JP3083016B2 - Liquid crystal alignment treatment method and liquid crystal element manufacturing method - Google Patents
Liquid crystal alignment treatment method and liquid crystal element manufacturing methodInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、カイラルスメクチック
相を示す液晶、特に強誘電性液晶に適したセル構造、及
び該液晶に適した配向処理方法、及びこれを含む液晶素
子の製造方法、に関する。 BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a chiral smectic.
Cell structure suitable for liquid crystals exhibiting phases, especially ferroelectric liquid crystals, and
And alignment treatment method suitable for the liquid crystal, and liquid crystal element containing the same
A method for manufacturing a child.
【0002】[0002]
【従来の技術】強誘電性液晶分子の屈折率異方性を利用
して偏光板との組み合わせにより透過光線を制御する型
の表示素子がクラーク(Clark)及びラガーウォル
(Lagerwall)により提案されている(特開昭
56−107216号公報、米国特許第4367924
号明細書等)。この強誘電性液晶は、一般に特定の温度
域において、カイラルスメクチック相を有し、この状態
において、加えられる電界に応答して第1の光学的安定
状態と第2の光学的安定状態のいずれかを取り、且つ電
界の印加のないときはその状態を維持する性質、すなわ
ち双安定性を有し、また電界の変化に対する応答も速や
かであり、高速ならびに記憶型の表示素子として広い利
用が期待されている。2. Description of the Related Art Clark and Lagerwall have proposed a display device of a type that controls transmitted light in combination with a polarizing plate using the refractive index anisotropy of ferroelectric liquid crystal molecules. (JP-A-56-107216, U.S. Pat.
Issue specification). This ferroelectric liquid crystal generally has a chiral smectic phase in a specific temperature range, and in this state, in response to an applied electric field, one of the first optical stable state and the second optical stable state And has the property of maintaining the state when no electric field is applied, that is, it has bistability, and has a quick response to a change in the electric field, and is expected to be widely used as a high-speed and storage-type display element. ing.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
たカイラルスメクチック相を示す液晶を用いたセルを長
時間駆動し続けると、セル内での液晶分子の移動が生
じ、セル端部のセル厚がしだいに増加していき、黄色に
色付いて見えるという問題が認められた。従って、本発
明の目的は、カイラルスメクチック相を示す液晶を用い
る液晶セルにおいて、その端部でのセル厚の増加を低減
することである。However, if the cell using the liquid crystal exhibiting the chiral smectic phase is driven for a long time , the movement of the liquid crystal molecules in the cell occurs.
Flip, the cell thickness of the cell end will gradually increase, was recognized is a problem that appears tinted yellow. Accordingly, an object of the present invention is to reduce an increase in cell thickness at the end of a liquid crystal cell using a liquid crystal exhibiting a chiral smectic phase.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】上記の問題を解決するた
めに、本発明では、カイラルスメクチック相を示す液晶
を間に保持して対向するとともに、その対向面にはそれ
ぞれ該液晶に電圧を印加するための電極が形成され且つ
該液晶を配向させるために処理された一対の基板とを備
えた液晶素子において、該液晶に交流を印加し、該交流
印加の期間中に該素子の温度を昇降させる液晶の配向処
理方法、及び該配向処理の工程を有する液晶素子の製造
方法を提供する。また、上記配向処理において、少なく
とも素子の温度をスメクチック相での温度範囲内で昇降
させる工程を行い、より好ましくは、上記の素子の温度
を昇降させる工程において、スメクチックA相、カイラ
ルスメクチック相間での昇降温を行う。 In order to solve the above problems, the present invention provides a liquid crystal exhibiting a chiral smectic phase.
While holding the
An electrode for applying a voltage to the liquid crystal is formed, and
A pair of substrates processed to orient the liquid crystal.
In the obtained liquid crystal element, an alternating current is applied to the liquid crystal, and the alternating current is applied.
During the period of application, a liquid crystal alignment process for raising and lowering the temperature of the device.
Of liquid crystal device having process of alignment process
Provide a way. In addition, in the above-mentioned alignment treatment,
Temperature rise and fall within the temperature range of the smectic phase
And more preferably the temperature of the above element
In the step of elevating and lowering, the smectic A phase,
Raise and lower the temperature between the lusmectic phases.
【0005】(発明の態様の詳細な説明)本発明者等の
研究によれば、上述したセル端部でのセル厚の増加は駆
動により液晶自身が液晶セル間の特定の方向へ移動する
ことにより、セル端部での圧力が増加し、その結果セル
厚が増加していることが認められた。液晶分子が液晶セ
ル内を移動する力の発生原因は不明だが、おそらく駆動
パルスによる交流的な電界で、液晶分子の双極子モーメ
ントが揺らぐことにより発生する電気力学的効果であろ
うと推定される。また、本発明者らの実験によれば、移
動方向22は図2(a)に示すようにラビング方向20
と液晶分子の平均分子軸方向21、21′により決まっ
ている。液晶分子の移動方向がこのようにラビングの方
向に依存することから、その現象は基板界面でのプレチ
ルトの状態に依存していることが推測される。平均分子
軸方向21、21′は強誘電性液晶分子の双安定状態に
おける平均的な分子位置を示している。ここで、例え
ば、平均分子軸方向が21で示した状態で液晶がスイッ
チングしない程度の適当な交流を印加すると、矢印22
方向に液晶分子が移動する。但し、ここでは自発分極の
向きが負である液晶材料を用いた場合について述べてい
る。さらに、この液晶移動現象はセルの配向状態に依存
している。図3に示すようなスメクチック層のシェブロ
ン構造を含む配向はC1およびC2の2種類の配向モデ
ルで説明できる。図3で、31はスメクチック層、32
はC1配向の領域、33はC2配向の領域を表わす。ス
メクチック液晶は一般に層構造をもつが、SA相からS
C相またはSC*相に転移すると相間隔が縮むので図3
のように層が上下基板11a、11bの中央で折れ曲っ
た構造(シェブロン構造)をとる。折れ曲る方向は図に
示すようにC1とC2の2つ有り得るが、よく知られて
いるようにラビングによって基板界面の液晶分子は基板
に対して角度をなし(プレチルト)、その方向はラビン
グ方向Aに向かって液晶分子が頭をもたげる(先端が浮
いた格好になる)向きである。このプレチルトのために
C1配向とC2配向は弾性エネルギー的に等価でなく、
上述のようにある温度で転移が起こる。また、機械的な
歪で転移が起こることもある。図3の層構造を平面的に
みると、ラビング方向Aに向ってC1配向からC2配向
に移るときの境界34はジグザグの稲妻状でライトニン
グ欠陥と呼ばれ、C2からC1に移るときの境界35は
幅の広い、緩やかな曲線状でヘアピン欠陥と呼ばれる。
強誘電性液晶を配向させるための相互にほぼ同一方向の
一軸配向処理が施された一対の基板を備え、強誘電性液
晶のプレチルト角をα、コーン角(円錐角の1/2)を
Θ、SmC*層の傾斜角をδとし、強誘電性液晶は、1
式で表わされる配向状態を有する4つの状態が存在す
る。(Detailed Description of Embodiments of the Invention) According to the study of the present inventors, the increase in the cell thickness at the cell edge described above causes the liquid crystal itself to move in a specific direction between the liquid crystal cells by driving. As a result, it was recognized that the pressure at the cell edge increased, and as a result, the cell thickness increased. The cause of the force that causes the liquid crystal molecules to move in the liquid crystal cell is unknown, but it is presumed that the dipole moment of the liquid crystal molecules fluctuates due to an alternating electric field caused by a driving pulse, and this is probably an electrodynamic effect. According to the experiments performed by the present inventors, the moving direction 22 is the rubbing direction 20 as shown in FIG.
And the average molecular axis directions 21 and 21 'of the liquid crystal molecules. Since the moving direction of the liquid crystal molecules depends on the rubbing direction in this way, it is presumed that the phenomenon depends on the state of pretilt at the substrate interface. The average molecular axis directions 21 and 21 'indicate the average molecular positions in the bistable state of the ferroelectric liquid crystal molecules. Here, for example, when an appropriate alternating current is applied such that the liquid crystal does not switch in the state where the average molecular axis direction is indicated by 21, the arrow 22
The liquid crystal molecules move in the direction. However, here, the case where a liquid crystal material having a negative spontaneous polarization direction is used is described. Further, this liquid crystal movement phenomenon depends on the alignment state of the cell. The orientation including the chevron structure of the smectic layer as shown in FIG. 3 can be explained by two types of orientation models C1 and C2. In FIG. 3, 31 is a smectic layer, 32
Represents a C1-oriented region, and 33 represents a C2-oriented region. Smectic liquid crystals generally have a layered structure,
Fig. 3 shows that the transition to the C or SC * phase shortens the phase interval.
The layer has a structure (chevron structure) bent at the center of the upper and lower substrates 11a and 11b as shown in FIG. As shown in the figure, there are two bending directions, C1 and C2. As is well known, the liquid crystal molecules at the substrate interface form an angle with the substrate by rubbing (pretilt), and the direction is the rubbing direction. The liquid crystal molecules are tilted toward A (the tip is floating). Due to this pretilt, C1 orientation and C2 orientation are not equivalent in elastic energy,
Transition occurs at certain temperatures as described above. In addition, transition may occur due to mechanical strain. When the layer structure of FIG. 3 is viewed in plan, a boundary 34 at the time of shifting from the C1 orientation to the C2 orientation in the rubbing direction A is called a lightning defect in a zigzag lightning shape, and a boundary 35 at the time of shifting from C2 to C1. Are wide, gently curved and are called hairpin defects.
A pair of substrates that have been subjected to uniaxial orientation processing in substantially the same direction for aligning the ferroelectric liquid crystal are provided. , The inclination angle of the SmC * layer is δ, and the ferroelectric liquid crystal is 1
There are four states having the orientation states represented by the equations.
【0006】Θ<α+δ…1式Θ <α + δ ... 1 equation
【0007】この4つのC1配向状態は、従来のC1配
向状態とは異なっており、なかでも4つのC1配向状態
のうちの2つの状態は、双安定状態(ユニフォーム状
態)を形成している。ここで、無電界時のみかけのチル
ト角をθaとすれば、C1配向状態における4つの状態
のうち、2式の関係を示す状態をユニフォーム状態とい
う。[0007] The four C1 orientation states are different from the conventional C1 orientation state, and two of the four C1 orientation states form a bistable state (uniform state). Here, assuming that the apparent tilt angle in the absence of an electric field is θa, the state showing the relationship of the two equations among the four states in the C1 alignment state is called a uniform state.
【0008】Θ>θa>Θ/2…2式Θ> θa> Θ / 2 ... 2
【0009】ユニフォーム状態においては、その光学的
性質からみてダイレクタが上下基板間でねじれていない
と考えられる。図4(a)はC1配向の各状態における
基板間の各位置でのダイレクタの配置を示す模式図であ
る。図中51〜54は各状態においてダイレクタをコー
ンの底面に投影し、これを底面から見た様子を示してお
り、51および52がスプレー状態、53および54が
ユニフォーム状態と考えられるダイレクタの配置であ
る。同図から分かるとおり、ユニフォームの2状態53
と54においては、上下いずれかの基板界面の液晶分子
の位置がスプレイ状態の位置と入れ替わっている。図4
(b)はC2配向を示しており、界面のスイッチングは
なく内部のスイッチングで2状態55と56がある。こ
のC1配向のユニフォーム状態は、従来用いていたC2
配向における双安定状態よりも大きなチルト角θaを生
じ、輝度が大きくコントラストが高い。In the uniform state, it is considered from the optical properties that the director is not twisted between the upper and lower substrates. FIG. 4A is a schematic diagram showing the arrangement of directors at each position between substrates in each state of C1 orientation. In the figures, reference numerals 51 to 54 denote projections of the director on the bottom surface of the cone in each state, as viewed from the bottom surface. Reference numerals 51 and 52 denote spraying states, and 53 and 54 denote director arrangements considered to be in a uniform state. is there. As can be seen from FIG.
In 54 and 54, the position of the liquid crystal molecule at the upper or lower substrate interface is replaced with the position in the splay state. FIG.
(B) shows the C2 orientation, and there are two states 55 and 56 by internal switching without interface switching. The uniform state of the C1 orientation corresponds to the C2 orientation conventionally used.
A larger tilt angle θa is generated than in the bistable state in the orientation, and the brightness is large and the contrast is high.
【0010】前述した液晶分子の移動は、実際の液晶セ
ルでは、図2に示すように、例えばセル全体で液晶分子
位置が矢印21で示した状態にあったとすると、セル内
部で図の紙面の右から左へ液晶の移動が生じる。その結
果、図2(b)に示すように領域23のセル厚が経時的
に厚くなり、色づきを生じてくることになる。液晶分子
が矢印21′で示した状態にあるときには、交流電界下
での移動は逆になるが、いずれにせよ、ラビング方向2
0に対して垂直な方向、すなわちスメクチック層内にお
いて液晶の移動が生じる。上記のごとき液晶の移動は液
晶素子の長時間連続駆動における耐久性に悪影響を与え
ることは明白である。In the actual liquid crystal cell, for example, as shown in FIG. 2, if the position of the liquid crystal molecules is in the state indicated by the arrow 21 in the entire cell, the movement of the liquid crystal molecules described above is caused by the inside of the cell. The liquid crystal moves from right to left. As a result, as shown in FIG. 2B, the cell thickness in the region 23 increases with time, and coloring occurs. When the liquid crystal molecules are in the state shown by the arrow 21 ', the movement under the AC electric field is reversed, but in any case, the rubbing direction 2
The liquid crystal moves in a direction perpendicular to 0, that is, in the smectic layer. Obviously, the movement of the liquid crystal as described above has an adverse effect on the durability of the liquid crystal element in continuous driving for a long time.
【0011】そこで本発明は、カイラルスメクチック相
を示す液晶を間に保持して対向するとともに、その対向
面にはそれぞれ該液晶に電圧を印加するための電極が形
成され且つ該液晶を配向させるために処理された一対の
基板とを備えた液晶素子において、該液晶に交流を印加
し、該交流印加の期間中に該素子の温度を昇降させる工
程を有する液晶の配向処理方法及び該配向処理を用いた
液晶素子の製造方法であって、好ましくは、上記の素子
の温度を昇降させる工程において、スメクティック相内
での昇降温、より好ましくはスメクチックA相と、カイ
ラルスメクチック相との間での昇降温を行うことによ
り、上述の液晶の移動を減少させ、均一配向を実現する
ものである。特に本発明では、上記液晶素子で、一対の
基板に液晶を配向させるために相互にほぼ同一方向の一
軸性配向処理が施され、より好ましくは一対の基板の界
面と液晶分子のなす角(プレチルトα)が10°以上の
素子において、該液晶に交流を印加し、該交流印加の期
間中に該素子の温度を昇降させることで、上述の液晶の
移動の減少が最適になされ、均一配向性が顕著に実現さ
れる。Therefore, the present invention provides a liquid crystal device having a chiral smectic phase, which is opposed to a liquid crystal having a chiral smectic phase therebetween, and an electrode for applying a voltage to the liquid crystal is formed on each of the opposing surfaces to align the liquid crystal. In a liquid crystal device comprising a pair of substrates that have been processed in the following manner, an alternating current is applied to the liquid crystal, and during the period of the alternating current, the temperature of the device is raised and lowered. a method of manufacturing a liquid crystal device using, preferably, lifting between the step of elevating the temperature of the element, decreasing the temperature in the smectic phase within, more preferably a smectic a phase, a chiral smectic phase By performing the heating, the above-described movement of the liquid crystal is reduced, and uniform alignment is realized. In particular, in the present invention, in the liquid crystal element, uniaxial alignment treatment is performed on the pair of substrates in substantially the same direction to align the liquid crystal, and more preferably, the angle (pretilt angle) formed between the interface between the pair of substrates and the liquid crystal molecules. In an element having α) of 10 ° or more, by applying an alternating current to the liquid crystal and raising or lowering the temperature of the element during the period of applying the alternating current, the movement of the liquid crystal is reduced optimally, and the uniform alignment Is remarkably realized.
【0012】図6に本発明の一例としてisotrop
ic相から徐冷したのみの配向を、図7にそれを下記の
条件で処理を施した後の配向を示す。シワ上の配向欠陥
が除去されているのがわかる。FIG. 6 shows an example of an isotrope according to the present invention.
FIG. 7 shows the orientation after only slow cooling from the ic phase, and FIG. 7 shows the orientation after the treatment under the following conditions. It can be seen that the alignment defects on the wrinkles have been removed.
【0013】[0013]
【外3】 [Outside 3]
【0014】図5(a)は処理前の測定結果であり、 θ1=78.95°(δ1=12.55°)、θ2=10
3.70°(δ2=12.2°) FWHM1=2.25°、FWHM2=2.75° であった。また図5(b)は処理後の測定結果であり、 θ1=79.35°(δ1=12.15°)、θ2=10
2.55°(δ2=11.05°) FWHM1=1.90°、FWHM2=1.85° であった。FIG. 5A shows the measurement results before the processing, where θ 1 = 78.95 ° (δ 1 = 12.55 °) and θ 2 = 10.
3.70 ° (δ 2 = 12.2 °) FWHM 1 = 2.25 ° and FWHM 2 = 2.75 °. FIG. 5B shows the measurement results after the processing, where θ 1 = 79.35 ° (δ 1 = 12.15 °) and θ 2 = 10.
2.55 ° (δ 2 = 11.05 °) FWHM 1 = 1.90 ° and FWHM 2 = 1.85 °.
【0015】回折ピークの積分強度が大きくなっている
のは層構造の秩序度が上がっていることを示している。
またピークの半値幅が狭くなっているのは層構造が明確
なシェブロン構造に変化してることを示している。An increase in the integrated intensity of the diffraction peak indicates that the order of the layer structure is increased.
Also, the narrowing of the peak half width indicates that the layer structure has changed to a clear chevron structure.
【0016】図1に示すようにこの液晶セルは一対の平
行に配置した上基板11aおよび下基板11bと、それ
ぞれの基板に配線した厚さが約400−3000Åの透
明電極12aと12bを備えている。上基板11aとし
た基板11bとの間には強誘電性液晶15が配置してあ
る。透明電極12aおよび12b上には、例えば厚さが
100−3000Åの絶縁膜13aおよび13bが形成
されている。本発明における絶縁膜は塗布焼成タイプの
無機酸化物でも良いしスパッタ膜でも良い又2層構成以
上の多層膜でも良い。14aおよび14bは配向制御層
であり通常、50−1000Åで形成される。通常、高
分子ポリマーが用いられるが、この発明における素子で
はフッ素含有ポリイミド等の高いプレチルトを与える配
向制御膜が好適である。プレチルトの値は10−30°
が好ましい。配向処理方法としては、通常にはポリマー
をラビングする方法が用いられる。As shown in FIG. 1, this liquid crystal cell comprises a pair of parallel upper and lower substrates 11a and 11b, and transparent electrodes 12a and 12b each having a thickness of about 400-3000.degree. I have. A ferroelectric liquid crystal 15 is arranged between the upper substrate 11a and the substrate 11b. On the transparent electrodes 12a and 12b, insulating films 13a and 13b having a thickness of, for example, 100 to 3000 ° are formed. The insulating film in the present invention may be a coating and firing type inorganic oxide, a sputtered film, or a multi-layered film having two or more layers. 14a and 14b are orientation control layers which are usually formed at 50-1000 °. Usually, a high-molecular polymer is used, but in the device of the present invention, an orientation control film that gives high pretilt, such as fluorine-containing polyimide, is preferable. Pretilt value is 10-30 °
Is preferred. As the alignment treatment method, a method of rubbing a polymer is usually used.
【0017】また上下基板をラビングする場合、上下の
ラビング方向を0−20°の範囲で交差させることがで
きる。これにより前述のユニフォーム状態53および5
4を安定化することができ、より高いコントラストを得
ることができる。本発明では強誘電性液晶としてカイラ
ルスメクティック相状態のものを用いることができ、具
体的には、カイラルスメクティックC相(Sm*C)、
H相(Sm*H)、I相(Sm*I)、K相(Sm*K)
やG相(Sm*G)の液晶を用いることができる。When rubbing the upper and lower substrates, the upper and lower rubbing directions can be crossed within a range of 0-20 °. Thereby, the above-mentioned uniform state 53 and 5
4 can be stabilized, and higher contrast can be obtained. In the present invention, a ferroelectric liquid crystal having a chiral smectic phase can be used. Specifically, a chiral smectic C phase (Sm * C),
H phase (Sm * H), I phase (Sm * I), K phase (Sm * K)
Alternatively, a liquid crystal of G phase (Sm * G) can be used.
【0018】特に好ましい液晶としては、高温側でコレ
ステリック相を示すものを用いることができ、例えば下
述の相転移温度および物性値を示すピリミジン系混合液
晶を用いることができる。As a particularly preferred liquid crystal, a liquid crystal exhibiting a cholesteric phase at a high temperature side can be used. For example, a pyrimidine-based mixed liquid crystal exhibiting the following phase transition temperatures and physical properties can be used.
【0019】[0019]
【外4】 [Outside 4]
【0020】なお、以上の物性パラメータ(コーン角
Θ、層の傾き角δ、見かけのチルト角θaおよびプレチ
ルト角)は以上のようにして測定した。 コーン角Θの測定 10−30VのDCをFLC素子の上下基板間に印加し
ながら直交クロスニコル下、その間に配置されたFLC
素子を偏光板と水平に回転させ第1の消光位(透過率が
最も低くなる位置)をさがし、次に上記と逆極性のDC
を印加しながら第2の消光位をさがす。このときの第1
の消光位から第2の消光位までの角度の1/2をコーン
角Θとした。[0020] The above physical parameters (cone angle theta, the angle of inclination of the layers [delta], tilt angle theta a and the pretilt angle of the apparent) were measured as described above. Measurement of cone angle し な が ら 10-30V DC is applied between the upper and lower substrates of the FLC element, and the FLC is placed under and between the crossed Nicols.
Rotate the element horizontally with the polarizing plate to find the first extinction position (the position where the transmittance becomes lowest),
While searching for the second extinction position. The first at this time
1/2 of the angle from the extinction position to the second extinction position was defined as the cone angle Θ.
【0021】(見かけのチルト角θaの測定)液晶のし
きい値の単発パルスを印加した後、無電界下、かつ直交
クロスニコル下、その間には位置されたFLC素子を偏
光板と水平に回転させ第1の消光位をさがし、次に上記
の単発パルスと逆極性のパルスを印加した後、無電界
下、第2の消光位をさがす。このときの第1の消光位か
ら第2の消光位までの角度の1/2をθaとした。[0021] (Measurement of tilt angle theta a apparent) after applying a single pulse of the liquid crystal threshold, no electric field under and orthogonal crossed Nicol state, the FLC device which is located on the horizontally polarizing plate therebetween After rotating to find the first extinction position, and then applying a pulse having a polarity opposite to that of the above-mentioned single pulse, the second extinction position is found without an electric field. Half of angle from the first extinction position at this time to a second extinction position was theta a.
【0022】(スメクティック層構造のX線回析)スメ
クティック層構造は、X線回折法を用いて解析した。(X-Ray Diffraction of Smectic Layer Structure) The smectic layer structure was analyzed using an X-ray diffraction method.
【0023】測定法は、基本的にはClarkとlag
erwallによって発表された方法(Japan D
isplay ’86.Sep. 30−Oct.
2,1986,pp456−458)あるいは、大内ら
の方法(J.J.A.P.,27(5)(1988)p
p725−728)と同様な方法を用いた。まず液晶の
層間隔は液晶を試料ガラス上に塗り、通常の粉末X線回
折と同様に2θ/θスキャンを行い、Braggの式よ
り求めた。そして、セル内に形成されたスメクティック
液晶の層構造は、さきに求めた層間隔に相当する回折角
2θにX線検出器をあわせセルをθスキャンし、前文献
に示された方法で行った。The measuring method is basically based on Clark and lag.
erwall published method (Japan D
display '86. Sep. 30-Oct.
2, 1986, pp 456-458) or the method of Ouchi et al. (JJAP, 27 (5) (1988) p.
p725-728). First, the layer spacing of the liquid crystal was determined by coating the liquid crystal on a sample glass, performing 2θ / θ scanning in the same manner as in ordinary powder X-ray diffraction, and using the Bragg equation. Then, the layer structure of the smectic liquid crystal formed in the cell was determined by the method described in the above literature by scanning the cell with an X-ray detector at a diffraction angle 2θ corresponding to the layer spacing determined earlier and scanning the cell with θ. .
【0024】X線回折装置は回転対陰極方式のMACサ
イエンス社製MXP−18を用い、銅のκα線を分析線
とした。The X-ray diffractometer used was a rotating anti-cathode type MXP-18 manufactured by MAC Science Co., Ltd., and the κα ray of copper was used as the analysis line.
【0025】X線回折装置の設定条件は、 X線出力 50kV×300mA=15kW 発散スリット 0、5° 走査スリット 0、5° 受光スリット 0、15mm サンプリング角 0、05° 走査速度 10°/min で、照射面積はセル治具とスリットによって決まり、
8.0×1.8mm2でセル厚は1.5μmである。な
お、バックグランド除去にはSonneveld法を用
いた。The setting conditions of the X-ray diffraction apparatus are as follows: X-ray output 50 kV × 300 mA = 15 kW Divergence slit 0, 5 ° Scanning slit 0, 5 ° Light receiving slit 0, 15 mm Sampling angle 0, 05 ° Scanning speed 10 ° / min The irradiation area is determined by the cell jig and slit,
It is 8.0 × 1.8 mm 2 and the cell thickness is 1.5 μm. The background was removed by the Sonneverd method.
【0026】(プレチルト角αの測定)Jpn.J.A
ppl.Phys.vol.19(1980)NO.1
0、Short Notes 2013に記載されてい
る方法(クリスタルローテーション法)に従って求め
た。つまり、平行かつ反対方向にラビングした基板を貼
り合わせてセル厚20μmのセルを作成し、0−60℃
の範囲でSmA相を有する液晶(A)を封入し測定を行
った。液晶セルを上下基板に垂直かつ配向処理軸を含む
面で回転させながら回転軸と45°の角度をなす偏光面
を持つヘリウム・ネオンレーザ光を回転軸に垂直な方向
から照射し、その反対側で入射偏光面と平行な透過軸を
持つ偏光板を通してフォトダイオードで透過光強度を測
定した。干渉によってできた透過光強度の双曲線群の中
心となる角と液晶セルに垂直な線となす角度をφxと
し、下式に代入してプレチルト角α0を求めた。(Measurement of Pretilt Angle α) Jpn. J. A
ppl. Phys. vol. 19 (1980) NO. 1
0, according to the method described in Short Notes 2013 (crystal rotation method). That is, a substrate having a cell thickness of 20 μm is formed by bonding substrates rubbed in parallel and opposite directions,
The liquid crystal (A) having the SmA phase was sealed in the range of and the measurement was performed. While rotating the liquid crystal cell in a plane perpendicular to the upper and lower substrates and including the alignment processing axis, the liquid crystal cell is irradiated with helium / neon laser light having a polarization plane that forms an angle of 45 ° with the rotation axis from a direction perpendicular to the rotation axis, and the opposite side. The transmitted light intensity was measured by a photodiode through a polarizing plate having a transmission axis parallel to the incident polarization plane. The angle between a line perpendicular to the center to become the corner and the liquid crystal cell of the hyperbola group of the transmitted light intensity can by interference and phi x, was determined pre-tilt angle α0 is substituted into the following equation.
【0027】[0027]
【外5】 [Outside 5]
【0028】[0028]
【実施例】以下、本発明にかかる液晶素子を作成した実
施例を説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment in which a liquid crystal device according to the present invention is manufactured will be described below.
【0029】(実施例1)7.5cmX7.5cmの透
明電極のついたガラス基板上に酸化タンタルの薄膜をス
パッタ法で形成し、その上にフッ素系ポリイミドの1%
NMP溶液をスピナーで塗布し270℃で1時間焼成し
た。次に、この基板をラビングし、同じ処理をしたもう
1枚の基板とラビング方向が同一方向かつ平行からセル
上方から見て10°時計まわりにねじられているように
1.5μmのセル厚を保って貼り合わせ、セルを作成し
た。該セルのプレチルト角はクリスタルローテーション
法により20°であると測定された。該セルにフェニル
ピリミジンを主成分とする混合液晶で、コーン角は室温
で14°、層傾斜角は室温で12°の強誘電性液晶を注
入した。Example 1 A thin film of tantalum oxide was formed on a glass substrate provided with a 7.5 cm × 7.5 cm transparent electrode by a sputtering method, and 1% of a fluorine-based polyimide was formed thereon.
The NMP solution was applied with a spinner and baked at 270 ° C. for 1 hour. Next, this substrate was rubbed, and the cell thickness of 1.5 μm was adjusted so that the rubbing direction was twisted clockwise by 10 ° when viewed from above the cell from the same direction and parallel with another substrate subjected to the same treatment. The cell was created by holding and bonding. The pretilt angle of the cell was measured to be 20 ° by the crystal rotation method. A ferroelectric liquid crystal having a cone angle of 14 ° at room temperature and a layer tilt angle of 12 ° at room temperature was injected into the cell as a mixed liquid crystal containing phenylpyrimidine as a main component.
【0030】相転移温度は以下のとおりであった。The phase transition temperatures were as follows:
【0031】[0031]
【外6】 [Outside 6]
【0032】図7はこの液晶のコーン角の温度変化を示
したものである。FIG. 7 shows the temperature change of the cone angle of the liquid crystal.
【0033】液晶を注入したセルを100℃で5時間エ
ージングした後、以下のような処理を行った。After the cells into which the liquid crystal was injected were aged at 100 ° C. for 5 hours, the following treatment was performed.
【0034】[0034]
【外7】 [Outside 7]
【0035】Sm*C相の、全温度範囲でC1配向が保
たれ、電界によるユニフォーム状態のスイッチングが可
能であった。以下の実験は30℃で行った。この時の、
見かけのチルト角θaは11.5°であった。The C1 orientation of the Sm * C phase was maintained over the entire temperature range, and uniform state switching by an electric field was possible. The following experiments were performed at 30 ° C. At this time,
The apparent tilt angle θa was 11.5 °.
【0036】次にセルの配向を図8のように平均分子軸
81および82に揃え図9に示す波形(Vop=25
V、Δt=25μsを約7時間印加後に、図8の83−
86の領域におけるセル厚を測定したところ、初期セル
厚からのズレは表1の通りであった。Next, the cell orientation is aligned with the average molecular axes 81 and 82 as shown in FIG. 8 and the waveform (Vop = 25) shown in FIG.
After applying V, Δt = 25 μs for about 7 hours, FIG.
When the cell thickness in the region of 86 was measured, the deviation from the initial cell thickness was as shown in Table 1.
【0037】[0037]
【表1】 [Table 1]
【0038】このセルをクロスニコルの偏光板にはさみ
込み黙視で色づきを確認したところセル厚の増減した領
域は認識できなかった。When this cell was sandwiched between crossed Nicol polarizing plates and coloration was confirmed by silent observation, the region where the cell thickness was increased or decreased could not be recognized.
【0039】X線解析の結果は、層傾き角δ、ピーク半
値幅、層構造回折ピーク面積は表1に示した。この結果
は、80μm厚のガラス基板に上記と同一処理を施し前
述の方法で得た。このサンプルのセル厚は、1.5μm
であった。この層構造回折ピーク面積、半値幅は、各々
比較例3の103%、1.15倍であった。As a result of the X-ray analysis, Table 1 shows the layer tilt angle δ, the peak half width, and the layer structure diffraction peak area. This result was obtained by performing the same treatment as above on a glass substrate having a thickness of 80 μm and by the above-described method. The cell thickness of this sample is 1.5 μm
Met. The layer structure diffraction peak area and half width were 103% and 1.15 times that of Comparative Example 3, respectively.
【0040】(実施例2)実施例1と全く同じ方法で作
成したFLC素子に以下の処理をした。Example 2 The following processing was performed on an FLC device manufactured in exactly the same manner as in Example 1.
【0041】[0041]
【外8】 [Outside 8]
【0042】Sm*C相の、全温度範囲でC1配向が保
たれ、電界によるユニフォーム状態のスイッチングが可
能であった。この時の、見かけのチルト角θaは11.
5°であった。The C1 orientation of the Sm * C phase was maintained over the entire temperature range, and uniform state switching by an electric field was possible. At this time, the tilt angle θ a of the apparent 11.
5 °.
【0043】次にセルの配向を図8のように平均分子軸
81及び82に揃え図9に示す波形(Vop=25V、
Δt=25μs)を約7時間印加後に、図8の83−8
6の領域におけるセル厚を測定したところ、初期セル厚
からのズレは表2の通りであった。尚、図9において、
SN,SN+1,SN+2は夫々N,N+1,N+2番目の走
査線に供給されている走査信号、Iは情報信号、I−S
N,I−SN+1は夫々N,N+1の走査線に対応した画素
に印加される駆動信号である。Next, the cell orientation is aligned with the average molecular axes 81 and 82 as shown in FIG. 8 and the waveform (Vop = 25 V,
Δt = 25 μs) for about 7 hours, and then 83-8 in FIG.
When the cell thickness in the area of No. 6 was measured, the deviation from the initial cell thickness was as shown in Table 2. In FIG. 9,
S N , S N + 1 , S N + 2 are scanning signals supplied to the N, N + 1, N + 2nd scanning lines, I is an information signal, and I−S
N and I−S N + 1 are drive signals applied to pixels corresponding to N and N + 1 scanning lines, respectively.
【0044】[0044]
【表2】 [Table 2]
【0045】このセルをクロスニコルの偏光板にはさみ
込み黙視で色づきを確認したところセル厚の増減した領
域は認識できなかった。The cell was sandwiched between crossed Nicol polarizing plates, and coloration was confirmed by silent observation. As a result, an area where the cell thickness was increased or decreased could not be recognized.
【0046】(実施例3)実施例1と全く同じ方法で作
成したFLC素子に以下の処理をした。Example 3 The following processing was performed on an FLC device manufactured in exactly the same manner as in Example 1.
【0047】[0047]
【外9】 Am*C相の、全温度範囲でC1配向が保たれ、電界に
よるユニフォーム状態のスイッチングが可能であった。
この時の、見かけのチルト角θaは11.5°であっ
た。[Outside 9] The C1 orientation of the Am * C phase was maintained over the entire temperature range, and uniform state switching by an electric field was possible.
At this time, the tilt angle theta a apparent was 11.5 °.
【0048】次にセルの配向を図8のように平均分子軸
81及び82に揃え図9に示す波形(Vop=25V、
Δt=25μsを約7時間印加後に、図8の83−86
の領域におけるセル厚を測定したところ、初期セル厚か
らのズレは表3の通りであった。Next, the cell orientation is adjusted to the average molecular axes 81 and 82 as shown in FIG. 8 and the waveform (Vop = 25 V,
After applying Δt = 25 μs for about 7 hours, 83-86 in FIG.
When the cell thickness in the region was measured, the deviation from the initial cell thickness was as shown in Table 3.
【0049】[0049]
【表3】 [Table 3]
【0050】このセルをクロスニコクの偏光板に挟み込
み黙視で色づきを確認したところセル厚の増減した領域
は認識できなかった。When the cell was sandwiched between crossed polarizers and coloration was confirmed by silent gaze, the region where the cell thickness was increased or decreased could not be recognized.
【0051】(実施例4)実施例1と全く同じ方法で作
成したFLC素子に以下の処理をした。Example 4 The following processing was performed on an FLC device manufactured in exactly the same manner as in Example 1.
【0052】[0052]
【外10】 Sm*C相の、全温度範囲でC1配向が保たれ、電界に
よるユニフォーム状態のスイッチングが可能であった。
この時の、見かけのチルト角θaは11.5°であっ
た。[Outside 10] The C1 orientation of the Sm * C phase was maintained over the entire temperature range, and uniform state switching by an electric field was possible.
At this time, the tilt angle theta a apparent was 11.5 °.
【0053】次にセルの配向を8図のように平均分子軸
81及び82に揃え図9に示す波形(Vop=25V、
Δt=25μsを約7時間印加後に、図8の83−86
の領域におけるセル厚を測定したところ、初期セル厚か
らのズレは表4の通りであった。Next, the cell orientation was adjusted to the average molecular axes 81 and 82 as shown in FIG. 8 and the waveform (Vop = 25 V,
After applying Δt = 25 μs for about 7 hours, 83-86 in FIG.
When the cell thickness in the region was measured, the deviation from the initial cell thickness was as shown in Table 4.
【0054】[0054]
【表4】 [Table 4]
【0055】このセルをクロスニコルの偏光板に挟み込
み黙視で色づきを確認したところセル厚の増減した領域
は認識できなかった。When the cell was sandwiched between crossed Nicols polarizing plates and coloration was confirmed by silent observation, the region where the cell thickness increased or decreased could not be recognized.
【0056】X線解析の結果は、層傾き角δ、ピーク半
値幅、層構造回折ピーク面積は表1に示した。この結果
は、80μm厚のガラス基板に上記と同一処理を施し前
述の方法で得た。このサンプルのセル厚は、1.5μm
であった。この層構造回折ピーク面積、半値幅は、各々
比較例3の83%、1.18倍で比較例3であった。As a result of the X-ray analysis, Table 1 shows the layer tilt angle δ, the peak half width, and the layer structure diffraction peak area. This result was obtained by performing the same treatment as above on a glass substrate having a thickness of 80 μm and by the above-described method. The cell thickness of this sample is 1.5 μm
Met. This layer structure diffraction peak area and half width were 83% and 1.18 times of Comparative Example 3, respectively, and were Comparative Example 3.
【0057】(実施例5)実施例1と全く同じ方法で作
成したFLC素子に以下の処理をした。Example 5 The following processing was performed on an FLC device manufactured in exactly the same manner as in Example 1.
【0058】[0058]
【外11】 Sm*C相の、全温度範囲でC1配向が保たれ、電界に
よるユニフォーム状態のスイッチングが可能であった。
この時の、見かけのチルト角θaは11.5°であっ
た。[Outside 11] The C1 orientation of the Sm * C phase was maintained over the entire temperature range, and uniform state switching by an electric field was possible.
At this time, the tilt angle theta a apparent was 11.5 °.
【0059】次にセルの配向を8図のように平均分子軸
81及び82に揃え図9に示す波形(Vop=25V、
Δt=25μs)を約7時間印加後に、図8の83−8
6の領域におけるセル厚を測定したところ、初期セル厚
からのズレは表5の通りであった。Next, the cell orientation is aligned with the average molecular axes 81 and 82 as shown in FIG. 8 and the waveform shown in FIG. 9 (Vop = 25 V,
Δt = 25 μs) for about 7 hours, and then 83-8 in FIG.
When the cell thickness in the area of No. 6 was measured, the deviation from the initial cell thickness was as shown in Table 5.
【0060】[0060]
【表5】 [Table 5]
【0061】このセルをクロスニコルの偏光板に挟み込
み黙視で色づきを確認したところセル厚の増減した領域
は認識できなかった。When the cell was sandwiched between crossed Nicols polarizing plates and coloration was confirmed by silent observation, the region where the cell thickness was increased or decreased could not be recognized.
【0062】X線解析の結果は、層傾き角δ、ピーク半
値幅、層構造回折ピーク面積は表1に示した。これは、
80μm厚のガラス基板に上記と同一処理を施し前述の
方法で得た。このサンプルのセル厚は、1.5μmであ
った。この層構造回折ピーク面積、半値幅は、各々比較
例3の80%、1.23倍であった。As a result of the X-ray analysis, Table 1 shows the layer tilt angle δ, the peak half width, and the layer structure diffraction peak area. this is,
An 80 μm-thick glass substrate was subjected to the same treatment as described above, and was obtained by the method described above. The cell thickness of this sample was 1.5 μm. The diffraction peak area and half width of this layer structure were 80% and 1.23 times that of Comparative Example 3, respectively.
【0063】(比較例1)実施例1と全く同じ方法で作
成したFLC素子を100℃から−4℃/min.のス
ピードで30℃まで冷却した後、その他の処理をせずに
実施例と同様の測定評価を行った。Sm*C相の、全温
度領域でC1配向が保たれ、電界によるユニフォーム状
態のスイッチングが可能であった。この時の、見かけの
チルト角θaは11.5°であった。(Comparative Example 1) An FLC element prepared in exactly the same manner as in Example 1 was used at a temperature of 100 ° C to -4 ° C / min. After cooling at a speed of 30 ° C. to 30 ° C., the same measurement and evaluation as in the example were performed without any other treatment. The C1 orientation of the Sm * C phase was maintained over the entire temperature range, and uniform state switching by an electric field was possible. At this time, the tilt angle theta a apparent was 11.5 °.
【0064】次にセルの配向を図8のように平均分子軸
81及び82に揃え図9に示す波形(Vop=25V、
Δt=25μs)を約7時間印加後に、図8の83−8
6の領域におけるセル厚を測定したところ、初期のセル
厚からのズレは表6の通りであった。Next, the cell orientation is aligned with the average molecular axes 81 and 82 as shown in FIG. 8 and the waveform shown in FIG. 9 (Vop = 25 V,
Δt = 25 μs) for about 7 hours, and then 83-8 in FIG.
When the cell thickness in the area of No. 6 was measured, the deviation from the initial cell thickness was as shown in Table 6.
【0065】[0065]
【表6】 [Table 6]
【0066】このセルをクロスニコルの偏光板に挟み込
み黙視で色づきを確認したところ、顕著なセル厚変化に
よりしろ表示にした場合83と85の部分が黄色に変色
して見えた。When this cell was sandwiched between crossed Nicols polarizing plates and the coloration was confirmed by silent observation, when the marginal display was performed due to a remarkable change in cell thickness, the portions 83 and 85 turned yellow.
【0067】X線解析の結果は、層傾き角δ、ピーク半
値幅、層構造回折ピーク面積は表1に示した。これは、
80μm厚のガラス基板に上記と同一処理を施し前述の
方法で得た。このサンプルのセル厚は、1.5μmであ
った。この層構造回折ピーク面積、半値幅は、各々比較
例3の53%、1.53倍であった。As a result of the X-ray analysis, Table 1 shows the layer tilt angle δ, the peak half width, and the layer structure diffraction peak area. this is,
An 80 μm-thick glass substrate was subjected to the same treatment as described above, and was obtained by the method described above. The cell thickness of this sample was 1.5 μm. The layer structure diffraction peak area and half width were 53% and 1.53 times that of Comparative Example 3, respectively.
【0068】(比較例2)ラビング処理においてラビン
グ密度を3倍にした以外は、実施例1と同様の方法でF
LC素子を作成し、100℃から−4℃/min.のス
ピードで30℃まで冷却し配向状態を観察した。このラ
ビング条件におけるプレチルトは9°であると測定され
た。Sm*C相の55℃以下ではC2配向が出現してし
まい均一なユニフォーム状態のスイッチングができなか
った。(Comparative Example 2) Except that the rubbing density was tripled in the rubbing treatment, F
An LC element was prepared, and 100 to -4 ° C / min. At 30 ° C. to observe the orientation state. The pretilt under these rubbing conditions was measured to be 9 °. When the Sm * C phase was 55 ° C. or lower, C2 orientation appeared, and uniform uniform state switching was not possible.
【0069】(比較例3) 7.5cm×7.5cmの透明電極のついたガラス基板
上に酸化タンタルの薄膜をスパッタ法で形成し、その上
に下記のポリイミド1%NMP溶液をスピナーで塗布し
270℃で1時間焼成した。次に、この基板に実施例1
と同様のラビング処理を行い、同じ処理をしたもう1枚
の基板とラビング方向が同一方向かつ平行からセル上方
から見て10°時計まわりにねじられているように1.
5μmのセル厚を保って貼り合わせ、セルを作成した。
該セルのプレチルト角はクリスタルローテーション法に
より1.5°であると測定された該セルに前記フェニル
ピリミジンを主成分とする混合液晶を注入した。Sm*
C相の63℃以下では均一なC2配向でありスプレー配
向であった。Comparative Example 3 A tantalum oxide thin film was formed on a glass substrate having a 7.5 cm × 7.5 cm transparent electrode by a sputtering method, and the following polyimide 1% NMP solution was applied thereon by a spinner. Then, it was baked at 270 ° C. for 1 hour. Next, Example 1 was applied to this substrate.
The same rubbing treatment is performed as described above, and the rubbing direction is twisted clockwise by 10 ° when viewed from above the cell from the same direction and parallel to another substrate subjected to the same treatment.
The cells were adhered while keeping the cell thickness of 5 μm to form cells.
The mixed liquid crystal containing phenylpyrimidine as a main component was injected into the cell whose pretilt angle was determined to be 1.5 ° by a crystal rotation method. Sm *
When the C phase was 63 ° C. or lower, the C2 orientation was uniform and the orientation was spray orientation.
【外1】 [Outside 1]
【0070】X線解析の結果は、層傾き角δ、ピーク半
値幅、層構造回折ピーク面積は表1に示した。これは、
80μm厚のガラス基板に上記と同一処理を施し前述の
方法で得た。このサンプルのセル厚は、1.5μmであ
った。As a result of the X-ray analysis, Table 1 shows the layer tilt angle δ, the peak half width, and the diffraction peak area of the layer structure. this is,
An 80 μm-thick glass substrate was subjected to the same treatment as described above, and was obtained by the method described above. The cell thickness of this sample was 1.5 μm.
【0071】実施例1、4、5及び比較例1、3におけ
るX線測定結果をδ、ピーク面積、FWHMについて表
7にまとめる。Table 7 summarizes the results of X-ray measurement in Examples 1, 4, and 5 and Comparative Examples 1 and 3 with respect to δ, peak area, and FWHM.
【0072】[0072]
【表7】 [Table 7]
【0073】[0073]
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、カ
イラルスメクチック相を示す液晶を用いた液晶素子にお
ける端部のセル厚増加を低減することができ、長時間安
定な駆動が可能となる。According to the present invention as described above, according to the present invention, Ca
An increase in cell thickness at the end of a liquid crystal element using a liquid crystal exhibiting an iral smectic phase can be reduced, and stable driving can be performed for a long time.
【図1】本発明に利用できる液晶素子の模式的断面図で
ある。FIG. 1 is a schematic sectional view of a liquid crystal element that can be used in the present invention.
【図2】液晶の移動を説明するための図である。FIG. 2 is a diagram for explaining movement of a liquid crystal.
【図3】C1配向、C2配向を説明するための図であ
る。FIG. 3 is a diagram for explaining C1 orientation and C2 orientation.
【図4】スプレイ配向、ユニフォーム配向を説明するた
めの図である。FIG. 4 is a diagram for explaining spray orientation and uniform orientation.
【図5】X線解析による層構造の変化を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a change in a layer structure by X-ray analysis.
【図6】Iso相から徐冷した場合の強誘電性液晶の配
向を示す結晶の構造の写真である。FIG. 6 is a photograph of a crystal structure showing the orientation of a ferroelectric liquid crystal when slowly cooled from an Iso phase.
【図7】本発明にかかる配向処理を施した場合の強誘電
液晶の配向を示す結晶の構造の写真である。FIG. 7 is a photograph of a crystal structure showing the orientation of a ferroelectric liquid crystal when the orientation treatment according to the present invention is performed.
【図8】本発明実施例で使用した液晶のコーン角の温度
変化を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing a temperature change of a cone angle of a liquid crystal used in an example of the present invention.
【図9】本発明実施例で使用したセルの配向を説明する
ための図である。FIG. 9 is a diagram for explaining the orientation of cells used in an example of the present invention.
【図10】本発明実施例で使用した駆動波形を示す図で
ある。FIG. 10 is a diagram showing driving waveforms used in the embodiment of the present invention.
11a、11b 基板 12a、12b 透明電極 13a、13b 絶縁膜 14a、14b 配向制御膜 15 強誘電性液晶 16 スペーサ 17a、17b 偏光子 20 ラビング方向 21、21′ 平均分子軸 22 液晶の移動方向 23 セルが厚くなった領域 31 スメクティック層 32 C1配向の領域 33 C2配向の領域 34 ライトニング欠陥 35 ヘアピン欠陥 51、52 スプレイ配向(Sm*C1) 53、54 ユニフォーム配向(Sm*C1) 55、56 スプレイ配向(Sm*C2)11a, 11b Substrate 12a, 12b Transparent electrode 13a, 13b Insulating film 14a, 14b Alignment control film 15 Ferroelectric liquid crystal 16 Spacer 17a, 17b Polarizer 20 Rubbing direction 21, 21 'Average molecular axis 22 Liquid crystal moving direction 23 Cell Thickened region 31 Smectic layer 32 C1 oriented region 33 C2 oriented region 34 Lightning defect 35 Hairpin defect 51, 52 Splay orientation (Sm * C1) 53, 54 Uniform orientation (Sm * C1) 55, 56 Splay orientation (Sm) * C2)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森 直 東京都大田区下丸子3丁目30番2号キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 坪山 明 東京都大田区下丸子3丁目30番2号キヤ ノン株式会社内 (56)参考文献 特開 平2−176723(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/3337 510 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Nao Mori 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (72) Inventor Akira Tsuboyama 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon (56) References JP-A-2-176723 (JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) G02F 1/3337 510
Claims (9)
するとともに、その対向面にはそれぞれ該液晶に電圧を
印加するための電極が形成され且つ該液晶を配向させる
ために処理された一対の基板とを備えた液晶素子におい
て、該液晶に交流を印加し、該交流印加の期間中に該素
子の温度を昇降させる液晶の配向処理方法。1. An alignment treatment method for a liquid crystal, wherein a liquid crystal exhibiting a chiral smectic phase is held between and opposed to each other, and an electrode for applying a voltage to the liquid crystal is formed on each of the facing surfaces. In a liquid crystal device including a pair of substrates processed to align the liquid crystal, an alternating current is applied to the liquid crystal, and the temperature of the device is raised and lowered during the period of the application of the alternating current.
一方向の一軸配向処理が施されている請求項1記載の液
晶の配向処理方法。2. The method according to claim 1, wherein both of the pair of substrates are subjected to a uniaxial alignment process in substantially the same direction.
が少なくとも2つの安定状態を示し、それらの光学軸の
なす角度の1/2であるθaと該液晶のコーン角Θと
が、Θ>θa>Θ/2の関係を有することを特徴とする
請求項1記載の液晶の配向処理方法。3. The liquid crystal exhibiting the chiral smectic phase exhibits at least two stable states, and θa, which is の of the angle formed by the optical axes thereof, and the cone angle 該 of the liquid crystal are expressed as: Θ>θa> Θ 2. The method according to claim 1, wherein the method has a relationship of / 2.
の配向状態において、プレチルト角α、カイラルスメク
チック相の層の傾き角δ、コーン角の関係がΘ−δ<α
の関係を有することを特徴とする請求項1記載の液晶の
配向処理方法。4. In the orientation state of the liquid crystal exhibiting the chiral smectic phase, the relationship among the pretilt angle α, the inclination angle δ of the chiral smectic phase layer, and the cone angle is Θ−δ <α.
2. The method according to claim 1, wherein:
メクチック相の温度内での昇降であることを特徴とする
請求項1記載の液晶の配向処理方法。5. The method according to claim 1, wherein the step of raising and lowering the temperature of the element is raising and lowering the temperature within a smectic phase temperature.
メクチックA相と、カイラルスメクチック相との間で昇
降温させることを特徴とする請求項1記載の液晶の配向
処理方法。6. A process for elevating the temperature of the element, and a smectic A phase, liquid crystal alignment treatment method according to claim 1, wherein the cause elevation temperature of between chiral smectic phase.
方向の一軸配向処理が施され、該処理の軸が互いに交差
角θc(20°>θc>0°)で交差していることを特
徴とする請求項1記載の液晶の配向処理方法。7. A uniaxial orientation treatment in substantially the same direction is performed on both of the pair of substrates, and axes of the treatment intersect each other at an intersection angle θc (20 °>θc> 0 °). 2. The method for aligning liquid crystals according to claim 1, wherein:
するとともに、その対向面にはそれぞれ該液晶に電圧を
印加するための電極が形成され且つ該液晶を配向させる
ために処理された一対の基板とを備えた液晶素子におい
て、該素子の温度をスメクチック相の温度範囲内で昇降
させる工程を有する液晶素子の製造方法。8. A method for manufacturing a liquid crystal element, comprising: holding a liquid crystal exhibiting a chiral smectic phase therebetween so as to oppose each other; and forming electrodes on each of the opposing surfaces for applying a voltage to the liquid crystal. A method for manufacturing a liquid crystal element, comprising: a step of raising and lowering the temperature of the element within a temperature range of a smectic phase in a liquid crystal element including a pair of substrates treated to align the liquid crystal.
メクチックA相と、カイラルスメクチック相との間で昇
降温させることを特徴とする請求項8記載の液晶素子の
製造方法。9. A process for elevating the temperature of the element, and a smectic A phase, a method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 8, wherein the allowed elevating temperature of between chiral smectic phase.
Applications Claiming Priority (2)
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JP4-40211 | 1992-01-30 |
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JPH05273555A JPH05273555A (en) | 1993-10-22 |
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- 1993-01-29 JP JP3435093A patent/JP3083016B2/en not_active Expired - Fee Related
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JPH05273555A (en) | 1993-10-22 |
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