JP3078896B2 - アミノトリフルオロメチルピリジン誘導体の製造方法 - Google Patents
アミノトリフルオロメチルピリジン誘導体の製造方法Info
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Description
剤、抗炎症剤、抗膵炎剤などの医薬活性成分としてある
いはその中間体として有用な新規アミノトリフルオロメ
チルピリジン誘導体の製造方法に関する。
合物としては、例えば米国特許第3,746,531号
及び同第3,962,263号各明細書に除草剤の有効
成分として有用なピリジン類あるいは米国特許第3,9
61,063号明細書などには駆虫剤の有効成分として
有用なピリジン類がそれぞれ開示されているが、ピリジ
ン環の5位にトリフルオロメチル基を有しかつ2位にス
ルホニルアミノ基を有するピリジン類は開示されていな
い。
ホリパーゼA2阻害剤、抗炎症剤、抗膵炎剤などの医薬
活性成分としてあるいはその中間体として有用なアミノ
トリフルオロメチルピリジン誘導体の製造方法を提供す
ることにある。
発明の第1の発明は一般式(化6):
れるアミノトリフルオロメチルピリジンと有機カルボン
酸、有機チオカルボン酸、有機ジチオカルボン酸又はそ
れらの反応性誘導体、有機イソシアネート類もしくは有
機チオイソシアネート類又はハロゲノ蟻酸エステル類、
ハロゲノチオ蟻酸エステル類もしくはハロゲノジチオ蟻
酸エステル類とを反応させて一般式(化7):
オカルボニル基であり、Rは前述のとおりである)で表
わされるアミノトリフルオロメチルピリジン誘導体又は
その塩を製造することを特徴とする。また、本発明の第
2の発明は一般式(化8):
ミノ基又は有機チオカルボニルアミノ基であり、Z1は
ハロゲン又はアミノ基である)で表わされるトリフルオ
ロメチルピリジンと一般式(化9):
ロゲン又はアミノ基であり、但しZ1とZ2とは互いに
異なる)で表わされるスルホニル化合物とを反応させて
一般式(化10):
で表わされるアミノトリフルオロメチルピリジン化合物
又はその塩を製造することを特徴とする。
アミノトリフルオロメチルピリジンと有機カルボン酸、
有機チオカルボン酸、有機ジチオカルボン酸又はそれら
の反応性誘導体、有機イソシアネート類もしくは有機チ
オイソシアネート類又はハロゲノ蟻酸エステル類、ハロ
ゲノチオ蟻酸エステル類もしくはハロゲノジチオ蟻酸エ
ステル類とを反応させて一般式(化7)のアミノトリフ
ルオロメチルピリジン誘導体又はその塩を製造する。
酸、有機ジチオカルボン酸又はそれらの反応性誘導体、
有機イソシアネート類もしくは有機チオイソシアネート
類又はハロゲノ蟻酸エステル類、ハロゲノチオ蟻酸エス
テル類もしくはハロゲノジチオ蟻酸エステル類は一般式
(化6)のアミノトリフルオロメチルピリジンの3位の
アミノ基との反応で所望の化合物が得られるものであ
り、その機能を有する限りいずれのものでも使用でき
る。また前述の反応性誘導体は通常、有機カルボン酸、
有機チオカルボン酸又は有機ジチオカルボン酸の酸無水
物、酸ハロゲン化物、エステル類などが挙げられる。
ボニル基又は有機チオカルボニル基は有機カルボン酸、
有機チオカルボン酸、有機ジチオカルボン酸又はそれら
の反応性誘導体、有機イソシアネート類もしくは有機チ
オイソシアネート類又はハロゲノ蟻酸エステル類、ハロ
ゲノチオ蟻酸エステル類もしくはハロゲノジチオ蟻酸エ
ステル類によりもたらされるものであって種々のものが
広範囲に挙げられるが、そのごく一例を示すと−CW1
R1基、−COCOR1基、−CW1NHCOR1基、
−C(=W1)W2R1基、−CW1N(R2)
(R3)基(式中W1,W2は酸素又は硫黄であり、R
1は鎖式、単環式又は多環式炭化水素基、単環式又は多
環式複素環基、各炭化水素オキシ基、同メルカプト基、
各複素環オキシ基、同メルカプト基などであり、R2及
びR3は前記R1の場合と同様のものが挙げられる外、
水素も挙げられる)が挙げられ、またその他のものも挙
げられる。
官能基は種々のものが広範囲に挙げられるが、そのごく
一例を示すと前記R1の場合と同様のものが挙げられ
る。
要により塩基を使用することにより行なわれる。溶媒と
しては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼ
ンなどの芳香族炭化水素類;クロロホルム、四塩化炭
素、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエタ
ン、n−ヘキサン、シクロヘキサンなどの環状又は非環
状脂肪族炭化水素類;ジエチルエーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフランなどのエーテル類;アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン
類;アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル
類;ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジ
メチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルアセトアミ
ド、1,3−ジメチル−2−イミダリジノンなどの非プ
ロトン性極性溶媒などが挙げられる。塩基としては無機
塩基、有機塩基のいずれでもよく、無機塩基としては、
例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなア
ルカリ金属水酸化物;無水炭酸カリウム、無水炭酸カル
シウムのようなアルカリ金属又はアルカリ土類金属の炭
酸塩;水素化ナトリウムのようなアルカリ金属水素化
物;金属ナトリウムのようなアルカリ金属などが挙げら
れ、また有機塩基としてはピリジン、トリエチルアミン
などが挙げられる。
有機チオカルボン酸又は有機ジチオカルボン酸を用いる
場合、脱水縮合剤を存在させる必要があり、その脱水縮
合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、N,
N′−カルボニルジイミダゾール、1−エチル−3−
(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミドなどが
挙げられる。反応温度は通常−30〜+150℃、望ま
しくは0〜60℃、反応時間は通常1〜24時間、望ま
しくは1〜10時間である。
8)のトリフルオロメチルピリジンと一般式(化9)の
スルホニル化合物とを反応させて一般式(化10)のア
ミノトリフルオロメチルピリジン化合物又はその塩を製
造する。
Z1又は一般式(化9)中のZ2が互いに異なってハロ
ゲン又はアミノ基をそれぞれ有するものの間で反応が行
われる。
が示す有機カルボニルアミノ基又は有機チオカルボニル
アミノ基を構成する有機カルボニル部分又は有機チオカ
ルボニル部分は前記一般式(化7)中のXが示す有機カ
ルボニル基又は有機チオカルボニル基の場合と同様のも
のであり、また前記一般式(化9)及び(化10)中の
Rが示す有機官能基は前記一般式(化6)中のRが示す
有機官能基の場合と同様のものであって、いずれも前述
の反応が進む限り広範囲に種々のものを挙げることがで
きる。例えば一般式(化6)及び(化7)に関して
W1、W2、R1、R2又はR3に基いて説明した前述
の記載例がそのごく一例として挙げることができる。
要により塩基を使用することにより行われるが、溶媒、
塩基、反応条件などは第1の発明の反応の場合に記載し
たものと同様のものが使用できる。
ル基又は有機官能基を構成するものに関してはそのごく
一例をR1、R2又はR3として前述したが、前記鎖式
炭化水素基としてはアルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基などが挙げられ、前記単環式炭化水素基としては
シクロアルキル基、シクロアルケニル基、フェニル基な
どが挙げられ、前記多環式炭化水素基としては、ナフチ
ル基、テトラヒドロナフチル基、インダニル基のような
縮合型多環式炭化水素基又はアダマンチル基、ノルアダ
マンチル基、ノルボルナニル基、ノルボルナノニル基の
ような架橋型多環式炭化水素基が挙げられ、前記単環式
複素環基としてはピロリル基、フラニル基、チエニル
基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、
イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル
基、チアジアゾリル基、ピロリニル基、ピロリジニル
基、ジヒドロフラニル基、テトラヒドロフラニル基、ジ
ヒドロチエニル基、テトラヒドロチエニル基、ピラゾリ
ニル基、ヒダントイニル基、オキサゾリニル基、イソオ
キサゾリニル基、イソオキサゾリジニル基、チアゾリニ
ル基、チアゾリジニル基、ジオキソラニル基、ジチオラ
ニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル
基、ピラジニル基、ジヒドロピリジル基、テトラヒドロ
ピリジル基、ピペリジニル基、ジヒドロオキソピリダジ
ニル基、テトラヒドロオキソピリダジニル基、ジヒドロ
オキソピリミジニル基、テトラヒドロオキソピリミジニ
ル基、ピペラジニル基、ジヒドロピラニル基,テトラヒ
ドロピラニル基、ジオキサニル基、ジヒドロジチイニル
基、ジチアニル基、モルホリニル基などが挙げられ、前
記多環式複素環基としては、チエノチエニル基、ジヒド
ロシクロペンタチエニル基、インドリル基、ベンゾフラ
ニル基、ベンゾチエニル基、ベンズオキサゾリル基、ベ
ンズイソオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンズ
イミダゾリル基、テトラヒドロベンゾチエニル基、ジヒ
ドロベンゾフラニル基、テトラヒドロベンズイソオキサ
ゾリル基、ベンゾジオキソリル基、キノリニル基、イソ
キノリニル基、ベンゾジオキサニル基、キノキサリニル
基のような縮合型多環式複素環基又はキヌクリジニル基
のような架橋型多環式複素環基が挙げられる。
素基、単環式又は多環式複素環基は置換されても又は置
換されていなくてもよい。置換された場合の置換基とし
ては所期の反応が進行する限りいずれのものであっても
よく、例えばハロゲン、アルコキシ基、ハロアルコキシ
基、アルキルチオ基、シクロアルキル基、シクロアルコ
キシ基、シクロアルケニル基、シクロアルケニルオキシ
基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、
アルキルカルボニルオキシ基、アリール基、アリールオ
キシ基、アリールチオ基、アミノ基、アルキル基で置換
されたアミノ基、アルキル基、ハロアルキル基、アルコ
キシアルキル基、アルケニル基、ハロアルケニル基、ア
ルケニルオキシ基、アルキニル基、ハロアルキニル基、
アルキニルオキシ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ
基などが挙げられる。それらの置換基又はそれらの置換
基に付随する置換基の数は1ケであっても2ケ以上であ
ってもよく、2ケ以上の場合それらの置換基は同一であ
っても異なってもよい。
構成アルキル部分としては、炭素数1〜18のもの、例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペン
チル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル
基、ノナデシル基などが挙げられ、それらは直鎖又は枝
分れ脂肪鎖の構造異性のものも含む。同様に前述したア
ルケニル基ならびに構成アルケニル部分としては、炭素
数が2〜18のもの、例えばビニル基、プロペニル基、
ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、デセニル
基、ノナデセニル基などが挙げられ、またそれらは直鎖
又は枝分れ脂肪鎖の構造異性のものも含む。前述のアル
キニル基並びに構成アルキニル部分としては、炭素数が
2〜18のもの、例えばエチニル基、プロピニル基、ブ
チニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、デシニル基、
ノナデシニル基などが挙げられ、またそれらは直鎖又は
枝分れ脂肪鎖の構造異性のものも含む。また前述のシク
ロアルキル基並びに構成シクロアルキル部分としては、
炭素数3〜8のもの、例えば、シクロプロピル基、シク
ロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シ
クロオクチル基などが挙げられる。前述のシクロアルケ
ニル基並びに構成シクロアルケニル部分としては、炭素
数5〜8のもの、例えば、シクロペンテニル基、シクロ
ヘキセニル基、シクロオクテニル基などが挙げられる。
前述のハロゲン並びに構成ハロゲンとしては弗素原子、
塩素原子、臭素原子、沃素原子が挙げられる。前述のア
リール基並びに構成アリール部分としては、フェニル
基、チエニル基、フラニル基、ピリジル基、ナフチル
基、ベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、キノリニル
基などが挙げられる。
合物は通常の中和反応により、例えばアルコール類のよ
うな溶媒の存在下アルカリ金属又はアルカリ土類金属な
どの水素化物、水酸化物、炭酸塩、アンモニア、アルキ
ルアミン又はアルカノールアミンなどの有機アミンなど
の塩基物質と0〜100℃で反応させることにより、そ
れらの塩を容易に生成することができる。それらの塩と
しては、医薬上許容されるものであれば望ましく、例え
ば、カリウム塩、ナトリウム塩のようなアルカリ金属
塩、カルシウム塩のようなアルカリ土類金属塩、トリエ
タノールアミン塩、トリス(ヒドロキシメチル)アミノ
メタン塩のような有機アミン塩などが挙げられる。また
これらの塩の中で結晶水をもつものもある。
フルオロメチルピリジンは例えば2−クロロ−3−ニト
ロ−5−トリフルオロメチルピリジンと一般式(化9)
のスルホニル化合物とを反応させるかあるいは2−クロ
ロ−5−トリフルオロメチルピリジンと一般式(化9)
のスルホニル化合物とを反応させた後ニトロ化反応を行
い、次いで通常のパラジウム/カーボン触媒の存在下水
素と、還元鉄又はハイドロサルファイトナトリウムとを
反応させて還元反応を行うことにより、容易に製造する
ことができる。更に一般式(化8)のYが有機カルボニ
ルアミノ基又は有機チオカルボニルアミノ基である原料
のトリフルオロメチルピリジンは例えば2−クロロ−3
−アミノ−5−トリフルオロメチルピリジンと有機カル
ボン酸、有機チオカルボン酸、有機ジチオカルボン酸又
はそれらの反応性誘導体、有機イソシアネート類もしく
は有機チオイソシアネート類又はハロゲノ蟻酸エステル
類、ハロゲノチオ蟻酸エステル類もしくはハロゲノジチ
オ蟻酸エステル類とを反応させることにより、容易に製
造することができる。
は(化10)のYが有機カルボニルアミノ基又は有機チ
オカルボニルアミノ基である化合物は、ホスホリパーゼ
A2阻害剤、抗炎症剤又は抗膵炎剤の有効成分として有
用である。ホスホリパーゼA2は体内の様々な組織或い
は細胞から検出される。血小板や炎症細胞中でホスホリ
パーゼA2は、刺激により分泌或いは活性化され、血小
板活性化因子(PAF)やアラキドン酸の代謝産物の産
生に寄与すると言われている。アラキドン酸の代謝産物
は種々の病態、例えば、リューマチ様関節炎、変形性関
節炎、腱炎、滑液包炎、乾癬及び関連する皮膚炎症のよ
うな炎症症状;アレルギー鼻炎、アレルギー気管支喘息
のような鼻・気管支気道障害症状;アレルギー結膜炎の
ような即時過敏性反応などに密接に関連していることが
明らかになっている。一方、膵臓から分泌されるホスホ
リパーゼA2は腸内で活性化されて消化作用を発揮する
が、一旦膵内で活性化されると膵炎を発症する要因の一
つと考えられている。当該化合物は、ホスホリパーゼA
2を阻害することにより、前述のような炎症症状、鼻・
気管支気道障害症状、即時過敏性反応、膵炎などのホス
ホリパーゼA2に関連する病態の治療に有効であり、抗
炎症剤、気管支喘息治療剤、抗アレルギー剤、抗膵炎
剤、抗腎炎剤、抗多臓器障害剤などとして使用可能であ
る。膵炎に対する効果に関しては、前述の化合物は、蛋
白分解酵素阻害剤、例えばメシル酸ナファモスタット、
メシル酸ガベキサート、メシル酸カモスタットのような
他の薬剤と併用することでより有効となることが期待で
きる。特に当該化合物は抗炎症剤又は抗膵炎剤の有効成
分として使用されることが望ましい。
ジル)エタンスルホンアミド(化合物No.2)の合成 エタンスルホンアミド3.1gを50mlの無水テトラ
ヒドロフランに溶解させ、氷冷下で60%水素化ナトリ
ウム1.2gを添加した。添加終了後1時間加熱還流下
に反応させた。放冷後、2−クロロ−3−ニトロ−5−
トリフルオロメチルピリジン5.0gを加えた後、7時
間加熱還流下反応させた。反応終了後、反応物を水20
0ml中へ注ぎ、エーテルで洗浄した後、水層を希塩酸
で弱酸性にし、析出結晶を濾別して乾燥し、融点160
−163℃のN−(3−ニトロ−5−トリフルオロメチ
ル−2−ピリジル)エタンスルホンアミド3.6gを得
た。
メチル−3−ピリジル)ペンタフルオロプロピオンアミ
ド(化合物No.48)の合成 (1)前記実施例1で得られたN−(3−ニトロ−5−
トリフルオロメチル−2−ピリジル)エタンスルホンア
ミド1.5gをメタノール30mlに溶解させ、これに
5%−パラジウム/カーボン0.2gを加え、水素加圧
下で一晩撹拌しながら還元反応を行った。反応終了後、
5%−パラジウム/カーボンを濾別し、溶媒を減圧留去
し、得られた結晶をノルマルヘキサンで洗浄、乾燥し、
融点118−120℃のN−(3−アミノ−5−トリフ
ルオロメチル−2−ピリジル)エタンスルホンアミド
1.2gを得た。
−アミノ−5−トリフルオロメチル−2−ピリジル)エ
タンスルホンアミド0.50gを10mlの無水ジエチ
ルエーテルに懸濁させ、氷冷下、無水パーフルオロプロ
ピオン酸1.15gを滴下した。滴下後、1時間撹拌
し、さらに室温で1時間反応させた。反応終了後、反応
物を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出層を水
洗、乾燥し、溶媒を減圧留去し、得られた結晶をノルマ
ルヘキサン/エーテルで洗浄し、融点168−170℃
の目的物(化合物No.48)0.58gを得た。
ジル)メタンスルホンアミド(化合物No.1)の合成 メタンスルホンアミド4.4gを70mlの無水テトラ
ヒドロフランに溶解させ、氷冷下で60%水素化ナトリ
ウム1.9gを添加した。添加終了後1時間加熱還流下
に反応させた。放冷後、2−クロロ−3−ニトロ−5−
トリフルオロメチルピリジン7.0gを加えた後、6時
間加熱還流下反応させた。反応終了後、反応物を水30
0ml中へ注ぎ、エーテルで洗浄した後、水層を希塩酸
で弱酸性にし、析出結晶を濾別して乾燥し、融点138
−139℃のN−(3−ニトロ−5−トリフルオロメチ
ル−2−ピリジル)メタンスルホンアミド5.8gを得
た。
メチル−3−ピリジル)−4−フルオロベンズアミド
(化合物No.39)の合成 (1)前記実施例3で得られたN−(3−ニトロ−5−
トリフルオロメチル−2−ピリジル)メタンスルホンア
ミド4.0gをメタノール66mlに溶解させ、これに
5%−パラジウム/カーボン0.4gを加え、水素加圧
下で一晩撹拌しながら還元反応を行った。反応終了後、
5%−パラジウム/カーボンを濾別し、溶媒を減圧留去
し、得られた結晶をノルマルヘキサンで洗浄、乾燥し
て、融点128−130℃のN−(3−アミノ−5−ト
リフルオロメチル−2−ピリジル)メタンスルホンアミ
ド3.2gを得た。
−アミノ−5−トリフルオロメチル−2−ピリジル)メ
タンスルホンアミド0.50gを6mlの無水テトラヒ
ドロフランに溶解させ、氷冷下、p−フルオロベンゾイ
ルクロライド0.37gを滴下した。滴下後、1時間撹
拌し、さらに室温で一晩反応させた。反応終了後、反応
物を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出層を水
洗、乾燥し、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をノルマ
ルヘキサン/エーテルで結晶化させ、融点211−21
3℃の目的物(化合物No.39)0.61gを得た。
メチル−3−ピリジル)シクロヘキサンカルボキサミド
(化合物No.64)の合成 (1)エタンスルホンアミド20.3gと2−クロロ−
5−トリフルオロメチルピリジン26.0gをジメチル
スルホキシド220mlに溶解させ、さらに無水炭酸カ
リウム47.4gを加えた。この混合溶液を130℃に
加熱し、5時間反応させた。反応終了後、反応物を水1
リットル中へ注ぎ、エーテルで洗浄した後、水層を濃塩
酸でpH=4に調整し、析出結晶をろ別して乾燥を行
い、融点164−165℃のN−(5−トリフルオロメ
チル−2−ピリジル)エタンスルホンアミド26.2g
を得た。
−トリフルオロメチル−2−ピリジル)エタンスルホン
アミド45gを酢酸112.5mlに溶解し、100〜
105℃に加熱しながら発煙硝酸(94%)26gを滴
下し、さらに6時間反応させた。反応物を80℃まで放
冷後、氷水2リットル中へ注ぎ、析出結晶をろ別、水洗
して乾燥を行い、N−(3−ニトロ−5−トリフルオロ
メチル−2−ピリジル)エタンスルホンアミド47.8
gを得た。
ロメチル−2−ピリジル)エタンスルホンアミド3.0
gを水30mlと酢酸30mlの混合溶媒に懸濁させ、
還元鉄2.2gを加えた後、50℃に加熱し、1時間反
応させた。反応終了後、室温まで冷却し、過剰の鉄をろ
別し、ろ液を酢酸エチルで抽出した。抽出層を水洗、乾
燥し、酢酸エチルを減圧留去し、N−(3−アミノ−5
−トリフルオロメチルエチル−2−ピリジル)エタンス
ルホンアミド2.5gを得た。
トリウム34.9gを水400mlに溶解させた溶液に
N−(3−ニトロ−5−トリフルオロメチル−2−ピリ
ジル)エタンスルホンアミド5.0gをテトラヒドロフ
ラン80mlに溶解させた溶液を室温で滴下し、滴下終
了後さらに3時間反応させた。反応終了後、塩化ナトリ
ウムをテトラヒドロフラン層が分離するまで加えた。分
離したテトラヒドロフラン層を乾燥し、テトラヒドロフ
ランを減圧留去し、N−(3−アミノ−5−トリフルオ
ロメチル−2−ピリジル)エタンスルホンアミド4.2
gを得た。
ロメチル−2−ピリジル)エタンスルホンアミド2.3
6gを24mlの無水テトラヒドロフランに溶解させ、
氷冷下、シクロヘキサンカルボニルクロライド1.54
gを滴下した。滴下後、1時間撹拌し、さらに室温で一
晩反応させた。反応終了後、溶媒を減圧留去し、得られ
た結晶をエーテルで洗浄し、融点153〜155℃の目
的物2.94gを得た。
に4−ジメチルアミノピリジン0.5gを投入し溶解し
て、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)
カルボジイミド塩酸塩0.78gを投入し溶解後、そこ
へN−(3−アミノ−5−トリフルオロメチル−2−ピ
リジル)エタンスルホンアミド1gを投入し、30分後
シクロヘキサンカルボン酸0.52gを加え10時間撹
拌を行った。反応終了後、反応物に塩化メチレン40m
lを加え、10%塩酸で洗浄し、続いて塩化ナトリウム
水溶液で洗浄を行った後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。抽出層を溶媒留去し、得られた残査をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより精製して、目的物0.8
8gを得た。
メチル−3−ピリジル)シクロヘキサンカルボキサミド
のナトリウム塩(化合物No.249)の合成 N−(2−エチルスルホニルアミノ−5−トリフルオロ
メチル−3−ピリジル)シクロヘキサンカルボキサミド
1.00gを含むエタノール10ml溶液に40℃で撹
拌しながら1規定の水酸化ナトリウム水溶液2.75g
を加え、1時間撹拌した。反応終了後、溶媒を減圧留去
し、得られた結晶をエーテルで洗浄し、299℃で分解
の目的物1.02gを得た。
より製造されるかあるいは前記実施例1〜6により製造
された化合物を具体的に下記表1及び表2に記載する。
式(化10)のYが有機カルボニルアミノ基又は有機チ
オカルボニルアミノ基である化合物に関してホスホリパ
ーゼA2阻害作用の試験を行った結果を下記する。
ml、50mMトリス−塩酸緩衝液(pH7.5)〔ト
リス(ヒドロキシメチル)アミノメタン(ナカライテス
ク(株)製)を塩酸でpH7.5に調整〕2ml、15
0mM塩化カルシウム溶液(塩化カルシウムを50mM
トリス−塩酸緩衝液に溶解したもの)0.5ml及び
0.05%トリトン−X100(ナカライテクス(株)
製)溶液(トリトン−X100を50mMトリス−塩酸
緩衝液に溶解したもの)0.5mlを加え、メノウ乳鉢
にて分散させるか、超音波細胞破砕機(ヒート・システ
ムス−ウルトラソニック・インク製モデルW−225)
にて5分間(30W)分散させたものを基質とした。
ム・山ノ内製(161454・122416)〕を用い
た。
ディカル社)に、基質40μl、被検化合物10mgを
ジメチルスルホキシド500μlに溶解後そこに50m
Mトリス−塩酸緩衝液500μlを加えた溶液のうち5
μl及び20ng/mlの酵素液(酵素を50mMトリ
ス−塩酸緩衝液に希釈して調製)5μlを加え、37℃
で30分間反応を行なった。反応終了後、遊離した脂肪
酸量をACS−ACOD(アシルCoAシンテターゼ−
アシルCoAオキシダーゼ)法〔NEFA C−テスト
ワコー(和光純薬製)のキットを使用〕により測定し
た。比色定量はマルチフォトメーター吸光度計(バイオ
ラド社モデル2550EIAリーダー)を用いて540
nmの波長により行なった。別途、ホスホリパーゼA2
最終濃度を2μg/ml、1μg/mlおよび0.5μ
g/mlとした上記と同様な実験(被検化合物無添加)
を行ない、ホスホリパーゼA2量に対する遊離脂肪酸量
をプロットした。被検化合物添加時の遊離脂肪酸量から
検量線に基いて見かけのホスホリパーゼA2量を求め、
以下の式により、被検化合物の酵素阻害率を算出した。
その結果を表3に示す。 酵素阻害率(%)=〔1−(被検化合物添加時の遊離脂
肪酸量から検量線に基いて求めた見かけのホスホリパー
ゼA2量/実際に添加したホスホリパーゼA2量)〕×
100
製)9.2mgをクロロホルム0.5mlで溶解したも
のに、コール酸ナトリウム(和光純薬製)32mgをメ
タノール0.5mlで溶解したものを加えて混合する。
その混合物の溶媒を窒素気流下で除去した後、250m
M塩化ナトリウム溶液〔塩化ナトリウムを100mMト
リス−塩酸緩衝液{トリス(ヒドロキシメチル)アミノ
メタン(ナカライテスク製)を塩酸でpH8.0に調
整}に溶解したもの〕2.5mlを加え、撹拌下に溶解
したものを基質とした。
ム・山ノ内製(161454・122416)〕を用い
た。
アルブミン(シグマ製)およびトリス−塩酸緩衝液(p
H8.0)を、それぞれ、25mM、4.5mg/ml
および100mM含む溶液20μl、被検化合物10m
gをジメチルスルホキシド500μlに溶解後、そこに
200mMトリス−塩酸緩衝液500μl加えた溶液の
うち5μl及び10μg/mlの酵素液〔酵素を1mg
/ml牛血清アルブミン溶液(牛血清アルブミンを10
0mMトリス−塩酸緩衝液に溶解したもの)に溶解した
もの〕5μl及び基質20μlを加え、37℃で30分
間反応を行なった。反応終了後、遊離した脂肪酸量をA
CS−ACOD(アシルCoAシンテターゼ−アシルC
oAオキシダーゼ)法〔NEFA C−テストワコー
(和光純薬製)のキットを使用〕により測定した。比色
定量はマルチフォトメーター吸光度計(バイオラド社モ
デル2550EIAリーダー)を用いて540nmの波
長により行なった。別途、ホスホリパーゼA2最終濃度
を1μg/ml、0.75μg/ml、0.5μg/m
lおよび0.25μg/mlとした上記と同様な実験
(被検化合物無添加)を行ない、ホスホリパーゼA2量
に対する遊離脂肪酸量をプロットした。被検化合物添加
時の遊離脂肪酸量から検量線に基いて見かけのホスホリ
パーゼA2量を求め、以下の式により、被検化合物の酵
素阻害率を算出した。その結果を表4に示す。 酵素阻害率(%)=〔1−(被検化合物添加時の遊離脂
肪酸量から検量線に基いて求めた見かけのホスホリパー
ゼA2量/実際に添加したホスホリパーゼA2量)〕×
100
Claims (2)
- 【請求項1】 一般式(化1): 【化1】 (式中、Rは、鎖式、単環式若しくは多環式炭化水素
基、単環式若しくは多環式複素環基、各炭化水素オキシ
基、同メルカプト基、各複素環オキシ基又は同メルカプ
ト基である)で表わされるアミノトリフルオロメチルピ
リジンとX−OH若しくはX−SH(式中、Xは、−C
W 1 R 1 基、−COCOR 1 基、−CW 1 NHCOR 1
基、−C(=W 1 )W 2 R 1 基又は−CW 1 N(R 2 )(R
3 )基であり、W 1 及びW 2 は酸素又は硫黄であり、R 1
は鎖式、単環式若しくは多環式炭化水素基、単環式若し
くは多環式複素環基、各炭化水素オキシ基、同メルカプ
ト基、各複素環オキシ基又は同メルカプト基であり、R
2 及びR 3 は水素又はR 1 と同様のものである)若しく
はそれらの反応性誘導体、R 1 CONCW 1 、ハロゲノ
蟻酸エステル類、ハロゲノチオ蟻酸エステル類又はハロ
ゲノジチオ蟻酸エステル類とを反応させて一般式(化
2): 【化2】 (式中、X及びRは前述のとおりである)で表わされる
アミノトリフルオロメチルピリジン誘導体又はその塩を
製造することを特徴とするアミノトリフルオロメチルピ
リジン誘導体の製造方法。 - 【請求項2】 一般式(化3): 【化3】 (式中、Yはニトロ基又は−NHX基であり、Xは、前
記請求項1のとおりであり、Z1 はハロゲン又はアミノ
基である)で表わされるトリフルオロメチルピリジンと
一般式(化4): 【化4】 (式中、Rは、前記請求項1のとおりであり、Z2 はハ
ロゲン又はアミノ基であり、但しZ1 とZ2 とは互いに
異なる)で表わされるスルホニル化合物とを反応させて
一般式(化5): 【化5】 (式中、Y及びRは前述のとおりである)で表わされる
アミノトリフルオロメチルピリジン化合物又はその塩を
製造することを特徴とするアミノトリフルオロメチルピ
リジン誘導体の製造方法。
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