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JP3059866B2 - Substrate for display device - Google Patents

Substrate for display device

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Publication number
JP3059866B2
JP3059866B2 JP5190571A JP19057193A JP3059866B2 JP 3059866 B2 JP3059866 B2 JP 3059866B2 JP 5190571 A JP5190571 A JP 5190571A JP 19057193 A JP19057193 A JP 19057193A JP 3059866 B2 JP3059866 B2 JP 3059866B2
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JP
Japan
Prior art keywords
substrate
display device
liquid crystal
film
thickness
Prior art date
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Inventor
芳博 白井
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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  • Laminated Bodies (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、STN(スーパーツイ
ステッドネマティック)型液晶表示装置、2端子素子液
晶表示装置、3端子素子液晶表示装置などの表示装置に
好適に使用することができる表示装置用基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device which can be suitably used for a display device such as a STN (super twisted nematic) type liquid crystal display device, a two terminal element liquid crystal display device, and a three terminal element liquid crystal display device. Regarding the substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、情報機器、通信機器、AV(オー
ディオアンドビジュアル)機器およびゲーム機器などに
使用される大面積または中面積の表示装置として、ST
N型液晶表示装置、MIM(Metal Insulator Metal)
液晶表示装置およびTFT(薄膜トランジスタ)液晶表
示装置などがある。これらの液晶表示装置の基板として
は、厚さ0.7mmのホウケイ酸ガラス板、厚さ1mm
または厚さ0.7mmのソーダライムガラス板および厚
さ1.1mmの無アルカリガラス板などが使用されてい
る。また、厚さ0.5mmのガラス板を使用する基板
も、検討されている。しかし、近年前述の情報機器、通
信機器、AV機器およびゲーム機器などの薄型軽量化を
進めるため、これらの機器に備えられる表示装置の薄型
軽量化が図られている。たとえば、前記表示装置の基板
として、PES(ポリエーテルサルフォン)、ポリアリ
レート、ポリカーボネート、エポキシブタジエン共重合
体およびノルボルネン系樹脂などのプラスチック基板を
使用し、表示装置の薄型軽量化を図ることが提案されて
いる。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a large-area or medium-area display device used for information equipment, communication equipment, AV (audio and visual) equipment, game equipment and the like, ST.
N-type liquid crystal display, MIM (Metal Insulator Metal)
There are a liquid crystal display device and a TFT (thin film transistor) liquid crystal display device. As a substrate of these liquid crystal display devices, a borosilicate glass plate having a thickness of 0.7 mm, a thickness of 1 mm
Alternatively, a soda-lime glass plate having a thickness of 0.7 mm and a non-alkali glass plate having a thickness of 1.1 mm are used. Further, a substrate using a glass plate having a thickness of 0.5 mm has been studied. However, in recent years, in order to reduce the thickness and weight of the information devices, communication devices, AV devices, game devices, and the like, display devices provided in these devices have been reduced in thickness and weight. For example, it is proposed to use a plastic substrate such as PES (polyethersulfone), polyarylate, polycarbonate, epoxybutadiene copolymer and norbornene-based resin as a substrate of the display device to reduce the thickness and weight of the display device. Have been.

【0003】図14は、特開昭61−86252に開示
される表示装置用基板5の構成を示す断面図である。図
14に示すように、基板5は、厚さ100μmの耐熱性
に優れたPESフィルムから成る透明プラスチックフィ
ルム1の一方表面上に、厚さ2μmのウレタン樹脂をア
ンダーコートとして、厚さ5μmのPVA(ポリビニル
アルコール)樹脂から成るガスバリアコート2が設けら
れる。これに積層して、厚さ3μmのエポキシ樹脂から
成る保護コート3が設けられる。また、前記透明プラス
チックフィルム1の他方表面上には、酸化インジウムか
ら成る透明導電膜のアンダーコート4として、厚さ5μ
mにエポキシアクリレート樹脂が塗布される。
FIG. 14 is a sectional view showing the structure of a display device substrate 5 disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-86252. As shown in FIG. 14, the substrate 5 is a 100 μm thick transparent plastic film 1 made of a PES film having excellent heat resistance, and has a 5 μm thick PVA undercoated with a 2 μm thick urethane resin as an undercoat. A gas barrier coat 2 made of (polyvinyl alcohol) resin is provided. A protective coat 3 made of an epoxy resin having a thickness of 3 μm is provided thereon. On the other surface of the transparent plastic film 1, an undercoat 4 of a transparent conductive film made of indium oxide having a thickness of 5 μm was formed.
m is coated with an epoxy acrylate resin.

【0004】また、液晶表示装置などの表示装置の薄型
軽量化を図るため、特開昭61−116331および特
開昭61−116332に開示されるように、表示装置
が形成される基板上に、偏光膜などの光学部材を予め形
成しておくことが提案されている。
In order to reduce the thickness and weight of a display device such as a liquid crystal display device, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 61-116331 and 61-116332, a display device is formed on a substrate. It has been proposed to previously form an optical member such as a polarizing film.

【0005】図15は、特開昭61−116331に開
示される偏光板一体型基板16の構成を示す断面図であ
る。図15に示すように、厚さ50μmのPESフィル
ム11の一方表面には、1軸延伸PVAフィルムに染料
分子を吸着した偏光板12が、ウレタン系接着剤13を
介して貼合わされる。これに積層して、紫外線吸収剤を
含む厚さ50μmのTAC(トリアセチルセルロース)
フィルム14が、保護コートとしてウレタン系接着剤1
3を介して貼合わされる。また、前記PESフィルム1
1の他方表面上には、酸化インジウムから成る透明導電
膜のアンダーコート15が設けられる。
FIG. 15 is a sectional view showing the structure of a polarizing plate integrated substrate 16 disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-116331. As shown in FIG. 15, a polarizing plate 12 in which dye molecules are adsorbed to a uniaxially stretched PVA film is bonded to one surface of a PES film 11 having a thickness of 50 μm via a urethane-based adhesive 13. Laminated on this, 50 μm thick TAC (triacetyl cellulose) containing an ultraviolet absorber
The film 14 is made of urethane-based adhesive 1 as a protective coat.
3 are pasted together. The PES film 1
On the other surface of the substrate 1, an undercoat 15 of a transparent conductive film made of indium oxide is provided.

【0006】また、特開昭59−224876および
「Penz,P.A.ら,SID'81Digests,11.7,pp,116-118,Ap
r.1981」に示されるように、PESフィルム以外に、1
軸延伸ポリエステルフィルムを使用した基板や、フェノ
キシ系フィルムなどを使用した基板が提案されている。
Also, JP-A-59-224876 and "Penz, PA. Et al., SID'81 Digests, 11.7, pp. 116-118, Ap.
r.1981 ”, other than PES film,
A substrate using an axially stretched polyester film and a substrate using a phenoxy-based film have been proposed.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、図14に示す
表示装置用基板5は、アンダーコート4上に透明電極を
形成して、液晶セル製造プロセスを施した場合、電極の
断線が生じやすい。また、液晶を充填した液晶セル中に
気泡を生じやすく、十分な表示信頼性を得られないとい
う問題がある。
However, in the display device substrate 5 shown in FIG. 14, when a transparent electrode is formed on the undercoat 4 and a liquid crystal cell manufacturing process is performed, disconnection of the electrode is likely to occur. Further, there is a problem that air bubbles are easily generated in a liquid crystal cell filled with liquid crystal, and sufficient display reliability cannot be obtained.

【0008】また、図15に示す表示装置用基板16
は、薄いプラスチック製であるので基板16の強度が低
く、STN型液晶表示装置などの液晶セルを形成した
際、セル厚の均一化が困難である。このため、液晶セル
の色調むらなどを発生しやすいという問題がある。
A display device substrate 16 shown in FIG.
Is made of thin plastic, the strength of the substrate 16 is low, and it is difficult to make the cell thickness uniform when a liquid crystal cell such as an STN liquid crystal display device is formed. For this reason, there is a problem that color tone unevenness of the liquid crystal cell easily occurs.

【0009】さらに、前記表示装置用基板16は、液晶
セル製造プロセスなどを施した場合、熱処理などの工程
で熱応力による寸法変化を起こし、透明電極の断線が発
生しやすいという問題がある。
Further, when the display device substrate 16 is subjected to a liquid crystal cell manufacturing process or the like, there is a problem that dimensional changes due to thermal stress are caused in steps such as heat treatment, and disconnection of the transparent electrode is likely to occur.

【0010】本発明の目的は、前記課題を解消し、表示
装置の薄型軽量化を実現するとともに、表示装置の表示
品位、表示信頼性およびペン入力タブレットなどの他の
装置が併設されたときの使用感を向上することができる
表示装置用基板を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, to realize a thin and lightweight display device, and to improve the display quality, display reliability, and pen input tablet of another display device. An object of the present invention is to provide a display device substrate that can improve the usability.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、少なくとも1
層の接着性透光性樹脂層を含む板状体層の両面に、透光
性を有する厚さが0.0015mm以上0.25mm未
満である一対の超薄ガラス板が積層されてなり、前記板
状体層は前記超薄ガラス板の1枚の厚さ以上の厚さを有
することを特徴とする表示装置用基板である。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides at least one
On both sides of the plate-like body layer including the adhesive light-transmitting resin layer, the thickness having a light-transmitting property is not less than 0.0015 mm and not more than 0.25 mm.
Ri Na pair of ultra-thin glass sheet is fully is laminated, the plate
The body layer has a thickness of at least one sheet of the ultra-thin glass plate.
A display device substrate characterized in that:

【0012】[0012]

【0013】[0013]

【0014】[0014]

【0015】[0015]

【0016】[0016]

【0017】[0017]

【0018】[0018]

【0019】[0019]

【0020】[0020]

【0021】[0021]

【0022】[0022]

【0023】[0023]

【作用】本発明に従えば、表示装置用基板は、少なくと
も1層の接着性透光性樹脂層を含む板状体層の両面に透
光性を有する一対の超薄ガラス板が積層されてなるもの
である。特に、前記超薄ガラス板の厚さを0.25mm
未満にすることによって、従来のガラス基板より薄型軽
量の表示装置用基板を作成することができる。また、表
示装置用基板は、両面に超薄ガラス板を備えるので、基
板表面が傷付きにくく、基板を介して空気が透過するこ
とを防止することができる。さらに、基板の耐熱性、耐
薬品性を向上することができる。また基板の熱膨張を低
く抑えることができるので、基板の熱膨張による電極の
断線を防止することができる。さらに、基板の強度を高
めることができるので、液晶セルのセル厚を均一に形成
でき、液晶セルの表示の均一性を向上することができ
る。
According to the present invention, a display device substrate comprises a pair of ultra-thin glass plates having a light-transmitting property laminated on both surfaces of a plate-like body layer including at least one adhesive light-transmitting resin layer. It becomes. In particular, the thickness of the ultra-thin glass plate is 0.25 mm
By setting the ratio to less than that, a display device substrate which is thinner and lighter than a conventional glass substrate can be manufactured. Further, since the display device substrate is provided with ultra-thin glass plates on both surfaces, the substrate surface is hardly damaged, and it is possible to prevent air from passing through the substrate. Further, heat resistance and chemical resistance of the substrate can be improved. Further, since the thermal expansion of the substrate can be suppressed low, disconnection of the electrode due to the thermal expansion of the substrate can be prevented. Further, since the strength of the substrate can be increased, the cell thickness of the liquid crystal cell can be made uniform, and the display uniformity of the liquid crystal cell can be improved.

【0024】また本発明に従えば、表示装置用基板の超
薄ガラス板は、厚さが0.0015mm以上、0.25
mm未満に形成される。
According to the invention, the ultra-thin glass plate of the display device substrate has a thickness of 0.0015 mm or more and 0.25 mm or more.
mm.

【0025】また本発明に従えば、表示装置用基板の一
対の超薄ガラス板のうち、少なくとも一方の超薄ガラス
板の基板外方表面となる面は、研磨が施されていること
が好ましい。この構成によれば、一対の前記表示装置用
基板を前記研磨面が対向するように配置し、液晶を封入
することによって、液晶セルのセル厚を精度よく均一に
することができ、表示むらのない液晶表示装置を形成す
ることができる。
[0025] According to the present invention, a pair of ultra-thin glass plate substrate for a display device, a surface comprising at least one ultra-thin glass sheet substrate outer surface is that the polishing is applied
Is preferred. According to this configuration, by disposing the pair of display device substrates so that the polished surfaces face each other and sealing the liquid crystal, the cell thickness of the liquid crystal cell can be made uniform with high accuracy, and display unevenness can be improved. No liquid crystal display device can be formed.

【0026】また、本発明に従えば、表示装置用基板の
一対の超薄ガラス板のうち、少なくとも一方の超薄ガラ
ス板の基板外方表面となる面には、凹凸が施されている
ことが好ましい。この構成によれば、前記表示装置用基
板の凹凸面が、前記表示装置用基板が備えられる装置、
たとえば表示装置に積層されるタブレットなどの表面に
配置されることによって、前記表示装置の反射光による
ちらつきを防止するとともに、ペン入力の書き味を向上
することができる。
According to the present invention, of the pair of ultra-thin glass plates of the display device substrate, at least one of the ultra-thin glass plates is provided with irregularities on the outer surface of the substrate.
Is preferred. According to this configuration, an uneven surface of the display device substrate is provided with the display device substrate,
For example, by being arranged on the surface of a tablet or the like stacked on the display device, it is possible to prevent flicker due to the reflected light of the display device and to improve the writing quality of pen input.

【0027】また本発明に従えば、表示装置用基板の一
対の超薄ガラス板のうち、少なくとも一方の超薄ガラス
板の基板外方表面となる面には、反射防止処理が施され
ていることが好ましい。この構成によれば、前記反射防
止処理面が、前記表示装置用基板が備えられる表示装置
の表示面側となるように配置されることによって、反射
光による表示面のちらつきを防止することができる。
Further, according to the present invention, at least one of the pair of ultra-thin glass plates of the display device substrate, which is to be the outer surface of the substrate, is subjected to an anti-reflection treatment. Is preferred. According to this configuration, since the antireflection processing surface is disposed so as to be on the display surface side of the display device including the display device substrate, it is possible to prevent the display surface from flickering due to reflected light. .

【0028】また本発明に従えば、表示装置用基板の板
状体層は、光学部材を含むことが好ましい。この構成に
よれば、前記光学部材によって前記表示装置用基板が備
えられる表示装置の表示品位を向上することができる。
Further, according to the present invention, the plate-like body layer of the display device substrate preferably includes an optical member . In this configuration
According to this, the display quality of the display device provided with the display device substrate can be improved by the optical member.

【0029】また本発明に従えば、表示装置用基板の前
記光学部材は、偏光板であることが好ましい。この構成
によれば、前記表示装置用基板は、偏光板を用いる液晶
表示装置などの表示装置に好適に使用することができ
る。
According to the invention, it is preferable that the optical member of the display device substrate is a polarizing plate . This configuration
According to this, the display device substrate can be suitably used for a display device such as a liquid crystal display device using a polarizing plate.

【0030】また本発明に従えば、表示装置用基板の前
記光学部材は、位相差板であることが好ましい。この構
成によれば、前記表示装置用基板は、位相差板を用いる
液晶表示装置などの表示装置に好適に使用することがで
きる。
According to the invention, the optical member of the display device substrate is preferably a retardation plate . This structure
According to this, the display device substrate can be suitably used for a display device such as a liquid crystal display device using a retardation plate.

【0031】また本発明に従えば、表示装置用基板の前
記光学部材は、反射板であることが好ましい。この構成
によれば、前記表示装置用基板は、反射板を用いる表示
装置に好適に使用することができる。
According to the invention, it is preferable that the optical member of the display device substrate is a reflection plate . This configuration
According to this, the display device substrate can be suitably used for a display device using a reflection plate.

【0032】また本発明に従えば、表示装置用基板の前
記光学部材は、半透過反射板であることが好ましい。こ
の構成によれば、前記表示装置用基板は、半透過反射板
を用いる表示装置に好適に使用することができる。
According to the present invention, it is preferable that the optical member of the display device substrate is a transflective plate . This
According to the configuration, the display device substrate can be suitably used for a display device using a transflective reflector.

【0033】また本発明に従えば、表示装置用基板の前
記光学部材は、複数の位相差板であることが好ましい。
この構成によれば、前記表示装置用基板は、複数の位相
差板を用いる表示装置に好適に使用することができる。
Further, according to the present invention, it is preferable that the optical member of the display device substrate is a plurality of retardation plates .
According to this configuration, the display device substrate can be suitably used for a display device using a plurality of retardation plates.

【0034】また本発明に従えば、表示装置用基板の前
記光学部材は、捩れ位相差板であることが好ましい。こ
の構成によれば、前記表示装置用基板は、捩れ位相差板
を用いる表示装置に好適に使用することができる。
According to the present invention, it is preferable that the optical member of the display device substrate is a twisted phase plate . This
According to the configuration, the display device substrate can be suitably used for a display device using a twisted phase difference plate.

【0035】[0035]

【実施例】図1は、本発明の実施例である表示装置用基
板21の構成を示す断面図である。図1に示すように、
基板21は、一対の超薄板ガラス22および22aと、
前記超薄板ガラス22,22aより厚いポリビニルブチ
ラール系透明接着性樹脂層23とから成り、前記透明接
着性樹脂層23の両面に前記超薄板ガラス22,22a
が積層されて形成される。
FIG. 1 is a sectional view showing the structure of a display device substrate 21 according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG.
The substrate 21 includes a pair of ultra-thin glass sheets 22 and 22a,
A polyvinyl butyral-based transparent adhesive resin layer 23 thicker than the ultra-thin glass plates 22 and 22a, and the ultra-thin glass plates 22 and 22a are formed on both surfaces of the transparent adhesive resin layer 23.
Are laminated.

【0036】基板21は、以下に示す手順で作成され
る。厚さ5mmのソーダライムガラス板を支持体として
この上に、以下に述べるそれぞれ30cm×30cmの
大きさの部材が積層される。まず、厚さ0.05mmの
低アルカリガラスのマイクロシート22が積層される。
この上に接着性を有し、水洗、乾燥、裁断、調湿した厚
さ0.38mmのポリビニルブチラールフィルム23が
積層される。さらに、一方表面をオスカー式研磨機で研
磨された厚さ0.05mmのホウケイ酸ガラス板22a
が研磨面を上にして積層される。
The substrate 21 is prepared according to the following procedure. A 5 mm-thick soda-lime glass plate is used as a support, on which members each having a size of 30 cm × 30 cm described below are laminated. First, a 0.05 mm thick low alkali glass microsheet 22 is laminated.
A 0.38 mm thick polyvinyl butyral film 23 having an adhesive property, washed with water, dried, cut, and conditioned is laminated thereon. Furthermore, a borosilicate glass plate 22a having a thickness of 0.05 mm, one surface of which is polished by an Oscar-type polishing machine.
Are stacked with the polished surface up.

【0037】このようにして、支持体上に積層された基
板21は、ゴム袋の中に収納されて温度90℃、真空度
600mmHgで30分間減圧加熱され、予備接着が行
われる。次いで、前記基板21の端面にUV(紫外線)
硬化型アクリル樹脂が塗布され、紫外線照射によって前
記アクリル樹脂の硬化が行われる。これによって基板2
1の端面が封止される。さらに基板21は、オートクレ
ーブで140℃、15kg/cm2 で30分間加圧さ
れ、同時に基板21の端面に塗布されたUV硬化型アク
リル樹脂の十分な硬化が行われる。
The substrate 21 thus laminated on the support is housed in a rubber bag and heated under reduced pressure at a temperature of 90 ° C. and a degree of vacuum of 600 mmHg for 30 minutes to perform preliminary bonding. Next, UV (ultraviolet) is applied to the end face of the substrate 21.
A curable acrylic resin is applied, and the acrylic resin is cured by ultraviolet irradiation. Thereby, the substrate 2
1 is sealed. Further, the substrate 21 is pressurized in an autoclave at 140 ° C. and 15 kg / cm 2 for 30 minutes, and at the same time, the UV curable acrylic resin applied to the end surface of the substrate 21 is sufficiently cured.

【0038】また本実施例において、前記低アルカリガ
ラスのマイクロシート22には、コーニング社製マイク
ロシートを使用し、前記ポリビニルブチラールフィルム
23には、積水化学工業社製エスレックフィルムシリー
ズを使用した。
In this example, a microsheet 22 manufactured by Corning Co., Ltd. was used as the microsheet 22 made of low alkali glass, and an Eslec film series manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. was used as the polyvinyl butyral film 23.

【0039】図2は、図1に示す基板21を用いた白黒
表示反射型位相差板STN液晶セル28の構成を示す断
面図である。図1に示すように、液晶セル28は、前記
一対の基板21間に、液晶層26がスペーサ(図示せ
ず)を介して封入されて形成される。前記一対の基板2
1は、研磨面上にITO(インジウム錫酸化物)膜など
から成る透明電極および配向膜など25が形成され、こ
の面が対向するように配置される。液晶セル28の一方
外側基板面上には、位相差板付き偏光板24が設けら
れ、他方外側基板面上には、反射板付き偏光板27が設
けられる。
FIG. 2 is a sectional view showing the structure of a monochrome display reflective phase difference plate STN liquid crystal cell 28 using the substrate 21 shown in FIG. As shown in FIG. 1, the liquid crystal cell 28 is formed by enclosing a liquid crystal layer 26 between the pair of substrates 21 via a spacer (not shown). The pair of substrates 2
In No. 1, a transparent electrode made of an ITO (indium tin oxide) film and the like and an alignment film 25 are formed on a polished surface, and are arranged so that the surfaces face each other. A polarizing plate 24 with a retardation plate is provided on one outer substrate surface of the liquid crystal cell 28, and a polarizing plate 27 with a reflector is provided on the other outer substrate surface.

【0040】前記液晶セル28は、がラス基板を使用す
るカラー表示STN液晶セルの製造プロセスを用いて作
成される。カラー表示STN液晶セルの製造プロセス
は、製造される液晶セル内にカラーフィルタなどを備え
るため、通常のガラス基板を使用する白黒表示STN液
晶セルの製造プロセスより低温で処理が行われる。この
ようにして作成された液晶セル28は、さらにガラス基
板を使用した場合と同様の、通常の液晶モジュール化プ
ロセスによってモジュール化され、解像度640×48
0ドット、0.18mmドットピッチの白黒表示反射型
位相差板STN液晶モジュールが作成される。
The liquid crystal cell 28 is formed by using a manufacturing process of a color display STN liquid crystal cell using a lath substrate. In the manufacturing process of a color display STN liquid crystal cell, since a liquid crystal cell to be manufactured is provided with a color filter and the like, the process is performed at a lower temperature than the manufacturing process of a monochrome display STN liquid crystal cell using a normal glass substrate. The liquid crystal cell 28 thus formed is further modularized by a normal liquid crystal module forming process similar to the case where a glass substrate is used, and has a resolution of 640 × 48.
A black-and-white display reflective phase difference plate STN liquid crystal module having 0 dots and 0.18 mm dot pitch is produced.

【0041】前述のようにして作成された液晶モジュー
ルは、温度60℃、湿度95%、100時間のエージン
グの結果、液晶層26中に気泡の発生は見られなかっ
た。また、透明電極の断線も生じなかった。さらに前記
液晶モジュールでは、従来のプラスチック基板を用いた
液晶モジュールと同程度の薄型軽量化を実現することが
でき、同時にガラス基板を用いた液晶モジュールと同程
度の均一な表示を得ることができた。
In the liquid crystal module prepared as described above, no bubbles were observed in the liquid crystal layer 26 as a result of aging at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 95% for 100 hours. Also, there was no disconnection of the transparent electrode. Further, in the liquid crystal module, it was possible to realize the same thin and light weight as the liquid crystal module using the conventional plastic substrate, and at the same time, it was possible to obtain the same uniform display as the liquid crystal module using the glass substrate. .

【0042】図3は、本発明の他の実施例である表示装
置用基板30の構成を示す断面図である。表示装置用基
板30は、図3に示すように、透明樹脂層29の両面に
透明接着性樹脂層23を設けてなる板状体層の両面に一
対の超薄板ガラス22,22aが接着されてなるもので
あり、前記板状体層の厚さは、超薄板ガラス22の厚さ
より大きくなるように設計される。
FIG. 3 is a sectional view showing the structure of a display device substrate 30 according to another embodiment of the present invention. As shown in FIG. 3, the display device substrate 30 has a pair of ultra-thin glass plates 22 and 22a bonded to both surfaces of a plate-like body layer having a transparent adhesive resin layer 23 provided on both surfaces of a transparent resin layer 29. The thickness of the plate-like body layer is designed to be larger than the thickness of the ultra-thin glass plate 22.

【0043】前記基板30は、以下に示す手順で作成さ
れる。厚さ5mmの無アルカリガラス板を支持体として
この上に、以下に述べるそれぞれ30cm×30cmの
大きさの部材が積層される。まず、厚さ0.01mmの
ゾルゲル法無アルカリガラス板22が積層され、さらに
厚さ0.15mmの変成ポリオレフィン系フィルム2
3、厚さ0.1mmのポリアリレートフィルム29、厚
さ0.15mmの前記変成ポリオレフィンフィルム23
および厚さ0.01mmのゾルゲル法無アルカリガラス
板22が、この順に積層される。
The substrate 30 is prepared according to the following procedure. A 5 mm-thick non-alkali glass plate is used as a support, on which members each having a size of 30 cm × 30 cm described below are laminated. First, a sol-gel non-alkali glass plate 22 having a thickness of 0.01 mm is laminated, and a modified polyolefin-based film 2 having a thickness of 0.15 mm is further formed.
3, a polyarylate film 29 having a thickness of 0.1 mm, and the modified polyolefin film 23 having a thickness of 0.15 mm
A sol-gel method non-alkali glass plate 22 having a thickness of 0.01 mm is laminated in this order.

【0044】これらは、ゴム袋の中に収納され、温度9
0℃、真空度600mmHgで30分間減圧加熱され、
基板30の予備接着が行われる。次いで、前記基板30
の端面に、UV硬化型アクリル樹脂が塗布される。さら
に紫外線照射によって前記アクリル樹脂の硬化が行わ
れ、基板30の端面が封止される。さらに基板30は、
オートクレーブで120℃、10kg/cm2 で30分
間加圧され、同時に基板30の端面に塗布されたUV硬
化型アクリル樹脂の十分な硬化が行われる。
These are stored in a rubber bag,
0 ° C., vacuum heating at 600 mmHg for 30 minutes,
The preliminary bonding of the substrate 30 is performed. Next, the substrate 30
Is coated with a UV curable acrylic resin. Further, the acrylic resin is cured by ultraviolet irradiation, and the end face of the substrate 30 is sealed. Further, the substrate 30
Pressure is applied at 120 ° C. and 10 kg / cm 2 for 30 minutes in an autoclave, and at the same time, the UV-curable acrylic resin applied to the end face of the substrate 30 is sufficiently cured.

【0045】また本実施例において、前記変成ポリオレ
フィン系フィルム23には、武田薬品工業社製デュミラ
ンシリーズを使用し、前記ポリアリレートフィルム29
には、ユニチカ社製Uシリーズを使用した。
In this embodiment, the modified polyolefin-based film 23 is a Dumilan series manufactured by Takeda Pharmaceutical Company Limited, and the polyarylate film 29 is used.
The U series manufactured by Unitika Ltd. was used.

【0046】図4は、他の実施例を示す断面図である。
図4に示すように、基板30aは、図3に示す基板30
と同様の構成であるが、基板30aの一方表面には凹凸
が施されている。
FIG. 4 is a sectional view showing another embodiment.
As shown in FIG. 4, the substrate 30a is the same as the substrate 30 shown in FIG.
However, one surface of the substrate 30a is provided with irregularities.

【0047】基板30aは、支持体である厚さ5mmの
無アルカリガラス板上に、厚さ0.1mmの無アルカリ
ガラス板22、厚さ0.15mmの変成ポリオレフイン
系フィルム23、厚さ0.1mmのポリアリレートフィ
ルム29、厚さ0.15mmの前記ポリオレフィン系フ
ィルム23およびケミカルエッチングによって一方表面
上に凹凸が施された厚さ0.1mmの無アルカリガラス
板22aがこの順で積層される。ただし、前記基板30
aの各構成部材の大きさは、すべて30cm×30cm
である。また、予備接着、端面封止およびオートクレー
ブによる加圧は、図3に示す基板30と同様の処理を行
う。
The substrate 30a is composed of a non-alkali glass plate 22 having a thickness of 0.1 mm, a non-alkali glass plate 22 having a thickness of 0.1 mm, a modified polyolefin-based film 23 having a thickness of 0.15 mm, and a thickness of 0.1 mm. A 1 mm polyarylate film 29, the 0.15 mm thick polyolefin-based film 23, and a 0.1 mm thick non-alkali glass plate 22 a having irregularities on one surface by chemical etching are laminated in this order. However, the substrate 30
The size of each component a is 30 cm x 30 cm
It is. The pre-adhesion, sealing of the end face, and pressurization by an autoclave are performed in the same manner as the substrate 30 shown in FIG.

【0048】また本実施例において、前記変成ポリオレ
フィン系フィルム23には、武田薬品工業社製デュミラ
ンシリーズを使用し、前記ポリアリレートフィルム29
には、ユニチカ社製Uシリーズを使用した。
In this embodiment, the modified polyolefin-based film 23 is a Dumilan series manufactured by Takeda Pharmaceutical Company Limited, and the polyarylate film 29 is used.
The U series manufactured by Unitika Ltd. was used.

【0049】図5は、図4に示す基板30aを用いた反
射型カラー表示ゲストホストTFT(薄膜トランジス
タ)液晶セル40の構成を示す断面図である。図5に示
すように、液晶セル40は、前記基板30と基板30a
との間にPC(相転移)GH(ゲストホスト)液晶層3
6を介在して形成される。基板30の液晶層36側表面
上には、各画素を選択的に駆動するためのTFTが形成
される。前記TFTは、a−Si(アモルファスシリコ
ン)から成るゲート端子33がたとえば図示しない走査
信号線に、ソース端子31が図示しないデータ信号線
に、ドレイン端子32がAlから成る画素電極35にそ
れぞれ接続され、走査信号によってTFTが導通される
とき、画素電極35にデータ信号が印加され、画素が駆
動される。さらに前記TFTに積層して、アクリル樹脂
の保護膜34が形成され、これに積層して画素電極35
が形成され。前記画素電極35は、前記保護膜34に形
成されるコンタクトホールを介してTFTのドレイン端
子32に接続される。前記画素電極35に積層して、図
示しない配向膜などが形成され、配向処理が施される。
FIG. 5 is a sectional view showing the structure of a reflection type color display guest host TFT (thin film transistor) liquid crystal cell 40 using the substrate 30a shown in FIG. As shown in FIG. 5, the liquid crystal cell 40 includes the substrate 30 and the substrate 30a.
PC (phase transition) GH (guest host) liquid crystal layer 3
6 are formed. On the liquid crystal layer 36 side surface of the substrate 30, a TFT for selectively driving each pixel is formed. In the TFT, a gate terminal 33 made of a-Si (amorphous silicon) is connected to, for example, a scanning signal line (not shown), a source terminal 31 is connected to a data signal line (not shown), and a drain terminal 32 is connected to a pixel electrode 35 made of Al. When the TFT is turned on by the scanning signal, a data signal is applied to the pixel electrode 35 to drive the pixel. Further, a protective film 34 made of an acrylic resin is formed on the TFT, and the pixel electrode 35 is formed on the protective film 34.
Is formed. The pixel electrode 35 is connected to the drain terminal 32 of the TFT via a contact hole formed in the protective film 34. An alignment film or the like (not shown) is formed on the pixel electrode 35 and an alignment process is performed.

【0050】また、基板30aの凹凸が施されていない
側の表面上には、青、赤、緑などのカラーフィルタ38
および遮光膜などが設けられ、これに積層してITO膜
37および配向膜(図示せず)などが形成される。前記
配向膜には、配向処理が施される。
A color filter 38 of blue, red, green, or the like is provided on the surface of the substrate 30a on which the unevenness is not provided.
And a light-shielding film, etc., on which an ITO film 37 and an alignment film (not shown) are formed. The alignment film is subjected to an alignment process.

【0051】前記液晶セル40は、前記基板30と基板
30aとが、配向膜が形成された表面が対向するように
貼合わされ、スペーサ(図示せず)を介してPCGH液
晶層36が封入されて形成される。液晶セル40は、前
述のようにしてガラス基板を使用する従来の反射型カラ
ー表示ゲストホストTFT液晶セル用製造プロセスによ
って作成される。前記液晶セル製造プロセスは、「SID'
92,Session23,23.6報告」に基づくものである。さら
に、前記液晶セル40は、従来のモジュール化プロセス
によってモジュール化され、液晶モジュールが作成され
る。
In the liquid crystal cell 40, the substrate 30 and the substrate 30a are bonded so that the surfaces on which the alignment films are formed face each other, and the PCGH liquid crystal layer 36 is sealed via a spacer (not shown). It is formed. The liquid crystal cell 40 is produced by the conventional manufacturing process for a reflective color display guest host TFT liquid crystal cell using a glass substrate as described above. The liquid crystal cell manufacturing process is called "SID '
92, Session 23, 23.6 report. Further, the liquid crystal cell 40 is modularized by a conventional modularization process, and a liquid crystal module is created.

【0052】この結果、従来のガラス基板を使用した液
晶モジュールより、薄型軽量の反射型カラー表示のゲス
トホストTFT液晶モジュールを得ることができた。さ
らに、基板30a表面には凹凸処理が施されているた
め、表示面からの反射を防止し、視認性を向上すること
ができるとともに、ペン入力を行う場合の書き味を向上
することができる。
As a result, a thin and lightweight guest-host TFT liquid crystal module for reflection type color display was obtained as compared with a conventional liquid crystal module using a glass substrate. Furthermore, since the surface of the substrate 30a is subjected to the unevenness processing, reflection from the display surface can be prevented, visibility can be improved, and writing quality when performing pen input can be improved.

【0053】図6は、さらに他の実施例を示す断面図で
ある。図6に示すように、基板30bは、図3に示す基
板30の一方表面上に反射防止膜41が形成される。す
なわち、表示装置用基板30bは、図6に示すように、
厚さ0.1mmのポリアリレートフィルム29の両面に
厚さ0.15mmの変成ポリオレフィン系フィルムから
成る透明接着性樹脂層23を設けて板状体層を形成して
その両面に一対の厚さ0.05mmの無アルカリガラス
から成る超薄板ガラス22が接着されてなり、前記一対
の超薄板ガラス22の一方には、外方表面上に反射防止
膜41が形成されている。
FIG. 6 is a sectional view showing still another embodiment. As shown in FIG. 6, the substrate 30b has an antireflection film 41 formed on one surface of the substrate 30 shown in FIG. That is, the display device substrate 30b is, as shown in FIG.
A transparent adhesive resin layer 23 made of a modified polyolefin-based film having a thickness of 0.15 mm is provided on both surfaces of a polyarylate film 29 having a thickness of 0.1 mm to form a plate-like body layer, and a pair of thicknesses 0 is formed on both surfaces thereof. An ultra-thin glass 22 made of non-alkali glass of 0.05 mm is bonded, and an anti-reflection film 41 is formed on the outer surface of one of the pair of ultra-thin glass 22.

【0054】また、基板30bの予備接着、端面封止お
よびオートクレーブによる加圧は前述の基板30と同様
の処理によって行う。
The pre-adhesion of the substrate 30b, sealing of the end face, and pressurization by an autoclave are performed by the same processing as the above-described substrate 30.

【0055】図7は、本発明の他の実施例である表示装
置用基板45の構成を示す断面図である。図7に示すよ
うに、基板45は、両面に備えられる透明フィルムを保
護層とする偏光板44の両面に透明接着性樹脂層23を
設けて板状体層を形成し、さらにその外面に一対の超薄
板ガラス22が積層して接着される。
FIG. 7 is a sectional view showing the structure of a display device substrate 45 according to another embodiment of the present invention. As shown in FIG. 7, a substrate 45 is provided with a transparent adhesive resin layer 23 on both surfaces of a polarizing plate 44 having a transparent film provided on both surfaces as a protective layer to form a plate-like body layer. Are laminated and bonded.

【0056】前記基板45は、以下に示す手順で作成さ
れる。厚さ5mmの無アルカリガラス板を支持体とし
て、以下に述べるそれぞれ30cm×30cmの大きさ
の部材を積層する。まず前記支持体上に一方表面をオス
カー式研磨機で研磨された厚さ0.05mmの無アルカ
リガラス板22が研磨面を下にして積層される。この上
に厚さ0.15mmの変成ポリオレフィン系フィルム2
3が積層され、さらに延伸PVA(ポリビニルアルコー
ル)膜に2色性染料を吸着させ、保護膜として前記PV
A膜の両面に厚さ0.1mmのPES(ポリエーテルサ
ルフォン)フィルムを備える偏光板44が積層される。
さらに厚さ0.15mmの前記変成ポリオレフィン系フ
ィルム23が積層され、これに厚さ0.05mmの前記
無アルカリガラス板22が研磨面を上にして積層され
る。
The substrate 45 is prepared according to the following procedure. Using a non-alkali glass plate having a thickness of 5 mm as a support, members each having a size of 30 cm × 30 cm described below are laminated. First, a 0.05 mm-thick alkali-free glass plate 22 having one surface polished by an Oscar-type polisher is laminated on the support with the polished surface down. On this, a modified polyolefin-based film 2 having a thickness of 0.15 mm 2
3 are further laminated, and a dichroic dye is adsorbed on a stretched PVA (polyvinyl alcohol) film.
A polarizing plate 44 having a PES (polyethersulfone) film having a thickness of 0.1 mm is laminated on both sides of the A film.
Further, the modified polyolefin-based film 23 having a thickness of 0.15 mm is laminated thereon, and the alkali-free glass plate 22 having a thickness of 0.05 mm is laminated thereon with the polished surface facing upward.

【0057】このようにして支持体上に積層された基板
45は、ゴム袋の中に収納され、温度90℃、真空度6
00mmHgで30分間減圧加熱され、予備接着が行わ
れる。次いで、前記基板45は、端面にUV硬化型アク
リル樹脂を塗布され、紫外線照射によって前記アクリル
樹脂の硬化が行われる。これによって、基板45の端面
が封止される。さらに基板45は、オートクレーブで1
40℃、15kg/cm2 で30分間加圧され、同時に
基板45の端面に塗布されたUV硬化型アクリル樹脂の
十分な硬化が行われる。
The substrate 45 thus laminated on the support is housed in a rubber bag and has a temperature of 90.degree.
The pre-adhesion is performed by heating under reduced pressure at 00 mmHg for 30 minutes. Next, a UV curable acrylic resin is applied to the end surface of the substrate 45, and the acrylic resin is cured by ultraviolet irradiation. Thereby, the end face of the substrate 45 is sealed. Further, the substrate 45 is placed in an autoclave for 1 hour.
Pressure is applied at 40 ° C. and 15 kg / cm 2 for 30 minutes, and at the same time, the UV curable acrylic resin applied to the end face of the substrate 45 is sufficiently cured.

【0058】本実施例において前記偏光膜に保護層とし
て備えられる透明フィルムは、PESフィルム以外に、
PES系、ポリアリレート系、ポリカーボネート系、エ
ポキシブタジエン共重合体系、ノルボルネン系、ポリエ
ステル系などの他の透明フィルムが使用されてもよい。
この場合、前記透明フィルムは、耐熱性が高く、複屈折
性が小さいものが望ましい。
In this embodiment, the transparent film provided as a protective layer on the polarizing film is, in addition to the PES film,
Other transparent films such as PES-based, polyarylate-based, polycarbonate-based, epoxybutadiene copolymer-based, norbornene-based, and polyester-based films may be used.
In this case, the transparent film desirably has high heat resistance and low birefringence.

【0059】このように本実施例の表示装置用基板45
は、偏光板44を備えるので、偏光板を必要とするTF
T液晶表示装置、MIM液晶表示装置、STN系液晶表
示装置、SH系液晶表示装置、TN系液晶表示装置、S
SFLC(表面安定型強誘電性液晶)および反強誘電性
液晶表示装置などの液晶装置に好適に用いることができ
る。
As described above, the display device substrate 45 of this embodiment is used.
Has a polarizing plate 44, so that a TF that requires a polarizing plate
T liquid crystal display, MIM liquid crystal display, STN liquid crystal display, SH liquid crystal display, TN liquid crystal display, S
It can be suitably used for liquid crystal devices such as SFLC (surface stable ferroelectric liquid crystal) and antiferroelectric liquid crystal display device.

【0060】図8は、本発明の他の実施例である表示装
置用基板48の構成を示す断面図である。図8に示すよ
うに、前記基板48は、超薄板ガラス22、透明樹脂層
23、位相差板46、偏光板47、透明樹脂層23およ
び超薄板ガラス22がこの順で積層されて形成される。
FIG. 8 is a sectional view showing the structure of a display device substrate 48 according to another embodiment of the present invention. As shown in FIG. 8, the substrate 48 is formed by laminating an ultra-thin glass 22, a transparent resin layer 23, a retardation plate 46, a polarizing plate 47, a transparent resin layer 23, and an ultra-thin glass 22 in this order. .

【0061】前記基板48は、以下に示す手順で作成さ
れる。厚さ5mmのソーダライムガラス板を支持体とし
て、前記支持体上に、以下に述べるそれぞれ30cm×
30cmの大きさの部材が積層される。まず、厚さ0.
005mmのゾルゲル法無アルカリガラス板22が前記
研磨面を下にして積層され、さらに水洗、乾燥、裁断、
調湿された厚さ0.38mmのポリビニルブチラールフ
ィルム23がこれに積層される。これに位相差430n
mのポリカーボネート系位相差板46、保護層として両
面に位相差を持たない厚さ0.1mmのポリカーボネー
ト系フィルムが備えられる偏光板47、厚さ0.38m
mのポリビニルブチラールフィルム23、厚さ0.00
5mmのゾルゲル法無アルカリガラス板22が研磨面を
上にして、この順で積層される。
The substrate 48 is prepared according to the following procedure. Using a soda lime glass plate having a thickness of 5 mm as a support, 30 cm ×
A member having a size of 30 cm is laminated. First, a thickness of 0.
A 005 mm sol-gel method non-alkali glass plate 22 is laminated with the polished surface facing down, and further washed with water, dried, cut,
The conditioned polyvinyl butyral film 23 having a thickness of 0.38 mm is laminated thereon. This has a phase difference of 430n
m, a polarizing plate 47 provided with a 0.1 mm thick polycarbonate film having no retardation on both sides as a protective layer, and a 0.38 m thick
m, polyvinyl butyral film 23, thickness 0.00
A 5 mm sol-gel non-alkali glass plate 22 is laminated in this order with the polished surface facing up.

【0062】前述のように支持体上に積層された基板4
8は、前述の図7に示す基板45と同様にして予備接
着、端面封止およびオートクレーブによる加圧が行われ
る。
The substrate 4 laminated on the support as described above
8 is subjected to pre-adhesion, sealing of the end face, and pressurization by an autoclave in the same manner as the substrate 45 shown in FIG.

【0063】本実施例において前記位相差板46は、ポ
リカーボネート系位相差板を使用したが、これ以外に、
ポリエステル系、アクリル系、PVA系、ポリスチレン
系など、他の位相差板を使用してもよい。
In this embodiment, the retardation plate 46 is a polycarbonate retardation plate.
Other retardation plates such as polyester, acrylic, PVA, and polystyrene may be used.

【0064】このように本実施例の表示装置用基板48
は、少なくとも色補償用、広視角用および1/4λ用な
ど位相差板を必要とするSTN系液晶表示装置、SH系
液晶表示装置、SSFLC、TFT液晶表示装置などの
液晶セルに用いることができる。
As described above, the display device substrate 48 of the present embodiment is used.
Can be used for liquid crystal cells such as STN-based liquid crystal display devices, SH-based liquid crystal display devices, SSFLC, and TFT liquid crystal display devices that require a retardation plate for at least color compensation, wide viewing angle, and 1 / λ. .

【0065】図9は、本発明のさらに他の実施例である
表示装置用基板48aの構成を示す断面図である。図9
に示すように、基板48aは、超薄板ガラス22、透明
樹脂層23、位相差板46、透明樹脂層23a、偏光板
47、透明樹脂層23および超薄板ガラス22が、この
順で積層され形成される。
FIG. 9 is a sectional view showing the structure of a display device substrate 48a according to still another embodiment of the present invention. FIG.
As shown in the figure, a substrate 48a is formed by laminating an ultra-thin glass 22, a transparent resin layer 23, a retardation plate 46, a transparent resin layer 23a, a polarizing plate 47, a transparent resin layer 23, and an ultra-thin glass 22 in this order. Is done.

【0066】前記基板48aは、以下に示す手順で作成
される。厚さ5mmのソーダライムガラス板を支持体と
して、前記支持体上に以下に述べるそれぞれ30cm×
30cmの大きさの部材が積層される。まず、厚さ0.
05mmの一方表面を研磨されたソーダライムガラス板
22が、前記研磨面を下にして積層され、さらに厚さ
0.15mmの変成ポリオレフィン系フィルム23が積
層される。さらに、アクリル粘着剤23aを介して予め
接着された位相差430nmのポリカーボネイト系位相
差板46と、保護層として両面に位相差を持たない厚さ
0.1mmのポリカーボネートフィルムが備えられる偏
光板47とが積層される。ただし、前記偏光板47と位
相差板46とは、偏光板の吸収軸が位相差板の延伸軸に
対して30°の交差角をなすように配置される。さら
に、前記偏光板47上に、厚さ0.15mmの変成ポリ
オレフィン系フィルム23および厚さ0.05mmの一
方表面を研磨されたソーダライムガラス板22がこの順
で前記研磨面を上にして積層される。
The substrate 48a is prepared according to the following procedure. Using a soda-lime glass plate having a thickness of 5 mm as a support, 30 cm ×
A member having a size of 30 cm is laminated. First, a thickness of 0.
A soda lime glass plate 22 having one surface polished to a thickness of 05 mm is laminated with the polished surface down, and a modified polyolefin-based film 23 having a thickness of 0.15 mm is further laminated. Further, a polycarbonate-based retardation plate 46 having a retardation of 430 nm, which is preliminarily bonded via an acrylic adhesive 23a, and a polarizing plate 47 having a 0.1 mm-thick polycarbonate film having no retardation on both surfaces as a protective layer. Are laminated. However, the polarizing plate 47 and the retardation plate 46 are arranged such that the absorption axis of the polarizing plate forms an intersection angle of 30 ° with the stretching axis of the retardation plate. Further, on the polarizing plate 47, a modified polyolefin-based film 23 having a thickness of 0.15 mm and a soda lime glass plate 22 having a thickness of 0.05 mm and having one surface polished are laminated in this order with the polished surface facing up. Is done.

【0067】前述のようにして支持体上に積層された基
板48aは、前述の図7に示す基板45と同様にして、
予備接着、端面封止およびオートクレーブによる加圧が
行われる。
The substrate 48a laminated on the support as described above is similar to the substrate 45 shown in FIG.
Pre-adhesion, sealing of the end face and pressurization by an autoclave are performed.

【0068】本実施例においても、前記位相差板46お
よび偏光板47に、他の位相差板および偏光板を使用し
てもよい。また、偏光板47の吸収軸と位相差板46の
延伸軸とを異なる交差角で配置してもよい。
Also in this embodiment, other retardation plates and polarizing plates may be used for the retardation plate 46 and the polarizing plate 47. Further, the absorption axis of the polarizing plate 47 and the stretching axis of the retardation plate 46 may be arranged at different intersection angles.

【0069】このように本実施例の表示装置用基板48
aは、位相差板と偏光板とを同時に必要とするSTN系
液晶表示装置、SH系液晶表示装置、SSFLC、TF
T液晶表示装置などに用いることができる。
As described above, the display device substrate 48 of the present embodiment is used.
a denotes an STN-based liquid crystal display device, an SH-based liquid crystal display device, a SSFLC, and a TF, which simultaneously require a retardation plate and a polarizing plate.
It can be used for a T liquid crystal display device and the like.

【0070】図10は、本発明の他の実施例である表示
装置用基板51の構成を示す断面図である。図10に示
すように、基板51は、超薄板ガラス22、透明樹脂層
23、捩れ位相差フィルム50および超薄板ガラス22
が、この順で積層され形成される。
FIG. 10 is a sectional view showing the structure of a display device substrate 51 according to another embodiment of the present invention. As shown in FIG. 10, the substrate 51 is made of an ultra-thin glass 22, a transparent resin layer 23, a twisted retardation film 50, and an ultra-thin glass 22.
Are laminated and formed in this order.

【0071】前記基板51は、以下に示す手順で作成さ
れる。厚さ5mmのホウケイ酸ガラス板を支持体とし
て、前記支持体上に以下に述べるそれぞれ30cm×3
0cmの大きさの部材が積層される。まず、厚さ0.2
mmの一方表面を研磨されたホウケイ酸ガラス板22が
前記研磨面を下にして積層され、さらに厚さ0.38m
mの変成ポリオレフィン系フィルム23が積層される。
この上に、特公平4−22917に公示される厚さ約2
0μmの捩れ位相差フィルム50が一方表面上に形成さ
れた厚さ0.2mmのホウケイ酸ガラス板22が、前記
捩れ位相差フィルム50を下にして積層される。また、
前記ホウケイ酸ガラス板22の他方表面は、研磨されて
いる。
The substrate 51 is prepared according to the following procedure. Using a borosilicate glass plate having a thickness of 5 mm as a support, 30 cm × 3
A member having a size of 0 cm is stacked. First, the thickness 0.2
A borosilicate glass plate 22 having one surface polished on one side is laminated with the polished surface down, and a thickness of 0.38 m
m modified polyolefin-based films 23 are laminated.
On top of this, a thickness of about 2 published in
A 0.2 mm thick borosilicate glass plate 22 having a 0 μm twisted retardation film 50 formed on one surface is laminated with the twisted retardation film 50 down. Also,
The other surface of the borosilicate glass plate 22 is polished.

【0072】前述のように支持体上に積層された基板5
1は、前述の図7に示した基板45と同様にして、予備
接着、端面封止およびオートクレーブによる加圧が行わ
れる。
The substrate 5 laminated on the support as described above
In the step 1, in the same manner as in the case of the substrate 45 shown in FIG.

【0073】本実施例において、前記捩れ位相差フィル
ム50は、光学活性なポリカーボネイトなどの主鎖型ポ
リマー、光学活性なポリアクリレートなどの側鎖型ポリ
マー、光学活性でないポリエステルアミドなどの主鎖型
ポリマーに他の光学活性化合物を加えたポリマー、光学
活性でないポリメタクリレートなどの側鎖型ポリマーに
他の光学活性化合物を加えたポリマーなどの他の材質を
用いた位相差フィルム50を使用してもよい。
In this embodiment, the torsional retardation film 50 is made of a main chain polymer such as an optically active polycarbonate, a side chain type polymer such as an optically active polyacrylate, or a main chain type polymer such as a polyester amide that is not optically active. A retardation film 50 using another material such as a polymer obtained by adding another optically active compound to a polymer, or a polymer obtained by adding another optically active compound to a side chain type polymer such as polymethacrylate which is not optically active may be used. .

【0074】このように本実施例の表示装置用基板51
は、捩れ位相差フィルム50を備えるので、STN液晶
表示装置などの液晶表示装置に使用することができ、D
STN(Double STN)液晶表示装置の光学補償用セ
ルと同様の効果を得ることができる。
As described above, the display device substrate 51 of this embodiment is
Can be used for a liquid crystal display device such as an STN liquid crystal display device because the liquid crystal display device has a twisted retardation film 50.
The same effect as that of the optical compensation cell of the STN (Double STN) liquid crystal display device can be obtained.

【0075】図11は、本発明の他の実施例である表示
装置用基板52の構成を示す断面図である。前記基板5
2は、超薄板ガラス22、透明樹脂層23、位相差板4
6、透明樹脂層23a、位相差板46、透明樹脂層23
および超薄板ガラス22が、この順で積層され形成され
る。
FIG. 11 is a sectional view showing the structure of a display device substrate 52 according to another embodiment of the present invention. The substrate 5
2 is an ultra-thin glass 22, a transparent resin layer 23, a retardation plate 4
6, transparent resin layer 23a, retardation plate 46, transparent resin layer 23
And the ultra-thin glass 22 are laminated and formed in this order.

【0076】前記基板52は、以下に示す手順で作成さ
れる。厚さ5mmのソーダライムガラス板を支持体とし
て、前記支持体上に以下に述べるそれぞれ30cm×3
0cmの大きさの部材を積層する。まず、厚さ0.05
mmの一方表面を研磨されたソーダライムガラス板22
が前記研磨面を下にして積層され、さらに厚さ0.15
mmの変成ポリオレフィン系フィルム23が積層され
る。さらに、アクリル粘着剤23aを介して予め接着さ
れた2枚の位相差430nm、厚さ0.5mmのポリカ
ーボネイト位相差フィルム46が積層される。前記位相
差フィルム46は、延伸軸が相互に40°の交差角をな
すように配置される。さらに、前記位相差フィルム46
上に、厚さ0.15mmの変成ポリオレフィンフィルム
23および厚さ0.05mmの一方表面を研磨されたソ
ーダライムガラス板22が前記研磨面を上にしてこの順
で積層される。
The substrate 52 is prepared according to the following procedure. A soda lime glass plate having a thickness of 5 mm was used as a support, and 30 cm × 3 each described below on the support.
A member having a size of 0 cm is laminated. First, thickness 0.05
mm soda lime glass plate 22 with one surface polished
Are stacked with the polished surface down, and a thickness of 0.15
mm modified polyolefin-based film 23 is laminated. Further, two polycarbonate phase difference films 46 having a phase difference of 430 nm and a thickness of 0.5 mm, which are preliminarily bonded via the acrylic adhesive 23a, are laminated. The retardation films 46 are arranged such that the stretching axes form a cross angle of 40 ° with each other. Further, the retardation film 46
A modified polyolefin film 23 having a thickness of 0.15 mm and a soda lime glass plate 22 having a thickness of 0.05 mm and having one surface polished are laminated in this order on the polished surface.

【0077】前述のように支持体上に積層された基板5
2は、前述の図7に示す基板45と同様にして、予備接
着、端面封止およびオートクレーブによる加圧が行われ
る。
The substrate 5 laminated on the support as described above
2, the pre-adhesion, sealing of the end face, and pressurization by an autoclave are performed in the same manner as the substrate 45 shown in FIG.

【0078】本実施例の表示装置用基板52は、図8に
示す基板48と同様、位相差板46として、本実施例で
使用した位相差板以外に他の材質から成る位相差フィル
ムを使用してもよいし、位相差、位相差板の枚数、延伸
軸の方向などが異なるものを使用してもよい。また、複
数の位相差板46は、同種の位相差フィルムを組合わせ
てもよいし、異種の位相差フィルムを組合わせてもよ
く、各位相差板相互の延伸軸の交差角が本実施例とは異
なる配置にしてもよい。
The display device substrate 52 of this embodiment uses a retardation film made of another material in addition to the retardation plate used in this embodiment as the retardation plate 46, similarly to the substrate 48 shown in FIG. Alternatively, those having different retardations, the number of retardation plates, the direction of the stretching axis, and the like may be used. Further, the plurality of retardation plates 46 may be combined with the same type of retardation film, or may be combined with different types of retardation films. May be arranged differently.

【0079】このように本実施例の表示装置用基板52
は、複数の位相差板を備えるので、広視角、高解像度の
位相差板STN液晶表示装置、高コントラスト反射型の
位相差板STN液晶表示装置に使用することができる。
As described above, the display device substrate 52 of this embodiment is
Is provided with a plurality of phase difference plates, so that it can be used for a wide viewing angle, high resolution phase difference plate STN liquid crystal display device and a high contrast reflection type phase difference plate STN liquid crystal display device.

【0080】図12は、本発明の他の実施例である表示
装置用基板55の構成を示す断面図である。前記基板5
5は、図12に示すように、超薄板ガラス22と樹脂層
23、透明フィルム54、反射層53、透明樹脂層2
3、偏光板47、透明樹脂層23および超薄板ガラス2
2が、この順で積層され形成される。
FIG. 12 is a sectional view showing the structure of a display device substrate 55 according to another embodiment of the present invention. The substrate 5
5 is an ultra-thin glass 22 and a resin layer 23, a transparent film 54, a reflective layer 53, and a transparent resin layer 2 as shown in FIG.
3. Polarizing plate 47, transparent resin layer 23 and ultrathin glass 2
2 are laminated and formed in this order.

【0081】前記基板55は、以下に示す手順で作成さ
れる。厚さ5mmの無アルカリガラス板を支持体とし
て、前記支持体上に以下に述べるそれぞれ30cm×3
0cmの大きさの部材が積層される。まず、厚さ0.0
5mmの一方表面が研磨された無アルカリガラス板22
が前記研磨面を下にして積層され、さらに厚さ0.15
mmの変成ポリオレフィン系フィルム23が積層され
る。これにPESフィルム54およびAl蒸着膜から成
る反射層53が、この順に積層される。前記反射層53
は、予めPESフィルム54上に形成されており、前記
反射層53とPESフィルム54との総厚が約0.1m
mとなるように形成される。さらに前記反射層53上
に、厚さ0.15mmの変成ポリオレフィン系フィルム
23が積層される。これに保護層として両面に厚さ0.
1mmのPESフィルムが備えられる偏光板47が積層
される。前記偏光板47は、延伸PVAにヨウ素を吸着
させたものを用いる。さらに、厚さ0.15mmの変成
ポリオレフィン系フィルム23および厚さ0.05mm
の一方表面を研磨された無アルカリガラス板22が、前
記研磨面を上にしてこの順で積層される。 前述のよう
に支持体上に積層された基板55は、前述の図7に示し
た基板45と同様にして、予備接着、端面封止およびオ
ートクレーブによる加圧が行われる。
The substrate 55 is prepared according to the following procedure. Using a non-alkali glass plate having a thickness of 5 mm as a support, 30 cm × 3
A member having a size of 0 cm is stacked. First, the thickness 0.0
Alkali-free glass plate 22 whose one surface is polished 5 mm
Are stacked with the polished surface down, and a thickness of 0.15
mm modified polyolefin-based film 23 is laminated. On this, a PES film 54 and a reflective layer 53 made of an Al vapor-deposited film are laminated in this order. The reflection layer 53
Is formed on the PES film 54 in advance, and the total thickness of the reflection layer 53 and the PES film 54 is about 0.1 m.
m. Further, a modified polyolefin-based film 23 having a thickness of 0.15 mm is laminated on the reflection layer 53. It has a thickness of 0. 0 on both sides as a protective layer.
A polarizing plate 47 provided with a 1 mm PES film is laminated. As the polarizing plate 47, one obtained by adsorbing iodine on stretched PVA is used. Further, a modified polyolefin-based film 23 having a thickness of 0.15 mm and a thickness of 0.05 mm
An alkali-free glass plate 22 having one surface polished is laminated in this order with the polished surface facing upward. The substrate 55 laminated on the support as described above is subjected to preliminary bonding, sealing of the end face, and pressurization by an autoclave in the same manner as the substrate 45 shown in FIG. 7 described above.

【0082】このように本実施例の表示装置用基板55
は、蒸着Al反射層54を備えるので、STN系液晶表
示装置、SH系液晶表示装置、SSFLC、TFT液晶
表示装置などの反射型液晶表示装置に使用することがで
きる。
As described above, the display device substrate 55 of this embodiment is
Is provided with a vapor deposited Al reflective layer 54, so that it can be used for reflective liquid crystal display devices such as STN liquid crystal display devices, SH liquid crystal display devices, SSFLC, and TFT liquid crystal display devices.

【0083】図13は、本発明の他の実施例である表示
装置用基板57の構成を示す断面図である。図13に示
すように、前記基板57は、超薄板ガラス22、透明樹
脂層23、透明フィルム53、半透過反射層56、偏光
板47、透明樹脂層23および超薄板ガラス22がこの
順で積層される。
FIG. 13 is a sectional view showing the structure of a display device substrate 57 according to another embodiment of the present invention. As shown in FIG. 13, on the substrate 57, the ultra-thin glass 22, the transparent resin layer 23, the transparent film 53, the transflective layer 56, the polarizing plate 47, the transparent resin layer 23 and the ultra-thin glass 22 are laminated in this order. Is done.

【0084】前記基板55は、以下に示す順で作成され
る。厚さ5mmの無アルカリガラス板を支持体として、
前記支持体上に以下に述べるそれぞれ30cm×30c
mの大きさの部材が積層される。まず、厚さ0.05m
mの一方表面を研磨された無アルカリガラス板22が前
記研磨面を下にして積層される。さらに厚さ0.15m
mの変成ポリオレフィン系フィルム23が積層される。
この上に、ポリカーボネイトフィルム53と偏光板47
とが、厚さ0.1mmの真珠顔料とアクリル系接着剤と
が混合された半透過反射層56を介して予め接着したも
のが、ポリカーボネイトフィルム53を下にして積層さ
れる。また、前記偏光板47は、延伸PVA膜にヨウ素
を吸着させたもので、保護膜として両面に厚さ0.1m
mのポリカーボネイトフィルムが備えられる。さらに、
前記偏光板47上に、厚さ0.15mmの変成ポリオレ
フィン系フィルム23および厚さ0.05mmの一方表
面を研磨されたソーダライムガラス板22が前記研磨面
を上にして、この順で積層される。
The substrate 55 is prepared in the following order. Using a 5 mm-thick non-alkali glass plate as a support,
30 cm × 30 c each described below on the support
Members having a size of m are stacked. First, thickness 0.05m
An alkali-free glass plate 22 having one surface polished is laminated with the polished surface down. 0.15m thick
m modified polyolefin-based films 23 are laminated.
On top of this, a polycarbonate film 53 and a polarizing plate 47
Are adhered in advance through a transflective layer 56 in which a pearl pigment having a thickness of 0.1 mm and an acrylic adhesive are mixed, and are laminated with the polycarbonate film 53 facing down. The polarizing plate 47 is made by adsorbing iodine on a stretched PVA film, and has a thickness of 0.1 m on both sides as a protective film.
m polycarbonate film is provided. further,
On the polarizing plate 47, a modified polyolefin-based film 23 having a thickness of 0.15 mm and a soda lime glass plate 22 having a thickness of 0.05 mm and having one surface polished are laminated in this order with the polished surface facing up. You.

【0085】前述のようにして支持体上に積層された基
板は、図7に示す基板45と同様にして、予備接着、端
面封止およびオートクレーブによる加圧が行われる。
The substrate laminated on the support as described above is subjected to pre-adhesion, sealing of the end face and pressurization by an autoclave in the same manner as the substrate 45 shown in FIG.

【0086】本実施例において、前記半透過反射層56
および偏光板47は、半透過反射層の形成方法、半透過
反射層のベースフィルムの材質、偏光板の材質など、実
施例中で使用した以外の半透過反射層および偏光板が使
用されてもよい。
In this embodiment, the transflective layer 56
For the polarizing plate 47, even if a transflective layer and a polarizing plate other than those used in the examples are used, such as a method of forming a transflective layer, a material of a base film of the transflective layer, and a material of the polarizing plate. Good.

【0087】また本実施例の表示装置用基板57は、半
透過反射層56および偏光板47を備えるので、STN
系液晶表示装置、SH系液晶表示装置、SSFLC、T
FT液晶表示装置などの半透過反射型液晶表示装置に使
用することができる。
Since the display device substrate 57 of this embodiment includes the transflective layer 56 and the polarizing plate 47, the STN
Liquid crystal display, SH liquid crystal display, SSFLC, T
It can be used for a transflective liquid crystal display device such as an FT liquid crystal display device.

【0088】なお、本発明の基板21,30,45,4
8,51,52,55,57に使用される一対の超薄板
ガラス22の材質は、ホウケイ酸ガラス、ソーダライム
ガラス、無アルカリガラスおよびゾルゲルガラスなど、
本実施例で使用したもの以外のガラスを使用してもよ
く、また、本実施例で使用した組合わせ以外の組合わせ
で使用してもよい。
The substrates 21, 30, 45, 4 of the present invention
The material of the pair of ultra-thin glass plates 22 used for 8, 51, 52, 55, and 57 is borosilicate glass, soda lime glass, non-alkali glass, sol-gel glass, or the like.
Glasses other than those used in this embodiment may be used, and combinations other than those used in this embodiment may be used.

【0089】また、前記超薄板ガラス22は、リドロー
法、フュージョン法、マイクロシート法およびゾルゲル
法など、どのような製法で形成されていてもよく、超薄
板ガラス22の厚さは、0.0015mm以上、0.2
5mm未満が好ましい。
The ultra-thin glass 22 may be formed by any method such as a redraw method, a fusion method, a microsheet method, and a sol-gel method. The thickness of the ultra-thin glass 22 is 0.0015 mm. 0.2 or more
Less than 5 mm is preferred.

【0090】さらに前記一対の超薄板ガラス22は、表
面に研磨が施されていても、いなくてもよく、また前記
一対の超薄板ガラス22は、必ずしも同一の表面加工を
施されていなくてもよい。
Further, the pair of ultra-thin glass sheets 22 may or may not be polished on the surface, and the pair of ultra-thin glass sheets 22 are not necessarily subjected to the same surface processing. Is also good.

【0091】また、本発明の基板21,30,45,4
8,51,52,55,57に使用される透明接着性樹
脂層23は、ポリビニルブチラール系樹脂、変成ポリオ
レフィン系樹脂、ポリウレタン樹脂、UV硬化型アクリ
ル樹脂、アクリル系粘着剤、ウレタン系接着剤など、本
実施例で使用したもの以外の透明接着性樹脂を使用して
もよく、またこれらの硬化方法は、オートクレーブ法、
真空減圧法、紫外線照射など、本実施例で使用した以外
の方法で硬化されてもよい。
The substrates 21, 30, 45, 4 of the present invention
The transparent adhesive resin layer 23 used for 8, 51, 52, 55, 57 is made of polyvinyl butyral resin, modified polyolefin resin, polyurethane resin, UV curable acrylic resin, acrylic adhesive, urethane adhesive, or the like. A transparent adhesive resin other than that used in this example may be used, and the curing method thereof is an autoclave method,
The composition may be cured by a method other than the method used in this embodiment, such as a vacuum depressurization method or ultraviolet irradiation.

【0092】さらに本発明の基板21,30,45,4
8,51,52,55,57に使用される透明樹脂層2
9は、ポリアリレート系、ポリエーテルサルフォン(P
ES)系、ポリカーボネート系、ノルボルネン系、ポリ
スルフォン系などの非晶質プラスチック、ポリエステル
などの結晶質プラスチックなど、本実施例において使用
したもの以外の透明樹脂を使用してもよい。ただし、前
記透明樹脂層29は、耐熱性が高いほうが望ましい。ま
た前記透明樹脂層29は、0.1mm、0.2mm、
0.3mmなど、本実施例において使用した以外の厚さ
のものを使用してもよい。
Further, the substrates 21, 30, 45, 4 of the present invention
Transparent resin layer 2 used for 8, 51, 52, 55, 57
9 is a polyarylate, polyether sulfone (P
Transparent resins other than those used in this example, such as amorphous plastics such as ES), polycarbonate, norbornene, and polysulfone, and crystalline plastics such as polyester may be used. However, it is desirable that the transparent resin layer 29 has high heat resistance. The transparent resin layer 29 has a thickness of 0.1 mm, 0.2 mm,
Thicknesses other than those used in this embodiment, such as 0.3 mm, may be used.

【0093】また本発明の基板21,30,45,4
8,51,52,55,57に施される表面処理は、研
磨、凹凸の形成、反射防止膜の形成など、本実施例にお
いて施された以外の処理が施されてもよいし、基板2
1,30,45,48,51,52,55,57の片面
あるいは両面に施されてもよい。さらに基板の一方表面
と他方表面とで異なる表面処理が施されてもよい。ま
た、前記表面処理は、基板21,30,45,48,5
1,52,55,57の形成後に施されてもよいし、超
薄板ガラス22の状態で施されてもよい。
The substrates 21, 30, 45, 4 of the present invention
The surface treatment applied to 8, 51, 52, 55, 57 may be a treatment other than that applied in the present embodiment, such as polishing, formation of irregularities, formation of an antireflection film, or the like.
1, 30, 45, 48, 51, 52, 55, and 57 may be applied to one side or both sides. Further, different surface treatments may be applied to one surface and the other surface of the substrate. The surface treatment is performed on the substrates 21, 30, 45, 48, 5
It may be applied after the formation of 1, 52, 55, 57 or may be applied in the state of ultra-thin glass 22.

【0094】さらに本発明の基板21,30,45,4
8,51,52,55,57は、本実施例において示し
た液晶表示装置以外の反射型、半透過型、透過型などの
表示タイプ、STN系液晶表示装置、TN系液晶表示装
置、SH系液晶表示装置,TFT液晶表示装置、MFM
液晶表示装置、SSFLC、反強誘電性液晶表示装置、
高分子分散型液晶表示装置などの表示方式などが異なる
液晶表示装置に用いてもよい。また、前記基板21,3
0,45,48,51,52,55,57は、ITO膜
などの電極が形成されない光学補償板としての液晶セル
に用いてもよい。さらに、前記基板21,30は、液晶
表示装置以外に、薄膜EL装置などの表示装置およびタ
ッチパネルなどに用いてもよい。
Further, the substrates 21, 30, 45, 4 of the present invention
Reference numerals 8, 51, 52, 55, and 57 denote display types such as a reflective type, a transflective type, and a transmissive type other than the liquid crystal display device described in this embodiment, an STN type liquid crystal display device, a TN type liquid crystal display device, and an SH type. Liquid crystal display, TFT liquid crystal display, MFM
Liquid crystal display device, SSFLC, antiferroelectric liquid crystal display device,
The present invention may be applied to a liquid crystal display device having a different display method such as a polymer dispersed liquid crystal display device. In addition, the substrates 21, 3
0, 45, 48, 51, 52, 55, and 57 may be used in a liquid crystal cell as an optical compensator on which electrodes such as an ITO film are not formed. Further, the substrates 21 and 30 may be used for a display device such as a thin film EL device, a touch panel, and the like, in addition to the liquid crystal display device.

【0095】またさらに、本発明の基板45,48,5
1,52,55,57に備えられる光学部材は、本実施
例において使用されたもの以外に単数または複数の偏光
板、位相差板、反射板、半透過反射板、単数または複数
のUV吸収フィルタ、波長変換フィルタ、カラーフィル
タ、マイクロレンズなどを単独で、または組合わせて使
用してもよい。
Further, the substrates 45, 48, 5 of the present invention
Optical members provided in 1, 52, 55, and 57 include one or more polarizing plates, retardation plates, reflectors, transflectors, and one or more UV absorption filters other than those used in this embodiment. , A wavelength conversion filter, a color filter, a microlens, and the like may be used alone or in combination.

【0096】また、本発明の基板45,48,51,5
2,55,57に備えられる位相差板は、本実施例で使
用したもの以外に、ポリカーボネート系、ポリエステル
系、アクリル系、PVA系およびポリスチレン系など、
他の位相差フィルムを使用してもよく、また、1軸延伸
位相差板、捩れ位相差板などのいずれであってもよい。
また延伸軸の方向、位相差、厚さおよびこれと組合わさ
れる他の光学部材との配置など、本実施例において使用
した以外のものを使用してもよい。
The substrates 45, 48, 51, 5 of the present invention
The retardation plates provided in 2, 55, and 57 include, in addition to those used in this embodiment, polycarbonate, polyester, acrylic, PVA, polystyrene, and the like.
Other retardation films may be used, and any of a uniaxially stretched retardation plate and a twisted retardation plate may be used.
Further, other than those used in the present embodiment, such as the direction of the stretching axis, the phase difference, the thickness, and the arrangement with other optical members combined therewith, may be used.

【0097】また同様に、本発明の基板45,48,5
1,52,55,57に備えられる偏光板47は、本実
施例で使用したもの以外に、染料系、ヨウ素系などの偏
光板の種類、偏光板の色調、偏光軸の方向、偏光板フィ
ルムの材質などが異なる他の偏光板を使用してもよい。
また、PES系、ポリアリレート系、ポリカーボネート
系、エポキシブタジエン共重合体系、ノルボルネン系お
よびポリエステル系など、偏光板の保護層として備えら
れる透明フィルムの種類が異なる偏光板を使用してもよ
い。
Similarly, the substrates 45, 48, 5
The polarizing plates 47 provided in 1, 52, 55, and 57 include, in addition to those used in this embodiment, types of polarizing plates such as dye-based and iodine-based, color tone of the polarizing plate, direction of the polarizing axis, polarizing plate film. Other polarizing plates having different materials may be used.
Further, polarizing plates having different types of transparent films provided as a protective layer of the polarizing plate, such as PES-based, polyarylate-based, polycarbonate-based, epoxybutadiene-based copolymer, norbornene-based, and polyester-based, may be used.

【0098】またさらに本発明の基板45,48,5
1,52,55,57に備えられる反射板は、本実施例
で使用したもの以外に、反射板の種類、Al、Agなど
の反射膜の材質、ベースフィルムの材質およびそれらの
表面形状などが異なる反射板を使用してもよい。
Further, the substrates 45, 48, 5 of the present invention
The reflectors provided in 1, 52, 55, and 57 are different from those used in the present embodiment in that the type of the reflector, the material of the reflective film such as Al and Ag, the material of the base film, and the surface shape thereof are different. Different reflectors may be used.

【0099】以上、本発明の表示装置用基板は、前記実
施例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱し
ない範囲において種々の変更が可能である。
As described above, the display device substrate of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various changes can be made without departing from the spirit of the present invention.

【0100】[0100]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、表示装置
用基板は、少なくとも1層の接着性透光性樹脂層を含む
板状体層の両面に透光性を有する一対の超薄ガラス板が
積層されてなるものである。特に、ガラスは比重が大き
いので、前記超薄ガラス板の厚さを、0.25mm未満
にすることによって、従来のガラス基板より薄型軽量の
表示装置用基板を作成することができる。また、前記表
示装置用基板は、両面に超薄ガラス板を備えるので、プ
ラスチック基板に比較して基板表面が傷付きにくく、同
時に基板を介して空気が透過することを防止することが
できる。したがって、基板間に封入される液晶層中に気
泡が発生することを防止することができる。また、表示
装置用基板は、両面に超薄ガラス板を備えるので、耐熱
性および耐薬品性に優れる。このため、ガラス基板を使
用した表示装置用の製造プロセスで表示装置を製造する
ことができ、製造コストを低く抑えることができる。同
時に基板の熱膨張を低く抑えることができるので、熱処
理などの表示装置の製造プロセスにおいて、基板上に形
成されたITO膜などから成る電極にクラックを生じた
り、断線が生じることを防止することができる。
As described above, according to the present invention, a substrate for a display device comprises a pair of ultra-thin light-transmitting plates on both surfaces of a plate-like layer including at least one adhesive light-transmitting resin layer. Glass plates are laminated. In particular, since glass has a large specific gravity, by setting the thickness of the ultra-thin glass plate to be less than 0.25 mm, a display device substrate thinner and lighter than a conventional glass substrate can be produced. Further, since the display device substrate is provided with an ultra-thin glass plate on both surfaces, the substrate surface is less likely to be damaged than a plastic substrate, and at the same time, it is possible to prevent air from passing through the substrate. Therefore, generation of bubbles in the liquid crystal layer sealed between the substrates can be prevented. Further, since the display device substrate is provided with ultra-thin glass plates on both sides, it is excellent in heat resistance and chemical resistance. Therefore, the display device can be manufactured by a manufacturing process for a display device using a glass substrate, and the manufacturing cost can be reduced. At the same time, the thermal expansion of the substrate can be suppressed to a low level, so that it is possible to prevent cracks and disconnections from occurring in the electrodes made of the ITO film or the like formed on the substrate in a display device manufacturing process such as heat treatment. it can.

【0101】またさらに、基板両面に超薄ガラス板を備
えることによって、基板の強度を向上することができる
ので、基板間に封入される液晶セルのセル厚を均一に保
つことができる。したがって、液晶セルのセル厚が不均
一なために生じる色調むらなどの表示むらを防止するこ
とができ、表示装置の表示品位を向上することができ
る。また表示装置用基板は、表面がガラスであるので、
基板上に反射防止膜などを成膜する場合に、基板と膜と
の密着性に優れる。
Further, since the strength of the substrate can be improved by providing the ultra-thin glass plates on both surfaces of the substrate, the cell thickness of the liquid crystal cell sealed between the substrates can be kept uniform. Therefore, display unevenness such as uneven color tone caused by uneven cell thickness of the liquid crystal cell can be prevented, and display quality of the display device can be improved. Also, since the surface of the display device substrate is made of glass,
When an antireflection film or the like is formed on a substrate, the adhesion between the substrate and the film is excellent.

【0102】また本発明によれば、表示装置用基板の両
面に設けられる一対の超薄ガラス板のうち、少なくとも
一方の超薄ガラス板の外方表面には研磨が施されること
が好ましい。この構成によれば、一対の前記表示装置用
基板を前記研磨面が対向するように配置し、液晶を封入
することによって、液晶セルのセル厚を均一にすること
ができ、表示むらのない液晶表示装置を形成することが
できる。
[0102] According to the invention, a pair of ultra-thin glass plate provided on both surfaces of the substrate for a display device, the polishing is performed on the outer surface of at least one ultrathin glass plate
Is preferred. According to this configuration, by disposing the pair of display device substrates so that the polished surfaces face each other and sealing the liquid crystal, the cell thickness of the liquid crystal cell can be made uniform, and the liquid crystal without display unevenness can be obtained. A display device can be formed.

【0103】また、本発明によれば、表示装置用基板の
前記一対の超薄ガラス板のうち、少なくとも一方の超薄
ガラス板の基板外方表面となる面には、凹凸が施されて
いることが好ましい。この構成によれば、前記表示装置
用基板の凹凸面が、前記表示装置用基板が備えられる装
置、たとえば表示装置に積層されるタブレットなどの表
面に配置されることによって、前記表示装置の反射光に
よるちらつきを防止するとともに、ペン入力の書き味を
向上することができる。
Further, according to the present invention, at least one of the pair of ultra-thin glass plates of the display device substrate has an irregular surface on the surface which is the outer surface of the substrate. Is preferred. According to this configuration, since the uneven surface of the display device substrate is disposed on a surface of a device including the display device substrate, for example, a tablet laminated on the display device, the reflected light of the display device is provided. Can be prevented, and the writing quality of pen input can be improved.

【0104】また本発明によれば、表示装置用基板の一
対の超薄ガラス板のうち、少なくとも一方の超薄ガラス
板の基板外方表面となる面には、反射防止処理が施され
ていることが好ましい。この構成によれば、前記反射防
止処理面が、前記表示装置用基板が備えられる表示装置
の表示面側となるように配置されることによって、反射
光による表示面のちらつきを防止することができる。
Further, according to the present invention, of the pair of ultra-thin glass plates of the display device substrate, at least one of the ultra-thin glass plates which is to be the outer surface of the substrate is subjected to an anti-reflection treatment. Is preferred. According to this configuration, since the antireflection processing surface is arranged so as to be on the display surface side of the display device provided with the display device substrate, it is possible to prevent the display surface from flickering due to reflected light. .

【0105】また本発明によれば、表示装置用基板の板
状体層は、光学部材を含むことが好ましい。この構成に
よれば、前記光学部材によって前記表示装置用基板が備
えられる表示装置の表示品位を向上することができる。
Further, according to the present invention, it is preferable that the plate-like layer of the display device substrate includes an optical member . In this configuration
According to this, the display quality of the display device provided with the display device substrate can be improved by the optical member.

【0106】また本発明に従えば、表示装置用基板の前
記光学部材は、偏光板であることが好ましい。この構成
によれば、前記表示装置用基板は、偏光板を用いる液晶
表示装置などの表示装置に好適に使用することができ
る。
Further, according to the present invention, it is preferable that the optical member of the display device substrate is a polarizing plate . This configuration
According to this, the display device substrate can be suitably used for a display device such as a liquid crystal display device using a polarizing plate.

【0107】また本発明によれば、表示装置用基板の前
記光学部材は、位相差板であることが好ましい。この構
成によれば、前記表示装置用基板は、位相差板を用いる
液晶表示装置などの表示装置に好適に使用することがで
きる。
According to the invention, it is preferable that the optical member of the display device substrate is a retardation plate . This structure
According to this, the display device substrate can be suitably used for a display device such as a liquid crystal display device using a retardation plate.

【0108】また本発明によれば、表示装置用基板の前
記光学部材は、反射板であることが好ましい。この構成
によれば、前記表示装置用基板は、反射板を用いる表示
装置に好適に使用することができる。
Further, according to the present invention, it is preferable that the optical member of the display device substrate is a reflection plate . This configuration
According to this, the display device substrate can be suitably used for a display device using a reflection plate.

【0109】また本発明によれば、表示装置用基板の前
記光学部材は、半透過反射板であることが好ましい。こ
の構成によれば、前記表示装置用基板は、半透過反射板
を用いる表示装置に好適に使用することができる。
Further, according to the present invention, it is preferable that the optical member of the display device substrate is a transflective plate . This
According to the configuration, the display device substrate can be suitably used for a display device using a transflective reflector.

【0110】また本発明によれば、表示装置用基板の前
記光学部材は、複数の位相差板であることが好ましい。
この構成によれば、前記表示装置用基板は、複数の位相
差板を用いる表示装置に好適に使用することができる。
Further, according to the present invention, it is preferable that the optical member of the display device substrate is a plurality of retardation plates .
According to this configuration, the display device substrate can be suitably used for a display device using a plurality of retardation plates.

【0111】また本発明によれば、表示装置用基板の前
記光学部材は、捩れ位相差板であることが好ましい。こ
の構成によれば、前記表示装置用基板は、捩れ位相差板
を用いる表示装置に好適に使用することができる。
Further, according to the present invention, it is preferable that the optical member of the display device substrate is a twisted phase difference plate . This
According to the configuration, the display device substrate can be suitably used for a display device using a twisted phase difference plate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例である表示装置用基板21の
構成を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a configuration of a display device substrate 21 according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示す基板21を用いた白黒表示反射型位
相差板STN液晶セル28の構成を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a configuration of a black-and-white display reflective phase difference plate STN liquid crystal cell using the substrate 21 shown in FIG.

【図3】本発明の他の実施例である表示装置用基板30
の構成を示す断面図である。
FIG. 3 shows a display device substrate 30 according to another embodiment of the present invention.
It is sectional drawing which shows a structure of.

【図4】本発明の他の実施例である表示装置用基板30
aを示す断面図である。
FIG. 4 shows a display device substrate 30 according to another embodiment of the present invention.
It is sectional drawing which shows a.

【図5】図4に示す基板30aを用いた反射型カラー表
示ゲストホストTFT液晶セル40の構成を示す断面図
である。
5 is a cross-sectional view showing a configuration of a reflective color display guest host TFT liquid crystal cell 40 using the substrate 30a shown in FIG.

【図6】本発明の他の実施例である表示装置用基板30
bを示す断面図である。
FIG. 6 shows a display device substrate 30 according to another embodiment of the present invention.
It is sectional drawing which shows b.

【図7】本発明の他の実施例である表示装置用基板45
の構成を示す断面図である。
FIG. 7 shows a display device substrate 45 according to another embodiment of the present invention.
It is sectional drawing which shows a structure of.

【図8】本発明の他の実施例である表示装置用基板48
の構成を示す断面図である。
FIG. 8 shows a display device substrate 48 according to another embodiment of the present invention.
It is sectional drawing which shows a structure of.

【図9】本発明のさらに他の実施例である表示装置用基
板48aの構成を示す断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a configuration of a display device substrate 48a according to still another embodiment of the present invention.

【図10】本発明のさらに他の実施例である表示装置用
基板51の構成を示す断面図である。
FIG. 10 is a sectional view showing a configuration of a display device substrate 51 according to still another embodiment of the present invention.

【図11】本発明のさらに他の実施例である表示装置用
基板52の構成を示す断面図である。
FIG. 11 is a sectional view showing a configuration of a display device substrate 52 according to still another embodiment of the present invention.

【図12】本発明のさらに他の実施例である表示装置用
基板55の構成を示す断面図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view showing a configuration of a display device substrate 55 according to still another embodiment of the present invention.

【図13】本発明のさらに他の実施例である表示装置用
基板57の構成を示す断面図である。
FIG. 13 is a cross-sectional view showing a configuration of a display device substrate 57 according to still another embodiment of the present invention.

【図14】従来例である表示装置用基板5の構成を示す
断面図である。
FIG. 14 is a cross-sectional view showing a configuration of a display device substrate 5 which is a conventional example.

【図15】従来例である偏光板一体型基板16の構成を
示す断面図である。
FIG. 15 is a cross-sectional view showing a configuration of a polarizing plate integrated substrate 16 which is a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

21,30,30a,30b,45,48,48a,5
1,52,55,57表示装置用基板 22 超薄板ガラス 23 透明接着性樹脂層 29 透明樹脂層 44,47 偏光板 46 位相差板 50 捩れ位相差板 53 反射層 56 半透過反射層
21, 30, 30a, 30b, 45, 48, 48a, 5
1, 52, 55, 57 Display Device Substrate 22 Ultra-Thin Glass 23 Transparent Adhesive Resin Layer 29 Transparent Resin Layer 44, 47 Polarizing Plate 46 Retardation Plate 50 Twisted Retardation Plate 53 Reflective Layer 56 Transflective Reflective Layer

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 少なくとも1層の接着性透光性樹脂層を
含む板状体層の両面に、透光性を有する厚さが0.00
15mm以上0.25mm未満である一対の超薄ガラス
板が積層されてなり、前記板状体層は前記超薄ガラス板
の1枚の厚さ以上の厚さを有することを特徴とする表示
装置用基板。
1. A light-transmitting layer having a thickness of 0.00 on both surfaces of a plate-like body layer including at least one adhesive light-transmitting resin layer.
Ri Na pair of ultra-thin glass plate is less than 0.25mm or 15mm are stacked, the plate-like body layer the ultra-thin glass sheet
A display device substrate having a thickness of at least one sheet .
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