JP3252183B2 - Flexible wiring board and method of manufacturing the same - Google Patents
Flexible wiring board and method of manufacturing the sameInfo
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明はフレキシブル配線
基板及びその製造方法に関する。The present invention relates to a flexible wiring board and a method for manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】TCP(Tape Carrier Package)等で用い
られているキャリアテープ(フレキシブル配線基板)を
製造する場合、一例として、ポリイミドからなるベース
フィルムの幅方向両側にスプロケットホールを形成し、
次いでベースフィルムの一の面の幅方向中央部の配線形
成領域に銅箔を接着剤を介して貼り付け、次いで銅箔の
表面にフォトレジストを塗布し、次いで露光、現像を行
うことにより、フォトレジストパターンを形成し、次い
でフォトレジストパターンをマスクとして銅箔をエッチ
ングすることにより、配線を形成し、次いでフォトレジ
ストパターンを剥離している。この場合、ベースフィル
ムの長さは数十〜百m程度と長尺であり、スプロケット
ホール形成後の製造工程はピンローラ搬送によるロール
ツウロールで行われる。2. Description of the Related Art When manufacturing a carrier tape (flexible wiring board) used in TCP (Tape Carrier Package) or the like, as one example, sprocket holes are formed on both sides in the width direction of a base film made of polyimide.
Next, a copper foil is adhered to the wiring forming area at the center in the width direction of one surface of the base film via an adhesive, then a photoresist is applied to the surface of the copper foil, and then exposed and developed to perform photo-forming. A wiring is formed by forming a resist pattern and then etching the copper foil using the photoresist pattern as a mask, and then peeling off the photoresist pattern. In this case, the length of the base film is as long as several tens to hundreds of meters, and the manufacturing process after the formation of the sprocket holes is performed by roll-to-roll by pin roller conveyance.
【0003】ところで、ポリイミドからなるベースフィ
ルムとしては、一般的に、厚さが75〜125μm程度
と比較的厚いものが用いられている。このようなベース
フィルムでは、比較的厚いので、スプロケットホールの
部分の強度を十分とすることができ、ひいてはピンロー
ラのピンがスプロケットホールに良好にひっかかり、ピ
ンローラによる搬送をスムーズに行うことができ、また
スプロケットホールが変形しないようにすることができ
る。As a base film made of polyimide, a relatively thick film having a thickness of about 75 to 125 μm is generally used. Such a base film is relatively thick, so that the strength of the sprocket hole portion can be made sufficient, so that the pin of the pin roller can be satisfactorily hooked on the sprocket hole, and the transfer by the pin roller can be performed smoothly. The sprocket hole can be prevented from being deformed.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで、最近では、
ポリイミドからなるベースフィルムとして、厚さが25
μm程度と比較的薄いものを用いることが考えられてい
る。しかしながら、このようなベースフィルムでは、比
較的薄いので、スプロケットホールの部分の強度を十分
とすることができず、ひいてはピンローラのピンがスプ
ロケットホールにひっかからず、ピンローラによる搬送
を行うことができなかったり、ピンローラのピンがスプ
ロケットホールにひっかかっても、スプロケットホール
が変形し、後工程でのアライメント精度に悪影響を及ぼ
すという問題がある。この発明の課題は、ベースフィル
ムの厚さが比較的薄くても、ピンローラによる搬送をス
ムーズに行うことができ、またスプロケットホールが変
形しないようにすることである。By the way, recently,
As a polyimide base film, the thickness is 25
It has been considered to use a relatively thin one of about μm. However, such a base film is relatively thin, so that the strength of the sprocket hole portion cannot be sufficient, and consequently the pin of the pin roller does not catch on the sprocket hole, and the pin roller cannot be conveyed. In addition, even if the pin of the pin roller is caught on the sprocket hole, the sprocket hole is deformed, which adversely affects the alignment accuracy in a later process. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to smoothly carry a pin roller even when a base film has a relatively small thickness, and to prevent sprocket holes from being deformed.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明に係
るフレキシブル配線基板は、厚さがそれ自体ではスプロ
ケットホールの部分の強度を所期の通りとすることがで
きない程度に薄いベースフィルムの一の面の幅方向中央
部に形成された配線及び、前記ベースフィルムの他の面
全体に補強フィルムを設けられている時に、前記スプロ
ケットホールの周囲における前記ベースフィルムの一の
面に形成されたダミー配線を備えるものである。請求項
3記載の発明に係るフレキシブル配線基板の製造方法
は、厚さがそれ自体ではスプロケットホールの部分の強
度を所期の通りとすることができない程度に薄いベース
フィルムの一の面に導電層を設けると共に、前記ベース
フィルムの他の面に補強フィルムを設け、前記ベースフ
ィルム、前記導電層及び前記補強フィルムの幅方向両側
にスプロケットホールを形成し、前記ベースフィルムの
一の面の幅方向中央部に前記導電層によって配線を形成
すると共に、前記スプロケットホールの周囲における前
記ベースフィルムの一の面に前記導電層によってダミー
配線を形成し、この後前記補強フィルムを剥離するよう
にしたものである。この発明によれば、スプロケットホ
ールの周囲におけるベースフィルムの一の面にダミー配
線を形成しているので、ベースフィルムの厚さが比較的
薄くても、スプロケットホールの部分の実質的な強度を
所期の通りとすることができ、したがってピンローラに
よる搬送をスムーズに行うことができ、またスプロケッ
トホールが変形しないようにすることができる。According to a first aspect of the present invention, there is provided a flexible wiring board having a base film having a thickness which is so thin that the strength of a sprocket hole portion by itself cannot be as expected. Wiring formed at the center in the width direction of one surface and another surface of the base film
When the reinforcing film is provided as a whole, a dummy wiring is formed on one surface of the base film around the sprocket hole. The method of manufacturing a flexible wiring board according to the invention according to claim 3, wherein the conductive layer is formed on one surface of the base film having such a thickness that the strength of the sprocket hole portion by itself cannot be as expected. And a reinforcing film is provided on the other surface of the base film, and sprocket holes are formed on both sides in the width direction of the base film, the conductive layer and the reinforcing film, and a center in the width direction of one surface of the base film is provided. A wiring is formed by the conductive layer in the portion, a dummy wiring is formed by the conductive layer on one surface of the base film around the sprocket hole, and then the reinforcing film is peeled off. . According to the present invention, the dummy wiring is formed on one surface of the base film around the sprocket hole. Therefore, even if the thickness of the base film is relatively thin, the substantial strength of the sprocket hole portion is required. As a result, the transfer by the pin rollers can be performed smoothly, and the sprocket holes can be prevented from being deformed.
【0006】[0006]
【発明の実施の形態】図1〜図8はそれぞれこの発明の
一実施形態におけるキャリアテープ(フレキシブル配線
基板)の各製造工程を示したものである。そこで、これ
らの図を順に参照して、この実施形態におけるキャリア
テープ(フレキシブル配線基板)の構造についてその製造
方法と併せ説明する。1 to 8 show the steps of manufacturing a carrier tape (flexible wiring board) according to an embodiment of the present invention. Therefore, the structure of the carrier tape (flexible wiring board) in this embodiment will be described together with the manufacturing method thereof with reference to these drawings in order.
【0007】まず、図1に示すように、ボリイミドから
なる厚さ25μm程度のベースフィルム1の上面に接着
剤2を介して厚さ8μm程度の銅箔(導電層)3を貼り
付ける。この場合、ベースフィルム1及び銅箔3は、幅
が35mmの長尺なものからなっている。なお、この実
施形態では、ベースフィルム1、接着剤2及び銅箔3の
3層構造としているが、ベースフィルム1と銅箔3等の
導電層との2層構造であってもよい。First, as shown in FIG. 1, a copper foil (conductive layer) 3 having a thickness of about 8 μm is attached to the upper surface of a base film 1 made of polyimide having a thickness of about 25 μm via an adhesive 2. In this case, the base film 1 and the copper foil 3 are long and have a width of 35 mm. In this embodiment, a three-layer structure of the base film 1, the adhesive 2, and the copper foil 3 is used, but a two-layer structure of the base film 1 and a conductive layer such as the copper foil 3 may be used.
【0008】次に、図2に示すように、ベースフィルム
1の下面に接着剤4を介してPET(ポリエチレンテレ
フタレート)からなる厚さ50μm程度の補強フィルム
5を貼り付ける。補強フィルム5も幅が35mmの長尺
なものからなっている。補強フィルム5は、製造工程中
の搬送を確実とするためのものであり、厚さは50μm
以上であってもよい。例えば、補強フィルム5の厚さを
100μm程度あるいは125μm程度としてもよく、
厚いほど製造工程中の搬送をより一層確実とすることが
できる。Next, as shown in FIG. 2, a reinforcing film 5 made of PET (polyethylene terephthalate) having a thickness of about 50 μm is attached to the lower surface of the base film 1 via an adhesive 4. The reinforcing film 5 also has a long width of 35 mm. The reinforcing film 5 is for ensuring conveyance during the manufacturing process, and has a thickness of 50 μm.
It may be the above. For example, the thickness of the reinforcing film 5 may be about 100 μm or about 125 μm,
The transport during the manufacturing process can be further ensured as the thickness increases.
【0009】次に、図3に示すように、通常の金型を用
いたパンチングにより、ベースフィルム1、接着剤2、
銅箔3、接着剤4及び補強フィルム5の幅方向両側にス
プロケットホール6を形成する。Next, as shown in FIG. 3, a base film 1, an adhesive 2,
Sprocket holes 6 are formed on both sides in the width direction of the copper foil 3, the adhesive 4, and the reinforcing film 5.
【0010】次に、図4に示すように、ピンローラ7の
ピン8がスプロケットホール6に係合され、この状態で
ピンローラ7が所定の方向に所定の速度で回転すること
により、ベースフィルム1等が所定の方向に所定の速度
で搬送される。この場合、補強フィルム5がピンローラ
7側となっている。そして、この搬送において、銅箔3
の上面にドライフィルムレジスト9を貼り付ける。この
状態では、スプロケットホール6の上面側はドライフィ
ルムレジスト9によって覆われる。なお、ドライフィル
ムレジスト9も幅が35mmの長尺なものからなってい
る。Next, as shown in FIG. 4, the pin 8 of the pin roller 7 is engaged with the sprocket hole 6, and in this state, the pin roller 7 rotates in a predetermined direction at a predetermined speed, thereby obtaining the base film 1 and the like. Is transported in a predetermined direction at a predetermined speed. In this case, the reinforcing film 5 is on the pin roller 7 side. And in this conveyance, the copper foil 3
A dry film resist 9 on the upper surface of the substrate. In this state, the upper surface side of the sprocket hole 6 is covered with the dry film resist 9. Note that the dry film resist 9 is also made of a long material having a width of 35 mm.
【0011】ここで、ベースフィルム1の厚さが25μ
m程度と比較的薄くても、ベースフィルム1の下面に厚
さが50μm程度以上の補強フィルム5を貼り付けてい
るので、フィルム全体としての実質的な厚さが比較的厚
くなる。この結果、ピンローラ7のピン8がドライフィ
ルムレジスト9と接触しないようにして、ピンローラ7
による搬送をスムーズに行うことができ、またスプロケ
ットホール6が変形しないようにすることができる。Here, the thickness of the base film 1 is 25 μm.
Even though it is relatively thin, about m, the reinforcing film 5 having a thickness of about 50 μm or more is attached to the lower surface of the base film 1, so that the substantial thickness of the entire film becomes relatively thick. As a result, the pin 8 of the pin roller 7 is prevented from contacting the dry film resist 9 so that the pin roller 7
Can be smoothly carried out, and the sprocket hole 6 can be prevented from being deformed.
【0012】次に、図5に示すように、所定の露光及び
現像を行うことにより、銅箔3の上面の幅方向中央部の
配線形成領域に所定のレジストパターン9aを形成する
と共に、銅箔3の上面の幅方向両側に帯状のレジストパ
ターン9bを形成する。したがって、この状態では、ス
プロケットホール6の上面側は帯状のレジストパターン
9bによって覆われている。Next, as shown in FIG. 5, by performing predetermined exposure and development, a predetermined resist pattern 9a is formed in a wiring forming region at the center in the width direction on the upper surface of the copper foil 3, and A strip-shaped resist pattern 9b is formed on both sides in the width direction of the upper surface of No.3. Therefore, in this state, the upper surface side of the sprocket hole 6 is covered with the belt-shaped resist pattern 9b.
【0013】次に、図6に示すように、レジストパター
ン9a、9bをマスクとして銅箔3をエッチングするこ
とにより、ベースフィルム1の上面の幅方向中央部の配
線形成領域に所定の配線3aを形成すると共に、ベース
フィルム1の上面の幅方向両側に帯状のダミー配線3b
を形成する。この場合、ダミー配線3bにはスプロケッ
トホール6の一部がそのまま形成されている。Next, as shown in FIG. 6, by etching the copper foil 3 using the resist patterns 9a and 9b as a mask, a predetermined wiring 3a is formed in the wiring forming area at the center in the width direction on the upper surface of the base film 1. And a strip-shaped dummy wiring 3b on both sides in the width direction of the upper surface of the base film 1.
To form In this case, a part of the sprocket hole 6 is directly formed in the dummy wiring 3b.
【0014】次に、レジストパターン9a、9bを剥離
すると、図7に示すようになる。次に、補強フィルム5
を剥離すると、図8に示すキャリアテープが得られる。
なお、この状態におけるキャリアテープの一例の平面図
を図9に示す。このようにして得られたキャリアテープ
では、ベースフィルム1の厚さが25μm程度と比較的
薄くても、ベースフィルム1上の幅方向両側に帯状のダ
ミー配線3bが形成されているので、すなわち、スプロ
ケットホール6の周囲におけるベースフィルム1上にダ
ミー配線3bが形成されているので、スプロケットホー
ル6の部分の実質的な強度を所期の通りとすることがで
きる。したがって、図8及び図9に示す工程後において
も、ピンローラ7による搬送をスムーズに行うことがで
き、またスプロケットホール6が変形しないようにする
ことができ、ひいては後工程でのアライメント精度に悪
影響を及ぼさないようにすることができる。Next, when the resist patterns 9a and 9b are peeled off, the result is as shown in FIG. Next, the reinforcing film 5
Is peeled off, a carrier tape shown in FIG. 8 is obtained.
FIG. 9 shows a plan view of an example of the carrier tape in this state. In the carrier tape thus obtained, the strip-shaped dummy wirings 3b are formed on both sides in the width direction on the base film 1 even if the thickness of the base film 1 is relatively thin, about 25 μm. Since the dummy wirings 3b are formed on the base film 1 around the sprocket holes 6, the substantial strength of the portions of the sprocket holes 6 can be as expected. Therefore, even after the steps shown in FIGS. 8 and 9, the conveyance by the pin rollers 7 can be performed smoothly, and the sprocket holes 6 can be prevented from being deformed, which adversely affects the alignment accuracy in the subsequent steps. Can have no effect.
【0015】なお、ベースフィルム1の下面側の接着剤
4を除去するようにしてもよい。このようにした場合に
は、ベースフィルム1の下面がべたつかず、ゴミ等も付
着しないので、作業性を向上することができる。The adhesive 4 on the lower surface of the base film 1 may be removed. In this case, the lower surface of the base film 1 is not sticky and does not adhere with dust, so that the workability can be improved.
【0016】また、上記実施形態では、ベースフィルム
1として幅35mmのものを用いた場合について説明し
たが、これに限らず、幅70mm以上のものを用いても
よい。一例として、幅70mmのベースフィルムを用い
た場合において、図7に示す場合に対応する製造工程を
図10に示す。この場合、幅70mmのベースフィルム
1、接着剤2、銅箔3、接着剤4及び補強フィルム5の
幅方向両側にスプロケットホール6が形成されていると
共に、同幅方向中央部に2つのスプロケットホール6が
形成されている。また、幅方向中央部の2つのスプロケ
ットホール6の上面側を覆う帯状のダミー配線3aはそ
の幅方向中央部において2つに分割されている。In the above embodiment, the case where the base film 1 has a width of 35 mm has been described. However, the present invention is not limited to this, and a film having a width of 70 mm or more may be used. As an example, FIG. 10 shows a manufacturing process corresponding to the case shown in FIG. 7 when a base film having a width of 70 mm is used. In this case, sprocket holes 6 are formed on both sides in the width direction of the base film 1, the adhesive 2, the copper foil 3, the adhesive 4, and the reinforcing film 5 having a width of 70 mm, and two sprocket holes 6 are formed in the center in the same width direction. 6 are formed. The strip-shaped dummy wiring 3a that covers the upper surface of the two sprocket holes 6 at the center in the width direction is divided into two at the center in the width direction.
【0017】そして、幅方向中央部の2つのスプロケッ
トホール6の各上面側を覆うダミー配線3a間におい
て、ベースフィルム1、接着剤2、銅箔3、接着剤4及
び補強フィルム5を切断すると、図11に示すように、
2つのキャリアテープが得られる。次に、各キャリアテ
ープから補強フィルム5を剥離すると、図12に示すよ
うに、幅35mmの2つのキャリアテープが得られる。
なお、この場合も、ベースフィルム1の下面側の接着剤
4を除去するようにしてもよい。When the base film 1, the adhesive 2, the copper foil 3, the adhesive 4, and the reinforcing film 5 are cut between the dummy wirings 3a covering the upper surfaces of the two sprocket holes 6 at the center in the width direction, As shown in FIG.
Two carrier tapes are obtained. Next, when the reinforcing film 5 is peeled off from each carrier tape, two carrier tapes having a width of 35 mm are obtained as shown in FIG.
Also in this case, the adhesive 4 on the lower surface side of the base film 1 may be removed.
【0018】[0018]
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、スプロケットホールの周囲におけるベースフィルム
の一の面にダミー配線を形成しているので、ベースフィ
ルムの厚さが比較的薄くても、スプロケットホールの部
分の実質的な強度を所期の通りとすることができ、した
がってピンローラによる搬送をスムーズに行うことがで
き、またスプロケットホールが変形しないようにするこ
とができ、ひいては後工程でのアライメント精度に悪影
響を及ぼさないようにすることができる。As described above, according to the present invention, since the dummy wiring is formed on one surface of the base film around the sprocket hole, even if the thickness of the base film is relatively small, The substantial strength of the sprocket hole portion can be as expected, so that the conveyance by the pin roller can be performed smoothly, and the sprocket hole can be prevented from being deformed, and as a result, in the subsequent process The alignment accuracy can be prevented from being adversely affected.
【図1】この発明の一実施形態におけるキャリアテープ
(フレキシブル配線基板)の当初の製造工程を示す断面
図。FIG. 1 shows a carrier tape according to an embodiment of the present invention.
Sectional drawing which shows the initial manufacturing process of (flexible wiring board).
【図2】図1に続く製造工程を示す断面図。FIG. 2 is a sectional view showing a manufacturing step following FIG. 1;
【図3】図2に続く製造工程を示す断面図。FIG. 3 is a sectional view showing a manufacturing step following FIG. 2;
【図4】図3に続く製造工程を示す断面図。FIG. 4 is a sectional view showing a manufacturing step following FIG. 3;
【図5】図4に続く製造工程を示す断面図。FIG. 5 is a sectional view showing a manufacturing step following FIG. 4;
【図6】図5に続く製造工程を示す断面図。FIG. 6 is a sectional view showing a manufacturing step following FIG. 5;
【図7】図6に続く製造工程を示す断面図。FIG. 7 is a sectional view showing a manufacturing step following FIG. 6;
【図8】図7に続く製造工程を示す断面図。FIG. 8 is a sectional view showing a manufacturing step following FIG. 7;
【図9】図8に示す状態の平面図。FIG. 9 is a plan view of the state shown in FIG. 8;
【図10】この発明の他の実施形態におけるキャリアテ
ープ(フレキシブル配線基板)の図7に示す場合に対応す
る製造工程を示す断面図。FIG. 10 is a sectional view showing a manufacturing process corresponding to the case shown in FIG. 7 of the carrier tape (flexible wiring board) according to another embodiment of the present invention.
【図11】図10に続く製造工程を示す断面図。FIG. 11 is a sectional view showing a manufacturing step following FIG. 10;
【図12】図11に続く製造工程を示す断面図。FIG. 12 is a sectional view showing a manufacturing step following FIG. 11;
1 ベースフィルム 2 接着剤 3 銅箔 3a 配線 3b ダミー配線 4 接着剤 5 補強フィルム 6 スプロケットホール DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base film 2 Adhesive 3 Copper foil 3a Wiring 3b Dummy wiring 4 Adhesive 5 Reinforcement film 6 Sprocket hole
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 1/02 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H05K 1/02
Claims (4)
の部分の強度を所期の通りとすることができない程度に
薄いベースフィルムの一の面の幅方向中央部に形成され
た配線及び、前記ベースフィルムの他の面全体に補強フ
ィルムを設けられている時に、前記スプロケットホール
の周囲における前記ベースフィルムの一の面に形成され
たダミー配線を備えることを特徴とするフレキシブル配
線基板。1. A base film having a thickness such that the strength of a sprocket hole portion by itself cannot be as expected is formed at a central portion in the width direction of one surface of a base film.
Wiring and reinforcing off the entire other surface of the base film
When the film is provided, it is formed on one surface of the base film around the sprocket hole.
Flexible wiring board, characterized in that it comprises a dummy wirings.
スフィルムの厚さは25μm程度であることを特徴とす
るフレキシブル配線基板。2. The flexible wiring board according to claim 1, wherein the thickness of the base film is about 25 μm.
の部分の強度を所期の通りとすることができない程度に
薄いベースフィルムの一の面に導電層を設けると共に、
前記ベースフィルムの他の面に補強フィルムを設け、前
記ベースフィルム、前記導電層及び前記補強フィルムの
幅方向両側にスプロケットホールを形成し、前記ベース
フィルムの一の面の幅方向中央部に前記導電層によって
配線を形成すると共に、前記スプロケットホールの周囲
における前記ベースフィルムの一の面に前記導電層によ
ってダミー配線を形成し、この後前記補強フィルムを剥
離することを特徴とするフレキシブル配線基板の製造方
法。3. A conductive layer is provided on one surface of the base film having such a thickness that the thickness of the sprocket hole portion by itself cannot be as high as expected.
A reinforcing film is provided on the other surface of the base film, sprocket holes are formed on both sides in the width direction of the base film, the conductive layer and the reinforcing film, and the conductive film is formed in a width direction central portion of one surface of the base film. Forming a wiring by a layer, forming a dummy wiring by the conductive layer on one surface of the base film around the sprocket hole, and then peeling off the reinforcing film. Method.
スフィルムの厚さは25μm程度であることを特徴とす
るフレキシブル配線基板の製造方法。4. The method according to claim 3, wherein the thickness of the base film is about 25 μm.
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