JP3155741B2 - Cspのbga構造を備えた半導体パッケージ - Google Patents
Cspのbga構造を備えた半導体パッケージInfo
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体パッケージ
に関し、特に、チップスケーリングパッケージ(Chip
Scaling Package - 以下、CSPと称する。)構造をセ
ンタボンドパッド(center bond pad )に備えるチップ
の半導体パッケージに関する。
に関し、特に、チップスケーリングパッケージ(Chip
Scaling Package - 以下、CSPと称する。)構造をセ
ンタボンドパッド(center bond pad )に備えるチップ
の半導体パッケージに関する。
【0002】
【従来の技術】図11は、従来のリード式半導体装置1
の構造を示す断面図である。図に示されているようにリ
ードフレーム11において、両面粘着フィルム110を
リード端子111の上にあらかじめ貼着し、ダイ(die
)12を上記両面フィルム110上に貼着させ、この
ダイ12を金線(gold wire )13にて、ダイ12を中
心に外側へ輻射延在するリード端子111の内側部11
1a上に電気的に接続させ、上記ダイ12を貼着したリ
ードフレーム111を成形金型(molding die )内に配
置して封止を行ない、封止用樹脂体14でダイ12と、
金線13と、リード端子111の内側部分を封止して半
導体装置1のパッケージを完成する。半導体装置1はモ
ールディング工程で生じる樹脂バリや、レジンカット後
のレジン残りを除去し、リード加工後、電子部品に使用
されるプリント回路板上に装着可能となる。
の構造を示す断面図である。図に示されているようにリ
ードフレーム11において、両面粘着フィルム110を
リード端子111の上にあらかじめ貼着し、ダイ(die
)12を上記両面フィルム110上に貼着させ、この
ダイ12を金線(gold wire )13にて、ダイ12を中
心に外側へ輻射延在するリード端子111の内側部11
1a上に電気的に接続させ、上記ダイ12を貼着したリ
ードフレーム111を成形金型(molding die )内に配
置して封止を行ない、封止用樹脂体14でダイ12と、
金線13と、リード端子111の内側部分を封止して半
導体装置1のパッケージを完成する。半導体装置1はモ
ールディング工程で生じる樹脂バリや、レジンカット後
のレジン残りを除去し、リード加工後、電子部品に使用
されるプリント回路板上に装着可能となる。
【0003】しかし、この半導体装置1がその封止用樹
脂体14の相対する両側より露出するリード端子外側部
111b間のピッチは、両相対側縁間のピッチよりも大
きく、上記半導体装置1の封止用樹脂体14投影区域外
において、リード端子111の外部リード部分が投影し
て形成するスカートエリア(skirt area)を形成し、こ
のスカートエリアが半導体装置1のプリント回路板装着
において、余分な面積を占有するため、隣接する半導体
装置1が有効的に接近できず、上記半導体装置1を用い
るプリント回路板の面積縮小が難しくなり、電子部品を
より軽、薄、短、小に設計する傾向に適合できない。
脂体14の相対する両側より露出するリード端子外側部
111b間のピッチは、両相対側縁間のピッチよりも大
きく、上記半導体装置1の封止用樹脂体14投影区域外
において、リード端子111の外部リード部分が投影し
て形成するスカートエリア(skirt area)を形成し、こ
のスカートエリアが半導体装置1のプリント回路板装着
において、余分な面積を占有するため、隣接する半導体
装置1が有効的に接近できず、上記半導体装置1を用い
るプリント回路板の面積縮小が難しくなり、電子部品を
より軽、薄、短、小に設計する傾向に適合できない。
【0004】上記問題の解決を鑑み、ボールグリッドア
レイ(Ball Grid Array - 以下、BGAと称する。)式
半導体装置が開発され、図12は、従来のBGA半導体
装置2の構造を示す断面図である。一般にBGA半導体
装置2においては、基板21上に粘着されるダイ22
と、上記ダイ22の上表面に設ける複数のボンディング
パッド23と、上記ボンディングパッド23と上記基板
21の上表面211上に敷設する第1の導電トレース
(electrically conductive trace )212間を接続す
る金線24(wire bonding)とを有し、上記第1の導電
トレース212は、上記基板21上に設ける貫通孔(vi
as)213を介して基板21の下表面214上の第2の
導電トレース215と接続され、上記ダイ22、金線2
4および基板21の上表面211をモールディング封止
することにより、上記ダイ22および金線24の領域を
被覆した後、ソルダボール(solder ball )25を上記
第2の導電トレース215終端のコンタクトパッド(co
ntact pad )216上に植設し、ダイ22が電気的に上
記ソルダボール25に接続する。なお、通常のソルダボ
ール25は、アレイ状の配置構成で形成される。
レイ(Ball Grid Array - 以下、BGAと称する。)式
半導体装置が開発され、図12は、従来のBGA半導体
装置2の構造を示す断面図である。一般にBGA半導体
装置2においては、基板21上に粘着されるダイ22
と、上記ダイ22の上表面に設ける複数のボンディング
パッド23と、上記ボンディングパッド23と上記基板
21の上表面211上に敷設する第1の導電トレース
(electrically conductive trace )212間を接続す
る金線24(wire bonding)とを有し、上記第1の導電
トレース212は、上記基板21上に設ける貫通孔(vi
as)213を介して基板21の下表面214上の第2の
導電トレース215と接続され、上記ダイ22、金線2
4および基板21の上表面211をモールディング封止
することにより、上記ダイ22および金線24の領域を
被覆した後、ソルダボール(solder ball )25を上記
第2の導電トレース215終端のコンタクトパッド(co
ntact pad )216上に植設し、ダイ22が電気的に上
記ソルダボール25に接続する。なお、通常のソルダボ
ール25は、アレイ状の配置構成で形成される。
【0005】上記BGA半導体装置2は、その基板21
の下表面214の全面をソルダボール25の植設に供
し、I/Oのリード端子として用いる。なお、上記ソル
ダボール25が基板21下表面214に植設されるた
め、半導体装置1のリード端子が利用し得る空間が封止
用樹脂体14周縁のみであるのに比べて、比較的大きい
利用空間を備える。よって、基板21の面積が上記半導
体装置1の封止用樹脂体14投影面積と相同する場合に
おけるリード端子の外部リードによる余分占有空間のス
カートエリア形成がない。このBGA半導体装置2をプ
リント回路板上に取付けた場合、回路板上の使用面積縮
減となり、プリント回路板のサイズ縮小が可能となり、
また、同時に2つ以上のBGA半導体装置2を使用する
場合においても、両者間の間隙縮減により、使用空間の
有効節減が可能となる。
の下表面214の全面をソルダボール25の植設に供
し、I/Oのリード端子として用いる。なお、上記ソル
ダボール25が基板21下表面214に植設されるた
め、半導体装置1のリード端子が利用し得る空間が封止
用樹脂体14周縁のみであるのに比べて、比較的大きい
利用空間を備える。よって、基板21の面積が上記半導
体装置1の封止用樹脂体14投影面積と相同する場合に
おけるリード端子の外部リードによる余分占有空間のス
カートエリア形成がない。このBGA半導体装置2をプ
リント回路板上に取付けた場合、回路板上の使用面積縮
減となり、プリント回路板のサイズ縮小が可能となり、
また、同時に2つ以上のBGA半導体装置2を使用する
場合においても、両者間の間隙縮減により、使用空間の
有効節減が可能となる。
【0006】しかしながら、このBGA半導体装置2の
金線24は、ダイ22の4周縁から外側に向けて輻射状
に延在して基板21上表面211上の第1の導電トレー
ス212に至るため、モールディング封止の場合、封止
用樹脂体26の投影面積が、ダイ22から外向き輻射状
に延在する金線24の延在エリアを被覆し得るようにす
るため、封止用樹脂体26の投影面積は、ダイ22の投
影面積よりはるかに大きくなり、BGA半導体装置2の
製品サイズをさらに縮減して半導体装置の体積微小化と
機能増大化の要求に適合することができない。なお、こ
のBGA半導体装置2の基板材料が高価であり、かつ、
導電トレースの敷設と貫通孔開設は製造に困難をもたら
すため、コストが高くなり、また、上記半導体装置1と
の構造も異なるため、従来の封止工程に適用できず、設
備の新調による生産原価アップの問題がある。
金線24は、ダイ22の4周縁から外側に向けて輻射状
に延在して基板21上表面211上の第1の導電トレー
ス212に至るため、モールディング封止の場合、封止
用樹脂体26の投影面積が、ダイ22から外向き輻射状
に延在する金線24の延在エリアを被覆し得るようにす
るため、封止用樹脂体26の投影面積は、ダイ22の投
影面積よりはるかに大きくなり、BGA半導体装置2の
製品サイズをさらに縮減して半導体装置の体積微小化と
機能増大化の要求に適合することができない。なお、こ
のBGA半導体装置2の基板材料が高価であり、かつ、
導電トレースの敷設と貫通孔開設は製造に困難をもたら
すため、コストが高くなり、また、上記半導体装置1と
の構造も異なるため、従来の封止工程に適用できず、設
備の新調による生産原価アップの問題がある。
【0007】よって、CSP型のBGA半導体装置が、
上記BGA半導体装置の体積縮減を図るために開発され
る。図13は、CSP型BGA半導体装置3の概略構造
を示す断面図であって、基板31の投影面積をダイ32
の投影面積よりもやや大きくして、モールディング封止
後の製品体積を大幅に縮減する。しかし、このCSP型
BGA半導体装置3は、フリップチップ(flip chip )
およびはんだ隆起(solder bumping)などの先進製造技
術を使用し、BGA式基板を採用するため、コストが非
常に高価となり、高付加価値の高I/O半導体素子にの
み適用され、低I/O半導体素子において、CSPまた
はBGA構造を用いて製造することは、工程が複雑でコ
ストが高価であるという問題があった。
上記BGA半導体装置の体積縮減を図るために開発され
る。図13は、CSP型BGA半導体装置3の概略構造
を示す断面図であって、基板31の投影面積をダイ32
の投影面積よりもやや大きくして、モールディング封止
後の製品体積を大幅に縮減する。しかし、このCSP型
BGA半導体装置3は、フリップチップ(flip chip )
およびはんだ隆起(solder bumping)などの先進製造技
術を使用し、BGA式基板を採用するため、コストが非
常に高価となり、高付加価値の高I/O半導体素子にの
み適用され、低I/O半導体素子において、CSPまた
はBGA構造を用いて製造することは、工程が複雑でコ
ストが高価であるという問題があった。
【0008】業界諸氏が開発した、より低い生産コスト
で製作するBGA構造を備えた低I/O半導体装置に
は、米国特許 5,663,594号が提示したものがあり、従来
のリードフレームを基材として、従来のモールディング
方式にて封止を行ない、かつ、従来のワイヤボンディン
グ(wire bonding)技術で製作するBGA構造を備えた
半導体装置である。図14に示すこのBGA構造を備え
た半導体装置4は、ダイ42をリードフレーム41のリ
ード端子412内端上に配置し、非導電樹脂を介してリ
ード端子412の上表面に粘着させ、上記ダイ42とリ
ード端子412内端部をそれぞれの金線43でボンディ
ングすることによりダイ42とリード端子412とを電
気的に接続し、封止用樹脂でモールディング封止して、
上記リード端子412、ダイ42と金線43を被覆する
封止樹脂体44に形成した場合、各リード端子412の
下表面に対応する部分には、孔洞を留置し、封止樹脂体
44で成形された後、各孔洞内にソルダボール45を植
設し、ソルダボール45を介してリード端子412がプ
リント回路板上のプリント回路と電気的に接続する。
で製作するBGA構造を備えた低I/O半導体装置に
は、米国特許 5,663,594号が提示したものがあり、従来
のリードフレームを基材として、従来のモールディング
方式にて封止を行ない、かつ、従来のワイヤボンディン
グ(wire bonding)技術で製作するBGA構造を備えた
半導体装置である。図14に示すこのBGA構造を備え
た半導体装置4は、ダイ42をリードフレーム41のリ
ード端子412内端上に配置し、非導電樹脂を介してリ
ード端子412の上表面に粘着させ、上記ダイ42とリ
ード端子412内端部をそれぞれの金線43でボンディ
ングすることによりダイ42とリード端子412とを電
気的に接続し、封止用樹脂でモールディング封止して、
上記リード端子412、ダイ42と金線43を被覆する
封止樹脂体44に形成した場合、各リード端子412の
下表面に対応する部分には、孔洞を留置し、封止樹脂体
44で成形された後、各孔洞内にソルダボール45を植
設し、ソルダボール45を介してリード端子412がプ
リント回路板上のプリント回路と電気的に接続する。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上記BGA構造を備え
る半導体装置4は、体積縮減が顕著であり、また、従来
の封止装置と製造工程を利用することができるが、上記
構造は周辺ボンドパッド(peripheral bond pad )にの
み適用し、センタボンドパッド(center bond pad )の
ダイでは、なおも製造工程上の問題点が存在する。リー
ド端子412を有効的に封止樹脂体44で被覆するに
は、上記リード端子412下表面と封止樹脂体44底面
間の厚さが薄すぎないようにすべきである。さもなけれ
ば、固形化成形工程において、容易に封止樹脂体44の
亀裂が生じるため、半導体装置の薄型化は難しく、ま
た、モールディング封止工程において、リード端子41
2の下表面と外部とを連通する孔洞を設置しなければな
らない。かつ、孔洞の孔径が小さく、インジェクション
封止樹脂の場合、上記孔洞の底部にフラッシュ(flash
)現象を構成し、孔洞内に露出するリード端子412
の下表面をも汚染し、ボール植設時に、ソルダボール4
5が直接リード端子412の下表面上に植設することが
できず、製品の歩留りが悪化する。よって、業界では、
モールディング封止工程を完成した後に、孔洞洗浄の前
処理を行ない、洗浄処理後にボール植設作業を行なう。
しかし、この操作では、工程が複雑となり、また、生産
コストアップともなるため、改善が必要である。
る半導体装置4は、体積縮減が顕著であり、また、従来
の封止装置と製造工程を利用することができるが、上記
構造は周辺ボンドパッド(peripheral bond pad )にの
み適用し、センタボンドパッド(center bond pad )の
ダイでは、なおも製造工程上の問題点が存在する。リー
ド端子412を有効的に封止樹脂体44で被覆するに
は、上記リード端子412下表面と封止樹脂体44底面
間の厚さが薄すぎないようにすべきである。さもなけれ
ば、固形化成形工程において、容易に封止樹脂体44の
亀裂が生じるため、半導体装置の薄型化は難しく、ま
た、モールディング封止工程において、リード端子41
2の下表面と外部とを連通する孔洞を設置しなければな
らない。かつ、孔洞の孔径が小さく、インジェクション
封止樹脂の場合、上記孔洞の底部にフラッシュ(flash
)現象を構成し、孔洞内に露出するリード端子412
の下表面をも汚染し、ボール植設時に、ソルダボール4
5が直接リード端子412の下表面上に植設することが
できず、製品の歩留りが悪化する。よって、業界では、
モールディング封止工程を完成した後に、孔洞洗浄の前
処理を行ない、洗浄処理後にボール植設作業を行なう。
しかし、この操作では、工程が複雑となり、また、生産
コストアップともなるため、改善が必要である。
【0010】したがって、本発明の目的は、製造工程が
簡単で、生産コストの低いCSPのBGA構造を備えた
半導体パッケージを提供することである。
簡単で、生産コストの低いCSPのBGA構造を備えた
半導体パッケージを提供することである。
【0011】本発明の他の目的は、有効的に厚さを薄型
化して、薄型半導体製品の要求に適合したCSPのBG
A構造を備えた半導体パッケージを提供することであ
る。
化して、薄型半導体製品の要求に適合したCSPのBG
A構造を備えた半導体パッケージを提供することであ
る。
【0012】本発明のさらに他の目的は、従来の封止装
置と工程によって、センタボンドパッドのダイ製作に適
合するCSPのBGA構造を備えた半導体パッケージを
提供することである。
置と工程によって、センタボンドパッドのダイ製作に適
合するCSPのBGA構造を備えた半導体パッケージを
提供することである。
【0013】本発明のさらに他の目的は、BGA式基板
を使用せずに、直接リードフレームを基材として使用し
たCSPのBGA構造を備えた半導体パッケージを提供
することである。
を使用せずに、直接リードフレームを基材として使用し
たCSPのBGA構造を備えた半導体パッケージを提供
することである。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的によっ
て提供されるCSPのBGA構造を備えた半導体パッケ
ージは、中間部に透かし彫りエリアを設け、少なくとも
両側部にグリッドアレイ状をなす複数の孔洞が穿設さ
れ、反対する第1の表面と第2の表面を有する非導電の
基層と、上記基層の第2の表面に当接され、反対する上
表面と下表面を有し、内端部をそれぞれ隔てしめるとと
もに上記基層の透かし彫りエリア内に延在させ、上記上
表面が上記基層の各孔洞に対応する位置にある複数のリ
ード端子と、上記各リード端子の下表面に粘着されてい
るとともに上面部と下表面を有するダイと、上記ダイと
上記リード端子を電気的に接続するように上記ダイの上
面部と上記リード端子の上表面の内端側を接続するボン
ディングワイヤと、上記基層の各孔洞を穿設する部分を
露出させるように上記ダイ、上記ボンディングワイヤ、
リード端子の基層と当接されていない部分および基層の
透かし彫りエリアを包囲する封止用樹脂体と、非導電の
上記基層上に位置し、上記基層に設けられた孔洞を介し
て上記リード端子の上表面と電気的に接続された複数の
ソルダボールとを備えているCSPのBGA構造を備え
ている。
て提供されるCSPのBGA構造を備えた半導体パッケ
ージは、中間部に透かし彫りエリアを設け、少なくとも
両側部にグリッドアレイ状をなす複数の孔洞が穿設さ
れ、反対する第1の表面と第2の表面を有する非導電の
基層と、上記基層の第2の表面に当接され、反対する上
表面と下表面を有し、内端部をそれぞれ隔てしめるとと
もに上記基層の透かし彫りエリア内に延在させ、上記上
表面が上記基層の各孔洞に対応する位置にある複数のリ
ード端子と、上記各リード端子の下表面に粘着されてい
るとともに上面部と下表面を有するダイと、上記ダイと
上記リード端子を電気的に接続するように上記ダイの上
面部と上記リード端子の上表面の内端側を接続するボン
ディングワイヤと、上記基層の各孔洞を穿設する部分を
露出させるように上記ダイ、上記ボンディングワイヤ、
リード端子の基層と当接されていない部分および基層の
透かし彫りエリアを包囲する封止用樹脂体と、非導電の
上記基層上に位置し、上記基層に設けられた孔洞を介し
て上記リード端子の上表面と電気的に接続された複数の
ソルダボールとを備えているCSPのBGA構造を備え
ている。
【0015】本発明の他の局面においては、上記封止用
樹脂体を固形化成形後、ダイの底面部を封止用樹脂体外
に露出させて、ベア結晶(bare crystal)モードを構成
する。
樹脂体を固形化成形後、ダイの底面部を封止用樹脂体外
に露出させて、ベア結晶(bare crystal)モードを構成
する。
【0016】本発明のさらに他の局面においては、上記
リード端子の外側部分を上記封止用樹脂体の外に露出さ
せることにより、本発明の半導体パッケージの少なくと
も2つが上下に重なる場合、上位置側の半導体パッケー
ジのソルダボールが下方半導体パッケージの上記リード
端子露出部分に接触して、電気的接続をなす。
リード端子の外側部分を上記封止用樹脂体の外に露出さ
せることにより、本発明の半導体パッケージの少なくと
も2つが上下に重なる場合、上位置側の半導体パッケー
ジのソルダボールが下方半導体パッケージの上記リード
端子露出部分に接触して、電気的接続をなす。
【0017】本発明に称する「基層」とは、エポキシ樹
脂製の非導電ソルダマスク、または、非導電の耐高温材
料、たとえば、ポリイミド樹脂製の非導電テープなどが
用いられる。また、テープを基層に使用した場合、貼着
方式にてテープとリードフレームのリード端子とを接着
し、また、ソルダマスクを基層として使用する場合は、
塗布方式でソルダマスクとリードフレームのリード端子
とを接着する。
脂製の非導電ソルダマスク、または、非導電の耐高温材
料、たとえば、ポリイミド樹脂製の非導電テープなどが
用いられる。また、テープを基層に使用した場合、貼着
方式にてテープとリードフレームのリード端子とを接着
し、また、ソルダマスクを基層として使用する場合は、
塗布方式でソルダマスクとリードフレームのリード端子
とを接着する。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明に基づいた各実施の
形態におけるCSPのBGA構造を備えた半導体パッケ
ージについて図を参照しながら説明する。
形態におけるCSPのBGA構造を備えた半導体パッケ
ージについて図を参照しながら説明する。
【0019】(実施の形態1)実施の形態1におけるC
SPのBGA構造を備える半導体パッケージ5は、図1
から図3に示すように、基層としてのベース51(ソル
ダマスク使用可)と、上記ベース51上に貼設した複数
のリード端子52と、上記リード端子52の下表面52
4に貼着されたダイ53と、電気的に上記ダイ53と上
記リード端子52の内端部を接続するボンディングワイ
ヤとしての金線54と、上記ダイ53、金線54とリー
ド端子52を被覆する封止用樹脂体55と、上記ベース
51上に植設してグリッドアレイの孔洞511を開設し
た上記孔洞511内のソルダボール56とを備える。
SPのBGA構造を備える半導体パッケージ5は、図1
から図3に示すように、基層としてのベース51(ソル
ダマスク使用可)と、上記ベース51上に貼設した複数
のリード端子52と、上記リード端子52の下表面52
4に貼着されたダイ53と、電気的に上記ダイ53と上
記リード端子52の内端部を接続するボンディングワイ
ヤとしての金線54と、上記ダイ53、金線54とリー
ド端子52を被覆する封止用樹脂体55と、上記ベース
51上に植設してグリッドアレイの孔洞511を開設し
た上記孔洞511内のソルダボール56とを備える。
【0020】図1と図2に示すように、鉄とニッケルと
の合金または銅合金で製作されたリード端子52は、そ
の外端部522を矩形状スカートストリップ(skirt st
rip)523上に接続してリードフレーム50を形成す
る。なお、上記各リード端子52は、それぞれの上表面
525と下表面524とを有する。
の合金または銅合金で製作されたリード端子52は、そ
の外端部522を矩形状スカートストリップ(skirt st
rip)523上に接続してリードフレーム50を形成す
る。なお、上記各リード端子52は、それぞれの上表面
525と下表面524とを有する。
【0021】また、図1と図3に示すように、上記ベー
ス51はポリイミド樹脂の耐高温高分子材料で構成さ
れ、中間位置に透かし彫りエリア512を形成し、各孔
洞511をグリッドアレイ状に、上記透かし彫りエリア
512の長さ方向の両側上に開設するとともに、第2の
表面と第1の表面を有する。なお、孔洞511は、第1
の表面から第2の表面に通じる貫通孔から構成される。
ス51はポリイミド樹脂の耐高温高分子材料で構成さ
れ、中間位置に透かし彫りエリア512を形成し、各孔
洞511をグリッドアレイ状に、上記透かし彫りエリア
512の長さ方向の両側上に開設するとともに、第2の
表面と第1の表面を有する。なお、孔洞511は、第1
の表面から第2の表面に通じる貫通孔から構成される。
【0022】また、上記ソルダボール56を各孔洞51
1内に植設した場合に、上記ソルダボール56は、リー
ド端子52の上表面525上の根元561および上記孔
洞511の外部へ露出するボール部562を形成する。
1内に植設した場合に、上記ソルダボール56は、リー
ド端子52の上表面525上の根元561および上記孔
洞511の外部へ露出するボール部562を形成する。
【0023】上記CSPのBGA構造を備える半導体パ
ッケージの製造工程は、まず、ベース51をリード端子
52の上表面525上に粘着するとともに、各リード端
子52内端部521を上記ベース51の透かし彫りエリ
ア512内に延在させ、各孔洞511を図4に示すよう
に各リード端子52の上表面525に相対させる。各リ
ード端子52の上表面525は、ベース51が被覆され
るエリアにおいて、それぞれの相対する上記孔洞511
の部分を有し、孔洞511を介して外部に露出される。
リード端子52の下表面524上に従来の貼着用両面フ
ィルム57を粘着した後、ダイ53を上記両面フィルム
57上に貼着し、リード端子52にてダイ53を支持す
るとともに、ダイ53を図5に示すように上記リード端
子52の上に固定する。なお上記ダイ53とリード端子
52の貼着は、従来の非導電銀ロウを用いて行なう。
ッケージの製造工程は、まず、ベース51をリード端子
52の上表面525上に粘着するとともに、各リード端
子52内端部521を上記ベース51の透かし彫りエリ
ア512内に延在させ、各孔洞511を図4に示すよう
に各リード端子52の上表面525に相対させる。各リ
ード端子52の上表面525は、ベース51が被覆され
るエリアにおいて、それぞれの相対する上記孔洞511
の部分を有し、孔洞511を介して外部に露出される。
リード端子52の下表面524上に従来の貼着用両面フ
ィルム57を粘着した後、ダイ53を上記両面フィルム
57上に貼着し、リード端子52にてダイ53を支持す
るとともに、ダイ53を図5に示すように上記リード端
子52の上に固定する。なお上記ダイ53とリード端子
52の貼着は、従来の非導電銀ロウを用いて行なう。
【0024】次に、金線54の一端をダイ53の上面部
531上のボンドパッド(図示省略)に接続する。金線
54の他端は、リード端子52の内端部521の上表面
525上の適当箇所において、ダイ53を電気的にリー
ド端子52とボンディングする。ボンディングが完成す
れば、図6に示すように、封止用金型58内でモールデ
ィングを行なう。モールディング作業完成後、固体成形
後の封止用樹脂体55が上記ダイ53、金線54および
リード端子52のベース51に貼着されていない部分を
被覆する。封止用樹脂体55は、ベース51に孔洞51
1を設ける部分を被覆しないため、封止用樹脂の注入時
において、樹脂のフロー(flow)が孔洞511に流れ
ず、モールディング作業が完成し、封止用樹脂55が成
形固化された後においても、孔洞511内は封止用樹脂
の汚染がなく、清潔に保持され、ソルダボールの即時植
設作業が可能であり、図7に示すように、ソルダボール
56をそれぞれの各上記孔洞511内に植設し、リード
端子52とソルダボール56とを電気的に接続し、樹脂
バリ除去や、レジンカットなどの作業でリード端子52
とスカートエリア523(図2参照)を分割して、本発
明のCSP構造を備えた半導体パッケージ5を完成す
る。なお、上記半導体パッケージ5の封止用樹脂体55
の投影面積は、ダイ53の面積の約1.2倍以下である
ことを基準とし、上記封止用樹脂体のダイ53上方に位
置する部分の投影面積は、ベース51の透かし彫りエリ
ア512 (図3参照)面積にほぼ同じであることを基準
とする。
531上のボンドパッド(図示省略)に接続する。金線
54の他端は、リード端子52の内端部521の上表面
525上の適当箇所において、ダイ53を電気的にリー
ド端子52とボンディングする。ボンディングが完成す
れば、図6に示すように、封止用金型58内でモールデ
ィングを行なう。モールディング作業完成後、固体成形
後の封止用樹脂体55が上記ダイ53、金線54および
リード端子52のベース51に貼着されていない部分を
被覆する。封止用樹脂体55は、ベース51に孔洞51
1を設ける部分を被覆しないため、封止用樹脂の注入時
において、樹脂のフロー(flow)が孔洞511に流れ
ず、モールディング作業が完成し、封止用樹脂55が成
形固化された後においても、孔洞511内は封止用樹脂
の汚染がなく、清潔に保持され、ソルダボールの即時植
設作業が可能であり、図7に示すように、ソルダボール
56をそれぞれの各上記孔洞511内に植設し、リード
端子52とソルダボール56とを電気的に接続し、樹脂
バリ除去や、レジンカットなどの作業でリード端子52
とスカートエリア523(図2参照)を分割して、本発
明のCSP構造を備えた半導体パッケージ5を完成す
る。なお、上記半導体パッケージ5の封止用樹脂体55
の投影面積は、ダイ53の面積の約1.2倍以下である
ことを基準とし、上記封止用樹脂体のダイ53上方に位
置する部分の投影面積は、ベース51の透かし彫りエリ
ア512 (図3参照)面積にほぼ同じであることを基準
とする。
【0025】本発明に基づいて完成されたCSPのBG
A構造を備えた半導体パッケージ5は、プリント回路板
上に装設され、ソルダボール56を介して、電気的にプ
リント回路板と接続する。I/Oとして作用するソルダ
ボール56は、上記半導体パッケージ5の底面上に配置
されるため、BGA構造の効果を有し、また、従来のB
GA基板における、その上下両表面上に導電トレースの
敷設と貫通孔の開設を伴う方式と異なり、常用のリード
端子、ボンディング方式およびモールディング工程を使
用すればよい。よって、本発明に基づくCSPのBGA
構造を備えた半導体パッケージ5の製造コストを低減で
きる。なお、上記のベース51とリード端子52との粘
着方式については、リード端子52上表面525に対す
る封止用樹脂体55の被覆を省き、亀裂現象が発生しな
い膜厚200μm以下の軟性ベース51を使用すること
により、本発明に基づくCSPのBGA構造を備えた半
導体パッケージ5を薄型半導体製品の要求に適合させ得
る。ただし、上記膜厚の200μmとは厳密な意味での
200μmではなく、約200μmという概念を包含す
る。
A構造を備えた半導体パッケージ5は、プリント回路板
上に装設され、ソルダボール56を介して、電気的にプ
リント回路板と接続する。I/Oとして作用するソルダ
ボール56は、上記半導体パッケージ5の底面上に配置
されるため、BGA構造の効果を有し、また、従来のB
GA基板における、その上下両表面上に導電トレースの
敷設と貫通孔の開設を伴う方式と異なり、常用のリード
端子、ボンディング方式およびモールディング工程を使
用すればよい。よって、本発明に基づくCSPのBGA
構造を備えた半導体パッケージ5の製造コストを低減で
きる。なお、上記のベース51とリード端子52との粘
着方式については、リード端子52上表面525に対す
る封止用樹脂体55の被覆を省き、亀裂現象が発生しな
い膜厚200μm以下の軟性ベース51を使用すること
により、本発明に基づくCSPのBGA構造を備えた半
導体パッケージ5を薄型半導体製品の要求に適合させ得
る。ただし、上記膜厚の200μmとは厳密な意味での
200μmではなく、約200μmという概念を包含す
る。
【0026】なお、本発明に基づく場合、そのモールデ
ィング封止工程において、封止樹脂のフローが孔洞51
1を設けたベース51の部分に流れないため、モールデ
ィング作業完成後の孔洞511において、封止樹脂の汚
染がなく、また、樹脂のランオーバー(run over)現象
もない。よって、従来のリードフレームを基材とするB
GA構造を備える半導体装置において必要であった、モ
ールディング完成後に孔洞の洗浄を行なう前処理を必要
としないため、封止樹脂の汚染あるいはランオーバーな
どの除去後、ソルダボール植設作業を問題なく行なうこ
とができる。すなわち、本発明はモールディング完成
後、直接ソルダボール植設作業を行なうため、工程の簡
略化となり製造コストの低減が可能となる。
ィング封止工程において、封止樹脂のフローが孔洞51
1を設けたベース51の部分に流れないため、モールデ
ィング作業完成後の孔洞511において、封止樹脂の汚
染がなく、また、樹脂のランオーバー(run over)現象
もない。よって、従来のリードフレームを基材とするB
GA構造を備える半導体装置において必要であった、モ
ールディング完成後に孔洞の洗浄を行なう前処理を必要
としないため、封止樹脂の汚染あるいはランオーバーな
どの除去後、ソルダボール植設作業を問題なく行なうこ
とができる。すなわち、本発明はモールディング完成
後、直接ソルダボール植設作業を行なうため、工程の簡
略化となり製造コストの低減が可能となる。
【0027】(実施の形態2)図8に本発明の実施の形
態2に基づいたCSPのBGA構造を備えた半導体パッ
ケージ5′を示す。この実施の形態に基づいたCSPの
BGA構造を備えた半導体パッケージ5′は、実施の形
態1に提示されたものと略同するが、モールディング完
成後の固体化成形される封止用樹脂体55′は、ダイ5
3′の底面部532′を被覆しない。すなわち、ダイ5
3′の底面部532′は、封止用樹脂体55′から露出
し、直接大気と接触している。このベア結晶モードの封
止方法は、製作されたCSPのBGA構造を備えた半導
体パッケージ5′に、よりよき放熱効果を提供するた
め、上記ダイ53′の導電後に生成する熱量は直接大気
中に放散される。
態2に基づいたCSPのBGA構造を備えた半導体パッ
ケージ5′を示す。この実施の形態に基づいたCSPの
BGA構造を備えた半導体パッケージ5′は、実施の形
態1に提示されたものと略同するが、モールディング完
成後の固体化成形される封止用樹脂体55′は、ダイ5
3′の底面部532′を被覆しない。すなわち、ダイ5
3′の底面部532′は、封止用樹脂体55′から露出
し、直接大気と接触している。このベア結晶モードの封
止方法は、製作されたCSPのBGA構造を備えた半導
体パッケージ5′に、よりよき放熱効果を提供するた
め、上記ダイ53′の導電後に生成する熱量は直接大気
中に放散される。
【0028】(実施の形態3)図9に本発明の実施の形
態3を示す。この実施の形態に基づいたCSPのBGA
構造を備えた半導体パッケージ5″は、実施の形態1に
提示されたものと略同する。実施の形態1との差異は、
リード端子52″外端部の下表面522″を封止用樹脂
体55″で被覆せずに、封止用樹脂体55″外に露出さ
せる点にある。この構造は、2個以上の半導体装置が上
下に重なるために供され、図10が示すように、CSP
のBGA構造を備えた半導体パッケージ5A″、5B″
および5C″が上下方向に重畳して接触し、中間位置の
半導体パッケージ5B″底面上のソルダボール56B″
を半導体パッケージ5A″封止用樹脂体の外に露出する
外端部522B″上に接触させる。上記方式で重畳配置
された半導体パッケージ5A″、5B″および5C″
は、電気的に接続される。なお、実施の形態3の半導体
パッケージ5″も、実施の形態2に提示するベア結晶モ
ードを採用することができる。
態3を示す。この実施の形態に基づいたCSPのBGA
構造を備えた半導体パッケージ5″は、実施の形態1に
提示されたものと略同する。実施の形態1との差異は、
リード端子52″外端部の下表面522″を封止用樹脂
体55″で被覆せずに、封止用樹脂体55″外に露出さ
せる点にある。この構造は、2個以上の半導体装置が上
下に重なるために供され、図10が示すように、CSP
のBGA構造を備えた半導体パッケージ5A″、5B″
および5C″が上下方向に重畳して接触し、中間位置の
半導体パッケージ5B″底面上のソルダボール56B″
を半導体パッケージ5A″封止用樹脂体の外に露出する
外端部522B″上に接触させる。上記方式で重畳配置
された半導体パッケージ5A″、5B″および5C″
は、電気的に接続される。なお、実施の形態3の半導体
パッケージ5″も、実施の形態2に提示するベア結晶モ
ードを採用することができる。
【0029】以上の記述は、本発明の特徴と効果とを実
施例によって解釈したのみであって、発明の実施可能範
囲を定義するものではない。本発明が開示する主旨と原
理に基づいて完成される同効果の変更と修飾、たとえ
ば、透かし彫りエリアの形状を矩形、楕円形または多角
形状などにすることなどは、特許請求の範囲の範囲内に
包含されるべきである。
施例によって解釈したのみであって、発明の実施可能範
囲を定義するものではない。本発明が開示する主旨と原
理に基づいて完成される同効果の変更と修飾、たとえ
ば、透かし彫りエリアの形状を矩形、楕円形または多角
形状などにすることなどは、特許請求の範囲の範囲内に
包含されるべきである。
【0030】したがって、今回開示した上記実施の形態
はすべての点で例示であって制限的なものではないと考
えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明では
なくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲
と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる
ことが意図される。
はすべての点で例示であって制限的なものではないと考
えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明では
なくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲
と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる
ことが意図される。
【図1】本発明に基づいた実施の形態1におけるCSP
のBGA構造を備えた半導体パッケージの断面図であ
る。
のBGA構造を備えた半導体パッケージの断面図であ
る。
【図2】本発明に基づいた実施の形態1におけるCSP
のBGA構造を備えた半導体パッケージに使用されたリ
ードフレームの平面図である。
のBGA構造を備えた半導体パッケージに使用されたリ
ードフレームの平面図である。
【図3】本発明に基づいた実施の形態1におけるCSP
のBGA構造を備えた半導体パッケージに使用されたベ
ースの平面図である。
のBGA構造を備えた半導体パッケージに使用されたベ
ースの平面図である。
【図4】本発明に基づいた実施の形態1におけるCSP
のBGA構造を備えた半導体パッケージに使用されたリ
ードフレームとベースとを貼着した後の平面図である。
のBGA構造を備えた半導体パッケージに使用されたリ
ードフレームとベースとを貼着した後の平面図である。
【図5】本発明に基づいた実施の形態1におけるCSP
のBGA構造を備えた半導体パッケージにおいて、ベー
スを貼着したリードフレーム上にダイを配設したときの
断面図である。
のBGA構造を備えた半導体パッケージにおいて、ベー
スを貼着したリードフレーム上にダイを配設したときの
断面図である。
【図6】図5に示す構成部品を封止用金型内に配置した
ときの断面図である。
ときの断面図である。
【図7】図5に示す構成部品に対する封止およびボール
の植設を完成して、レジンカットが行なわれているとき
を示す動作図である。
の植設を完成して、レジンカットが行なわれているとき
を示す動作図である。
【図8】本発明に基づいた実施の形態2におけるCSP
のBGA構造を備えた半導体パッケージの断面図であ
る。
のBGA構造を備えた半導体パッケージの断面図であ
る。
【図9】本発明に基づいた実施の形態3におけるCSP
のBGA構造を備えた半導体パッケージの断面図であ
る。
のBGA構造を備えた半導体パッケージの断面図であ
る。
【図10】本発明に基づいた実施の形態3におけるCS
PのBGA構造を備えた半導体パッケージを3つ上下に
重ねたときの断面図である。
PのBGA構造を備えた半導体パッケージを3つ上下に
重ねたときの断面図である。
【図11】従来技術におけるリード式半導体装置の断面
図である。
図である。
【図12】従来技術におけるBGA半導体装置の断面図
である。
である。
【図13】従来技術におけるCSPのBGA半導体装置
の断面図である。
の断面図である。
【図14】従来技術におけるリードフレームを基材とす
るBGA構造の半導体装置の断面図である。
るBGA構造の半導体装置の断面図である。
1 リード式半導体装置 2 BGA半導体装置 3 CSPのBGA半導体装置 4 リードフレームを基材とするBGA構造の半導体装
置 5、5′、5″、5A″、5B″、5C″ CSPのB
GA構造を備えた半導体パッケージ 11 リードフレーム 12 ダイ 13 金線 14 封止用樹脂体 21 基板 22 ダイ 23 ボンディングパッド 24 金線 25 ソルダボール 26 封止用樹脂体 31 基板 32 ダイ 41 リードフレーム 42 ダイ 43 金線 44 封止用樹脂体 45 ソルダボール 50 リードフレーム 51 ベース 52、52″ リード端子 53、53″ ダイ 54 金線 55、55′、55″ 封止用樹脂体 56、56B″、56C″ ソルダボール 57 貼着用両面フィルム 58 封止用金型 110 貼着用両面フィルム 111 リード端子 111a 内端部 111b 外端部 211 上表面 212 第1の導電トレース 213 貫通孔 214 下表面 215 第2の導電トレース 216 ボンディングパッド 412 リード端子 511 孔洞 512 透かし彫りエリア 514 第1の表面 513 第2の表面 521 内端部 522、522″、522A″、522B″ 外端部 523 スカート 524 下表面 525 上表面 531 上面部 532 底面部 561 根元 562 ボール部
置 5、5′、5″、5A″、5B″、5C″ CSPのB
GA構造を備えた半導体パッケージ 11 リードフレーム 12 ダイ 13 金線 14 封止用樹脂体 21 基板 22 ダイ 23 ボンディングパッド 24 金線 25 ソルダボール 26 封止用樹脂体 31 基板 32 ダイ 41 リードフレーム 42 ダイ 43 金線 44 封止用樹脂体 45 ソルダボール 50 リードフレーム 51 ベース 52、52″ リード端子 53、53″ ダイ 54 金線 55、55′、55″ 封止用樹脂体 56、56B″、56C″ ソルダボール 57 貼着用両面フィルム 58 封止用金型 110 貼着用両面フィルム 111 リード端子 111a 内端部 111b 外端部 211 上表面 212 第1の導電トレース 213 貫通孔 214 下表面 215 第2の導電トレース 216 ボンディングパッド 412 リード端子 511 孔洞 512 透かし彫りエリア 514 第1の表面 513 第2の表面 521 内端部 522、522″、522A″、522B″ 外端部 523 スカート 524 下表面 525 上表面 531 上面部 532 底面部 561 根元 562 ボール部
Claims (15)
- 【請求項1】 中間部に透かし彫りエリアを設け、少な
くとも両側部にグリッドアレイ状をなす複数の孔洞が穿
設され、反対する第1の表面と第2の表面を有する非導
電の基層と、 前記基層の第2の表面に当接され、反対する上表面と下
表面を有し、内端部をそれぞれ隔てしめるとともに前記
基層の透かし彫りエリア内に延在させ、前記上表面が前
記基層の各孔洞に対応する位置にある複数のリード端子
と、 前記各リード端子の下表面に粘着されているとともに上
面部と下表面を有するダイと、 前記ダイと前記リード端子を電気的に接続するように前
記ダイの上面部と前記リード端子の上表面の内端側を接
続するボンディングワイヤと、 前記基層の各孔洞を穿設する部分を露出させるように前
記ダイ、前記ボンディングワイヤ、リード端子の基層と
当接されていない部分および基層の透かし彫りエリアを
包囲する封止用樹脂体と、 非導電の前記基層上に位置し、前記基層に設けられた孔
洞を介して前記リード端子の上表面と電気的に接続され
た複数のソルダボールとを備えているCSPのBGA構
造を備えた半導体パッケージ。 - 【請求項2】 前記基層が非導電の耐高温材料で製作さ
れたものであることを特徴とする、請求項1に記載の半
導体パッケージ。 - 【請求項3】 前記基層がポリイミド樹脂で製作された
ものであることを特徴とする、請求項2に記載の半導体
パッケージ。 - 【請求項4】 前記基層がソルダマスクで製作されたも
のであることを特徴とする、請求項1に記載の半導体パ
ッケージ。 - 【請求項5】 前記ソルダマスクは、エポキシ樹脂で製
作されたものであることを特徴とする、請求項4に記載
の半導体パッケージ。 - 【請求項6】 前記ボンディングワイヤが金線であるこ
とを特徴とする、請求項1に記載の半導体パッケージ。 - 【請求項7】 前記ダイの上面の中央部に前記ボンディ
ングワイヤの一端を接続するためのボンドパッドを設け
ることを特徴とする、請求項1に記載の半導体パッケー
ジ。 - 【請求項8】 前記封止用樹脂体の前記ダイ上方に位置
する部分の投影面積が、前記基層の透かし彫りエリア面
積にほぼ同じであることを特徴とする、請求項7に記載
の半導体パッケージ。 - 【請求項9】 前記ソルダボールは、前記リード端子の
上表面に接着する根元部分と前記基層の孔洞の外部へ露
出するボール部分とを有することを特徴とする、請求項
1に記載の半導体パッケージ。 - 【請求項10】 前記基層の厚さが200μm以下であ
ることを特徴とする、請求項1に記載の半導体パッケー
ジ。 - 【請求項11】 前記封止用樹脂体の投影面積が前記ダ
イの面積の1.2倍以下であることを特徴とする、請求
項1に記載の半導体パッケージ。 - 【請求項12】 前記リード端子は、鉄とニッケルの合
金で製作されたものであることを特徴とする、請求項1
に記載の半導体パッケージ。 - 【請求項13】 前記リード端子が銅合金で製作された
ものであることを特徴とする、請求項1に記載の半導体
パッケージ。 - 【請求項14】 中間部に透かし彫りエリアを設け、少
なくとも両側部にグリッドアレイ状をなす複数の孔洞が
穿設され、反対する第1の表面と第2の表面を有する非
導電の基層と、 前記基層の第2の表面に当接され、反対する上表面と下
表面を有し、内端部をそれぞれ隔てしめるとともに前記
基層の透かし彫りエリア内に延在させ、前記上表面が前
記基層の各孔洞に対応する位置にある複数のリード端子
と、 前記各リード端子の下表面に粘着されているとともに、
上面部と下表面を有するダイと、 前記ダイと前記リード端子とを電気的に接続するように
前記ダイの上面部と前記リード端子の上表面の内端側と
を接続するボンディングワイヤと、 前記基層の各孔洞を穿設する部分と前記リード端子の下
表面の外端部をそれぞれ露出させるように前記ダイ、前
記ボンディングワイヤ、リード端子の基層と当接されて
いない部分および基層の透かし彫りエリアを包囲する封
止用樹脂体と、 非導電の前記基層上に位置し、前記基層に設けられた孔
洞を介して前記リード端子の上表面と電気的に接続され
た複数のソルダボールを備えているCSPのBGA構造
を備えた半導体パッケージ。 - 【請求項15】 中間部に透かし彫りエリアを設け、少
なくとも両側部にグリッドアレイ状をなす複数の孔洞が
穿設され、反対する第1の表面と第2の表面を有する非
導電の基層と、 前記基層の第2の表面に当接され、反対する上表面と下
表面を有し、内端部をそれぞれ隔てしめるとともに前記
基層の透かし彫りエリア内に延在させ、前記上表面が前
記基層の各孔洞に対応する位置にある複数のリード端子
と、 前記各リード端子の下表面に粘着されているとともに上
面部と下表面を有するダイと、 前記ダイと前記リード端子を電気的に接続するように前
記ダイの上面部と前記リード端子の上表面の内端側を接
続するボンディングワイヤと、 前記基層の各孔洞を穿設する部分と前記ダイの下表面を
それぞれ露出させるように前記ダイ、前記ボンディング
ワイヤ、リード端子の基層と当接されていない部分およ
び基層の透かし彫りエリアを包囲する封止用樹脂体と、 非導電の前記基層上に位置し、前記基層に設けられた孔
洞を介して前記リード端子の上表面と電気的に接続され
た複数のソルダボールとを備えているCSPのBGA構
造を備えた半導体パッケージ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW87112600 | 1998-07-31 | ||
TW087112600A TW411537B (en) | 1998-07-31 | 1998-07-31 | Semiconductor package with CSP-BGA structure |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000058711A JP2000058711A (ja) | 2000-02-25 |
JP3155741B2 true JP3155741B2 (ja) | 2001-04-16 |
Family
ID=21630874
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP35582598A Expired - Fee Related JP3155741B2 (ja) | 1998-07-31 | 1998-12-15 | Cspのbga構造を備えた半導体パッケージ |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6528722B2 (ja) |
JP (1) | JP3155741B2 (ja) |
TW (1) | TW411537B (ja) |
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---|---|---|---|---|
JP2015223295A (ja) * | 2014-05-27 | 2015-12-14 | トヨタ自動車株式会社 | 歩行訓練装置、及びその歩行訓練方法 |
JP2015223294A (ja) * | 2014-05-27 | 2015-12-14 | トヨタ自動車株式会社 | 歩行訓練装置、及びその歩行訓練方法 |
KR200483467Y1 (ko) * | 2015-10-28 | 2017-05-18 | 방부현 | 편마비 환자용 보행보조기구 |
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---|---|---|---|---|
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US6762502B1 (en) * | 2000-08-31 | 2004-07-13 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor device packages including a plurality of layers substantially encapsulating leads thereof |
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US7109588B2 (en) * | 2002-04-04 | 2006-09-19 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for attaching microelectronic substrates and support members |
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