JP3055362B2 - Semiconductor device - Google Patents
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- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置に関し、より
詳しくはその実装構造に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly, to a mounting structure thereof.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体素子をパッケージする方法には多
くの方法がある。現在最も良く用いられている方法を図
3に示す。この方式では、リードフレーム30の中心部
にダイパッド31が設けられ、この部分に半導体素子3
2が搭載される。半導体素子32の周辺近くに形成され
た電極33は、リードフレーム30の対応するリードに
ワイヤー34によって接続されている。そして全体を樹
脂35によってモールドされる。2. Description of the Related Art There are many methods for packaging semiconductor devices. FIG. 3 shows the most frequently used method at present. In this method, a die pad 31 is provided at a central portion of a lead frame 30, and a semiconductor element 3 is provided at this portion.
2 is mounted. An electrode 33 formed near the periphery of the semiconductor element 32 is connected to a corresponding lead of the lead frame 30 by a wire 34. Then, the whole is molded with the resin 35.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の方
式では、特にメモリーチップにおいて以下に示すような
問題が生じてきている。However, in the above-mentioned method, the following problems have arisen especially in a memory chip.
【0004】最近ではメモリチップを用いる電子機器が
多くなり、ますますその大容量化が必要とされてきてい
る。これらの要求に答えるため半導体素子の微細加工技
術はますます向上し、その記憶容量は著しく増大してい
く傾向にある。またこれにともないしチップ寸法は大型
化の傾向にある。In recent years, electronic devices using memory chips have increased, and their capacity has been increasingly required. In order to meet these demands, the fine processing technology for semiconductor devices has been further improved, and the storage capacity thereof has been significantly increased. Along with this, the chip size tends to be larger.
【0005】メモリチップのパッケージは、種類・寸法
および外部端子の配置・位置が半導体メーカー全社で統
一規格化されているが、電子機器の軽薄短小という要求
よりその規格では、できるだけ小さいパッケージにメモ
リーチップをパッケージングしていく傾向にある。これ
により以下に示すような問題がある。[0005] The type and size of the memory chip package and the arrangement and position of the external terminals are standardized by all semiconductor manufacturers. Tend to be packaged. This causes the following problems.
【0006】(a)大きなチップをできるだけ小さいパ
ッケージに入れるために、パッケージ内におけるチップ
占有率が高くなるとともに、モールド樹脂厚は薄くなっ
ていくために、パッケージクラックやその他信頼性の低
下などを引き起こす原因となっている。(A) In order to put a large chip in a package as small as possible, the chip occupancy in the package increases, and the thickness of the mold resin decreases, which causes package cracks and other reductions in reliability. Cause.
【0007】(b)チップに形成された電極は、対応す
るリードフレームにワイヤーによって接続されるため、
電極はチップ周辺に配置するという制約があった。この
ため電極をチップ中央部に形成したチップはこの方式で
はパッケージングできなかった。(B) Since the electrodes formed on the chip are connected to the corresponding lead frames by wires,
There is a restriction that the electrodes are arranged around the chip. For this reason, a chip having electrodes formed in the center of the chip could not be packaged by this method.
【0008】(c)この方式ではチップ周辺に形成され
た電極をワイヤーによってリードフレームに接続するた
め、ワイヤーを張るための領域及び信頼性を確保するた
めにモールド樹脂を形成する領域をチップ周辺に確保す
る必要がある。よってこのパッケージではチップよりチ
ップ周辺から一定距離だけどうしても大きくなってしま
う。このためパッケージの小型化には極めて不利な要因
となっている。(C) In this method, since the electrodes formed around the chip are connected to the lead frame by wires, a region for extending the wire and a region for forming the mold resin to ensure reliability are formed around the chip. Need to secure. Therefore, in this package, it becomes larger than the chip by a certain distance from the periphery of the chip. This is an extremely disadvantageous factor in reducing the size of the package.
【0009】(d)メモリーチップの集積化が進むと、
外部から進入してくるα線および実装材料から放出され
るα線の影響でチップがソフトエラーを起こす。これを
防ぐために、現在では最終プロセスまで終了したメモリ
ーチップ表面にポリイミド膜を形成して、このα線の進
入を防いでいる。しかしこの方法はポリイミド膜を形成
するプロセスおよび材料費が余分にかかることからコス
トアップの原因となっている。(D) As the integration of memory chips progresses,
The chip causes a soft error due to the influence of α rays entering from outside and α rays emitted from the mounting material. To prevent this, at present, a polyimide film is formed on the surface of the memory chip that has been completed up to the final process to prevent the penetration of α rays. However, this method causes an increase in cost because the process and material cost for forming the polyimide film are extra.
【0010】(e)メモリーチップの設計では電気特
性、特にアクセスタイムの向上のため、チップ内に数カ
所任意に電源およびグランド端子を設けることが必要と
なってきている。しかし、従来方式ではリードフレーム
における電源およびグランド端子は固定されているとと
もに、チップの電極とリードフレームとは一対一に対応
させて接続しているため上記のような電極仕様のものに
は対応できない。(E) In the design of a memory chip, it is necessary to provide a power supply and a ground terminal at several places in the chip in order to improve the electric characteristics, particularly the access time. However, in the conventional method, the power supply and the ground terminal in the lead frame are fixed, and the electrode of the chip and the lead frame are connected in one-to-one correspondence, so that the above-described electrode specification cannot be supported. .
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明は、半導体素子の一主面に形成された電極と
フィルムキャリアのインナーリードとが金属突起を介し
て接続されている実装体において、前記電極の少なくと
も一部は前記半導体素子の内部に設けられており、前記
フィルムキャリアのポリイミド面が前記半導体素子の1
主面と相対する状態で設置されており、前記インナーリ
ードの少なくとも一部は前記ポリイミド上に延在して、
前記電極と接続されており、特定の2つ以上の前記金属
突起同志が前記金属突起より前記半導体素子の一主面と
同一面上に延在した導体部分によって共通化されたこと
を特徴とした半導体装置を提供する。SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a mounting method in which an electrode formed on one main surface of a semiconductor element and an inner lead of a film carrier are connected via a metal projection. In the body, at least a part of the electrode is provided inside the semiconductor element, and the polyimide surface of the film carrier is one side of the semiconductor element.
It is installed in a state facing the main surface, at least a part of the inner lead extends on the polyimide,
The semiconductor device is characterized in that two or more specific metal protrusions are connected to the electrode, and the two or more specific metal protrusions are shared by a conductor portion extending on the same plane as one main surface of the semiconductor element from the metal protrusions. A semiconductor device is provided.
【0012】[0012]
【作用】本発明は上記に示した構造、製造方法を用いる
ことにより、フィルムキャリアのポリイミドテープとチ
ップの主面とを相対するように設置し、ポリイミド上を
チップ中央部に向かって延在しているインナリードとチ
ップ電極とを金属突起を介して接続し、必要な場合は全
体をモールド樹脂によって封止する。チップ中央部に設
けられた電極からは延在させたインナリードで自由に接
続が可能となり、チップ上部に配置するフィルムキャリ
アは薄いため小型で、薄型のパッケージを実現する。ま
た、フィルムキャリアのポリイミド膜はα線防止膜の役
目を行い、電極内で共通化する端子は接続に用いられる
金属突起から延在した導体部によって任意でかつ自由に
行うことができる。According to the present invention, the polyimide tape of the film carrier and the main surface of the chip are installed so as to face each other by using the structure and the manufacturing method described above, and the polyimide tape extends toward the center of the chip. The inner lead and the chip electrode are connected via metal projections, and the whole is sealed with a mold resin if necessary. Free connection is possible with the inner lead extended from the electrode provided in the center of the chip, and a small and thin package is realized because the film carrier arranged on the chip is thin. In addition, the polyimide film of the film carrier functions as an α-ray prevention film, and the terminal shared in the electrode can be arbitrarily and freely formed by a conductor extending from a metal projection used for connection.
【0013】[0013]
【実施例】本発明の一実施例を図1とともに説明する。An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
【0014】図1は本発明の実施例におけるパッケージ
の断面構造を示すものである。図1において、1は半導
体素子、2はフィルキャリアのポリイミド、3はフィル
ムキャリアのインナリード、4は半導体素子1の電極
(電極パッド)、5は金属突起、6は金属突起5を任意
に共通化する導体部、7はモールド樹脂を示す。FIG. 1 shows a sectional structure of a package according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, 1 is a semiconductor element, 2 is a polyimide of a fill carrier, 3 is an inner lead of a film carrier, 4 is an electrode (electrode pad) of the semiconductor element 1, 5 is a metal projection, and 6 is a metal projection 5 arbitrarily. The conductor portion to be converted, 7 indicates a mold resin.
【0015】フィルムキャリア2は一般に用いられてい
るものならどんなものでも用いることができる。ただし
用いるポリイミトに含まれる放射性物質(ウラン、トリ
ウム)には十分注意をする必要があり、上記放射性物質
の材料への含有率は1ppb以下であることが重要であ
る。3のインナリードは銅箔表面に錫または金がめっき
されているものを用いるが、この材料に於いても上記と
同様放射性物質の含有量には注意する必要があり、規定
値としてはフィルムキャリア2と同様である。金属突起
5、および金属突起5を任意に共通化する導体部6はめ
っきで形成した金を用いている。As the film carrier 2, any one generally used can be used. However, it is necessary to pay close attention to radioactive substances (uranium and thorium) contained in the polyimito used, and it is important that the content of the radioactive substance in the material is 1 ppb or less. The inner lead 3 is made of copper foil with tin or gold plated on the surface. In this material, it is necessary to pay attention to the content of radioactive substances as described above. Same as 2. The metal protrusion 5 and the conductor 6 that arbitrarily shares the metal protrusion 5 use gold formed by plating.
【0016】図2は本発明の実施例におけるパッケージ
の製造工程を示す。まず、同図(a)に示すように、ガ
ラスやセラミックなどの絶縁性基板20上に導電膜21
を全面に形成し、この上に半導体素子1の電極4に対応
した位置に開口部22および特定の開口部同士を共通化
するライン状の開口部23を形成しためっき用マスク2
4を形成する。導電膜21にはPtやITO(インジウ
ムティンオキサイド)を、めっき用マスク24には感光
性フォトレジストを用い、厚さは10〜20μmとし
た。また開口部22の大きさは50〜80μm角もしく
は丸とし、ライン状の開口部23は幅30〜60μmと
開口部22より小さい目に設定してある。FIG. 2 shows a manufacturing process of the package according to the embodiment of the present invention. First, as shown in FIG. 1A, a conductive film 21 is formed on an insulating substrate 20 such as glass or ceramic.
Is formed on the entire surface, and an opening 22 and a line-shaped opening 23 for sharing a specific opening are formed on the plating mask 2 at a position corresponding to the electrode 4 of the semiconductor element 1.
4 is formed. Pt or ITO (indium tin oxide) was used for the conductive film 21, and a photosensitive photoresist was used for the plating mask 24, and the thickness was 10 to 20 μm. The size of the opening 22 is 50 to 80 μm square or round, and the width of the linear opening 23 is set to 30 to 60 μm, which is smaller than that of the opening 22.
【0017】次に同図(b)に示すように、導電膜21
を電極として電解めっき法によって、開口部22とライ
ン状の開口部23に金めっきを行い、金属突起25と金
属バー26とを形成する。めっき終了後フォトレジスト
であるめっき用マスク24を除去する。めっき厚は10
〜20μmとした。Next, as shown in FIG.
The opening 22 and the linear opening 23 are plated with gold by using an electrode as an electrode by electroplating to form a metal projection 25 and a metal bar 26. After plating, the plating mask 24, which is a photoresist, is removed. Plating thickness is 10
2020 μm.
【0018】次に同図(c)に示すように、フィルムキ
ャリアのインナリード27と金属突起25とを位置合わ
せし、加熱されたツールによって加圧する。このときイ
ンナリード27の表面はSnもしくはAuめっきが施さ
れたものを用い、加熱及び加圧により金属突起25とイ
ンナリード27の間でAuーSn共晶またはAu−Au
の熱圧着によって、金属突起25がインナリード27側
に転写、接合される。Next, as shown in FIG. 1C, the inner leads 27 of the film carrier are aligned with the metal projections 25, and pressure is applied by a heated tool. At this time, the surface of the inner lead 27 is plated with Sn or Au, and Au—Sn eutectic or Au—Au is formed between the metal protrusion 25 and the inner lead 27 by heating and pressing.
Is transferred and bonded to the inner lead 27 side.
【0019】このとき、同図(d)に示すように、同時
に金属バー26もインナリード27側に転写される。こ
のときインナリード27は転写時にフォーミングされ、
インナリード27の先端がフィルムキャリアより下方に
位置しているので共通バー26は他リードには接触しな
いようになっている。At this time, as shown in FIG. 1D, the metal bar 26 is simultaneously transferred to the inner lead 27 side. At this time, the inner lead 27 is formed at the time of transfer,
Since the tip of the inner lead 27 is located below the film carrier, the common bar 26 does not contact other leads.
【0020】この後、(e)に示すように半導体素子1
の電極4と、インナリード27に転写、接合した金属突
起25とを位置合わせし、ツールによって加熱及び加圧
を行い、両者を接合する。この時の接合はAu−Al合
金によってなされる。Thereafter, as shown in FIG.
The electrode 4 and the metal protrusion 25 transferred and joined to the inner lead 27 are aligned, and heated and pressed by a tool to join them. The bonding at this time is made of an Au-Al alloy.
【0021】この後、半導体素子1の表面部分及びイン
ナリード27に樹脂30をコーティングし、フィルムキ
ャリアのアウタリード29の部分からパンチングによっ
て打ち抜く。打ち抜いたアウタリード29は半導体素子
1のエッジ近傍でフォーミングする。((f)に示す)
(f)に示す樹脂30のコーティングの替わりに樹脂モ
ールドを行って、図1に示す構造とすることもできる。Thereafter, a resin 30 is coated on the surface of the semiconductor element 1 and the inner leads 27, and punched out from the outer leads 29 of the film carrier by punching. The punched outer lead 29 forms near the edge of the semiconductor element 1. (Shown in (f))
The structure shown in FIG. 1 can be obtained by performing resin molding instead of coating the resin 30 shown in FIG.
【0022】[0022]
【発明の効果】本発明により以下に示すような効果があ
る。The present invention has the following effects.
【0023】(a)フィルムキャリアを用いた実装であ
るためダイパットを設ける必要がなく、小型、薄型のパ
ッケージングが可能となるとともにパッケージクラック
等の問題もなく、高信頼性パッケージを実現できる。(A) Since mounting is performed using a film carrier, there is no need to provide a die pad, so that a small and thin package can be realized, and a highly reliable package can be realized without problems such as package cracks.
【0024】(b)フィルムキャリアのインナーリード
がポリイミドを介してチップ表面に配置されるため、チ
ップの電極は従来のように必ずしもチップ周辺に配置さ
れていなくてもよい。よってチップ設計時に任意に電極
を配置することができるため信号、電源ライン長を短く
することができ、配線容量や配線抵抗の低減により配線
遅延とノイズが低減され、アクセスタイムの高速化等の
電気特性の向上が図ることが可能となる。(B) Since the inner leads of the film carrier are arranged on the chip surface via the polyimide, the electrodes of the chip do not necessarily have to be arranged around the chip as in the prior art. Thus, the electrodes can be arbitrarily arranged at the time of chip design, so that signal and power supply line lengths can be shortened, and wiring delay and noise are reduced due to reduction in wiring capacitance and wiring resistance. The characteristics can be improved.
【0025】(c)本発明はチップ表面にフィルムキャ
リアを配置し、チップの電極とインナリードとを金属突
起を介して接合する構造であるから、従来のワイヤーボ
ンディングによる方法のような、ワイヤーを張るための
領域、あるいはモールド樹脂を形成する領域を必要とせ
ず、パッケージサイズをチップサイズとほぼ同等にする
事ができる。(C) The present invention has a structure in which a film carrier is arranged on the chip surface and the electrodes of the chip and the inner leads are joined via metal projections. A package size can be made substantially equal to a chip size without requiring a region for stretching or a region for forming a mold resin.
【0026】(d)一般にメモリーチップのα線対策と
してはチップ表面にポリイミドをコーティングするか貼
りつける。(D) In general, as a countermeasure against α-rays of a memory chip, polyimide is coated or attached on the chip surface.
【0027】本発明では、フィリムキャリアのポリイミ
ドをそのままα線対策用のポリイミドとして用いること
が出来るため、チップ表面には従来のようにα線対策の
ためにポリイミドをコーティングや貼り付けたりする必
要がなくなるため、低コストのパッケージを実現するこ
とが出来る。In the present invention, since the polyimide of the film carrier can be used as it is as a polyimide for countermeasures against α-rays, it is necessary to coat or attach polyimide on the chip surface for countermeasures against α-rays as in the prior art. Therefore, a low-cost package can be realized.
【0028】(e)メモリーチップの設計では電気特
性、特にアクセスタイムの向上のためチップ内に数カ所
任意に電源およびグランド電極を設けることが必要とな
ってきている。このようなチップに対しても金属突起を
形成する際に自由に共通化する金属バーを同時に形成す
るため、容易に対応可能となる。(E) In designing a memory chip, it is necessary to provide a power supply and a ground electrode at several places in the chip in order to improve the electric characteristics, particularly the access time. Such a chip can be easily coped with because a metal bar which is freely shared when forming the metal projections is formed at the same time.
【図1】本発明の半導体装置の一実施例の構成を示す分
解斜視図FIG. 1 is an exploded perspective view showing a configuration of an embodiment of a semiconductor device of the present invention.
【図2】同実施例装置の製造方法を示す工程図FIG. 2 is a process chart showing a method for manufacturing the apparatus of the embodiment.
【図3】従来の半導体装置の分解斜視図FIG. 3 is an exploded perspective view of a conventional semiconductor device.
1 半導体素子 2 フィルムキャリア 3 インナーリード 4 電極 5 金属突起 6 金属バー 7 モールド樹脂 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor element 2 Film carrier 3 Inner lead 4 Electrode 5 Metal protrusion 6 Metal bar 7 Mold resin
Claims (3)
た基板上の金属突起をフィルムキャリアのインナリード
に転写接合し、次いで前記金属突起と半導体素子の電極
とを接合する実装体において、前記基板上の少なくとも
2つ以上の金属突起同士が前記金属突起と同一材料の導
体で連結していることを特徴とした半導体装置。1. A mounting body for transferring and joining a metal projection on a substrate formed at a position corresponding to an electrode of a semiconductor element to an inner lead of a film carrier, and then joining the metal projection to an electrode of the semiconductor element. A semiconductor device, wherein at least two or more metal protrusions on a substrate are connected to each other by a conductor made of the same material as the metal protrusions.
低いことを特徴とした請求項1記載の半導体装置。2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the height of the conductor is lower than at least the metal protrusion.
法よりも小さいことを特徴とした請求項1または2記載
の半導体装置。3. The semiconductor device according to claim 1, wherein a width of the conductor is smaller than at least an outer dimension of the metal protrusion.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14049393A JP3055362B2 (en) | 1993-06-11 | 1993-06-11 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14049393A JP3055362B2 (en) | 1993-06-11 | 1993-06-11 | Semiconductor device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06349889A JPH06349889A (en) | 1994-12-22 |
JP3055362B2 true JP3055362B2 (en) | 2000-06-26 |
Family
ID=15269911
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3055362B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2803642B2 (en) * | 1996-06-27 | 1998-09-24 | 日本電気株式会社 | Semiconductor device |
-
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- 1993-06-11 JP JP14049393A patent/JP3055362B2/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06349889A (en) | 1994-12-22 |
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