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JP2988886B2 - Imaging element and method of making lithographic plate using the same - Google Patents

Imaging element and method of making lithographic plate using the same

Info

Publication number
JP2988886B2
JP2988886B2 JP9117406A JP11740697A JP2988886B2 JP 2988886 B2 JP2988886 B2 JP 2988886B2 JP 9117406 A JP9117406 A JP 9117406A JP 11740697 A JP11740697 A JP 11740697A JP 2988886 B2 JP2988886 B2 JP 2988886B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
imaging element
layer
heat
image
compound
Prior art date
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Expired - Fee Related
Application number
JP9117406A
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Japanese (ja)
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JPH1055061A (en
Inventor
ジルベール・フオールトマンス
ジヨアン・ベルメールシユ
マルク・バン・ダメ
トマス・ノウエン
エデイー・デムス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Agfa Gevaert NV
Original Assignee
Agfa Gevaert NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agfa Gevaert NV filed Critical Agfa Gevaert NV
Publication of JPH1055061A publication Critical patent/JPH1055061A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2988886B2 publication Critical patent/JP2988886B2/en
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Expired - Fee Related legal-status Critical Current

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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の分野】本発明は、像形成要素が感光性コーテイ
ング上に感熱性マスクを含んでなる平版印刷版を製造す
るための像形成要素に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to an imaging element for making a lithographic printing plate wherein the imaging element comprises a heat-sensitive mask on a photosensitive coating.

【0002】[0002]

【発明の背景】平版法は、或る領域は平版インキを受容
可能であるが他の領域は水で湿らされた時にインキを受
容しないであろう特別に製造された表面からの印刷方法
である。インキを受容する領域が印刷像領域を形成し、
インキ−反撥領域が背景領域を形成する。
BACKGROUND OF THE INVENTION Lithographic printing is a method of printing from specially prepared surfaces where some areas are capable of receiving lithographic ink but other areas will not receive the ink when wetted with water. . The ink receiving area forms a print image area,
The ink-repellent area forms the background area.

【0003】写真平版法の技術では、親水性背景上の露
光された領域(ネガ−作用性)または露光されなかった
領域(ポジ−作用性)に像通りに油状もしくはグリース
状インキを受容性である写真材料が製造される。
In the photolithographic technique, the exposed or unexposed areas (positive-working) on a hydrophilic background are image-receptive to oily or greasy inks. Certain photographic materials are produced.

【0004】表面リソ版(surface litho plates)または
プラノグラフィー印刷版(planographic printing plate
s)とも称される一般的な平版印刷版の製造では、水に対
する親和力を有するかまたは化学処理によりそのような
親和力を得る支持体が感光性組成物の薄層でコーテイン
グされる。この目的のためのコーテイングには、ジアゾ
化合物、二クロム酸塩で増感された親水性コロイドおよ
び多種の合成光重合体を含有する感光性重合体層が包含
される。特にジアゾ−増感系が広く使用されている。
[0004] Surface litho plates or planographic printing plates
In the manufacture of common lithographic printing plates, also referred to as s), a support having an affinity for water or obtaining such an affinity by chemical treatment is coated with a thin layer of a photosensitive composition. Coatings for this purpose include a photopolymer layer containing a diazo compound, a hydrophilic colloid sensitized with dichromate, and various synthetic photopolymers. In particular, diazo-sensitized systems are widely used.

【0005】感光層の像通りの露光で、露光された像領
域は不溶性になりそして露光されなかった領域は可溶性
のままである。版を次に適当な液体で現像して露光され
なかった領域中のジアゾニウム塩またはジアゾ樹脂を除
去する。
With image-wise exposure of the photosensitive layer, the exposed image areas become insoluble and the unexposed areas remain soluble. The plate is then developed with a suitable liquid to remove the diazonium salt or diazo resin in the unexposed areas.

【0006】或いは、像通りの露光で露光された領域で
可溶性になる感光性コーテイングを含む印刷版も知られ
ている。その後の現像で露光された領域が除去される。
そのような感光性コーテイングの典型的な例はキノン−
ジアジドをベースとしたコーテイングである。
[0006] Alternatively, printing plates are known which contain a photosensitive coating which becomes soluble in the areas exposed by the image-wise exposure. The exposed areas are removed in subsequent development.
A typical example of such a photosensitive coating is quinone-
It is a coating based on diazide.

【0007】典型的には、印刷版を製造するための上記
の写真材料は平版印刷法で再現しようとする像を含有す
る写真フィルムを通してカメラ−露光される。そのよう
な操作方法はめんどうでありしかも労力が多大である。
しかしながら、他方では、このようにして得られる印刷
版は優れた平版品質を有する。
[0007] Typically, the above photographic materials for making printing plates are camera-exposed through a photographic film containing the image to be reproduced in a lithographic printing process. Such an operation method is troublesome and labor-intensive.
However, on the other hand, the printing plates thus obtained have excellent lithographic quality.

【0008】それ故、上記の方法における写真フィルム
の必要性を排除しそして特に再現しようとする像を表示
するコンピューターデータから直接印刷版を得る試みが
なされた。特に、感光性コーテイングの上部にハロゲン
化銀層をコーテイングすることが提案された。ハロゲン
化銀は次にコンピューターの調節下でレーザーにより露
光することができる。引き続き、ハロゲン化銀層を現像
して感光性コーテイングの上部に銀像を残す。この銀像
は次に感光性コーテイングの全体的な露光中にマスクと
して作用する。全体的な露光後に、銀像を除去しそして
感光性コーテイングを現像する。そのような方法は例え
ばJP−A 60−61752に開示されているが、複
雑な現像およびそれに関連する現像液が必要であるとい
う欠点を有する。
[0008] Attempts have therefore been made to eliminate the need for photographic film in the above methods and to obtain printing plates directly from computer data which, in particular, represent the image to be reproduced. In particular, it has been proposed to coat a silver halide layer on top of the photosensitive coating. The silver halide can then be exposed by a laser under computer control. Subsequently, the silver halide layer is developed, leaving a silver image on top of the photosensitive coating. This silver image then acts as a mask during the overall exposure of the photosensitive coating. After overall exposure, the silver image is removed and the photosensitive coating is developed. Such a method is disclosed, for example, in JP-A 60-61752, but has the disadvantage that complicated development and the associated developer are required.

【0009】GB1.492.070は金属層またはカー
ボンブラックを含有する層を感光性コーテイング上に付
与する方法を開示している。この金属層を次にレーザー
により融除すると感光層上に像マスクが得られる。感光
層は次にこの像マスクを通して紫外線により全体的に露
光される。像マスクの除去後に、感光層を現像して印刷
版が得られる。しかしながら、この方法は感光層の現像
前に像マスクをめんどうな処理により除去しなければな
らないという欠点を有する。
GB 1.492.070 discloses a method of applying a metal layer or a layer containing carbon black on a photosensitive coating. The metal layer is then ablated by a laser to provide an image mask on the photosensitive layer. The photosensitive layer is then totally exposed by UV light through this image mask. After removal of the image mask, the photosensitive layer is developed to obtain a printing plate. However, this method has the disadvantage that the image mask must be removed by a troublesome process before developing the photosensitive layer.

【0010】EP−A 1136に開示されているよう
に、例えばレーザー転写またはセノグラフィーによるマ
スキング物質の感光性コーテイングへの転写によりマス
クを感光層上に像通りに形成するシステムも知られてい
る。しかしながら、そのような方法は一般的に遅くしか
も高品質の印刷を得るために要求される像解度に合わな
いかもしれない。
[0010] As disclosed in EP-A 1136, systems are also known in which a mask is image-wise formed on a photosensitive layer by transfer of the masking material to a photosensitive coating, for example by laser transfer or senography. However, such methods are generally slow and may not meet the image resolution required to obtain high quality prints.

【0011】WO96/02021は基質、感光層およ
びレーザー光線により像通りに除去できる遮光層を含ん
でなるオリジナル形態を使用することによる平版の製造
方法を開示している。しかしながら、該材料の感度は改
良できた。
WO 96/02021 discloses a method for making a lithographic plate by using an original form comprising a substrate, a photosensitive layer and a light-shielding layer which can be removed image-wise by means of a laser beam. However, the sensitivity of the material could be improved.

【0012】[0012]

【発明の要旨】本発明の目的は先行技術のある種の欠点
が除かれる、高品質の印刷版を簡便なやり方で製造する
方法を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a method for producing high quality printing plates in a convenient manner, which eliminates certain disadvantages of the prior art.

【0013】本発明によれば、親水性表面を有する支持
体上に300〜450nmの波長の光に対する感度を有
する感光層および該感光層が分光感度を有する光に対し
て感熱層を不透明にさせる300〜450nmの波長範
囲内に吸収ピークを有するマスキング染料を含んでなる
感熱層を含んでなり且つさらに光を熱に転換させうる化
合物Aを該感熱層またはそれと隣接する層中に含んでな
る像形成要素であって、化合物Aが吸収性を有するレー
ザー光線での露光時に該マスキング染料が融除(ablate)
されうることを特徴とする像形成要素が提供される。
According to the present invention, a photosensitive layer having a sensitivity to light having a wavelength of 300 to 450 nm on a support having a hydrophilic surface, and the photosensitive layer making the heat-sensitive layer opaque to light having a spectral sensitivity. An image comprising a heat-sensitive layer comprising a masking dye having an absorption peak in the wavelength range of 300 to 450 nm and further comprising a compound A capable of converting light into heat in the heat-sensitive layer or a layer adjacent thereto; A masking dye which is ablative upon exposure to a laser beam in which compound A has absorptivity.
There is provided an imaging element characterized in that

【0014】本発明はさらに以上で定義された像形成要
素を使用して平版印刷版を得る方法も開示する。
The present invention further discloses a method of obtaining a lithographic printing plate using the imaging element defined above.

【0015】[0015]

【発明の詳細な記述】融除可能なマスキング染料を含ん
でなる感熱層が像形成要素の現像を可能にし、それによ
り同時に感熱層および感光層の露光されたまたは露光さ
れなかった部分のいずれかが除去されるということが見
いだされた。従って、生ずる印刷版の高い水準の平版性
能を保ちながら時間および価格の実質的な節約が実現さ
れる。本発明を以下詳細に記載するが、本発明を以下に
記載されている態様のいずれかに限定するものではな
い。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION A heat sensitive layer comprising an ablative masking dye allows development of the imaging element, thereby simultaneously either the exposed or unexposed portions of the heat sensitive layer and the photosensitive layer. Has been found to be eliminated. Thus, substantial savings in time and price are realized while maintaining a high level of lithographic performance of the resulting printing plate. The present invention is described in detail below, but does not limit the invention to any of the embodiments described below.

【0016】a.像形成要素 a.1.感熱層 本発明によれば、感光層が分光感度を有する光に対して
感熱層を不透明にさせる融除可能なマスキング染料を含
んでなる感熱層が使用される。本発明に関する像形成要
素はさらに光、好適にはレーザー光線、を熱に転換させ
うる化合物Aも含んでなる。この化合物Aは好適には感
熱層中にも含まれる。化合物Aは好適には赤外線吸収性
化合物であり、そしてレーザー光線は好適には赤外レー
ザー光線である。より好適には該赤外線吸収性化合物は
赤外線吸収性染料または伝導性重合体である。
A. Imaging Element a.1. Thermosensitive Layer According to the present invention, a thermosensitive layer comprising an ablative masking dye that renders the thermosensitive layer opaque to light having a spectral sensitivity. used. The imaging element according to the invention further comprises a compound A capable of converting light, preferably a laser beam, into heat. This compound A is preferably also contained in the thermosensitive layer. Compound A is preferably an infrared absorbing compound, and the laser beam is preferably an infrared laser beam. More preferably, the infrared absorbing compound is an infrared absorbing dye or a conductive polymer.

【0017】感光層は300〜450nmの波長範囲内
の波長を有する光(紫外線)に有感性であり、従ってマ
スキング染料は該範囲内に吸収ピークを有する染料であ
る。本発明に関して特に好適な態様では、該マスキング
染料は該吸収ピークにおける少なくとも104の、より
好適には少なくとも2・104の、最も好適には少なく
とも5・104の吸光係数を有する。それ故、適する紫
外線吸収性マスキング染料は300〜450nmの波長
範囲内における十分高い吸光係数を有するため、適度な
量のマスキング染料を用いると感熱層中を透過する紫外
線の量は10%より多くなくそしてより好適には3%よ
り多くなくそして最も好適には1%より多くない。適す
る紫外線マスキング染料の例はBASFからのUVIN
UL D49、UVINUL E50およびUVINUL
N539、チバ−ガイギーからのTINUVIN P、
クロンプトン・アンド・ノウレス・リミテッドからのI
NTRAWITE YELLOW 2GLN、4−ジメチ
ルアミノベンゾフェノン、4−フェニルアゾフェノール
などである。
The photosensitive layer is sensitive to light (ultraviolet light) having a wavelength within the wavelength range of 300 to 450 nm, and thus the masking dye is a dye having an absorption peak within the range. In a particularly preferred embodiment for the present invention, the masking dye has an extinction coefficient of at least 10 4 at the absorption peak, more preferably at least 2 10 4 , most preferably at least 5 10 4 . Therefore, suitable UV-absorbing masking dyes have a sufficiently high extinction coefficient in the wavelength range of 300-450 nm, so that with a moderate amount of masking dye, the amount of UV light transmitted through the thermosensitive layer is no more than 10%. And more preferably not more than 3% and most preferably not more than 1%. Examples of suitable UV masking dyes are UVIN from BASF
UL D49, UVINUL E50 and UVINUL
N539, TINUVIN P from Ciba-Geigy,
I from Crompton and Knowles Limited
NTRAWITE YELLOW 2GLN, 4-dimethylaminobenzophenone, 4-phenylazophenol and the like.

【0018】感熱層は好適には少なくとも1種のイエロ
ー染料、少なくとも1種のマゼンタ染料および少なくと
も1種のシアン染料も含む。
The heat-sensitive layer preferably also contains at least one yellow dye, at least one magenta dye and at least one cyan dye.

【0019】感熱層は好適には結合剤、好適には水溶性
または水膨潤性結合剤も含む。好適な重合体状結合剤に
は、水膨潤性または水溶性結合剤、特にアルカリ性水性
媒体中で膨潤性または可溶性であるものが包含される。
適する結合剤の例は、例えば以下で中間層中での使用に
関して挙げられている親水性重合体および/または感光
層の組成物中で挙げられているアルカリ可溶性結合剤で
ある。
The heat-sensitive layer preferably also contains a binder, preferably a water-soluble or water-swellable binder. Suitable polymeric binders include water-swellable or water-soluble binders, especially those that are swellable or soluble in alkaline aqueous media.
Examples of suitable binders are, for example, the hydrophilic polymers mentioned below for use in the interlayer and / or the alkali-soluble binders mentioned in the composition of the photosensitive layer.

【0020】本発明における感光層がさらに熱分解可能
な重合体、特に発熱的に分解するものを含むことがさら
に特に望ましい。後者の場合には、感熱層の感度が改良
される。発熱的に分解する熱分解可能な重合体の特別な
例はニトロセルロースである。
It is particularly desirable that the photosensitive layer in the present invention further contains a thermally decomposable polymer, especially one which decomposes exothermically. In the latter case, the sensitivity of the thermosensitive layer is improved. A particular example of a thermally decomposable polymer that decomposes exothermically is nitrocellulose.

【0021】典型的には、感熱層の厚さは例えば0.1
μm〜約4μmそしてより好適には0.5μm〜1.5μ
mの間の範囲である。
Typically, the thickness of the heat-sensitive layer is, for example, 0.1.
μm to about 4 μm and more preferably 0.5 μm to 1.5 μm
m.

【0022】本発明に関する感熱層はさらに種々の他の
所望する機能、例えば感熱層中に着色された染料を含む
ことにより実現できる視覚的検査、を実現するための追
加の他の成分を含んでいてもよい。
The heat-sensitive layer according to the present invention further comprises additional other components to achieve various other desired functions, such as visual inspection which can be achieved by including a colored dye in the heat-sensitive layer. May be.

【0023】本発明に関する使用のための感熱層は好適
にはレーザー光線を熱に転換させうる化合物Aも含んで
なる。この目的のためには赤外顔料または染料を使用す
ることが特に好ましい。本発明においては赤外染料が特
に望ましい。しかしながら、他の顔料、例えば伝導性重
合体粒子、金属炭化物、ホウ化物、窒化物、炭窒化物(c
arbonitrides)、青銅−構造の酸化物を使用することも
できる。
The heat-sensitive layer for use according to the invention preferably also comprises a compound A which can convert laser light into heat. It is particularly preferred to use infrared pigments or dyes for this purpose. In the present invention, an infrared dye is particularly desirable. However, other pigments, such as conductive polymer particles, metal carbides, borides, nitrides, carbonitrides (c
arbonitrides), bronze - it is also possible to use an oxide structure.

【0024】化合物Aの一部または全部を感熱層と隣接
する層、例えば感光層と感熱層との間の中間層に加えて
もよい。
A part or all of the compound A may be added to a layer adjacent to the heat-sensitive layer, for example, an intermediate layer between the light-sensitive layer and the heat-sensitive layer.

【0025】a.2.中間層 本発明によれば、像形成要素は好適にはまた感光層と感
熱層との間に中間層を含む。そのような中間層は水性媒
体中で、好適には水性アルカリ性媒体中で、可溶性また
は膨潤性でなければならない。適する中間層は好適には
親水性結合剤を含有する。適する親水性結合剤は、例え
ば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポ
リ酸化エチレン、セルロース類、糖類、ゼラチン、カル
ボキシル含有重合体、例えば、(メタ)アクリル酸のホ
モ−または共重合体、無水マレイン酸をベースとした重
合体、フェノール系ヒドロキシ基を含有する重合体、例
えばポリビニルフェノール類などである。本発明に関す
る中間層は種々の追加成分を含有していてもよく、例え
ばレーザー光線を熱に転換させうる化合物が上記のよう
に中間層に望ましく加えられる。
A.2. Interlayer According to the present invention, the imaging element preferably also comprises an interlayer between the light-sensitive layer and the heat-sensitive layer. Such an interlayer must be soluble or swellable in an aqueous medium, preferably an aqueous alkaline medium. Suitable interlayers preferably contain a hydrophilic binder. Suitable hydrophilic binders include, for example, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide, celluloses, sugars, gelatin, carboxyl-containing polymers such as homo- or copolymers of (meth) acrylic acid, maleic anhydride. Examples of the polymer include a base polymer and a polymer containing a phenolic hydroxy group, such as polyvinylphenols. The intermediate layer according to the present invention may contain various additional components, for example, a compound capable of converting laser light into heat is desirably added to the intermediate layer as described above.

【0026】中間層の乾燥厚さは好適には0.5〜5μ
m、より好適には1〜3.5μmの間である。
The dry thickness of the intermediate layer is preferably between 0.5 and 5 μm.
m, more preferably between 1 and 3.5 μm.

【0027】a.3.感光層 本発明に従う感光層は、像形成要素の支持体の親水性表
面上のインキ受容像を得ることができる適当な感光性組
成物を含んでなっていてもよい。ここで使用されるその
ような感光性組成物の例はジアゾ化合物を含んでなるも
の;英国特許第1,235,281号および第1,495,
861号に開示されているアジド化合物を含んでなるも
の;米国特許第4,072,528号および第4,072,
527号に開示されている光−架橋結合可能な光重合
体、並びに特に以下でさらに詳細に記載されているもの
である。
A.3. Photosensitive layer The photosensitive layer according to the present invention may comprise a suitable photosensitive composition capable of obtaining an ink-receiving image on the hydrophilic surface of the support of the imaging element. . Examples of such photosensitive compositions as used herein comprise those comprising diazo compounds; British Patent Nos. 1,235,281 and 1,495,
No. 4,072,528, and 4,072, comprising azide compounds disclosed in U.S. Pat.
No. 527, the photo-crosslinkable photopolymers, and in particular those described in more detail below.

【0028】これらの感光性組成物の中では、ジアゾ化
合物を含んでなるものは例えば感光層の貯蔵性質;現像
性、例えば現像寛容度;像性質、例えば像の品質;印刷
性質、例えばインキ受容性および耐摩耗性;並びに使用
される現像主薬の低い環境汚染発生可能性の如き種々の
性質において総合的に優れているため、それらが好適に
使用される。
Among these photosensitive compositions, those comprising a diazo compound include, for example, the storage properties of the photosensitive layer; developability, eg, development latitude; image properties, eg, image quality; printing properties, eg, ink acceptance. They are preferably used because of their overall excellent properties in various properties, such as resistance and abrasion resistance; and the low environmental contamination potential of the developing agents used.

【0029】ジアゾ化合物を含有する感光性組成物は概
略的に二種、すなわちネガ−作用タイプおよびポジ−作
用タイプのもの、に分類できる。
Photosensitive compositions containing a diazo compound can be roughly classified into two types, that is, a negative-working type and a positive-working type.

【0030】ジアゾ化合物を含有するネガ−作用性感光
性組成物は感光性ジアゾ化合物および好適には重合体状
化合物を含んでなる。感光性ジアゾ化合物としては一般
的に既知のものを使用することができ、そしてそれらの
好適な例は有機溶媒−可溶性のジアゾ樹脂の塩類、例え
ばp−ジアゾジフェニルアミンおよびホルムアルデヒド
またはアセトアルデヒドおよびヘキサフルオロ燐酸塩類
の縮合物の塩類並びにそれらと2−ヒドロキシ−4−メ
トキシベンゾフェノン−5−スルホン酸塩類との塩類で
ある。
The negative-working photosensitive composition containing the diazo compound comprises the photosensitive diazo compound and preferably a polymeric compound. Commonly known photosensitive diazo compounds can be used, and preferred examples thereof include organic solvent-soluble salts of diazo resins, such as p-diazodiphenylamine and formaldehyde or acetaldehyde and hexafluorophosphate. And salts of these with 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid salts.

【0031】他方では、好適に使用される前記の重合体
状化合物の例はアクリル酸またはメタクリル酸の共重合
体;クロトン酸共重合体;イタコン酸共重合体、マレイ
ン酸共重合体、側鎖にカルボキシル基を有するセルロー
ス誘導体、側鎖にカルボキシル基を有するポリビニルア
ルコール誘導体、側鎖にカルボキシル基を有する(メ
タ)アクリル酸ヒドロキシアルキルの共重合体、並びに
カルボキシル基を有する不飽和ポリエステル樹脂であ
る。
On the other hand, examples of the polymeric compounds preferably used are acrylic acid or methacrylic acid copolymers; crotonic acid copolymers; itaconic acid copolymers, maleic acid copolymers, side chains And a polyvinyl alcohol derivative having a carboxyl group in the side chain, a hydroxyalkyl (meth) acrylate having a carboxyl group in the side chain, and an unsaturated polyester resin having a carboxyl group.

【0032】ポジ−作用性感光性組成物中で使用される
ジアゾ化合物としては一般的に既知である化合物を使用
することができ、そしてそれらの典型的な例はo−キノ
ンジアジド類および好適にはo−ナフトキノンジアジド
化合物である。種々のヒドロキシル化合物のo−ナフト
キノンジアジドスルホン酸エステル類またはo−ナフト
キノンジアジドカルボン酸エステル類;並びに種々の芳
香族アミン化合物のo−ナフトキノンジアジドスルホン
アミド類またはo−ナフトキノンジアジドカルボン酸ア
ミド類が特に好適である。そのようなフェノール類の例
にはフェノール、クレゾール、レソルシンおよびピロガ
ロールが包含され、そのようなカルボニル−含有化合物
の例はホルムアルデヒド、ベンズアルデヒドおよびアセ
トンである。好適なヒドロキシル化合物の例にはフェノ
ール−ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール−ホルムアル
デヒド樹脂、ピロガロール−アセトン樹脂およびレソル
シン−ベンズアルデヒド樹脂が包含される。
As the diazo compound used in the positive-working photosensitive composition, generally known compounds can be used, and typical examples thereof are o-quinonediazides and preferably It is an o-naphthoquinonediazide compound. Particularly preferred are o-naphthoquinonediazidosulfonic acid esters or o-naphthoquinonediazidocarboxylic acid esters of various hydroxyl compounds; and o-naphthoquinonediazidosulfonamides or o-naphthoquinonediazidocarboxylic acid amides of various aromatic amine compounds. It is. Examples of such phenols include phenol, cresol, resorcinol and pyrogallol, examples of such carbonyl-containing compounds are formaldehyde, benzaldehyde and acetone. Examples of suitable hydroxyl compounds include phenol-formaldehyde resin, cresol-formaldehyde resin, pyrogallol-acetone resin and resorcin-benzaldehyde resin.

【0033】o−キノンジアジド化合物の典型的な例に
は、ベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸また
はナフトキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸および
フェノール−ホルムアルデヒド樹脂またはクレゾール−
ホルムアルデヒド樹脂のエステル類;米国特許第3,6
35,709号に開示されているナフトキノン−(1,2)
−ジアジド−(2)−5−スルホン酸およびピロガロール
−アセトン樹脂のエステル;並びに日本特許公開昭55
−76346号に開示されているナフトキノン−(1,
2)−ジアジド−(2)−5−スルホン酸およびレソルシ
ン−ピロガロール−アセトン共重縮合物のエステルが包
含される。
Typical examples of o-quinonediazide compounds include benzoquinone- (1,2) -diazidesulfonic acid or naphthoquinone- (1,2) -diazidesulfonic acid and phenol-formaldehyde resin or cresol-
Esters of formaldehyde resin; US Patent No. 3,6
Naphthoquinone- (1,2) disclosed in US Pat.
Esters of -diazide- (2) -5-sulfonic acid and pyrogallol-acetone resin;
Naphthoquinone- (1,
Includes esters of 2) -diazide- (2) -5-sulfonic acid and resorcin-pyrogallol-acetone copolycondensate.

【0034】他の有用なo−キノンジアジド化合物の例
は日本特許公開昭50−117503号に開示されてい
る塩化o−ナフトキノンジアジドスルホニルでエステル
化された末端にヒドロキシル基を有するポリエステル
類;日本特許公開昭50−113305号に開示されて
いる塩化o−ナフトキノンジアジドスルホニルでエステ
ル化されたp−ヒドロキシスチレンのホモ重合体または
それと他の共重合可能な単量体との共重合体;日本特許
公開昭54−29922号に開示されているビスフェノ
ール−ホルムアルデヒド樹脂およびo−キノンジアジド
スルホン酸のエステル;米国特許第3,859,099号
に開示されているアクリル酸アルキル−炭酸アクリロイ
ルオキシアルキル−アクリル酸ヒドロキシアルキル共重
合体と塩化o−ナフトキノンジアジドスルホニルの縮合
物;日本特許公開昭49−17481号に開示されてい
るスチレンおよびフェノール誘導体の共重合生成物とo
−キノンジアジドスルホン酸との反応生成物;米国特許
第3,759,711号に開示されているp−アミノスチ
レンおよびそれと共重合可能な単量体の共重合体とo−
ナフトキノンジアジドスルホン酸またはo−ナフトキノ
ンジアジドカルボン酸とのアミド類;並びにポリヒドロ
キシベンゾフェノンおよび塩化o−ナフトキノンジアジ
ドスルホニルのエステル化合物である。
Examples of other useful o-quinonediazide compounds include polyesters having a hydroxyl group at the terminal esterified with o-naphthoquinonediazidosulfonyl chloride disclosed in JP-A-50-117503; Homopolymer of p-hydroxystyrene esterified with o-naphthoquinonediazidosulfonyl chloride or a copolymer thereof with another copolymerizable monomer disclosed in JP-A-50-113305; Bisphenol-formaldehyde resin and esters of o-quinonediazide sulfonic acid disclosed in US Pat. No. 5,429,922; alkyl acrylate-acryloyloxyalkyl carbonate-hydroxyalkyl acrylate disclosed in U.S. Pat. No. 3,859,099; Polymer and o-naph chloride Quinone condensates of diazide sulfonyl; copolymerization product of styrene and phenol derivatives disclosed in Japanese Patent Publication Sho 49-17481 and o
A reaction product with quinonediazidesulfonic acid; o- and a copolymer of p-aminostyrene and a monomer copolymerizable therewith as disclosed in U.S. Pat. No. 3,759,711.
Amides with naphthoquinonediazidosulfonic acid or o-naphthoquinonediazidocarboxylic acid; and ester compounds of polyhydroxybenzophenone and o-naphthoquinonediazidosulfonyl chloride.

【0035】感光層を形成するためには、これらのo−
キノンジアジド化合物を単独で使用してもよいが、好適
にはアルカリ可溶性樹脂との混合物状で使用する。
In order to form a photosensitive layer, these o-
The quinonediazide compound may be used alone, but is preferably used as a mixture with an alkali-soluble resin.

【0036】好適なアルカリ−可溶性樹脂にはノボラッ
クタイプフェノールが包含され、その典型的な例は日本
特許公開昭55−57841号に開示されているフェノ
ールホルムアルデヒド、クレゾール−ホルムアルデヒド
樹脂、およびフェノール−クレゾール−ホルムアルデヒ
ド共重縮合樹脂である。より好適には、前記のフェノー
ル樹脂は日本特許公開昭50−125806号に開示さ
れている炭素数3〜8のアルキル基で置換されたフェノ
ールまたはクレゾールとホルムアルデヒドとの縮合物、
例えばt−ブチルフェノール−ホルムアルデヒド、と共
に同時に使用される。
Suitable alkali-soluble resins include novolak type phenols, typical examples of which are phenol formaldehyde, cresol-formaldehyde resin, and phenol-cresol-phenol disclosed in Japanese Patent Publication No. 55-57841. It is a formaldehyde copolycondensation resin. More preferably, the phenolic resin is a condensate of phenol or cresol substituted with an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms and formaldehyde disclosed in Japanese Patent Publication No. 50-125806,
For example, it is used simultaneously with t-butylphenol-formaldehyde.

【0037】さらに、感光性組成物の中に場合により上
記のアルカリ−可溶性ノボラックフェノール樹脂以外の
アルカリ−可溶性重合体を加えることもできる。そのよ
うな重合体の例はスチレン−アクリル酸共重合体、メタ
クリル酸メチル−メタクリル酸共重合体、アルカリ−可
溶性ポリウレタン樹脂、並びに日本特許公告昭52−2
8401号に開示されているアルカリ−可溶性ビニル系
樹脂およびアルカリ−可溶性ポリブチラール樹脂であ
る。
Further, an alkali-soluble polymer other than the above-mentioned alkali-soluble novolak phenol resin may be optionally added to the photosensitive composition. Examples of such polymers are styrene-acrylic acid copolymer, methyl methacrylate-methacrylic acid copolymer, alkali-soluble polyurethane resin, and Japanese Patent Publication No. 52-2.
No. 8401, and an alkali-soluble vinyl resin and an alkali-soluble polybutyral resin.

【0038】o−キノンジアジド化合物の量は感光性組
成物の固体含有量の合計重量を基準にして好適には5〜
80重量%そしてより好適には10〜50重量%であ
る。他方では、アルカリ−可溶性樹脂の量は感光性組成
物の固体含有量の合計重量を基準にして好適には30〜
90重量%そしてより好適には50〜85重量%であ
る。
The amount of the o-quinonediazide compound is preferably from 5 to 5 based on the total weight of the solid content of the photosensitive composition.
80% by weight and more preferably 10-50% by weight. On the other hand, the amount of alkali-soluble resin is preferably from 30 to 30, based on the total weight of the solids content of the photosensitive composition.
90% by weight and more preferably 50-85% by weight.

【0039】本発明に関する感光層は多層構造の形態で
適用してもよい。さらに、感光層または多層パッケージ
中の感光性組成物はその他に任意成分、例えば染料、可
塑剤および焼き出し品質(像通りの露光直後に可視像を
与える能力)を与えるための成分、を含んでなっていて
もよい。
The photosensitive layer according to the present invention may be applied in the form of a multilayer structure. In addition, the photosensitive composition in the photosensitive layer or multilayer package includes other optional components, such as dyes, plasticizers, and components to provide printout quality (the ability to provide a visible image immediately after image-wise exposure). It may be.

【0040】支持体の親水性表面上に適用される感光層
のコーテイング量は好適には0.1〜7g/m2そしてよ
り好適には0.5〜4g/m2の範囲内である。
The coating amount of the photosensitive layer applied on a hydrophilic surface of a support is preferably in the 0.1~7g / m 2 and more preferably in the range of 0.5-4 g / m 2.

【0041】本発明における好適な光−架橋結合性物質
は側鎖にマレイミド基を有する光−架橋結合性重合体を
ベースにするものである。それらの感光性を高めるため
に、増感剤、例えばチオキサントン類、ベンゾフェノ
ン、ミヒラーケトン、アントラキノン、アントラセン、
クリセン、p−ジニトロベンゼン、2−ニトロフルオレ
ン、並びにJP−A−62−294238、JP−A−
2−173646、JP−A−2−236552、JP
−A−3−54566およびJP−A−6−10771
8に記載されている増感剤が加えられる。(ここで使用
されている「JP−A−」という語は「審査されずに公
開された日本特許出願」を意味する。)1つもしくはそ
れ以上の側鎖にマレイミド基を有する光−架橋結合性重
合体には、例えば、米国特許第4,079,041号(J
P−A−52−988に相当する);西ドイツ特許第
2,626,769号;ヨーロッパ特許第21,019号
および第3,552号;Die Angewandte Makromolekular
e Chemie, 115 (1983), pp. 163-181;JP−A−49
−128991〜JP−A−49−128993、JP
−A−50−5376〜JP−A−50−5380、J
P−A−53−5298〜JP−A−53−5300、
JP−A−50−50107、JP−A−51−479
40、JP−A−52−13907、JP−A−50−
45076、JP−A−52−121700、JP−A
−50−10844、JP−A−50−45087、J
P−A−58−43951;西ドイツ特許第2,349,
948号および第2,616,276号に記載されている
重合体が包含される。
The preferred photo-crosslinkable substances in the present invention are based on photo-crosslinkable polymers having a maleimide group in the side chain. To enhance their photosensitivity, sensitizers such as thioxanthones, benzophenones, Michler's ketones, anthraquinones, anthracenes,
Chrysene, p-dinitrobenzene, 2-nitrofluorene, and JP-A-62-294238, JP-A-
2-173646, JP-A-2-236552, JP
-A-3-54566 and JP-A-6-10771
The sensitizer described in 8 is added. (The term "JP-A-" as used herein means "Japanese patent application published without examination.") Photo-crosslinking having a maleimide group in one or more side chains For example, US Pat. No. 4,079,041 (J.
West German Patent No. 2,626,769; European Patent Nos. 21,019 and 3,552; Die Angewandte Makromolekular.
e Chemie, 115 (1983), pp. 163-181; JP-A-49.
-128991-JP-A-49-128993, JP
-A-50-5376 to JP-A-50-5380, J
PA-53-5298 to JP-A-53-5300,
JP-A-50-50107, JP-A-51-479
40, JP-A-52-13907, JP-A-50-
45076, JP-A-52-121700, JP-A
-50-10844, JP-A-50-45087, J
P-A-58-43951; West German Patent 2,349,
No. 948 and 2,616,276.

【0042】これらの重合体の中では、1つの分子中に
平均して2つもしくはそれ以上のマレイミド基を側鎖に
有しそして1000もしくはそれ以上の平均分子量を有
するものが本発明において好適に使用される。
Among these polymers, those having an average of two or more maleimide groups in a side chain in one molecule and having an average molecular weight of 1,000 or more are preferably used in the present invention. used.

【0043】これらの重合体のいずれかを含有する像形
成要素を好適には、環境上の安全性の観点から、有機溶
媒を実質的に含有しない水性アルカリ性現像主薬を用い
て現像する。従って、これらの重合体は水性アルカリ中
で可溶性または膨潤性である。従って、マレイミド基を
側鎖に有する単量体をアルカリ−可溶性を有する単量体
と共重合してこれらの重合体を得ることが好ましい。
The imaging element containing any of these polymers is preferably developed with an aqueous alkaline developing agent substantially free of organic solvents from an environmental safety standpoint. Thus, these polymers are soluble or swellable in aqueous alkali. Therefore, it is preferable to obtain a polymer of these by copolymerizing a monomer having a maleimide group in a side chain with a monomer having alkali-solubility.

【0044】アルカリ−可溶性基としては、14もしく
はそれ以下のpKaを有する酸基が好ましい。アルカリ
−可溶性基を有するそのような単量体の個々の例には、
カルボキシル基を有するビニル化合物、例えばアクリル
酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、−CON
HSO2−基を有するビニル単量体;−SO2NH−基を
有するビニル単量体;フェノール系ヒドロキシル基を有
するビニル単量体;燐酸基またはホスホン酸基を有する
ビニル単量体;並びに無水マレイン酸および無水イタコ
ン酸が包含される。
The alkali-soluble group is preferably an acid group having a pKa of 14 or less. Specific examples of such monomers having an alkali-soluble group include:
Vinyl compounds having a carboxyl group, such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, -CON
Vinyl monomer having an HSO 2 group; vinyl monomer having an —SO 2 NH— group; vinyl monomer having a phenolic hydroxyl group; vinyl monomer having a phosphoric acid group or a phosphonic acid group; Maleic acid and itaconic anhydride are included.

【0045】アルカリ−可溶性基を有する単量体および
マレイミド基を有する単量体を一般的には10/90〜
70/30モル比、好適には20/80〜60/40モ
ル比、で共重合して、本発明で使用するための光−架橋
結合性重合体を容易に与える。重合体は好適には30〜
500、特に好適には50〜300の酸価を有する。そ
のような光−架橋結合性重合体の中では、N−[2−メ
タクリロイルオキシ)アルキル]−2,3−ジメチルマレ
イミドおよびメタクリル酸またはアクリル酸からなる共
重合体、例えば Die Angewandte Makromolekulare Chem
ie, 128 (1984), pp. 71-91 に記載されているものが特
に有用である。これらの共重合体の製造においては、ビ
ニル単量体を第三成分としてさらに共重合して所望する
多元共重合体を与えることもできる。例えば、そのホモ
重合体が室温より高いガラス転移温度を有するようなメ
タクリル酸アルキルまたはアクリル酸アルキルを第三成
分として共重合して軟質共重合体を与えることができ
る。
The monomer having an alkali-soluble group and the monomer having a maleimide group are generally used in an amount of 10/90 to
It is copolymerized at a 70/30 molar ratio, preferably at a 20/80 to 60/40 molar ratio, to easily provide a photo-crosslinkable polymer for use in the present invention. The polymer is preferably from 30 to
It has an acid number of 500, particularly preferably 50 to 300. Among such photo-crosslinking polymers, copolymers consisting of N- [2-methacryloyloxy) alkyl] -2,3-dimethylmaleimide and methacrylic or acrylic acid, such as Die Angewandte Makromolekulare Chem
Those described in ie, 128 (1984), pp. 71-91 are particularly useful. In the production of these copolymers, a vinyl monomer may be further copolymerized as a third component to give a desired multi-component copolymer. For example, an alkyl methacrylate or an alkyl acrylate whose homopolymer has a glass transition temperature higher than room temperature can be copolymerized as a third component to give a soft copolymer.

【0046】本発明における使用のための光−架橋結合
性重合体は好適には1000もしくはそれ以上、より好
適には10,000〜500,000、そしてさらにより
好適には20,000〜300,000の重量平均分子量
を有する。
The photo-crosslinkable polymer for use in the present invention is preferably 1000 or more, more preferably 10,000 to 500,000, and even more preferably 20,000 to 300, It has a weight average molecular weight of 000.

【0047】前記のように、上記の光架橋結合可能な重
合体を有する感光層に増感剤を加えることが望ましい。
300nmもしくはそれ以上における十分な光吸収を確
実にするための吸収ピークを有する三重項増感剤が好ま
しい。
As described above, it is desirable to add a sensitizer to the photosensitive layer having the photocrosslinkable polymer.
Triplet sensitizers having an absorption peak to ensure sufficient light absorption at 300 nm or more are preferred.

【0048】そのような増感剤の例には、ベンゾフェノ
ン誘導体、ベンズアントロン誘導体、キノン類、芳香族
ニトロ化合物、ナフトチアゾリン誘導体、ベンゾチアゾ
リン誘導体、チオキサントン類、ナフトチアゾール誘導
体、ケトクマリン化合物、ベンゾチアゾール誘導体、ナ
フトフラノン化合物、ピリリウム塩類、およびチアピリ
リウム塩類が包含される。
Examples of such sensitizers include benzophenone derivatives, benzanthrone derivatives, quinones, aromatic nitro compounds, naphthothiazoline derivatives, benzothiazoline derivatives, thioxanthones, naphthothiazole derivatives, ketocoumarin compounds, benzothiazole derivatives , Naphthofuranone compounds, pyrylium salts, and thiapyrylium salts.

【0049】それらの個々の例には、ミヒラーケトン、
N,N′−ジエチルアミノベンゾフェノン、ベンズアン
トロン、(3−メチル−1,3−ジアゾ−1,9−ベンズ)
アン0ロンピクラミド、5−ニトロアセナフテン、2−
クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサント
ン、ジメチルチオキサントン、カルボン酸メチルチオキ
サントン−1−エチル、2−ニトロフルオレノン、2−
ジベンジルメチレン−3−メチルナフトチアゾリン、
3,3−カルボニル−ビス−(7−ジエチルアミノクマリ
ン)、過塩素酸2,4,6−トリフェニルチアピリリウ
ム、2−(p−クロロベンゾイル)ナフトチアゾール、並
びにJP−B−45−8832、JP−A−52−12
9791、JP−A−62−294238、JP−A−
2−173646、JP−A−2−131236、ヨー
ロッパ特許第368,327号、JP−A−2−236
552、JP−A−3−54566およびJP−A−6
−107718に記載されている増感剤が包含される。
[0049] Specific examples thereof include Michler's ketone,
N, N'-diethylaminobenzophenone, benzanthrone, (3-methyl-1,3-diazo-1,9-benz)
Anne ronpicramide, 5-nitroacenaphthene, 2-
Chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, dimethylthioxanthone, methylthioxanthone-1-ethyl carboxylate, 2-nitrofluorenone, 2-
Dibenzylmethylene-3-methylnaphthothiazoline,
3,3-carbonyl-bis- (7-diethylaminocoumarin), 2,4,6-triphenylthiapyrylium perchlorate, 2- (p-chlorobenzoyl) naphthothiazole, and JP-B-45-8832; JP-A-52-12
9791, JP-A-62-294238, JP-A-
2-173646, JP-A-2-131236, EP 368,327, JP-A-2-236
552, JP-A-3-54566 and JP-A-6
Sensitizers described in US Pat.

【0050】これらの中では、JP−A−2−2365
52、JP−A−3−54566およびJP−A−6−
107718に記載されている増感剤が好ましく、そし
てJP−A−6−107718に記載されている1つの
分子中にアルカリ−可溶性基として1つもしくはそれ以
上の−COOH、−NHSO220、−CONCHCO
20および/または−CONHSO220(ここでR20
はアルキル基、芳香族基またはアルキル−芳香族基を表
す)を有する増感剤が特に好適である。
Of these, JP-A-2-2365
52, JP-A-3-54566 and JP-A-6-
Preference is given to sensitizers described in US Pat. No. 107718 and one or more —COOH, —NHSO 2 R 20 , as alkali-soluble groups in one molecule described in JP-A-6-107718. -CONCHCO
R 20 and / or -CONHSO 2 R 20 (wherein R 20
Represents an alkyl group, an aromatic group or an alkyl-aromatic group).

【0051】感光層中の増感剤の量は感光層中の組成物
の合計重量の一般的には1〜20重量%、好適には2〜
15重量%、そしてより好適には3〜10重量%であ
る。
The amount of the sensitizer in the photosensitive layer is generally 1 to 20% by weight, preferably 2 to 20% by weight of the total weight of the composition in the photosensitive layer.
15% by weight, and more preferably 3-10% by weight.

【0052】上記の光架橋結合可能な重合体の他にジア
ゾ樹脂を感光層に加えることが望ましいかもしれない。
ジアゾ樹脂の例には芳香族ジアゾニウム化合物およびア
ルデヒドからなる共縮合物が包含される。それらの個々
の例にはJP−B−49−48001、JP−B−50
−7481、JP−B−5−2227、JP−A−3−
2864、JP−A−3−240061、およびJP−
A−4−274429に記載されているジアゾ樹脂が包
含される。
It may be desirable to add a diazo resin to the photosensitive layer in addition to the photocrosslinkable polymer described above.
Examples of the diazo resin include a co-condensate composed of an aromatic diazonium compound and an aldehyde. JP-B-49-48001, JP-B-50 are respectively examples of these.
-7481, JP-B-5-2227, JP-A-3-
2864, JP-A-3-240061, and JP-
The diazo resin described in A-4-274429 is included.

【0053】これらの中では、分子中にカルボキシル基
を有するジアゾ樹脂、例えば、少なくとも1つのカルボ
キシル基を有する芳香族化合物との共縮合により得られ
るジアゾ樹脂、例えばJP−A−3−240061に記
載されているもの、およびカルボキシル基を有するアル
デヒドとの縮合により得られるジアゾ樹脂、例えばJP
−A−2864に記載されているものが好ましい。
Among these, diazo resins having a carboxyl group in the molecule, for example, diazo resins obtained by cocondensation with an aromatic compound having at least one carboxyl group, for example, those described in JP-A-3-240061 And a diazo resin obtained by condensation with an aldehyde having a carboxyl group, such as JP
-A-2864 are preferred.

【0054】感光層中のジアゾ樹脂の量は感光層中の組
成物の合計量の好適には0.1〜30重量%、好適には
0.5〜10重量%、そしてより好適には1〜5重量%
である。
The amount of the diazo resin in the photosensitive layer is preferably from 0.1 to 30% by weight, preferably from 0.5 to 10% by weight, and more preferably from 1 to 30% by weight of the total amount of the composition in the photosensitive layer. ~ 5% by weight
It is.

【0055】さらに、例えばJP−B−3−6374
0、米国特許第3,376,138号、第3,556,79
3号に開示されている重合体の如き1つもしくはそれ以
上の重合可能な基を有する重合体を加えてもよい。
Further, for example, JP-B-3-6374
0, U.S. Patent Nos. 3,376,138, 3,556,79
A polymer having one or more polymerizable groups, such as the polymer disclosed in No. 3, may be added.

【0056】1つもしくはそれ以上の重合可能な基を有
する上記の重合体は好適には、側鎖にマレイミド基を有
する重合体と同様に、水性アルカリ性現像主薬中で可溶
性または膨潤性である。従って、この重合体は好適には
例えば上記の如きアルカリ−可溶性基を有する1種もし
くはそれ以上の単量体からなる共重合体である。
The above-mentioned polymers having one or more polymerizable groups are preferably soluble or swellable in aqueous alkaline developing agents, as are polymers having a maleimide group in the side chain. Accordingly, the polymer is preferably a copolymer comprising one or more monomers having, for example, an alkali-soluble group as described above.

【0057】a.4.支持体本発明によれば、像形成要素
は親水性表面を有する支持体を含んでなる。本発明にお
ける使用に適する支持体は、例えば、親水性層、好適に
は架橋結合されている親水性層を含んでなる金属支持
体、特に研磨されそして陽極酸化されたアルミニウム、
または紙もしくはプラスチックフィルムの如き基質を含
んでなる支持体である。特に適する架橋結合された親水
性層は、例えばホルムアルデヒド、グリオキサル、ポリ
イソシアナートまたは加水分解されたオルト珪酸テトラ
アルキルの如き架橋結合剤で架橋結合された親水性結合
剤から得られる。
A.4. Support According to the present invention, the imaging element comprises a support having a hydrophilic surface. Supports suitable for use in the present invention include, for example, metal supports comprising a hydrophilic layer, preferably a cross-linked hydrophilic layer, particularly polished and anodized aluminum.
Or a support comprising a substrate such as paper or plastic film. Particularly suitable crosslinked hydrophilic layers are obtained from hydrophilic binders which are crosslinked with a crosslinking agent such as, for example, formaldehyde, glyoxal, polyisocyanate or hydrolyzed tetraalkyl orthosilicate.

【0058】親水性結合剤としては、親水性(共)重合
体、例えばビニルアルコール、アクリルアミド、メチロ
ールアクリルアミド、メチロールメタクリルアミド、ア
クリル酸、メタクリル酸、アクリル酸ヒドロキシエチ
ル、メタクリル酸ヒドロキシエチルのホモ重合体および
共重合体または無水/ビニルメチルエーテル共重合体が
使用される。使用される(共)重合体または(共)重合体混
合物の親水度は好適には少なくとも60重量%、好適に
は80重量%の程度まで加水分解されたポリ酢酸ビニル
の親水度と同じであるかまたはそれより高い。
As the hydrophilic binder, hydrophilic (co) polymers such as homopolymers of vinyl alcohol, acrylamide, methylolacrylamide, methylolmethacrylamide, acrylic acid, methacrylic acid, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate And copolymers or anhydrous / vinyl methyl ether copolymers are used. The hydrophilicity of the (co) polymer or (co) polymer mixture used is preferably the same as that of the polyvinyl acetate hydrolyzed to at least 60% by weight, preferably to the extent of 80% by weight. Or higher.

【0059】橋かけ結合剤、特にオルト珪酸テトラアル
キル、の量は好適には1重量部の親水性結合剤当たり少
なくとも0.2重量部、好適には0.5〜5重量部の間、
より好適には1.0重量部〜3重量部の間である。
The amount of the crosslinking agent, especially the tetraalkyl orthosilicate, is preferably at least 0.2 parts by weight, preferably between 0.5 and 5 parts by weight, per part by weight of hydrophilic binder.
More preferably between 1.0 and 3 parts by weight.

【0060】本発明に従う架橋結合された親水性層は好
適には層の機械的強度および多孔度を高める物質も含有
する。この目的のためには、コロイド状シリカが使用さ
れる。使用されるコロイド状シリカは40nmまでの、
例えば20nmの、平均粒子寸法を有するコロイド状シ
リカの市販の水−分散液の形態であってよい。さらにコ
ロイド状シリカより大きい寸法の不活性粒子、例えば
J. Colloid and Interface Sci., Vol. 26, 1968, page
s 62 to 69 に記載されている Stoeber 法に従い製造さ
れたシリカまたは二酸化チタンもしくは他の重金属酸化
物の粒子である少なくとも100nmの平均直径を有す
る粒子を加えることができる。これらの粒子を加えるこ
とにより、架橋結合された親水性層の表面に顕微鏡寸法
の凹凸からなる均一な粗さのきめが与えられ、それは背
景部分における水のための貯蔵場所として機能する。架
橋結合された親水性層の厚さは0.2〜25μmの範囲
で変動できそして好適には1〜10μmである。
The cross-linked hydrophilic layer according to the invention preferably also contains substances which increase the mechanical strength and the porosity of the layer. Colloidal silica is used for this purpose. The colloidal silica used is up to 40 nm,
It may be in the form of a commercial water-dispersion of colloidal silica having an average particle size of, for example, 20 nm. In addition, inert particles larger in size than colloidal silica, such as
J. Colloid and Interface Sci., Vol. 26, 1968, page
It is possible to add particles having an average diameter of at least 100 nm, which are particles of silica or titanium dioxide or other heavy metal oxides prepared according to the Stoeber method described in s 62 to 69. The addition of these particles gives the surface of the crosslinked hydrophilic layer a uniform roughness texture consisting of microscopic irregularities, which acts as a storage for water in the background. The thickness of the crosslinked hydrophilic layer can vary from 0.2 to 25 μm and is preferably from 1 to 10 μm.

【0061】本発明に従う使用に適する架橋結合された
親水性層の他の特別な例はEP−A601240、GB
−P−1419512、FR−P−2300354、U
S−P−3971660、US−P−4284705お
よびEP−A 514490に開示されている。
Other special examples of cross-linked hydrophilic layers suitable for use according to the invention are EP-A 601 240, GB
-P-1419512, FR-P-2300354, U
These are disclosed in SP-397660, US-P-4284705 and EP-A 514490.

【0062】親水性層が上に付与される基質としては、
プラスチックフィルム、例えば基質にされたポリエチレ
ンテレフタレートフィルム、酢酸セルロースフィルム、
ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルムなど
を使用することが特に好ましい。プラスチックフィルム
支持体は不透明であってもまたは透明であってもよい。
As the substrate on which the hydrophilic layer is provided,
Plastic films, such as polyethylene terephthalate film on substrate, cellulose acetate film,
It is particularly preferable to use a polystyrene film, a polycarbonate film or the like. The plastic film support may be opaque or transparent.

【0063】接着性改良層が付与されているポリエステ
ルフィルム支持体を使用することが特に好ましい。本発
明に従う使用に特に適する接着性改良層はEP−A 6
19524、EP−A 620502およびEP−A 6
19525に開示されている親水性結合剤およびコロイ
ド状シリカを含んでなる。好適には、接着性改良層中の
シリカの量は1m2当たり200mgおよび1m2当たり
750mgの間である。さらに、シリカ対親水性結合剤
の比は好適には1より大きく、そしてコロイド状シリカ
の表面積は好適には1グラム当たり少なくとも300m
2、より好適には1グラム当たり500m2の表面積であ
る。
It is particularly preferred to use a polyester film support provided with an adhesion improving layer. Particularly suitable adhesion improving layers for use according to the invention are EP-A6
19524, EP-A 620502 and EP-A6
Comprising a hydrophilic binder and colloidal silica as disclosed in US Pat. The amount of silica in the adhesion improving layer is between 1 m 2 per 200mg and 1 m 2 per 750 mg. Further, the ratio of silica to hydrophilic binder is preferably greater than 1 and the surface area of the colloidal silica is preferably at least 300 m / gram.
2 , more preferably a surface area of 500 m 2 per gram.

【0064】b.平版印刷版の製造方法 b.1.像通りの露光 本発明に関する像通りの露光は赤外(IR)で発光す
る、すなわち700nmより上の、好適には700−1
500nmの波長範囲内で発光するレーザーの使用を含
む。830nm付近で発光するレーザーダイオード(砒
化ガリウムレーザーダイオード)または1060nmで
発光するNdYAG−レーザーが本発明に関する使用に
特に好適である。
B. Method of making a lithographic printing plate b.1. Imagewise exposure Imagewise exposure according to the invention emits in the infrared (IR), ie above 700 nm, preferably 700-1.
Includes the use of lasers that emit in the 500 nm wavelength range. Laser diodes emitting at around 830 nm (gallium arsenide laser diodes) or NdYAG-lasers emitting at 1060 nm are particularly suitable for use in connection with the present invention.

【0065】本発明に従う像通りの露光に適する好適な
像形成装置は好適にはレンズもしくは他の光線案内部品
を介して像形成要素表面に直接適用できるかまたは遠隔
位置にあるレンズからファイバー光ケーブルを用いて黒
色の像形成要素の表面に伝達できるレーザー出力を含
む。調節器および付随する位置決め器が光線出力を像形
成要素表面に関して正確な方向に保ち、この出力を表面
上で走査させ、そしてレーザーを像形成要素の選択され
た点または部分に隣接する位置において活性化させる。
調節器は像形成要素上で複写しようとするオリジナル書
類および/または絵に対応する入力像信号に応答してそ
のオリジナルの正確なネガまたはポジ像を形成する。像
信号はコンピューターにビットマップデータファイルと
して貯蔵される。そのようなファイルはラスター像処理
器(RIP)または他の適当な手段により作成できる。
例えば、RIPは入力データを頁−記載言語で受容する
ことができ、それが像形成要素上に転写することが必要
な特徴の全てを規定するか、または頁−記載言語および
1つもしくはそれ以上の像データファイルの組み合わせ
として受容することができる。ビットマップは色の色調
並びに増幅調整スクリーニングの場合にはスクリーン数
および角度を規定するために作成される。しかしなが
ら、本発明は例えばEP−A 571010、EP−A
620677およびEP−A 620674に開示され
ている数調整スクリーニングと組み合わせた使用に特に
適する。
Suitable imaging devices suitable for image-wise exposure in accordance with the present invention are preferably applied directly to the imaging element surface via a lens or other ray-guiding component, or connect a fiber optic cable from a lens at a remote location. Including a laser output that can be used to transmit to the surface of a black imaging element. An adjuster and associated positioner keep the beam output in the correct orientation with respect to the imaging element surface, cause this output to scan over the surface, and activate the laser at a location adjacent to a selected point or portion of the imaging element. To
The adjuster forms an accurate negative or positive image of the original in response to an input image signal corresponding to the original document and / or picture to be copied on the imaging element. The image signal is stored in the computer as a bitmap data file. Such a file can be created by a raster image processor (RIP) or other suitable means.
For example, a RIP can accept input data in a page-description language, which defines all of the features that need to be transferred onto the imaging element, or a page-description language and one or more As image data file combinations. A bitmap is created to define the color hue and, in the case of amplification adjustment screening, the number of screens and angles. However, the invention relates, for example, to EP-A 571 010, EP-A
Particularly suitable for use in combination with the number-adjusted screening disclosed in 620677 and EP-A 620674.

【0066】本発明における使用のための像形成装置は
好適には平床記録計またはドラムの円筒状外表面に設置
された像形成要素を有するドラム記録計として構成され
る。好適なドラム構造では、レーザー光線および像形成
要素の間の必要な相対的な移動は、ドラム(およびその
上に設置された像形成要素)をその軸の周りに回転させ
そして光線を回転軸に平行に移動させてそれにより像形
成要素を円周に走査させて像を軸方向に「成長させる」
ことにより得られる。或いは、光線をドラム軸と平行に
移動させそして像形成要素を越える1回の通過後に角度
を増加させて像形成要素上で「成長させる」こともでき
る。両方の場合とも、光線による完全走査および現像後
に、オリジナルに相当する像が像形成要素の表面に適用
されているであろう。平床構造では、光線は像形成要素
のどちらかの軸に沿って流され、そして1回の通過後に
他の軸に沿って指定される。もちろん、光線および像形
成要素の間の必要な相対的移動を光線の移動によってで
はなく(またはそれに加えて)像形成要素の移動によっ
て行うこともできる。
The imaging device for use in the present invention is preferably configured as a flat bed recorder or a drum recorder having an imaging element mounted on the cylindrical outer surface of the drum. In a preferred drum configuration, the necessary relative movement between the laser beam and the imaging element rotates the drum (and the imaging element mounted thereon) about its axis and moves the beam parallel to the axis of rotation. To "grow" the image axially by causing it to scan the imaging element circumferentially
It can be obtained by: Alternatively, the light beam can be moved parallel to the drum axis and "grown" on the imaging element at increasing angles after a single pass over the imaging element. In both cases, after a full scan with light and development, an image corresponding to the original will have been applied to the surface of the imaging element. In a flat-bed configuration, light rays are directed along either axis of the imaging element, and are designated along the other axis after a single pass. Of course, the necessary relative movement between the light beam and the imaging element can be effected not by (or in addition to) the movement of the light beam, but by the movement of the imaging element.

【0067】光線の走査方法にもかかわらず、複数のレ
ーザーを使用しそしてそれらの出力を1つの筆記列に案
内することが一般的に(速度の理由のために)好まし
い。次に筆記列が指定され、像形成要素を越えるかまた
はそれに沿った1回の通過の完了後に、距離が列から発
生する光線の数によりそして所望する解像度(すなわち
単位長さ当たりの像点の数)により決められる。
Regardless of the method of scanning the light beam, it is generally preferred (for speed reasons) to use multiple lasers and direct their output to one writing column. A writing column is then specified, and after the completion of a single pass over or along the imaging element, the distance depends on the number of rays emanating from the column and on the desired resolution (ie, the number of image points per unit length). Number).

【0068】b.2.全体的な露光 本発明に関する全体的な露光は、本発明に関する像形成
要素の感光層が分光感度を有する波長範囲において少な
くとも発光する光源により行われる。本発明における実
際の態様では、感光層は感紫外線性および/または場合
により例えば緑色までの可視スペクトルの短い波長部分
に対して有感性がある。全体的な露光は、例えば100
0Wの、高圧または中圧水銀蒸気灯の如き露光源により
行うことができる。
B.2. Global Exposure Global exposure for the present invention is performed by a light source that emits at least in the wavelength range where the photosensitive layer of the imaging element according to the present invention has spectral sensitivity. In a practical embodiment of the invention, the photosensitive layer is UV-sensitive and / or optionally sensitive to short wavelength parts of the visible spectrum, for example to green. The overall exposure is, for example, 100
This can be done with an exposure source such as a 0 W high or medium pressure mercury vapor lamp.

【0069】b.3.現像 本発明に関する現像は感光層の露光されたまたは露光さ
れなかった部分を除去しうる適当な液体により行われ
る。本発明における現像液の適切な組成は感光層の種類
に依存しておりそして好適には現像中に感熱層および場
合により中間層が同時に除去されるようなものである。
B.3. Development The development according to the present invention is performed with a suitable liquid capable of removing the exposed or unexposed portions of the photosensitive layer. The appropriate composition of the developer in the present invention depends on the type of photosensitive layer and is preferably such that during development the heat-sensitive layer and optionally the intermediate layer are removed simultaneously.

【0070】形態学的理由のために、水をベースとした
現像液が他の有機溶媒なしで使用される。特に好適な現
像液は水性アルカリ性液である。
For morphological reasons, water-based developers are used without other organic solvents. Particularly preferred developers are aqueous alkaline solutions.

【0071】上記の好適な感光性コーテイングと共に使
用するのに特に適する現像液は下記の通りである。
Particularly suitable developers for use with the preferred photosensitive coatings described above are as follows.

【0072】本発明で好適に使用される現像主薬は主と
してアルカリ金属珪酸塩およびアルカリ金属水酸化物か
らなる水溶液である。そのようなアルカリ金属珪酸塩と
しては、例えば、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸
リチウムおよびメタ珪酸ナトリウムが好適に使用され
る。他方では、そのようなアルカリ金属水酸化物として
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよび水酸化リ
チウムが好適である。不溶性沈澱の生成を防止する観点
からは、現像主薬が現像水溶液中のアルカリ金属の合計
量に関して少なくとも20モル%のカリウムを含んでな
ることが特に望ましい。
The developing agent suitably used in the present invention is an aqueous solution mainly comprising an alkali metal silicate and an alkali metal hydroxide. As such an alkali metal silicate, for example, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and sodium metasilicate are preferably used. On the other hand, sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide are preferred as such alkali metal hydroxides. From the standpoint of preventing the formation of insoluble precipitates, it is particularly desirable that the developing agent comprises at least 20 mol% of potassium with respect to the total amount of alkali metal in the aqueous developing solution.

【0073】本発明で使用される現像主薬は同時に他の
アルカリ性試薬を含有してもよい。そのような他のアル
カリ性試薬の例には、無機アルカリ性試薬、例えば水酸
化アンモニウム、第三燐酸ナトリウム、第二燐酸ナトリ
ウム、第三燐酸カリウム、第二燐酸カリウム、第三燐酸
アンモニウム、第二燐酸アンモニウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムおよび炭酸アンモ
ニウム;並びに有機アルカリ性試薬、例えばモノ−、ジ
−もしくはトリエタノールアミン、モノ−、ジ−もしく
はトリメチルアミン、モノ−、ジ−もしくはトリエチル
アミン、モノ−ジ−もしくはイソプロピルアミン、n−
ブチルアミン、モノ−、ジ−もしくはトリイソプロパノ
ールアミン、エチレンイミン、エチレンジイミンおよび
水酸化テトラメチルアンモニウムが包含される。
The developing agent used in the present invention may simultaneously contain another alkaline reagent. Examples of such other alkaline reagents include inorganic alkaline reagents such as ammonium hydroxide, sodium tertiary phosphate, sodium dibasic phosphate, potassium tertiary phosphate, potassium dibasic phosphate, ammonium tertiary phosphate, ammonium dibasic phosphate Sodium bicarbonate, sodium carbonate, potassium carbonate and ammonium carbonate; and organic alkaline reagents such as mono-, di- or triethanolamine, mono-, di- or trimethylamine, mono-, di- or triethylamine, mono-di-. Or isopropylamine, n-
Butylamine, mono-, di- or triisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediimine and tetramethylammonium hydroxide are included.

【0074】本発明での使用のための現像主薬中の珪酸
塩[SiO2]対アルカリ金属酸化物[M2O]のモル比
が0.6〜1.5、好適には0.7〜1.3であることが特
に望ましい。さらに、補充液中のSiO2の濃度は好適
には2〜4重量%の範囲である。
The molar ratio of silicate [SiO 2 ] to alkali metal oxide [M 2 O] in the developing agent for use in the present invention is from 0.6 to 1.5, preferably from 0.7 to 1.5. 1.3 is particularly desirable. Further, SiO 2 concentration in the replenisher preferably ranges from 2 to 4 wt%.

【0075】本発明で使用される現像主薬中では、20
℃における10重量%を越えない水中溶解度を有する有
機溶媒を必要に応じて同時に使用することができる。そ
のような有機溶媒の例はカルボン酸エステル類、例えば
酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸アミル、酢酸ベンジ
ル、酢酸エチレングリコールモノブチル、乳酸ブチルお
よびレブリン酸ブチル;ケトン類、例えばエチルブチル
ケトン、メチルイソブチルケトンおよびシクロヘキサノ
ン;アルコール類、例えばエチレングリコールモノブチ
ルエーテル、エチレングリコールベンジルエーテル、エ
チレングリコールモノフェニルエーテル、ベンジルアル
コール、メチルフェニルカルビノール、n−アミルアル
コールおよびメチルアミルアルコール;アルキル−置換
された芳香族炭化水素類、例えばヘキシレン;並びにハ
ロゲン化された炭化水素類、例えば二塩化メチレンおよ
びモノクロロベンゼンである。これらの有機溶媒は単独
でまたは組み合わせて使用することができる。本発明で
はベンジルアルコールが特に好適である。これらの有機
溶媒は現像主薬に5重量%より多くないそしてより好適
には4重量%より多くない量で加えられる。
In the developing agent used in the present invention, 20
Organic solvents having a solubility in water of not more than 10% by weight at 0 ° C. can be used simultaneously if desired. Examples of such organic solvents are carboxylic esters such as ethyl acetate, propyl acetate, amyl acetate, benzyl acetate, ethylene glycol monobutyl acetate, butyl lactate and butyl levulinate; ketones such as ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone And cyclohexanone; alcohols such as ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol benzyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, benzyl alcohol, methylphenylcarbinol, n-amyl alcohol and methyl amyl alcohol; alkyl-substituted aromatic hydrocarbons Hexylene; and halogenated hydrocarbons such as methylene dichloride and monochlorobenzene. These organic solvents can be used alone or in combination. In the present invention, benzyl alcohol is particularly preferred. These organic solvents are added to the developing agent in an amount not more than 5% by weight and more preferably not more than 4% by weight.

【0076】本発明で使用される現像主薬はその現像性
質を改良する目的で界面活性剤を同時に含有できる。そ
のような界面活性剤の例には、高級アルコール(C8
22)硫酸エステル類の塩類、例えばラウリルアルコー
ル硫酸エステルのナトリウム塩、オクチルアルコール硫
酸エステルのナトリウム塩、ラウリルアルコール硫酸エ
ステルのアンモニウム塩、Teepol B−81(商
標、シェル・ケミカルズ・カンパニー・リミテッドから
市販されている)およびアルキル硫酸エステル二ナトリ
ウム;脂肪族アルキル燐酸エステル類の塩類、例えばセ
チルアルコール燐酸エステルのナトリウムエステル;ア
ルキルアリールスルホン酸塩類、例えばドデシルベンゼ
ンスルホン酸エステルのナトリウム塩、イソプロピルナ
フタレンスルホン酸エステルのナフタレン塩、ジナフタ
レンジスルホン酸エステルのナトリウム塩およびメタニ
トロベンゼンスルホン酸エステルのナトリウム塩;アル
キルアミド類のスルホン酸塩;並びに二塩基性脂肪族酸
エステル類のスルホン酸塩、例えばジオクチルスルホ琥
珀酸ナトリウムおよびジヘキシルスルホ琥珀酸ナトリウ
ムが包含される。これらの界面活性剤は単独でまたは組
み合わせて使用できる。スルホン酸塩類が特に好適であ
る。これらの界面活性剤は一般的には5重量%より多く
ないそして好適には3重量%より多くない量で使用でき
る。
The developing agents used in the present invention can simultaneously contain a surfactant for the purpose of improving the developing properties. Examples of such surfactants include higher alcohols (C 8-
C 22) salts of sulfuric acid esters such as sodium salt of lauryl alcohol sulfate commercially available sodium salt of octyl alcohol sulfate, ammonium salt of lauryl alcohol sulfate, Teepol B-81 (trade mark, Shell Chemicals Co., Ltd. Salts of aliphatic alkyl phosphates, such as sodium ester of cetyl alcohol phosphate; alkyl aryl sulfonates, such as sodium salt of dodecyl benzene sulfonate, isopropyl naphthalene sulfonate Naphthalene salt, sodium salt of dinaphthalenedisulfonic acid ester and sodium salt of metanitrobenzenesulfonic acid ester; Hong salts; sulfonates and dibasic aliphatic acid esters such as sodium and dihexyl sodium sulfosuccinate dioctyl sulfosuccinate, and the like. These surfactants can be used alone or in combination. Sulfonates are particularly preferred. These surfactants can generally be used in amounts not more than 5% by weight and preferably not more than 3% by weight.

【0077】現像主薬の現像安定性を高めるために、下
記の化合物を同時に使用してもよい。
In order to enhance the development stability of the developing agent, the following compounds may be used together.

【0078】そのような化合物の例は、日本特許公開昭
58−75152号に開示されているNaClおよびK
Brの如き中性塩類;日本特許公開昭58−19095
2号(米国特許第4,469,776号)に開示されてい
るEDTAおよびNTAの如きキレート剤;日本特許公
開昭59−121336号(米国特許第4,606,99
5号)に開示されている[Co(NH3)6]Cl3の如き
錯体;日本特許公開昭55−25100号に開示されて
いる周期律表のIIa、IIIaまたはIIIb族元素のイオン
可能な化合物;アニオン性または両性界面活性剤、例え
ばアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウムおよび日本
特許公開昭50−51324号に開示されているN−テ
トラデシル−N,N−ジヒドロキシエチルベタイン;米
国特許第4,374,920号に開示されているテトラメ
チルデシンジオール;日本特許公開昭60−21394
3号に開示されている非イオン性界面活性剤;カチオン
性重合体、例えば日本特許公開昭55−95946号に
開示されているp−ジメチルアミノメチルポリスチレン
の塩化メチル第4級生成物;両性高分子電解質、例えば
日本特許公開昭56−142528号に開示されている
塩化ビニルベンジルトリメチルアンモニウムおよび亜硫
酸ナトリウムの共重合体;還元性無機塩類、例えば日本
特許公開昭57−192952号(米国特許第4,46
7,027号)に開示されている亜硫酸ナトリウムおよ
びアルカリ−可溶性メルカプト化合物またはチオエーテ
ル化合物、例えばチオサリチル酸、システインおよびチ
オグリコール酸;無機リチウム化合物、例えば日本特許
公開昭58−95444号に開示されている塩化リチウ
ム;有機リチウム化合物、例えば異議目的のための日本
特許公告昭50−34442号に開示されている安息香
酸リチウム;日本特許公開昭59−75255号に開示
されているSi、Tiなどを含有する有機金属界面活性
剤;日本特許公開昭59−84241号(米国特許第
4,500,625号)に開示されている有機ホウ素化合
物;第4級アンモニウム塩類、例えばヨーロッパ特許第
101,010号に開示されている酸化テトラアルキル
アンモニウム;並びに殺菌剤、例えばデヒドロ酢酸ナト
リウムである。
Examples of such compounds include NaCl and K disclosed in Japanese Patent Publication No. 58-75152.
Neutral salts such as Br; Japanese Patent Publication No. 58-19095
No. 2 (U.S. Pat. No. 4,469,776); chelating agents such as EDTA and NTA; Japanese Patent Publication No. 59-121336 (U.S. Pat. No. 4,606,99).
Disclosed in No. 5) [Co (NH 3) 6 ] such complex of Cl 3; Japanese Patent Publication Sho periodic table disclosed in JP 55-25100 IIa, possible ion of IIIa or IIIb group element Compounds: Anionic or amphoteric surfactants such as sodium alkylnaphthalenesulfonate and N-tetradecyl-N, N-dihydroxyethylbetaine disclosed in Japanese Patent Publication No. 50-51324; U.S. Pat. No. 4,374,920 No. 60-1394.
No. 3; a nonionic surfactant; a cationic polymer, for example, a quaternary methyl chloride product of p-dimethylaminomethylpolystyrene disclosed in Japanese Patent Publication No. 55-95946; Molecular electrolytes such as copolymers of vinylbenzyltrimethylammonium chloride and sodium sulfite disclosed in Japanese Patent Publication No. 56-142528; reducing inorganic salts such as Japanese Patent Publication No. 57-192954 (U.S. Pat. 46
7,027) and sodium-sulfite and alkali-soluble mercapto compounds or thioether compounds such as thiosalicylic acid, cysteine and thioglycolic acid; inorganic lithium compounds such as those disclosed in JP-A-58-95444. Lithium chloride; containing organolithium compounds, such as lithium benzoate disclosed in Japanese Patent Publication No. 50-34442 for objection; Si, Ti, etc. disclosed in Japanese Patent Publication No. 59-75255. Organometallic surfactants; organoboron compounds disclosed in Japanese Patent Publication No. 59-84241 (U.S. Pat. No. 4,500,625); quaternary ammonium salts, such as those disclosed in European Patent No. 101,010 Tetraalkylammonium oxide; and killing Bacterial agents such as sodium dehydroacetate.

【0079】本発明の方法によると、像形成要素は像通
りの露光後に且つ全体的な露光を行う前にクリーニング
手段、好適にはドライクリーニング手段、例えば綿パッ
ドまたは紙タオル、を用いて拭く。これは特に感熱層が
カーボンブラックまたは金属顔料を含んでなる時に好適
である。
According to the method of the present invention, the imaging element is wiped with a cleaning means, preferably a dry cleaning means, such as a cotton pad or paper towel, after the image-wise exposure and before the overall exposure. This is particularly suitable when the heat-sensitive layer comprises carbon black or a metal pigment.

【0080】本発明によると、像形成要素は像通りにそ
して全体的に露光された像形成要素を印刷機械の印刷シ
リンダー上に設置した後に処理することもできる。これ
は特に水または水−アルコール溶液により処理できる像
形成要素用に適する。そのような像形成要素は引用する
ことにより本発明の内容となるEP−A 631189
に記載されている。好適な態様によると、印刷機械を次
に始動し、そして上に設置された像形成要素を有する印
刷シリンダーが回転している間に湿し液を供給する湿し
液ローラーが像形成要素に落下しそして次にそこにイン
キローラーが落下する。一般的には約10回の印刷シリ
ンダーの回転後に最初のきれいで有用な印刷が得られ
る。
According to the invention, the imaging element can also be processed image-wise and after the fully exposed imaging element has been placed on the printing cylinder of a printing machine. This is particularly suitable for imaging elements that can be processed with water or water-alcohol solutions. Such an imaging element is incorporated herein by reference EP-A 631189.
It is described in. According to a preferred embodiment, the printing machine is then started, and a dampening fluid roller supplying dampening fluid falls onto the imaging element while the printing cylinder with the imaging element mounted thereon is rotating. And then the ink roller falls there. In general, the first clean and useful prints are obtained after about 10 rotations of the printing cylinder.

【0081】変法によると、インキローラーおよび湿し
液ローラーを同時に落下させることもできまたはインキ
ローラーを最初に落下させることもできる。
According to a variant, the ink roller and the dampener roller can be dropped simultaneously or the ink roller can be dropped first.

【0082】本発明に関して使用することができる適切
な湿し液は一般的には酸性pHを有しそして例えばイソ
プロパノールの如きアルコールを含んでなる水溶液であ
る。本発明において有用な湿し液に関しては特別な制限
はなく、そして湿し水としても知られている市販の湿し
液を使用することができる。
Suitable dampening solutions which can be used in connection with the present invention are generally aqueous solutions having an acidic pH and comprising an alcohol such as, for example, isopropanol. There is no particular limitation on the fountain solution useful in the present invention, and commercially available fountain solutions, also known as fountain solutions, can be used.

【0083】変法によると、像形成要素を最初に印刷機
械の印刷シリンダー上に設置しそして次に印刷機械上で
直接的に像通りにそして全体的に露光する。露光後に、
像形成要素を上記の通りにして現像することができる。
印刷機械上の像通りの露光に適する像形成要素は、上記
の印刷機械の印刷シリンダー上に設置しながら現像する
ことができる該像形成要素である。
According to a variant, the imaging element is first placed on the printing cylinder of a printing press and then exposed directly image-wise and totally on the printing press. After exposure,
The imaging element can be developed as described above.
Imaging elements suitable for image-wise exposure on a printing machine are those imaging elements which can be developed while being mounted on a printing cylinder of the printing machine described above.

【0084】本発明を次に以下の実施例によりさらに説
明するが、それらは本発明を限定するものではない。全
ての部数は断らない限り重量による。
The invention will now be further described by the following examples, which do not limit the invention. All parts are by weight unless otherwise indicated.

【0085】[0085]

【実施例】【Example】

実施例1 平版ベースの製造 440gの21.5%のTiO2(平均粒子寸法0.3〜
0.4μm)および2.5%のポリビニルアルコールを脱
イオン水中に含有する分散液に撹拌しながら250gの
ポリビニルアルコール5%水溶液、105gの加水分解
されたオルト珪酸テトラメチル22%水性乳化液および
12gの湿潤剤10%溶液を連続的に加えた。この混合
物に193gの脱イオン水を加えそしてpHをpH=4
に調節した。得られた分散液をポリテレフタル酸エチレ
ンフィルム支持体(親水性接着層でコーテイングされて
いた)上に50g/m2の湿潤コーテイング厚さでコー
テイングし、30℃で乾燥し、そして次にそれを57℃
の温度に1週間にわたり呈することにより硬膜化させ
た。このベースにさらにDormacid(フェイファ
ー・アンド・ランゲンから市販されているジエチルアミ
ノエチル基で改質されたデキストラン)の水溶液(pH
=5)およびカチオン系湿潤剤を1m2当たり30mg
のDormacidの乾燥コーテイング厚さで付与し
た。得られた要素を次に57℃に1週間にわたり加熱し
た。
Example 1 Preparation of a lithographic base 440 g of 21.5% TiO 2 (average particle size 0.3 to
Stirring with a dispersion containing 0.4 μm) and 2.5% polyvinyl alcohol in deionized water, 250 g of a 5% aqueous solution of polyvinyl alcohol, 105 g of a 22% aqueous emulsion of hydrolyzed tetramethyl orthomethyl silicate and 12 g Was added continuously. To this mixture is added 193 g of deionized water and the pH is adjusted to pH = 4.
Was adjusted to The resulting dispersion is coated on a polyethylene terephthalate film support (coated with a hydrophilic adhesive layer) at a wet coating thickness of 50 g / m 2 , dried at 30 ° C. and then dried. 57 ° C
At a temperature of 1 week for a week. An aqueous solution of Dormacid (dextran modified with diethylaminoethyl group, commercially available from Faifer and Langen) (pH
= 5) and 30 mg / m 2 of cationic wetting agent
Of Dormacid dry coating thickness. The resulting element was then heated to 57 ° C for one week.

【0086】像形成要素の製造 本発明に従う像形成要素は下記の感光性組成物を製造す
ることにより製造された。
Preparation of the Imaging Element The imaging element according to the present invention was prepared by preparing the following photosensitive composition.

【0087】感紫外線コーテイングの製造 63gの臭化セチルトリメチルアンモニウムで安定化さ
れたポリメタクリル酸メチル(40nmの粒子寸法)の
脱イオン水中20%分散液に、撹拌しながら、120g
の200000g/モルの重量平均分子量を有する98
%加水分解されたポリ酢酸ビニルの5%水溶液(ヘキス
トから市販されているMOWIOL 56−98)並び
に15gの10%のHeliogen Blue D 7
565(BASFから市販されている)および5%のポ
リビニルアルコール(MOWIOL 56−98)を水
中に含有する分散液を連続的に加えた。46gのジフェ
ニルアミンジアゾニウム塩とホルムアルデヒドとの縮合
生成物の15%溶液(PCASから市販されているNE
GALUX N18)および20gのメトックス−ジフ
ェニルアミンジアゾニウム塩とホルムアルデヒドとの縮
合生成物の15%水溶液(フェアモントから市販されて
いるDIAZO No.8)を次にゆっくり加えた。最後
に30gのカチオン系弗素含有界面活性剤の水溶液(3
Mから市販されているFluorad FC 135)お
よび726mlの水を加えた。この感紫外線組成物を上
記の平版ベースに35g/m2の量(湿潤コーテイング
量)でコーテイングしそして次に30℃において乾燥し
た。
Preparation of UV Sensitive Coating 120 g of a 20% dispersion of polymethyl methacrylate (particle size of 40 nm) stabilized with 63 g of cetyltrimethylammonium bromide in deionized water are stirred.
98 having a weight average molecular weight of 200,000 g / mol
5% aqueous solution of hydrolyzed polyvinyl acetate (MOWIOL 56-98, commercially available from Hoechst) and 15 g of 10% Heliogen Blue D 7
A dispersion containing 565 (commercially available from BASF) and 5% polyvinyl alcohol (MOWIOL 56-98) in water was added continuously. 46 g of a 15% solution of the condensation product of diphenylamine diazonium salt with formaldehyde (NE commercially available from PCAS)
GALUX N18) and 20 g of a 15% aqueous solution of the condensation product of methox-diphenylaminediazonium salt with formaldehyde (DIAZO No. 8 commercially available from Fairmont) were then added slowly. Finally, 30 g of an aqueous solution of a cationic fluorine-containing surfactant (3
M Fluorad FC 135) and 726 ml of water were added. The UV-sensitive composition was coated on the lithographic base described above in an amount of 35 g / m 2 (wet coating amount) and then dried at 30 ° C.

【0088】感赤外線コーテイングの製造 感赤外線調合物は断らない限り部数で示されている下記
の成分を含有する。
Preparation of Infrared Sensitive Coatings The infrared sensitive formulations contain the following components, indicated in parts by weight, unless otherwise indicated.

【0089】 メチル−エチルケトン 834.5 ノボラックMILEX XL225(ミツイから市販) 12.25 ニトロセルロースE620(ウルフ・ワルスロードから市販) 12.25 (紫外線−吸収剤1) 25 (赤外−染料1) 10 (赤外−染料2) 50 (シアン−染料1) 7.5 (シアン−染料2) 14.5 (マゼンタ−染料1) 11 (マゼンタ−染料2) 6.5 (イエロー−染料1) 8 (イエロー−染料2) 7.5Methyl-Ethyl Ketone 834.5 Novolak MLEX XL225 (commercially available from Mitsui) 12.25 Nitrocellulose E620 (commercially available from Wolf Walsroad) 12.25 (ultraviolet-absorbent 1) 25 (infrared-dye 1) 10 ( Infrared-dye 2) 50 (cyan-dye 1) 7.5 (cyan-dye 2) 14.5 (magenta-dye 1) 11 (magenta-dye 2) 6.5 (yellow-dye 1) 8 (yellow -Dye 2) 7.5

【0090】[0090]

【化1】 Embedded image

【0091】[0091]

【化2】 Embedded image

【0092】[0092]

【化3】 Embedded image

【0093】[0093]

【化4】 Embedded image

【0094】[0094]

【化5】 Embedded image

【0095】感紫外線層をナイフコーターにより感赤外
線調合物で20μmの湿潤コーテイング厚さとなるまで
オーバーコーテイングした。
The ultraviolet-sensitive layer was overcoated with a knife coater with an infrared-sensitive formulation to a wet coating thickness of 20 μm.

【0096】印刷版の製造およびオリジナルのコピー作
成 上記の像形成要素を1050nmで発光する走査NdY
LF赤外レーザーにかけた(走査速度1.1m/秒、点
寸法15μmおよび像形成要素表面上の400mWの電
力)。この露光後に、感赤外線マスクはレーザー光線に
露光された部分で消えた。引き続き、像形成要素を10
00Wの高圧ハロゲン水銀蒸気灯に70cmの距離で9
0秒間にわたり呈した。さらに像形成要素をFuji
DN−5を用いる現像工程にかけて、それにより非像部
分を除去した。現像後に、像形成要素をGTO 46オ
フセット印刷機械上に設置した。インキとしてK+E
123Wを使用しそして湿し水としてRotamati
cを使用した。印刷を始めそして非像部分にインキ吸収
のない良好な印刷品質が得られた。
Production of a printing plate and making an original copy Scanning NdY which emits the above imaging element at 1050 nm
LF infrared laser (scan speed 1.1 m / s, spot size 15 μm and 400 mW power on imaging element surface). After this exposure, the infrared-sensitive mask disappeared where it was exposed to the laser beam. Subsequently, 10 imaging elements
9W at a distance of 70 cm from a high-pressure halogen mercury vapor lamp of 00 W
Presented for 0 seconds. Further, the image forming element is
A development step using DN-5 was performed to remove non-image portions. After development, the imaging element was placed on a GTO 46 offset printing machine. K + E as ink
Rotamati using 123W and as fountain solution
c was used. Printing was commenced and good print quality was obtained with no ink absorption in the non-image areas.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マルク・バン・ダメ ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテ ストラート27・アグフア−ゲヴエルト・ ナームローゼ・フエンノートシヤツプ内 (72)発明者 トマス・ノウエン ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテ ストラート27・アグフア−ゲヴエルト・ ナームローゼ・フエンノートシヤツプ内 (72)発明者 エデイー・デムス ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテ ストラート27・アグフア−ゲヴエルト・ ナームローゼ・フエンノートシヤツプ内 (56)参考文献 特公 平6−95494(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G03F 7/00 G03F 7/004 G03F 7/11 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Marc van Dame Belgium 2640 Malt cell septestrat 27 Inside Agfa-Gevuert-Namrose-Fuennoutjapp (72) Inventor Thomas Nouen Belgium B 2640 Maltcell Septe Strat 27 Agfa-Gevuert Namrose Rosenenjjapp (72) Inventor Eddie Dems Belgium 2640 Maltcell Septe Strat 27 Agfa-Gevert Namrose Rosenjenjap (56) Reference Reference JP 6-95494 (JP, B2) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) G03F 7/00 G03F 7/004 G03F 7/11

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 親水性表面を有する支持体上に300〜
450nmの波長の光に対する感度を有する感光層およ
び該感光層が分光感度を有する光に対して感熱層を不透
明にさせる300〜450nmの波長範囲内に吸収ピー
クを有するマスキング染料を含んでなる感熱層を含んで
なり且つさらに光を熱に転換させうる化合物Aを該感熱
層またはそれに隣接する層中に含んでなる像形成要素で
あって、化合物Aが吸収性を有するレーザー光線での露
光時に該マスキング染料が融除されうることを特徴とす
る像形成要素。
1. The method according to claim 1, wherein the support has a hydrophilic surface.
A heat-sensitive layer comprising a photosensitive layer having sensitivity to light having a wavelength of 450 nm and a masking dye having an absorption peak within a wavelength range of 300 to 450 nm which makes the heat-sensitive layer opaque to light having spectral sensitivity. An imaging element comprising, in the heat-sensitive layer or a layer adjacent thereto, a compound A capable of converting light into heat and further comprising a compound A capable of converting light into heat. An imaging element wherein the dye can be ablated.
【請求項2】 化合物Aが赤外線吸収性化合物である請
求項1に記載の像形成要素。
2. An imaging element according to claim 1, wherein compound A is an infrared absorbing compound.
【請求項3】 該化合物Aが赤外染料である請求項2に
記載の像形成要素。
Wherein the image forming element of claim 2 wherein the compound A is an infrared dye fees.
【請求項4】 該支持体が研磨されそして陽極酸化され
たアルミニウムまたは親水性層が付与された基質を含ん
でなる請求項1〜3のいずれかに記載の像形成要素。
4. An imaging element according to claim 1, wherein said support comprises polished and anodized aluminum or a substrate provided with a hydrophilic layer.
【請求項5】 該感熱層がさらに熱分解可能な結合剤を
含んでなる請求項1〜4のいずれかに記載の像形成要
素。
5. The imaging element according to claim 1, wherein said heat-sensitive layer further comprises a thermally decomposable binder.
【請求項6】 −親水性表面を有する支持体上に300
〜450nmの波長の光に対する感度を有する感光層お
よび該感光層が分光感度を有する光に対して感熱層を不
透明にさせる300〜450nmの波長範囲内に吸収ピ
ークを有するマスキング染料を含んでなる感熱層を含ん
でなり且つさらに光を熱に転換させうる化合物Aを該感
熱層またはそれに隣接する層の中に含んでなる像形成要
素をレーザーにより像通りに露光し、 −それにより該マスキング染料を融除しそして該感熱層
を該感光層が分光感度を有する光に対して像通りに透明
にし、 −このようにして得られる像通りに露光された像形成要
素を該感光層が分光感度を有する光で全体的に露光し、
それにより潜像を該感光層中に形成し、 −このようにして得られる像形成要素を現像し、それに
より該感熱層および該感光層の露光されなかったかまた
は露光された部分を除去して、該感光層のインキ受容性
像を該支持体の上に残す段階を含んでなる平版印刷版の
製造方法。
6. 300 on a support having a hydrophilic surface
A heat-sensitive layer comprising a photosensitive layer having sensitivity to light having a wavelength of ~ 450 nm and a masking dye having an absorption peak in a wavelength range of 300 to 450 nm which renders the heat-sensitive layer opaque to light having spectral sensitivity. Exposing the imaging element comprising a layer and further comprising a compound A capable of converting light to heat, in the thermosensitive layer or a layer adjacent thereto, image-wise with a laser, whereby the masking dye is Ablating and rendering the thermosensitive layer imagewise transparent to light whose photosensitive layer is spectrally sensitive, the imagewise exposed imaging element thus obtained is provided with Exposed entirely with light having
Thereby forming a latent image in the photosensitive layer, developing the imaging element thus obtained, thereby removing the heat-sensitive layer and the unexposed or exposed parts of the photosensitive layer. And a step of leaving an ink-receiving image of the photosensitive layer on the support.
【請求項7】 化合物Aが赤外線吸収性化合物であり、
そして該レーザーが赤外レーザーまたはレーザーダイオ
ードである請求項6に記載の方法。
7. The compound A is an infrared absorbing compound,
7. The method according to claim 6, wherein said laser is an infrared laser or a laser diode.
【請求項8】 該現像を水性アルカリ性液体により実施
する請求項6および7のいずれかに記載の方法。
8. The method according to claim 6, wherein said developing is carried out with an aqueous alkaline liquid.
【請求項9】 該像形成要素を像通りの露光後で且つ全
体的な露光を実施する前にクリーニング手段で拭く請求
項6〜8のいずれかに記載の方法。
9. The method according to claim 6, wherein the imaging element is wiped with cleaning means after the image-wise exposure and before performing the overall exposure.
【請求項10】 像通りにそして全体的に露光された像
形成要素を印刷機械の印刷シリンダー上に設置した後に
該像形成要素を処理する請求項6〜9のいずれかに記載
の方法。
10. The method according to claim 6, wherein the image-forming element is processed after the image-wise and fully exposed imaging element has been placed on a printing cylinder of a printing machine.
【請求項11】 該像形成要素を印刷機械の印刷シリン
ダー上に設置しながら像通りにそして全体的に露光する
請求項6〜10のいずれかに記載の方法。
11. The method according to claim 6, wherein the imaging element is imagewise and totally exposed while being mounted on a printing cylinder of a printing machine.
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