JP3139126B2 - 電子写真感光体およびその製造方法 - Google Patents
電子写真感光体およびその製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、分散安定性に優れた特
定のペリレン顔料を含有する塗布液を用いた高感度電子
写真感光体およびその製造方法に関するものである。
定のペリレン顔料を含有する塗布液を用いた高感度電子
写真感光体およびその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、可視、近赤外に感度をもつ電子写
真感光体の電荷発生材料としては、縮環芳香族系顔料、
ピリリウム染料、ペリレン顔料、スクアリリウム顔料、
ビスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、フタロシアニン顔料等
数多くのものが知られ、種々の提案がなされている。ペ
リレン顔料については、特開昭５７−１７６０４７号公
報、特開昭５９−５９６８６号公報、特開昭６３−１８
０９５６号公報、特開昭６３−２９１０６１号公報、特
開昭６３−２４３９４７号公報、特開昭６３−２４３９
４６号公報、特開平２−３７３５６号公報、特開平２−
２２８６７０号公報、特開平２−２２８６７１号公報、
特開平３−２４０５９号公報、米国特許第４５８７１８
９号明細書、米国特許第３９９２２０５号明細書、米国
特許第４４１９４２７号明細書および米国特許第５０１
９４７３号明細書等において種々の提案がなされてい
る。
真感光体の電荷発生材料としては、縮環芳香族系顔料、
ピリリウム染料、ペリレン顔料、スクアリリウム顔料、
ビスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、フタロシアニン顔料等
数多くのものが知られ、種々の提案がなされている。ペ
リレン顔料については、特開昭５７−１７６０４７号公
報、特開昭５９−５９６８６号公報、特開昭６３−１８
０９５６号公報、特開昭６３−２９１０６１号公報、特
開昭６３−２４３９４７号公報、特開昭６３−２４３９
４６号公報、特開平２−３７３５６号公報、特開平２−
２２８６７０号公報、特開平２−２２８６７１号公報、
特開平３−２４０５９号公報、米国特許第４５８７１８
９号明細書、米国特許第３９９２２０５号明細書、米国
特許第４４１９４２７号明細書および米国特許第５０１
９４７３号明細書等において種々の提案がなされてい
る。
【０００３】また、有機感光体の電荷発生層の形成方法
には、一般に、蒸着法と塗布法が知られているが、塗布
法の方が、複雑な排気装置等を必要とせず、膜厚コント
ロールも容易なことから、製造上有利である。ペリレン
顔料は、優れた電荷発生材料であるが、塗布法で電荷発
生層を形成した場合、蒸着法で電荷発生層を形成したも
のに比べ低感度になってしまうという問題があった。
には、一般に、蒸着法と塗布法が知られているが、塗布
法の方が、複雑な排気装置等を必要とせず、膜厚コント
ロールも容易なことから、製造上有利である。ペリレン
顔料は、優れた電荷発生材料であるが、塗布法で電荷発
生層を形成した場合、蒸着法で電荷発生層を形成したも
のに比べ低感度になってしまうという問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この点を改善するもの
として、上記米国特許第５０１９４７３号明細書には、
ペリレン顔料を機械的に粉砕し、微粉化したものを電荷
発生層形成用塗布液を用いることが提案されている。し
かしながら、この方法で形成した塗布液は、初期的には
優れた感度を示す電子写真感光体を形成するものの、時
間とともに減感してしまうため、塗布法で用いるには適
さないものであった。
として、上記米国特許第５０１９４７３号明細書には、
ペリレン顔料を機械的に粉砕し、微粉化したものを電荷
発生層形成用塗布液を用いることが提案されている。し
かしながら、この方法で形成した塗布液は、初期的には
優れた感度を示す電子写真感光体を形成するものの、時
間とともに減感してしまうため、塗布法で用いるには適
さないものであった。
【０００５】本発明は、従来の技術における上記のよう
な実状に鑑みてなされたものであって、その目的は、ポ
ットライフが長く、分散性および電気特性の安定した顔
料分散塗布液を用いて作製された高感度の電子写真感光
体およびその製造方法を提供することにある。
な実状に鑑みてなされたものであって、その目的は、ポ
ットライフが長く、分散性および電気特性の安定した顔
料分散塗布液を用いて作製された高感度の電子写真感光
体およびその製造方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、種々検討
した結果、後記する特定のペリレン顔料を使用して塗布
法により電荷発生層を形成した電子写真感光体が減感さ
れたものとなるのは、塗布液中の溶剤によるペリレン顔
料の結晶成長、あるいは、結晶転移を伴った結晶成長と
密接な関係があることを発見した。そして、種々の溶剤
を検討した結果、従来知られているシクロヘキサノン、
テトラヒドロフラン、トルエン等では、容易に結晶成長
を起こすのに対し、水、アルコール系溶剤、あるいは、
酢酸エステル系溶剤では実質的に結晶転移、結晶成長を
起こさず、したがって、ポットライフが長く、分散性、
電気特性の安定した塗布液を与えることを見出だし、本
発明を完成するに至った。
した結果、後記する特定のペリレン顔料を使用して塗布
法により電荷発生層を形成した電子写真感光体が減感さ
れたものとなるのは、塗布液中の溶剤によるペリレン顔
料の結晶成長、あるいは、結晶転移を伴った結晶成長と
密接な関係があることを発見した。そして、種々の溶剤
を検討した結果、従来知られているシクロヘキサノン、
テトラヒドロフラン、トルエン等では、容易に結晶成長
を起こすのに対し、水、アルコール系溶剤、あるいは、
酢酸エステル系溶剤では実質的に結晶転移、結晶成長を
起こさず、したがって、ポットライフが長く、分散性、
電気特性の安定した塗布液を与えることを見出だし、本
発明を完成するに至った。
【０００７】すなわち、本発明の電子写真感光体は、導
電性支持体上に少なくとも電荷発生層と電荷輸送層とを
有するものであって、電荷発生層が、下記式（Ｉ）また
は（II）で示されるペリレン顔料を機械的に乾式粉砕
し、水、アルコール系溶剤、あるいは、酢酸エステル系
溶剤に分散させることによって得られた分散塗布液を使
用して形成されたことを特徴とする。
電性支持体上に少なくとも電荷発生層と電荷輸送層とを
有するものであって、電荷発生層が、下記式（Ｉ）また
は（II）で示されるペリレン顔料を機械的に乾式粉砕
し、水、アルコール系溶剤、あるいは、酢酸エステル系
溶剤に分散させることによって得られた分散塗布液を使
用して形成されたことを特徴とする。
【化４】 （式中、Ｘは、２価の芳香族炭化水素基、または２価の
複素環基を表わす。）
複素環基を表わす。）
【０００８】また、本発明の電子写真感光体の製造方法
は、電荷発生層形成用塗布液および電荷輸送層形成用塗
布液を用いて、導電性支持体上に少なくとも電荷発生層
と電荷輸送層を形成するものであって、該電荷発生層形
成用塗布液として、下記式（Ｉ）または（II）で示され
るペリレン顔料を機械的に乾式粉砕し、水、アルコール
系溶剤、あるいは、酢酸エステル系溶剤に分散させるこ
とによって得られた分散塗布液を使用し、電荷発生層を
形成することを特徴とする。
は、電荷発生層形成用塗布液および電荷輸送層形成用塗
布液を用いて、導電性支持体上に少なくとも電荷発生層
と電荷輸送層を形成するものであって、該電荷発生層形
成用塗布液として、下記式（Ｉ）または（II）で示され
るペリレン顔料を機械的に乾式粉砕し、水、アルコール
系溶剤、あるいは、酢酸エステル系溶剤に分散させるこ
とによって得られた分散塗布液を使用し、電荷発生層を
形成することを特徴とする。
【０００９】以下、本発明の電子写真感光体を構成する
各層について説明をする。図１１〜図１４は、本発明の
電子写真用感光体の断面を示す模式図である。図１１〜
図１４は、感光層が積層構造の場合を示すものであっ
て、導電性支持体３上に電荷発生層１が設けられ、その
上に電荷輸送層２が設けられている。図１２において
は、さらに、導電性支持体３上に下引層４が設けられて
おり、また、図１３においては、表面に保護層５が設け
られている。さらに、図１４においては、下引層４と保
護層５の両者が設けられている。
各層について説明をする。図１１〜図１４は、本発明の
電子写真用感光体の断面を示す模式図である。図１１〜
図１４は、感光層が積層構造の場合を示すものであっ
て、導電性支持体３上に電荷発生層１が設けられ、その
上に電荷輸送層２が設けられている。図１２において
は、さらに、導電性支持体３上に下引層４が設けられて
おり、また、図１３においては、表面に保護層５が設け
られている。さらに、図１４においては、下引層４と保
護層５の両者が設けられている。
【００１０】導電性支持体としては、電子写真感光体と
して使用することが可能なものならば、いかなるものも
使用することができる。具体的には、アルミニウム、ニ
ッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属類の他に、アル
ミニウム、チタニウム、ニッケル、クロム、ステンレ
ス、金、バナジウム、酸化スズ、酸化インジウム、ＩＴ
Ｏ等の薄膜を被覆したプラスチックフィルム等あるいは
導電性付与剤を塗布または含浸させた紙およびプラスチ
ックフィルム等があげられる。これらの導電性支持体
は、ドラム状、シート状、プレート状等、適宜の形状の
ものとして使用されるが、これらに限定されるものでは
ない。さらに必要に応じて、導電性支持体の表面は、画
質に影響のない範囲で各種の処理を行ってもよく、例え
ば、表面の酸化処理や薬品処理および着色処理または砂
目立て等の乱反射処理等を行うことができる。
して使用することが可能なものならば、いかなるものも
使用することができる。具体的には、アルミニウム、ニ
ッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属類の他に、アル
ミニウム、チタニウム、ニッケル、クロム、ステンレ
ス、金、バナジウム、酸化スズ、酸化インジウム、ＩＴ
Ｏ等の薄膜を被覆したプラスチックフィルム等あるいは
導電性付与剤を塗布または含浸させた紙およびプラスチ
ックフィルム等があげられる。これらの導電性支持体
は、ドラム状、シート状、プレート状等、適宜の形状の
ものとして使用されるが、これらに限定されるものでは
ない。さらに必要に応じて、導電性支持体の表面は、画
質に影響のない範囲で各種の処理を行ってもよく、例え
ば、表面の酸化処理や薬品処理および着色処理または砂
目立て等の乱反射処理等を行うことができる。
【００１１】本発明においては、導電性支持体と電荷発
生層の間に下引層を設けてよい。この下引層は、感光層
の帯電時において導電性支持体から感光層への電荷の注
入を阻止するとともに、感光層を導電性支持体に対して
一体的に接着保持させる接着層としての作用、あるいは
場合によっては、導電性支持体の光の反射光防止作用等
を示す。
生層の間に下引層を設けてよい。この下引層は、感光層
の帯電時において導電性支持体から感光層への電荷の注
入を阻止するとともに、感光層を導電性支持体に対して
一体的に接着保持させる接着層としての作用、あるいは
場合によっては、導電性支持体の光の反射光防止作用等
を示す。
【００１２】この下引層に用いる結着樹脂は、ポリエチ
レン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、メタク
リル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニ
ル樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ
ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、塩化ビニリデン樹脂、
ポリビニルアセタール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体、ポリビニルアルコール樹脂、水溶性ポリエステ
ル樹脂、ニトロセルロース、カゼイン、ゼラチン、ポリ
グルタミン酸、澱粉、スターチアセテート、アミノ澱
粉、ジルコニウムキレート化合物、チタニルキレート化
合物、チタニルアルコキシド化合物等の有機チタニル化
合物、シランカップリング剤等を用いることができる。
レン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、メタク
リル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニ
ル樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ
ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、塩化ビニリデン樹脂、
ポリビニルアセタール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体、ポリビニルアルコール樹脂、水溶性ポリエステ
ル樹脂、ニトロセルロース、カゼイン、ゼラチン、ポリ
グルタミン酸、澱粉、スターチアセテート、アミノ澱
粉、ジルコニウムキレート化合物、チタニルキレート化
合物、チタニルアルコキシド化合物等の有機チタニル化
合物、シランカップリング剤等を用いることができる。
【００１３】下引層を形成する際に採用する塗布方法と
しては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーテ
ィング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング
法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング
法、カーテンコーティング法等の通常の方法があげられ
る。この下引層の膜厚は、０．０１〜１０μｍ、好まし
くは０．０５〜２μｍが適当である。
しては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーテ
ィング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング
法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング
法、カーテンコーティング法等の通常の方法があげられ
る。この下引層の膜厚は、０．０１〜１０μｍ、好まし
くは０．０５〜２μｍが適当である。
【００１４】電荷発生層は、上記式（Ｉ）または（II）
で示されるペリレン顔料を結着樹脂に分散させてなるも
のであって、上記ペリレン顔料の具体例としては、式
（IV）で示されるシス−ビスベンズイミダゾ（２，１−
ａ−１′，１′−ｂ）アンスラ（２，１，９−ｄｅｆ：
６，５，１０−ｄ′ｅ′ｆ′）ジイソキノリン−６，１
１−ジオンおよび式（Ｖ）示されるトランス−ビスベン
ズイミダゾ（２，１−ａ−１′，１′−ｂ）アンスラ
（２，１，９−ｄｅｆ：６，５，１０−ｄ′ｅ′ｆ′）
ジイソキノリン−１０，２１−ジオンが好ましく使用で
きる。
で示されるペリレン顔料を結着樹脂に分散させてなるも
のであって、上記ペリレン顔料の具体例としては、式
（IV）で示されるシス−ビスベンズイミダゾ（２，１−
ａ−１′，１′−ｂ）アンスラ（２，１，９−ｄｅｆ：
６，５，１０−ｄ′ｅ′ｆ′）ジイソキノリン−６，１
１−ジオンおよび式（Ｖ）示されるトランス−ビスベン
ズイミダゾ（２，１−ａ−１′，１′−ｂ）アンスラ
（２，１，９−ｄｅｆ：６，５，１０−ｄ′ｅ′ｆ′）
ジイソキノリン−１０，２１−ジオンが好ましく使用で
きる。
【化５】
【００１５】
【００１６】特に好ましいものは、機械的粉砕後のＸ線
回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２
°）が、６．２°、１２．３°、２６．６°〜２６．９
°に強い回折ピークを有し、（２θ±０．２°）が１
１．５°に明瞭な回折ピークを示さないビスベンズイミ
ダゾールペリレン顔料である。
回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２
°）が、６．２°、１２．３°、２６．６°〜２６．９
°に強い回折ピークを有し、（２θ±０．２°）が１
１．５°に明瞭な回折ピークを示さないビスベンズイミ
ダゾールペリレン顔料である。
【００１７】なお、上記式（Ｉ）または（II）で示され
るペリレン顔料は、公知の方法で合成できる。たとえ
ば、J.Chem.Soc.,１７６４（１９３７）および特開平３
−２４０５９号公報等に記載される方法で合成できる。
また、上記ペリレン顔料を顔料化する前に、上記特開平
３−２４０５９号公報に記載される方法で昇華精製する
ことが好ましい。これら、合成後あるいは、昇華精製後
の上記ペリレン顔料を機械的に粉砕して顔料化する。
るペリレン顔料は、公知の方法で合成できる。たとえ
ば、J.Chem.Soc.,１７６４（１９３７）および特開平３
−２４０５９号公報等に記載される方法で合成できる。
また、上記ペリレン顔料を顔料化する前に、上記特開平
３−２４０５９号公報に記載される方法で昇華精製する
ことが好ましい。これら、合成後あるいは、昇華精製後
の上記ペリレン顔料を機械的に粉砕して顔料化する。
【００１８】機械的に粉砕する方法には、ボールミル、
乳鉢、サンドミル、ニーダー、アトライター、振動ミル
等、公知の如何なる装置も使用できるが、粉砕中に装置
に由来する不純物が混入してくる場合もあり、特に、ス
テンレス、鉄等を使用して粉砕した場合には、混入した
不純物が電荷発生層内に導電路を形成し、画質上欠陥と
なるため、これ等の混入物は、溶剤中に分散させた顔料
から、比重の差を利用して遠心分離するか、磁石等を用
いて除去することが必要になる。機械的に粉砕するに際
して、食塩、ぼう硝等の磨砕助剤を用いると、非常に効
率よく、粒径のととのった結晶を得ることができる。用
いる磨砕助剤の量としては、顔料１０部に対し５〜２０
０部の範囲であればよいが、好ましくは１０〜３０部の
範囲である。磨砕助剤の量を多くすると、粉砕効率はあ
る程度上がるものの、粉砕後、水洗除去する必要がある
ため、過剰に用いることは製造上好ましくない。上記の
ようにして得られた上記式（Ｉ）または（II）で示され
るペリレン顔料を、適当な結着樹脂を溶解した水、アル
コール系溶剤、あるいは、酢酸エステル系溶剤中に分散
し、分散塗布液を調製する。
乳鉢、サンドミル、ニーダー、アトライター、振動ミル
等、公知の如何なる装置も使用できるが、粉砕中に装置
に由来する不純物が混入してくる場合もあり、特に、ス
テンレス、鉄等を使用して粉砕した場合には、混入した
不純物が電荷発生層内に導電路を形成し、画質上欠陥と
なるため、これ等の混入物は、溶剤中に分散させた顔料
から、比重の差を利用して遠心分離するか、磁石等を用
いて除去することが必要になる。機械的に粉砕するに際
して、食塩、ぼう硝等の磨砕助剤を用いると、非常に効
率よく、粒径のととのった結晶を得ることができる。用
いる磨砕助剤の量としては、顔料１０部に対し５〜２０
０部の範囲であればよいが、好ましくは１０〜３０部の
範囲である。磨砕助剤の量を多くすると、粉砕効率はあ
る程度上がるものの、粉砕後、水洗除去する必要がある
ため、過剰に用いることは製造上好ましくない。上記の
ようにして得られた上記式（Ｉ）または（II）で示され
るペリレン顔料を、適当な結着樹脂を溶解した水、アル
コール系溶剤、あるいは、酢酸エステル系溶剤中に分散
し、分散塗布液を調製する。
【００１９】アルコール系溶剤、あるいは、酢酸エステ
ル系溶剤としては種々のものが用いられるが、塗布液の
液だれの問題、乾燥温度の問題から、沸点が、６０℃〜
１６０℃の範囲のものが適当である。アルコール系溶剤
としては、たとえば、ｎ−ブタノール、ｎ−ペンタノー
ル、ｎ−ヘキサノール、ｓｅｃ−ヘプタノール等が適当
であり、酢酸エステル系溶剤としては、酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル等が適当であ
る。また、水とアルコールの混合溶剤を用いてもよい。
ル系溶剤としては種々のものが用いられるが、塗布液の
液だれの問題、乾燥温度の問題から、沸点が、６０℃〜
１６０℃の範囲のものが適当である。アルコール系溶剤
としては、たとえば、ｎ−ブタノール、ｎ−ペンタノー
ル、ｎ−ヘキサノール、ｓｅｃ−ヘプタノール等が適当
であり、酢酸エステル系溶剤としては、酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル等が適当であ
る。また、水とアルコールの混合溶剤を用いてもよい。
【００２０】結着樹脂としては、広範囲な絶縁性樹脂か
ら適宜選択して使用することができる。好ましい結着樹
脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレー
ト樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、
ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアクリ
ルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹
脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニ
ルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁
性樹脂をあげることができるが、前記溶剤に可溶なもの
であればいかなるものも使用できる。これらの結着樹脂
は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアン
トラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導
電性ポリマーから選択することができる。分散塗布液中
には、さらに分散安定性の向上の目的で界面活性剤を添
加することができる。分散塗布液における上記式（Ｉ）
または（II）で示されるペリレン顔料と結着樹脂の配合
比（重量比）は１０：１〜１：１０の範囲が好ましい。
上記ペリレン顔料を上記の溶剤中に分散させる方法とし
ては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンド
ミル分散法等の方法が採用できる。
ら適宜選択して使用することができる。好ましい結着樹
脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレー
ト樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、
ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアクリ
ルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹
脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニ
ルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁
性樹脂をあげることができるが、前記溶剤に可溶なもの
であればいかなるものも使用できる。これらの結着樹脂
は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。
また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアン
トラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導
電性ポリマーから選択することができる。分散塗布液中
には、さらに分散安定性の向上の目的で界面活性剤を添
加することができる。分散塗布液における上記式（Ｉ）
または（II）で示されるペリレン顔料と結着樹脂の配合
比（重量比）は１０：１〜１：１０の範囲が好ましい。
上記ペリレン顔料を上記の溶剤中に分散させる方法とし
ては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンド
ミル分散法等の方法が採用できる。
【００２１】次いで、上記のようにして、調製した分散
塗布液を導電性支持体に塗布して電荷発生層を形成す
る。本発明において用いる電荷発生層の厚みは、一般的
には、０．１〜５μｍ、好ましくは０．２〜２．０μｍ
が適当である。また、電荷発生層を設けるときに用いる
方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバー
コーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーテ
ィング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーテ
ィング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用
いることができる。
塗布液を導電性支持体に塗布して電荷発生層を形成す
る。本発明において用いる電荷発生層の厚みは、一般的
には、０．１〜５μｍ、好ましくは０．２〜２．０μｍ
が適当である。また、電荷発生層を設けるときに用いる
方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバー
コーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーテ
ィング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーテ
ィング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用
いることができる。
【００２２】上記のようにして形成された電荷発生層の
上には、次いで電荷輸送層が形成される。本発明におい
て、電荷輸送層は、電荷輸送材料を適当な結着樹脂中を
含む溶剤中に含有させた塗布液を用いて形成することが
できる。電荷輸送材料としては公知のものならば如何な
るものも使用できる。特に、下記式（III ）で示される
ベンジジン系化合物が好ましく使用される。
上には、次いで電荷輸送層が形成される。本発明におい
て、電荷輸送層は、電荷輸送材料を適当な結着樹脂中を
含む溶剤中に含有させた塗布液を用いて形成することが
できる。電荷輸送材料としては公知のものならば如何な
るものも使用できる。特に、下記式（III ）で示される
ベンジジン系化合物が好ましく使用される。
【化６】 （式中、Ｒ1 は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基
またはハロゲン原子を表わし、Ｒ2 およびＲ3 は、それ
ぞれ水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原
子または置換アミノ基を表わし、ｍおよびｎはそれぞれ
０、１または２を表わす。）これらベンジジン系化合物
の具体例としては、表１および表２に示すものがあげら
れる。
またはハロゲン原子を表わし、Ｒ2 およびＲ3 は、それ
ぞれ水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原
子または置換アミノ基を表わし、ｍおよびｎはそれぞれ
０、１または２を表わす。）これらベンジジン系化合物
の具体例としては、表１および表２に示すものがあげら
れる。
【表１】
【表２】 これらのベンジジン系化合物は、単独でも、２種以上混
合して用いてもよい。
合して用いてもよい。
【００２３】さらに、電荷輸送層に用いる結着樹脂とし
ては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタ
クリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ
塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルア
セテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビ
ニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレ
イン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキ
ッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレ
ン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、
ポリシラン等の公知の樹脂があげられるが、これらに限
定されるものではない。また、これらの結着樹脂は単独
あるいは２種以上混合して用いることができる。電荷輸
送材料と結着樹脂との配合比（重量比）は１０：１〜
１：５が好ましい。本発明において、電荷輸送層の厚み
は一般的には、５〜５０μｍ，好ましくは１０〜３０μ
ｍが適当である。塗布方法としては、ブレードコーティ
ング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーテ
ィング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング
法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティン
グ法等の通常の方法を用いることができる。
ては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタ
クリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ
塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルア
セテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビ
ニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレ
イン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキ
ッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレ
ン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、
ポリシラン等の公知の樹脂があげられるが、これらに限
定されるものではない。また、これらの結着樹脂は単独
あるいは２種以上混合して用いることができる。電荷輸
送材料と結着樹脂との配合比（重量比）は１０：１〜
１：５が好ましい。本発明において、電荷輸送層の厚み
は一般的には、５〜５０μｍ，好ましくは１０〜３０μ
ｍが適当である。塗布方法としては、ブレードコーティ
ング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーテ
ィング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング
法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティン
グ法等の通常の方法を用いることができる。
【００２４】さらに、電荷輸送層を設けるときに用いる
溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロル
ベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノ
ン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エ
チレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロ
フラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエー
テル類等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合
して用いることができる。
溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロル
ベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノ
ン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エ
チレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロ
フラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエー
テル類等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合
して用いることができる。
【００２５】本発明の電子写真感光体においては、複写
機中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光、熱に
よる感光体の劣化を防止する目的で、電荷発生層および
電荷輸送層中に酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添
加剤を添加することができる。例えば、酸化防止剤とし
ては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラ
フェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノ
ン、スピロクマロン、スピロインダノンおよびそれらの
誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物があげられる。
光安定剤の例として、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾ
ール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリジン等
の誘導体があげられる。
機中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光、熱に
よる感光体の劣化を防止する目的で、電荷発生層および
電荷輸送層中に酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添
加剤を添加することができる。例えば、酸化防止剤とし
ては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラ
フェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノ
ン、スピロクマロン、スピロインダノンおよびそれらの
誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物があげられる。
光安定剤の例として、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾ
ール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリジン等
の誘導体があげられる。
【００２６】また、感度の向上、残留電位の低減、繰り
返し使用時の疲労低減等を目的として、少くとも１種の
電子受容性物質を含有させることができる。本発明の電
子写真感光体に使用可能な電子受容物質としては、例え
ば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレ
イン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テ
トラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−
ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニ
ル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノ
ン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息
香酸、フタル酸等をあげることができる。これらのう
ち、フルオレノン系、キノン系やＣｌ、ＣＮ、ＮＯ2 等
の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ま
しい。
返し使用時の疲労低減等を目的として、少くとも１種の
電子受容性物質を含有させることができる。本発明の電
子写真感光体に使用可能な電子受容物質としては、例え
ば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレ
イン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テ
トラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−
ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニ
ル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノ
ン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息
香酸、フタル酸等をあげることができる。これらのう
ち、フルオレノン系、キノン系やＣｌ、ＣＮ、ＮＯ2 等
の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ま
しい。
【００２７】さらに必要に応じて、電荷輸送層の上に保
護層を設けてもよい。この保護層は、積層構造からなる
感光層の帯電時の電荷輸送層の化学的変質を防止すると
ともに、感光層の機械的強度を改善するために用いられ
る。保護層は、導電性材料を適当なバインダー中に含有
させて形成される。導電性材料としては、Ｎ，Ｎ′−ジ
メチルフェロセン等のメタロセン化合物、Ｎ，Ｎ′−ジ
フェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−
［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン等の芳
香族アミン化合物、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化チ
タン、酸化インジウム、酸化スズ−酸化アンチモン等の
金属酸化物等の材料を用いることができるが、これらに
限定されるものではない。保護層に用いる結着樹脂とし
ては、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステ
ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、ポリビニルケトン樹脂、ポリスチレン樹脂、
ポリアクリルアミド樹脂等、公知の樹脂を用いることが
できる。
護層を設けてもよい。この保護層は、積層構造からなる
感光層の帯電時の電荷輸送層の化学的変質を防止すると
ともに、感光層の機械的強度を改善するために用いられ
る。保護層は、導電性材料を適当なバインダー中に含有
させて形成される。導電性材料としては、Ｎ，Ｎ′−ジ
メチルフェロセン等のメタロセン化合物、Ｎ，Ｎ′−ジ
フェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−
［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン等の芳
香族アミン化合物、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化チ
タン、酸化インジウム、酸化スズ−酸化アンチモン等の
金属酸化物等の材料を用いることができるが、これらに
限定されるものではない。保護層に用いる結着樹脂とし
ては、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステ
ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、ポリビニルケトン樹脂、ポリスチレン樹脂、
ポリアクリルアミド樹脂等、公知の樹脂を用いることが
できる。
【００２８】また、保護層は、その電気抵抗が１０9 〜
１０14Ω・ｃｍとなるように構成することが好ましい。
電気抵抗が１０14Ω・ｃｍ以上になると残留電位が上昇
し、カブリの多い複写物となってしまい、また、１０9
Ω・ｃｍ以下になると画像のボケ、解像力の低下が生じ
てしまう。さらにまた、保護層は、像露光に用いられる
光の透過を実質上妨げないように構成されなければなら
ない。本発明で用いる保護層の膜厚は、０．５〜２０μ
ｍ、好ましくは１〜１０μｍが適当である。
１０14Ω・ｃｍとなるように構成することが好ましい。
電気抵抗が１０14Ω・ｃｍ以上になると残留電位が上昇
し、カブリの多い複写物となってしまい、また、１０9
Ω・ｃｍ以下になると画像のボケ、解像力の低下が生じ
てしまう。さらにまた、保護層は、像露光に用いられる
光の透過を実質上妨げないように構成されなければなら
ない。本発明で用いる保護層の膜厚は、０．５〜２０μ
ｍ、好ましくは１〜１０μｍが適当である。
【００２９】
【実施例】以下、本発明を実施例によって説明する。な
お、合成例および実施例において、「部」は「重量部」
である。
お、合成例および実施例において、「部」は「重量部」
である。
【００３０】合成例１ ２０リットルのステンレススチール反応器で８１７ｇ
（２．０８モル）のペリレン−３，４，９，１０テトラ
カルボン酸二無水物、１１６９ｇ（１０．４モル）のｏ
−フェニレンジアミンおよび９．３６リットルの１−ク
ロロナフタレンを混合した。得られた混合物を撹拌しな
がら２４０〜２５０℃で３時間加熱し、次いで、室温に
冷却した。次に、固形生成物をフィルタークロスで濾過
することによって得、次いで、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミドで３回洗浄した。その後、固形物を水酸化ナトリ
ウムアルコール液でスラリー化した。濾過後、固形物を
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、メタノールで洗浄し、
続いてオーブン中で９５℃で一夜乾燥させて１１００ｇ
のビスベンズイミダゾールペリレン顔料（シス体とトラ
ンス体との混合物）を得た。さらに、このものを昇華精
製した。昇華精製後の粉末Ｘ線回折図を図１に示す
（０．８°、１０．２°、１２．５°に強いピークを示
す。）。粒径は、１００μｍ×１０μｍ〜５００μｍ×
１０μｍであった。
（２．０８モル）のペリレン−３，４，９，１０テトラ
カルボン酸二無水物、１１６９ｇ（１０．４モル）のｏ
−フェニレンジアミンおよび９．３６リットルの１−ク
ロロナフタレンを混合した。得られた混合物を撹拌しな
がら２４０〜２５０℃で３時間加熱し、次いで、室温に
冷却した。次に、固形生成物をフィルタークロスで濾過
することによって得、次いで、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミドで３回洗浄した。その後、固形物を水酸化ナトリ
ウムアルコール液でスラリー化した。濾過後、固形物を
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、メタノールで洗浄し、
続いてオーブン中で９５℃で一夜乾燥させて１１００ｇ
のビスベンズイミダゾールペリレン顔料（シス体とトラ
ンス体との混合物）を得た。さらに、このものを昇華精
製した。昇華精製後の粉末Ｘ線回折図を図１に示す
（０．８°、１０．２°、１２．５°に強いピークを示
す。）。粒径は、１００μｍ×１０μｍ〜５００μｍ×
１０μｍであった。
【００３１】合成例２ 合成例１で得られた昇華精製後のビスベンズイミダゾー
ルペリレン顔料１０ｇを、遊星ボールミル（メノーポッ
ト内径１０ｍｍφ、メノーボール２０ｍｍφを４４個、
２５ｍｍφを３個使用）を用いて２７時間粉砕した。得
られた微粉化ビスベンズイミダゾールペリレン顔料の粉
末Ｘ線回折図を図２に示す（６．２°、１２．３°、２
７．０°に強いピークを示す。）。粒径は、０．０４μ
ｍ×０．０８μｍ〜０．０５μｍ×０．１μｍであっ
た。
ルペリレン顔料１０ｇを、遊星ボールミル（メノーポッ
ト内径１０ｍｍφ、メノーボール２０ｍｍφを４４個、
２５ｍｍφを３個使用）を用いて２７時間粉砕した。得
られた微粉化ビスベンズイミダゾールペリレン顔料の粉
末Ｘ線回折図を図２に示す（６．２°、１２．３°、２
７．０°に強いピークを示す。）。粒径は、０．０４μ
ｍ×０．０８μｍ〜０．０５μｍ×０．１μｍであっ
た。
【００３２】合成例３ 合成例１で得られた昇華精製後のビスベンズイミダゾー
ルペリレン顔料５ｇを塩化ナトリウム１０ｇとともに、
遊星ボールミル（メノーポット内径１０ｍｍφ、メノー
ボール２０ｍｍφを４４個、２５ｍｍφを３個使用）を
用いて２７時間粉砕した後、蒸留水で十分洗浄し、乾燥
し、４．８ｇのビスベンズイミダゾールペリレン顔料を
回収した。得られた微粉化ビスベンズイミダゾールペリ
レン顔料の粉末Ｘ線回折図を図５に示す（６．２°、１
２．２°、２６．６°に強いピークを示す。）。粒径
は、０．０３μｍ×０．０５μｍ〜０．０３μｍ×０．
１μｍであった。また、粉砕時間２．５時間のものの粉
末Ｘ線回折図を図３に示す（６．３°、１２．３°、２
６．８°に強いピークを示す。）。さらに１９時間後の
ものの粉末Ｘ線回折図を図４に示す（６．１°、１２．
１°、２６．７°に強いピークを示す。）。２６．９°
のピークは、粉砕により、低角度側に移動している。
ルペリレン顔料５ｇを塩化ナトリウム１０ｇとともに、
遊星ボールミル（メノーポット内径１０ｍｍφ、メノー
ボール２０ｍｍφを４４個、２５ｍｍφを３個使用）を
用いて２７時間粉砕した後、蒸留水で十分洗浄し、乾燥
し、４．８ｇのビスベンズイミダゾールペリレン顔料を
回収した。得られた微粉化ビスベンズイミダゾールペリ
レン顔料の粉末Ｘ線回折図を図５に示す（６．２°、１
２．２°、２６．６°に強いピークを示す。）。粒径
は、０．０３μｍ×０．０５μｍ〜０．０３μｍ×０．
１μｍであった。また、粉砕時間２．５時間のものの粉
末Ｘ線回折図を図３に示す（６．３°、１２．３°、２
６．８°に強いピークを示す。）。さらに１９時間後の
ものの粉末Ｘ線回折図を図４に示す（６．１°、１２．
１°、２６．７°に強いピークを示す。）。２６．９°
のピークは、粉砕により、低角度側に移動している。
【００３３】合成例４ 合成例１で得られた昇華精製後のビスベンズイミダゾー
ルペリレン顔料５ｇを塩化ナトリウム２５ｇとともに、
遊星ボールミル（メノーポット内径１００ｍｍφ、メノ
ーボール２０ｍｍφを４４個、２５ｍｍφを３個使用）
を用いて２７時間粉砕した後、蒸留水で十分洗浄し、乾
燥し、４．６ｇのビスベンズイミダゾールペリレン顔料
を回収した。得られた微粉化ビスベンズイミダゾールペ
リレン顔料の粉末Ｘ線回折図を図６に示す（６．２°、
１２．２°、２６．６°に強いピークを示す。）。粒径
は、０．０３μｍ×０．０５μｍ〜０．０３μｍ×０．
１μｍであった。
ルペリレン顔料５ｇを塩化ナトリウム２５ｇとともに、
遊星ボールミル（メノーポット内径１００ｍｍφ、メノ
ーボール２０ｍｍφを４４個、２５ｍｍφを３個使用）
を用いて２７時間粉砕した後、蒸留水で十分洗浄し、乾
燥し、４．６ｇのビスベンズイミダゾールペリレン顔料
を回収した。得られた微粉化ビスベンズイミダゾールペ
リレン顔料の粉末Ｘ線回折図を図６に示す（６．２°、
１２．２°、２６．６°に強いピークを示す。）。粒径
は、０．０３μｍ×０．０５μｍ〜０．０３μｍ×０．
１μｍであった。
【００３４】＜溶剤中での安定性テスト＞粉砕後のビス
ベンズイミダゾールペリレン顔料の溶剤中での安定性を
調べるため、合成例３で得られた微粉化ビスベンズイミ
ダゾールペリレン顔料０．５ｇ、ガラスビーズ３０ｇお
よび、溶剤として塩化メチレン、モノクロロベンゼン、
テトラヒドロフラン、シクロヘキサン、ジメチルホルム
アミド、水、ブタノール、エチレングリコールまたはｎ
−酢酸ブチルをそれぞれ１５ｍｌ規格びんＮｏ．１０に
入れ、２４時間１５０ｒｐｍでミリングした後、メタノ
ールで洗浄し、乾燥した。得られた微粉化ビスベンズイ
ミダゾールペリレン顔料の粉末Ｘ線回折図、および、ポ
リビニルビチラール樹脂フィルム中での紫外線吸収スペ
クトルを表３に示した。
ベンズイミダゾールペリレン顔料の溶剤中での安定性を
調べるため、合成例３で得られた微粉化ビスベンズイミ
ダゾールペリレン顔料０．５ｇ、ガラスビーズ３０ｇお
よび、溶剤として塩化メチレン、モノクロロベンゼン、
テトラヒドロフラン、シクロヘキサン、ジメチルホルム
アミド、水、ブタノール、エチレングリコールまたはｎ
−酢酸ブチルをそれぞれ１５ｍｌ規格びんＮｏ．１０に
入れ、２４時間１５０ｒｐｍでミリングした後、メタノ
ールで洗浄し、乾燥した。得られた微粉化ビスベンズイ
ミダゾールペリレン顔料の粉末Ｘ線回折図、および、ポ
リビニルビチラール樹脂フィルム中での紫外線吸収スペ
クトルを表３に示した。
【表３】 上記粉末Ｘ線回折図および紫外線吸収スペクトルの結果
から明らかのように、塩化メチレン、モノクロロベンゼ
ン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサン、ジメチルホ
ルムアミド中では結晶成長が起こり、吸収も短波長化し
ている。
から明らかのように、塩化メチレン、モノクロロベンゼ
ン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサン、ジメチルホ
ルムアミド中では結晶成長が起こり、吸収も短波長化し
ている。
【００３５】実施例１ アルミニウムメッキ板上に、有機ジルコニウム化合物
（商品名：オルガチックス ＺＣ５４０、松本製薬
（株）製）１０部、シランカップリング剤（商品名：Ａ
１１１０、日本ユニカー（株）製）２部、イソプロピル
アルコール３０部、ｎ−ブタノール３０部からなる塗布
液を用いて浸漬コーティング法で塗布し、１５０℃にお
いて５分間加熱乾燥し、膜厚０．１μｍの下引層を形成
した。次に、この下引層に合成例２で得た微粉化ビスベ
ンズイミダゾールペリレン顔料０．１部をポリビニルブ
チラール（商品名：エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学
（株）製）０．１部およびブタノール１０部と混合し、
ガラスビーズと共にペイントシェーカーで１時間処理し
て分散した後、分散直後、および安定性比較のため、１
時間静置した塗布液を浸漬コーティング法で塗布し、１
００℃において、５分間加熱乾燥し、膜厚０．２μｍの
電荷発生層を形成した。次に、下記構造式（VI）で示さ
れる化合物１部と下記構造式（VII ）で示される繰り返
し単位で構成されるポリ（４，４−シクロヘキシリデン
ジフェニレンカーボネート）１部を、モノクロロベンゼ
ン８部に溶解し、得られた塗布液を、電荷発生層が形成
されたアルミニウム基板上に浸漬コーティング法で塗布
し、１２０℃において１時間加熱乾燥し、膜厚２０μｍ
の電荷輸送層を形成した。
（商品名：オルガチックス ＺＣ５４０、松本製薬
（株）製）１０部、シランカップリング剤（商品名：Ａ
１１１０、日本ユニカー（株）製）２部、イソプロピル
アルコール３０部、ｎ−ブタノール３０部からなる塗布
液を用いて浸漬コーティング法で塗布し、１５０℃にお
いて５分間加熱乾燥し、膜厚０．１μｍの下引層を形成
した。次に、この下引層に合成例２で得た微粉化ビスベ
ンズイミダゾールペリレン顔料０．１部をポリビニルブ
チラール（商品名：エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学
（株）製）０．１部およびブタノール１０部と混合し、
ガラスビーズと共にペイントシェーカーで１時間処理し
て分散した後、分散直後、および安定性比較のため、１
時間静置した塗布液を浸漬コーティング法で塗布し、１
００℃において、５分間加熱乾燥し、膜厚０．２μｍの
電荷発生層を形成した。次に、下記構造式（VI）で示さ
れる化合物１部と下記構造式（VII ）で示される繰り返
し単位で構成されるポリ（４，４−シクロヘキシリデン
ジフェニレンカーボネート）１部を、モノクロロベンゼ
ン８部に溶解し、得られた塗布液を、電荷発生層が形成
されたアルミニウム基板上に浸漬コーティング法で塗布
し、１２０℃において１時間加熱乾燥し、膜厚２０μｍ
の電荷輸送層を形成した。
【化７】
【００３６】得られた電子写真感光体を、常温常湿（２
０℃、４０％ＲＨ）の環境下で、フラットプレートスキ
ャナーを用いて、次の測定を行った。 ＶDDP ：−６．０ＫＶのコロナ放電を行って負帯電さ
せ、１秒後の表面電位。 ｄＶ／ｄＥ：バンドパスフィルターを用いて６８０ｎｍ
に分光した光での感度。 ＶRP：５０ｅｒｇ／ｃｍ2 の白色光を０．５秒照射した
後の表面電位。 その結果を表３に示す。
０℃、４０％ＲＨ）の環境下で、フラットプレートスキ
ャナーを用いて、次の測定を行った。 ＶDDP ：−６．０ＫＶのコロナ放電を行って負帯電さ
せ、１秒後の表面電位。 ｄＶ／ｄＥ：バンドパスフィルターを用いて６８０ｎｍ
に分光した光での感度。 ＶRP：５０ｅｒｇ／ｃｍ2 の白色光を０．５秒照射した
後の表面電位。 その結果を表３に示す。
【００３７】実施例２〜６ 表４に示す微粉化ビスベンズイミダゾールペリレン顔料
と塗布剤を用いたほかは実施例１と同様にして電子写真
感光体を作製し、評価した。結果を表４に示す。
と塗布剤を用いたほかは実施例１と同様にして電子写真
感光体を作製し、評価した。結果を表４に示す。
【００３８】比較例１〜３ 表４に示す微粉化ビスベンズイミダゾールペリレン顔料
と塗布剤を用いたほかは実施例１と同様にして電子写真
感光体を作製し、評価した。その結果を表４に示す。
と塗布剤を用いたほかは実施例１と同様にして電子写真
感光体を作製し、評価した。その結果を表４に示す。
【表４】
【００３９】
【発明の効果】本発明においては、ポットライフが長
く、分散性および電気特性の安定した顔料分散塗布液を
用いて電荷発生層が形成されるので、高感度を有する電
子写真感光体を安定して作製することが可能である。
く、分散性および電気特性の安定した顔料分散塗布液を
用いて電荷発生層が形成されるので、高感度を有する電
子写真感光体を安定して作製することが可能である。
【図１】 合成例１で得られたビスベンズイミダゾール
ペリレン顔料の粉末Ｘ線回折図を示す。
ペリレン顔料の粉末Ｘ線回折図を示す。
【図２】 合成例２で得られたビスベンズイミダゾール
ペリレン顔料の粉末Ｘ線回折図を示す。
ペリレン顔料の粉末Ｘ線回折図を示す。
【図３】 安定性テスト６で得られた微粉化ビスベンズ
イミダゾールペリレン顔料および合成例３における粉砕
２．５時間後のスベンズイミダゾールペリレン顔料の粉
末Ｘ線回折図を示す。
イミダゾールペリレン顔料および合成例３における粉砕
２．５時間後のスベンズイミダゾールペリレン顔料の粉
末Ｘ線回折図を示す。
【図４】 合成例３における粉砕１９時間後のビスベン
ズイミダゾールペリレン顔料の粉末Ｘ線回折図を示す。
ズイミダゾールペリレン顔料の粉末Ｘ線回折図を示す。
【図５】 合成例３で得られたビスベンズイミダゾール
ペリレン顔料の粉末Ｘ線回折図を示す。
ペリレン顔料の粉末Ｘ線回折図を示す。
【図６】 合成例４で得られたビスベンズイミダゾール
ペリレン顔料の粉末Ｘ線回折図を示す。
ペリレン顔料の粉末Ｘ線回折図を示す。
【図７】 安定性テスト１〜５で得られた微粉化ビスベ
ンズイミダゾールペリレン顔料の粉末Ｘ線回折図を示
す。
ンズイミダゾールペリレン顔料の粉末Ｘ線回折図を示
す。
【図８】 安定性テスト７〜９で得られた微粉化ビスベ
ンズイミダゾールペリレン顔料の粉末Ｘ線回折図を示
す。
ンズイミダゾールペリレン顔料の粉末Ｘ線回折図を示
す。
【図９】 ポリビニルブチラール樹脂フィルム中での安
定性テスト１〜５で得られた微粉化ビスベンズイミダゾ
ールペリレン顔料の紫外線吸収スペクトルを示す。
定性テスト１〜５で得られた微粉化ビスベンズイミダゾ
ールペリレン顔料の紫外線吸収スペクトルを示す。
【図１０】 ポリビニルブチラール樹脂フィルム中での
安定性テスト６〜９で得られた微粉化ビスベンズイミダ
ゾールペリレン顔料の紫外線吸収スペクトルを示す。
安定性テスト６〜９で得られた微粉化ビスベンズイミダ
ゾールペリレン顔料の紫外線吸収スペクトルを示す。
【図１１】 本発明の電子写真用感光体の一例の模式的
断面図を示す。
断面図を示す。
【図１２】 本発明の電子写真用感光体の一例の模式的
断面図を示す。
断面図を示す。
【図１３】 本発明の電子写真用感光体の一例の模式的
断面図を示す。
断面図を示す。
【図１４】 本発明の電子写真用感光体の一例の模式的
断面図を示す。
断面図を示す。
１…電荷発生層、２…電荷輸送層、３…導電性支持体、
４…下引き層、５…保護層。
４…下引き層、５…保護層。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−11472（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−171053（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−242951（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−180956（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−1154（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−1150（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G03G 5/00 - 5/16
Claims (3)
- 【請求項１】 導電性支持体上に少なくとも電荷発生層
と電荷輸送層とを有する電子写真感光体において、電荷
発生層が、下記式（Ｉ）または（II）で示されるペリレ
ン顔料を機械的に乾式粉砕し、水、アルコール系溶剤、
あるいは、酢酸エステル系溶剤に分散させることによっ
て得られた分散塗布液を使用して形成されたことを特徴
とする電子写真感光体。 【化１】 （式中、Ｘは、２価の芳香族炭化水素基、または２価の
複素環基を表わす。） - 【請求項２】 電荷輸送層が、下記式（III ）で示され
るベンジジン系化合物を含有することを特徴とする請求
項１記載の電子写真感光体。 【化２】 （式中、Ｒ1 は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基
またはハロゲン原子を表わし、Ｒ2 およびＲ3 は、それ
ぞれ水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原
子または置換アミノ基を表わし、ｍおよびｎはそれぞれ
０、１または２を表わす。） - 【請求項３】 電荷発生層形成用塗布液および電荷輸送
層形成用塗布液を用いて、導電性支持体上に少なくとも
電荷発生層と電荷輸送層を形成する電子写真感光体の製
造方法において、該電荷発生層形成用塗布液として、下
記式（Ｉ）または（II）で示されるペリレン顔料を機械
的に乾式粉砕し、水、アルコール系溶剤、あるいは、酢
酸エステル系溶剤に分散させることによって得られた分
散塗布液を使用し、電荷発生層を形成することを特徴と
する電子写真感光体の製造方法。 【化３】 （式中、Ｘは、２価の芳香族炭化水素基、または２価の
複素環基を表わす。）
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-
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1993
- 1993-03-24 US US08/036,372 patent/US5395722A/en not_active Expired - Lifetime
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