JP2996873B2 - Method for manufacturing resin substrate for liquid crystal display element, resin substrate for liquid crystal display element, and liquid crystal display element - Google Patents
Method for manufacturing resin substrate for liquid crystal display element, resin substrate for liquid crystal display element, and liquid crystal display elementInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、電極パターンを表面に
備える液晶表示素子用樹脂基板の製造方法および液晶表
示素子用樹脂基板並びに液晶表示素子に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element having an electrode pattern on the surface, a resin substrate for a liquid crystal display element, and a liquid crystal display element.
【0002】[0002]
【従来の技術】電極パターンを表面に備える液晶表示素
子用樹脂基板(以下、電極積層樹脂基板という)は、従
来、図11(a)〜(e)に示す工程を経て製造されて
いる。すなわち、同図(a)に示すように、まず、平板
状の樹脂基板51が作製される。この樹脂基板51は、
通常、樹脂基板51の厚さ寸法に相当する成形空間を間
に置いて一対の成形型(図示せず)を対向配置し、上記
成形空間に透明樹脂を注型することにより成形される。2. Description of the Related Art A resin substrate for a liquid crystal display element having an electrode pattern on its surface (hereinafter referred to as an electrode laminated resin substrate) has been conventionally manufactured through the steps shown in FIGS. That is, as shown in FIG. 1A, first, a flat resin substrate 51 is manufactured. This resin substrate 51
Usually, a pair of molding dies (not shown) are arranged to face each other with a molding space corresponding to the thickness dimension of the resin substrate 51 therebetween, and molding is performed by casting a transparent resin into the molding space.
【0003】その後、同図(b)に示すように、樹脂基
板51の表面にマグネトロンスパッタ等によりITO
(Indium Tin Oxide) より成る透明導電膜52が積層さ
れる。そして、同図(c)に示すように、透明導電膜5
2をウエットエッチングにより所定の電極パターンにパ
ターニングすることによって、上記した電極積層樹脂基
板が製造されている。After that, as shown in FIG. 1B, the surface of the resin substrate 51 is ITO-coated by magnetron sputtering or the like.
A transparent conductive film 52 made of (Indium Tin Oxide) is laminated. Then, as shown in FIG.
2 is patterned into a predetermined electrode pattern by wet etching, whereby the above-described electrode laminated resin substrate is manufactured.
【0004】上記のような電極積層樹脂基板は、同図
(d)および(e)に示すように、電極形成面に、さら
に電極保護用絶縁膜としてのトップコート膜53と配向
膜54とが順に積層される(例えば特開平4−3066
16号公報等参照)。In the electrode laminated resin substrate as described above, as shown in FIGS. 1D and 1E, a top coat film 53 as an electrode protection insulating film and an alignment film 54 are further formed on the electrode forming surface. The layers are sequentially stacked (for example, see JP-A-4-3066).
No. 16, publication No. 16).
【0005】このようにして得られた一対の樹脂基板を
相対向させ、これらの間に液晶を封入することによっ
て、樹脂基板から成る液晶表示素子が作製されている。[0005] A pair of resin substrates obtained in this manner are opposed to each other, and a liquid crystal is sealed between them to produce a liquid crystal display element comprising the resin substrate.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の製造方法においては、樹脂基板51の成形後、
透明導電膜52を樹脂基板51の全面に成膜するため、
樹脂基板51と透明導電膜52との線膨張係数の違いに
よる応力が分散されず、この結果、透明導電膜52の成
膜時の高温温度状態から室温へと降温する過程や、その
後の昇温処理時に透明導電膜52にクラックが発生する
という問題を生じている。However, in the conventional manufacturing method described above, after the resin substrate 51 is formed,
Since the transparent conductive film 52 is formed on the entire surface of the resin substrate 51,
The stress caused by the difference in the coefficient of linear expansion between the resin substrate 51 and the transparent conductive film 52 is not dispersed. As a result, the process of lowering the temperature from the high temperature state to the room temperature during the formation of the transparent conductive film 52 and the subsequent temperature increase There is a problem that cracks occur in the transparent conductive film 52 during the processing.
【0007】一方、基板材料である樹脂の耐熱温度が低
いと、透明導電膜52は樹脂基板51を加熱せずにスパ
ッタするか、もしくは、低温スパッタにて成膜する必要
がある。このような条件で成膜された透明導電膜52
は、その緻密化が制限されてしまう。この結果、例えば
その後にトップコート膜53を成膜する際に必要な焼成
工程等における加熱プロセスで、透明導電膜52のクラ
ックや剥離が生じるという問題もある。On the other hand, if the heat resistance of the resin as the substrate material is low, the transparent conductive film 52 needs to be sputtered without heating the resin substrate 51 or formed by low-temperature sputtering. The transparent conductive film 52 formed under such conditions
Is limited in its densification. As a result, for example, there is a problem in that the transparent conductive film 52 is cracked or peeled off by a heating process in a baking step or the like necessary for forming the top coat film 53 thereafter.
【0008】また、基板材料である樹脂のガラス転移温
度(Tg)が低いと、トップコート膜53をTg以上で
熱処理できず、このため、トップコート膜53として、
膜強度の低いものしか得られない。同様に、配向膜54
もTg以上で熱処理できないため、配向特性の良好なも
のを得難いという問題も生じている。Further, if the glass transition temperature (Tg) of the resin as the substrate material is low, the top coat film 53 cannot be heat-treated at a temperature higher than Tg.
Only those with low film strength can be obtained. Similarly, the alignment film 54
However, since heat treatment cannot be performed at a temperature higher than Tg, there is a problem that it is difficult to obtain a material having good orientation characteristics.
【0009】これらの問題点を低減するためには、高温
プロセスでの成膜を必要とするトップコート膜や配向膜
に対応して、基板材料として例えば120℃以上の高い
耐熱性を有する樹脂材料を選定する必要がある。また、
トップコート膜53や配向膜54の材料も、樹脂基板5
1のTg以下のものを選定する必要がある等、各材料の
選択範囲が大きく制約され、この結果、製造コストが高
くなるという問題も有している。In order to reduce these problems, a resin material having a high heat resistance of, for example, 120 ° C. or more is used as a substrate material corresponding to a top coat film or an alignment film which needs to be formed by a high temperature process. Must be selected. Also,
The material of the top coat film 53 and the alignment film 54 is
For example, it is necessary to select a material having a Tg of 1 or less, and the selection range of each material is greatly restricted. As a result, there is a problem that the manufacturing cost is increased.
【0010】さらに、上記の電極積層樹脂基板では、透
明導電膜52をパターニングした後の電極パターンの有
るところと無いところで、透明導電膜52の厚さに相当
する段差が生じ、その上にトップコート膜53や配向膜
54を成膜しても、上記の段差がそのまま残留して表面
の平滑性が得られない。このため、このような樹脂基板
を用いて作製された液晶表示素子では、セルギャップの
不均一による色むらや表示むらが生じて、表示品位が低
下するという問題も生じている。Further, in the above-described electrode laminated resin substrate, a step corresponding to the thickness of the transparent conductive film 52 is formed at a portion where the electrode pattern is formed after the patterning of the transparent conductive film 52 and at a portion where the electrode pattern is not formed. Even when the film 53 and the alignment film 54 are formed, the above-mentioned steps remain as they are, and the surface cannot be smooth. For this reason, in a liquid crystal display element manufactured using such a resin substrate, color unevenness and display unevenness due to non-uniform cell gap are caused, and there is a problem that display quality is deteriorated.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明の請求項1記載の液晶表示素子用樹脂基板
の製造方法は、一対の成形型を所定の成形空間を挟んで
相対向する成形位置に設定し、上記成形空間に透明樹脂
を充填することによって樹脂基板を成形する液晶表示素
子用樹脂基板の製造方法において、一方の成形型におけ
る上記成形空間に面する成形面に透明導電膜を成膜し、
この透明導電膜を所定の電極パターンにパターニングし
た後、上記成形型を成形位置に設定して透明樹脂を成形
空間に充填し、その後、上記透明樹脂から成る成形体を
透明導電膜と共に成形面から剥離することによって、電
極付き樹脂基板を作製することを特徴としている。According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element, comprising: a pair of molding dies sandwiching a predetermined molding space; In a method of manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element, which sets a molding position opposite to the molding space and fills the molding space with a transparent resin to form a resin substrate, the molding surface facing the molding space in one molding die is transparent. Form a conductive film,
After patterning the transparent conductive film into a predetermined electrode pattern, the molding die is set at a molding position and the transparent resin is filled into a molding space, and then the molded body made of the transparent resin is molded together with the transparent conductive film from the molding surface. By peeling, a resin substrate with electrodes is manufactured.
【0012】請求項2記載の液晶表示素子用樹脂基板の
製造方法は、請求項1記載の製造方法において、上記成
形面を平滑面として形成し、この平滑面に上記透明導電
膜を成膜することを特徴としている。According to a second aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element according to the first aspect, wherein the molding surface is formed as a smooth surface, and the transparent conductive film is formed on the smooth surface. It is characterized by:
【0013】請求項3記載の液晶表示素子用樹脂基板の
製造方法は、請求項1又は2記載の製造方法において、
上記成形面に離型性を高めるための表面処理を施し、こ
の処理面に上記透明導電膜を成膜することを特徴として
いる。According to a third aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element, comprising the steps of:
It is characterized in that the molding surface is subjected to a surface treatment for improving releasability, and the transparent conductive film is formed on the treated surface.
【0014】請求項4記載の液晶表示素子用樹脂基板の
製造方法は、請求項1、2又は3記載の製造方法におい
て、電極付き樹脂基板の表面を覆うべく設けられる被覆
層を上記成形面に予め形成し、その後、上記透明導電膜
の成膜・パターニングと、透明樹脂の成形とを順次行っ
た後、成形体を上記被覆層および透明導電膜と共に成形
面から剥離することを特徴としている。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element according to the first, second or third aspect, wherein a coating layer provided to cover a surface of the resin substrate with electrodes is formed on the molding surface. After the film is formed in advance, and then the film formation and patterning of the transparent conductive film and the molding of the transparent resin are sequentially performed, the molded body is separated from the molding surface together with the coating layer and the transparent conductive film.
【0015】請求項5記載の液晶表示素子用樹脂基板の
製造方法は、請求項4記載の製造方法において、上記被
覆層が、成形面に順次成膜された配向膜と電極保護用絶
縁膜との積層体から成ることを特徴としている。According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element, wherein the coating layer is formed on a molding surface in order and the insulating film for protecting an electrode is formed. Characterized by comprising a laminated body of:
【0016】請求項6記載の液晶表示素子用樹脂基板の
製造方法は、請求項5記載の製造方法において、配向膜
が成膜される上記成形面に液晶を配向させるための微細
な凹凸を形成していることを特徴としている。According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element according to the fifth aspect, wherein fine irregularities for orienting liquid crystal are formed on the molding surface on which the alignment film is formed. It is characterized by doing.
【0017】請求項7記載の液晶表示素子用樹脂基板
は、請求項1から6のいずれかに記載の製造方法により
作製されることを特徴としている。According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a resin substrate for a liquid crystal display element, which is manufactured by the manufacturing method according to any one of the first to sixth aspects.
【0018】請求項8記載の液晶表示素子は、少なくと
も一方が、請求項7記載の液晶表示素子用樹脂基板から
成る一対の基板を相対向させ、これら基板間に液晶を封
入して成ることを特徴としている。According to an eighth aspect of the present invention, at least one of the liquid crystal display elements has a pair of substrates made of the resin substrate for a liquid crystal display element of the seventh aspect facing each other, and a liquid crystal is sealed between these substrates. Features.
【0019】[0019]
【作用】請求項1記載の液晶表示素子用樹脂基板の製造
方法においては、樹脂基板を成型するための成形型の表
面に、予め透明導電膜が成膜されパターニングされる。
そして、この成形型を用いて透明樹脂の成型が行われ、
成形体の離型時には、成形型表面の透明導電膜は成形型
から剥離し、成形体表面に取り込まれる。これによっ
て、透明導電膜から成る電極付き樹脂基板が作製され
る。In the method of manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element according to the first aspect, a transparent conductive film is formed and patterned in advance on a surface of a molding die for molding the resin substrate.
Then, molding of the transparent resin is performed using this mold,
When the molded body is released from the mold, the transparent conductive film on the surface of the mold is separated from the mold and taken into the surface of the molded body. Thus, a resin substrate with electrodes made of a transparent conductive film is manufactured.
【0020】この場合、透明導電膜の成膜は成形型の表
面に行われ、このときの成膜条件、例えばスパッタ温度
は、成形型の耐熱性に応じて、より高く設定することが
可能となる。このため、緻密で均一な透明導電膜を得る
ことができる。In this case, the transparent conductive film is formed on the surface of the mold, and the film forming conditions, for example, the sputtering temperature can be set higher according to the heat resistance of the mold. Become. For this reason, a dense and uniform transparent conductive film can be obtained.
【0021】また、透明樹脂基板の成型時に、成形温度
から室温へと温度低下を生じる際や、その後の製造工程
で熱処理プロセスが行われる際、このときの樹脂基板の
表面に取り込まれた透明導電膜は、すでにパターニング
後の細分化された状態である。このため、樹脂基板と透
明導電膜との熱膨張係数の違いによって、温度変化時に
生じる熱応力は分散される。したがって、前記のように
緻密で均一な透明導電膜が得られると共に、さらに熱応
力の分散を生じることにより、透明導電膜におけるクラ
ックの発生が低減される。In addition, when the temperature of the transparent resin substrate is lowered from the molding temperature to room temperature during molding, or when a heat treatment process is performed in a subsequent manufacturing process, the transparent conductive material taken into the surface of the resin substrate at this time. The film is already in a subdivided state after patterning. For this reason, the thermal stress generated at the time of temperature change is dispersed by the difference in the thermal expansion coefficient between the resin substrate and the transparent conductive film. Therefore, as described above, a dense and uniform transparent conductive film can be obtained, and the occurrence of cracks in the transparent conductive film can be reduced by further dispersing the thermal stress.
【0022】請求項2記載の製造方法においては、成形
型の成形面が平滑であることから、この成形型を用いて
成形される電極付き樹脂基板は、透明導電膜の形成面全
体が、上記成形型の成形面に沿って平滑な面となる。す
なわち、樹脂基板の成形時には、パターニングされてい
る透明導電膜間にも成形樹脂材料が入り込み、これによ
って、樹脂基板の表面と透明導電膜の表面とが面一状態
となる成形体が得られる。In the manufacturing method according to the second aspect of the present invention, since the molding surface of the mold is smooth, the resin-coated substrate formed using this mold has the entire surface on which the transparent conductive film is formed. It becomes a smooth surface along the molding surface of the mold. That is, at the time of molding the resin substrate, the molding resin material also enters between the patterned transparent conductive films, thereby obtaining a molded body in which the surface of the resin substrate and the surface of the transparent conductive film are flush with each other.
【0023】このため、透明導電膜の厚さに起因する段
差が表面に生じないので、この基板を用いて作製された
液晶表示素子は、セルギャップの不均一による色むら・
表示むらが生じず、表示性能が向上する。For this reason, a step due to the thickness of the transparent conductive film does not occur on the surface. Therefore, a liquid crystal display device manufactured using this substrate has uneven color due to non-uniform cell gap.
Display unevenness does not occur, and the display performance is improved.
【0024】請求項3記載の製造方法においては、成形
面に離型性を高めるための表面処理を施すため、成形型
の全体を離型性の高い材料で構成する必要はなく、透明
導電膜成膜時に必要な耐熱性等の要件を満たす例えばガ
ラス板等、より安価な材料を選定することができる。そ
して、その表面に離型性の高い材料で表面処理を行うこ
とで、高価な材料の使用が極力抑えられ、成形型全体の
製作費用をより安価なものとすることができるので、全
体の製造コストを低減することが可能となる。In the manufacturing method according to the third aspect, since the molding surface is subjected to a surface treatment for improving the releasability, it is not necessary to form the entire mold with a material having a high releasability, and the transparent conductive film is used. It is possible to select a less expensive material such as a glass plate that satisfies requirements such as heat resistance required for film formation. By performing a surface treatment on the surface with a material having a high release property, the use of expensive materials can be suppressed as much as possible, and the manufacturing cost of the entire mold can be reduced, so that the entire manufacturing Costs can be reduced.
【0025】請求項4記載の製造方法においては、電極
付き樹脂基板の表面を覆う被覆層が例えば電極保護用絶
縁膜の場合、樹脂基板の成形の前に、成形面に上記の電
極保護用絶縁膜と透明導電膜とが成膜される。この場
合、電極保護用絶縁膜の成膜時の温度条件も樹脂基板材
料のTg(耐熱性)に制約されないものとなり、より温
度の高い処理条件で成膜することで、充分な膜強度の電
極保護用絶縁膜を得ることができる。この結果、この樹
脂基板を用いて作製される液晶表示素子では、いわゆる
上下リーク不良の発生が低減し、これによって、表示品
位が向上する。In the manufacturing method according to the fourth aspect, when the coating layer covering the surface of the resin substrate with electrodes is, for example, an insulating film for protecting the electrodes, the insulating surface for protecting the electrodes is formed on the molding surface before the molding of the resin substrate. A film and a transparent conductive film are formed. In this case, the temperature condition at the time of forming the electrode protection insulating film is not restricted by the Tg (heat resistance) of the resin substrate material. By forming the film under a higher temperature processing condition, the electrode having sufficient film strength can be obtained. A protective insulating film can be obtained. As a result, in a liquid crystal display element manufactured using this resin substrate, the occurrence of a so-called vertical leakage defect is reduced, and the display quality is improved.
【0026】また、被覆層が例えば配向膜の場合には、
この配向膜を、樹脂基板の成形前に、成形面に予め成膜
し、次いで、透明導電膜が成膜される。この場合も、前
記同様に、配向膜成膜時の温度条件は樹脂基板材料のT
gに制約されないので、より高温の温度条件で成膜する
ことで、充分な配向特性が得られる膜形成を行うことが
できる。When the coating layer is, for example, an alignment film,
Before forming the resin substrate, the alignment film is formed on a molding surface in advance, and then a transparent conductive film is formed. Also in this case, as described above, the temperature condition at the time of forming the alignment film depends on the T
Since the film thickness is not limited by g, by forming a film under a higher temperature condition, a film with sufficient alignment characteristics can be formed.
【0027】さらに、樹脂基板材料および電極保護用絶
縁膜材料・配向膜材料の選択範囲が広がり、より安価な
材料の選定が可能となるので、製造コストをさらに低減
することが可能になる。Further, the selection range of the resin substrate material and the insulating film material and the alignment film material for protecting the electrodes is expanded, and it becomes possible to select a cheaper material, so that the manufacturing cost can be further reduced.
【0028】請求項5記載の製造方法においては、樹脂
基板の成形前に、成形面に、配向膜・電極保護用絶縁膜
・透明導電膜の成膜が順次行われる。このため、従来、
樹脂基板の形成後に必要であった電極保護用絶縁膜およ
び透明導電膜の各成膜時の高温熱処理プロセスのいずれ
も、樹脂基板成形後には行う必要がなくなる。この結
果、樹脂基板材料としてさらに耐熱性の低い安価な材料
を用いることができるので、製造コストをさらに低減す
ることが可能になる。In the manufacturing method according to the fifth aspect, before forming the resin substrate, an alignment film, an insulating film for protecting electrodes, and a transparent conductive film are sequentially formed on the forming surface. For this reason,
Neither the high-temperature heat treatment process at the time of forming each of the electrode protection insulating film nor the transparent conductive film required after the formation of the resin substrate becomes necessary after the formation of the resin substrate. As a result, an inexpensive material having even lower heat resistance can be used as the resin substrate material, so that the manufacturing cost can be further reduced.
【0029】請求項6記載の製造方法においては、成形
面に形成している微細な凹凸が、この面に成膜される配
向膜の表面に転写される。したがって、これにより作製
される液晶表示素子の製造工程中、配向膜に対するラビ
ング処理工程が不要になり、工程数が少なくなるので、
全体の製造コストをさらに低減することができる。In the manufacturing method according to the sixth aspect, fine irregularities formed on the molding surface are transferred to the surface of the alignment film formed on this surface. Therefore, during the manufacturing process of the liquid crystal display element manufactured by this, the rubbing process for the alignment film becomes unnecessary, and the number of processes is reduced.
The overall manufacturing cost can be further reduced.
【0030】上述の製造方法により作製される請求項7
記載の液晶表示素子用樹脂基板は、透明導電膜や電極保
護用絶縁膜、配向膜の成膜条件が樹脂基板材料の耐熱性
に制約されず、これによって、クラックのない緻密で均
一な透明導電膜の電極パターンが得られ、また、膜強度
の高い電極保護用絶縁膜、配向特性の優れた配向膜を備
えるものとなる。また、表面の平坦性が維持される。A seventh aspect of the present invention is manufactured by the above manufacturing method.
In the resin substrate for a liquid crystal display element described above, the conditions for forming the transparent conductive film, the insulating film for protecting the electrode, and the alignment film are not restricted by the heat resistance of the resin substrate material. An electrode pattern of the film can be obtained, and an insulating film for protecting the electrode having high film strength and an alignment film having excellent alignment characteristics are provided. Further, the flatness of the surface is maintained.
【0031】そして、このような液晶表示素子用樹脂基
板を用いて作製される請求項8記載の液晶表示素子は、
色むらや表示むらがなく、また、上下リーク不良等も抑
制されるので、表示品位が向上する。しかも、上記の各
種構成材料としてより安価なものを選定し得る等によ
り、全体の製造コストをより安価なものとすることがで
きる。The liquid crystal display element according to claim 8, which is manufactured using such a resin substrate for a liquid crystal display element,
Since there is no color unevenness or display unevenness, and a vertical leakage defect is suppressed, display quality is improved. In addition, since the cheaper materials can be selected as the various constituent materials, the overall manufacturing cost can be reduced.
【0032】[0032]
〔実施例1〕本発明に係る液晶表示素子用樹脂基板の製
造方法の具体的な実施例について図1および図2に基づ
いて説明すれば、以下の通りである。図1(a)には、
図示しない樹脂基板成形装置に組込まれる一方の成形型
(以下、上型という)1を示している。この上型1は、
金属製の平滑な平板から成っている。この上型1におけ
る図において下側の面、すなわち、成形面には、後述す
る樹脂基板8の離型性を高めるため、例えばテフロン
(商品名)等のフッ素系樹脂から成る表面処理層2が設
けられている。[Embodiment 1] A specific embodiment of a method for manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element according to the present invention will be described below with reference to FIGS. In FIG. 1A,
1 shows one molding die (hereinafter, referred to as an upper die) 1 incorporated in a resin substrate molding device (not shown). This upper mold 1
It consists of a flat metal plate. A surface treatment layer 2 made of a fluorine-based resin such as Teflon (trade name) is provided on the lower surface of the upper mold 1 in FIG. Is provided.
【0033】上記の上型1における表面処理層2上に、
まず、同図(b)に示すように、透明導電膜としてのI
TO(Indium Tin Oxide) 膜3が、マグネトロンスパッ
タリング法により成膜される。このときのスパッタ条件
を例示すれば、ターゲット材料;ITO(In+Sn酸
化物焼結体)、導入ガス;ArおよびO2 、スパッタ真
空度;2.0×10-2Torr、スパッタリングレイト;
6nm/分、ITO膜厚;200nmであり、そして、
スパッタ温度は200℃である。このスパッタ温度は3
00℃以上とすることも可能である。On the surface treatment layer 2 of the upper mold 1,
First, as shown in FIG. 1B, I as a transparent conductive film
A TO (Indium Tin Oxide) film 3 is formed by a magnetron sputtering method. Examples of sputtering conditions at this time are as follows: target material; ITO (In + Sn oxide sintered body); introduced gases; Ar and O 2 ; sputtering degree; 2.0 × 10 −2 Torr;
6 nm / min, ITO film thickness; 200 nm, and
The sputtering temperature is 200 ° C. This sputtering temperature is 3
It is also possible to set the temperature to 00 ° C. or higher.
【0034】その後、YAGレーザ(エムアイティー
(株)製SFL9400)を用いて、波長532nm、
エネルギー密度1.0×107 J/m2 のレーザの直接描
画により、上記ITO膜3が所定の電極パターンにパタ
ーニングされ、同図(c)(d)に示すように、ITO膜
3から成る電極パターン付きの上型1が作製される。After that, using a YAG laser (SFL9400 manufactured by MIT Corporation), a wavelength of 532 nm was used.
The ITO film 3 is patterned into a predetermined electrode pattern by direct drawing of a laser having an energy density of 1.0 × 10 7 J / m 2 , and is composed of the ITO film 3 as shown in FIGS. An upper mold 1 with an electrode pattern is manufactured.
【0035】その後、図2(a)に示すように、上記の
電極パターン付き上型1が、樹脂基板成形装置における
他方の成形型(以下、下型という)4に対向させて組込
まれる。この際、後述する樹脂成形体8の厚さを例えば
0.3mmとする場合には、その板厚に応じた成形空間5
が両型1・4間に設けられるように、これら上型1と下
型4との各成形位置が設定され、側壁6・6で挟持し固
定される。なお、下型4は、ガラス製の平滑な平板から
成り、成形空間5に面する表面には、上型1と同様に、
例えばフッ素系樹脂からなる表面処理層7が設けられて
いる。Thereafter, as shown in FIG. 2A, the upper mold 1 with the electrode pattern is assembled to face the other mold (hereinafter, referred to as a lower mold) 4 in the resin substrate molding apparatus. At this time, for example, the thickness of the resin molded body 8 described later is set to, for example,
When the thickness is 0.3 mm, the molding space 5 corresponding to the thickness of the sheet is required.
The molding positions of the upper mold 1 and the lower mold 4 are set such that the upper mold 1 and the lower mold 4 are provided between the two molds 1 and 4. The lower mold 4 is made of a smooth flat plate made of glass, and has a surface facing the molding space 5, like the upper mold 1,
For example, a surface treatment layer 7 made of a fluorine resin is provided.
【0036】上記成形空間5に樹脂材料を注入して充填
することにより、同図(b)に示すように、樹脂基板8
が例えば注型成形される。成形材料には、熱可塑性樹脂
であるポリエチルメタクリレートを用い、250℃に加
熱した融液として、これが、空気泡の入らないように2
50℃に予熱した成形型1・4間に注入される。注入後
はゆっくりと放冷される。By injecting and filling a resin material into the molding space 5, as shown in FIG.
Is cast molded, for example. Polyethyl methacrylate, a thermoplastic resin, was used as a molding material, and was used as a melt heated to 250 ° C. to prevent air bubbles from entering.
It is poured between the molds 1.4 preheated to 50 ° C. After the injection, it is allowed to cool slowly.
【0037】その後、冷却、減圧処理により、成形した
樹脂基板8が離型される。このとき、前記ITO膜3は
上型1における表面処理層2から剥離し、同図(c)
(d)に示すように、樹脂基板8の表面に埋め込まれた
状態で、樹脂基板8と一体的に離型される。これによ
り、表面が平滑な透明電極パターン付き樹脂基板(以
下、電極形成樹脂基板という)9が作製される。Thereafter, the molded resin substrate 8 is released from the mold by cooling and decompression. At this time, the ITO film 3 is peeled off from the surface treatment layer 2 in the upper mold 1, and FIG.
As shown in FIG. 5D, the mold is integrally released from the resin substrate 8 while being embedded in the surface of the resin substrate 8. Thus, a resin substrate 9 having a transparent electrode pattern with a smooth surface (hereinafter, referred to as an electrode-formed resin substrate) 9 is manufactured.
【0038】上記の工程を経て作製された電極形成樹脂
基板9には、同図(e)に示すように、さらに、電極保
護用絶縁膜としてのトップコート膜11が表面に設けら
れる。この膜11は、電極形成樹脂基板9におけるIT
O膜3の形成面に、Ti−Siを主成分とするシリカコ
ーティングインクをオフセット印刷法等により塗布した
後、焼成することによって成膜される。As shown in FIG. 2E, a top coat film 11 as an electrode protection insulating film is further provided on the surface of the electrode forming resin substrate 9 manufactured through the above steps. This film 11 is formed on the electrode forming resin substrate 9 by the IT
On the surface on which the O film 3 is formed, a silica coating ink containing Ti-Si as a main component is applied by an offset printing method or the like, and then fired to form a film.
【0039】次いで、同図(f)に示すように、トップ
コート膜11上に、ポリエーテルアミドを溶剤に溶かし
た配向膜材料を、トップコート膜11の形成とほぼ同様
にオフセット印刷法等により塗布した後、焼成すること
によって、配向膜12が形成される。なお、基板9の表
面を覆うこれら両膜11・12は、トップコート膜11
が厚さ50〜150nm、配向膜12が厚さ10〜10
0nmで設けられる。Next, as shown in FIG. 4F, an alignment film material obtained by dissolving polyetheramide in a solvent is applied onto the top coat film 11 by an offset printing method or the like in substantially the same manner as the formation of the top coat film 11. After the application, the alignment film 12 is formed by firing. The two films 11 and 12 covering the surface of the substrate 9 are the top coat film 11
Is 50 to 150 nm in thickness, and the alignment film 12 is 10 to 10 in thickness.
It is provided at 0 nm.
【0040】上記のように配向膜12を形成後、この配
向膜12の表面にラビング処理が施され、次いで、この
ようにして得られた一対の電極形成樹脂基板9・9を互
いに貼り合わせて液晶セルが作製される。この貼り合わ
せの際には、一方の電極形成樹脂基板9には、スクリー
ン印刷等により所定のパターンで熱硬化型エポキシ系シ
ール材が印刷され、他方の電極形成樹脂基板9には、液
晶厚みを確保するためのスペーサであるプラスチックビ
ーズが均一に分散するように散布される。その後、セル
内に液晶が充填され、次いで、UV硬化型エポキシ材料
による封止、所定の角度を持った偏光板の貼り付けが順
次行われて、液晶表示素子が作製される。After forming the alignment film 12 as described above, the surface of the alignment film 12 is subjected to a rubbing treatment, and then the pair of electrode forming resin substrates 9 thus obtained are bonded to each other. A liquid crystal cell is manufactured. At the time of this bonding, a thermosetting epoxy sealing material is printed on one of the electrode forming resin substrates 9 in a predetermined pattern by screen printing or the like, and the other electrode forming resin substrate 9 has a liquid crystal thickness. The plastic beads, which are spacers for securing, are sprayed so as to be uniformly dispersed. Thereafter, the liquid crystal is filled in the cell, and then sealing with a UV-curable epoxy material and pasting of a polarizing plate having a predetermined angle are sequentially performed to manufacture a liquid crystal display element.
【0041】以上の説明のように、本実施例に係る液晶
表示素子用樹脂基板の製造方法では、平滑な平板から成
る上型1の表面に予めITO膜3を成膜し、パターニン
グを行った後、樹脂を注型して電極形成樹脂基板9を製
造する。この方法では、パターニング後における互いに
隣合うITO膜3・3間にも樹脂が流入し、この結果、
樹脂基板9における電極形成面は、上型1の平滑な表面
に倣い、全体として面一状の平滑な面となる。これは、
ITO膜3の厚さが例えば200nmを超えるときで
も、その厚さに伴う段差は生じない。これにより、この
電極形成樹脂基板9を用いて作製される液晶表示素子で
は、セルギャップ不均一による色むらや表示むらが解消
され、表示品位が向上する。As described above, in the method of manufacturing the resin substrate for a liquid crystal display element according to the present embodiment, the ITO film 3 was previously formed on the surface of the upper die 1 made of a smooth flat plate and patterned. Thereafter, a resin is cast to manufacture the electrode forming resin substrate 9. In this method, the resin also flows between the adjacent ITO films 3 after patterning, and as a result,
The electrode forming surface of the resin substrate 9 follows the smooth surface of the upper die 1 and is a flat surface as a whole. this is,
Even when the thickness of the ITO film 3 exceeds, for example, 200 nm, no step occurs due to the thickness. As a result, in the liquid crystal display element manufactured using the electrode-forming resin substrate 9, color unevenness and display unevenness due to non-uniform cell gap are eliminated, and display quality is improved.
【0042】一方、図1(c)(d)に示す上型1に形成
されたときのITO膜3と、上型1から剥離され、図2
(c)(d)に示すように樹脂基板8表面に取り込まれた
状態でのITO膜3とには、いずれにもクラックの発生
は見られない。つまり、ITO膜3の成膜は上型1表面
に行われ、このときのスパッタ温度は、例えば金属から
成る上型1や、表面処理層2の耐熱性に応じて、より高
く設定することができる。また、樹脂基板8の成型時に
おける樹脂材料がその成形温度から室温へと降温する際
や昇温の際、樹脂基板8の表面に取り込まれるITO膜
3はすでにパターニング後の細分化された状態である。
このため、上記の温度変化時に、樹脂基板8とITO膜
3との熱膨張係数の違いによって生じる熱応力は分散さ
れる。このように、緻密で均一な透明導電膜が得られ、
しかも熱応力が分散されることにより、ITO膜3にお
けるクラックの発生が低減する。On the other hand, the ITO film 3 formed on the upper mold 1 shown in FIGS.
As shown in (c) and (d), no crack is observed in the ITO film 3 in the state of being taken into the surface of the resin substrate 8. That is, the ITO film 3 is formed on the surface of the upper mold 1, and the sputtering temperature at this time may be set higher according to the heat resistance of the upper mold 1 made of metal or the surface treatment layer 2, for example. it can. In addition, when the resin material is cooled from the molding temperature to room temperature during molding of the resin substrate 8 or when the temperature is increased, the ITO film 3 taken into the surface of the resin substrate 8 is already in a finely divided state after patterning. is there.
For this reason, at the time of the above temperature change, the thermal stress generated due to the difference in the thermal expansion coefficient between the resin substrate 8 and the ITO film 3 is dispersed. Thus, a dense and uniform transparent conductive film is obtained,
In addition, since the thermal stress is dispersed, the occurrence of cracks in the ITO film 3 is reduced.
【0043】さらに、上記のように緻密で均一なITO
膜3が得られる結果、抵抗率が小さく、かつ、高透過率
を有するITO膜3として形成することができるので、
液晶表示素子の大型化、および高品位化が可能となる。Further, as described above, the dense and uniform ITO
As a result of obtaining the film 3, it is possible to form the ITO film 3 having a small resistivity and a high transmittance.
The liquid crystal display element can be increased in size and quality.
【0044】なお、上記ITO膜3のように、金属酸化
物からなる透明導電膜を成膜する際には、透明導電膜の
透明性を損なうことなく酸化度を低くすることによって
透明導電膜の展性が高まる。これによって、樹脂基板の
膨張又は変形に透明導電膜が追随できるようになり、こ
れによって、透明導電膜のクラック発生がさらに確実に
防止される。When a transparent conductive film made of a metal oxide is formed as in the case of the ITO film 3 described above, the degree of oxidation is reduced without deteriorating the transparency of the transparent conductive film. Extensibility increases. This allows the transparent conductive film to follow the expansion or deformation of the resin substrate, thereby more reliably preventing the transparent conductive film from cracking.
【0045】〔実施例2〕本発明の他の実施例について
図3および図4に基づいて説明すれば、以下の通りであ
る。なお、説明の便宜上、前記の実施例の図面に示した
部材と同一の機能を有する部材には同一の符号を付記
し、その説明を省略する。後述するさらに他の実施例に
ついても同様とする。Embodiment 2 Another embodiment of the present invention is described below with reference to FIGS. For convenience of explanation, members having the same functions as the members shown in the drawings of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted. The same applies to other embodiments described later.
【0046】本実施例に係る液晶表示素子用樹脂基板の
製造方法においては、図3(a)に示すように、前記実
施例同様に、表面に表面処理層2を備えた金属製の平滑
な平板から成る上型1が作製される。なお、この場合に
は、表面処理層2はスパッタによってニッケル層を成膜
することにより形成されている。In the method of manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element according to the present embodiment, as shown in FIG. 3A, as in the previous embodiment, a metal smooth surface provided with a surface treatment layer 2 is provided. An upper mold 1 made of a flat plate is manufactured. In this case, the surface treatment layer 2 is formed by forming a nickel layer by sputtering.
【0047】そして、同図(b)に示すように、上記表
面処理層2上に、まず、トップコート膜11が成膜され
る。この膜11は、東京応化工業(株)製;Ti−Si
フィルムを原料とするシリカコーティングインクをオフ
セット印刷法等により塗布し、200℃ピーク60分で
焼成することによって形成される。Then, as shown in FIG. 2B, first, a top coat film 11 is formed on the surface treatment layer 2. This film 11 is manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd .;
It is formed by applying a silica coating ink using a film as a raw material by an offset printing method or the like and baking at a peak of 200 ° C. for 60 minutes.
【0048】その後、トップコート膜11上に、前記実
施例同様、ITO膜3が形成され(同図(c))、このI
TO膜3がパターニングされる(同図(d))。こうして
得られたITO膜3およびトップコート膜11付きの上
型1を、図4(a)に示すように、表面処理層7を備え
た下型4に対向させて樹脂基板成形装置に組込み、成形
空間5に樹脂が注入されて、同図(b)に示すように、
樹脂基板8が成型される。Thereafter, an ITO film 3 is formed on the top coat film 11 in the same manner as in the above embodiment (FIG. 10C).
The TO film 3 is patterned (FIG. 4D). The upper mold 1 having the ITO film 3 and the top coat film 11 thus obtained is assembled into a resin substrate molding apparatus so as to face the lower mold 4 having the surface treatment layer 7 as shown in FIG. The resin is injected into the molding space 5, and as shown in FIG.
The resin substrate 8 is molded.
【0049】その後、樹脂基板8を離型すると、同図
(c)に示すように、ITO膜3が表面に埋め込まれた
樹脂基板8の表面が、さらにトップコート膜11で被覆
された電極形成樹脂基板9が作製される。Thereafter, when the resin substrate 8 is released from the mold, the surface of the resin substrate 8 having the ITO film 3 embedded in the surface is further covered with a top coat film 11, as shown in FIG. The resin substrate 9 is manufactured.
【0050】上記のように作製された電極形成樹脂基板
9は、その後、同図(d)に示すように、配向膜12で
さらに被覆され、この配向膜12にラビング処理が行わ
れる。その後、前記実施例同様に、一対の電極形成樹脂
基板9・9を互いに貼り合わせて作製された液晶セル内
に液晶が充填され、液晶表示素子が作製される。The electrode forming resin substrate 9 manufactured as described above is thereafter further covered with an alignment film 12, as shown in FIG. 4D, and the alignment film 12 is subjected to a rubbing treatment. Thereafter, as in the above embodiment, a liquid crystal is filled in a liquid crystal cell manufactured by bonding the pair of electrode-forming resin substrates 9 to each other, and a liquid crystal display element is manufactured.
【0051】本実施例では、樹脂を成形する前に、上型
1の表面にトップコート膜11をさらに設けるため、そ
の成膜時の焼成温度は樹脂基板の耐熱温度に制限され
ず、樹脂基板材料のガラス転移温度(Tg)以上で行う
ことが可能となる。そのため、充分な膜強度を有するト
ップコート膜11を得ることができる。この結果、この
ような電極形成樹脂基板9を用いて作製された液晶表示
素子では、いわゆる上下リーク不良が減少する。また、
Tg以上の熱処理が必要な安価なトップコート膜形成材
料も使用可能となり、製造コストを低減することができ
る。In this embodiment, since the top coat film 11 is further provided on the surface of the upper mold 1 before molding the resin, the firing temperature at the time of film formation is not limited to the heat resistant temperature of the resin substrate. This can be performed at a temperature higher than the glass transition temperature (Tg) of the material. Therefore, the top coat film 11 having sufficient film strength can be obtained. As a result, in a liquid crystal display element manufactured using such an electrode-forming resin substrate 9, so-called vertical leakage defects are reduced. Also,
An inexpensive top coat film forming material requiring a heat treatment of Tg or more can be used, and the manufacturing cost can be reduced.
【0052】さらに、樹脂基板8の成形前にトップコー
ト膜11が成膜されているので、樹脂基板材料として
も、120℃以上の耐熱性の高い樹脂を用いる必要がな
く、その選択範囲が広くなる。このため、耐熱性の低い
安価な樹脂材料を用いることが可能となり、これによっ
ても、製造コストをさらに低減することが可能となる。Further, since the top coat film 11 is formed before the resin substrate 8 is formed, it is not necessary to use a resin having high heat resistance of 120 ° C. or more as the resin substrate material, and the selection range is wide. Become. For this reason, it is possible to use an inexpensive resin material having low heat resistance, and thus it is possible to further reduce the manufacturing cost.
【0053】〔実施例3〕本発明のさらに他の実施例に
ついて図5および図6に基づいて説明すれば、以下の通
りである。Embodiment 3 Still another embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.
【0054】本実施例に係る液晶表示素子用樹脂基板の
製造方法においては、樹脂基板8を成形する前に、配向
膜12とITO膜3とが上型1に形成される。すなわ
ち、図5(a)に示すように、前記実施例2とほぼ同様
に、ニッケル膜より成る表面処理層2を備えたガラス製
の上型1が作製され、表面処理層2上に、同図(b)に
示すように、配向膜12が成膜される。この配向膜12
は、芳香族ポリアミド、例えばポリエーテルアミドを溶
剤に溶かした配向膜材料を、例えばオフセット印刷し、
170℃ピーク90分設定で焼成することによって形成
される。In the method of manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element according to the present embodiment, the alignment film 12 and the ITO film 3 are formed on the upper mold 1 before the resin substrate 8 is formed. That is, as shown in FIG. 5A, an upper mold 1 made of glass having a surface treatment layer 2 made of a nickel film is manufactured in substantially the same manner as in the second embodiment. As shown in FIG. 2B, an alignment film 12 is formed. This alignment film 12
The aromatic polyamide, for example, an alignment film material dissolved in a solvent polyether amide, for example, offset printing,
It is formed by baking at 170 ° C. peak for 90 minutes.
【0055】その後、配向膜12上にITO膜3が形成
され(同図(c))、このITO膜3のパターニングが行
われる(同図(d))。こうして得られたITO膜3およ
び配向膜12付きの上型1が、図6(a)に示すよう
に、表面処理層7を備えた下型4に対向させて樹脂基板
成形装置に組込まれ、成形空間5に樹脂が注入されて、
同図(b)に示すように、樹脂基板8が成形される。Thereafter, an ITO film 3 is formed on the alignment film 12 (FIG. 3C), and the ITO film 3 is patterned (FIG. 3D). The upper mold 1 with the ITO film 3 and the alignment film 12 thus obtained is incorporated in a resin substrate molding apparatus so as to face the lower mold 4 having the surface treatment layer 7, as shown in FIG. The resin is injected into the molding space 5,
As shown in FIG. 2B, the resin substrate 8 is formed.
【0056】その後、樹脂基板8を離型すると、同図
(c)に示すように、ITO膜3が表面に埋め込まれた
樹脂基板8の表面が、配向膜12で被覆された電極形成
樹脂基板9が作製される。Thereafter, when the resin substrate 8 is released, as shown in FIG. 3C, the surface of the resin substrate 8 having the ITO film 3 embedded therein is covered with an alignment film 12. 9 is produced.
【0057】上記配向膜付き電極形成樹脂基板9は、そ
の後、ラビング処理が施され、次いで、前記各実施例と
同様に、一対の電極形成樹脂基板9・9間に液晶が封入
されることによって、液晶表示素子が作製される。The electrode-forming resin substrate 9 with the alignment film is then subjected to a rubbing treatment, and then liquid crystal is sealed between the pair of electrode-forming resin substrates 9 as in the above-described embodiments. Thus, a liquid crystal display device is manufactured.
【0058】本実施例では、樹脂基板材料の成形の前
に、上型1上で配向膜12を成膜するため、耐熱性の高
い材料で上型1を作製することにより、配向膜12の成
膜時の焼成温度は樹脂基板8の耐熱温度に制限されず、
Tg以上で行うことが可能となる。そのため、充分な配
向特性が得られると共に、Tg以上の熱処理が必要な配
向膜材料も使用可能となる。その結果、Tg以上の熱処
理が必要な安価な配向膜で、安定した配向チルト角を得
ることが可能となる。さらに、樹脂基板8の成形前に配
向膜12が成膜されているので、この場合も、樹脂基板
材料として耐熱性の低い安価な樹脂を樹脂基板材料とし
て選定することが可能となり、製造コストを低減するこ
とが可能となる。In this embodiment, since the alignment film 12 is formed on the upper mold 1 before the molding of the resin substrate material, the upper mold 1 is made of a material having high heat resistance. The firing temperature at the time of film formation is not limited to the heat-resistant temperature of the resin substrate 8,
This can be performed at Tg or more. Therefore, sufficient alignment characteristics can be obtained, and an alignment film material requiring a heat treatment of Tg or more can be used. As a result, a stable alignment tilt angle can be obtained with an inexpensive alignment film that requires a heat treatment of Tg or more. Further, since the alignment film 12 is formed before the resin substrate 8 is formed, also in this case, it is possible to select an inexpensive resin having low heat resistance as the resin substrate material, thereby reducing the manufacturing cost. It becomes possible to reduce.
【0059】〔実施例4〕本発明のさらに他の実施例に
ついて図7および図8に基づいて説明すれば、以下の通
りである。[Embodiment 4] Still another embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.
【0060】本実施例に係る液晶表示素子用樹脂基板の
製造方法においては、樹脂基板8を成形する前に、配向
膜12およびトップコート膜11とITO膜3とを上型
1に順次形成する。すなわち、図7(a)に示すよう
に、前記実施例2とほぼ同様に、ニッケル層より成る表
面処理層2を備えたガラス製の上型1が作製され、表面
処理層2上に、同図(b)に示すように、配向膜12と
トップコート膜11とが、それぞれ前記実施例と同様の
条件にて、順次形成される。その後、トップコート膜1
1上にITO膜3が形成され(同図(c))、このITO
膜3がパターニングされる(同図(d))。In the method of manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element according to the present embodiment, before forming the resin substrate 8, the alignment film 12, the top coat film 11, and the ITO film 3 are sequentially formed on the upper mold 1. . In other words, as shown in FIG. 7A, a glass upper mold 1 having a surface treatment layer 2 made of a nickel layer is manufactured in substantially the same manner as in the second embodiment. As shown in FIG. 2B, an alignment film 12 and a top coat film 11 are sequentially formed under the same conditions as in the above-described embodiment. Then, top coat film 1
1, an ITO film 3 is formed (FIG. 3 (c)).
The film 3 is patterned (FIG. 2D).
【0061】こうして得られたITO膜3・トップコー
ト膜11・配向膜12付きの上型1が、図8(a)に示
すように、前記各実施例と同様に、表面処理層7を備え
た下型4に対向させて樹脂基板成形装置に組込まれ、成
形空間5に樹脂が注入されて、同図(b)に示すよう
に、樹脂基板8が成形される。The upper die 1 with the ITO film 3, the top coat film 11, and the alignment film 12 thus obtained is provided with the surface treatment layer 7, as shown in FIG. The resin substrate 8 is assembled into the resin substrate molding apparatus so as to face the lower mold 4, and the resin is injected into the molding space 5 to form the resin substrate 8 as shown in FIG.
【0062】その後、樹脂基板8を離型すると、同図
(c)に示すように、ITO膜3が表面に埋め込まれた
樹脂基板8の表面に、さらにトップコート膜11と配向
膜12とが順次積層された電極形成樹脂基板9が作製さ
れる。Thereafter, when the resin substrate 8 is released from the mold, as shown in FIG. 3C, the top coat film 11 and the alignment film 12 are further formed on the surface of the resin substrate 8 in which the ITO film 3 is embedded. The electrode forming resin substrates 9 sequentially laminated are manufactured.
【0063】上記電極形成樹脂基板9は、その後、前記
実施例3と同様に、ラビング処理が施され、次いで、一
対の電極形成樹脂基板9・9間に液晶が封入され、液晶
表示素子が作製される。The electrode-forming resin substrate 9 is then subjected to a rubbing treatment in the same manner as in the third embodiment, and then liquid crystal is sealed between the pair of electrode-forming resin substrates 9 to form a liquid crystal display device. Is done.
【0064】本実施例においては、樹脂基板8の成形と
同時に、その表面にトップコート膜11と配向膜12と
が設けられ、したがって、従来、樹脂基板の成形後に行
われていたトップコート膜と配向膜との各成膜時の高温
熱処理プロセスがなくなるので、樹脂基板材料としてさ
らに耐熱性の低い安価な材料を用いることが可能とな
る。In this embodiment, the top coat film 11 and the alignment film 12 are provided on the surface of the resin substrate 8 at the same time as the resin substrate 8 is formed. Since the high-temperature heat treatment process at the time of forming each film with the alignment film is eliminated, an inexpensive material with lower heat resistance can be used as the resin substrate material.
【0065】〔実施例5〕本発明のさらに他の実施例に
ついて図9および図10に基づいて説明すれば、以下の
通りである。[Embodiment 5] Still another embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.
【0066】本実施例に係る液晶表示素子用樹脂基板の
製造方法においては、図9(a)に示すように、ガラス
製の平板から成る上型1の表面に所定の凹凸1aが形成
されている。この凹凸1aは、例えばのこぎり歯形状の
ように一方向に揃った斜面の繰返し形状として形成さ
れ、斜面の角度は10°程度、また、斜面の稜線の間隔
は約1μm、斜面の段差は約0.2μmである。In the method of manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element according to the present embodiment, as shown in FIG. 9A, predetermined irregularities 1a are formed on the surface of an upper mold 1 made of a flat plate made of glass. I have. The unevenness 1a is formed as a repetitive shape of a slope aligned in one direction, for example, a saw-tooth shape, the angle of the slope is about 10 °, the interval between the ridge lines of the slope is about 1 μm, and the step of the slope is about 0 °. .2 μm.
【0067】上型1の上記凹凸1aが形成された成形面
に、ニッケルがスパッタによりコートされて表面処理層
2が設けられている。この表面処理層2には、上型1表
面の上記凹凸形状がそのまま表出したものとなってい
る。The surface of the upper mold 1 on which the irregularities 1a are formed is coated with nickel by sputtering to provide a surface treatment layer 2. In the surface treatment layer 2, the above-mentioned uneven shape on the surface of the upper mold 1 is exposed as it is.
【0068】上記の上型1における表面処理層2上に、
同図(b)に示すように、前記実施例同様、配向膜12
とトップコート膜11とが順次形成され、さらに同図
(c)に示すように、ITO膜3が形成され、このIT
O膜3がパターニングされる(同図(d))。On the surface treatment layer 2 in the upper mold 1,
As shown in FIG. 3B, similarly to the above-described embodiment, the alignment film 12 is formed.
And a top coat film 11 are sequentially formed, and an ITO film 3 is formed as shown in FIG.
The O film 3 is patterned (FIG. 4D).
【0069】こうして得られたITO膜3・トップコー
ト膜11・配向膜12付きの上型1が、図10(a)に
示すように、前記各実施例と同様に、表面処理層7を備
えた下型4に対向させて樹脂基板成形装置に組込まれ、
同図(b)に示すように、樹脂基板8が成型される。The upper mold 1 with the ITO film 3, the top coat film 11, and the alignment film 12 thus obtained is provided with a surface treatment layer 7 as shown in FIG. Is installed in the resin substrate molding apparatus so as to face the lower mold 4,
As shown in FIG. 2B, the resin substrate 8 is molded.
【0070】その後、樹脂基板8を離型すると、同図
(c)に示すように、ITO膜3が表面に埋め込まれた
樹脂基板8の表面に、さらにトップコート膜11と配向
膜12とが順次積層された電極形成樹脂基板9が作製さ
れる。この電極形成樹脂基板9は、表面層となる配向膜
12の表面に、上型1に予め形成した凹凸が転写され、
これが、液晶を所定のチルト角に配向させるように機能
する。After that, when the resin substrate 8 is released, as shown in FIG. 4C, the top coat film 11 and the alignment film 12 are further formed on the surface of the resin substrate 8 in which the ITO film 3 is embedded. The electrode forming resin substrates 9 sequentially laminated are manufactured. In the electrode forming resin substrate 9, irregularities formed in advance on the upper mold 1 are transferred to the surface of the alignment film 12 serving as a surface layer,
This functions to orient the liquid crystal at a predetermined tilt angle.
【0071】したがって、一対の上記電極形成樹脂基板
9・9を相対向させて液晶を封入し、液晶表示素子を作
製する場合に、液晶を配向させるためのラビング処理が
不要になる。このように工程数が一つ少なくなるので、
全体の製造コストが低減される。Therefore, when the liquid crystal is sealed with the pair of electrode forming resin substrates 9 opposed to each other and a liquid crystal display element is manufactured, a rubbing process for aligning the liquid crystal is not required. Since the number of processes is reduced by one,
Overall manufacturing costs are reduced.
【0072】なお、上記各実施例では、上型1の表面に
フッ素系樹脂、或いはニッケルから成る表面処理層2を
設けた例を示したが、その他、表面処理層2を例えばタ
ンタルや金等の薄膜で形成することも可能である。ま
た、ITO膜3の成膜をマグネトロンスパッタリング法
によって行ったが、例えばイオンプレーティング法、C
VD法等によって成膜することも可能であり、さらに成
膜したITO膜3のパターニングを、前記したレーザ光
による直接描画に代えて、ドライエッチング法やウエッ
トエッチング法によって行うこともできる。さらに、透
明導電膜として、ITO膜3に代えて、導電性高分子を
用い、これを、印刷やスピンコート、ディッピング等に
よって形成することも可能である。In each of the above embodiments, an example is shown in which the surface treatment layer 2 made of a fluorine-based resin or nickel is provided on the surface of the upper mold 1. However, the surface treatment layer 2 may be made of, for example, tantalum or gold. It is also possible to form with a thin film. The ITO film 3 was formed by magnetron sputtering.
It is also possible to form a film by a VD method or the like, and the patterning of the formed ITO film 3 can also be performed by a dry etching method or a wet etching method instead of the above-described direct drawing by a laser beam. Further, a conductive polymer may be used as the transparent conductive film instead of the ITO film 3 and formed by printing, spin coating, dipping, or the like.
【0073】一方、樹脂基板8を成形する際の成形材料
としては、上記実施例に挙げたポリエチルメタクリレー
ト以外の熱可塑性樹脂、例えば、ポリカーボネート、ポ
リアリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエーテルスルホン等を用いるこ
とも可能であり、また、これらの材料を用いて射出成型
により形成することもできる。さらに、成形材料とし
て、メチルメタクリレートで代表されるアルキルメタク
リレート、2官能性メタクリレート、メチルアクリレー
トに代表されるアルキルアクリレート、2官能性アクリ
レート、スチレン、ジビニルベンゼン、エポキシメタク
リレート、各種エポキシ系モノマー、これらの樹脂モノ
マー単体および混合物を、重合開始剤と共に加熱、加
圧、UV照射により架橋重合させて成型することも可能
である。On the other hand, as a molding material for molding the resin substrate 8, a thermoplastic resin other than the polyethyl methacrylate mentioned in the above examples, for example, polycarbonate, polyarylate, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polyether sulfone It is also possible to use these materials, and it is also possible to form them by injection molding using these materials. Further, as molding materials, alkyl methacrylates represented by methyl methacrylate, bifunctional methacrylates, alkyl acrylates represented by methyl acrylate, bifunctional acrylates, styrene, divinylbenzene, epoxy methacrylate, various epoxy monomers, these resins The monomer alone and the mixture can be cross-linked and polymerized by heating, pressurizing, and UV irradiation together with the polymerization initiator to form a molded product.
【0074】さらに、ITO膜3を成膜しパターニング
した後の上型1には、さらに、その表面にカラーフィル
ターやTFT素子等のスイッチング素子、或いはガスバ
リア膜等をさらに形成し、その後、この上型1を樹脂基
板成形装置に組込んで、樹脂基板8を注型成形するよう
に構成することも可能である。Further, on the upper mold 1 after the ITO film 3 is formed and patterned, a switching element such as a color filter and a TFT element, or a gas barrier film is further formed on the surface thereof. It is also possible to incorporate the mold 1 into a resin substrate molding apparatus and to mold and mold the resin substrate 8.
【0075】[0075]
【発明の効果】以上のように、本発明の請求項1記載の
液晶表示素子用樹脂基板の製造方法は、一対の成形型を
所定の成形空間を挟んで相対向する成形位置に設定し、
上記成形空間に透明樹脂を充填することによって樹脂基
板を成形する液晶表示素子用樹脂基板の製造方法におい
て、一方の成形型における上記成形空間に面する成形面
に透明導電膜を成膜し、この透明導電膜を所定の電極パ
ターンにパターニングした後、上記成形型を成形位置に
設定して透明樹脂を成形空間に充填し、その後、上記透
明樹脂から成る成形体を透明導電膜と共に成形面から剥
離することによって、電極付き樹脂基板を作製する構成
である。As described above, in the method for manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element according to the first aspect of the present invention, a pair of molding dies are set at opposing molding positions with a predetermined molding space interposed therebetween.
In the method for manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element, which forms a resin substrate by filling the molding space with a transparent resin, a transparent conductive film is formed on a molding surface facing the molding space in one molding die. After patterning the transparent conductive film into a predetermined electrode pattern, the molding die is set at the molding position, the transparent resin is filled in the molding space, and then the molded body made of the transparent resin is separated from the molding surface together with the transparent conductive film. Thus, a resin substrate with electrodes is manufactured.
【0076】これにより、透明導電膜の成膜条件は、成
形型の耐熱性に応じてより高く設定できるため、緻密で
均一な透明導電膜が得られる。しかも、樹脂基板成形時
以降においては、上記透明導電膜はすでにパターニング
後の細分化された状態であるため、樹脂基板と透明導電
膜との熱膨張係数の違いによる熱応力が分散される。こ
の結果、透明導電膜におけるクラックの発生を低減する
ことができるという効果を奏する。Thus, the conditions for forming the transparent conductive film can be set higher according to the heat resistance of the mold, and a dense and uniform transparent conductive film can be obtained. In addition, after the resin substrate is formed, since the transparent conductive film is already in a finely divided state after patterning, thermal stress due to a difference in thermal expansion coefficient between the resin substrate and the transparent conductive film is dispersed. As a result, there is an effect that generation of cracks in the transparent conductive film can be reduced.
【0077】請求項2記載の液晶表示素子用樹脂基板の
製造方法は、上記成形面を平滑面として形成し、この平
滑面に上記透明導電膜を成膜する構成である。A method of manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element according to a second aspect is such that the molding surface is formed as a smooth surface, and the transparent conductive film is formed on the smooth surface.
【0078】これにより、電極付き樹脂基板は、その電
極形成面全体が平滑な面として形成され、電極の厚さに
相当する段差が表面に生じないので、この基板を用いて
作製された液晶表示素子は、セルギャップの不均一によ
る色むら・表示むらが生じず、この結果、液晶表示素子
での表示性能を向上することができるという効果を奏す
る。As a result, the entire surface of the resin substrate with electrodes is formed as a smooth surface, and no step corresponding to the thickness of the electrodes is formed on the surface. The element does not cause color unevenness and display unevenness due to non-uniform cell gap, and as a result, it has an effect that display performance of the liquid crystal display element can be improved.
【0079】請求項3記載の液晶表示素子用樹脂基板の
製造方法は、上記成形面に離型性を高めるための表面処
理を施し、この処理面に上記透明導電膜を成膜する構成
である。A third aspect of the present invention is a method of manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element, wherein the molding surface is subjected to a surface treatment for enhancing releasability, and the transparent conductive film is formed on the treated surface. .
【0080】これにより、成形型の全体を離型性の高い
材料で構成する必要はなく、例えばガラス板等、より安
価な材料を選定することができる。そして、その表面に
離型性の高い材料で表面処理を行うことで、高価な材料
の使用が極力抑えられ、成形型全体の製作費用をより安
価なものとすることができるので、全体の製造コストを
低減することが可能になるという効果を奏する。Thus, it is not necessary to form the entire mold with a material having high mold release properties, and a less expensive material such as a glass plate can be selected. By performing a surface treatment on the surface with a material having a high release property, the use of expensive materials can be suppressed as much as possible, and the manufacturing cost of the entire mold can be reduced, so that the entire manufacturing There is an effect that it is possible to reduce costs.
【0081】請求項4記載の液晶表示素子用樹脂基板の
製造方法は、電極付き樹脂基板の表面を覆うべく設けら
れる被覆層を上記成形面に予め形成し、その後、上記透
明導電膜の成膜・パターニングと、透明樹脂の成形とを
順次行った後、成形体を上記被覆層および透明導電膜と
共に成形面から剥離する構成である。According to a fourth aspect of the present invention, in the method of manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element, a coating layer provided to cover the surface of the resin substrate with electrodes is previously formed on the molding surface, and then the transparent conductive film is formed. After the patterning and the molding of the transparent resin are sequentially performed, the molded body is separated from the molding surface together with the coating layer and the transparent conductive film.
【0082】これにより、被覆層として、例えば電極保
護用絶縁膜を設ける場合、これをより温度の高い処理条
件で成膜することで、充分な膜強度の電極保護用絶縁膜
を得ることができる。この結果、この樹脂基板を用いて
作製される液晶表示素子では、いわゆる上下リーク不良
の発生が低減し、これによって、表示品位が向上する。
また、被覆層として配向膜を設ける場合には、充分な配
向特性が得られる膜形成を行うことができる。さらに、
各材料の選択範囲が広がり、より安価な材料の選定が可
能となるので、製造コストを低減することが可能になる
という効果を奏する。Thus, in the case where, for example, an insulating film for protecting an electrode is provided as a coating layer, an insulating film for protecting an electrode having a sufficient film strength can be obtained by forming the film under a higher temperature processing condition. . As a result, in a liquid crystal display element manufactured using this resin substrate, the occurrence of a so-called vertical leakage defect is reduced, and the display quality is improved.
In the case where an alignment film is provided as the coating layer, a film with sufficient alignment characteristics can be formed. further,
Since the selection range of each material is widened and a cheaper material can be selected, there is an effect that the manufacturing cost can be reduced.
【0083】請求項5記載の液晶表示素子用樹脂基板の
製造方法は、上記被覆層が、成形面に順次成膜された配
向膜と電極保護用絶縁膜との積層体から成る構成であ
る。According to a fifth aspect of the present invention, in the method of manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element, the coating layer is formed of a laminate of an alignment film and an electrode protection insulating film formed sequentially on a molding surface.
【0084】これにより、樹脂基板の成形後には、電極
保護用絶縁膜および透明導電膜の各成膜時の高温熱処理
プロセスのいずれも行う必要がなくなるので、樹脂基板
材料としてさらに耐熱性の低い安価な材料を用いること
が可能となり、これによって、製造コストをさらに低減
することができるという効果を奏する。Thus, after forming the resin substrate, it is not necessary to perform any of the high-temperature heat treatment processes at the time of forming the insulating film for protecting the electrode and the transparent conductive film. This makes it possible to use a simple material, thereby producing an effect that the manufacturing cost can be further reduced.
【0085】請求項6記載の液晶表示素子用樹脂基板の
製造方法は、配向膜が成膜される上記成形面に液晶を配
向させるための微細な凹凸を形成している構成である。A method of manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element according to a sixth aspect of the invention has a structure in which fine irregularities for orienting liquid crystals are formed on the molding surface on which the alignment film is formed.
【0086】これにより、液晶表示素子の製造工程中、
配向膜に対するラビング処理工程が不要になるので、全
体の製造コストをさらに低減することができるという効
果を奏する。As a result, during the manufacturing process of the liquid crystal display element,
Since the rubbing process for the alignment film is not required, there is an effect that the overall manufacturing cost can be further reduced.
【0087】したがって、上述の製造方法により作製さ
れる請求項7記載の液晶表示素子用樹脂基板は、クラッ
クのない緻密で均一な透明導電膜の電極パターンを備
え、また、膜強度の高い電極保護用絶縁膜、配向特性の
優れた配向膜を備えたものとなり、さらに表面の平坦性
が維持される等の特徴を有する。このため、このような
液晶表示素子用樹脂基板を用いて作製される請求項8記
載の液晶表示素子は、色むらや表示むらがなく、良好な
表示性能を有すると共に、各種材料としてより安価なも
のを選定し得ることにより、全体の製造コストを安価な
ものとすることができる。Therefore, the resin substrate for a liquid crystal display element according to claim 7, which is manufactured by the above-described manufacturing method, has a crack-free dense and uniform transparent conductive film electrode pattern, and has a high film strength. It has an insulating film for use and an alignment film having excellent alignment characteristics, and further has features such as maintaining the flatness of the surface. Therefore, the liquid crystal display element according to claim 8, which is manufactured using such a resin substrate for a liquid crystal display element, has no color unevenness or display unevenness, has good display performance, and is inexpensive as various materials. By being able to select one, the overall manufacturing cost can be reduced.
【図1】本発明の一実施例における液晶表示素子用樹脂
基板の製造工程を示すものであって、同図(a)〜
(c)は、それぞれ樹脂基板成形装置に組込まれる上型
の処理工程を示す断面模式図、同図(d)は同図(c)
の平面模式図である。FIG. 1 is a view showing a manufacturing process of a resin substrate for a liquid crystal display element according to an embodiment of the present invention.
(C) is a schematic cross-sectional view showing a processing step of an upper mold incorporated in the resin substrate molding apparatus, and (d) is a sectional view of FIG.
FIG.
【図2】図1の製造工程に続く工程を示すものであっ
て、同図(a)は上記上型を組込んだ樹脂基板成形装置
の要部断面模式図、同図(b)は上記樹脂基板成形装置
での樹脂基板の成型状態を示す要部断面模式図、同図
(c)(e)(f)はそれぞれ上記で成形された樹脂基板の
その後の処理工程を示す断面模式図、同図(d)は同図
(c)の平面模式図である。2A and 2B show a step that follows the manufacturing step of FIG. 1; FIG. 2A is a schematic cross-sectional view of a main part of a resin substrate molding apparatus incorporating the above upper die, and FIG. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a main part showing a molding state of the resin substrate in the resin substrate molding apparatus, and FIGS. 4C, 4E, and 4F are schematic cross-sectional views showing the subsequent processing steps of the resin substrate molded above. FIG. 3D is a schematic plan view of FIG.
【図3】本発明の他の実施例における液晶表示素子用樹
脂基板の製造工程を示すものであって、同図(a)〜
(d)は、それぞれ樹脂基板成形装置に組込まれる上型
の処理工程を示す断面模式図である。3 (a) to 3 (f) show a process of manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element according to another embodiment of the present invention.
(D) is a schematic cross-sectional view showing the processing steps of the upper mold incorporated in the resin substrate molding apparatus.
【図4】図3の製造工程に続く工程を示すものであっ
て、同図(a)は上記上型を組込んだ樹脂基板成形装置
の要部断面模式図、同図(b)は上記樹脂基板成形装置
での樹脂基板の成型状態を示す要部断面模式図、同図
(c)(d)は上記で成形された樹脂基板のその後の処理
工程を示す断面模式図である。FIG. 4 shows a step that follows the manufacturing step of FIG. 3; FIG. 4 (a) is a schematic cross-sectional view of a main part of a resin substrate molding apparatus incorporating the above upper die, and FIG. FIGS. 3C and 3D are schematic cross-sectional views showing the subsequent processing steps of the resin substrate formed as described above, showing the molding state of the resin substrate in the resin substrate molding apparatus. FIGS.
【図5】本発明のさらに他の実施例における液晶表示素
子用樹脂基板の製造工程を示すものであって、同図
(a)〜(d)は、それぞれ樹脂基板成形装置に組込ま
れる上型の処理工程を示す断面模式図である。5 (a) to 5 (d) show a manufacturing process of a resin substrate for a liquid crystal display element according to still another embodiment of the present invention. FIGS. It is a cross-sectional schematic diagram which shows the processing process of.
【図6】図5の製造工程に続く工程を示すものであっ
て、同図(a)は上記上型を組込んだ樹脂基板成形装置
の要部断面模式図、同図(b)は上記樹脂基板成形装置
での樹脂基板の成型状態を示す要部断面模式図、同図
(c)は上記で成形された樹脂基板を示す断面模式図で
ある。FIG. 6 shows a step that follows the manufacturing step of FIG. 5, wherein FIG. 6 (a) is a schematic cross-sectional view of a main part of a resin substrate molding apparatus incorporating the upper die, and FIG. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a main part showing a molding state of the resin substrate in the resin substrate molding apparatus, and FIG. 3C is a schematic cross-sectional view showing the resin substrate molded as described above.
【図7】本発明のさらに他の実施例における液晶表示素
子用樹脂基板の製造工程を示すものであって、同図
(a)〜(d)は、それぞれ樹脂基板成形装置に組込ま
れる上型の処理工程を示す断面模式図である。FIGS. 7A to 7D show a process for manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element according to still another embodiment of the present invention. FIGS. It is a cross-sectional schematic diagram which shows the processing process of.
【図8】図7の製造工程に続く工程を示すものであっ
て、同図(a)は上記上型を組込んだ樹脂基板成形装置
の要部断面模式図、同図(b)は上記樹脂基板成形装置
での樹脂基板の成型状態を示す要部断面模式図、同図
(c)は上記で成形された樹脂基板を示す断面模式図で
ある。8A and 8B show a step that follows the manufacturing step of FIG. 7; FIG. 8A is a schematic cross-sectional view of a main part of a resin substrate molding apparatus incorporating the upper die, and FIG. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a main part showing a molding state of the resin substrate in the resin substrate molding apparatus, and FIG. 3C is a schematic cross-sectional view showing the resin substrate molded as described above.
【図9】本発明のさらに他の実施例における液晶表示素
子用樹脂基板の製造工程を示すものであって、同図
(a)〜(d)は、それぞれ樹脂基板成形装置に組込ま
れる上型の処理工程を示す断面模式図である。9 (a) to 9 (d) show a manufacturing process of a resin substrate for a liquid crystal display element according to still another embodiment of the present invention. It is a cross-sectional schematic diagram which shows the processing process of.
【図10】図9の製造工程に続く工程を示すものであっ
て、同図(a)は上記上型を組込んだ樹脂基板成形装置
の要部断面模式図、同図(b)は上記樹脂基板成形装置
での樹脂基板の成型状態を示す要部断面模式図、同図
(c)は上記で成形された樹脂基板を示す断面模式図で
ある。10 shows a step that follows the manufacturing step of FIG. 9, wherein FIG. 10 (a) is a schematic cross-sectional view of a main part of a resin substrate molding apparatus incorporating the above upper mold, and FIG. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a main part showing a molding state of the resin substrate in the resin substrate molding apparatus, and FIG.
【図11】従来の樹脂基板の製造工程を示すものであっ
て、同図(a)〜(e)は、それぞれ、製造工程にそっ
て順次形成される透明樹脂基板の断面模式図である。11 (a) to 11 (e) are cross-sectional schematic views of a transparent resin substrate sequentially formed along the manufacturing process, showing a conventional manufacturing process of the resin substrate.
1 上型(成形型) 1a 凹凸 2 表面処理層 3 ITO膜(透明導電膜) 4 下型(成形型) 5 成形空間 6 側壁 7 表面処理層 8 樹脂基板 9 電極形成樹脂基板 11 トップコート膜(電極保護用絶縁膜) 12 配向膜 REFERENCE SIGNS LIST 1 Upper die (molding die) 1a Unevenness 2 Surface treatment layer 3 ITO film (transparent conductive film) 4 Lower die (molding die) 5 Molding space 6 Side wall 7 Surface treatment layer 8 Resin substrate 9 Electrode forming resin substrate 11 Top coat film ( Insulating film for electrode protection) 12 Alignment film
Claims (8)
対向する成形位置に設定し、上記成形空間に透明樹脂を
充填することによって樹脂基板を成形する液晶表示素子
用樹脂基板の製造方法において、 一方の成形型における上記成形空間に面する成形面に透
明導電膜を成膜し、この透明導電膜を所定の電極パター
ンにパターニングした後、 上記成形型を成形位置に設定して透明樹脂を成形空間に
充填し、 その後、上記透明樹脂から成る成形体を透明導電膜と共
に成形面から剥離することによって、電極付き樹脂基板
を作製することを特徴とする液晶表示素子用樹脂基板の
製造方法。1. Production of a resin substrate for a liquid crystal display element in which a pair of molding dies are set at molding positions opposed to each other across a predetermined molding space, and the molding space is filled with a transparent resin to form a resin substrate. In the method, a transparent conductive film is formed on a molding surface facing the molding space in one molding die, and after patterning this transparent conductive film into a predetermined electrode pattern, the molding die is set at a molding position and is transparent. Manufacturing a resin substrate with an electrode by filling a resin into a molding space and then peeling the molded body made of the transparent resin from a molding surface together with a transparent conductive film to produce a resin substrate with electrodes; Method.
滑面に上記透明導電膜を成膜することを特徴とする請求
項1記載の液晶表示素子用樹脂基板の製造方法。2. The method according to claim 1, wherein the molding surface is formed as a smooth surface, and the transparent conductive film is formed on the smooth surface.
理を施し、この処理面に上記透明導電膜を成膜すること
を特徴とする請求項1又は2記載の液晶表示素子用樹脂
基板の製造方法。3. The resin for a liquid crystal display element according to claim 1, wherein the molding surface is subjected to a surface treatment for enhancing releasability, and the transparent conductive film is formed on the treated surface. Substrate manufacturing method.
れる被覆層を上記成形面に予め形成し、その後、上記透
明導電膜の成膜・パターニングと、透明樹脂の成形とを
順次行った後、成形体を上記被覆層および透明導電膜と
共に成形面から剥離することを特徴とする請求項1、2
又は3記載の液晶表示素子用樹脂基板の製造方法。4. A coating layer provided to cover the surface of the resin substrate with electrodes is previously formed on the molding surface, and thereafter, the film formation and patterning of the transparent conductive film and the molding of the transparent resin are sequentially performed. And releasing the molded body from the molding surface together with the coating layer and the transparent conductive film.
Or a method for producing a resin substrate for a liquid crystal display element according to item 3.
向膜と電極保護用絶縁膜との積層体から成ることを特徴
とする請求項4記載の液晶表示素子用樹脂基板の製造方
法。5. The production of a resin substrate for a liquid crystal display device according to claim 4, wherein said coating layer comprises a laminate of an orientation film and an insulating film for protecting electrodes sequentially formed on a molding surface. Method.
向させるための微細な凹凸を形成していることを特徴と
する請求項5記載の液晶表示素子用樹脂基板の製造方
法。6. The method for manufacturing a resin substrate for a liquid crystal display element according to claim 5, wherein fine irregularities for aligning the liquid crystal are formed on the molding surface on which the alignment film is formed.
法により作製される液晶表示素子用樹脂基板。7. A resin substrate for a liquid crystal display element manufactured by the manufacturing method according to claim 1.
素子用樹脂基板から成る一対の基板を相対向させ、これ
ら基板間に液晶を封入して成る液晶表示素子。8. A liquid crystal display device comprising a pair of substrates, at least one of which is formed of the resin substrate for a liquid crystal display device according to claim 7, opposed to each other, and a liquid crystal is sealed between these substrates.
Priority Applications (1)
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