JP2930708B2 - イソチオシアナト官能化金属錯体の製造方法 - Google Patents
イソチオシアナト官能化金属錯体の製造方法Info
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- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、イソチオシアナト官能化金属錯体の新規製
造方法に関する。形成された錯体は種々の治療及び/又
は診断剤として有効な二官能化合物である。
造方法に関する。形成された錯体は種々の治療及び/又
は診断剤として有効な二官能化合物である。
官能化キレート化剤、又は二官能配位剤は癌もしくは
腫瘍細胞エピトープもしくは抗原に対する特異性を有す
る抗体に共有結合できることが公知である。そのような
抗体/キレート化剤共役体の放射性核種錯体は、癌もし
くは腫瘍細胞へ放射性核種を輸送することによる診断及
び/又は治療に有効である。例えば、MearesらのAnal.B
iochem.142,68〜78(1984);及びKrejcarekらのBioche
m.and Biophys.Res.Comm.77,581〜585,(1977)参照。
腫瘍細胞エピトープもしくは抗原に対する特異性を有す
る抗体に共有結合できることが公知である。そのような
抗体/キレート化剤共役体の放射性核種錯体は、癌もし
くは腫瘍細胞へ放射性核種を輸送することによる診断及
び/又は治療に有効である。例えば、MearesらのAnal.B
iochem.142,68〜78(1984);及びKrejcarekらのBioche
m.and Biophys.Res.Comm.77,581〜585,(1977)参照。
本発明は、イソチオシアナト官能化金属錯体の製造方
法に関する。この錯体において、放射性核種を用いてよ
く、好ましい。
法に関する。この錯体において、放射性核種を用いてよ
く、好ましい。
イソチオシアナト官能化配位子は文献に報告されてお
り、放射活性同位体を抗体に結合するため用いられる。
例えば、GansowらのInorg.Chem.25,2772〜81(1986);M
earesらのAnalytical Biochem.142,68〜78(1984);米
国特許第4,454,106号参照。
り、放射活性同位体を抗体に結合するため用いられる。
例えば、GansowらのInorg.Chem.25,2772〜81(1986);M
earesらのAnalytical Biochem.142,68〜78(1984);米
国特許第4,454,106号参照。
そのような錯体を製造するための教示されている方法
は、放射性核種により抗体/キレート化剤共役体を処理
し錯体を形成し、続いてこの錯体を精製することを含
む。そのような方法の主要な欠点は、放射性核種(ラン
タニドもしくは遷移金属)が抗体/キレート化剤共役体
によりすぐに金属イオン封鎖されるため動的に不安定で
なければならないことである。
は、放射性核種により抗体/キレート化剤共役体を処理
し錯体を形成し、続いてこの錯体を精製することを含
む。そのような方法の主要な欠点は、放射性核種(ラン
タニドもしくは遷移金属)が抗体/キレート化剤共役体
によりすぐに金属イオン封鎖されるため動的に不安定で
なければならないことである。
抗体標識付け用の不安定な放射性核種の使用に関する
他の欠点は、不安定な少量の金属(放射活性ではない)
がしばしばキレートに混入されることである。そのよう
な非活性少量金属に対する競争は、標的部位に送られる
放射性核種の量が低下するので抗体/キレート錯体の生
物効果が低下する。
他の欠点は、不安定な少量の金属(放射活性ではない)
がしばしばキレートに混入されることである。そのよう
な非活性少量金属に対する競争は、標的部位に送られる
放射性核種の量が低下するので抗体/キレート錯体の生
物効果が低下する。
Mikolerらの欧州公開出願139,675は、その後生物有機
分子、例えばハプテン、抗原及び抗体に結合され得るイ
ソチオシアネート官能化キレートの製造を教示してい
る。この錯体はイソチオシアネート官能化配位子をキレ
ート化することにより製造される。
分子、例えばハプテン、抗原及び抗体に結合され得るイ
ソチオシアネート官能化キレートの製造を教示してい
る。この錯体はイソチオシアネート官能化配位子をキレ
ート化することにより製造される。
対照的に、本発明は、極性溶媒の混合物中において、
ロジウムと結合した、1級アミン及び2級アミンのみを
含むアミノ官能化ポリアザキレートをチオホスゲンと反
応させることを含む、イソチオシアネート化合物の新規
製造方法に関する。本発明の方法は、金属を配位子上に
キレート化した後配位子上にイソシアナト官能基を製造
することに関する。錯体形成後の配位子上のイソチオシ
アナト成分の形成は以下の理由のため重要である。
(1)錯体が錯体形成に加熱もしくは極端なpHを必要と
する場合、本発明の方法はキレート化の間イソチオシア
ネート官能基の分解を避ける;(2)配位子中に他の一
級もしくは二級アミンが存在する場合、キレート化前の
イソチオシアネート官能化配位子の形成は副反応のため
実行できない;(3)反応の可能な限りはやい段階での
錯体を形成することにより、望ましくない金属の錯形成
が低下し、従って最終生成物の純度が高められる;及び
(4)イソチオシアネートの混入の前に錯体を形成する
ことにより、例えばイオン交換クロマトグラフィーによ
る錯体の精製は簡易化され、精製のイソチオシアネート
の加水分解の複雑さが低下する。
ロジウムと結合した、1級アミン及び2級アミンのみを
含むアミノ官能化ポリアザキレートをチオホスゲンと反
応させることを含む、イソチオシアネート化合物の新規
製造方法に関する。本発明の方法は、金属を配位子上に
キレート化した後配位子上にイソシアナト官能基を製造
することに関する。錯体形成後の配位子上のイソチオシ
アナト成分の形成は以下の理由のため重要である。
(1)錯体が錯体形成に加熱もしくは極端なpHを必要と
する場合、本発明の方法はキレート化の間イソチオシア
ネート官能基の分解を避ける;(2)配位子中に他の一
級もしくは二級アミンが存在する場合、キレート化前の
イソチオシアネート官能化配位子の形成は副反応のため
実行できない;(3)反応の可能な限りはやい段階での
錯体を形成することにより、望ましくない金属の錯形成
が低下し、従って最終生成物の純度が高められる;及び
(4)イソチオシアネートの混入の前に錯体を形成する
ことにより、例えばイオン交換クロマトグラフィーによ
る錯体の精製は簡易化され、精製のイソチオシアネート
の加水分解の複雑さが低下する。
驚くべきことに、本発明の方法は、アミノ官能化キレ
ートのチオホスゲン化によるイソチオシアネートの製造
方法を提供し、この方法は高収率で速く、金属汚染が低
い生成物を与える。キレート化の前に配位子における本
発明の方法による必要な反応の数が少ないため、望まし
くない金属汚染の量は低い。
ートのチオホスゲン化によるイソチオシアネートの製造
方法を提供し、この方法は高収率で速く、金属汚染が低
い生成物を与える。キレート化の前に配位子における本
発明の方法による必要な反応の数が少ないため、望まし
くない金属汚染の量は低い。
多くのタイプのアミノ官能化キレートを用いてよい
が、アミノカルボン酸キレート化剤、アミノホスホン酸
キレート化剤又はポリアザキレート化剤である配位子よ
り形成されたキレート化剤が特に好ましい。
が、アミノカルボン酸キレート化剤、アミノホスホン酸
キレート化剤又はポリアザキレート化剤である配位子よ
り形成されたキレート化剤が特に好ましい。
本発明の方法に有効な配位子の1種は、アミノカルボ
ン酸キレート化剤である。アミノカルボン酸キレート化
剤の例を以下の表Iに示し、これを以下のように名付け
る。
ン酸キレート化剤である。アミノカルボン酸キレート化
剤の例を以下の表Iに示し、これを以下のように名付け
る。
I Aはp−アミノベンジルエチレンジアミン四酢酸で
あり、この製造は米国特許第4,622,420号及びJ.Med.Che
m.17(4),1304(1974)に示されている。
あり、この製造は米国特許第4,622,420号及びJ.Med.Che
m.17(4),1304(1974)に示されている。
I Bはp−アミノベンジルヒドロキシエチルエチレン
ジアミン四酢酸であり、この製造は米国特許第4,622,42
0号に示されている。
ジアミン四酢酸であり、この製造は米国特許第4,622,42
0号に示されている。
I Cはp−アミノベンジルジエチレントリアミン五酢
酸であり、この製造は米国特許第4,622,420号及び4,64
7,447号に示されている。
酸であり、この製造は米国特許第4,622,420号及び4,64
7,447号に示されている。
I DはN′−p−アミノベンジルジエチレントリアミ
ン−N,N,N″,N″−四酢酸であり、この製造はJ.Radioan
alytical Chem.57(12),553(1980)に示されている。
ン−N,N,N″,N″−四酢酸であり、この製造はJ.Radioan
alytical Chem.57(12),553(1980)に示されている。
I Eは6−(p−アミノベンジル)−1,4,8,11−テト
ラアザシクロテトラデカン−1,4,8,11−四酢酸であり、
この製造はAnalytical Biochem.148,249〜253(1985)
に示されている。
ラアザシクロテトラデカン−1,4,8,11−四酢酸であり、
この製造はAnalytical Biochem.148,249〜253(1985)
に示されている。
I Fは1−〔2−(4−アミノフェニル)エチル〕−
1,4,7,10−テトラアザシクロドデカン−4,7,10−三酢酸
であり、この製造はサウジアラビア特許3277A(1989年1
0月10日)に示されている。
1,4,7,10−テトラアザシクロドデカン−4,7,10−三酢酸
であり、この製造はサウジアラビア特許3277A(1989年1
0月10日)に示されている。
I Gはα−〔2−(4−アミノフェニル)エチル〕−
1,4,7,10−テトラアザシクロドデカン−1,4,7,10−四酢
酸であり、この製造はサウジアラビア特許3277Aに示さ
れている。
1,4,7,10−テトラアザシクロドデカン−1,4,7,10−四酢
酸であり、この製造はサウジアラビア特許3277Aに示さ
れている。
I Hは1−(5−アミノ−2−メトキシベンジル)−
1,4,7,10−テトラアザシクロドデカン−4,7,10−三酢酸
であり、この製造はサウジアラビア特許3277Aに示され
ている。
1,4,7,10−テトラアザシクロドデカン−4,7,10−三酢酸
であり、この製造はサウジアラビア特許3277Aに示され
ている。
I Iは1−(5−アミノ−2−ヒドロキシベンジル)
−1,4,7,10−テトラアザシクロドデカン−4,7,10−三酢
酸であり、この製造はサウジアラビア特許3277Aに示さ
れている。
−1,4,7,10−テトラアザシクロドデカン−4,7,10−三酢
酸であり、この製造はサウジアラビア特許3277Aに示さ
れている。
I Jは2−〔(2−{〔ビス(カルボキシメチル)〕
アミノ}エチル)−(カルボキシメチル)アミノ〕−2
−〔5−アミノ−2−(カルボキシメチルオキシ)−フ
ェニル〕エタン酸であり、この製造は以下に示されてい
る。
アミノ}エチル)−(カルボキシメチル)アミノ〕−2
−〔5−アミノ−2−(カルボキシメチルオキシ)−フ
ェニル〕エタン酸であり、この製造は以下に示されてい
る。
I Kは2−〔(2−{〔ビス(カルボキシメチル)〕
アミノ}エチル)−(カルボキシメチル)アミノ〕−2
−(5−アミノ−2−ヒドロキシフェニル)エタン酸で
あり、この製造は以下に示されている。
アミノ}エチル)−(カルボキシメチル)アミノ〕−2
−(5−アミノ−2−ヒドロキシフェニル)エタン酸で
あり、この製造は以下に示されている。
I Lは2,6−ビス{〔(2−{〔ビス(カルボキシメチ
ル)〕アミノ}エチル)(カルボキシメチル)〕アミノ
メチル}−4−(アミノ)フェノールであり、この製造
は以下に示されている。
ル)〕アミノ}エチル)(カルボキシメチル)〕アミノ
メチル}−4−(アミノ)フェノールであり、この製造
は以下に示されている。
I Mはα−(4−アミノフェニル)−1,4,7,10−テト
ラアザシクロドデカン−1,4,7,10−四酢酸であり、この
製造はサウジアラビア特許3277Aに示されている。
ラアザシクロドデカン−1,4,7,10−四酢酸であり、この
製造はサウジアラビア特許3277Aに示されている。
I Nはα−(4−アミノフェニル)−1,4,7,10−テト
ラアザシクロドデカン−1,4,7−三酢酸であり、この製
造はサウジアラビア特許3277Aに示されている。
ラアザシクロドデカン−1,4,7−三酢酸であり、この製
造はサウジアラビア特許3277Aに示されている。
I Oはα−〔2−(4−アミノフェニル)エチル〕−
1,4,7,10−テトラアザシクロドデカン−1−(R,S)−
酢酸−4,7,10−トリス−(R−メチル酢酸)であり、こ
の製造はサウジアラビア特許3277Aに示されている。
1,4,7,10−テトラアザシクロドデカン−1−(R,S)−
酢酸−4,7,10−トリス−(R−メチル酢酸)であり、こ
の製造はサウジアラビア特許3277Aに示されている。
上記I J,I K及びI Lの化合物は当該分野において公知
の方法により製造される。例えばChelating Agents and
Metal Chelates,Dwyer & Mellor,Academic Press(19
64)、7章及びSynthetic Production and Utilization
of Amino Acids,(kamakoら編)、John Wiley & Sons
(1974)参照。例えば、アミノ基のかわりにアセトアミ
ド基を有するIJに相当する化合物において、アセトアミ
ド基はH2O中NaOHにより加水分解され、IJの化合物を与
える。IKに相当する化合物を製造するため、20℃もしく
はそれ以下の温度において苛性アルカリ及び適当な溶媒
の存在下5−アミノ−2−ヒドロキシフェニル化合物を
適当な線状もしくは分枝アミン又はポリアルキレンアミ
ン及びアルデヒドもしくはアルデヒド前駆体と反応さ
せ、続いて加熱し、所望の生成物を分離し、次いで20℃
もしくはそれ以下の温度において9以上のpHで得た生成
物をグリコロニトリルと反応させて、続いてH2O中HClに
よりシアノ基を加水分解しIKの生成物を与える。ILの化
合物を与えるため、アミノ基のかわりにアセトアミド基
を有するINに相当する化合物において、D2O中DClにより
アセトアミド基を加水分解し、加熱しILの生成物を与え
る。
の方法により製造される。例えばChelating Agents and
Metal Chelates,Dwyer & Mellor,Academic Press(19
64)、7章及びSynthetic Production and Utilization
of Amino Acids,(kamakoら編)、John Wiley & Sons
(1974)参照。例えば、アミノ基のかわりにアセトアミ
ド基を有するIJに相当する化合物において、アセトアミ
ド基はH2O中NaOHにより加水分解され、IJの化合物を与
える。IKに相当する化合物を製造するため、20℃もしく
はそれ以下の温度において苛性アルカリ及び適当な溶媒
の存在下5−アミノ−2−ヒドロキシフェニル化合物を
適当な線状もしくは分枝アミン又はポリアルキレンアミ
ン及びアルデヒドもしくはアルデヒド前駆体と反応さ
せ、続いて加熱し、所望の生成物を分離し、次いで20℃
もしくはそれ以下の温度において9以上のpHで得た生成
物をグリコロニトリルと反応させて、続いてH2O中HClに
よりシアノ基を加水分解しIKの生成物を与える。ILの化
合物を与えるため、アミノ基のかわりにアセトアミド基
を有するINに相当する化合物において、D2O中DClにより
アセトアミド基を加水分解し、加熱しILの生成物を与え
る。
上記反応条件及び試薬は以下のとおりである。温度が
「20℃もしくはそれ以下」である場合、これは通常氷/
水槽の使用により達成される。「加熱」は還流もしくは
室温以上において行なわれる。好ましい「苛性アルカ
リ」は水酸化ナトリウムであるが、反応より形成される
生成物に悪影響を与えないで所望のpHを保つことができ
る塩基であればよい。「好適な溶媒」は反応体に対し不
活性であり溶解性を与えるものであり、そのような溶媒
の例は水、アルコール、例えばメタノールである。所望
の生成物は従来の方法、例えば溶媒(例えばアセトン)
からの沈殿により分離される。
「20℃もしくはそれ以下」である場合、これは通常氷/
水槽の使用により達成される。「加熱」は還流もしくは
室温以上において行なわれる。好ましい「苛性アルカ
リ」は水酸化ナトリウムであるが、反応より形成される
生成物に悪影響を与えないで所望のpHを保つことができ
る塩基であればよい。「好適な溶媒」は反応体に対し不
活性であり溶解性を与えるものであり、そのような溶媒
の例は水、アルコール、例えばメタノールである。所望
の生成物は従来の方法、例えば溶媒(例えばアセトン)
からの沈殿により分離される。
本発明の方法において有効な他の配位子は、アミノホ
スホン酸キレート化剤である。アミノホスホン酸キレー
ト化剤の例を表IIに示し、これを以下のように名付け
る。
スホン酸キレート化剤である。アミノホスホン酸キレー
ト化剤の例を表IIに示し、これを以下のように名付け
る。
II Aはp−アミノベンジルエチレンジアミンテトラメ
チレンホスホン酸であり、この製造は以下に示す。
チレンホスホン酸であり、この製造は以下に示す。
II Bは6−(p−アミノベンジル)−1,4,8,11−テト
ラアザシクロテトラデカン−1,4,8,11−テトラメチレン
ホスホン酸であり、この製造は以下に示す。
ラアザシクロテトラデカン−1,4,8,11−テトラメチレン
ホスホン酸であり、この製造は以下に示す。
II Cは1−〔2−(4−アミノフェニル)エチル〕−
1,4,7,10−テトラアザシクロドデカン−4,7,10−トリメ
チレンホスホン酸であり、この製造は以下に示す。
1,4,7,10−テトラアザシクロドデカン−4,7,10−トリメ
チレンホスホン酸であり、この製造は以下に示す。
アミノホスホン酸は多くの公知の合成方法により製造
される。特に重要なものは、少なくとも1個の反応性ア
ミン水素を含む化合物とカルボニル化合物(アルデヒド
もしくはケトン)及び亜燐酸もしくはその誘導体との反
応である。Moeoritzer及びIrani,J.Org.Chem.31,1603
(1966)参照。例えば、ホルムアルデヒド及び亜燐酸と
反応したp−ニトロベンジルエチレンジアミンはp−ニ
トロベンジルエチレンジアミンテトラメチレンホスホン
酸に転化する。ニトロ基の還元によりp−アミノベンジ
ルエチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸が得られ
る。
される。特に重要なものは、少なくとも1個の反応性ア
ミン水素を含む化合物とカルボニル化合物(アルデヒド
もしくはケトン)及び亜燐酸もしくはその誘導体との反
応である。Moeoritzer及びIrani,J.Org.Chem.31,1603
(1966)参照。例えば、ホルムアルデヒド及び亜燐酸と
反応したp−ニトロベンジルエチレンジアミンはp−ニ
トロベンジルエチレンジアミンテトラメチレンホスホン
酸に転化する。ニトロ基の還元によりp−アミノベンジ
ルエチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸が得られ
る。
本発明の方法において用いられる配位子はポリアザキ
レート化剤である。このポリアザキレート化剤の例を表
IIIに示し、これを以下のように名付ける。
レート化剤である。このポリアザキレート化剤の例を表
IIIに示し、これを以下のように名付ける。
III Aは3−〔(4−アミノフェニル)メチル〕−1,
5,8,12−テトラアザシクロテトラデカンであり、この製
造は欧州公開出願296522(1988年12月28日)に示されて
いる。
5,8,12−テトラアザシクロテトラデカンであり、この製
造は欧州公開出願296522(1988年12月28日)に示されて
いる。
III Bは6−〔(4−アミノフェニル)メチル〕−1,
4,8,11−テトラアザウンデカンであり、この製造は欧州
公開出願296522に示されている。
4,8,11−テトラアザウンデカンであり、この製造は欧州
公開出願296522に示されている。
III Dは6−(3−アミノプロピル)−1,4,7,11−テ
トラアザウンデカンであり、この製造は欧州公開出願29
6522に示されている。
トラアザウンデカンであり、この製造は欧州公開出願29
6522に示されている。
チオホスゲンは混合物に過剰に加えられる。用いられ
る過剰量は出発アミノ官能化キレートの濃度により異な
る。イソチオシアネートへのアミンの速い及び完全な転
化を確実にするため、キレートの濃度が低いほどチオホ
スゲンは大過剰となる。例えば、キレートの濃度が10-3
Mである場合、キレートに対するチオホスゲンの比は5
〜20:1であり;キレートの濃度が10-8Mである場合、キ
レートに対するチオホスゲンの比は数千倍高い(すなわ
ち105:1)。過剰のチオホスゲンは従来の方法、例えば
蒸発、クロマトグラフィー又は抽出により除去される。
る過剰量は出発アミノ官能化キレートの濃度により異な
る。イソチオシアネートへのアミンの速い及び完全な転
化を確実にするため、キレートの濃度が低いほどチオホ
スゲンは大過剰となる。例えば、キレートの濃度が10-3
Mである場合、キレートに対するチオホスゲンの比は5
〜20:1であり;キレートの濃度が10-8Mである場合、キ
レートに対するチオホスゲンの比は数千倍高い(すなわ
ち105:1)。過剰のチオホスゲンは従来の方法、例えば
蒸発、クロマトグラフィー又は抽出により除去される。
本発明の方法は、水と非反応性溶媒の混合物のような
極性溶媒の混合物、例えば水/エタノール、水/ブタノ
ール、水/アセトニトリル、水/ジメチルホルムアミ
ド、水/塩化メチレン、水/テトラヒドロフラン、水/
クロロホルム、又は水/ジオキサンの混合物中で行われ
る。この溶媒は単相系であっても二相系であってもよい
が、錯体が溶解することが望ましい。
極性溶媒の混合物、例えば水/エタノール、水/ブタノ
ール、水/アセトニトリル、水/ジメチルホルムアミ
ド、水/塩化メチレン、水/テトラヒドロフラン、水/
クロロホルム、又は水/ジオキサンの混合物中で行われ
る。この溶媒は単相系であっても二相系であってもよい
が、錯体が溶解することが望ましい。
反応のpHは2〜10、好ましくは6〜8である。錯体の
pH安定性は操作可能なpH範囲を制限する。ある錯体、例
えばランタニドのエチレンジアミン四酢酸キレートはpH
2において安定でない。所望の範囲内にpHを保つため追
加塩基を用いてよく、及び従来の緩衝液を用いてよい。
pH安定性は操作可能なpH範囲を制限する。ある錯体、例
えばランタニドのエチレンジアミン四酢酸キレートはpH
2において安定でない。所望の範囲内にpHを保つため追
加塩基を用いてよく、及び従来の緩衝液を用いてよい。
過剰のチオホスゲンと共に反応を行なう場合、反応時
間はとても速く、通常室温(15〜25℃)において5〜10
分後に終了する。より高い又は低い温度(例えば0〜50
℃)を用いてよいが、室温が好ましい。周囲圧力が用い
られるがより高い又は低い圧力を用いてよい。圧力は本
発明の方法に重要でない。
間はとても速く、通常室温(15〜25℃)において5〜10
分後に終了する。より高い又は低い温度(例えば0〜50
℃)を用いてよいが、室温が好ましい。周囲圧力が用い
られるがより高い又は低い圧力を用いてよい。圧力は本
発明の方法に重要でない。
この方法の収率は少なくとも50重量パーセントであ
る。
る。
アミノ官能化キレート化剤と錯形成するあらゆる金属
(放射活性金属であろうとなかろうと)を用いてよい。
形成した錯体は金属錯体が容易に分解しないよう安定で
あるべきである。105の安定度定数を有する錯体が好適
である。治療及び/又は診断用の薬剤における得られる
生成物の使用のため放射性核種が好ましい。特に好まし
い放射活性同位体はサマリウム(Sm−153)、ホルミウ
ム(Ho−166)、イッテルビウム(Yb−175)、ルテチウ
ム(Lu−177)、ガドリニウム(Gd−159)、イットリウ
ム(Y−90)、ロジウム(Rh−105)、インジウム(In
−111)、及びチクネチウム(Tc−99m)である。
(放射活性金属であろうとなかろうと)を用いてよい。
形成した錯体は金属錯体が容易に分解しないよう安定で
あるべきである。105の安定度定数を有する錯体が好適
である。治療及び/又は診断用の薬剤における得られる
生成物の使用のため放射性核種が好ましい。特に好まし
い放射活性同位体はサマリウム(Sm−153)、ホルミウ
ム(Ho−166)、イッテルビウム(Yb−175)、ルテチウ
ム(Lu−177)、ガドリニウム(Gd−159)、イットリウ
ム(Y−90)、ロジウム(Rh−105)、インジウム(In
−111)、及びチクネチウム(Tc−99m)である。
出発物質の製造 用いる化学物質のあるものは種々の源より入手可能で
あり、例えばチオホスゲンはAldrich Chemicalsより得
られる。
あり、例えばチオホスゲンはAldrich Chemicalsより得
られる。
本発明の方法用の出発物質の多くの製造は文献にみら
れる。
れる。
放射性核種は多くの方法において製造される。核反応
器において、核種は中性子により衝撃を与えられ放射性
核種を与える。例えば、 Sm−152+中性子→Sm−153+ガンマ 放射性核種を得る他の方法は、直線加速器又はサイク
ロトロンにより形成された粒子により核種に衝撃を与え
ることである。さらに他の方法は、分裂生成物の混合物
より放射性核種を単離することである。本発明において
用いられる核種を得る方法は問題ではない。
器において、核種は中性子により衝撃を与えられ放射性
核種を与える。例えば、 Sm−152+中性子→Sm−153+ガンマ 放射性核種を得る他の方法は、直線加速器又はサイク
ロトロンにより形成された粒子により核種に衝撃を与え
ることである。さらに他の方法は、分裂生成物の混合物
より放射性核種を単離することである。本発明において
用いられる核種を得る方法は問題ではない。
本発明の方法は、放射活性薬剤の合成前駆体を製造す
るために用いられてきた〔サウジアラビア特許3277A、
及び欧州公開出願296522(1988年12月28日)参照〕。
るために用いられてきた〔サウジアラビア特許3277A、
及び欧州公開出願296522(1988年12月28日)参照〕。
以下の実施例において、特に示す以外以下の用語及び
条件を用いた。
条件を用いた。
用 語 BA−2,3,2−tetは6−〔(4−アミノフェニル)メチ
ル〕−1,4,8,11−テトラザウンデカンを意味する。
ル〕−1,4,8,11−テトラザウンデカンを意味する。
BITC−2,3,2−tetは6−〔(4−イソチオシアネート
フェニル)メチル〕−1,4,8,11−テトラアザウンデカン
を意味する。
フェニル)メチル〕−1,4,8,11−テトラアザウンデカン
を意味する。
HEPESはN−2−ヒドロキシエチルピペラジン−N′
−2−エタンスルホン酸を意味する。
−2−エタンスルホン酸を意味する。
TLCは薄層クロマトグラフィーを意味する。
一般的実験 マススペクトルはVG ZAB−MS高解像マススペクトロメ
ーター(キセノンによる速い原子衝撃、3:1ジチオスレ
イトール:ジチオエリトリトールを用いる)で得た。
ーター(キセノンによる速い原子衝撃、3:1ジチオスレ
イトール:ジチオエリトリトールを用いる)で得た。
Rf値は、この溶媒システム及び市販のシリカTLCプレ
ート(GHLF 250ミクロン、Analtek Inc.)を用いて記
録した。
ート(GHLF 250ミクロン、Analtek Inc.)を用いて記
録した。
分析及びサンプル分離用に以下のHPLCシステムを用い
た。
た。
システムIは、LKB 2150ポンプ、2152コントローラ
ー、UV検出器−LKB 2238UVコード、Berthold LB 506A
HPLC放射活性モニター及びGilson フラクションクレク
ター201〜202からなっていた。
ー、UV検出器−LKB 2238UVコード、Berthold LB 506A
HPLC放射活性モニター及びGilson フラクションクレク
ター201〜202からなっていた。
パーセントはすべて、特に示す以外重量パーセントで
ある。
ある。
本発明をさらに以下の例により明らかにするが、これ
は本発明の使用の単なる例である。
は本発明の使用の単なる例である。
本発明の方法 例1 〔105Rh(BITC−2,3,2−tet)Cl2〕+の製造 〔105Rh(BA−2,3,2−tet)Cl2〕+2ml(約5mCi/ml、
1×10-4M)をチオホスゲン0.002mlと混合することによ
り〔105Rh(BA−2,3,2−tet)Cl2〕+を反応性〔105Rh
(BITC−2,3,2−tet)Cl2〕+誘導体に転化した。反応
は室温において15分間行った。生成物は溶液をHamilton
PRP−1 Chrompakに通すことにより単離した。〔105Rh
(BITC−2,3,2−tet)Cl2〕+はアセトニトリル2mlによ
り溶出された。生成物はカチオン交換及び逆相クロマト
グラフィーを用いる公知の標準との比較により特徴付け
られる。この方法を用いることにより、50〜85パーセン
トの収率が得られた。
1×10-4M)をチオホスゲン0.002mlと混合することによ
り〔105Rh(BA−2,3,2−tet)Cl2〕+を反応性〔105Rh
(BITC−2,3,2−tet)Cl2〕+誘導体に転化した。反応
は室温において15分間行った。生成物は溶液をHamilton
PRP−1 Chrompakに通すことにより単離した。〔105Rh
(BITC−2,3,2−tet)Cl2〕+はアセトニトリル2mlによ
り溶出された。生成物はカチオン交換及び逆相クロマト
グラフィーを用いる公知の標準との比較により特徴付け
られる。この方法を用いることにより、50〜85パーセン
トの収率が得られた。
例2 〔Rh(BITC−2,3,2−tet)Cl2〕+の製造 〔Rh(BA−2,3,2−tet)Cl2〕+(10mg)をpH7燐酸緩
衝液(0.3M)5ml、アセトニトリル0.5ml及び塩化ナトリ
ウム1gの混合物に溶解した。この反応混合物を室温(約
22℃)で撹拌し、チオホスゲンを10ml加えた。15分後、
このかすんだ混合物を遠心し、黄色固体をアセトニトリ
ルで洗浄し、遠心した。アセトニトリル溶液を減圧下蒸
発させ、〔Rh(BITC−2,3,2−tet)Cl2〕+を3.1mg得
た。遠心後この混合物の水相を飽和塩化ナトリウム及び
水で洗浄したChrom−Prepカラムに入れ、アセトニトリ
ルで溶出した。アセトニトリル画分を減圧下濃縮し、所
望の生成物を5.6mg得た。全体の収率は80パーセントで
ある。
衝液(0.3M)5ml、アセトニトリル0.5ml及び塩化ナトリ
ウム1gの混合物に溶解した。この反応混合物を室温(約
22℃)で撹拌し、チオホスゲンを10ml加えた。15分後、
このかすんだ混合物を遠心し、黄色固体をアセトニトリ
ルで洗浄し、遠心した。アセトニトリル溶液を減圧下蒸
発させ、〔Rh(BITC−2,3,2−tet)Cl2〕+を3.1mg得
た。遠心後この混合物の水相を飽和塩化ナトリウム及び
水で洗浄したChrom−Prepカラムに入れ、アセトニトリ
ルで溶出した。アセトニトリル画分を減圧下濃縮し、所
望の生成物を5.6mg得た。全体の収率は80パーセントで
ある。
例3 〔105Rh(BITC−2,3,2−tet)Cl2〕+の製造 新たに製造したチオホスゲン溶液10μ(90パーセン
トアセトニトリル中チオホスゲン10μ)を90パーセン
トアセトニトリル中の〔105Rh(BA−2,3,2−tet)Cl2〕
+の溶液400μに加えた。この溶液をすぐに混合し、
室温(約22℃)に20分間放置した。次いでこの反応混合
物を加熱ブロック(約37℃)に入れた。過剰の未反応チ
オホスゲン並びに溶媒は1時間N2の噴射により蒸発させ
た。乾燥〔105Rh(BITC−2,3,2−tet)Cl2〕+、収率95
%以上、は未反応チオホスゲンを全く含まなかった。
トアセトニトリル中チオホスゲン10μ)を90パーセン
トアセトニトリル中の〔105Rh(BA−2,3,2−tet)Cl2〕
+の溶液400μに加えた。この溶液をすぐに混合し、
室温(約22℃)に20分間放置した。次いでこの反応混合
物を加熱ブロック(約37℃)に入れた。過剰の未反応チ
オホスゲン並びに溶媒は1時間N2の噴射により蒸発させ
た。乾燥〔105Rh(BITC−2,3,2−tet)Cl2〕+、収率95
%以上、は未反応チオホスゲンを全く含まなかった。
本発明の他の実施態様は、本明細書及び本発明の実施
により当業者に明らかとなるであろう。実施例は単なる
例であって、本発明の範囲を限定するものではない。
により当業者に明らかとなるであろう。実施例は単なる
例であって、本発明の範囲を限定するものではない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 コティト,ニコラス ジェイ. アメリカ合衆国,ミシガン 48640,ミ ッドランド,アボット ロード 2600 (56)参考文献 特開 平1−52764(JP,A) 特表 昭60−500767(JP,A) 国際公開84/3698(WO,A1) 欧州公開292689(EP,A1) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07D 257/02 C07C 331/16 - 331/20 CA(STN) REGISTRY(STN)
Claims (6)
- 【請求項1】極性溶媒の混合物中において、ロジウムと
結合した、 3−[(4−アミノフェニル)メチル]−1,5,8,12−テ
トラアザシクロテトラデカン 6−[(4−アミノフェニル)メチル]−1,4,8,11−テ
トラアザウンデカン、及び 6−(3−アミノプロピル)−1,4,7,11−テトラアザウ
ンデカン からなる群より選ばれるアミノ官能化ポリアザキレート
とチオホスゲンとを反応させることを含む、イソチアシ
アネート化合物の製造方法。 - 【請求項2】極性溶媒の混合物が、水とエタノール、ブ
タノール、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、塩
化メチレン、テトラヒドロフラン、クロロホルム又はジ
オキサンとの混合物である、請求項1記載の方法。 - 【請求項3】反応のpHが2〜10である、請求項1記載の
方法。 - 【請求項4】反応温度が0〜50℃である、請求項1記載
の方法。 - 【請求項5】室温において水とアセトニトリルの混合物
中で[105Rh(BA−2,3,2−tet)Cl2]+をチオホスゲン
と反応させることを含む、[105Rh(BITC−2,3,2−te
t)Cl2]+を製造するための、請求項1記載の方法。 - 【請求項6】室温において水とアセトニトリルの混合物
中で[105Rh(BA−2,3,2−tet)Cl2]+をチオホスゲン
と反応させ、蒸留及び窒素流によって溶媒を除去するこ
とを含む、[105Rh(BITC−2,3,2−tet)Cl2]+を製造
するための、請求項1記載の方法。
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---|---|---|---|
US28917288A | 1988-12-23 | 1988-12-23 | |
US289,172 | 1988-12-23 | ||
US07/383,103 US5006643A (en) | 1987-06-24 | 1989-07-20 | Process for preparing isothiocyanato functionalized metal complexes |
US383,103 | 1989-07-20 | ||
PCT/US1989/005785 WO1990007342A1 (en) | 1988-12-23 | 1989-12-15 | Process for preparing isothiocyanato functionalized metal complexes |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03502937A JPH03502937A (ja) | 1991-07-04 |
JP2930708B2 true JP2930708B2 (ja) | 1999-08-03 |
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ID=26965479
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2501909A Expired - Lifetime JP2930708B2 (ja) | 1988-12-23 | 1989-12-15 | イソチオシアナト官能化金属錯体の製造方法 |
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CN (1) | CN1025735C (ja) |
BR (1) | BR8907282A (ja) |
CA (1) | CA2006372C (ja) |
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DK (1) | DK665589A (ja) |
ES (1) | ES2068881T3 (ja) |
FI (1) | FI105332B (ja) |
GR (1) | GR3015661T3 (ja) |
HK (1) | HK123196A (ja) |
HU (1) | HU209459B (ja) |
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MX (1) | MX166369B (ja) |
NO (1) | NO895236L (ja) |
PT (1) | PT92670B (ja) |
WO (1) | WO1990007342A1 (ja) |
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CN1329432C (zh) * | 2004-12-03 | 2007-08-01 | 宁波大学 | 一种水溶性螯合树脂和其合成方法及其应用 |
JP2009215238A (ja) * | 2008-03-11 | 2009-09-24 | Osaka Univ | 希土類発光プローブ |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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