JP2992831B2 - Namufacture of radiation image conversion panel - Google Patents
Namufacture of radiation image conversion panelInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネ
ルの製造方法に関し、さらに詳しくは水分の侵入を防
ぎ、設定性能を保証し、性能耐久性のよい放射線画像変
換パネルの製造方法に関する。Description: FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing a radiation image conversion panel having a stimulable phosphor layer, and more specifically, to prevent the intrusion of moisture, guarantee the setting performance, and improve the performance. The present invention relates to a method for manufacturing a radiation image conversion panel having good durability.
病気診断用などに用いられるX線画像をハロゲン化銀
感光材料を用いて得る従来の方法に代って、蛍光体層か
ら直接画像を取出すX線画像変換方法が工夫されてい
る。Instead of the conventional method of obtaining an X-ray image used for diagnosing a disease using a silver halide photosensitive material, an X-ray image conversion method for directly extracting an image from a phosphor layer has been devised.
この方法は、例えば、米国特許3,859,527号及び特開
昭55−12144号に示されている、輝尽性蛍光体を用い可
視光線又は赤外線を輝尽励起光とした放射線画像変換方
法であり、輝尽性蛍光体層(以後輝尽層と略称)を有す
る放射線画像変換パネル(以後変換パネルと略称)を使
用するもので、この変換パネルの輝尽層に被写体を透過
した放射線を当てて被写体各部の放射線透過度に対応す
る放射線エネルギーを蓄積させて潜像を形成し、しかる
後にこの輝尽層を輝尽励起光で走査することによって各
部の蓄積された放射線エネルギーを放射させてこれを光
に変換し、この光の強弱による光信号により画像を得る
ものである。This method is, for example, a radiation image conversion method disclosed in U.S. Pat. No. 3,859,527 and JP-A-55-12144, using a stimulable phosphor and using visible light or infrared light as stimulating excitation light. A radiation image conversion panel (hereinafter, abbreviated as a conversion panel) having a stimulable phosphor layer (hereinafter, abbreviated as a stimulable layer) is used. A latent image is formed by accumulating radiation energy corresponding to the radiation transmittance of the laser beam, and thereafter, the radiation energy stored in each part is emitted by scanning this photostimulated layer with photostimulated excitation light, and this is converted into light. The image is converted and an image is obtained based on an optical signal based on the intensity of the light.
この最終的な画像はハードコピーとして再生してもよ
いし、CRT上に再生してもよい。This final image may be reproduced as a hard copy or reproduced on a CRT.
この放射線画像変換方法において使用される変換パネ
ルは、放射線画像情報を蓄積した後輝尽励起光の走査に
よって蓄積エネルギーを解尽、放出するので、走査後再
度放射線画像の蓄積を行うことができ、繰返し使用が可
能である。The conversion panel used in this radiation image conversion method dissipates and releases the stored energy by scanning the stimulating excitation light after accumulating the radiation image information, so that the radiation image can be stored again after scanning, Can be used repeatedly.
そこで、前記変換パネルは、得られる放射線画像の画
質を劣化させることなく長期間あるいは多数回繰返しの
使用に耐える性能を有することが望ましい。そのために
は、前記変換パネルの輝尽層が外部からの物理的あるい
は化学的刺激から十分に保護される必要がある。Therefore, it is desirable that the conversion panel has a performance that can withstand long-time use or repeated use many times without deteriorating the image quality of the obtained radiation image. For this purpose, the photostimulable layer of the conversion panel needs to be sufficiently protected from external physical or chemical stimuli.
従来の変換パネルにおいては、上記の問題の解決を図
るため、変換パネルの支持体上の輝尽層面を被覆する保
護層を設け、変換パネル周縁を密閉し、輝尽層を保護す
る方法がとられてきた。In the conventional conversion panel, in order to solve the above-mentioned problem, a method of providing a protective layer covering the photostimulated layer surface on the support of the conversion panel, sealing the peripheral edge of the conversion panel, and protecting the photostimulated layer is used. I have been.
この保護層は、例えば特開昭59−42500号に開示され
ているように、保護層用塗布液を輝尽層上に直接塗布し
て形成されるか、あるいはあらかじめ別途形成した保護
層を輝尽層上に接着する方法により形成されている。This protective layer is formed by directly applying a protective layer coating solution on the photostimulable layer, as described in JP-A-59-42500, for example. It is formed by a method of bonding on the exhausted layer.
また、変換パネル周縁の密閉には、例えば有機高分子
溶液中に変換パネルの周縁部のみを浸漬するか、あるい
は周縁部に有機高分子溶液を塗布して高分子膜を形成し
てシールする方法、周縁部をシール剤により封止し、シ
ール剤を固定部材により外側から固定する方法(特開昭
61−237099号)、周縁部が保護層の延長部分により被覆
された状態でシールする方法(特開昭61−237100号)等
が用いられている。Also, for sealing the periphery of the conversion panel, for example, a method of immersing only the periphery of the conversion panel in an organic polymer solution, or applying an organic polymer solution to the periphery to form a polymer film and sealing it. A method of sealing the peripheral portion with a sealant and fixing the sealant from the outside with a fixing member
No. 61-237099), and a method of sealing in a state where the peripheral portion is covered with an extended portion of a protective layer (Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-237100).
更に防湿性を上げるために、従来の保護層より厚めの
防湿効果の大きい保護層体を用い、支持体と保護層体の
間に輝尽層を囲んでスペーサを接着、挾在させること
(特開平1−131499号)が提案され、更に進んで前記ス
ペーサの外側に防湿材を兼ねる充填材を充填して防湿効
果を高める方法(特開平2−77700号)が提示されてい
る。In order to further improve the moisture resistance, a protective layer having a greater moisture-proof effect than the conventional protective layer is used, and a spacer is bonded and sandwiched between the support and the protective layer, surrounding the photostimulable layer. (Japanese Unexamined Patent Publication No. 2-131700) has been proposed, and a method of improving the moisture-proof effect by filling the outside of the spacer with a filler also serving as a moisture-proof material has been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 2-77700).
しかしながら、このような従来技術の変換パネルは、
通常の雰囲気中で使用する場合には外部からの水分の侵
入を防止することはできるものの、苛酷な温度、湿度条
件下で使用する場合や水分に弱い蛍光体を用いる場合に
は依然として外部からの水分の侵入による蛍光体の劣化
が問題となっていた。However, such prior art conversion panels,
When used in a normal atmosphere, it is possible to prevent intrusion of moisture from outside, but when used under severe temperature and humidity conditions or when using a phosphor that is sensitive to moisture, external Deterioration of the phosphor due to penetration of moisture has been a problem.
また、輝尽層上に保護層を設け、変換パネル周縁を密
閉しても、変換パネルを製造する工程中に輝尽性蛍光体
が吸湿して、変換パネルの設定品質特性が失われ、再現
性のよい設定性能の保証に問題が起る。さらに、前記吸
湿の程度は製造工程の雰囲気に大きく左右されるので、
変換パネル毎の特性のばらつきが大きく、品質信頼性が
失われる等の問題がある。Also, even if a protective layer is provided on the stimulable layer and the periphery of the conversion panel is sealed, the stimulable phosphor absorbs moisture during the process of manufacturing the conversion panel, and the set quality characteristics of the conversion panel are lost and reproduced. A problem arises in guaranteeing good setting performance. Further, since the degree of the moisture absorption largely depends on the atmosphere of the manufacturing process,
There is a problem that the characteristics of each conversion panel vary greatly and quality reliability is lost.
しかしながら一方において前記した厚い保護層体を用
いる方法は輝尽層と保護層の間に真空層等の低屈折率層
を設け、鮮鋭度の高い変換パネルを提供するには好適な
技術であり、その製造方法の改良によって優れた変換パ
ネルの提供が可能になると思われる。However, on the other hand, the method using the thick protective layer body is a technique suitable for providing a low-refractive-index layer such as a vacuum layer between the stimulating layer and the protective layer, and providing a conversion panel with high sharpness. It is thought that an improved conversion panel can provide an excellent conversion panel.
本発明は前記技術的問題に照し、本発明の目的は、 (1)輝尽性蛍光体への水分の侵入による劣化を防ぎ設
定性能が良好で、 (2)耐湿性び耐用性のよい 変換パネルの提供にある。In view of the above technical problems, the present invention has the following objects: (1) to prevent deterioration due to intrusion of moisture into the stimulable phosphor, to have a good setting performance, and (2) to have good moisture resistance and durability. In providing conversion panels.
本発明は、支持体、輝尽性蛍光体層及び保護層体を有
し、支持体と保護層体の間に、輝尽性蛍光体層の周縁を
取り囲むスペーサを設けて前記輝尽性蛍光体層を密閉す
る放射線画像変換パネルの製造方法において、前記保護
層体及び/又は支持体の少なくとも一箇所に、前記保護
層体、支持体、スペーサからなる密閉空間の通気孔を設
け、放射線画像変換パネルを乾燥した後、前記通気孔を
封着部材で封着することを特徴として構成される。The present invention comprises a support, a stimulable phosphor layer and a protective layer, wherein a spacer surrounding the periphery of the stimulable phosphor layer is provided between the support and the protective layer to provide the stimulable phosphor. In a method of manufacturing a radiation image conversion panel for closing a body layer, a radiation image of a closed space including the protective layer, the support, and a spacer is provided in at least one portion of the protective layer and / or the support. After drying the conversion panel, the ventilation holes are sealed with a sealing member.
本発明により製造される変換パネルの構成としては、
支持体と保護層が輝尽層を挟んで存在しており、輝尽層
の周縁を取り囲んでスペーサが設けられている。輝尽層
は支持体もしくは保護層体に接着されていてもよいが、
輝尽層と保護層体が接していないのが好ましく、間に低
屈折率層が存在しているのがさらに好ましい。The configuration of the conversion panel manufactured according to the present invention includes:
The support and the protective layer are sandwiched between the photostimulable layer, and a spacer is provided around the periphery of the photostimulable layer. The photostimulable layer may be bonded to the support or the protective layer,
It is preferable that the photostimulable layer and the protective layer are not in contact with each other, and it is more preferable that a low refractive index layer is present between the photostimulable layer and the protective layer.
第1図及び第2図は保護層体に通気孔を設けた変換パ
ネルの一例を模式的に表したものであり、1は輝尽層、
2は保護層体、3は支持体、4は低屈折率層、5はスペ
ーサ、6は通気孔、7は通気孔を掩って封着した封着部
材である。このタイプは作業性が甚だ良好である。FIG. 1 and FIG. 2 schematically show an example of a conversion panel in which ventilation holes are provided in a protective layer body.
Reference numeral 2 denotes a protective layer body, 3 denotes a support, 4 denotes a low refractive index layer, 5 denotes a spacer, 6 denotes a vent, and 7 denotes a sealing member that covers and seals the vent. This type has very good workability.
前記の態様において、通気孔は輝尽層からの輝尽光の
読取りに支障のない部分の保護層体及び/又は支持体位
置に最低一箇所穿たれる。好ましくは1〜2箇所であ
る。In the above-described embodiment, at least one vent hole is formed in a portion of the protective layer and / or the support which does not hinder reading of the photostimulable light from the photostimulable layer. Preferably, it is one or two places.
通気孔断面積は密閉空間100cm3に対し0.25〜1.5cm2が
好ましい。通気孔の総断面は大きすぎると変換パネルの
構造強度上好ましくない。The cross-sectional area of the ventilation hole is preferably 0.25 to 1.5 cm 2 for 100 cm 3 of the closed space. If the total cross section of the ventilation holes is too large, it is not preferable in terms of the structural strength of the conversion panel.
また通気孔周縁から封着部材周縁までの最小距離、即
ち外気が密閉空間へ侵入する際の接着界面透湿距離は1c
mとれば充分である。通気孔を掩う封着部材の接着面と
これに対する通気孔周面の形状は必ずしも平面に限るこ
とはなく、互いに共軛面であればよい。The minimum distance from the periphery of the ventilation hole to the periphery of the sealing member, that is, the distance of moisture permeation at the bonding interface when outside air enters the closed space is 1c.
m is enough. The shape of the adhesive surface of the sealing member covering the air hole and the shape of the peripheral surface of the air hole with respect to this are not necessarily limited to flat surfaces, but may be any conjugate surfaces.
封着部材の材質は、輝尽層を外部雰囲気から遮断した
状態で保持することができるものであれば特に制限され
ず、ガラス、セラミックス、金属、プラスチック等を用
いることができるが接着対象面の材質に適応して選ぶこ
とが好ましく、更に同材質であることがより好ましい。
さらにその透湿度はカップ法(JIS Z0208)により求め
られ、その値は30g/m2・24hr以下であることが好まし
い。これより透湿度が大きい場合には、外部から侵入す
る水分により輝尽性蛍光体が劣化するために好ましくな
い。The material of the sealing member is not particularly limited as long as it can hold the photostimulable layer in a state of being shielded from the external atmosphere, and glass, ceramics, metal, plastic, and the like can be used. It is preferable to select the material according to the material, and it is more preferable that the material is the same.
Further, its moisture permeability is determined by a cup method (JIS Z0208), and its value is preferably 30 g / m 2 · 24 hr or less. If the moisture permeability is higher than this, it is not preferable because the stimulable phosphor deteriorates due to moisture entering from the outside.
封着部材の封着に用いる防湿接着剤としては、二液型
ウレタン系接着剤、二液型変成アクリレート系接着剤、
二液型変成アクリル系接着剤、二液型エポキシ系接着剤
などの二液を混合することにより重縮合または架橋反応
して硬化する樹脂や、X線、α線、β線、γ線、高エネ
ルギー中性子線、電子線、紫外線などの電磁波または粒
子線を照射することによりその電磁波または粒子線のエ
ネルギーを吸収して硬化する放射線硬化型樹脂などが挙
げられる。As the moisture-proof adhesive used for sealing the sealing member, a two-component urethane-based adhesive, a two-component modified acrylate-based adhesive,
A resin that cures by polycondensation or cross-linking reaction by mixing two components such as a two-component modified acrylic adhesive or a two-component epoxy adhesive, or an X-ray, α-ray, β-ray, γ-ray, Irradiation with electromagnetic waves or particle beams, such as energy neutrons, electron beams, and ultraviolet rays, absorbs the energy of the electromagnetic waves or particle beams to cure the resin.
加熱乾燥は40〜100℃で0.1〜3時間行い、減圧下で行
うと除湿効果が高く好ましい。Heat drying is carried out at 40 to 100 ° C. for 0.1 to 3 hours, and is preferably performed under reduced pressure because the dehumidifying effect is high.
加熱乾燥後直ちに、通気孔は封着し、密閉する。乾燥
後密閉空間の空気を乾燥ガス、例えば含水量50ppm以
下、好ましくは20ppm以下のN2ガスと置換すると、変換
パネルの設定性能を保持することができてより好まし
い。また、通気孔の封着、密閉は乾燥ガス雰囲気中で行
なうと通気孔からの水分の侵入を防止でき、好ましい。Immediately after heating and drying, the air holes are sealed and sealed. After drying, it is more preferable to replace the air in the closed space with a dry gas, for example, an N 2 gas having a water content of 50 ppm or less, preferably 20 ppm or less, because the set performance of the conversion panel can be maintained. In addition, it is preferable that the sealing and sealing of the air holes be performed in a dry gas atmosphere, because the intrusion of moisture from the air holes can be prevented.
本発明において用いられる保護層体としては、透光性
がよく、シート状に成形できるものが使用される。保護
層体は輝尽励起光及び輝尽発光を効率よく透過するため
に、広い波長範囲で高い光透過率を示すことが望まし
く、光透過率は80%以上が好ましい。例えば、石英、硼
珪酸ガラス、化学的強化ガラス等の板ガラスや、PET、
延伸ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等の有機高分子化
合物が挙げられる。硼珪酸ガラスは330nm〜2.6μmの波
長範囲で80%以上の光透過率を示し、石英ガラスではさ
らに短波長においても高い光透過率を示す。As the protective layer body used in the present invention, a protective layer body having a good light-transmitting property and capable of being formed into a sheet shape is used. In order to transmit the stimulated excitation light and the stimulated emission efficiently, the protective layer preferably has a high light transmittance in a wide wavelength range, and the light transmittance is preferably 80% or more. For example, sheet glass such as quartz, borosilicate glass, chemically strengthened glass, PET,
Organic polymer compounds such as stretched polypropylene and polyvinyl chloride are exemplified. Borosilicate glass shows a light transmittance of 80% or more in the wavelength range of 330 nm to 2.6 μm, and quartz glass shows a high light transmittance even at a shorter wavelength.
さらに、保護層体の表面に、MgF2等の反射防止層を設
けると、輝尽励起光及び輝尽発光を効率よく透過すると
ともに、鮮鋭性の低下を小さくする効果もあり好まし
い。Further, it is preferable to provide an anti-reflection layer such as MgF 2 on the surface of the protective layer body, because it has an effect of efficiently transmitting the stimulating light and the stimulating light and also has the effect of reducing the decrease in sharpness.
また、保護層体の厚さは、50μm〜5mmであり、良好
な防湿性を得るためには、100μm〜3mmが好ましい。The thickness of the protective layer is 50 μm to 5 mm, and preferably 100 μm to 3 mm in order to obtain good moisture proofness.
その透湿度はカップ法による30g/m2・24hr以下である
ことが好ましい。これより透湿度が大きい場合には、外
部から侵入する水分により輝尽性蛍光体が劣化するため
に好ましくない。The water vapor transmission rate is preferably 30 g / m 2 · 24 hr or less by a cup method. If the moisture permeability is higher than this, it is not preferable because the stimulable phosphor deteriorates due to moisture entering from the outside.
本発明において使用される支持体としては各種の高分
子材料、ガラス、セラミックス、金属等が挙げられる。Examples of the support used in the present invention include various polymer materials, glass, ceramics, and metals.
高分子材料としては例えばセルロースアセテートフィ
ルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリアミド、ポリイミド、トリアセテート、ポリ
カーボネート等のフィルムが挙げられる。金属として
は、アルミニウム、鉄、銅、クロム等の金属シート又は
金属板或は該金属酸化物の被覆層を有する金属シート又
は金属板が挙げられる。ガラスとしては化学的強化ガラ
スや結晶化ガラスなどが挙げられる。またセラミックス
としてはアルミナやジルコニアの焼結板などが挙げられ
る。Examples of the polymer material include films of cellulose acetate film, polyester film, polyethylene terephthalate, polyamide, polyimide, triacetate, polycarbonate and the like. Examples of the metal include a metal sheet or metal plate of aluminum, iron, copper, chromium, or the like, or a metal sheet or metal plate having a coating layer of the metal oxide. Examples of the glass include chemically strengthened glass and crystallized glass. Examples of the ceramic include a sintered plate of alumina or zirconia.
また、これら支持体の層厚は用いる支持体の材質等に
よって異なるが、一般的には80μm〜5mmであり、取り
扱いが容易であるという点及び良好な防湿性を得るとい
う点から、好ましくは200μm〜3mmである。また透湿度
はカップ法による30g/m2・24hr以下であることが好まし
い。Further, the layer thickness of these supports varies depending on the material of the support to be used and the like, but is generally 80 μm to 5 mm, and is preferably 200 μm from the viewpoint of easy handling and obtaining good moisture-proof properties. ~ 3mm. Further, the moisture permeability is preferably 30 g / m 2 · 24 hr or less by a cup method.
これら支持体の表面は滑面であってもよいし、輝尽性
蛍光体層との接着性を向上させる目的でマット面として
もよい。また、支持体の表面は凹凸面としてもよいし、
個々に独立した微小タイル状板を密に配置した表面構造
としてもよい。The surface of the support may be a smooth surface or a mat surface for the purpose of improving the adhesion to the stimulable phosphor layer. Also, the surface of the support may be an uneven surface,
A surface structure in which minute tile plates independent of each other are densely arranged may be used.
さらに、これら支持体上には、輝尽層との接着性を向
上させる目的で輝尽層が設けられる面に下引層を設けて
もよいし、必要に応じて光反射層、光吸収層等を設けて
もよい。Further, on these supports, an undercoat layer may be provided on the surface on which the stimulable layer is provided for the purpose of improving the adhesiveness with the stimulable layer, and if necessary, a light reflecting layer and a light absorbing layer may be provided. May be provided.
支持体又は保護層体上に輝尽層を形成せしめた後、支
持体と保護層体の間に、輝尽層を取り囲んでスペーサを
設けるが、このようなスペーサとしては、輝尽層を外部
雰囲気から遮断した状態で保持することができるもので
あれば特に制限されず、ガラス、セラミックス、金属、
プラスチック等を用いることができる。After forming the photostimulable layer on the support or the protective layer, a spacer is provided between the support and the protective layer to surround the photostimulable layer. There is no particular limitation as long as it can be held in a state of being shielded from the atmosphere, and glass, ceramics, metal,
Plastic or the like can be used.
また、スペーサは、その透湿度が30g/m2・24hr以下で
あることが好ましい。これより透湿度が大きい場合に
は、外部から侵入する水分により輝尽性蛍光体が劣化す
るために好ましくない。The spacer preferably has a moisture permeability of 30 g / m 2 · 24 hr or less. If the moisture permeability is higher than this, it is not preferable because the stimulable phosphor deteriorates due to moisture entering from the outside.
スペーサの厚さは、輝尽層の厚さ以上5mm以下である
ことが好ましい。スペーサの幅は、主に、このスペーサ
と支持体及び保護層体との密着部分の防湿性(前記透湿
度)に関連して決定されるものであり、1〜30mmが好ま
しい。スペーサの幅があまり小さすぎる場合にはスペー
サの安定性、強度及び防湿性の点から好ましくない。ま
た、あまり大きすぎる場合には必要以上に変換パネルが
大型化するので好ましくない。The thickness of the spacer is preferably not less than the thickness of the stimulating layer and not more than 5 mm. The width of the spacer is determined mainly in relation to the moisture-proof property (above-mentioned moisture permeability) of the contact portion between the spacer, the support and the protective layer, and is preferably 1 to 30 mm. If the width of the spacer is too small, it is not preferable from the viewpoints of the stability, strength, and moisture resistance of the spacer. If the size is too large, the size of the conversion panel becomes unnecessarily large, which is not preferable.
なお、スペーサ及びスペーサと支持体及び保護層体と
の密着部分の透湿度は、30g/m2・24hr以下であることが
好ましい。またスペーサの材質は前記支持体材質と同様
のものが好ましい。スペーサは、支持体と保護層体に密
着していることが変換パネルに防湿性を付与する点及び
低屈折率層の層厚を一定に保持する点から必要である。
ここでスペーサを支持体及び保護層体に密着させるに
は、例えば接着剤等を用いるが、この接着剤としては防
湿性を有するものが好ましい。具体的には、エポキシ系
樹脂、フェノール系樹脂、シアノアクリレート系樹脂、
酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ウレタン系樹
脂、アクリル系樹脂、エチレン酢酸ビニル系樹脂、オレ
フィン系樹脂、クロロプレン系ゴム、ニトリル系ゴム等
の有機高分子系接着剤や、シリコーン系接着剤、アルミ
ナ、シリカ等を主成分とする無機系接着剤等が挙げられ
る。また前記封着部材の封着に用いる防湿接着剤を流用
してもよい。これらのなかでも半導体や電子部品の封止
に用いられるエポキシ系樹脂やシリコーン系樹脂は耐湿
性が優れているので好ましく、特にエポキシ系接着剤は
透湿度が低く好適である。The moisture permeability of the spacer and the contact portion between the spacer and the support and the protective layer is preferably 30 g / m 2 · 24 hr or less. The material of the spacer is preferably the same as the material of the support. The spacer is required to be in close contact with the support and the protective layer in order to impart moisture-proof properties to the conversion panel and to keep the thickness of the low refractive index layer constant.
Here, for example, an adhesive or the like is used for bringing the spacer into close contact with the support and the protective layer, and the adhesive is preferably one having moisture resistance. Specifically, epoxy resin, phenolic resin, cyanoacrylate resin,
Organic polymer adhesives such as vinyl acetate resin, vinyl chloride resin, urethane resin, acrylic resin, ethylene vinyl acetate resin, olefin resin, chloroprene rubber, nitrile rubber, and silicone adhesive, An inorganic adhesive mainly containing alumina, silica or the like can be used. Further, a moisture-proof adhesive used for sealing the sealing member may be used. Among these, epoxy resins and silicone resins used for encapsulating semiconductors and electronic components are preferable because of their excellent moisture resistance, and epoxy adhesives are particularly suitable because they have low moisture permeability.
なお、スペーサと支持体又はスペーサと保護層体との
密着部分の接着性を向上させる目的で、スペーサ、支持
体及び保護層体の他の層との接触面に下引き層を設けた
り、粗面化処理を施すこともできる。In order to improve the adhesion of the spacer and the support or the contact portion between the spacer and the protective layer, an undercoat layer may be provided on the contact surface of the spacer, the support and the protective layer with the other layer, or a rough layer may be provided. Surface treatment can also be performed.
本発明により製造される変換パネルにおいては、輝尽
層と保護層体の間に低屈折率層を有していると保護層体
による鮮鋭性の低下が抑制されるので好ましい。In the conversion panel manufactured according to the present invention, it is preferable to have a low refractive index layer between the photostimulable layer and the protective layer, since the sharpness reduction due to the protective layer is suppressed.
この低屈折率層はスペーサにより外部雰囲気から遮断
された状態で存在するものであり、このように低屈折率
層を設けることにより保護層体の厚さを実質的により厚
くすることができ、逆に低屈折率層を設けるには外気圧
に耐えうる厚みの保護層体を要することと相俟って、変
換パネルの防湿性及び耐久性をいっそう向上させること
ができる。This low-refractive-index layer exists in a state where it is shielded from the external atmosphere by the spacer. By providing the low-refractive-index layer in this manner, the thickness of the protective layer body can be made substantially thicker. In addition to the need for a protective layer having a thickness that can withstand the external air pressure, the provision of a low refractive index layer further improves the moisture resistance and durability of the conversion panel.
そのような低屈折率層としては、空気、窒素、アルゴ
ン等の不活性な気体からなる層及び真空層などの屈折率
が実質的に1である層;エタノール(屈折率1.36)、メ
タノール(屈折率1.33)及びジエチルエーテル(屈折率
1.35)等の液体からなる層にすることもできる。低屈折
率の作業効果を得るには、保護層体に、例えばCaF2(屈
折率1.23〜1.26)、Na3AlF6(屈折率1.35)、MgF2(屈
折率1.38)、SiO2(屈折率1.46)等の物質からなる層を
設けることもできる。Examples of such a low refractive index layer include a layer made of an inert gas such as air, nitrogen, and argon, and a layer having a refractive index of substantially 1 such as a vacuum layer; ethanol (refractive index: 1.36), methanol (refractive index). 1.33) and diethyl ether (refractive index)
It can also be a layer composed of a liquid such as 1.35). In order to obtain a working effect of a low refractive index, for example, CaF 2 (refractive index: 1.23 to 1.26), Na 3 AlF 6 (refractive index: 1.35), MgF 2 (refractive index: 1.38), SiO 2 (refractive index) 1.46) can be provided.
本発明に係る変換パネルの低屈折率層としては、気体
層又は真空層であることが、鮮鋭性の低下を防止する効
果が高いことから好ましい。The low-refractive-index layer of the conversion panel according to the present invention is preferably a gas layer or a vacuum layer because of its high effect of preventing sharpness from decreasing.
低屈折率層の厚さは、0.05μm〜3mmまでが実用的で
ある。The thickness of the low refractive index layer is practically 0.05 μm to 3 mm.
低屈折率層に、鮮鋭性の低下を小さくするという効果
を十分に付与するためには低屈折率層が輝尽層と密着状
態にあることが必要であり、従って、低屈折率層が気体
層及び真空層或は液体層の場合にはそのままで密着状態
が具現するが、低屈折率層を上記のCaF2、Na3AlF6、MgF
2、SiO2などで保護層体の表面に形成した場合などに
は、輝尽層と低屈折率層を例えば接着剤などにより密着
させる。この場合には接着剤の屈折率は輝尽層の屈折率
に近似したものであることが好ましい。In order to sufficiently impart the effect of reducing the sharpness reduction to the low refractive index layer, the low refractive index layer needs to be in close contact with the stimulable layer, In the case of a layer and a vacuum layer or a liquid layer, a close contact state is realized as it is, but the low refractive index layer is formed of the above CaF 2 , Na 3 AlF 6 , MgF
2 , when formed on the surface of the protective layer body with SiO 2 or the like, the stimulable layer and the low-refractive-index layer are brought into close contact with each other by, for example, an adhesive. In this case, the refractive index of the adhesive is preferably close to the refractive index of the photostimulable layer.
本発明において使用される輝尽性蛍光体は、最初の光
もしくは高エネルギー放射線が照射された後に、光的、
熱的、機械的、化学的又は電気的等の刺激(輝尽励起)
により、最初の光もしくは高エネルギー放射線の照射量
に対応した輝尽性発光を示す蛍光体であるが、実用的な
面から好ましくは500nm以上の励起光によって輝尽発光
を示す蛍光体である。そのような輝尽性蛍光体として
は、例えば特開昭48−80487号に記載されているBaSO4:A
X、特開昭48−80489号に記載されているSrSO4:AX、特開
昭53−39277号のLi2B4O7;Cu,Ag等、特開昭54−47883号
のLi2O・(B2O2)x:Cu及びLi2O・(B2O2)x:Cu,Ag等、
米国特許3,859,527号のSrS:Ce,Sm、SrS:Eu,Sm、La2O2S:
Eu,Sm及び(Zn,Cd)S:Mn,で示される蛍光体が挙げられ
る。The stimulable phosphor used in the present invention, after being exposed to the first light or high-energy radiation,
Stimulation such as thermal, mechanical, chemical or electrical (stimulated excitation)
Is a phosphor that emits stimulable light corresponding to the dose of the first light or high-energy radiation. However, from a practical point of view, it is preferably a phosphor that emits stimulable light by excitation light of 500 nm or more. Examples of such a stimulable phosphor include BaSO 4 : A described in JP-A-48-80487.
X, SrSO are described in JP-A-48-80489 4: AX, Li 2 B 4 O 7 of JP 53-39277; Cu, Ag, etc., in JP 54-47883 Li 2 O・ (B 2 O 2 ) x: Cu and Li 2 O ・ (B 2 O 2 ) x: Cu, Ag, etc.
U.S. Pat.No. 3,859,527 SrS: Ce, Sm, SrS: Eu, Sm, La 2 O 2 S:
Phosphors represented by Eu, Sm and (Zn, Cd) S: Mn.
また、特開昭55−12142号に記載されているZnS:Cu,Pb
蛍光体、一般式BaO・xAl2O3:Euで示されるアルミン酸バ
リウム蛍光体、及び一般式MIIO・xSiO2:Aで示されるア
ルカリ土類金属珪酸塩系蛍光体が挙げられる。また、特
開昭55−12143号に記載されている一般式 (Ba1-x-yMgxCay)FX:eEu2+ で示されるアルカリ土類弗化ハロゲン化物蛍光体、特開
昭55−12144号に記載されている一般式 LnOX:xA で示される蛍光体、特開昭55−12145号に記載されてい
る一般式 (Ba1-xMIIx)FX:yA で示される蛍光体、特開昭55−84389号に記載されてい
る一般式 BaFX:xCe,yA で示される蛍光体、特開昭55−160078号に記載されてい
る一般式 MIIFX・xA:yLn で示される希土類元素付活2価金属フルオルハライド蛍
光体、一般式ZnS:A、CdS:A、(Zn,Cd)S:A,S:A,ZnS:A,X
及びCdS:A,Xで示される蛍光体、特開昭59−38278号に記
載されている下記いずれかの一般式 xM3(PO4)2・NX2:yA M3(PO4)2:yA で示される蛍光体、特開昭59−155487号に記載されてい
る下記いずれかの一般式 nReX3・mAX′2:xEu nReX3・mAX′2:xEu,ySm で示される蛍光体、特開昭61−72087号に記載されてい
る下記一般式 MIX・aMIIX′2・bMIIIX″3:cA で示されるアルカリハライド蛍光体等が挙げられる。特
にアルカリハライド蛍光体は、蒸着・スパッタリング等
の方法で輝尽層を形成しやすく好ましい。Further, ZnS: Cu, Pb described in JP-A-55-12142
Phosphor, the general formula BaO · xAl 2 O 3: barium aluminate phosphor represented by Eu, and the general formula M II O · xSiO 2: alkaline earth metal silicate phosphor represented by A are exemplified. Further, an alkaline earth fluoride halide represented by the general formula (Ba1 - x - yMgxCay) FX: eEu2 + described in JP-A-55-12143 is disclosed in JP-A-55-12144. the listed formulas LnOX: phosphor represented by xA, the general formulas described in JP-a-55-12145 (Ba 1- xM II x) FX: phosphor represented by yA, JP 55 -84389, a phosphor represented by the general formula BaFX: xCe, yA, and a rare earth element activated 2 represented by a general formula M II FX.xA: yLn described in JP-A-55-160078. Valence metal fluorohalide phosphor, general formula ZnS: A, CdS: A, (Zn, Cd) S: A, S: A, ZnS: A, X
And a phosphor represented by CdS: A, X, and any one of the following general formulas xM 3 (PO 4 ) 2 .NX 2 : yAM 3 (PO 4 ) 2 : described in JP-A-59-38278. phosphor represented by yA, following which are described in JP-a-59-155487 any of formulas nReX 3 · mAX '2: xEu nReX 3 · mAX' 2: xEu, phosphor represented by YSM, especially HirakiAkira following general formula are described in JP 61-72087 M I X · aM II X '2 · bM III X "3:. alkali halide phosphor, etc. represented by cA can be mentioned in particular alkali halide phosphor, It is preferable because a photostimulable layer can be easily formed by a method such as vapor deposition or sputtering.
また、アルカリ土類フルオルハライド蛍光体、アルカ
リハライド蛍光体は特に水分による劣化が著しく、本発
明による効果が大きい。In addition, alkaline earth fluorohalide phosphors and alkali halide phosphors are particularly remarkably deteriorated by moisture, and the effect of the present invention is great.
しかし、本発明において用いられる輝尽性蛍光体は、
前述の蛍光体に限られるものではなく、放射線を照射し
た後輝尽励起光を照射した場合に輝尽発光を示す蛍光体
であればいかなる蛍光体であってもよい。However, the stimulable phosphor used in the present invention is:
The phosphor is not limited to the above-described phosphor, and any phosphor may be used as long as it emits stimulating light when irradiated with stimulating excitation light after irradiation with radiation.
本発明の方法においては、前記輝尽性蛍光体の層は、
支持体や保護層上に塗布法や気相成長法等を用いて形成
せしめる。In the method of the present invention, the stimulable phosphor layer comprises:
It is formed on a support or a protective layer by a coating method, a vapor deposition method, or the like.
そのような輝尽層は、前記の輝尽性蛍光体の少なくと
も一種類を含む一つ若しくは二つ以上の輝尽層から成る
輝尽層群であってもよい。また、それぞれの輝尽層に含
まれる輝尽性蛍光体は同一であってもよいが異なってい
てもよい。Such a photostimulable layer may be a photostimulable layer group comprising one or more photostimulable layers containing at least one of the aforementioned photostimulable phosphors. Further, the stimulable phosphor contained in each stimulable layer may be the same or different.
変換パネルの輝尽層の層厚は、目的とする変換パネル
の放射線に対する感度、輝尽性蛍光体の種類等によって
異なるが、結着剤を含有しない場合10μm〜1000μmの
範囲、好ましくは20μm〜800μmの範囲から選ばれ、
結着剤を含有する場合で20μm〜1000μmの範囲、好ま
しくは50μm〜500μmの範囲から選ばれる。The thickness of the stimulable layer of the conversion panel varies depending on the sensitivity of the intended conversion panel to radiation, the type of stimulable phosphor, etc., but when no binder is contained, a range of 10 μm to 1000 μm, preferably 20 μm to Selected from the range of 800 μm,
When it contains a binder, it is selected from the range of 20 μm to 1000 μm, preferably the range of 50 μm to 500 μm.
本発明により製造される変換パネルは、第5図に概略
的に示される放射線画像変換方法に用いられる。The conversion panel manufactured according to the present invention is used in a radiation image conversion method schematically shown in FIG.
すなわち、放射線発生装置41からの放射線は、被写体
42を通して変換パネル43に入射する。That is, the radiation from the radiation generator 41
The light enters the conversion panel 43 through 42.
この入射した放射線はパネル43の輝尽層に吸収され、
そのエネルギーが蓄積され、放射線透過像の蓄積像が形
成される。This incident radiation is absorbed by the photostimulable layer of panel 43,
The energy is accumulated, and an accumulation image of the radiation transmission image is formed.
次にこの蓄積像を輝尽励起光源44からの輝尽励起光で
励起して輝尽発光の強弱は蓄積された放射線エネルギー
量に比例するので、この光信号を例えば光電子増倍管等
の光電変換装置45で光電変換し、画像再生装置46によっ
て画像として再生し画像表示装置47によって表示するこ
とにより、被写体の放射線透過像を観察することができ
る。Next, the accumulated image is excited by the stimulating light from the stimulating light source 44, and the intensity of the stimulating light is proportional to the amount of accumulated radiation energy. By performing the photoelectric conversion by the conversion device 45, reproducing the image by the image reproduction device 46, and displaying the image by the image display device 47, the radiation transmission image of the subject can be observed.
本発明の方法により変換パネルを製造すれば、加熱乾
燥により水分を除去した輝尽層を乾燥状態のままに保つ
ことができるので、変換パネルの設定性能を保証するこ
とができる。When the conversion panel is manufactured by the method of the present invention, the stimulable layer from which moisture has been removed by heating and drying can be kept in a dry state, so that the setting performance of the conversion panel can be guaranteed.
次に本発明を実施例によって説明する。 Next, the present invention will be described with reference to examples.
実施例1 1mm厚の結晶化ガラス支持体(400mm×500mm)を、エ
レクトロンビーム法(EB法)による蒸着装置中に設置し
た。次いで、水冷した坩堝にアルカリハライド蛍光体
(RbBr;0.0006T1)を入れ、プレスして坩堝の形状に成
形した。Example 1 A crystallized glass support (400 mm × 500 mm) having a thickness of 1 mm was set in a vapor deposition apparatus by an electron beam method (EB method). Next, an alkali halide phosphor (RbBr; 0.0006T1) was put into a water-cooled crucible and pressed to form a crucible.
続いて、蒸着装置内を排気し、5×10-6Torrの真空度
とした。次に、支持体を80〜100℃に保持しながら、EB
ガンに電力を供給して輝尽性蛍光体を蒸発させた。Subsequently, the inside of the vapor deposition apparatus was evacuated to a vacuum degree of 5 × 10 −6 Torr. Next, while maintaining the support at 80 to 100 ° C., the EB
Power was supplied to the gun to evaporate the stimulable phosphor.
目的とする輝尽層を得るために膜厚モニタにより蒸着
速度が104Å/minとなるようにコントロールした。ま
た、電子ビームは坩堝の輝尽性蛍光体表面をラスター状
にスキャンさせた。In order to obtain the desired photostimulable layer, the deposition rate was controlled by a film thickness monitor so as to be 10 4 l / min. The electron beam scanned the stimulable phosphor surface of the crucible in a raster shape.
輝尽層の層厚が300μmとなったところで蒸着を終了
させた。The vapor deposition was terminated when the thickness of the photostimulable layer reached 300 μm.
前記輝尽層上に、400μm厚さの空気層が設けられる
ように、厚さ700μmで幅5mmのガラスのスペーサを第1
図に示したように配置した。スペーサと支持体はエポキ
シ樹脂系接着剤(AV−138,チバガイギー社製)にて密着
した。First, a glass spacer having a thickness of 700 μm and a width of 5 mm is provided on the first layer so that an air layer having a thickness of 400 μm is provided on the photostimulated layer.
They were arranged as shown in the figure. The spacer and the support were adhered with an epoxy resin adhesive (AV-138, manufactured by Ciba-Geigy).
次いで、10mm角の通気孔を設けた厚さ1mmのガラスの
保護層体をスペーサ上に載置し、スペーサと保護層体が
接する部分を上記のエポキシ樹脂系接着剤にて密着し
た。Next, a protective layer of glass having a thickness of 1 mm provided with a ventilation hole of 10 mm square was placed on the spacer, and a portion where the spacer and the protective layer were in contact was adhered to each other with the epoxy resin adhesive.
このものを1×10-2mmHgの減圧下、80℃で2時間加熱
乾燥した後、含水量20ppmの乾燥N2ガスで置換し直ちに
通気孔を前記保護層体と同じガラス板(30mm×30mm)を
用い上記のエポキシ樹脂系接着剤にて封着して密閉し、
第1図に類した変換パネルを製造した。封着に用いた防
湿接着剤は表−1に掲げた通りである。This was dried by heating at 80 ° C. for 2 hours under a reduced pressure of 1 × 10 −2 mmHg, and then replaced with dry N 2 gas having a water content of 20 ppm, and the air holes were immediately formed in the same glass plate as the protective layer (30 mm × 30 mm). ) And sealed with the above epoxy resin adhesive and sealed,
A conversion panel similar to FIG. 1 was manufactured. The moisture-proof adhesive used for sealing is as shown in Table 1.
かくして得られた放射線画像変換パネルについて、変
換パネルを、45℃、85%RHの条件下で60日間放置して強
制劣化させ、感度低下率及びフェーディング低下率を評
価した。With respect to the radiation image conversion panel thus obtained, the conversion panel was forcibly deteriorated by standing at 45 ° C. and 85% RH for 60 days, and the sensitivity reduction rate and the fading reduction rate were evaluated.
また、支持体上の輝尽層を保護層体及びスペーサによ
り封着、密閉(封止)して本発明により変換パネルを製
造した場合の封止前後での感度低下率及びフェーディン
グ低下率を調べ、変換パネル製造時の性能劣化を評価し
た。なお、封止前のプレートの性能は水分の影響を除去
するため、真空中で評価し、基準とした。Further, when the stimulable layer on the support is sealed and sealed (sealed) with a protective layer body and a spacer to produce a conversion panel according to the present invention, the rate of decrease in sensitivity and the rate of decrease in fading before and after sealing are determined. Investigation was made to evaluate the performance degradation during the production of the conversion panel. In addition, the performance of the plate before sealing was evaluated in a vacuum and used as a reference in order to remove the influence of moisture.
実施例2〜7 変換パネルの保護層体の種類、厚さ、通気孔の大き
さ、封着部材の種類、厚さ、大きさおよび密閉に用いる
防湿接着剤を第1表に示したものにした以外は、実施例
1と同様にして変換パネルを製造した。Examples 2 to 7 The types and thicknesses of the protective layer of the conversion panel, the size of the ventilation holes, the type of sealing member, the thickness, the size, and the moisture-proof adhesive used for sealing are shown in Table 1. A conversion panel was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the conversion panel was performed.
比較例(1) 保護層体に、通気孔を設けていない厚さ1mmの硼珪酸
ガラスを用いた以外は実施例1と同様にして変換パネル
を得た。Comparative Example (1) A conversion panel was obtained in the same manner as in Example 1, except that 1 mm-thick borosilicate glass having no ventilation hole was used for the protective layer.
比較例(2) 保護層体及び、封着部材に、厚さ0.01mmのポリエチレ
ンテレフタレートを用い、封着部材を接着するのに、塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体を用いた以外は、実施例
1と同様にして変換パネルを得た。Comparative Example (2) The protective layer and the sealing member were made of polyethylene terephthalate having a thickness of 0.01 mm, and the sealing member was adhered using a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer. In the same manner as in Example 1, a conversion panel was obtained.
比較例(3) 封着部材に、15mm角の硼珪酸ガラスを用いた以外は実
施例1と同様にして変換パネルを得た。Comparative Example (3) A conversion panel was obtained in the same manner as in Example 1 except that a 15 mm square borosilicate glass was used for the sealing member.
比較例(4) 前記10-2mmHg,80℃,2時間の加熱乾燥後、含水量80ppm
の乾燥N2ガスで置換した以外は実施例1と同様である。Comparative Example (4) After drying by heating at 10 -2 mmHg at 80 ° C for 2 hours, the water content was 80 ppm.
It is the same as Example 1 except that the dry N 2 gas was replaced.
評価は試料の繰返し実験数n=100としその平均した結
果を表−1に示した。For evaluation, the number of repeated experiments on the sample was n = 100, and the averaged results are shown in Table-1.
感度低下率:P 管電圧80KVpのX線を10mR照射し、t秒後に半導体レ
ーザ光(780nm、20mW)で輝尽励起し、輝尽層から放射
される輝尽発光を光検出器(光電子増倍管)で光電変換
し、得られた電気信号の大きさを変換パネルの感度Sst
(sec)とした。Sensitivity reduction rate: P Irradiate 10mR of X-ray with 80KVp tube voltage, and after t seconds, stimulate excitation by semiconductor laser light (780nm, 20mW), and detect photostimulated emission emitted from photostimulated layer by photodetector The magnitude of the obtained electric signal is converted to the sensitivity Sst of the conversion panel.
(Sec).
X線照射から5秒後における、封着前の変換パネルの
感度S0(5sec)、封着後の強制劣化試験前と変換パネル
の感度Sst(5sec)及び強制劣化試験後の変換パネルの
感度S60(5sec)から感度低下率(P)を次式により求
めた。Five seconds after X-ray irradiation, the sensitivity S 0 ( 5 sec) of the conversion panel before sealing, the sensitivity Sst ( 5 sec) of the conversion panel before and after the forced degradation test after sealing, and the conversion panel after the forced degradation test From the sensitivity S 60 ( 5 sec), the sensitivity reduction rate (P) was determined by the following equation.
フェーディング低下率:Q X線を照射してからレーザ光で信号を読取るまでの間
における蓄積エネルギーの減衰率、すなわちフェーディ
ング:Fは次式により求められる。 Fading reduction rate: Q The decay rate of the stored energy between the irradiation of the X-rays and the reading of the signal with the laser beam, that is, the fading: F, can be obtained by the following equation.
ただし、S(120sec)はX線照射から120秒後の感
度、S(5sec)は5秒後の感度を表す。 Here, S ( 120 sec) represents the sensitivity 120 seconds after the X-ray irradiation, and S ( 5 sec) represents the sensitivity 5 seconds after the X-ray irradiation.
封止前の変換パネルのフェーディングF0、封止後の強
制劣化試験前のフェーディングFst及び強制劣化試験後
のフェーディングF60から次式によりフェーディング低
下率(Q)を求めた。From the fading F 0 of the conversion panel before sealing, the fading Fst before the forced deterioration test after sealing, and the fading F 60 after the forced deterioration test, the fading reduction rate (Q) was determined by the following equation.
〔発明の効果〕 第1表より、実施例1〜7の本発明の方法により製造
した変換パネルは、製造時の水分の侵入をほとんど完全
に防止することができるため、水分による感度及びフェ
ーディング特性の劣化が著しく小さい、変換パネル製造
時の性能(設定性能)を充分に保ちえた。また、高温、
高湿度下でも設定性能を長期間維持し、優れた耐久性を
有していた。 [Effects of the invention] From Table 1, it can be seen that the conversion panels manufactured by the method of the present invention of Examples 1 to 7 can almost completely prevent the penetration of moisture at the time of production, so that the sensitivity and the fading due to moisture are obtained. The performance (setting performance) at the time of manufacturing the conversion panel, in which the deterioration of the characteristics was extremely small, was sufficiently maintained. Also, high temperature,
The set performance was maintained for a long period of time even under high humidity, and it had excellent durability.
第1図及び第2図は、本発明の放射線画像変換パネルの
実施例の説明図であり、第2図は第1図の平面透視図で
ある。第3図は放射線画像変換パネルを用いる放射線画
像変換方法の説明図である。 1……輝尽層 2……保護層体 3……支持体 4……低屈折率層 5……スペーサ 6……通気孔 7……封着部材 41……放射線発生装置 42……被写体 43……放射線画像変換パネル 44……輝尽励起光源 45……光電変換装置 46……放射線画像再生装置 47……放射線画像表示装置 48……フィルタ1 and 2 are explanatory views of an embodiment of the radiation image conversion panel of the present invention, and FIG. 2 is a perspective plan view of FIG. FIG. 3 is an explanatory diagram of a radiation image conversion method using a radiation image conversion panel. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Stimulation layer 2 ... Protective layer 3 ... Support 4 ... Low refractive index layer 5 ... Spacer 6 ... Vent hole 7 ... Sealing member 41 ... Radiation generator 42 ... Subject 43 … Radiation image conversion panel 44… Stimulated excitation light source 45… Photoelectric conversion device 46… Radiation image reproducing device 47… Radiation image display device 48… Filter
Claims (1)
し、支持体と保護層体の間に、輝尽性蛍光体層の周縁を
取り囲むスペーサを設けて前記輝尽性蛍光体層を密閉す
る放射線画像変換パネルの製造方法において、前記保護
層体及び/又は支持体の少くとも一箇所に、前記保護層
体、支持体、スペーサからなる密閉空間の通気孔を設
け、放射線画像変換パネルを乾燥した後、前記通気孔を
封着部材で封着することを特徴とする放射線画像変換パ
ネルの製造方法。1. A photostimulable phosphor comprising a support, a stimulable phosphor layer and a protective layer, wherein a spacer surrounding the periphery of the stimulable phosphor layer is provided between the support and the protective layer. In a method for manufacturing a radiation image conversion panel that seals a phosphor layer, at least one place of the protective layer and / or the support is provided with a ventilation hole of a sealed space including the protective layer, the support and a spacer, A method for manufacturing a radiation image conversion panel, comprising drying the radiation image conversion panel and sealing the ventilation hole with a sealing member.
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