011】すなわち本発明の第1は、高温で得られた
ガス化ガスに含まれる煤塵及び少なくとも硫化水素及び
/又は硫化カルボニルを含む硫黄化合物を乾式精製除去
する方法において、脱硫工程の後流に集塵工程を設け、
脱硫工程と集塵工程の間で脱硫後のガス化ガス中に予め
同時に存在する、ハロゲンガス成分とアンモニアを反応
させた後、ガス化ガスを冷却してハロゲン化アンモニウ
ムを析出させて分離することを特徴とするガス化ガス中
の微量物質の除去方法に関するものであり、200℃以下
に冷却することにより、Cl濃度(塩化水素換算)を20pp
m程度以下に低下させることが可能である。本発明の第
2は、脱硫工程と集塵工程の間で、脱硫後のガス化ガス
に、水酸化カルシウム、酸化カルシウム、炭酸カルシウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナト
リウム及びこれらの混合物からなる群から選ばれた塩基
性無機化合物を添加して、ガス化ガス中のハロゲンガス
成分とアンモニアを反応させて残るハロゲンガス成分を
塩基性無機化合物と反応させると共に集塵工程の温度が
200℃以下に冷却されるようにして、析出したハロゲ
ン化アンモニウム、及びハロゲンガス成分と塩基性無機
化合物の反応物を集塵工程により分離する上記のガス化
ガス中の微量物質の除去方法に関するものであり、塩基
性無機化合物としてCa(OH)2残るハロゲンガス成分に
対して2〜3倍使用することにより、塩基性無機化合物
と反応させる温度が240℃ではガス化ガス中のCl濃度が1
00ppmから7ppmに減少し、200℃では20ppmから0.5ppmに
減少した。本発明の第3は、ハロゲンガス成分を塩基性
無機化合物と反応させて集塵工程において分離した後の
ガス化ガスをゼオライト、活性アルミナ、炭酸ナトリウ
ム及びこれらの混合物からなる群から選ばれたハロゲン
吸着剤により処理する上記に記載のガス化ガス中の微量
物質の除去方法に関するものであり、ガス化ガスに残存
する極微量のハロゲンガス成分を吸着除去する方法とし
て、ゼオライトのペレット吸着剤を使用して240℃、200
℃で処理した場合には、残存Cl濃度が7ppmから0.05ppm
に減少し、200℃では0.5ppmから0.05ppmに減少した。本
発明の第4は、脱硫後のガス化ガスをガス冷却用熱交換
器により、ハロゲン化アンモニウムを200℃以下で
出させるのに必要な温度に冷却して、集塵後のガスをガ
ス加熱用熱交換器で再加熱し、ガス冷却用熱交換器とガ
ス加熱用熱交換器を熱媒で熱交換することを特徴とする
ガス化ガス中の微量物質の前記の各除去方法に関するも
のであり、乾式ガス精製装置入口におけるガス化ガス温
度420℃程度のものを脱硫処理後、ガス冷却用熱交換器
で冷却して、200℃に冷却したものをガス加熱用熱交換
器により340℃に再加熱することができた。
That is, a first aspect of the present invention is that dust and at least hydrogen sulfide contained in a gasified gas obtained at a high temperature and
In a method for dry purification of sulfur compounds containing carbonyl sulfide , a dust collection step is provided downstream of the desulfurization step,
Advance in the gasification gas after desulfurization between desulfurization and dust collection step
The present invention relates to a method for removing trace substances in a gasified gas, which comprises simultaneously reacting a halogen gas component and ammonia, and then cooling the gasified gas to precipitate and separate ammonium halide. By cooling to 200 ℃ or less, the Cl concentration (converted to hydrogen chloride) becomes 20pp
m or less. The second aspect of the present invention is that, between the desulfurization step and the dust collection step, the gasified gas after desulfurization is converted from calcium hydroxide, calcium oxide, calcium carbonate, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium hydroxide and a mixture thereof. the basic inorganic compound selected from the group formed by addition of a halogen gas in the gasification gas
Temperature of Rutotomoni dust collecting step the halogen gas component remaining by reacting component and ammonia is reacted with a basic inorganic compound
The halogenated precipitate is cooled down to 200 ° C or less.
Ammonium and halogen gas components and basic inorganics
The present invention relates to a method for removing a trace substance in a gasified gas, in which a reactant of a compound is separated by a dust collection step , wherein Ca (OH) 2 is used as a basic inorganic compound in a concentration of 2 to 3 times that of a halogen gas component remaining. By using, when the temperature for reacting with the basic inorganic compound is 240 ° C., the Cl concentration in the gasified gas is 1%.
It decreased from 00 ppm to 7 ppm, and decreased from 20 ppm to 0.5 ppm at 200 ° C. A third aspect of the present invention is that the gasified gas after the halogen gas component is reacted with the basic inorganic compound and separated in the dust collecting step is converted into a halogen gas selected from the group consisting of zeolite, activated alumina, sodium carbonate and a mixture thereof. The present invention relates to a method for removing trace substances in a gasified gas as described above, which is treated with an adsorbent, and uses a zeolite pellet adsorbent as a method for adsorbing and removing a trace amount of a halogen gas component remaining in the gasified gas. 240 ° C, 200
℃, the residual Cl concentration is 7ppm to 0.05ppm
At 200 ° C decreased from 0.5 ppm to 0.05 ppm. A fourth aspect of the present invention is that the gasified gas after desulfurization is cooled to a temperature required to precipitate ammonium halide at a temperature of 200 ° C. or less by a gas cooling heat exchanger, and after the dust collection, Reheating the gas with a gas heat exchanger, and exchanging heat with a heat medium between the gas cooling heat exchanger and the gas heating heat exchanger. This is related to the removal method.After the desulfurization treatment, the gasification gas temperature of about 420 ° C at the inlet of the dry gas purifier is cooled by a heat exchanger for gas cooling, and the one cooled to 200 ° C is exchanged for heat exchange for gas heating. Could be reheated to 340 ° C.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明は方式の如何を問わず乾式
ガス精製全般に適用されるが、ここでは固定床方式で説
明する。ハニカム脱硫装置による脱硫は集塵装置による
煤塵除去の前で行う。本発明者らが提案した酸化鉄(Fe
2O3)系ハニカム脱硫剤はダストフリ−形式なので、前
もってサイクロン等の粗集塵により煤塵量を100mg/m3N
程度に低減しておけば、多少の煤塵を含有するガスでも
閉塞することなく安定して連続運転できる。また、脱硫
剤の吸収反応は、ガス化炉出口ガスの温度が400〜500℃
の条件で好適になり、塩化水素(HCl)などのハロゲン
ガス成分の被毒も受けないよう配慮されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention is applied to dry gas purification in general regardless of the system, but here, a fixed bed system will be described. The desulfurization by the honeycomb desulfurizer is performed before the dust removal by the dust collector. The iron oxide (Fe
Since the 2 O 3 ) -based honeycomb desulfurizing agent is a dust-free type, the amount of dust is reduced to 100 mg / m 3 N by coarse dust collection such as cyclone in advance.
If it is reduced to such a degree, even a gas containing some dust can be stably operated continuously without clogging. In addition, the temperature of the gas at the outlet of the gasifier is 400 to 500 ° C.
Under the conditions described above, and consideration is given not to poisoning of halogen gas components such as hydrogen chloride (HCl).

【0013】塩化水素(HCl)などのハロゲンガス成分
はガス化ガス中に過剰にあるアンモニア(NH3)と反応
して固体の塩化アンモニウム(NH4Cl)を生成すること
により、さらに微量残存するCl分は塩基性無機化合物と
の吸収反応により除去することができる。例えば、塩化
水素(HCl)とアンモニア(NH3)は、400〜500℃の高温
ガス中では塩化アンモニウム(NH4Cl)を生成せず、そ
れぞれガス状で存在しているが、ガス温度を低下させて
いくと、(3)式の反応により固体の塩化アンモニウム
(NH4Cl)を生成する。
[0013] Halogen gas components such as hydrogen chloride (HCl) react with excess ammonia (NH 3 ) in the gasification gas to form solid ammonium chloride (NH 4 Cl), thereby remaining in trace amounts. Cl can be removed by an absorption reaction with a basic inorganic compound. For example, hydrogen chloride (HCl) and ammonia (NH 3 ) do not produce ammonium chloride (NH 4 Cl) in a high-temperature gas of 400 to 500 ° C., and exist in gaseous form, respectively. Then, solid ammonium chloride (NH 4 Cl) is produced by the reaction of the formula (3).

【0014】[0014]

【化3】 Embedded image

【0015】そしてガス中の塩化水素(HCl)とアンモニ
ア(NH3)濃度は、ガス温度が低いほど低くなり、150〜
160℃ではほとんどの塩化水素(HCl)が反応してガス状
で存在しなくなる。ガス温度を下げる手段としてガス−
ガス熱交換器が使用される。なお、ガス温度をあまり下
げることは、熱利用の点から好ましくないので、ハロゲ
ン化合物の除去率を考慮してガスの冷却温度が決められ
る。通常、石炭や重質油のガス化ガスではアンモニア
(NH3)濃度が塩化水素(HCl)濃度より高いが、塩化水
素(HCl)濃度が逆に高い場合や、ガス温度が200℃程度
までしか低下しない場合には、塩化アンモニウム(NH4C
l)の生成によるハロゲン除去のみでは充分でなく、塩
基性無機化合物の添加によるハロゲンガス成分の除去を
行う必要がある。なお、アンモニア(NH3)濃度が塩化
水素(HCl)濃度より低い場合には、アンモニアを添加
してもよい。
The concentration of hydrogen chloride (HCl) and ammonia (NH 3 ) in the gas becomes lower as the gas temperature becomes lower.
At 160 ° C, most of the hydrogen chloride (HCl) reacts and no longer exists in gaseous form. Gas-as a means to lower gas temperature
A gas heat exchanger is used. It is to be noted that it is not preferable to lower the gas temperature too much from the viewpoint of heat utilization. Therefore, the cooling temperature of the gas is determined in consideration of the halogen compound removal rate. Normally, the gasification gas of coal and heavy oil has an ammonia (NH 3 ) concentration higher than the hydrogen chloride (HCl) concentration, but when the hydrogen chloride (HCl) concentration is conversely high or the gas temperature is only up to about 200 ° C If it does not decrease, use ammonium chloride (NH 4 C
It is not enough to simply remove the halogen by the formation of l), and it is necessary to remove the halogen gas component by adding a basic inorganic compound. When the ammonia (NH 3 ) concentration is lower than the hydrogen chloride (HCl) concentration, ammonia may be added.

【0016】塩基性無機化合物としては、Ca(OH)2等やN
a2CO3等が知られており、前者は好ましくは250℃以下で
反応するが、後者は400〜600℃で反応する。脱硫工程の
入口ガス温度は400〜450℃程度であり、後者ではそのま
ま煙道内に添加すればよいが、前者では処理ガスを250
℃程度まで冷却した後に添加する必要がある。したがっ
て、Ca(OH)2等を添加する温度は、塩化アンモニウムを
析出させるために冷却したガス化ガスの温度が適してい
る。Ca(OH)2やNa2CO3の他にCaO、CaCO3等、NaOH、NaHCO
3等が使用できる。
Examples of the basic inorganic compound include Ca (OH) 2 and N
a 2 CO 3 and the like are known, the former preferably is reacted at 250 ° C. or less, the latter react at 400 to 600 ° C.. The gas temperature at the inlet of the desulfurization step is about 400 to 450 ° C. In the latter case, the gas can be added to the flue as it is.
It needs to be added after cooling to about ° C. Therefore, the temperature at which Ca (OH) 2 or the like is added is suitably the temperature of the gasified gas cooled to precipitate ammonium chloride. Ca (OH) 2 or in addition to CaO of Na 2 CO 3, CaCO 3, etc., NaOH, NaHCO
3 etc. can be used.

【0017】[0017]

【化4】 Embedded image

【0018】[0018]

【化5】 Embedded image

【0019】これらの塩基性無機化合物はごみ焼却炉排
ガスの脱塩素剤として実用化されているようにスラリ−
状で供給することもできるし、多孔質化してガス吸着面
積を増加させたものを別の反応器に充填してハロゲンガ
ス成分を反応除去することもできる。
These basic inorganic compounds are used as a dechlorinating agent for waste gas from incinerators as slurry.
The halogen gas component can be supplied in the form of a gas or can be made porous to increase the gas adsorption area and charged into another reactor to remove the halogen gas component.

【0020】塩基性無機化合物との反応生成物及び未反
応の塩基性無機化合物は煤塵成分と共に集塵装置で捕集
され系外に排出する。
The reaction product with the basic inorganic compound and the unreacted basic inorganic compound are collected by a dust collector together with the dust component and discharged to the outside of the system.

【0021】集塵装置で捕集できなかった極微量のハロ
ゲンガス成分は、必要であればハロゲン除去器に充填し
たハロゲン吸着剤で更に吸着除去する。ハロゲン吸着剤
としてはゼオライト、活性アルミナ、活性Na2CO3などを
ペレット等に成形したものが好ましい。
The trace amount of halogen gas components that could not be collected by the dust collector are further removed by adsorption with a halogen adsorbent filled in a halogen remover, if necessary. As the halogen adsorbent, zeolite, activated alumina, active Na 2 CO 3 or the like formed into pellets or the like is preferable.

【0022】ハロゲン化アンモニウムを析出させるため
にガス化ガスを冷却する場合は、ハロゲンガス成分除去
後のガス化ガスを再加熱して後流のガスタ−ビンに供給
するのが望ましいが、ガス冷却用熱交換器との間に熱媒
を循環させて、冷却した熱を加熱の熱源として有効利用
することができる。熱媒としては従来のものが使用でき
る。
When the gasified gas is cooled in order to precipitate ammonium halide, it is desirable to reheat the gasified gas after removing the halogen gas component and supply it to the downstream gas turbine. By circulating a heat medium between the heat exchanger and the heat exchanger, the cooled heat can be effectively used as a heat source for heating. A conventional heating medium can be used.

【0023】[0023]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will now be described specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0024】(実施例1)第2図により、本発明の一実
施例の固定床方式ガス精製装置のシステム構成を説明す
るが、本発明は流動床方式、移動床方式にも適用可能で
ある。乾式ガス精製装置入口におけるガス化ガス1の圧
力は25気圧、温度は420℃程度であり、まず硫黄化合物
を除去するハニカム脱硫剤を充填した脱硫装置3(ここ
では反応塔2基を設けて切替使用する例を示すが、3基
以上設けてもよい)に導入される。硫黄化合物H2SとCOS
の含有量の合計は炭種、ガス化炉形式により異なるが、
500〜1500ppmであり、ハニカム脱硫剤によりH2SとCOSが
吸収除去される。本実施例では、脱硫装置3の2基の反
応塔の切り替え時間を4時間にして、精製ガス6中の硫
黄化合物濃度が35ppm以下となるように脱硫剤充填量を
設定しており、その時のGHSV(気体の時間あたり空間速
度)値は1,800h-1であった。なお、脱硫に使用後の脱
硫剤は、再生処理して発生する亜硫酸ガス7を硫黄回収
装置4で、ガス還元法により単体硫黄に変えて、または
CaCO3との反応による石膏に変えて、硫黄又は石膏8と
して回収する。
(Embodiment 1) A system configuration of a fixed bed type gas purifying apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 2. However, the present invention is also applicable to a fluidized bed type and a moving bed type. . The pressure of the gasified gas 1 at the inlet of the dry gas purifier is 25 atm and the temperature is about 420 ° C. First, a desulfurization apparatus 3 (here, two reaction towers are provided and switched, provided with a honeycomb desulfurizing agent for removing sulfur compounds) Although an example of use is shown, three or more groups may be provided). Sulfur compounds H 2 S and COS
Total content varies depending on coal type and gasifier type,
H 2 S and COS are absorbed and removed by the honeycomb desulfurizing agent. In the present embodiment, the desulfurizing agent filling amount is set such that the switching time of the two reaction towers of the desulfurizing apparatus 3 is set to 4 hours, and the sulfur compound concentration in the purified gas 6 becomes 35 ppm or less. The GHSV (gas hourly space velocity) value was 1,800 h -1 . The desulfurizing agent used for desulfurization is obtained by converting the sulfurous acid gas 7 generated by the regeneration treatment into simple sulfur by a gas reduction method in the sulfur recovery device 4, or
It is recovered as sulfur or gypsum 8 instead of gypsum by reaction with CaCO 3 .

【0025】ガス化ガス1には微量のアンモニア(N
H3)、ハロゲンガス成分(HCl、HF、ハロゲン等)、シ
アン(CN)化合物、アルカリ金属(Na、K)化合物、及
び重金属(As、Cd、Hg、Pb、Zn等)およびその化合物が
ガス状で存在しており、例えばハロゲンガス成分はHCl
換算(以下同様の表示)で10〜100ppm程度、アンモニア
(NH3)は500〜1,500ppm程度含まれている。固体の塩化
アンモニウム(NH4Cl)が析出する反応((3)式)を
利用して除去する場合は、ハロゲンガス成分をできるだ
け除去するために、脱硫装置3の出口のガス化ガス中の
HClが100ppm、NH3が1,500ppmとなる条件で試験した。そ
して脱硫後ガス化ガスをガス冷却用熱交換器9を通過さ
せて、240℃及び180℃まで冷却した。冷却後の精製ガス
をサンプリングしてHCl濃度を分析した結果を表1に示
す。
A small amount of ammonia (N
H 3 ), halogen gas components (HCl, HF, halogen, etc.), cyanide (CN) compounds, alkali metal (Na, K) compounds, and heavy metals (As, Cd, Hg, Pb, Zn, etc.) and their compounds For example, the halogen gas component is HCl
About 10 to 100 ppm in terms of conversion (similar display), and about 500 to 1,500 ppm of ammonia (NH 3 ). When removing using a reaction (formula (3)) in which solid ammonium chloride (NH 4 Cl) is precipitated, in order to remove as much as possible the halogen gas component, the gaseous gas in the outlet of the desulfurization unit 3 is used.
The test was carried out under the condition that HCl was 100 ppm and NH 3 was 1,500 ppm. After the desulfurization, the gasified gas was passed through a gas cooling heat exchanger 9 and cooled to 240 ° C. and 180 ° C. Table 1 shows the results of sampling the purified gas after cooling and analyzing the HCl concentration.

【0026】[0026]

【表1】 [Table 1]

【0027】240℃に冷却したガス化ガス中の残存HCl濃
度は冷却前のガスと同じ100ppmであったが、180℃に冷
却すると精製ガス中の残存HCl濃度は2.3ppmまで減少
し、約98ppmのHClが除去された。これらの結果から240
℃では固体の塩化アンモニウム(NH4Cl)が生成しない
が、180℃では固体の塩化アンモニウムが生成してガス
化ガスから分離されることが判った。(3)式における
HClの平衡定数(Kp)は180℃で2.494×10-6、200℃
で16.95×10-6、240℃で486.4×10-6である(出典:便
覧 物質の熱力的性質、発行所;日・ソ通信社、昭和54
年11月5日)。これより、圧力25気圧、NH3濃度1,500ppm
の条件における塩化アンモニウム生成反応のHCl平衡ガ
ス濃度を計算すると、180℃で2.7ppm、200℃で18.1pp
m、240℃で518ppmとなり、分析値とよく一致している。
即ち、この場合ハロゲンガス成分はHClとみなすと、240
℃ではHCl濃度100ppmはHCl平衡ガス濃度以下であるの
で、塩化アンモニウム生成反応は起こらないが、180℃
ではHCl平衡ガス濃度2.7pppmより遥かに高いので、その
差分が固体の塩化アンモニウムとして析出したと判断出
来る。また200℃のHCl平衡ガス濃度は18.1ppmと計算さ
れるので、180〜200℃程度に冷却することにより数ppm
〜20ppm程度のHClの濃度に低下させることが可能であ
る。
The residual HCl concentration in the gasified gas cooled to 240 ° C. was 100 ppm, which is the same as the gas before cooling, but when cooled to 180 ° C., the residual HCl concentration in the purified gas was reduced to 2.3 ppm, and was approximately 98 ppm. HCl was removed. 240 from these results
It was found that solid ammonium chloride (NH 4 Cl) was not generated at ° C, but solid ammonium chloride was generated at 180 ° C and separated from the gasified gas. In equation (3)
The equilibrium constant (Kp) of HCl is 2.494 × 10 -6 at 180 ° C, 200 ° C
Is 16.95 × 10 -6 and 486.4 × 10 -6 at 240 ° C (Source: Handbook: Thermodynamic properties of substances, issuance office; Japan-Soviet News Agency, Showa 54)
November 5). From this, the pressure 25 atm, NH 3 concentration 1,500ppm
Calculating the HCl equilibrium gas concentration of the ammonium chloride formation reaction under the conditions of 2.7 ppm at 180 ° C and 18.1 pp at 200 ° C
m, 518 ppm at 240 ° C, which is in good agreement with the analytical value.
That is, in this case, when the halogen gas component is regarded as HCl, 240
At 100 ° C, since the HCl concentration of 100 ppm is below the HCl equilibrium gas concentration, ammonium chloride formation reaction does not occur, but 180 ° C.
Since the HCl equilibrium gas concentration is much higher than 2.7 pppm, it can be determined that the difference is precipitated as solid ammonium chloride. Also, since the HCl equilibrium gas concentration at 200 ° C is calculated to be 18.1 ppm, several ppm can be obtained by cooling to about 180 to 200 ° C.
It is possible to reduce the concentration of HCl to about 20 ppm.

【0028】他のハロゲンガス成分の除去方法として
は、塩基性無機化合物としてCa(OH)2を使用する方法で
ある。脱硫装置3で処理された脱硫後ガスに、塩基性無
機化合物13としてCa(OH)2をHClに対してモル比で2〜
3倍の量を添加すると、ガス化ガス中のHClは(4)式
の反応によりCaCl2として固定される。この際HF等のハ
ロゲンガス成分もCaF2として固定される。(4)式の反
応は250℃以下が好適であり、240℃又は200℃のガス温
度で反応させた。なお、Ca(OH)2は塩基性無機化合物供
給装置16により粉末状でガス中に噴霧したが、付着水
の蒸発等によりガス温度は40℃程度低下するので、ガス
温度を調整するために脱硫後ガスをガス冷却用熱交換器
9を通して予め280℃又は240℃迄冷却した。ハロゲン化
アンモニウム析出後のガス化ガスには、240℃での反応
の場合はHClが100ppm(即ち塩化アンモニウムが析出し
ないとして)、200℃での反応の場合はHClが20ppm含ま
れるとして、Ca(OH)2をHClに対してモル比で2.5倍量添
加した。CaCl2の生成は、ガス化ガスが流れるダクトの
中でもCa(OH)2を添加する付近のダクトで主に起こる
が、後流の集塵装置2のポーラスフィルタエレメント上
の堆積層でも一部進行する。
Another method for removing halogen gas components is a method using Ca (OH) 2 as a basic inorganic compound. In the desulfurized gas treated in the desulfurization device 3, Ca (OH) 2 as a basic inorganic compound 13 is added in a molar ratio of 2 to HCl with respect to HCl.
When three times the amount is added, HCl in the gasified gas is fixed as CaCl 2 by the reaction of equation (4). At this time, halogen gas components such as HF are also fixed as CaF 2 . The reaction of the formula (4) is preferably performed at 250 ° C. or lower, and the reaction was carried out at a gas temperature of 240 ° C. or 200 ° C. Although Ca (OH) 2 was sprayed into the gas in powder form by the basic inorganic compound supply device 16, the gas temperature dropped by about 40 ° C. due to evaporation of attached water and the like. Thereafter, the gas was cooled to 280 ° C. or 240 ° C. in advance through a gas cooling heat exchanger 9. Assuming that the gasified gas after the precipitation of ammonium halide contains 100 ppm of HCl in the case of a reaction at 240 ° C. (that is, no ammonium chloride is precipitated) and that of 20 ppm of HCl in the case of a reaction at 200 ° C., OH) 2 was added in a molar ratio of 2.5 to HCl. The generation of CaCl 2 mainly occurs in the duct near the Ca (OH) 2 addition in the duct through which the gasification gas flows, but also partially progresses in the deposition layer on the porous filter element of the dust collector 2 in the downstream. I do.

【0029】固定床式のシステム構成は、通常集塵装置
の後流に脱硫装置を設置するのが基本であるが、本発明
では、塩基性無機化合物13の添加供給に伴う新たな煤
塵発生があるため、脱硫装置3の後流に集塵装置2を設
置するのが望ましい。集塵装置2では、主成分のチャ−
以外にカルシウム化合物(CaCl2、CaF2、未反応Ca(O
H)2)とその他のアルカリ金属(Na、K等)及び重金属
(As、Cd、Hg、Pb、Zn等)等の微量物質が固定化されて
捕集され、捕集ダスト14として系外に排出される。集
塵装置2の出口ガス中の濃度は、ダストでは1mg/m3N
以下であり、ハロゲンガス成分濃度は反応温度240℃で
は入口濃度100ppmが7ppmに低下し、200℃では20ppmが
0.5ppmに低下した。この集塵装置2はポ−ラスフィルタ
集塵機の他にも、電気集塵機、グラニュラベッドフィル
タなどの集塵形式も適用できる。
In the fixed bed system configuration, a desulfurizer is usually installed downstream of the dust collector, but in the present invention, new dust is generated due to the addition and supply of the basic inorganic compound 13. Therefore, it is desirable to install the dust collector 2 downstream of the desulfurizer 3. In the dust collection device 2, the main component
Other than calcium compounds (CaCl 2 , CaF 2 , unreacted Ca (O
H) 2 ) and other trace substances such as alkali metals (Na, K, etc.) and heavy metals (As, Cd, Hg, Pb, Zn, etc.) are fixed and collected, and collected as dust 14 outside the system. Is discharged. The concentration in the outlet gas of the dust collector 2 is 1 mg / m 3 N for dust.
At the reaction temperature of 240 ° C, the inlet gas concentration of 100ppm drops to 7ppm, and at 200 ° C, the concentration of halogen gas component becomes 20ppm.
It decreased to 0.5 ppm. The dust collecting device 2 can use a dust collecting type such as an electric dust collector and a granular bed filter in addition to the porous filter dust collector.

【0030】更にハロゲンガス成分の除去が必要な場合
は、集塵装置2の出口ガスはハロゲン除去器17に導か
れてハロゲン吸着剤15により除去される。ここでは塩
基性無機化合物13の添加により除去しきれなかった極
微量のハロゲンガス成分を吸着除去する。本実施例では
ハロゲン吸着剤15としてゼオライトのペレット吸着剤
(3mmΦ)を使用し、SV値3,000h-1にてガス化ガスをハ
ロゲン除去器17に通過させた。ハロゲン除去器17通
過後の精製ガス6のハロゲンガス成分濃度は反応温度24
0℃、200℃の何れにおいても0.05ppmであり、ほぼ完全
に除去された。
When the halogen gas component needs to be further removed, the outlet gas of the dust collector 2 is led to the halogen remover 17 and removed by the halogen adsorbent 15. Here, a very small amount of halogen gas components that could not be removed by the addition of the basic inorganic compound 13 are adsorbed and removed. In the present embodiment, a zeolite pellet adsorbent (3 mmΦ) was used as the halogen adsorbent 15, and the gasified gas was passed through the halogen remover 17 at an SV value of 3,000 h −1 . After passing through the halogen remover 17, the concentration of the halogen gas component of the purified gas 6 is set to a reaction temperature of 24
It was 0.05 ppm at both 0 ° C and 200 ° C, and was almost completely removed.

【0031】ハロゲン除去器17の出口ガスはガス加熱
用熱交換器10で再加熱される。この際、ガス冷却用熱交
換器9とガス加熱用熱交換器10との間を熱媒11が循環
することにより、冷却した熱と加熱する熱を効率よく使
用できる。このようにして再加熱されてガスタ−ビン燃
料として供給される燃料ガス12は外部から熱が補給さ
れなくても、ガス冷却用熱交換器9の出口ガス温度240
℃時では380℃に、200℃時では340℃に回復するため、
乾式ガス精製の特徴である熱効率の良さをそれほど失う
ことなく、ハロゲン等の微量物質の除去が達成される。
The outlet gas of the halogen remover 17 is reheated by the gas heat exchanger 10. At this time, the heat medium 11 circulates between the gas-cooling heat exchanger 9 and the gas-heating heat exchanger 10, so that the cooled heat and the heating heat can be used efficiently. The fuel gas 12 thus reheated and supplied as the gas turbine fuel has an outlet gas temperature 240 of the gas cooling heat exchanger 9 even if heat is not supplied from the outside.
To recover to 380 ° C at ℃ and to 340 ° C at 200 ° C,
Removal of trace substances such as halogens can be achieved without significantly losing the high thermal efficiency characteristic of dry gas purification.

【0032】なお、ガスタ−ビンに供給する燃料ガス1
2の温度を340℃以下に低くしても良い場合には、ガス
加熱用熱交換器10及び熱媒11を使用せずに、ガス冷
却用熱交換器9により精製ガス6と脱硫後ガスとを熱交
換して精製ガス6を加熱することも可能である。
The fuel gas 1 to be supplied to the gas turbine
In the case where the temperature of Step 2 can be lowered to 340 ° C. or less, the purified gas 6 and the desulfurized gas are separated by the heat exchanger 9 for gas cooling without using the heat exchanger 10 for heating gas and the heat medium 11. To heat the purified gas 6 by heat exchange.

【0033】[0033]

【発明の効果】石炭ガス化ガスや重質油ガス化ガスのよ
うな高温還元性ガスを乾式ガス精製(脱塵、脱硫)する
際に、乾式ガス精製の特徴である熱効率の良さを保持し
ながら、後流のガスタ−ビン燃料の規格値あるいは大気
排出濃度排出規制の観点からの低減要求値を下回る微量
物質濃度にすることが可能となる。
According to the present invention, when high-temperature reducing gas such as coal gasification gas or heavy oil gasification gas is subjected to dry gas purification (degassing and desulfurization), the high thermal efficiency characteristic of dry gas purification is maintained. However, it is possible to make the concentration of the trace substance lower than the standard value of the downstream gas turbine fuel or the required value for reduction from the viewpoint of the regulation of the emission of air into the atmosphere.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来の固定床方式ガス精製装置のシステム構成
を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a system configuration of a conventional fixed-bed gas purifier.

【図2】本発明の一実施例の固定床方式ガス精製装置の
システム構成を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a system configuration of a fixed-bed gas purifying apparatus according to one embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガス化ガス 2 集塵装置 3 脱硫装置 4 硫黄回収装置 5 捕集ダスト 6 精製ガス 7 亜硫酸ガス 8 硫黄又は石膏 9 ガス冷却用熱交換器 10 ガス加熱用熱交換器 11 熱媒 12 燃料ガス 13 塩基性無機化合物 14 捕集ダスト 15 ハロゲン吸着剤 16 塩基性無機化合物供給装置 17 ハロゲン除去器 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Gasification gas 2 Dust collection device 3 Desulfurization device 4 Sulfur recovery device 5 Collection dust 6 Purified gas 7 Sulfurous acid gas 8 Sulfur or gypsum 9 Heat exchanger for gas cooling 10 Heat exchanger for gas heating 11 Heat medium 12 Fuel gas 13 Basic inorganic compound 14 Collected dust 15 Halogen adsorbent 16 Basic inorganic compound supply device 17 Halogen remover

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 香川 晴治 東京都千代田区丸の内二丁目5番1号 三菱重工業株式会社内 (56)参考文献 特開 平5−220339(JP,A) 特開 平7−331257(JP,A) 特開 昭58−78619(JP,A) 特開 昭59−203627(JP,A) 特開 平8−332343(JP,A) 特開 平10−128069(JP,A) 特開 昭61−190591(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B01D 53/14 B01D 53/34 B01D 53/48 - 53/52 B01D 53/68 - 53/70 C10K 1/02 C10K 1/20 - 1/32 C10L 3/00 - 3/12 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Seiji Kagawa 2-5-1 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Inside Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. (56) References JP-A-5-220339 (JP, A) JP-A-7 JP-A-331257 (JP, A) JP-A-58-78619 (JP, A) JP-A-59-203627 (JP, A) JP-A-8-332343 (JP, A) JP-A-10-128069 (JP, A) (58) Fields studied (Int. Cl. 7 , DB name) B01D 53/14 B01D 53/34 B01D 53/48-53/52 B01D 53/68-53 / 70 C10K 1/02 C10K 1/20-1/32 C10L 3/00-3/12

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 高温で得られた還元性ガス化ガスに含ま
れる煤塵及び少なくとも硫化水素及び/又は硫化カルボ
ニルを含む硫黄化合物を乾式精製除去する方法におい
て、脱硫工程の後流に集塵工程を設け、脱硫工程と集塵
工程の間で脱硫後のガス化ガス中に予め同時に存在す
る、ハロゲンガス成分とアンモニアを反応させた後、ガ
ス化ガスを冷却してハロゲン化アンモニウムを析出させ
て分離することを特徴とするガス化ガス中の微量物質の
除去方法。
1. A dust and at least hydrogen sulfide and / or carbosulfide contained in a reducing gasified gas obtained at a high temperature.
In the method of dry-purifying and removing sulfur compounds containing nitro, a dust collection step is provided downstream of the desulfurization step, and the gaseous gas after desulfurization is simultaneously present between the desulfurization step and the dust collection step .
A method for removing trace substances in a gasified gas, comprising reacting a halogen gas component with ammonia, cooling the gasified gas to precipitate and separate ammonium halide.
【請求項2】 脱硫工程と集塵工程の間で、脱硫後のガ
ス化ガスに、水酸化カルシウム、酸化カルシウム、炭酸
カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水
酸化ナトリウム及びこれらの混合物からなる群から選ば
れた塩基性無機化合物を添加して、ガス化ガス中のハロ
ゲンガス成分とアンモニアを反応させて残るハロゲンガ
ス成分を塩基性無機化合物と反応させると共に集塵工程
の温度が200℃以下に冷却されるようにして、析出し
たハロゲン化アンモニウム、及びハロゲンガス成分と塩
基性無機化合物の反応物を集塵工程により分離する請求
項1に記載のガス化ガス中の微量物質の除去方法。
2. The method according to claim 1 , wherein the gasified gas after desulfurization is a group consisting of calcium hydroxide, calcium oxide, calcium carbonate, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium hydroxide and a mixture thereof between the desulfurization step and the dust collection step. Halo in the gasified gas by adding a basic inorganic compound selected from
A halogen gas component remaining by reacting Gengasu component and ammonia is reacted with a basic inorganic compound Rutotomoni dust collection step
Is cooled to a temperature of 200 ° C. or less,
Ammonium halides and halogen gas components and salts
The method according to claim 1, wherein the reactant of the basic inorganic compound is separated by a dust collection step .
【請求項3】 ハロゲンガス成分を塩基性無機化合物と
反応させて集塵工程において分離した後のガス化ガスを
ゼオライト、活性アルミナ、炭酸ナトリウム及びこれら
の混合物からなる群から選ばれたハロゲン吸着剤により
処理する請求項2に記載のガス化ガス中の微量物質の除
去方法。
3. A halogen adsorbent selected from the group consisting of zeolite, activated alumina, sodium carbonate, and a mixture thereof after reacting a halogen gas component with a basic inorganic compound and separating the gasified gas in a dust collection step. The method for removing trace substances in a gasified gas according to claim 2, wherein the treatment is carried out by:
【請求項4】 脱硫後のガス化ガスをガス冷却用熱交換
器により、ハロゲン化アンモニウムを200℃以下で
出させるのに必要な温度に冷却して、集塵後のガスをガ
ス加熱用熱交換器で再加熱し、ガス冷却用熱交換器とガ
ス加熱用熱交換器を熱媒で熱交換することを特徴とする
請求項1〜3のいずれかに記載のガス化ガス中の微量物
質の除去方法。
4. The gas after dust collection is cooled by a gas cooling heat exchanger to a temperature required to precipitate ammonium halide at a temperature of 200 ° C. or less. Gasification according to any one of claims 1 to 3, wherein the gasification heat exchanger is reheated with a gas heating heat exchanger, and the gas cooling heat exchanger and the gas heating heat exchanger are heat-exchanged with a heat medium. A method for removing trace substances in gas.
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