JP2916746B2 - Mirror polishing method of surface facing gap in magnetic head and surface grinder - Google Patents
Mirror polishing method of surface facing gap in magnetic head and surface grinderInfo
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Description
【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は磁気ヘッドにおけるギ
ャップ対向面の鏡面研磨方法及びこの方法に直接用いる
平面研削盤に関するものであり、特にVTR(ビデオテ
ープレコーダー)用の磁気ヘッドにおけるギャップ対向
面の鏡面研磨に好適なものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for mirror-polishing a surface facing a gap in a magnetic head and a surface grinder used directly in this method, and more particularly to a method for polishing a surface facing a gap in a magnetic head for a VTR (video tape recorder). It is suitable for mirror polishing.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、VTR用の磁気ヘッドの製造に
際しては、次のような工程を含むのが普通である。図2
はこの工程を説明するためのものであり、(a)に示す
ように、コアブロック1にはV字状のトラック幅規制用
の溝2を設けて、この溝2にガラス3を流し込んで固化
(ガラスモールド)させる。このように構成されたコア
ブロック4と、このブロック4と略同様に構成されたコ
アブロック5とを、図示していないガラスよりなるギャ
ップ材を介して図2(b)のように突合せ、この状態で
加熱してガラス3及び前記ギャップ材となるガラスによ
り前記コアブロック4,5を互いに溶着して固定する。
尚、図ではコアブロック4のみに巻線窓6となる溝7を
設けている。2. Description of the Related Art In general, manufacturing a magnetic head for a VTR usually includes the following steps. FIG.
Is for explaining this step. As shown in FIG. 5A, a V-shaped groove 2 for regulating the track width is provided in the core block 1, and the glass 3 is poured into the groove 2 and solidified. (Glass mold). The core block 4 configured as described above and a core block 5 configured substantially in the same manner as the block 4 are butted as shown in FIG. 2B via a gap material made of glass (not shown). The core blocks 4 and 5 are welded and fixed to each other with the glass 3 and the glass serving as the gap material by heating in a state.
In the drawing, a groove 7 serving as a winding window 6 is provided only in the core block 4.
【0003】前記の溶着により固定されて形成されたブ
ロック8は、磁気テープ当接面となる面9を仕上げ加工
した後、2点鎖線で示すようにスライスする。そして、
前記巻線窓6に巻線を施すことにより複数個の磁気ヘッ
ドが得られる。ところで、前記コアブロック4と5を突
き合わせる際の突合せ面となるギャップ対向面10は、
ラッピングマシーンにより、荒取り、中仕上げ、最終仕
上げ、の3工程を経て鏡面研磨される。しかし、ラッピ
ングマシーンの研磨レートは遅いため、作業時間が長
く、コスト・アップ要因の一つとなっている。The block 8 fixed by welding is sliced as shown by a two-dot chain line after finishing the surface 9 to be the magnetic tape contact surface. And
By applying a winding to the winding window 6, a plurality of magnetic heads can be obtained. By the way, the gap opposing surface 10, which is the butting surface when the core blocks 4 and 5 are butted,
Mirror polishing is performed by a lapping machine through three steps of roughing, medium finishing, and final finishing. However, since the polishing rate of the lapping machine is low, the working time is long, which is one of the factors for increasing the cost.
【0004】研磨時間の短縮のためには、研磨レートの
速い横型平面研削盤を用いることも考えられるが、次の
ような問題がある。即ち、横型平面研削盤を使用して磁
気ヘッドにおけるギャップ対向面を研磨すると、この研
削盤の砥石のメッシュが粗い場合には、チッピング、カ
ケ、むしれ等が発生しやすい。これらのチッピング等を
避けるために、前記砥石としてメッシュの細かいものを
用いると、この砥石の目づまりが著しく、この砥石を頻
繁にドレッシングしなければならない。従って、前記ギ
ャップ対向面の研磨に要する作業時間の合計が充分には
短縮されない。このため、従来の磁気ヘッドにおけるギ
ャップ対向面の鏡面研磨では、前記チッピング、カケ、
むしれ等が発生しても、次の研磨工程である中仕上げで
前記チッピング等が除去され得る荒取りでは、横型平面
研削盤を用いることはあっても、中仕上げ以降の工程で
横型平面研削盤を用いることはなかった。ちなみに、ガ
ラスモールドしたコアブロックの研磨では、ガラスが砥
石に埋め込まれやすく、この状態ではチッピング、カ
ケ、むしれ等が多発する。In order to shorten the polishing time, it is conceivable to use a horizontal surface grinder having a high polishing rate, but there are the following problems. That is, when the gap facing surface of the magnetic head is polished using a horizontal surface grinder, chipping, chipping, peeling, and the like are likely to occur when the mesh of the grindstone of the grinding machine is coarse. In order to avoid such chipping and the like, if a fine grindstone is used as the grindstone, the grindstone is markedly clogged and the grindstone must be dressed frequently. Therefore, the total operation time required for polishing the gap facing surface is not sufficiently reduced. For this reason, in the mirror polishing of the gap opposing surface in the conventional magnetic head, the chipping, chipping,
Even if peeling or the like occurs, in the roughing in which the chipping or the like can be removed in the next polishing step of the intermediate finishing, a horizontal surface grinding machine may be used, but the horizontal surface grinding is performed in the steps after the intermediate finishing. No board was used. By the way, in the polishing of the glass-molded core block, the glass is easily embedded in the grindstone, and in this state, chipping, chipping, peeling, and the like occur frequently.
【0005】一方、砥石のドレッシングに要する作業時
間を短縮するためのものとして、研磨治具に被研磨品と
してのオーディオ用の消去ヘッド及びドレッシング工具
を挿入・固定し、これらの被研磨品及びドレッシング工
具を、回転している研磨砥石の外周面に押し当てるよう
にした研磨装置が知られている(特開昭62-162472号公
報参照)。しかし、この研磨装置では、前記消去ヘッド
をR加工するものであって、この研磨装置により、磁気
ヘッドにおけるギャップ対向面を鏡面研磨することはで
きない。また、この研磨装置は、砥粒固着後のドレッシ
ング工具の全高が被研磨品の研磨加工後の完成寸法と合
致するようにし、被研磨品の研磨加工の後にドレッシン
グ工具によってドレッシングされるので、研磨加工とは
別にドレッシングのみの時間をも必要とし、研磨及びド
レッシングに要する時間を充分に短縮することはできな
い。ちなみに、このものでは、前記ドレッシング工具が
ストッパーとしても作用するので、被研磨品を研磨し過
ぎるということはなくなるが、ドレス材がダイヤモンド
であるため、ドレッシング時の砥石の摩耗量が大きくな
る。On the other hand, in order to shorten the working time required for dressing the grindstone, an erasing head and a dressing tool for audio as an article to be polished are inserted and fixed into a polishing jig. There is known a polishing apparatus in which a tool is pressed against an outer peripheral surface of a rotating polishing grindstone (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-162472). However, in this polishing apparatus, the erasing head is rounded, and the polishing apparatus cannot mirror-polish the gap facing surface of the magnetic head. In addition, this polishing apparatus is designed so that the overall height of the dressing tool after the abrasive grains are fixed matches the completed dimension of the article to be polished after polishing, and the dressing is performed by the dressing tool after the polishing of the article to be polished. It requires time only for dressing separately from processing, and the time required for polishing and dressing cannot be sufficiently reduced. Incidentally, in this case, since the dressing tool also functions as a stopper, the article to be polished is not excessively polished. However, since the dress material is diamond, the wear amount of the grindstone at the time of dressing increases.
【0006】また、上記研磨装置とは別に、被加工物を
平面研磨するものとして、被加工物である半導体ウェー
ハを保持する貫通孔が穿設された搬送板と、この搬送板
の両面側に配設され、研磨布が固着された一対の定盤と
を備え、この搬送板には前記研磨布をドレッシングする
砥粒層を接着し、研磨加工と同時にドレッシングを行な
う研磨装置も知られている(特開昭61-90868号公報参
照)。このものでは、研磨及びドレッシングに要する時
間を充分に短縮することができる。しかし、この研磨装
置では、前記砥粒層の厚さは、搬送板の厚さと上下両層
の砥粒層の厚さとの和が、ウェーハの厚さとほぽ等しく
なるように設定されているので、前記砥粒層は研磨布に
よって前記ウェーハと同程度摩滅するものでなければな
らない。このため、ウェーハの加工が終わって、次のウ
ェーハを加工しようとするときには、砥粒層をも交換す
る必要がある。ところが、ドレス材としての砥粒層は搬
送板に接着されているので、容易に交換することができ
ず、この交換に手間取り、結果として研磨処理時間が長
くなる。Separately from the above-mentioned polishing apparatus, as a device for planarly polishing a workpiece, a transport plate having through holes for holding a semiconductor wafer as a workpiece, and a transport plate provided on both sides of the transport plate. There is also known a polishing apparatus which includes a pair of platens provided and having a polishing cloth fixed thereto, and an abrasive layer for dressing the polishing cloth is bonded to the carrier plate, and the dressing is performed simultaneously with the polishing. (See JP-A-61-90868). In this case, the time required for polishing and dressing can be sufficiently reduced. However, in this polishing apparatus, the thickness of the abrasive layer is set such that the sum of the thickness of the carrier plate and the thickness of the upper and lower abrasive layers is substantially equal to the thickness of the wafer. The abrasive layer must be worn by a polishing cloth to the same extent as the wafer. For this reason, when processing of the wafer is completed and the next wafer is to be processed, it is necessary to replace the abrasive layer as well. However, since the abrasive layer as the dress material is adhered to the carrier plate, it cannot be easily replaced, and the replacement takes time, resulting in a longer polishing process time.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】上記のように、従来の
磁気ヘッドにおけるギャップ対向面の鏡面研磨方法で
は、研磨処理時間が長くなり、このため研磨コストとし
ても充分に満足し得るものではなかった。この発明は上
記した課題に鑑み、研磨処理時間を充分に短くすること
ができる磁気ヘッドにおけるギャップ対向面の鏡面研磨
方法及びこの方法に用いる平面研削盤を提供することを
目的とするものである。As described above, in the conventional method for polishing the mirror-facing surface of the gap facing surface of the magnetic head, the polishing processing time becomes long, and therefore the polishing cost cannot be sufficiently satisfied. . The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide a method for mirror-polishing a surface facing a gap in a magnetic head and a surface grinder used in the method, which can sufficiently shorten the polishing processing time.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決し、前
記目的を達成するためのこの発明の磁気ヘッドにおける
ギャップ対向面の鏡面研磨方法は、磁気ヘッドの製造工
程におけるギャップ対向面の鏡面研磨方法であって、鏡
面研磨に要する荒取り、中仕上げ及び最終仕上げ工程の
うち、荒取り及び中仕上げには、互いに平行な、異なる
軸を中心としてそれぞれ回転する砥石とワーク貼り付け
面盤とを備え、この面盤にワークを固定した状態で前記
面盤と前記砥石とを回転させて前記ワークを研磨する平
面研削盤を用い、トラック幅規制用の溝にガラスがモー
ルドされたコアブロックを前記ワークとして、このコア
ブロックのギャップ対向面を鏡面研磨する方法におい
て、前記工程のうち、少なくとも中仕上げに相当する工
程では、前記ワーク貼り付け面盤に、前記砥石の研磨に
よる摩滅速度が前記ワークと同程度であって、かつ前記
ワークが固定された面からの高さが前記ワークと同程度
になるドレス材をワックスにより固定して、前記ワーク
を研磨することを特徴とするものである。SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems and achieve the above object, a method for mirror-polishing a gap-facing surface in a magnetic head according to the present invention is provided. A rough grinding, semi-finishing and final finishing process required for mirror polishing, the rough grinding and semi-finishing are performed in parallel with each other using a grindstone and a work-attached surface plate that rotate around different axes, respectively. Using a surface grinding machine that polishes the work by rotating the face plate and the grindstone while the work is fixed to the face plate, the core block in which glass is molded in a groove for track width regulation is used. As a work, in the method of mirror-polishing the gap-facing surface of the core block, in the step corresponding to at least semi-finishing, A dressing material in which the abrasion speed of the grindstone is approximately the same as that of the work and the height from the surface on which the work is fixed is substantially the same as that of the work is fixed to the mounting surface plate with wax. And polishing the work.
【0009】また、この方法に用いる平面研削盤は、互
いに平行な、異なる軸を中心としてそれぞれ回転する砥
石とワーク貼り付け面盤とを備え、この面盤にワークを
固定した状態で前記面盤と前記砥石とを回転させて前記
ワークを研磨する平面研削盤において、前記ワーク貼り
付け面盤には、前記ワークを固定する面側に配設され
た、ドレス材を貼り付ける面を有するステージと、この
ステージの前記ワークを固定する面からの高さを可変す
る手段とを設けたことを特徴とするものである。The surface grinding machine used in this method is provided with a grindstone and a work-attached face plate which are parallel to each other and rotate about different axes, respectively, and the work is fixed to the face plate. A surface grinder for polishing the work by rotating the grindstone and the work, the work pasting surface plate, a stage disposed on the surface side to which the work is fixed, having a surface on which a dress material is to be pasted; Means for varying the height of the stage from the surface on which the work is fixed.
【0010】[0010]
【作用】上記のように、ドレス材をワーク貼り付け面盤
に貼り付けたので、ワークを研磨するのに伴って砥石が
ドレッシングされ、この砥石の目づまりが防止される。
従って、ワークであるコアブロックにチッピング、カ
ケ、むしれ等の生ずることもなく、短時間で磁気ヘッド
におけるギャップ対向面の鏡面研磨ができる。前記ドレ
ス材はワークと同程度に摩滅するので、新たなワークを
研磨する際にドレス材をも交換することにより、上記し
たように研磨作業と同時に砥石がドレッシングされる。
このドレス材はワックスによって前記面盤に貼り付ける
ので、容易に交換することができる。また、上記のよう
に、ステージにドレス材を貼り付け、このステージの高
さを可変することにより、ドレス材を前記ワークの研磨
ごとに新たなものと取り替えなくてもよくなる。As described above, since the dress material is stuck to the work-attached face plate, the grindstone is dressed as the work is polished, thereby preventing clogging of the grindstone.
Therefore, the mirror facing surface of the gap in the magnetic head can be polished in a short time without causing chipping, chipping, peeling, and the like on the core block as the work. Since the dress material wears to the same extent as the work, the dressing is simultaneously performed with the grinding operation as described above by changing the dress material when polishing a new work.
Since this dress material is attached to the face plate with wax, it can be easily replaced. Further, as described above, by attaching the dress material to the stage and changing the height of the stage, it is not necessary to replace the dress material with a new one every time the workpiece is polished.
【0011】[0011]
【実施例】以下に、この発明の一実施例を図1について
説明する。図1は横型平面研削盤11の概略を示すもの
である。この横型平面研削盤11は周知のように、互い
に平行な異なる軸12,13を中心としてそれぞれ回転
する砥石14とワーク貼り付け面盤15とを備え、この
ワーク貼り付け面盤15にワーク16を固定した状態で
この面盤15と前記砥石14を回転させ、ワーク16を
研磨する。図1(a)では、砥石14がワーク16から
離れている状態が示されているが、研磨作業に際して
は、前記面盤15を砥石14に近付けるように移動す
る。これにより、ワーク16は設定された寸法だけ研磨
される。このワーク16は、図1(b)のように、前記
面盤15の外周付近にリング状に多数配列されている
が、図1(a)では、図面の無用な煩雑さを避けるため
に、2個のワーク16のみ図示した。ちなみに、前記砥
石14の砥石として作用する面は周面に近い部位17の
みである。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. FIG. 1 schematically shows a horizontal surface grinding machine 11. As is well known, the horizontal surface grinding machine 11 includes a grindstone 14 that rotates around different axes 12 and 13 that are parallel to each other, and a work attaching surface plate 15. The work 16 is polished by rotating the face plate 15 and the grindstone 14 in a fixed state. FIG. 1A shows a state in which the grindstone 14 is separated from the work 16. However, in the polishing operation, the face plate 15 is moved so as to approach the grindstone 14. Thereby, the work 16 is polished by the set dimension. As shown in FIG. 1B, a large number of workpieces 16 are arranged in a ring shape near the outer periphery of the face plate 15, but in FIG. 1A, in order to avoid unnecessary complexity of the drawing, Only two works 16 are shown. Incidentally, the surface of the whetstone 14 acting as a whetstone is only the portion 17 close to the peripheral surface.
【0012】この磁気ヘッドの製造工程におけるギャッ
プ対向面の鏡面研磨方法では、この鏡面研磨に要する
荒、中、及び仕上げ工程のうち、荒取り及び中仕上げに
相当する研磨には、上記の横型平面研削盤11を用い、
前記図2で説明したトラック幅規制用の溝2にガラス3
がモールドされたコアブロック4,5を前記ワーク16
として、このコアブロック4,5のギャップ対向面10
を研磨する。そして、この研磨に際しては、前記ワーク
貼り付け面盤15に、前記砥石14の研磨による摩滅速
度が前記ワーク16と同程度であって、かつ前記ワーク
16と同程度の、前記面盤15からの高さを有するドレ
ス材18をワックスにより貼り付けておく。In the mirror polishing method for the gap facing surface in the manufacturing process of the magnetic head, in the rough, medium, and finishing steps required for the mirror polishing, the above-mentioned horizontal flat surface is used for polishing corresponding to roughing and medium finishing. Using a grinding machine 11,
The glass 3 is inserted into the groove 2 for regulating the track width described in FIG.
The core blocks 4 and 5 with the
The gap opposing surfaces 10 of the core blocks 4 and 5
Polish. At the time of this polishing, the abrasion speed of the whetstone 14 by polishing is approximately the same as that of the work 16 on the work-attached surface plate 15, and the abrasion speed of the work 16 is substantially the same as that of the work 16. A dress material 18 having a height is pasted with wax.
【0013】上記のように、ドレス材18をワーク貼り
付け面盤15に貼り付けたので、ワーク16を研磨する
のに伴って砥石14がドレッシングされ、この砥石14
の目づまりが防止される。従って、ワーク16であるコ
アブロック4,5にチッピング、カケ、むしれ等の生ず
ることもなく、従来のように、ラップマシーンを用いて
中仕上げをする場合に比較して鏡面研磨処理に要する時
間が短縮される。上記のようにしてワーク16を研磨
し、次のワークを研磨する際には、ドレス材18をも新
規のものと交換する。上記のドレス材18は、図1に鎖
線18aで示す位置に貼り付けることにより、ワーク1
8と砥石14との接触する時間が増し、少量のドレス材
でより一層のドレス効果が得られる。As described above, since the dress material 18 is attached to the work attaching face plate 15, the grinding stone 14 is dressed as the work 16 is polished.
Clogging is prevented. Accordingly, chipping, chipping, peeling, and the like do not occur on the core blocks 4 and 5 that are the work 16, and the time required for the mirror polishing process as compared with the conventional case of performing a medium finish using a lapping machine. Is shortened. When the work 16 is polished as described above and the next work is polished, the dress material 18 is also replaced with a new one. The dress material 18 is attached to a position indicated by a chain line 18a in FIG.
The contact time between the grinding wheel 8 and the grinding wheel 14 is increased, and a further dressing effect can be obtained with a small amount of dress material.
【0014】上記実施例では、面盤15におけるワーク
16を貼り付ける面に直接ドレス材18を貼り付けるよ
うにしたが、このドレス材18を貼り付ける部位の面を
前記ワーク16を貼り付ける面よりも高くすることによ
り、ドレス材として比較的高さの低いものを用いること
ができる。また、前記面盤15には、前記ワーク16を
貼り付ける面側に、ドレス材18を貼り付ける面を有す
るステージを配設し、このステージの前記ワークを貼り
付ける面からの高さを可変する手段を設け、このステー
ジの高さを可変することにより、ワーク16の研磨ごと
にドレス材18を新たなものと交換せず、同一のドレス
材によってワーク16の複数回に亘る研磨と同時にドレ
ッシングをすることができるようにすることもできる。In the above embodiment, the dress material 18 is directly adhered to the surface of the face plate 15 to which the work 16 is adhered. By increasing the height, a dress material having a relatively low height can be used. In addition, a stage having a surface on which a dress material 18 is attached is provided on the face plate 15 on the side on which the work 16 is attached, and the height of this stage from the surface on which the work is attached is varied. By providing means and changing the height of this stage, the dress material 18 is not replaced with a new one every time the work 16 is polished, and the dressing is performed simultaneously with the polishing of the work 16 a plurality of times by the same dress material. You can do it.
【0015】図3(a)は前記したステージ19を設け
たワーク貼り付け面盤15を示すものであり、このステ
ージ19には図3(b)に示すようにネジ20が固定さ
れていて、このネジ20は面盤15に設けられた雌ネジ
部21に螺合されている。22は止めナットを示す。こ
のステージ19にドレス材18をワックスにより貼り付
け、この状態で前記ネジ20を中心としてステージ19
を回し、ドレス材18の面盤15からの高さをこの面盤
15に固定された前記ワーク16の高さに合わせる。そ
して、このステージ19の位置をナット22によって固
定する。この状態でワーク16を研磨することにより、
前記図1について説明したのと同様にして前記砥石14
がドレッシングされる。FIG. 3A shows the work attaching face plate 15 provided with the above-mentioned stage 19, and a screw 20 is fixed to this stage 19 as shown in FIG. The screw 20 is screwed into a female screw portion 21 provided on the face plate 15. 22 indicates a lock nut. A dress material 18 is attached to the stage 19 with wax, and in this state, the
To adjust the height of the dress material 18 from the face plate 15 to the height of the work 16 fixed to the face plate 15. Then, the position of the stage 19 is fixed by the nut 22. By polishing the work 16 in this state,
In the same manner as described with reference to FIG.
Is dressed.
【0016】尚、ドレス材18は前記したようにワック
スにより前記ワーク貼り付け面盤15に直接固定、また
はステージ19を介して固定するので、このドレス材1
8の交換が容易にできる。また、ドレス材18はそのメ
ッシュが砥石14のそれよりも大きいものを使用する
(例えば、砥石メッシュ#2000に対し、ドレス材メッシ
ュ#1000)。ドレス材18の材質は、GCと略称されて
いる緑色炭化珪素質砥粒またはWAと略称されている白
色アルミナ質砥粒などが望ましく、またドレス材18の
硬さは、トラック加工を施しガラスモールドしたコアブ
ロック4,5の研磨としては、結合度がN〜Rのものが
望ましい。Since the dress material 18 is directly fixed to the work-attached surface plate 15 by wax as described above, or is fixed via the stage 19, the dress material 1 is fixed.
8 can be easily replaced. The dress material 18 has a mesh larger than that of the grindstone 14 (for example, a dress material mesh # 1000 for a grindstone mesh # 2000). The material of the dress material 18 is desirably green silicon carbide-based abrasive particles abbreviated as GC or white alumina-based abrasive particles abbreviated as WA. As for the polishing of the core blocks 4 and 5, the bonding degree of N to R is desirable.
【0017】[0017]
【発明の効果】この発明の磁気ヘッドにおけるギャップ
対向面の鏡面研磨方法は、上記したように、荒取り、中
仕上げ、最終仕上げの工程中、荒取りと中仕上げとに相
当する研磨には、平面研削盤を用い、少なくとも中仕上
に相当する研磨では、ワーク貼り付け面盤にドレス材を
貼り付ける。これにより、従来のようにラッピングマシ
ーンを用いて中仕上げをするのに比較して研磨速度が早
くなり、作業時間が大幅に短縮され、かつ目づまりがな
いので、チッピング、カケ、むしれ等の発生もない。そ
して、この発明では、ドレス材をワックスにより面盤に
貼り付けるので、このドレス材の交換が容易である。ち
なみに、横型平面研削盤において、研磨と同時に砥石を
ドレッシングする、電解研磨機能付のものも知られてい
るが、これに用いる電解研磨ユニットは非常に高価であ
る。また、この発明の平面研削盤は、ドレス材を固定す
る面がワークを固定する面に対して高さが可変されるの
で、同一のドレス材を用いて、ワークの複数回に亘る研
磨と同時にドレッシングをすることができる。As described above, the method of mirror polishing of the gap opposing surface in the magnetic head according to the present invention includes the steps of roughing, semi-finishing and final finishing during the roughing and semi-finishing. Using a surface grinder, dressing material is pasted on a work-attached face plate at least in polishing corresponding to medium finishing. As a result, the polishing speed is faster, the working time is greatly reduced, and there is no clogging as compared with the conventional case of using a lapping machine for medium finishing, so that chipping, chipping, peeling, etc. occur. Nor. In the present invention, the dress material is attached to the face plate with wax, so that the dress material can be easily replaced. Incidentally, a horizontal surface grinder having an electrolytic polishing function for dressing a grindstone simultaneously with polishing is also known, but an electrolytic polishing unit used for this is very expensive. Further, in the surface grinding machine of the present invention, since the surface on which the dress material is fixed is variable in height with respect to the surface on which the work is fixed, the same dress material is used and the work is polished a plurality of times. Dressing can be done.
【図1】この発明の一実施例を説明するための、横型平
面研削盤の概略図であり、(a)は一部を断面した正面
図、(b)は前記(a)のものの右側面図である。FIG. 1 is a schematic view of a horizontal surface grinder for explaining an embodiment of the present invention, in which (a) is a partially sectional front view, and (b) is a right side view of the above (a). FIG.
【図2】一般に知られている磁気ヘッドの製造工程を説
明するための概略斜視図である。FIG. 2 is a schematic perspective view for explaining a generally known manufacturing process of a magnetic head.
【図3】この発明の他の実施例を説明するための、横型
平面研削盤の要部の概略断面図(a)及びこの平面研削
盤に用いる治具の斜視図(b)である。FIG. 3 is a schematic sectional view (a) of a main part of a horizontal surface grinder and a perspective view (b) of a jig used for the surface grinder for explaining another embodiment of the present invention.
2 溝 3 ガラス 4,5 コアブロック 10 ギャップ対向面 11 横型平面研削盤 12,13 軸 14 砥石 15 ワーク貼り付け面盤 16 ワーク 18 ドレス材 19 ステージ 20 ネジ 21 雌ネジ部 22 ナット 2 Groove 3 Glass 4,5 Core block 10 Gap facing surface 11 Horizontal surface grinder 12,13 Axis 14 Grinding stone 15 Work sticking surface plate 16 Work 18 Dress material 19 Stage 20 Screw 21 Female screw part 22 Nut
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B24B 7/04 B24B 53/02 G11B 5/127 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Fields surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) B24B 7/04 B24B 53/02 G11B 5/127
Claims (2)
対向面の鏡面研磨方法であって、 鏡面研磨に要する荒取り、中仕上げ及び最終仕上げ工程
のうち、荒取り及び中仕上げには、 互いに平行な、異なる軸を中心としてそれぞれ回転する
砥石とワーク貼り付け面盤とを備え、この面盤にワーク
を固定した状態で前記面盤と前記砥石とを回転させて前
記ワークを研磨する平面研削盤を用い、 トラック幅規制用の溝にガラスがモールドされたコアブ
ロックを前記ワークとして、このコアブロックのギャッ
プ対向面を鏡面研磨する方法において、 前記工程のうち、少なくとも中仕上げに相当する工程で
は、前記ワーク貼り付け面盤に、前記砥石の研磨による
摩滅速度が前記ワークと同程度であって、かつ前記ワー
クが固定された面からの高さが前記ワークと同程度にな
るドレス材をワックスにより固定して、前記ワークを研
磨することを特徴とする磁気ヘッドにおけるギャップ対
向面の鏡面研磨方法。1. A method for mirror-polishing a gap-facing surface in a magnetic head manufacturing process, wherein, among roughing, semi-finishing, and final finishing steps required for mirror-polishing, roughing and semi-finishing are parallel to each other. Using a surface grinder that rotates the face plate and the grindstone while the work is fixed to the face plate and grinds the work with a grindstone and a work pasting surface plate that respectively rotate around different axes. In a method in which a core block in which glass is molded in a track width regulating groove is used as the work, and the gap opposing surface of the core block is mirror-polished, The abrasion speed of the grinding wheel by polishing of the grinding stone is approximately the same as that of the work, and the height from the surface on which the work is fixed is Dress material to become comparable with the workpiece fixed by the wax, mirror polishing method of the gap opposing face of the magnetic head is characterized in that polishing the workpiece.
れぞれ回転する砥石とワーク貼り付け面盤とを備え、こ
の面盤にワークを固定した状態で前記面盤と前記砥石と
を回転させて前記ワークを研磨する平面研削盤におい
て、 前記ワーク貼り付け面盤には、前記ワークを固定する面
側に配設され、ドレス材を貼り付ける面を有するステー
ジと、このステージの前記ワークを固定する面からの高
さを可変する手段とを備えたことを特徴とする平面研削
盤。2. A grindstone and a work sticking face plate which are respectively parallel to each other and rotate around different axes are provided, and the face plate and the grindstone are rotated while the work is fixed to the face plate. In the surface grinding machine for polishing a work, the work attachment surface plate is provided on a surface side on which the work is fixed, and has a stage having a surface to which a dress material is attached, and a surface of the stage on which the work is fixed. A surface grinding machine comprising: means for varying the height from the surface.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19116694A JP2916746B2 (en) | 1994-07-21 | 1994-07-21 | Mirror polishing method of surface facing gap in magnetic head and surface grinder |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19116694A JP2916746B2 (en) | 1994-07-21 | 1994-07-21 | Mirror polishing method of surface facing gap in magnetic head and surface grinder |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0825198A JPH0825198A (en) | 1996-01-30 |
JP2916746B2 true JP2916746B2 (en) | 1999-07-05 |
Family
ID=16270004
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP19116694A Expired - Lifetime JP2916746B2 (en) | 1994-07-21 | 1994-07-21 | Mirror polishing method of surface facing gap in magnetic head and surface grinder |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2916746B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5357672B2 (en) * | 2009-09-07 | 2013-12-04 | 株式会社ディスコ | Grinding method |
-
1994
- 1994-07-21 JP JP19116694A patent/JP2916746B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JPH0825198A (en) | 1996-01-30 |
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