JP2954504B2 - 加熱ローラの製造方法および製造装置 - Google Patents
加熱ローラの製造方法および製造装置Info
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- G03G15/2057—Structural details of heat elements, e.g. structure of roller or belt, eddy current, induction heating relating to the chemical composition of the heat element and layers thereof
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- B29C41/02—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor for making articles of definite length, i.e. discrete articles
- B29C41/08—Coating a former, core or other substrate by spraying or fluidisation, e.g. spraying powder
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- Rolls And Other Rotary Bodies (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、静電複写機等のトナー
定着用等に用いられる加熱ローラの製造方法および製造
装置に関し、特に加熱ローラの軸心方向の温度分布を制
御する技術に関する。
定着用等に用いられる加熱ローラの製造方法および製造
装置に関し、特に加熱ローラの軸心方向の温度分布を制
御する技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、トナー画像を紙等に転写した後
に定着する複写機においては、トナーが転写された記録
紙等に複写機内に備えられた加熱ローラと加圧ローラと
の間を通過させることにより、加熱と同時に加圧をし
て、トナーを記録紙等に定着させることが行われてい
る。上記加熱ローラの一つに、円筒状の外周面を有する
電気絶縁性基体のその外周面に抵抗発熱体層が備えられ
たものがある。例えば、特開昭６３−１５８５８２号公
報等に記載されたものがそれである。このような表面発
熱型の加熱ローラによれば、紙等に接触する表面が直接
的に発熱させられるため、従来用いられていた円筒状の
ローラの内部に加熱源としてハロゲンランプ等を備えた
内部発熱型に比較して予熱時間が短く、且つ、消費電力
が低くなるという利点がある。
に定着する複写機においては、トナーが転写された記録
紙等に複写機内に備えられた加熱ローラと加圧ローラと
の間を通過させることにより、加熱と同時に加圧をし
て、トナーを記録紙等に定着させることが行われてい
る。上記加熱ローラの一つに、円筒状の外周面を有する
電気絶縁性基体のその外周面に抵抗発熱体層が備えられ
たものがある。例えば、特開昭６３−１５８５８２号公
報等に記載されたものがそれである。このような表面発
熱型の加熱ローラによれば、紙等に接触する表面が直接
的に発熱させられるため、従来用いられていた円筒状の
ローラの内部に加熱源としてハロゲンランプ等を備えた
内部発熱型に比較して予熱時間が短く、且つ、消費電力
が低くなるという利点がある。
【０００３】
【発明が解決すべき課題】ところで、上記のような表面
発熱型加熱ローラにおいては、例えば、特開昭６３−１
５８５８３号公報等に記載されているように、抵抗体ペ
ーストを転写紙等に印刷して形成した抵抗発熱体パター
ンを前記円筒状の外周面を有する電気絶縁性基体の外周
面上に転写する方法や、或いは、良く知られた曲面印刷
機によって抵抗体ペーストをその電気絶縁性基体の外周
面上に直接印刷する方法等により、抵抗発熱体層が形成
される。しかしながら、このようにして形成された抵抗
発熱体層は、抵抗体ペーストの導電率のばらつきや印刷
時の膜厚のばらつきにより、意図しない抵抗値分布（す
なわち温度分布）が生じ得る。この抵抗値分布を改善す
るためには、例えば抵抗値が高い部分のみに抵抗体ペー
ストを重ねて塗布することにより抵抗発熱体層を積層形
成することが必要である。また、一般に、加熱ローラは
軸心方向の放熱特性が不均一であることから両端部が中
央部に比べて低温となり易いことが知られているが、こ
の温度分布を改善するためには、例えば軸心方向の中央
部のみに抵抗体ペーストを重ねて塗布し、抵抗発熱体層
を部分的に積層して厚くする必要がある。
発熱型加熱ローラにおいては、例えば、特開昭６３−１
５８５８３号公報等に記載されているように、抵抗体ペ
ーストを転写紙等に印刷して形成した抵抗発熱体パター
ンを前記円筒状の外周面を有する電気絶縁性基体の外周
面上に転写する方法や、或いは、良く知られた曲面印刷
機によって抵抗体ペーストをその電気絶縁性基体の外周
面上に直接印刷する方法等により、抵抗発熱体層が形成
される。しかしながら、このようにして形成された抵抗
発熱体層は、抵抗体ペーストの導電率のばらつきや印刷
時の膜厚のばらつきにより、意図しない抵抗値分布（す
なわち温度分布）が生じ得る。この抵抗値分布を改善す
るためには、例えば抵抗値が高い部分のみに抵抗体ペー
ストを重ねて塗布することにより抵抗発熱体層を積層形
成することが必要である。また、一般に、加熱ローラは
軸心方向の放熱特性が不均一であることから両端部が中
央部に比べて低温となり易いことが知られているが、こ
の温度分布を改善するためには、例えば軸心方向の中央
部のみに抵抗体ペーストを重ねて塗布し、抵抗発熱体層
を部分的に積層して厚くする必要がある。
【０００４】ところが、上記のように部分的に抵抗発熱
体層を積層形成する方法では、その積層形成された部分
と積層形成されていない部分との境界部に段差が生じる
こととなる。従来の厚膜抵抗体ペーストから形成される
抵抗発熱体層は一般に10乃至20μm と厚いため、この段
差によって、トナーが転写された記録紙等が加圧ローラ
と加熱ローラとの間を通過させられるときに、加熱ロー
ラから受ける押圧力が不均一となってトナーの定着ムラ
が生じ得るという問題があった。
体層を積層形成する方法では、その積層形成された部分
と積層形成されていない部分との境界部に段差が生じる
こととなる。従来の厚膜抵抗体ペーストから形成される
抵抗発熱体層は一般に10乃至20μm と厚いため、この段
差によって、トナーが転写された記録紙等が加圧ローラ
と加熱ローラとの間を通過させられるときに、加熱ロー
ラから受ける押圧力が不均一となってトナーの定着ムラ
が生じ得るという問題があった。
【０００５】本発明は、以上の事情を背景として為され
たものであって、その目的は、所望の抵抗値分布を有す
る抵抗発熱体層を形成した場合にも、均一な押圧力が得
られる加熱ローラの製造方法および製造装置を提供する
ことにある。
たものであって、その目的は、所望の抵抗値分布を有す
る抵抗発熱体層を形成した場合にも、均一な押圧力が得
られる加熱ローラの製造方法および製造装置を提供する
ことにある。
【０００６】
【課題を解決するための第１の手段】斯かる目的を達成
するため、第１発明の製造方法の要旨とするところは、
円筒状の外周面を有する電気絶縁性基体のその外周面に
抵抗発熱体層が備えられ、その外周面を用いて均等に押
圧しつつ加熱する加熱ローラの製造方法であって、(a)
前記電気絶縁性基体をその軸心回りに回転させる回転工
程と、(b) 回転させられている前記電気絶縁性基体の外
周面に、前記抵抗発熱体層を形成するための抵抗体ペー
ストをペースト吐出装置の吐出細管を通して吐出する吐
出工程と、(c)前記ペースト吐出装置を前記電気絶縁性
基体に対してその軸心方向に平行な方向に、その軸心方
向に連続的な抵抗体ペーストの塗布膜が形成される範囲
内においてその軸心方向の相対位置に関連して決定され
る速度で相対移動させる移動工程とを、含むことにあ
る。
するため、第１発明の製造方法の要旨とするところは、
円筒状の外周面を有する電気絶縁性基体のその外周面に
抵抗発熱体層が備えられ、その外周面を用いて均等に押
圧しつつ加熱する加熱ローラの製造方法であって、(a)
前記電気絶縁性基体をその軸心回りに回転させる回転工
程と、(b) 回転させられている前記電気絶縁性基体の外
周面に、前記抵抗発熱体層を形成するための抵抗体ペー
ストをペースト吐出装置の吐出細管を通して吐出する吐
出工程と、(c)前記ペースト吐出装置を前記電気絶縁性
基体に対してその軸心方向に平行な方向に、その軸心方
向に連続的な抵抗体ペーストの塗布膜が形成される範囲
内においてその軸心方向の相対位置に関連して決定され
る速度で相対移動させる移動工程とを、含むことにあ
る。
【０００７】
【作用】このようにすれば、回転工程において電気絶縁
性基体がその軸心回りに回転させられている状態で、吐
出工程においてその電気絶縁性基体の外周面に抵抗体ペ
ーストがペースト吐出装置の吐出細管を通して吐出され
ると共に、移動工程においてそのペースト吐出装置が電
気絶縁性基体の軸心方向に平行な方向に、連続的な抵抗
体ペーストの塗布膜が形成される範囲内においてその軸
心方向の相対位置に関連して決定される速度で相対移動
させられる。そのため、ペースト吐出装置の吐出細管は
抵抗体ペーストを吐出しながら電気絶縁性基体の外周面
上を螺旋状に移動させられて、その外周面上に軸心方向
に連続的な抵抗体ペーストの塗布膜を形成する。このと
き、上記相対移動の速度が変化すると、螺旋のピッチが
変化して軸心方向の単位長さ当たりの抵抗体ペースト吐
出量が変化するため、塗布膜の厚みはその相対移動の速
度変化に従って変化させられるが、その速度変化の前後
において塗布された抵抗体ペーストは、未だ流動性を失
っていないことからその前後の塗布膜の厚みの差が小さ
くなる方向に流動し、塗布膜の厚みは連続的に変化する
こととなる。
性基体がその軸心回りに回転させられている状態で、吐
出工程においてその電気絶縁性基体の外周面に抵抗体ペ
ーストがペースト吐出装置の吐出細管を通して吐出され
ると共に、移動工程においてそのペースト吐出装置が電
気絶縁性基体の軸心方向に平行な方向に、連続的な抵抗
体ペーストの塗布膜が形成される範囲内においてその軸
心方向の相対位置に関連して決定される速度で相対移動
させられる。そのため、ペースト吐出装置の吐出細管は
抵抗体ペーストを吐出しながら電気絶縁性基体の外周面
上を螺旋状に移動させられて、その外周面上に軸心方向
に連続的な抵抗体ペーストの塗布膜を形成する。このと
き、上記相対移動の速度が変化すると、螺旋のピッチが
変化して軸心方向の単位長さ当たりの抵抗体ペースト吐
出量が変化するため、塗布膜の厚みはその相対移動の速
度変化に従って変化させられるが、その速度変化の前後
において塗布された抵抗体ペーストは、未だ流動性を失
っていないことからその前後の塗布膜の厚みの差が小さ
くなる方向に流動し、塗布膜の厚みは連続的に変化する
こととなる。
【０００８】
【第１発明の効果】上記により、抵抗体ペーストの塗布
膜から生成されて電気絶縁性基体の外周面上に設けられ
る抵抗発熱体層の膜厚は連続的に変化させられるので、
膜厚を変化させることによって軸心方向に所望の抵抗値
分布を有する抵抗発熱体層を形成する場合にも、抵抗発
熱体層を部分的に積層形成した従来の加熱ローラのよう
な、膜厚の異なる境界部における段差は形成されない。
したがって、所望の抵抗値分布を有する抵抗発熱体層を
形成した場合にも、均一な押圧力が得られる加熱ローラ
を製造することができるのである。
膜から生成されて電気絶縁性基体の外周面上に設けられ
る抵抗発熱体層の膜厚は連続的に変化させられるので、
膜厚を変化させることによって軸心方向に所望の抵抗値
分布を有する抵抗発熱体層を形成する場合にも、抵抗発
熱体層を部分的に積層形成した従来の加熱ローラのよう
な、膜厚の異なる境界部における段差は形成されない。
したがって、所望の抵抗値分布を有する抵抗発熱体層を
形成した場合にも、均一な押圧力が得られる加熱ローラ
を製造することができるのである。
【０００９】
【課題を解決するための第２の手段】また、前記の目的
を達成するための第２発明の製造方法の要旨とするとこ
ろは、円筒状の外周面を有する電気絶縁性基体のその外
周面に抵抗発熱体層が備えられ、その外周面を用いて均
等に押圧しつつ加熱する加熱ローラの製造方法であっ
て、(a) 前記電気絶縁性基体をその軸心回りに回転させ
る回転工程と、(d) 回転させられている前記電気絶縁性
基体の外周面に、前記抵抗発熱体層を形成するための金
属有機化合物を含む抵抗体ペーストをペースト吐出装置
の吐出細管を通して吐出する吐出工程と、(e) 前記ペー
スト吐出装置を前記電気絶縁性基体に対してその軸心方
向に平行な方向に所定の速度で相対移動させることによ
り、その電気絶縁性基体の外周面にその軸心方向に連続
的な抵抗体ペーストの塗布膜を形成する第１移動工程
と、(f) 前記ペースト吐出装置を前記電気絶縁性基体に
対してその軸心方向に平行な方向に、その軸心方向の相
対位置に関連して決定される速度で相対移動させる第２
移動工程と、(g) 前記電気絶縁性基体の外周面に塗布さ
れた抵抗体ペーストから薄膜金属から成る前記抵抗発熱
体層を加熱生成する加熱工程とを、含むことにある。
を達成するための第２発明の製造方法の要旨とするとこ
ろは、円筒状の外周面を有する電気絶縁性基体のその外
周面に抵抗発熱体層が備えられ、その外周面を用いて均
等に押圧しつつ加熱する加熱ローラの製造方法であっ
て、(a) 前記電気絶縁性基体をその軸心回りに回転させ
る回転工程と、(d) 回転させられている前記電気絶縁性
基体の外周面に、前記抵抗発熱体層を形成するための金
属有機化合物を含む抵抗体ペーストをペースト吐出装置
の吐出細管を通して吐出する吐出工程と、(e) 前記ペー
スト吐出装置を前記電気絶縁性基体に対してその軸心方
向に平行な方向に所定の速度で相対移動させることによ
り、その電気絶縁性基体の外周面にその軸心方向に連続
的な抵抗体ペーストの塗布膜を形成する第１移動工程
と、(f) 前記ペースト吐出装置を前記電気絶縁性基体に
対してその軸心方向に平行な方向に、その軸心方向の相
対位置に関連して決定される速度で相対移動させる第２
移動工程と、(g) 前記電気絶縁性基体の外周面に塗布さ
れた抵抗体ペーストから薄膜金属から成る前記抵抗発熱
体層を加熱生成する加熱工程とを、含むことにある。
【００１０】
【作用】このようにすれば、回転工程において電気絶縁
性基体がその軸心回りに回転させられている状態で、吐
出工程においてその電気絶縁性基体の外周面に、ペース
ト吐出装置の吐出細管を通して金属有機化合物を含む抵
抗体ペーストが吐出されると共に、第１移動工程におい
てそのペースト吐出装置が電気絶縁性基体の軸心方向に
平行な方向に所定の速度で相対移動させられてその外周
面に連続的な抵抗体ペーストの塗布膜が形成され、第２
移動工程において、そのペースト吐出装置が上記軸心方
向の相対位置に関連して決定される速度で相対移動させ
られて上記塗布膜の上に更に抵抗体ペーストが塗布さ
れ、加熱工程において、抵抗体ペーストから薄膜金属か
ら成る抵抗発熱体層が生成される。そのため、その第２
移動工程において抵抗体ペーストが塗布された部分は抵
抗発熱体層の膜厚が厚くなって抵抗値が低くなるが、前
記相対移動の速度が変化すると螺旋のピッチが変化する
ため、その相対移動速度の変化に従って軸心方向に抵抗
値分布が形成される。このとき、抵抗発熱体層は金属有
機化合物を含む抵抗体ペーストから生成された薄膜金属
から成るため、第２移動工程において抵抗体ペーストを
塗布された部分も含めて比較的薄い膜厚となる。
性基体がその軸心回りに回転させられている状態で、吐
出工程においてその電気絶縁性基体の外周面に、ペース
ト吐出装置の吐出細管を通して金属有機化合物を含む抵
抗体ペーストが吐出されると共に、第１移動工程におい
てそのペースト吐出装置が電気絶縁性基体の軸心方向に
平行な方向に所定の速度で相対移動させられてその外周
面に連続的な抵抗体ペーストの塗布膜が形成され、第２
移動工程において、そのペースト吐出装置が上記軸心方
向の相対位置に関連して決定される速度で相対移動させ
られて上記塗布膜の上に更に抵抗体ペーストが塗布さ
れ、加熱工程において、抵抗体ペーストから薄膜金属か
ら成る抵抗発熱体層が生成される。そのため、その第２
移動工程において抵抗体ペーストが塗布された部分は抵
抗発熱体層の膜厚が厚くなって抵抗値が低くなるが、前
記相対移動の速度が変化すると螺旋のピッチが変化する
ため、その相対移動速度の変化に従って軸心方向に抵抗
値分布が形成される。このとき、抵抗発熱体層は金属有
機化合物を含む抵抗体ペーストから生成された薄膜金属
から成るため、第２移動工程において抵抗体ペーストを
塗布された部分も含めて比較的薄い膜厚となる。
【００１１】
【第２発明の効果】上記により、第２移動工程における
相対移動速度を電気絶縁性基体の軸心方向の相対位置に
対応して変化させることにより、所望の抵抗値分布を得
ることができる一方、その第２移動工程において部分的
に抵抗体ペーストが塗布されてもその塗布部分に段差は
殆ど発生しないこととなる。したがって、所望の抵抗値
分布を有する抵抗発熱体層を形成した場合にも、均一な
押圧力が得られる加熱ローラを製造することができるの
である。しかも、抵抗発熱体層は少なくとも部分的には
積層形成されることとなるため、全体が１層から構成さ
れる場合に比較して欠陥の発生が抑制されることにな
る。なお、金属有機化合物を含む抵抗体ペーストとは、
一般にレジネート或いはＭＯＣ（Metal-Organic Compou
nd）と呼ばれるものである。このレジネートにおいて
は、金属が有機物と化学的に結合できる程度に極めて微
細になっているため、加熱処理後に薄い緻密な金属組織
から成る抵抗発熱体層を得ることができるのである。
相対移動速度を電気絶縁性基体の軸心方向の相対位置に
対応して変化させることにより、所望の抵抗値分布を得
ることができる一方、その第２移動工程において部分的
に抵抗体ペーストが塗布されてもその塗布部分に段差は
殆ど発生しないこととなる。したがって、所望の抵抗値
分布を有する抵抗発熱体層を形成した場合にも、均一な
押圧力が得られる加熱ローラを製造することができるの
である。しかも、抵抗発熱体層は少なくとも部分的には
積層形成されることとなるため、全体が１層から構成さ
れる場合に比較して欠陥の発生が抑制されることにな
る。なお、金属有機化合物を含む抵抗体ペーストとは、
一般にレジネート或いはＭＯＣ（Metal-Organic Compou
nd）と呼ばれるものである。このレジネートにおいて
は、金属が有機物と化学的に結合できる程度に極めて微
細になっているため、加熱処理後に薄い緻密な金属組織
から成る抵抗発熱体層を得ることができるのである。
【００１２】ここで、好適には、前記第２発明の加熱ロ
ーラの製造方法は、(h) 前記第１移動工程により塗布さ
れた抵抗体ペーストから形成された前記抵抗発熱体層の
前記第１層の前記軸心方向の抵抗値分布を測定する抵抗
値測定工程を更に含み、(i)前記第２移動工程における
相対移動速度は、前記第１層の抵抗値分布に基づいて前
記電気絶縁性基体の軸心方向の相対位置に関連して決定
されるものである。
ーラの製造方法は、(h) 前記第１移動工程により塗布さ
れた抵抗体ペーストから形成された前記抵抗発熱体層の
前記第１層の前記軸心方向の抵抗値分布を測定する抵抗
値測定工程を更に含み、(i)前記第２移動工程における
相対移動速度は、前記第１層の抵抗値分布に基づいて前
記電気絶縁性基体の軸心方向の相対位置に関連して決定
されるものである。
【００１３】このようにすれば、抵抗値測定工程におい
てその抵抗体ペーストから形成された抵抗発熱体層の第
１層の軸心方向の抵抗値分布が測定されると共に、第２
移動工程においては、その抵抗値分布にも基づいてペー
スト吐出装置の相対移動速度が制御されるため、第１層
の軸心方向の抵抗値にばらつきが生じた場合にその抵抗
値分布を修正することが可能である。
てその抵抗体ペーストから形成された抵抗発熱体層の第
１層の軸心方向の抵抗値分布が測定されると共に、第２
移動工程においては、その抵抗値分布にも基づいてペー
スト吐出装置の相対移動速度が制御されるため、第１層
の軸心方向の抵抗値にばらつきが生じた場合にその抵抗
値分布を修正することが可能である。
【００１４】また、好適には、(j) 前記第１移動工程と
前記第２移動工程とでは、前記ペースト吐出装置の相対
移動方向が反対方向とされる。このようにすれば、第１
移動工程および第２移動工程によってペースト吐出装置
が電気絶縁性基体の軸心方向に平行な方向に往復移動さ
せられることとなって、移動方向が同一の方向とされる
場合に比較してペースト吐出装置のムダな移動が生じ
ず、抵抗体ペーストの塗布に必要とされる時間が短縮さ
れる。
前記第２移動工程とでは、前記ペースト吐出装置の相対
移動方向が反対方向とされる。このようにすれば、第１
移動工程および第２移動工程によってペースト吐出装置
が電気絶縁性基体の軸心方向に平行な方向に往復移動さ
せられることとなって、移動方向が同一の方向とされる
場合に比較してペースト吐出装置のムダな移動が生じ
ず、抵抗体ペーストの塗布に必要とされる時間が短縮さ
れる。
【００１５】また、好適には、(k) 前記ペースト吐出装
置は、それぞれ吐出細管を備えた第１ペースト吐出装置
および第２ペースト吐出装置の２つを備え、(l) 前記第
１移動工程においてはペースト吐出装置としてその第１
ペースト吐出装置が用いられる一方、前記第２移動工程
においてはペースト吐出装置としてその第２ペースト吐
出装置が用いられる。このようにすれば、第１移動工程
が開始した後所定の時間間隔をおいてその第１移動工程
が終了する前に第２移動工程を開始することが可能とな
り、抵抗体ペーストの塗布に必要とされる時間が一層短
縮される。
置は、それぞれ吐出細管を備えた第１ペースト吐出装置
および第２ペースト吐出装置の２つを備え、(l) 前記第
１移動工程においてはペースト吐出装置としてその第１
ペースト吐出装置が用いられる一方、前記第２移動工程
においてはペースト吐出装置としてその第２ペースト吐
出装置が用いられる。このようにすれば、第１移動工程
が開始した後所定の時間間隔をおいてその第１移動工程
が終了する前に第２移動工程を開始することが可能とな
り、抵抗体ペーストの塗布に必要とされる時間が一層短
縮される。
【００１６】また、好適には、前記第１および第２発明
の加熱ローラの製造方法には、(m)前記電気絶縁性基体
の外周面に抵抗体ペーストが塗布された後に、その電気
絶縁性基体をその軸心回りに回転させたまま抵抗体ペー
ストのレベリングを行うレベリング工程が設けられる。
これにより、塗布時および重力による膜厚のばらつきが
抑制される。
の加熱ローラの製造方法には、(m)前記電気絶縁性基体
の外周面に抵抗体ペーストが塗布された後に、その電気
絶縁性基体をその軸心回りに回転させたまま抵抗体ペー
ストのレベリングを行うレベリング工程が設けられる。
これにより、塗布時および重力による膜厚のばらつきが
抑制される。
【００１７】
【課題を解決するための第３の手段】また、前記目的を
達成するための第３発明の製造装置の要旨とするところ
は、円筒状の外周面を有する電気絶縁性基体のその外周
面に抵抗発熱体層が備えられ、その外周面を用いて均等
に押圧しつつ加熱する加熱ローラの製造装置であって、
(n) 前記電気絶縁性基体をその軸心回りに回転可能に支
持し、その電気絶縁性基体を回転駆動する回転駆動装置
と、(o) 吐出細管を備え、その吐出細管を通して抵抗発
熱体層を形成するための抵抗体ペーストを前記電気絶縁
性基体の外周面に吐出するペースト吐出装置と、(p) 前
記ペースト吐出装置をその電気絶縁性基体の軸心方向に
平行な方向へ相対移動させる軸心方向駆動装置と、(q)
前記ペースト吐出装置の前記軸心方向の相対位置を検出
する相対位置検出装置と、(r) その相対位置検出装置に
より検出された軸心方向の相対位置に基づき、前記相対
移動の速度を制御する制御装置とを、含むことにある。
達成するための第３発明の製造装置の要旨とするところ
は、円筒状の外周面を有する電気絶縁性基体のその外周
面に抵抗発熱体層が備えられ、その外周面を用いて均等
に押圧しつつ加熱する加熱ローラの製造装置であって、
(n) 前記電気絶縁性基体をその軸心回りに回転可能に支
持し、その電気絶縁性基体を回転駆動する回転駆動装置
と、(o) 吐出細管を備え、その吐出細管を通して抵抗発
熱体層を形成するための抵抗体ペーストを前記電気絶縁
性基体の外周面に吐出するペースト吐出装置と、(p) 前
記ペースト吐出装置をその電気絶縁性基体の軸心方向に
平行な方向へ相対移動させる軸心方向駆動装置と、(q)
前記ペースト吐出装置の前記軸心方向の相対位置を検出
する相対位置検出装置と、(r) その相対位置検出装置に
より検出された軸心方向の相対位置に基づき、前記相対
移動の速度を制御する制御装置とを、含むことにある。
【００１８】
【作用】このようにすれば、回転駆動装置によって電気
絶縁性基体が回転させられ、且つ、軸心方向駆動装置に
よってペースト吐出装置が電気絶縁性基体の軸心方向に
平行な方向に相対移動させられた状態で、ペースト吐出
装置によってその外周面上に吐出細管を通して抵抗体ペ
ーストが吐出されることから、その外周面上には抵抗体
ペーストが螺旋状に塗布される。このとき、相対位置検
出装置によってペースト吐出装置の軸心方向の相対位置
が検出される一方、制御装置によってその相対位置に基
づき相対移動速度が制御される。そのため、抵抗体ペー
ストはその相対移動速度で決定されるピッチで螺旋状に
塗布されることとなり、電気絶縁性基体の軸心方向の単
位長さ当たりの抵抗体ペーストの塗布量すなわち塗布膜
の厚みは、その相対移動の速度変化に従って変化させら
れることとなる。
絶縁性基体が回転させられ、且つ、軸心方向駆動装置に
よってペースト吐出装置が電気絶縁性基体の軸心方向に
平行な方向に相対移動させられた状態で、ペースト吐出
装置によってその外周面上に吐出細管を通して抵抗体ペ
ーストが吐出されることから、その外周面上には抵抗体
ペーストが螺旋状に塗布される。このとき、相対位置検
出装置によってペースト吐出装置の軸心方向の相対位置
が検出される一方、制御装置によってその相対位置に基
づき相対移動速度が制御される。そのため、抵抗体ペー
ストはその相対移動速度で決定されるピッチで螺旋状に
塗布されることとなり、電気絶縁性基体の軸心方向の単
位長さ当たりの抵抗体ペーストの塗布量すなわち塗布膜
の厚みは、その相対移動の速度変化に従って変化させら
れることとなる。
【００１９】
【第３発明の効果】上記により、前記第１発明の回転工
程、吐出工程、および移動工程、或いは、第２発明の回
転工程、吐出工程、第１移動工程、および第２移動工程
を実行することが可能となって、それら第１および第２
発明で示したように、所望の抵抗値分布を有する抵抗発
熱体層を形成した場合にも、均一な押圧力が得られる加
熱ローラを製造することができる。
程、吐出工程、および移動工程、或いは、第２発明の回
転工程、吐出工程、第１移動工程、および第２移動工程
を実行することが可能となって、それら第１および第２
発明で示したように、所望の抵抗値分布を有する抵抗発
熱体層を形成した場合にも、均一な押圧力が得られる加
熱ローラを製造することができる。
【００２０】ここで、好適には、前記加熱ローラの製造
装置において、(s) 前記吐出細管は曲げ弾性を有するも
のであり、(t) その吐出細管の先端部を前記電気絶縁性
基体の外周面の接線方向に対して所定角度傾斜した状態
でその外周面に押圧する押圧装置が更に備えられる。こ
のようにすれば、吐出細管が曲げ弾性を有すると共に電
気絶縁性基体の外周面の接線方向に対して所定角度傾斜
した状態で押圧されるため、前記絶縁性基体の外径ばら
つきや反り、または固定状態の変化等によって吐出細管
の接触点が上下しても吐出細管の曲げ弾性によって追従
でき、塗布角度や押圧力等の塗布条件が殆ど変化しな
い。そのため、外周面上に形成される抵抗発熱体層は周
方向に均一な厚さとなり、抵抗値分布が一層良好となっ
て周方向に均一な温度分布が得られる。
装置において、(s) 前記吐出細管は曲げ弾性を有するも
のであり、(t) その吐出細管の先端部を前記電気絶縁性
基体の外周面の接線方向に対して所定角度傾斜した状態
でその外周面に押圧する押圧装置が更に備えられる。こ
のようにすれば、吐出細管が曲げ弾性を有すると共に電
気絶縁性基体の外周面の接線方向に対して所定角度傾斜
した状態で押圧されるため、前記絶縁性基体の外径ばら
つきや反り、または固定状態の変化等によって吐出細管
の接触点が上下しても吐出細管の曲げ弾性によって追従
でき、塗布角度や押圧力等の塗布条件が殆ど変化しな
い。そのため、外周面上に形成される抵抗発熱体層は周
方向に均一な厚さとなり、抵抗値分布が一層良好となっ
て周方向に均一な温度分布が得られる。
【００２１】また、好適には、前記加熱ローラの製造装
置において、(u) 前記ペースト吐出装置は吐出細管をそ
れぞれ備えて独立して駆動される第１ペースト吐出装置
および第２ペースト吐出装置を備えたものである。この
ようにすれば、電気絶縁性基体の外周面に抵抗発熱体層
を積層形成する場合にも、第１層の抵抗体ペーストの塗
布の開始に追随して直ちに第２層の抵抗体ペーストの塗
布を開始できるため、抵抗体ペーストの塗布に必要とさ
れる時間を短縮することが可能である。
置において、(u) 前記ペースト吐出装置は吐出細管をそ
れぞれ備えて独立して駆動される第１ペースト吐出装置
および第２ペースト吐出装置を備えたものである。この
ようにすれば、電気絶縁性基体の外周面に抵抗発熱体層
を積層形成する場合にも、第１層の抵抗体ペーストの塗
布の開始に追随して直ちに第２層の抵抗体ペーストの塗
布を開始できるため、抵抗体ペーストの塗布に必要とさ
れる時間を短縮することが可能である。
【００２２】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して説
明する。なお、以下の実施例において、各部の寸法比等
は必ずしも正確に描かれていない。
明する。なお、以下の実施例において、各部の寸法比等
は必ずしも正確に描かれていない。
【００２３】図１は、本発明の一実施例の製造方法によ
り作製された加熱ローラの一例であるトナー定着用加熱
ローラ（以下、加熱ローラという）１０が適用された複
写機のトナー定着部の要部断面を模式的に示す図であ
る。図において、上下に所定の間隔をもって固定された
ハウジング１２，１４内に、上記加熱ローラ１０と例え
ばアルミニウム製円柱１６の外周面にシリコーンゴム１
８が固着されて成る加圧ローラ２０とが図示しない軸受
により回転可能に取り付けられており、加熱ローラ１０
および加圧ローラ２０は所定の力で互いに押圧されてい
る。また、ハウジング１２の内周面と加熱ローラ１０の
外周面との間隔は約1mm 程度と小さくされており、ハウ
ジング１２の外部から内周面に貫通して設けられた貫通
穴に熱電対２６が取り付けられて、内部の温度を検出
し、図示しない制御回路により加熱ローラ１０に印加さ
れる電圧が制御され、その表面温度が適正な温度に保た
れるようにされている。そして、図示しない転写装置に
よりトナーが転写された記録紙２２等が搬入口２４から
送り込まれると、加熱ローラ１０および上記加圧ローラ
２０間で加熱されつつ加圧される過程でトナーに含まれ
る樹脂が溶融して、その記録紙２２等にトナーが定着さ
せられる。
り作製された加熱ローラの一例であるトナー定着用加熱
ローラ（以下、加熱ローラという）１０が適用された複
写機のトナー定着部の要部断面を模式的に示す図であ
る。図において、上下に所定の間隔をもって固定された
ハウジング１２，１４内に、上記加熱ローラ１０と例え
ばアルミニウム製円柱１６の外周面にシリコーンゴム１
８が固着されて成る加圧ローラ２０とが図示しない軸受
により回転可能に取り付けられており、加熱ローラ１０
および加圧ローラ２０は所定の力で互いに押圧されてい
る。また、ハウジング１２の内周面と加熱ローラ１０の
外周面との間隔は約1mm 程度と小さくされており、ハウ
ジング１２の外部から内周面に貫通して設けられた貫通
穴に熱電対２６が取り付けられて、内部の温度を検出
し、図示しない制御回路により加熱ローラ１０に印加さ
れる電圧が制御され、その表面温度が適正な温度に保た
れるようにされている。そして、図示しない転写装置に
よりトナーが転写された記録紙２２等が搬入口２４から
送り込まれると、加熱ローラ１０および上記加圧ローラ
２０間で加熱されつつ加圧される過程でトナーに含まれ
る樹脂が溶融して、その記録紙２２等にトナーが定着さ
せられる。
【００２４】上記加熱ローラ１０は、図２に示すよう
に、ガラス円筒３０と、その円筒状外周面の両端部にお
いて環状に設けられた一対の電極３２，３２と、それら
一対の電極３２，３２の間に設けられて電極３２，３２
の間に流された電流により発熱する抵抗発熱体層３４
と、その抵抗発熱体層３４を保護すると共にトナーの付
着を防止するために抵抗発熱体層３４を覆う保護膜３６
とを備えている。本実施例においては、上記ガラス円筒
が電気絶縁性基体に相当する。
に、ガラス円筒３０と、その円筒状外周面の両端部にお
いて環状に設けられた一対の電極３２，３２と、それら
一対の電極３２，３２の間に設けられて電極３２，３２
の間に流された電流により発熱する抵抗発熱体層３４
と、その抵抗発熱体層３４を保護すると共にトナーの付
着を防止するために抵抗発熱体層３４を覆う保護膜３６
とを備えている。本実施例においては、上記ガラス円筒
が電気絶縁性基体に相当する。
【００２５】上記ガラス円筒３０は、円筒状外周面を有
して加熱ローラ１０の基体として機能しており、例え
ば、全長 330mm、外径12mm、肉厚 1.0mm程度の寸法の引
き抜き加工により製造された硬質ガラス（例えば、 SiO
2 72.0wt％、 B2O3 10.5wt％、Al2O3 7.0wt％、および
少量のアルカリ金属、アルカリ土類金属から成り、その
特性が熱伝導率 0.0026cal/sec・cm・℃，比熱 0.17cal
/g・℃，軟化点 790℃程度のガラス等）製円筒である。
して加熱ローラ１０の基体として機能しており、例え
ば、全長 330mm、外径12mm、肉厚 1.0mm程度の寸法の引
き抜き加工により製造された硬質ガラス（例えば、 SiO
2 72.0wt％、 B2O3 10.5wt％、Al2O3 7.0wt％、および
少量のアルカリ金属、アルカリ土類金属から成り、その
特性が熱伝導率 0.0026cal/sec・cm・℃，比熱 0.17cal
/g・℃，軟化点 790℃程度のガラス等）製円筒である。
【００２６】前記一対の電極３２，３２は、Ag（銀）ま
たはAg−Pd，Ag−Ptから成り、例えば 8μm 程度の厚さ
で、両端からそれぞれ例えば25mm程度の位置まで設けら
れている。前記抵抗発熱体層３４は、例えば両端部から
それぞれ21mm程度までの部分を除く中間部に設けられて
おり、上記電極３２，３２は、抵抗発熱体層３４にそれ
ぞれ 4mm程度重ねられている。また、前記保護膜３６
は、電極３２，３２の一部および抵抗発熱体層３４の全
面を覆うように、例えば両端部から15mm程度までの部分
を除く中間部に設けられており、例えばディスパージョ
ン塗布法により厚さ25μm 程度に塗布形成されたフッ素
樹脂（例えばポリテトラフルオロエチレン）皮膜であ
る。なお、ディスパージョン塗布法は、樹脂粉末（本実
施例においてはフッ素樹脂粉末）を水或いは有機溶剤中
に分散させ、これを素材表面（本実施例においては電極
３２および抵抗発熱体層３４表面）に、例えばスプレー
等により塗布し、乾燥・熱処理するものである。
たはAg−Pd，Ag−Ptから成り、例えば 8μm 程度の厚さ
で、両端からそれぞれ例えば25mm程度の位置まで設けら
れている。前記抵抗発熱体層３４は、例えば両端部から
それぞれ21mm程度までの部分を除く中間部に設けられて
おり、上記電極３２，３２は、抵抗発熱体層３４にそれ
ぞれ 4mm程度重ねられている。また、前記保護膜３６
は、電極３２，３２の一部および抵抗発熱体層３４の全
面を覆うように、例えば両端部から15mm程度までの部分
を除く中間部に設けられており、例えばディスパージョ
ン塗布法により厚さ25μm 程度に塗布形成されたフッ素
樹脂（例えばポリテトラフルオロエチレン）皮膜であ
る。なお、ディスパージョン塗布法は、樹脂粉末（本実
施例においてはフッ素樹脂粉末）を水或いは有機溶剤中
に分散させ、これを素材表面（本実施例においては電極
３２および抵抗発熱体層３４表面）に、例えばスプレー
等により塗布し、乾燥・熱処理するものである。
【００２７】また、抵抗発熱体層３４は、レジネートと
称される金属有機化合物（Metal Orgnic Compound ：Ｍ
ＯＣ）を含む液状またはペースト状物から成るレジネー
ト膜を、ガラス円筒３０の外周面に形成して焼成するこ
とにより生成された薄膜金属であり、その膜厚は、例え
ば両端部側において 0.8μm 程度に、両端部からそれぞ
れ60mm程度の領域を除く中間部においては 1.5μm 程度
の厚みにされ、両端部側からそれぞれ60mm程度までの範
囲では中間部に向かうに従って連続的に膜厚が厚くされ
ている。上記のレジネートペーストは、所定の金属成分
をそれぞれ溶解して有機化合物と反応させることにより
生成されるレジネートをガラスパウダと混合・混練する
ことにより得られるものであり、例えば下記表１の金系
レジネートペーストが用いられる。なお、下記金属成分
のうち、Bi（ビスマス），Rh（ロジウム）等は酸化物パ
ウダの形で混合されても良い。また、上記ＭＯＣとして
は、例えば金属アルコキシド、金属アセチルアセトネー
ト、金属カルボキシレート等が用いられる。また、溶剤
はレジネートペーストを希釈してその粘度を後述のペー
スト塗布工程における適切な値とするために添加される
ものであり、例えばターピネオール等が好適に用いられ
る。
称される金属有機化合物（Metal Orgnic Compound ：Ｍ
ＯＣ）を含む液状またはペースト状物から成るレジネー
ト膜を、ガラス円筒３０の外周面に形成して焼成するこ
とにより生成された薄膜金属であり、その膜厚は、例え
ば両端部側において 0.8μm 程度に、両端部からそれぞ
れ60mm程度の領域を除く中間部においては 1.5μm 程度
の厚みにされ、両端部側からそれぞれ60mm程度までの範
囲では中間部に向かうに従って連続的に膜厚が厚くされ
ている。上記のレジネートペーストは、所定の金属成分
をそれぞれ溶解して有機化合物と反応させることにより
生成されるレジネートをガラスパウダと混合・混練する
ことにより得られるものであり、例えば下記表１の金系
レジネートペーストが用いられる。なお、下記金属成分
のうち、Bi（ビスマス），Rh（ロジウム）等は酸化物パ
ウダの形で混合されても良い。また、上記ＭＯＣとして
は、例えば金属アルコキシド、金属アセチルアセトネー
ト、金属カルボキシレート等が用いられる。また、溶剤
はレジネートペーストを希釈してその粘度を後述のペー
スト塗布工程における適切な値とするために添加される
ものであり、例えばターピネオール等が好適に用いられ
る。
【００２８】
【表１】
【００２９】上記加熱ローラ１０は、例えば図３に示す
工程に従って作製されたものである。先ず、工程１にお
いて、例えば引き抜き加工した硬質ガラス円筒を所定の
長さに切断することにより前記の寸法・形状のガラス円
筒３０を作製する。次いで、工程２〜４において、前記
表１に示される組成で調合したレジネートペーストを、
例えば上記ガラス円筒３０の外周面のうち、軸心方向の
両端部からそれぞれ21mm程度の領域を除く中間部の全体
に塗布し、所定の条件で乾燥（例えば、数分程度熱風乾
燥し、更に70℃程度で仕上げ乾燥）を施してレジネート
膜を形成した後、例えば 525℃程度の温度で加熱処理す
ることにより、そのレジネート膜が薄膜化して前記抵抗
発熱体層３４が形成される。
工程に従って作製されたものである。先ず、工程１にお
いて、例えば引き抜き加工した硬質ガラス円筒を所定の
長さに切断することにより前記の寸法・形状のガラス円
筒３０を作製する。次いで、工程２〜４において、前記
表１に示される組成で調合したレジネートペーストを、
例えば上記ガラス円筒３０の外周面のうち、軸心方向の
両端部からそれぞれ21mm程度の領域を除く中間部の全体
に塗布し、所定の条件で乾燥（例えば、数分程度熱風乾
燥し、更に70℃程度で仕上げ乾燥）を施してレジネート
膜を形成した後、例えば 525℃程度の温度で加熱処理す
ることにより、そのレジネート膜が薄膜化して前記抵抗
発熱体層３４が形成される。
【００３０】その後、工程５〜７において、導電体ペー
スト（例えばAg厚膜ペースト）を、例えばガラス円筒３
０の軸心方向の両端部からそれぞれ25mm程度の領域に、
良く知られた転写法や曲面印刷等によって塗布し、所定
の温度（例えば 120℃程度）で乾燥した後、更に例えば
525℃程度の温度で加熱処理することにより、前記電極
３２が形成される。そして、工程８において、例えばガ
ラス円筒３０の軸心方向の両端部からそれぞれ15mm程度
の領域を除く全面にフッ素樹脂を塗布して例えば 100℃
程度の温度で乾燥し、例えば 360℃程度の温度で加熱処
理することにより、前記保護膜３６が形成され、前記加
熱ローラ１０が得られる。
スト（例えばAg厚膜ペースト）を、例えばガラス円筒３
０の軸心方向の両端部からそれぞれ25mm程度の領域に、
良く知られた転写法や曲面印刷等によって塗布し、所定
の温度（例えば 120℃程度）で乾燥した後、更に例えば
525℃程度の温度で加熱処理することにより、前記電極
３２が形成される。そして、工程８において、例えばガ
ラス円筒３０の軸心方向の両端部からそれぞれ15mm程度
の領域を除く全面にフッ素樹脂を塗布して例えば 100℃
程度の温度で乾燥し、例えば 360℃程度の温度で加熱処
理することにより、前記保護膜３６が形成され、前記加
熱ローラ１０が得られる。
【００３１】上記図３に示される工程のうち、ガラス円
筒３０の外周面にレジネートペーストおよび導電体厚膜
ペーストをそれぞれ塗布する工程２，５は、例えば図４
および図５に示される膜形成装置３８を用いて行われた
ものである。この膜形成装置３８は、前記ガラス円筒３
０を保持してその軸心回りに回転させる回転装置４０
と、その回転装置４０によって回転させられているガラ
ス円筒３０の外周面に抵抗発熱体ペーストを塗布するペ
ースト塗布装置４２とから構成されている。本実施例に
おいては、上記回転装置４０が回転駆動装置に相当す
る。
筒３０の外周面にレジネートペーストおよび導電体厚膜
ペーストをそれぞれ塗布する工程２，５は、例えば図４
および図５に示される膜形成装置３８を用いて行われた
ものである。この膜形成装置３８は、前記ガラス円筒３
０を保持してその軸心回りに回転させる回転装置４０
と、その回転装置４０によって回転させられているガラ
ス円筒３０の外周面に抵抗発熱体ペーストを塗布するペ
ースト塗布装置４２とから構成されている。本実施例に
おいては、上記回転装置４０が回転駆動装置に相当す
る。
【００３２】回転装置４０は、ガラス円筒３０を回転さ
せるための回転部４４、およびその回転部４４側に向か
ってガラス円筒３０を押圧することによって保持する押
圧部４６とから構成されている。回転部４４は、回転モ
ータ４８と、その回転モータ４８が固定された台５０
と、図示しない軸部において軸受５２に回転可能に取り
付けられて上記回転モータ４８によってその軸心回りに
回転させられる円錐状部材５４とを備えている。上記回
転モータ４８は、その回転数を適宜変更することが可能
なスピードコントロールモータである。また、押圧部４
６は、台５６と、ハンドル５８の回転操作によってその
台５６上を図４における左右方向に移動させられる第１
移動台６０と、その第１移動台６０上に図の左右方向に
移動可能に取り付けられると共に図示しないバネ等によ
って図の右方向に付勢されている第２移動台６２と、そ
の第２移動台６２上に取り付けられた軸受６４と、図示
しない軸部において軸心回りに回転可能にその軸受６４
に取り付けられている上記円錐状部材５４と同様な形状
の円錐状部材６６とを備えている。これら２つの円錐状
部材５４，６６は、軸心が一直線上に位置するように取
り付けられている。
せるための回転部４４、およびその回転部４４側に向か
ってガラス円筒３０を押圧することによって保持する押
圧部４６とから構成されている。回転部４４は、回転モ
ータ４８と、その回転モータ４８が固定された台５０
と、図示しない軸部において軸受５２に回転可能に取り
付けられて上記回転モータ４８によってその軸心回りに
回転させられる円錐状部材５４とを備えている。上記回
転モータ４８は、その回転数を適宜変更することが可能
なスピードコントロールモータである。また、押圧部４
６は、台５６と、ハンドル５８の回転操作によってその
台５６上を図４における左右方向に移動させられる第１
移動台６０と、その第１移動台６０上に図の左右方向に
移動可能に取り付けられると共に図示しないバネ等によ
って図の右方向に付勢されている第２移動台６２と、そ
の第２移動台６２上に取り付けられた軸受６４と、図示
しない軸部において軸心回りに回転可能にその軸受６４
に取り付けられている上記円錐状部材５４と同様な形状
の円錐状部材６６とを備えている。これら２つの円錐状
部材５４，６６は、軸心が一直線上に位置するように取
り付けられている。
【００３３】一方、ペースト塗布装置４２は、回転装置
４０に固定されたガラス円筒３０側の一端にペースト吐
出部６８を有するシリンダ部７０が、図４における左右
方向、上下方向、および図５における左右方向にそれぞ
れ移動可能に備えられている。本実施例においては、上
記シリンダ部７０がペースト吐出装置に相当する。
４０に固定されたガラス円筒３０側の一端にペースト吐
出部６８を有するシリンダ部７０が、図４における左右
方向、上下方向、および図５における左右方向にそれぞ
れ移動可能に備えられている。本実施例においては、上
記シリンダ部７０がペースト吐出装置に相当する。
【００３４】シリンダ部７０は、軸心が鉛直方向となる
ように上側固定部材７２および下側固定部材７４によっ
て上下移動部材７６に固定された円筒状のシリンダ７８
を備えており、微調整ネジ８０を回転させて上下移動部
材７６を上下移動レール８２に沿って移動させることに
より、図の上下方向に移動させられる。上下移動部材７
６の下端部には、図における上下方向に軸心が位置する
ように取り付けられたネジ８４のその軸心回りに回動可
能とされた水平回動部材８６が、前記下側固定部材７４
を介して取り付けられており、所望の回動角度で固定さ
れる。その水平回動部材８６の先端部には、鉛直回動支
持部材８８が２本のボルト９０，９０、ナット９２，９
２等によって固定されている。鉛直回動支持部材８８
は、下部に２つの平板状部が図４における左右方向に所
定の間隔をもって平行に設けられることにより形成され
た狭持部９４を備えている。前記ペースト吐出部６８を
保持する保持部材９６は、上記狭持部９４の平板状部に
よってネジ９８の軸心回りに回動可能に狭持され、その
ネジ９８を締め付けることにより所望の回動角度で固定
される。本実施例においては、鉛直回動支持部材８８、
狭持部９４、および保持部材９６が角度調節装置に相当
する。
ように上側固定部材７２および下側固定部材７４によっ
て上下移動部材７６に固定された円筒状のシリンダ７８
を備えており、微調整ネジ８０を回転させて上下移動部
材７６を上下移動レール８２に沿って移動させることに
より、図の上下方向に移動させられる。上下移動部材７
６の下端部には、図における上下方向に軸心が位置する
ように取り付けられたネジ８４のその軸心回りに回動可
能とされた水平回動部材８６が、前記下側固定部材７４
を介して取り付けられており、所望の回動角度で固定さ
れる。その水平回動部材８６の先端部には、鉛直回動支
持部材８８が２本のボルト９０，９０、ナット９２，９
２等によって固定されている。鉛直回動支持部材８８
は、下部に２つの平板状部が図４における左右方向に所
定の間隔をもって平行に設けられることにより形成され
た狭持部９４を備えている。前記ペースト吐出部６８を
保持する保持部材９６は、上記狭持部９４の平板状部に
よってネジ９８の軸心回りに回動可能に狭持され、その
ネジ９８を締め付けることにより所望の回動角度で固定
される。本実施例においては、鉛直回動支持部材８８、
狭持部９４、および保持部材９６が角度調節装置に相当
する。
【００３５】前記ペースト吐出部６８は可撓性を有する
チューブ１００によってシリンダ７８に接続されてお
り、その先端部には、例えば外径0.36mm、内径0.18mm程
度で曲げ弾性を有する例えばステンレス製のニードル１
０１が備えられている。また、上記シリンダ７８はエア
配管１０２を介して圧力空気供給装置１０３に接続され
ており、このシリンダ７８内に蓄えられた抵抗発熱体ペ
ーストは、圧力空気供給装置１０３から供給される空気
圧によってペースト吐出部６８の先端部のニードル１０
１から吐出される。本実施例においては、上記ニードル
１０１が吐出細管に相当する。
チューブ１００によってシリンダ７８に接続されてお
り、その先端部には、例えば外径0.36mm、内径0.18mm程
度で曲げ弾性を有する例えばステンレス製のニードル１
０１が備えられている。また、上記シリンダ７８はエア
配管１０２を介して圧力空気供給装置１０３に接続され
ており、このシリンダ７８内に蓄えられた抵抗発熱体ペ
ーストは、圧力空気供給装置１０３から供給される空気
圧によってペースト吐出部６８の先端部のニードル１０
１から吐出される。本実施例においては、上記ニードル
１０１が吐出細管に相当する。
【００３６】また、上記上下移動レール８２は、微調整
ネジ１０４を回転させることにより水平移動レール１０
６に沿って移動させられる水平移動部材１０８に固定さ
れており、これにより、前記ペースト吐出部６８が図５
における左右方向に移動させられる。また、水平移動レ
ール１０６は、例えばエアシリンダ等から成る上下移動
装置１１０の図における上下方向に突き出しおよび引き
込み可能とされた軸部１１２に固定されている。すなわ
ち、ペースト吐出部６８の上下方向の移動は主にこの上
下移動装置１１０の作動によって行われ、前記微調整ネ
ジ８０の回転による上下移動は微調整のために行われ
る。なお、図において１１４はガイドロッド、１１６は
ガイドブッシュである。本実施例においては、上記の上
下移動装置１１０が押圧装置に相当する。
ネジ１０４を回転させることにより水平移動レール１０
６に沿って移動させられる水平移動部材１０８に固定さ
れており、これにより、前記ペースト吐出部６８が図５
における左右方向に移動させられる。また、水平移動レ
ール１０６は、例えばエアシリンダ等から成る上下移動
装置１１０の図における上下方向に突き出しおよび引き
込み可能とされた軸部１１２に固定されている。すなわ
ち、ペースト吐出部６８の上下方向の移動は主にこの上
下移動装置１１０の作動によって行われ、前記微調整ネ
ジ８０の回転による上下移動は微調整のために行われ
る。なお、図において１１４はガイドロッド、１１６は
ガイドブッシュである。本実施例においては、上記の上
下移動装置１１０が押圧装置に相当する。
【００３７】また、上記上下移動装置１１０は、移動モ
ータ１１８の回転によって移動レール１２０上を図にお
ける紙面と垂直な方向（すなわち図４におけるガラス円
筒３０の軸心方向と平行な方向）に移動可能とされた移
動部材１２２に固定されている。移動モータ１１８の図
示しない回転軸には後述のネジ軸１３４が取り付けられ
る一方、移動部材１２２の下部にはそのネジ軸１３４と
螺合させられる図示しない雌ねじ部が設けられており、
これにより、シリンダ部７０は、例えば図４において示
される２位置の範囲内で、移動モータ１１８の回転数に
応じた速度で左右方向に移動させられる。上記移動モー
タ１１８としては、例えばＡＣサーボモータ等の回転速
度の制御が容易なモータが用いられている。なお、上記
移動モータ１１８および移動レール１２０は、何れも台
１２４上に固定されている。本実施例においては、上記
移動モータ１１８、移動レール１２０、移動部材１２２
が軸心方向駆動装置を構成している。
ータ１１８の回転によって移動レール１２０上を図にお
ける紙面と垂直な方向（すなわち図４におけるガラス円
筒３０の軸心方向と平行な方向）に移動可能とされた移
動部材１２２に固定されている。移動モータ１１８の図
示しない回転軸には後述のネジ軸１３４が取り付けられ
る一方、移動部材１２２の下部にはそのネジ軸１３４と
螺合させられる図示しない雌ねじ部が設けられており、
これにより、シリンダ部７０は、例えば図４において示
される２位置の範囲内で、移動モータ１１８の回転数に
応じた速度で左右方向に移動させられる。上記移動モー
タ１１８としては、例えばＡＣサーボモータ等の回転速
度の制御が容易なモータが用いられている。なお、上記
移動モータ１１８および移動レール１２０は、何れも台
１２４上に固定されている。本実施例においては、上記
移動モータ１１８、移動レール１２０、移動部材１２２
が軸心方向駆動装置を構成している。
【００３８】また、前記回転装置の回転モータ４８、前
記圧力空気供給装置１０３、前記上下移動装置１１０、
および上記移動モータ１１８は、ＣＰＵ，ＲＡＭ，ＲＯ
Ｍ等から構成された制御装置１２５に接続されている。
制御装置１２５には、ガラス円筒３０の処理に先立っ
て、そのガラス円筒３０の寸法等や加熱ローラ１０の抵
抗値分布等の特性に応じた設定が為されてＲＡＭに記憶
される。そして、そのＲＡＭに記憶された設定データに
基づき、予めＲＯＭに記憶されたプログラムに従って、
例えば、ガラス円筒３０の軸心方向におけるそのガラス
円筒３０とシリンダ部７０との相対位置に関連して、圧
力空気供給装置１０３の設定圧力すなわちペースト吐出
部６８のニードル１０１からレジネートペーストを吐出
する際の吐出圧や、上記モータ１１８，４８の回転数す
なわちペースト塗布装置４２の軸心方向移動速度・移動
範囲およびガラス円筒３０の回転速度等が、適宜変更制
御される。また、図４において、４か所に設けられてい
る１２８ａ〜ｄはペースト塗布装置４２のシリンダ部７
０のガラス円筒３０の軸心方向における位置を検出する
ための位置センサであり、その軸心方向の位置は制御装
置１２５に為された上記設定に従って適宜変更される。
本実施例においては、この位置センサ１２８が相対位置
検出装置に相当する。
記圧力空気供給装置１０３、前記上下移動装置１１０、
および上記移動モータ１１８は、ＣＰＵ，ＲＡＭ，ＲＯ
Ｍ等から構成された制御装置１２５に接続されている。
制御装置１２５には、ガラス円筒３０の処理に先立っ
て、そのガラス円筒３０の寸法等や加熱ローラ１０の抵
抗値分布等の特性に応じた設定が為されてＲＡＭに記憶
される。そして、そのＲＡＭに記憶された設定データに
基づき、予めＲＯＭに記憶されたプログラムに従って、
例えば、ガラス円筒３０の軸心方向におけるそのガラス
円筒３０とシリンダ部７０との相対位置に関連して、圧
力空気供給装置１０３の設定圧力すなわちペースト吐出
部６８のニードル１０１からレジネートペーストを吐出
する際の吐出圧や、上記モータ１１８，４８の回転数す
なわちペースト塗布装置４２の軸心方向移動速度・移動
範囲およびガラス円筒３０の回転速度等が、適宜変更制
御される。また、図４において、４か所に設けられてい
る１２８ａ〜ｄはペースト塗布装置４２のシリンダ部７
０のガラス円筒３０の軸心方向における位置を検出する
ための位置センサであり、その軸心方向の位置は制御装
置１２５に為された上記設定に従って適宜変更される。
本実施例においては、この位置センサ１２８が相対位置
検出装置に相当する。
【００３９】図６は、上記膜形成装置３８の制御構成を
示すブロック線図である。制御装置１２５の回転制御回
路１３０にはモータ４８の回転速度や抵抗発熱体層３４
のパターンを入力するための入力装置１３２が接続され
ていると共に、移動モータ１１８のネジ軸１３４に沿っ
て設けられている前記位置センサ１２８ａ〜ｄが接続さ
れており、その位置センサ１２８ａ〜ｄにより検出され
たシリンダ部７０の位置を示す位置信号に基づき、サー
ボモータドライバ１３６に回転速度信号を出力する。前
記移動モータ１１８はそのサーボモータドライバ１３６
を介して回転制御回路１３０に接続されており、これに
より、移動モータ１１８の回転数すなわちシリンダ部７
０の水平方向移動速度（ガラス円筒３０の軸心方向に平
行な方向の移動速度）が、そのシリンダ部７０の位置に
応じて変更制御される。また、前記モータ４８は制御装
置１２５内のモータドライバ１３８に接続されており、
ガラス円筒３０は、前記回転制御回路１３０に入力され
た設定回転数で回転させられる。これら回転制御回路１
３０およびモータドライバ１３８はシーケンサ１４０に
接続されており、その作動順序が制御されている。
示すブロック線図である。制御装置１２５の回転制御回
路１３０にはモータ４８の回転速度や抵抗発熱体層３４
のパターンを入力するための入力装置１３２が接続され
ていると共に、移動モータ１１８のネジ軸１３４に沿っ
て設けられている前記位置センサ１２８ａ〜ｄが接続さ
れており、その位置センサ１２８ａ〜ｄにより検出され
たシリンダ部７０の位置を示す位置信号に基づき、サー
ボモータドライバ１３６に回転速度信号を出力する。前
記移動モータ１１８はそのサーボモータドライバ１３６
を介して回転制御回路１３０に接続されており、これに
より、移動モータ１１８の回転数すなわちシリンダ部７
０の水平方向移動速度（ガラス円筒３０の軸心方向に平
行な方向の移動速度）が、そのシリンダ部７０の位置に
応じて変更制御される。また、前記モータ４８は制御装
置１２５内のモータドライバ１３８に接続されており、
ガラス円筒３０は、前記回転制御回路１３０に入力され
た設定回転数で回転させられる。これら回転制御回路１
３０およびモータドライバ１３８はシーケンサ１４０に
接続されており、その作動順序が制御されている。
【００４０】以下、上記膜形成装置３８を用いて前記工
程２のレジネートペーストの塗布を行う方法を説明す
る。先ず、前述のガラス円筒３０および抵抗発熱体層３
４を形成するためのレジネートペーストを用意する。そ
して、レジネートペーストをシリンダ７８内に投入する
と共に、ガラス円筒３０を図４に示されるように回転装
置４０に固定する。このガラス円筒３０の固定は、ハン
ドル５８を操作することによって第１移動台６０の位置
を調節して円錐状部材５４，６６の間隔をガラス円筒３
０の長さよりもやや小さくし、第２移動台６２を図示し
ないバネの付勢力に抗して図の左方に押し戻すことによ
り円錐状部材５４，６６の間隔を広げ、ガラス円筒３０
をその間の所定の位置に位置させて第２移動台６２の押
し戻しを停止することにより行われる。
程２のレジネートペーストの塗布を行う方法を説明す
る。先ず、前述のガラス円筒３０および抵抗発熱体層３
４を形成するためのレジネートペーストを用意する。そ
して、レジネートペーストをシリンダ７８内に投入する
と共に、ガラス円筒３０を図４に示されるように回転装
置４０に固定する。このガラス円筒３０の固定は、ハン
ドル５８を操作することによって第１移動台６０の位置
を調節して円錐状部材５４，６６の間隔をガラス円筒３
０の長さよりもやや小さくし、第２移動台６２を図示し
ないバネの付勢力に抗して図の左方に押し戻すことによ
り円錐状部材５４，６６の間隔を広げ、ガラス円筒３０
をその間の所定の位置に位置させて第２移動台６２の押
し戻しを停止することにより行われる。
【００４１】続いて、シリンダ部７８がガラス円筒３０
の軸心方向の一端側（すなわち、図４における右端或い
は左端の位置）に位置させられた状態で、ペースト吐出
部６８をネジ９８の軸心回りに回動させて所定の回動角
度（例えば、水平面に対して３０度）に固定すると共
に、上記シリンダ部７８を図５における左右方向に移動
させる。そして、制御装置１２５を起動してガラス円筒
３０の寸法等や加熱ローラ１０の抵抗値分布等の特性を
設定した後、制御装置１２５の図示しない回転起動スイ
ッチを操作することにより、例えば、上記設定に応じた
プログラムが制御装置１２５のＲＯＭに予め記憶された
複数のプログラムから選択されることにより、例えば図
７に示されるフローチャートに従ってレジネートペース
トがガラス円筒３０の外周面に塗布される。すなわち、
ステップＳ１において制御装置１２５の回転起動スイッ
チがオンされたと判断されると、回転工程に対応するス
テップＳ２において回転装置４０のモータ４８が起動さ
せられて、ガラス円筒３０が所定の回転速度（例えば 1
〜3RPS程度の比較的遅い速度）で回転させられると同時
に、シーケンサ１４０の内部タイマによるカウントが開
始する。
の軸心方向の一端側（すなわち、図４における右端或い
は左端の位置）に位置させられた状態で、ペースト吐出
部６８をネジ９８の軸心回りに回動させて所定の回動角
度（例えば、水平面に対して３０度）に固定すると共
に、上記シリンダ部７８を図５における左右方向に移動
させる。そして、制御装置１２５を起動してガラス円筒
３０の寸法等や加熱ローラ１０の抵抗値分布等の特性を
設定した後、制御装置１２５の図示しない回転起動スイ
ッチを操作することにより、例えば、上記設定に応じた
プログラムが制御装置１２５のＲＯＭに予め記憶された
複数のプログラムから選択されることにより、例えば図
７に示されるフローチャートに従ってレジネートペース
トがガラス円筒３０の外周面に塗布される。すなわち、
ステップＳ１において制御装置１２５の回転起動スイッ
チがオンされたと判断されると、回転工程に対応するス
テップＳ２において回転装置４０のモータ４８が起動さ
せられて、ガラス円筒３０が所定の回転速度（例えば 1
〜3RPS程度の比較的遅い速度）で回転させられると同時
に、シーケンサ１４０の内部タイマによるカウントが開
始する。
【００４２】上記内部タイマが起動させられてから所定
時間経過すると、ステップＳ３の判断が肯定されてステ
ップＳ４に進み、上下移動装置１１０が作動させられる
ことにより、ペースト塗布装置４２のシリンダ部７０が
ガラス円筒３０に向かって下降し始める。なお、上記所
定時間は、ガラス円筒３０の回転が安定するために必要
な例えば数秒程度の短い時間である。ステップＳ５にお
いては、シリンダ部７０の下降が終了したか否かが判断
される。この判断は、例えばペースト吐出部６８に圧力
センサ等を設けて、ペースト吐出部６８のニードル１０
１がガラス円筒３０に接触したか否かを検出する（すな
わち、接触したときに下降終了とする）ことによっても
良いが、或いは、入力装置１３２により設定されたガラ
ス円筒３０の外径寸法からシリンダ部７０の下降量を算
出して、上下移動装置１１０の軸部１１２の駆動量とそ
の算出された下降量とを対比することによっても良い。
時間経過すると、ステップＳ３の判断が肯定されてステ
ップＳ４に進み、上下移動装置１１０が作動させられる
ことにより、ペースト塗布装置４２のシリンダ部７０が
ガラス円筒３０に向かって下降し始める。なお、上記所
定時間は、ガラス円筒３０の回転が安定するために必要
な例えば数秒程度の短い時間である。ステップＳ５にお
いては、シリンダ部７０の下降が終了したか否かが判断
される。この判断は、例えばペースト吐出部６８に圧力
センサ等を設けて、ペースト吐出部６８のニードル１０
１がガラス円筒３０に接触したか否かを検出する（すな
わち、接触したときに下降終了とする）ことによっても
良いが、或いは、入力装置１３２により設定されたガラ
ス円筒３０の外径寸法からシリンダ部７０の下降量を算
出して、上下移動装置１１０の軸部１１２の駆動量とそ
の算出された下降量とを対比することによっても良い。
【００４３】上記ステップＳ５の判断が肯定されると、
ステップＳ６に進んで移動モータ１１８が起動されるこ
とにより移動部材１２２が駆動され、シリンダ部７０が
ガラス円筒３０の軸心方向に沿って図４の左右方向の一
端部から他端部に向かって移動させられる。シリンダ部
７０の移動が開始されると、ステップＳ７において塗布
開始位置が検出されたか否かが判断される。この塗布開
始位置の検出は、例えば、ガラス円筒３０の一端部側に
位置する位置センサ１２８ａ或いは１２８ｄによりシリ
ンダ部７０の位置を検出することにより行われる。ステ
ップＳ７における判断が否定される間は、シリンダ部７
０の移動のみが継続されるが、この判断が肯定されると
吐出工程に対応するステップＳ８に進んで、圧力空気供
給装置１０３が起動されることによりシリンダ７８に例
えば 1.8kg／cm2 程度の所定の圧力空気が供給されて、
ニードル１０１の先端からレジネートペーストが吐出さ
れる。これにより、ニードル１０１は、ガラス円筒３０
の外周面を螺旋状に移動させられつつ、その外周面上に
レジネートペーストを塗布する。すなわち、吐出工程
は、移動工程中に実行される。
ステップＳ６に進んで移動モータ１１８が起動されるこ
とにより移動部材１２２が駆動され、シリンダ部７０が
ガラス円筒３０の軸心方向に沿って図４の左右方向の一
端部から他端部に向かって移動させられる。シリンダ部
７０の移動が開始されると、ステップＳ７において塗布
開始位置が検出されたか否かが判断される。この塗布開
始位置の検出は、例えば、ガラス円筒３０の一端部側に
位置する位置センサ１２８ａ或いは１２８ｄによりシリ
ンダ部７０の位置を検出することにより行われる。ステ
ップＳ７における判断が否定される間は、シリンダ部７
０の移動のみが継続されるが、この判断が肯定されると
吐出工程に対応するステップＳ８に進んで、圧力空気供
給装置１０３が起動されることによりシリンダ７８に例
えば 1.8kg／cm2 程度の所定の圧力空気が供給されて、
ニードル１０１の先端からレジネートペーストが吐出さ
れる。これにより、ニードル１０１は、ガラス円筒３０
の外周面を螺旋状に移動させられつつ、その外周面上に
レジネートペーストを塗布する。すなわち、吐出工程
は、移動工程中に実行される。
【００４４】なお、シリンダ部７０の下降が終了した状
態においては、図８(a) ，(b) に示されるように、ペー
スト吐出部６８の軸心がガラス円筒３０の軸心に対して
直角を成し且つガラス円筒３０の外周面の法線に対して
その回転方向と反対側に所定の角度θ1 （例えば５０度
程度）傾けられた状態で、ニードル１０１は、その先端
部がガラス円筒３０の軸心Ｏを通る鉛直線Ｖ上に位置し
且つその回転方向に向かうようにその外周面に押圧させ
られる。これにより、そのニードル１０１の先端部はそ
の曲げ弾性力に抗して曲げられ、その先端部が位置する
ガラス円筒３０の外周面の接線方向、すなわち水平面に
対して所定の角度θ2 （例えば２０度程度）傾けられ
る。
態においては、図８(a) ，(b) に示されるように、ペー
スト吐出部６８の軸心がガラス円筒３０の軸心に対して
直角を成し且つガラス円筒３０の外周面の法線に対して
その回転方向と反対側に所定の角度θ1 （例えば５０度
程度）傾けられた状態で、ニードル１０１は、その先端
部がガラス円筒３０の軸心Ｏを通る鉛直線Ｖ上に位置し
且つその回転方向に向かうようにその外周面に押圧させ
られる。これにより、そのニードル１０１の先端部はそ
の曲げ弾性力に抗して曲げられ、その先端部が位置する
ガラス円筒３０の外周面の接線方向、すなわち水平面に
対して所定の角度θ2 （例えば２０度程度）傾けられ
る。
【００４５】レジネートペーストの塗布が開始された後
は、ステップＳ９においてシリンダ部７０の位置が検出
されると共に、ステップＳ１０においてその移動速度が
その位置に対応した速度に変更される。すなわち、本実
施例においては、ステップＳ６，Ｓ９，Ｓ１０が移動工
程に対応する。このシリンダ部７０の位置は例えば前記
位置センサ１２８によって断続的に検出されるものであ
り、その移動速度は、具体的には、図９に示されるよう
に変化させられる。
は、ステップＳ９においてシリンダ部７０の位置が検出
されると共に、ステップＳ１０においてその移動速度が
その位置に対応した速度に変更される。すなわち、本実
施例においては、ステップＳ６，Ｓ９，Ｓ１０が移動工
程に対応する。このシリンダ部７０の位置は例えば前記
位置センサ１２８によって断続的に検出されるものであ
り、その移動速度は、具体的には、図９に示されるよう
に変化させられる。
【００４６】なお、図９のＸ0 〜Ｘ3 は、シリンダ部７
０のガラス円筒３０の軸心方向における位置を表し、図
４に示される位置センサ１２８ａ〜ｄの位置にそれぞれ
対応するものである。移動開始直後から位置Ｘ0 まで
は、例えば 0.25m/min程度の移動速度となるように制御
されるが、位置Ｘ0 に到達すると、位置Ｘ1 に向かうに
従って次第に移動速度が遅くされる。位置Ｘ1 〜Ｘ2 に
おいては、例えば 0.14m/min程度の定速度で移動させら
れるが、位置Ｘ2 に到達すると、位置Ｘ3 に向かうに従
って次第に移動速度が速くされて、位置Ｘ3 においては
位置Ｘ0 における速度と同様に例えば 0.25m/min程度の
移動速度となる。すなわち、ガラス円筒３０の両端部側
においては移動速度が比較的速くされ、中間部において
は移動速度が比較的遅くされる。なお、ガラス円筒３０
の回転速度は何等変化させられず、一定に保たれる。
０のガラス円筒３０の軸心方向における位置を表し、図
４に示される位置センサ１２８ａ〜ｄの位置にそれぞれ
対応するものである。移動開始直後から位置Ｘ0 まで
は、例えば 0.25m/min程度の移動速度となるように制御
されるが、位置Ｘ0 に到達すると、位置Ｘ1 に向かうに
従って次第に移動速度が遅くされる。位置Ｘ1 〜Ｘ2 に
おいては、例えば 0.14m/min程度の定速度で移動させら
れるが、位置Ｘ2 に到達すると、位置Ｘ3 に向かうに従
って次第に移動速度が速くされて、位置Ｘ3 においては
位置Ｘ0 における速度と同様に例えば 0.25m/min程度の
移動速度となる。すなわち、ガラス円筒３０の両端部側
においては移動速度が比較的速くされ、中間部において
は移動速度が比較的遅くされる。なお、ガラス円筒３０
の回転速度は何等変化させられず、一定に保たれる。
【００４７】このとき、前述のように、ニードル１０１
はガラス円筒３０の外周面上を螺旋状に移動させられる
ため、図１０に示されるように、レジネートペースト１
２６はガラス円筒３０の軸心方向に幅ＷO だけ重なりな
がら螺旋状に塗布されるが、上記のようにガラス円筒３
０の回転数が一定のままシリンダ部７０すなわちニード
ル１０１の移動速度が変化させられると、この螺旋のピ
ッチが変化することとなる。このため、ガラス円筒３０
の軸心方向の単位長さ当たりのレジネートペーストの塗
布量は、移動速度が比較的速いときには比較的少なくな
り、反対に移動速度が比較的遅い時には比較的多くなる
こととなって、レジネートペーストの塗布膜の厚みは、
移動速度が比較的速い両端部において比較的薄く、移動
速度が比較的遅い中間部において比較的厚くされること
となる。
はガラス円筒３０の外周面上を螺旋状に移動させられる
ため、図１０に示されるように、レジネートペースト１
２６はガラス円筒３０の軸心方向に幅ＷO だけ重なりな
がら螺旋状に塗布されるが、上記のようにガラス円筒３
０の回転数が一定のままシリンダ部７０すなわちニード
ル１０１の移動速度が変化させられると、この螺旋のピ
ッチが変化することとなる。このため、ガラス円筒３０
の軸心方向の単位長さ当たりのレジネートペーストの塗
布量は、移動速度が比較的速いときには比較的少なくな
り、反対に移動速度が比較的遅い時には比較的多くなる
こととなって、レジネートペーストの塗布膜の厚みは、
移動速度が比較的速い両端部において比較的薄く、移動
速度が比較的遅い中間部において比較的厚くされること
となる。
【００４８】なお、前記各位置における移動速度やガラ
ス円筒３０の回転速度，レジネートペーストの吐出圧力
は、前記抵抗発熱体層３４の膜厚が得られるように設定
されたものであり、上記の移動速度においては、シリン
ダ部７０の移動速度が比較的速い部分（すなわち位置Ｘ
0 ，Ｘ3 にあるとき）でも、レジネートペースト１２６
が螺旋の幅方向すなわちガラス円筒３０の軸心方向に広
がることにより、その外周面には連続的な塗布膜が形成
される。また、図１０においては、ガラス円筒３０の外
周面に塗布されたレジネートペースト１２６に、塗布時
の螺旋形状に従った比較的大きな凹凸が形成されるよう
に描かれているが、レジネートーペースト１２６は比較
的高い流動性を有するため、その表面は塗布直後から比
較的滑らかな小さな凹凸形状となる。
ス円筒３０の回転速度，レジネートペーストの吐出圧力
は、前記抵抗発熱体層３４の膜厚が得られるように設定
されたものであり、上記の移動速度においては、シリン
ダ部７０の移動速度が比較的速い部分（すなわち位置Ｘ
0 ，Ｘ3 にあるとき）でも、レジネートペースト１２６
が螺旋の幅方向すなわちガラス円筒３０の軸心方向に広
がることにより、その外周面には連続的な塗布膜が形成
される。また、図１０においては、ガラス円筒３０の外
周面に塗布されたレジネートペースト１２６に、塗布時
の螺旋形状に従った比較的大きな凹凸が形成されるよう
に描かれているが、レジネートーペースト１２６は比較
的高い流動性を有するため、その表面は塗布直後から比
較的滑らかな小さな凹凸形状となる。
【００４９】続くステップＳ１１においては、ガラス円
筒３０の外周面へのレジネートペーストの塗布が終了し
たか否かが判断される。この判断が否定される間は、シ
リンダ部７０の移動およびレジネートペーストの吐出が
継続されるが、シリンダ部７０が他端部まで移動させら
れ、ガラス円筒３０の軸心方向の所定の長さ範囲の外周
面全面にレジネートペースト１２６が塗布されると、ス
テップＳ１１における判断が肯定されてステップＳ１２
に進む。この塗布終了の判断は、例えば、位置センサ１
２８ｄによってシリンダ部７０の位置を検出することに
よって行われる。すなわち、レジネートペーストは、図
４における位置センサ１２８ａから１２８ｄまでの範囲
に塗布されることとなる。
筒３０の外周面へのレジネートペーストの塗布が終了し
たか否かが判断される。この判断が否定される間は、シ
リンダ部７０の移動およびレジネートペーストの吐出が
継続されるが、シリンダ部７０が他端部まで移動させら
れ、ガラス円筒３０の軸心方向の所定の長さ範囲の外周
面全面にレジネートペースト１２６が塗布されると、ス
テップＳ１１における判断が肯定されてステップＳ１２
に進む。この塗布終了の判断は、例えば、位置センサ１
２８ｄによってシリンダ部７０の位置を検出することに
よって行われる。すなわち、レジネートペーストは、図
４における位置センサ１２８ａから１２８ｄまでの範囲
に塗布されることとなる。
【００５０】ステップＳ１２においては、圧力空気供給
装置１０３からの圧力空気の供給が停止されてレジネー
トペーストの吐出が停止され、更に、ステップＳ１３に
おいて、移動モータ１１８の回転が停止させられること
により、シリンダ部７０の移動が停止される。そして、
ステップＳ１４において、上下移動装置１１０によって
シリンダ部７０が上昇させられることにより、ニードル
１０１がガラス円筒３０の外周面から離隔させられる。
そして、ステップＳ１５において、シリンダ部７０の上
昇が終了したと判断されると、ステップＳ１６に進んで
レジネートペーストの塗布終了（ステップＳ１１の判断
が肯定されたとき）から所定時間経過したか否かが判断
される。この所定時間はガラス円筒３０の外周面に塗布
されたレジネートペーストの膜厚のばらつきを抑制する
ためのレベリングに十分な時間（例えば数分程度）とさ
れる。このステップＳ１６の判断が肯定されるとステッ
プＳ１７に進み、モータ４８が停止させられることによ
りガラス円筒３０の回転が停止させられ、その後ガラス
円筒３０を回転装置４０から取り外すことによりレジネ
ートペーストの塗布（工程２）が終了する。
装置１０３からの圧力空気の供給が停止されてレジネー
トペーストの吐出が停止され、更に、ステップＳ１３に
おいて、移動モータ１１８の回転が停止させられること
により、シリンダ部７０の移動が停止される。そして、
ステップＳ１４において、上下移動装置１１０によって
シリンダ部７０が上昇させられることにより、ニードル
１０１がガラス円筒３０の外周面から離隔させられる。
そして、ステップＳ１５において、シリンダ部７０の上
昇が終了したと判断されると、ステップＳ１６に進んで
レジネートペーストの塗布終了（ステップＳ１１の判断
が肯定されたとき）から所定時間経過したか否かが判断
される。この所定時間はガラス円筒３０の外周面に塗布
されたレジネートペーストの膜厚のばらつきを抑制する
ためのレベリングに十分な時間（例えば数分程度）とさ
れる。このステップＳ１６の判断が肯定されるとステッ
プＳ１７に進み、モータ４８が停止させられることによ
りガラス円筒３０の回転が停止させられ、その後ガラス
円筒３０を回転装置４０から取り外すことによりレジネ
ートペーストの塗布（工程２）が終了する。
【００５１】図１１は、上記のようにして作製された加
熱ローラ１０の表面の軸心方向の温度分布を測定した結
果を、抵抗発熱体層３４の膜厚が軸心方向に均一とされ
た加熱ローラと比較して示すものである。なお、表面温
度は 250Ｗ程度の電力を印加して１０秒経過後に例えば
熱電対によって測定した。図から明らかなように、本実
施例の加熱ローラ１０は、従来の加熱ローラに比較して
軸心方向の表面温度のばらつきが小さく、極めて良好な
温度分布が得られる。
熱ローラ１０の表面の軸心方向の温度分布を測定した結
果を、抵抗発熱体層３４の膜厚が軸心方向に均一とされ
た加熱ローラと比較して示すものである。なお、表面温
度は 250Ｗ程度の電力を印加して１０秒経過後に例えば
熱電対によって測定した。図から明らかなように、本実
施例の加熱ローラ１０は、従来の加熱ローラに比較して
軸心方向の表面温度のばらつきが小さく、極めて良好な
温度分布が得られる。
【００５２】ここで、本実施例によれば、回転工程に対
応するステップＳ２において、ガラス円筒３０がその軸
心回りに回転させられている状態で、吐出工程に対応す
るステップＳ８において、そのガラス円筒３０の外周面
にニードル１０１を通してレジネートペーストが吐出さ
れると共に、移動工程に対応するステップＳ６、Ｓ９、
Ｓ１０において、シリンダ部７０がガラス円筒３０の軸
心方向に平行な方向に、前記図９に示されるようにその
軸心方向の位置に関連して決定される速度で移動させら
れる。このとき、その移動速度の変化の範囲は前述のよ
うに連続的なレジネートペーストの塗布膜が形成される
範囲とされる。すなわち、本実施例において制御装置１
２５は、シリンダ部７０を、連続的な塗布膜が形成され
る範囲内において、ガラス円筒３０の軸心方向の相対位
置に関連して決定される速度で相対移動させる。
応するステップＳ２において、ガラス円筒３０がその軸
心回りに回転させられている状態で、吐出工程に対応す
るステップＳ８において、そのガラス円筒３０の外周面
にニードル１０１を通してレジネートペーストが吐出さ
れると共に、移動工程に対応するステップＳ６、Ｓ９、
Ｓ１０において、シリンダ部７０がガラス円筒３０の軸
心方向に平行な方向に、前記図９に示されるようにその
軸心方向の位置に関連して決定される速度で移動させら
れる。このとき、その移動速度の変化の範囲は前述のよ
うに連続的なレジネートペーストの塗布膜が形成される
範囲とされる。すなわち、本実施例において制御装置１
２５は、シリンダ部７０を、連続的な塗布膜が形成され
る範囲内において、ガラス円筒３０の軸心方向の相対位
置に関連して決定される速度で相対移動させる。
【００５３】そのため、ニードル１０１は、図１０に示
されるように、レジネートペーストを吐出しながらガラ
ス円筒３０の外周面上を螺旋状に移動させられて、その
外周面上に軸心方向に連続的な塗布膜を形成するが、前
記相対移動の速度が変化させられるとその螺旋のピッチ
が変化して軸心方向の単位長さ当たりの吐出量が変化す
ることから、その塗布膜の厚みはその相対移動の速度変
化に従って変化させられ、前述のように軸心方向の両端
部で薄く、中間部で厚くされる。このとき、速度変化の
前後において塗布されたレジネートペーストは、未だ流
動性を失っていないことからその前後の塗布膜の厚みの
差が小さくなる方向に流動し、塗布膜の厚みは、連続的
に変化することとなる。
されるように、レジネートペーストを吐出しながらガラ
ス円筒３０の外周面上を螺旋状に移動させられて、その
外周面上に軸心方向に連続的な塗布膜を形成するが、前
記相対移動の速度が変化させられるとその螺旋のピッチ
が変化して軸心方向の単位長さ当たりの吐出量が変化す
ることから、その塗布膜の厚みはその相対移動の速度変
化に従って変化させられ、前述のように軸心方向の両端
部で薄く、中間部で厚くされる。このとき、速度変化の
前後において塗布されたレジネートペーストは、未だ流
動性を失っていないことからその前後の塗布膜の厚みの
差が小さくなる方向に流動し、塗布膜の厚みは、連続的
に変化することとなる。
【００５４】上記により、レジネートペーストの塗布膜
から生成されてガラス円筒３０の外周面上に設けられる
抵抗発熱体層３４の膜厚は連続的に変化させられること
となって、膜厚を変化させることによって軸心方向に所
望の抵抗値分布を有する抵抗発熱体層３４を形成する場
合にも、抵抗発熱体層３４を部分的に積層形成した従来
の加熱ローラのような、膜厚の異なる境界部における段
差は形成されない。したがって、本実施例によれば、所
望の抵抗値分布を有する抵抗発熱体層３４を形成した場
合にも、均一な押圧力が得られる加熱ローラ１０を製造
することができるのである。
から生成されてガラス円筒３０の外周面上に設けられる
抵抗発熱体層３４の膜厚は連続的に変化させられること
となって、膜厚を変化させることによって軸心方向に所
望の抵抗値分布を有する抵抗発熱体層３４を形成する場
合にも、抵抗発熱体層３４を部分的に積層形成した従来
の加熱ローラのような、膜厚の異なる境界部における段
差は形成されない。したがって、本実施例によれば、所
望の抵抗値分布を有する抵抗発熱体層３４を形成した場
合にも、均一な押圧力が得られる加熱ローラ１０を製造
することができるのである。
【００５５】また、本実施例によれば、回転装置４０に
よってガラス円筒３０が保持され且つ軸心回りに回転さ
せられている状態で、上下移動装置１１０の作動によっ
てペースト吐出部６８のニードル１０１の先端部がその
外周面に押圧されると共に、移動モータ１１８の作動に
よってガラス円筒３０の軸心方向と平行な方向に移動さ
せられ、その外周面上にニードル１０１を通してレジネ
ートペーストが吐出される。これにより、ニードル１０
１は、レジネートペーストをガラス円筒３０の外周面上
に吐出しながら、その外周面上で螺旋状に移動させられ
て、ガラス円筒３０の外周面にレジネートペーストが塗
布される。そのため、ガラス円筒３０の外周面上には、
図１０に示されるようにレジネートペースト１２６が重
なりながら螺旋状に塗布され、周方向にも連続的な塗布
膜が形成される。したがって、加熱ローラ１０の表面に
形成される抵抗発熱体層３４が周方向にも連続的に形成
され、周方向に均一な温度分布が得られる。
よってガラス円筒３０が保持され且つ軸心回りに回転さ
せられている状態で、上下移動装置１１０の作動によっ
てペースト吐出部６８のニードル１０１の先端部がその
外周面に押圧されると共に、移動モータ１１８の作動に
よってガラス円筒３０の軸心方向と平行な方向に移動さ
せられ、その外周面上にニードル１０１を通してレジネ
ートペーストが吐出される。これにより、ニードル１０
１は、レジネートペーストをガラス円筒３０の外周面上
に吐出しながら、その外周面上で螺旋状に移動させられ
て、ガラス円筒３０の外周面にレジネートペーストが塗
布される。そのため、ガラス円筒３０の外周面上には、
図１０に示されるようにレジネートペースト１２６が重
なりながら螺旋状に塗布され、周方向にも連続的な塗布
膜が形成される。したがって、加熱ローラ１０の表面に
形成される抵抗発熱体層３４が周方向にも連続的に形成
され、周方向に均一な温度分布が得られる。
【００５６】しかも、ペースト吐出部６８のニードル１
０１は、曲げ弾性を有すると共に、水平面に対して所定
角度θ2 傾斜した状態で、その先端部がガラス円筒３０
の軸心の鉛直上に位置するようにその外周面に押圧され
るため、ガラス円筒３０の外径ばらつきや反り、または
固定状態の変化等によってその接触点が上下してもニー
ドル１０１の曲げ弾性によって追従でき、塗布角度や押
圧力等の塗布条件が殆ど変化しない。そのため、軸心方
向の単位長さ当たりのレジネートペーストの塗布量はシ
リンダ部７０の移動速度のみで決定されることとなり、
所望の厚さすなわち抵抗値分布の抵抗発熱体層３４が得
られて、一層均一な温度分布を得ることができる。
０１は、曲げ弾性を有すると共に、水平面に対して所定
角度θ2 傾斜した状態で、その先端部がガラス円筒３０
の軸心の鉛直上に位置するようにその外周面に押圧され
るため、ガラス円筒３０の外径ばらつきや反り、または
固定状態の変化等によってその接触点が上下してもニー
ドル１０１の曲げ弾性によって追従でき、塗布角度や押
圧力等の塗布条件が殆ど変化しない。そのため、軸心方
向の単位長さ当たりのレジネートペーストの塗布量はシ
リンダ部７０の移動速度のみで決定されることとなり、
所望の厚さすなわち抵抗値分布の抵抗発熱体層３４が得
られて、一層均一な温度分布を得ることができる。
【００５７】また、レジネートペースト１２６が塗布さ
れた後に数分程度の所定時間レベリング工程が実行され
るため、塗布時および重力による膜厚のばらつきが抑制
される。
れた後に数分程度の所定時間レベリング工程が実行され
るため、塗布時および重力による膜厚のばらつきが抑制
される。
【００５８】なお、本実施例においては、抵抗発熱体層
３４がレジネートペーストを塗布・乾燥・焼成すること
により形成されているため、良好な表面粗さを有すると
共に使用時に熱応力による断線が生じ難い。すなわち、
レジネートは、液状またはペースト状であって、金属が
有機物と化学的に結合できる程度に極めて微細になって
いるため、焼成後に良好な表面粗さと薄い緻密な金属組
織が得られる。また、レジネート膜から得られた抵抗発
熱体層３４は、金属が原子レベルで結合しているため、
使用時の熱応力による断線が生じ難く、前記のように薄
い膜厚で使用することが可能である。なお、従来のよう
に厚膜ペーストを用いて形成した場合は抵抗発熱体層の
金属はガラス成分によって結合されることにより粒子レ
ベルで互いに接触しているだけであるため、熱応力に対
する抵抗力が低く、数μm 以下の膜厚にすることが困難
である。
３４がレジネートペーストを塗布・乾燥・焼成すること
により形成されているため、良好な表面粗さを有すると
共に使用時に熱応力による断線が生じ難い。すなわち、
レジネートは、液状またはペースト状であって、金属が
有機物と化学的に結合できる程度に極めて微細になって
いるため、焼成後に良好な表面粗さと薄い緻密な金属組
織が得られる。また、レジネート膜から得られた抵抗発
熱体層３４は、金属が原子レベルで結合しているため、
使用時の熱応力による断線が生じ難く、前記のように薄
い膜厚で使用することが可能である。なお、従来のよう
に厚膜ペーストを用いて形成した場合は抵抗発熱体層の
金属はガラス成分によって結合されることにより粒子レ
ベルで互いに接触しているだけであるため、熱応力に対
する抵抗力が低く、数μm 以下の膜厚にすることが困難
である。
【００５９】次に、本発明の他の実施例を説明する。な
お、以下の説明において前述の実施例と共通する部分は
同一の符号を付して説明を省略する。
お、以下の説明において前述の実施例と共通する部分は
同一の符号を付して説明を省略する。
【００６０】図１２は、前述の実施例においてシリンダ
部７０の移動速度を段階的に変化させた場合のそのシリ
ンダ部７０の位置と移動速度との関係を示す図である。
例えば、移動モータ１１８の回転数を段階的にしか変更
できない場合には、本図のようにシリンダ部７０の移動
速度を変化させてレジネートペーストを塗布しても良
い。本実施例においては、シリンダ部７０の移動速度
は、位置Ｘ0 〜Ｘ1 の範囲では0.25m/min 程度、位置Ｘ
1 〜Ｘ2 の範囲では0.20m/min 程度、位置Ｘ2 〜Ｘ 3 の
範囲では0.14m/min 程度というように、３段階に速度が
変化させられている。なお、本実施例においては、図か
ら明らかなように前述のような位置センサ１２８を設け
る場合には６か所に必要となる。
部７０の移動速度を段階的に変化させた場合のそのシリ
ンダ部７０の位置と移動速度との関係を示す図である。
例えば、移動モータ１１８の回転数を段階的にしか変更
できない場合には、本図のようにシリンダ部７０の移動
速度を変化させてレジネートペーストを塗布しても良
い。本実施例においては、シリンダ部７０の移動速度
は、位置Ｘ0 〜Ｘ1 の範囲では0.25m/min 程度、位置Ｘ
1 〜Ｘ2 の範囲では0.20m/min 程度、位置Ｘ2 〜Ｘ 3 の
範囲では0.14m/min 程度というように、３段階に速度が
変化させられている。なお、本実施例においては、図か
ら明らかなように前述のような位置センサ１２８を設け
る場合には６か所に必要となる。
【００６１】上記のようにしてレジネートペーストを塗
布して抵抗発熱体層３４を形成した場合の表面温度分布
を図１３に示す。測定条件は前述の実施例と同様であ
る。図から明らかなように、本実施例においても、軸心
方向の温度分布は十分均一となる。すなわち、移動モー
タ１１８は必ずしも回転数を連続的に変化できるサーボ
モータ等が用いられなくとも良く、段階的にしか回転数
を変化させられないモータが用いられる場合にも、十分
な効果が得られるのである。
布して抵抗発熱体層３４を形成した場合の表面温度分布
を図１３に示す。測定条件は前述の実施例と同様であ
る。図から明らかなように、本実施例においても、軸心
方向の温度分布は十分均一となる。すなわち、移動モー
タ１１８は必ずしも回転数を連続的に変化できるサーボ
モータ等が用いられなくとも良く、段階的にしか回転数
を変化させられないモータが用いられる場合にも、十分
な効果が得られるのである。
【００６２】なお、上述の実施例においては、シリンダ
部７０をガラス円筒３０の軸心方向に沿って一端部から
他端部に向かって速度を変化させつつ移動させて、一回
のレジネートペーストの塗布により所望の抵抗値分布が
得られるように厚みが制御された抵抗発熱体層３４を得
たが、例えば図１４に示す工程に従って抵抗発熱体層３
４を積層形成することも可能である。すなわち、工程２
〜４において抵抗発熱体層３４の第１層を比較的薄い
（例えば 0.8μm 程度）均一な厚みに形成した後、抵抗
値測定工程に対応する工程４−２においてその第１層の
軸心方向の抵抗値分布を測定する。そして、工程２′〜
４′において抵抗発熱体層３４の第２層を第１層の抵抗
値分布に応じたパターンで形成し、その後、前述の図３
の実施例と同様に工程５〜８を行うことによって、同様
な加熱ローラ１０が得られる。すなわち、本実施例にお
いては、工程４、４′が加熱工程に対応する。
部７０をガラス円筒３０の軸心方向に沿って一端部から
他端部に向かって速度を変化させつつ移動させて、一回
のレジネートペーストの塗布により所望の抵抗値分布が
得られるように厚みが制御された抵抗発熱体層３４を得
たが、例えば図１４に示す工程に従って抵抗発熱体層３
４を積層形成することも可能である。すなわち、工程２
〜４において抵抗発熱体層３４の第１層を比較的薄い
（例えば 0.8μm 程度）均一な厚みに形成した後、抵抗
値測定工程に対応する工程４−２においてその第１層の
軸心方向の抵抗値分布を測定する。そして、工程２′〜
４′において抵抗発熱体層３４の第２層を第１層の抵抗
値分布に応じたパターンで形成し、その後、前述の図３
の実施例と同様に工程５〜８を行うことによって、同様
な加熱ローラ１０が得られる。すなわち、本実施例にお
いては、工程４、４′が加熱工程に対応する。
【００６３】上記工程２′におけるレジネートペースト
の塗布は、前記図７に示されるフローチャートに従って
行われるが、一方、工程２におけるレジネートペースト
の塗布は、その図７においてステップＳ９およびＳ１０
が設けられていないフローチャートに従って行われる。
すなわち、工程２′においては、前述の実施例と同様シ
リンダ部７０の移動速度がガラス円筒３０の軸心方向の
位置に関連して変化させられるが、工程２においては軸
心方向の全長に亘って一定の速度とされる。本実施例に
おいては、工程２のステップＳ６が第１移動工程に、工
程２′のステップＳ６、Ｓ９、Ｓ１０が第２移動工程に
それぞれ対応する。
の塗布は、前記図７に示されるフローチャートに従って
行われるが、一方、工程２におけるレジネートペースト
の塗布は、その図７においてステップＳ９およびＳ１０
が設けられていないフローチャートに従って行われる。
すなわち、工程２′においては、前述の実施例と同様シ
リンダ部７０の移動速度がガラス円筒３０の軸心方向の
位置に関連して変化させられるが、工程２においては軸
心方向の全長に亘って一定の速度とされる。本実施例に
おいては、工程２のステップＳ６が第１移動工程に、工
程２′のステップＳ６、Ｓ９、Ｓ１０が第２移動工程に
それぞれ対応する。
【００６４】上記工程２〜４においては、レジネートペ
ーストを比較的薄く均一な厚みで塗布して、乾燥・加熱
処理することにより、薄膜金属すなわち抵抗発熱体層３
４の第１層が生成されるが、工程４−２においては、そ
の第１層の抵抗値分布が例えば４端子法を用いた図示し
ない抵抗測定器により測定される。すなわち、例えば図
１５に示されるように、抵抗測定器のプローブ１４１ａ
〜１４１ｄをガラス円筒３０の軸心方向に沿って配置し
て、外側に位置するプローブ１４１ａ，ｄ（電流プロー
ブ）間に所定の電流を通電し、内側に位置するプローブ
１４１ｂ，ｃ（測定プローブ）で電流値を検出する操作
を軸心方向に所定の間隔で繰り返すことにより抵抗値分
布を測定した。なお、電流プローブ１４１ａ，ｄの間隔
Ｌ1 は例えば30.5mm程度とし、測定プローブ１４１ｂ，
ｃの間隔Ｌ2 は例えば28.5mm程度とした。この測定プロ
ーブ１４１ｂ，ｃの間隔は、ガラス円筒３０の周方向に
流れる電流の影響を小さくして測定精度を高めるため
に、ガラス円筒３０の外周長（本実施例においては、外
径が12mm程度であることから37mm程度）よりも十分に短
くなるように設定されたものであり、軸心方向の測定間
隔は測定プローブ１４１ｂ，ｃの間隔と同じ28.5mmとし
た。
ーストを比較的薄く均一な厚みで塗布して、乾燥・加熱
処理することにより、薄膜金属すなわち抵抗発熱体層３
４の第１層が生成されるが、工程４−２においては、そ
の第１層の抵抗値分布が例えば４端子法を用いた図示し
ない抵抗測定器により測定される。すなわち、例えば図
１５に示されるように、抵抗測定器のプローブ１４１ａ
〜１４１ｄをガラス円筒３０の軸心方向に沿って配置し
て、外側に位置するプローブ１４１ａ，ｄ（電流プロー
ブ）間に所定の電流を通電し、内側に位置するプローブ
１４１ｂ，ｃ（測定プローブ）で電流値を検出する操作
を軸心方向に所定の間隔で繰り返すことにより抵抗値分
布を測定した。なお、電流プローブ１４１ａ，ｄの間隔
Ｌ1 は例えば30.5mm程度とし、測定プローブ１４１ｂ，
ｃの間隔Ｌ2 は例えば28.5mm程度とした。この測定プロ
ーブ１４１ｂ，ｃの間隔は、ガラス円筒３０の周方向に
流れる電流の影響を小さくして測定精度を高めるため
に、ガラス円筒３０の外周長（本実施例においては、外
径が12mm程度であることから37mm程度）よりも十分に短
くなるように設定されたものであり、軸心方向の測定間
隔は測定プローブ１４１ｂ，ｃの間隔と同じ28.5mmとし
た。
【００６５】また、上記工程２′においては、例えば、
図９に示されるような移動速度パターンでシリンダ部７
０をガラス円筒３０に沿って移動させる。このとき、移
動速度は上述のように測定された抵抗値分布に基づき、
抵抗値の低い部分では速く反対に高い部分では遅くなる
ように、シリンダ部７０の軸心方向の位置に対応して決
定されるが、例えば、位置Ｘ0 およびＸ3 においては例
えば1.75m/min 程度に、位置Ｘ1 〜Ｘ2 においては例え
ば0.90m/min 程度と、何れも抵抗発熱体層３４を１層か
ら形成する場合よりも速くされる。このため、ニードル
１０１の先端が描く螺旋のピッチは、図１６に工程２′
によりレジネートペーストが塗布された加熱ローラ１４
２を模式的に示すように、位置Ｘ0 およびＸ3 近傍にお
いては比較的大きく（例えば 9.8mm程度）に、位置Ｘ1
〜Ｘ2 においては比較的小さく（例えば 5.0mm程度）に
なり、第２層１４４のレジネートペーストは軸心方向に
隙間が生じるように塗布されて、抵抗発熱体層３４の表
面には軸心方向に微小な凹凸が形成される。なお、図に
おいて１４６は抵抗発熱体層３４の第１層である。
図９に示されるような移動速度パターンでシリンダ部７
０をガラス円筒３０に沿って移動させる。このとき、移
動速度は上述のように測定された抵抗値分布に基づき、
抵抗値の低い部分では速く反対に高い部分では遅くなる
ように、シリンダ部７０の軸心方向の位置に対応して決
定されるが、例えば、位置Ｘ0 およびＸ3 においては例
えば1.75m/min 程度に、位置Ｘ1 〜Ｘ2 においては例え
ば0.90m/min 程度と、何れも抵抗発熱体層３４を１層か
ら形成する場合よりも速くされる。このため、ニードル
１０１の先端が描く螺旋のピッチは、図１６に工程２′
によりレジネートペーストが塗布された加熱ローラ１４
２を模式的に示すように、位置Ｘ0 およびＸ3 近傍にお
いては比較的大きく（例えば 9.8mm程度）に、位置Ｘ1
〜Ｘ2 においては比較的小さく（例えば 5.0mm程度）に
なり、第２層１４４のレジネートペーストは軸心方向に
隙間が生じるように塗布されて、抵抗発熱体層３４の表
面には軸心方向に微小な凹凸が形成される。なお、図に
おいて１４６は抵抗発熱体層３４の第１層である。
【００６６】上記のようにして抵抗発熱体層３４を作製
された加熱ローラ１０の表面温度分布を、前述の実施例
と同様にして測定した結果を図１７に示す。本実施例に
おいては、抵抗発熱体層３４に微小な凹凸が形成されて
膜厚が軸心方向に不均一となるため、図に示されるよう
に温度分布にもその膜厚の凹凸に倣って微小な凹凸が生
じることとなる。但し、この程度の温度の凹凸は例えば
静電複写機等に用いられる場合には特に問題にならない
ため、上記のように抵抗発熱体層３４を積層形成しても
良いのである。
された加熱ローラ１０の表面温度分布を、前述の実施例
と同様にして測定した結果を図１７に示す。本実施例に
おいては、抵抗発熱体層３４に微小な凹凸が形成されて
膜厚が軸心方向に不均一となるため、図に示されるよう
に温度分布にもその膜厚の凹凸に倣って微小な凹凸が生
じることとなる。但し、この程度の温度の凹凸は例えば
静電複写機等に用いられる場合には特に問題にならない
ため、上記のように抵抗発熱体層３４を積層形成しても
良いのである。
【００６７】本実施例によれば、回転工程に対応するス
テップＳ２においてガラス円筒３０がその軸心回りに回
転させられている状態で、吐出工程に対応するステップ
Ｓ８においてそのガラス円筒３０の外周面に、ニードル
１０１を通してレジネートペーストすなわち金属有機化
合物を含む抵抗体ペーストが吐出されると共に、第１移
動工程に対応する工程２のステップＳ６においてシリン
ダ部７０がガラス円筒３０の軸心方向に平行な方向に所
定の速度で相対移動させられてその外周面に連続的なレ
ジネートペーストの塗布膜が形成され、更に、第２移動
工程に対応する工程２′のステップＳ６、Ｓ９、Ｓ１０
において、その軸心方向の相対位置に関連して決定され
る速度で相対移動させられて上記塗布膜の上に更にレジ
ネートペーストが塗布され、加熱工程に対応する工程
４、４′において、レジネートペーストから薄膜金属か
ら成る抵抗発熱体層３４が生成される。
テップＳ２においてガラス円筒３０がその軸心回りに回
転させられている状態で、吐出工程に対応するステップ
Ｓ８においてそのガラス円筒３０の外周面に、ニードル
１０１を通してレジネートペーストすなわち金属有機化
合物を含む抵抗体ペーストが吐出されると共に、第１移
動工程に対応する工程２のステップＳ６においてシリン
ダ部７０がガラス円筒３０の軸心方向に平行な方向に所
定の速度で相対移動させられてその外周面に連続的なレ
ジネートペーストの塗布膜が形成され、更に、第２移動
工程に対応する工程２′のステップＳ６、Ｓ９、Ｓ１０
において、その軸心方向の相対位置に関連して決定され
る速度で相対移動させられて上記塗布膜の上に更にレジ
ネートペーストが塗布され、加熱工程に対応する工程
４、４′において、レジネートペーストから薄膜金属か
ら成る抵抗発熱体層３４が生成される。
【００６８】そのため、その第２移動工程においてレジ
ネートペーストが塗布された部分は抵抗発熱体層３４の
膜厚が厚くなって抵抗値が低くなるが、前記相対移動の
速度が変化すると螺旋のピッチが変化するため、その相
対移動速度の変化に従って軸心方向に抵抗値分布が形成
される。このとき、抵抗発熱体層３４は金属有機化合物
を含むレジネートペーストから生成された薄膜金属から
成るため、第２移動工程においてレジネートペーストを
塗布された部分も比較的薄い膜厚となる。
ネートペーストが塗布された部分は抵抗発熱体層３４の
膜厚が厚くなって抵抗値が低くなるが、前記相対移動の
速度が変化すると螺旋のピッチが変化するため、その相
対移動速度の変化に従って軸心方向に抵抗値分布が形成
される。このとき、抵抗発熱体層３４は金属有機化合物
を含むレジネートペーストから生成された薄膜金属から
成るため、第２移動工程においてレジネートペーストを
塗布された部分も比較的薄い膜厚となる。
【００６９】上記により、第２移動工程における相対移
動速度をガラス円筒３０の軸心方向の相対位置に対応し
て変化させることにより、所望の抵抗値分布を得ること
ができる一方、その第２移動工程において部分的にレジ
ネートペーストが塗布されてもその塗布部分に段差は殆
ど発生しないこととなる。したがって、本実施例によれ
ば、所望の抵抗値分布を有する抵抗発熱体層３４を形成
した場合にも、均一な押圧力が得られる加熱ローラ１０
を製造することができるのである。しかも、このように
すれば、抵抗発熱体層３４は少なくとも部分的には積層
形成されることとなるため、全体が１層から構成される
場合に比較して欠陥の発生が抑制されることになる。
動速度をガラス円筒３０の軸心方向の相対位置に対応し
て変化させることにより、所望の抵抗値分布を得ること
ができる一方、その第２移動工程において部分的にレジ
ネートペーストが塗布されてもその塗布部分に段差は殆
ど発生しないこととなる。したがって、本実施例によれ
ば、所望の抵抗値分布を有する抵抗発熱体層３４を形成
した場合にも、均一な押圧力が得られる加熱ローラ１０
を製造することができるのである。しかも、このように
すれば、抵抗発熱体層３４は少なくとも部分的には積層
形成されることとなるため、全体が１層から構成される
場合に比較して欠陥の発生が抑制されることになる。
【００７０】また、本実施例によれば、工程４−２（抵
抗値測定工程）において抵抗発熱体層３４の第１層１４
６の軸心方向の抵抗値分布が測定されると共に、工程
２′におけるステップＳ６、Ｓ９、Ｓ１０（第２移動工
程）においては、その抵抗値分布にも基づいてシリンダ
部７０の移動速度が制御されるため、第１層１４６の軸
心方向の抵抗値にばらつきが生じた場合にその抵抗値分
布を修正することが可能である。なお、その場合には、
図９に示される移動速度パターンに代えて、第１層１４
６の抵抗値が低い部分で比較的速く、反対に抵抗値が高
い部分で比較的遅くなるような移動速度パターンが採ら
れる。
抗値測定工程）において抵抗発熱体層３４の第１層１４
６の軸心方向の抵抗値分布が測定されると共に、工程
２′におけるステップＳ６、Ｓ９、Ｓ１０（第２移動工
程）においては、その抵抗値分布にも基づいてシリンダ
部７０の移動速度が制御されるため、第１層１４６の軸
心方向の抵抗値にばらつきが生じた場合にその抵抗値分
布を修正することが可能である。なお、その場合には、
図９に示される移動速度パターンに代えて、第１層１４
６の抵抗値が低い部分で比較的速く、反対に抵抗値が高
い部分で比較的遅くなるような移動速度パターンが採ら
れる。
【００７１】図１８は、抵抗発熱体層３４が積層形成さ
れた前記加熱ローラ１４２を作製する場合の他の製造方
法を説明するための図であって、前記工程２、２′にお
いてレジネートペーストを塗布する場合のシリンダ部７
０の移動速度を示すものである。図において、横軸はガ
ラス円筒３０の軸心方向の位置を表し、縦軸の移動速度
は位置Ｘ0 からＸ3 に向かう方向を正としたものであ
る。本実施例においては、工程２において位置Ｘ0 から
Ｘ3 に向かってレジネートペーストの第１層１４６を塗
布した後、反対にその位置Ｘ3 からＸ0 に向かって第２
層１４４を塗布する。すなわち、前記図１４に示される
工程のうち、工程３、４、４−２は行われず、第１層１
４６が塗布された後、シリンダ部７０を反対方向に移動
させることにより直ちに第２層１４４が塗布される。
れた前記加熱ローラ１４２を作製する場合の他の製造方
法を説明するための図であって、前記工程２、２′にお
いてレジネートペーストを塗布する場合のシリンダ部７
０の移動速度を示すものである。図において、横軸はガ
ラス円筒３０の軸心方向の位置を表し、縦軸の移動速度
は位置Ｘ0 からＸ3 に向かう方向を正としたものであ
る。本実施例においては、工程２において位置Ｘ0 から
Ｘ3 に向かってレジネートペーストの第１層１４６を塗
布した後、反対にその位置Ｘ3 からＸ0 に向かって第２
層１４４を塗布する。すなわち、前記図１４に示される
工程のうち、工程３、４、４−２は行われず、第１層１
４６が塗布された後、シリンダ部７０を反対方向に移動
させることにより直ちに第２層１４４が塗布される。
【００７２】本実施例によれば、工程２（第１移動工
程）および工程２′（第２移動工程）においてシリンダ
部７０がガラス円筒３０の軸心方向に平行な方向に往復
移動させられることとなって、移動方向が同一の方向と
される場合に比較してシリンダ部７０のムダな移動が生
じず、レジネートペーストの塗布に必要とされる時間が
短縮される。
程）および工程２′（第２移動工程）においてシリンダ
部７０がガラス円筒３０の軸心方向に平行な方向に往復
移動させられることとなって、移動方向が同一の方向と
される場合に比較してシリンダ部７０のムダな移動が生
じず、レジネートペーストの塗布に必要とされる時間が
短縮される。
【００７３】図１９は、図４および図５に示されるペー
スト塗布装置４２を２つ備えた膜形成装置１４８の構成
の要部を示す図であって、前記図６に対応する図であ
る。本実施例においては、回転制御回路１３０には２つ
のサーボモータドライバ１３６ａ，ｂが接続されてお
り、それらサーボモータドライバ１３６ａ，ｂにはそれ
ぞれサーボモータ１１８ａ，ｂが接続されている。これ
らサーボモータ１１８ａ，ｂは、２つのペースト塗布装
置４２，４２にそれぞれ備えられているものであって、
移動部材１２２ａ，ｂをガラス円筒３０の軸心方向に沿
って図４の左右方向に移動させるためのネジ軸１３４
ａ，ｂをそれぞれ備えている。移動部材１２２ａ，ｂは
それぞれシリンダ部７０およびペースト吐出部６８等を
備えており、何れも同一のガラス円筒３０にレジネート
ペーストを塗布する。
スト塗布装置４２を２つ備えた膜形成装置１４８の構成
の要部を示す図であって、前記図６に対応する図であ
る。本実施例においては、回転制御回路１３０には２つ
のサーボモータドライバ１３６ａ，ｂが接続されてお
り、それらサーボモータドライバ１３６ａ，ｂにはそれ
ぞれサーボモータ１１８ａ，ｂが接続されている。これ
らサーボモータ１１８ａ，ｂは、２つのペースト塗布装
置４２，４２にそれぞれ備えられているものであって、
移動部材１２２ａ，ｂをガラス円筒３０の軸心方向に沿
って図４の左右方向に移動させるためのネジ軸１３４
ａ，ｂをそれぞれ備えている。移動部材１２２ａ，ｂは
それぞれシリンダ部７０およびペースト吐出部６８等を
備えており、何れも同一のガラス円筒３０にレジネート
ペーストを塗布する。
【００７４】上記膜形成装置１４８は、専ら抵抗発熱体
層３４が積層形成された加熱ローラ１４２を作製するた
めのものであり、移動部材１２２ａ，ｂ（すなわちそれ
ぞれに備えられたシリンダ部７０およびペースト吐出部
６８等）は、例えば、図２０に示されるパターンで移動
させられる。ガラス円筒３０の外周面にレジネートペー
ストを塗布するに際しては、一方の移動部材１２２ａを
移動させてこれに備えられているペースト吐出部６８に
よって抵抗発熱体層３４の第１層１４６を塗布形成する
一方、他方の移動部材１２２ｂを移動部材１２２ａより
も所定時間遅らせて移動させ、これに備えられているペ
ースト吐出部６８によって抵抗発熱体層３４の第２層１
４４を塗布形成する。
層３４が積層形成された加熱ローラ１４２を作製するた
めのものであり、移動部材１２２ａ，ｂ（すなわちそれ
ぞれに備えられたシリンダ部７０およびペースト吐出部
６８等）は、例えば、図２０に示されるパターンで移動
させられる。ガラス円筒３０の外周面にレジネートペー
ストを塗布するに際しては、一方の移動部材１２２ａを
移動させてこれに備えられているペースト吐出部６８に
よって抵抗発熱体層３４の第１層１４６を塗布形成する
一方、他方の移動部材１２２ｂを移動部材１２２ａより
も所定時間遅らせて移動させ、これに備えられているペ
ースト吐出部６８によって抵抗発熱体層３４の第２層１
４４を塗布形成する。
【００７５】すなわち、一方の移動部材１２２ａは、図
の上段に示されるＡのパターン（すなわち例えば0.02m/
min 程度の一定速度）で移動させられ、他方の移動部材
１２２ｂは、図の下段に示されるＢのパターン（すなわ
ち例えば位置Ｘ0 , Ｘ3 においては0.25m/min 程度の速
度、位置Ｘ1 〜Ｘ2 においては例えば0.14m/min 程度の
速度、位置Ｘ0 からＸ1 に向かうに従って次第に遅くな
り、位置Ｘ2 からＸ3に向かうに従って次第に速くなる
移動速度）で移動させられる。したがって、本実施例に
よれば、一方の移動部材１２２ａによって第１移動工程
（すなわち、図１４の工程２）が実行され、他方の移動
部材１２２ｂによって第２移動工程（すなわち図１４の
工程２′）が実行される。なお、上記説明から明らかな
ように、本実施例においても、図１４における工程３，
４，４−２は実行されない。
の上段に示されるＡのパターン（すなわち例えば0.02m/
min 程度の一定速度）で移動させられ、他方の移動部材
１２２ｂは、図の下段に示されるＢのパターン（すなわ
ち例えば位置Ｘ0 , Ｘ3 においては0.25m/min 程度の速
度、位置Ｘ1 〜Ｘ2 においては例えば0.14m/min 程度の
速度、位置Ｘ0 からＸ1 に向かうに従って次第に遅くな
り、位置Ｘ2 からＸ3に向かうに従って次第に速くなる
移動速度）で移動させられる。したがって、本実施例に
よれば、一方の移動部材１２２ａによって第１移動工程
（すなわち、図１４の工程２）が実行され、他方の移動
部材１２２ｂによって第２移動工程（すなわち図１４の
工程２′）が実行される。なお、上記説明から明らかな
ように、本実施例においても、図１４における工程３，
４，４−２は実行されない。
【００７６】なお、図２０のパターンＡ，Ｂは、時間軸
が共通となるように描かれたものであり、移動部材１２
２ｂの方が移動速度が速いことから、移動部材１２２ａ
に大きく遅れて移動開始させられる一方、移動部材１２
２ａに僅かに遅れて移動を終了する。このため、本実施
例によれば、移動部材１２２ａの移動（すなわち第１移
動工程）が開始した後所定の時間間隔をおいて、その移
動部材１２２ａの移動が終了する前に移動部材１２２ｂ
の移動（すなわち第２移動工程）が開始されることとな
り、レジネートペーストの塗布に必要とされる時間が一
層短縮される。
が共通となるように描かれたものであり、移動部材１２
２ｂの方が移動速度が速いことから、移動部材１２２ａ
に大きく遅れて移動開始させられる一方、移動部材１２
２ａに僅かに遅れて移動を終了する。このため、本実施
例によれば、移動部材１２２ａの移動（すなわち第１移
動工程）が開始した後所定の時間間隔をおいて、その移
動部材１２２ａの移動が終了する前に移動部材１２２ｂ
の移動（すなわち第２移動工程）が開始されることとな
り、レジネートペーストの塗布に必要とされる時間が一
層短縮される。
【００７７】以上、本発明の一実施例を図面を参照して
詳細に説明したが、本発明は更に別の態様でも実施され
る。
詳細に説明したが、本発明は更に別の態様でも実施され
る。
【００７８】例えば、前述の実施例においては、抵抗発
熱体層３４をレジネートペーストから生成される薄膜金
属によって形成したが、抵抗発熱体層３４を軸心方向に
連続するように塗布して形成する場合は、シリンダ７０
内に厚膜抵抗ペーストを充填して同様に塗布することに
より、抵抗発熱体層３４を厚膜抵抗体から構成しても良
い。また、レジネートペーストを用いる場合には、添加
金属成分の一部を金属酸化物パウダ或いは金属パウダの
形態で混合しても良い。
熱体層３４をレジネートペーストから生成される薄膜金
属によって形成したが、抵抗発熱体層３４を軸心方向に
連続するように塗布して形成する場合は、シリンダ７０
内に厚膜抵抗ペーストを充填して同様に塗布することに
より、抵抗発熱体層３４を厚膜抵抗体から構成しても良
い。また、レジネートペーストを用いる場合には、添加
金属成分の一部を金属酸化物パウダ或いは金属パウダの
形態で混合しても良い。
【００７９】また、電極３２は、前述の実施例の膜形成
装置３８によって形成しても良いが、従来と同様な曲面
印刷機や転写法等によって形成してもよい。電極３２
は、部分的に厚くされていても特に問題とならないた
め、必ずしも膜形成装置３８によって形成しなくても良
いのである。
装置３８によって形成しても良いが、従来と同様な曲面
印刷機や転写法等によって形成してもよい。電極３２
は、部分的に厚くされていても特に問題とならないた
め、必ずしも膜形成装置３８によって形成しなくても良
いのである。
【００８０】また、シリンダ部７０の移動速度は、実施
例で示した速度の他、形成する抵抗発熱体層３４の軸心
方向の抵抗値分布やレジネートペーストの粘性等に応じ
て適宜設定される。例えば、比較的粘性の低いレジネー
トペーストが用いられる場合には、連続的な塗布膜を形
成するために移動速度を比較的遅くすることが望まし
い。また、抵抗発熱体層３４を積層形成する場合におい
て、実施例では第２層１４４が軸心方向に所定の間隔を
もって形成されるように移動速度が選択されていたが、
連続的な膜が形成されるように比較的遅い速度が選択さ
れても良い。なお、この場合の移動速度は、所望の抵抗
値分布を得るために第１層１４６の抵抗値も考慮して決
定される。
例で示した速度の他、形成する抵抗発熱体層３４の軸心
方向の抵抗値分布やレジネートペーストの粘性等に応じ
て適宜設定される。例えば、比較的粘性の低いレジネー
トペーストが用いられる場合には、連続的な塗布膜を形
成するために移動速度を比較的遅くすることが望まし
い。また、抵抗発熱体層３４を積層形成する場合におい
て、実施例では第２層１４４が軸心方向に所定の間隔を
もって形成されるように移動速度が選択されていたが、
連続的な膜が形成されるように比較的遅い速度が選択さ
れても良い。なお、この場合の移動速度は、所望の抵抗
値分布を得るために第１層１４６の抵抗値も考慮して決
定される。
【００８１】また、実施例においては、圧力空気供給装
置１０３からシリンダ７８に供給される圧力空気の圧力
は 1.8kg／cm2 程度で一定とされていたが、例えば、シ
リンダ部７０の移動速度の変化に併せて圧力空気供給装
置１０３から供給される空気圧を変化させることにより
膜厚を制御しても良い。このようにすれば、一層広い範
囲で抵抗発熱体層３４の膜厚を制御することが可能であ
る。
置１０３からシリンダ７８に供給される圧力空気の圧力
は 1.8kg／cm2 程度で一定とされていたが、例えば、シ
リンダ部７０の移動速度の変化に併せて圧力空気供給装
置１０３から供給される空気圧を変化させることにより
膜厚を制御しても良い。このようにすれば、一層広い範
囲で抵抗発熱体層３４の膜厚を制御することが可能であ
る。
【００８２】また、前述の実施例においては、シリンダ
部７０をガラス円筒３０の軸心方向に沿って移動させた
が、反対にガラス円筒３０をその軸心方向に移動させつ
つレジネートペーストを塗布しても良い。すなわち、シ
リンダ部７０とガラス円筒３０は、ガラス円筒３０の軸
心方向に平行な方向に相対移動させられるならば何れが
移動させられても良い。なお、必ずしもシリンダ部７０
全体が相対移動させられなくとも良く、ニードル１０１
とガラス円筒３０とが相対移動させられれば充分であ
る。
部７０をガラス円筒３０の軸心方向に沿って移動させた
が、反対にガラス円筒３０をその軸心方向に移動させつ
つレジネートペーストを塗布しても良い。すなわち、シ
リンダ部７０とガラス円筒３０は、ガラス円筒３０の軸
心方向に平行な方向に相対移動させられるならば何れが
移動させられても良い。なお、必ずしもシリンダ部７０
全体が相対移動させられなくとも良く、ニードル１０１
とガラス円筒３０とが相対移動させられれば充分であ
る。
【００８３】また、相対位置検出装置は、実施例で示し
たようにシリンダ部７０の位置を検出する複数個の位置
センサ１２８をガラス円筒３０の軸心方向に沿って設け
る他に、例えば、移動モータ１１８の回転量から間接的
にシリンダ部７０の位置を検出するものであっても良
い。
たようにシリンダ部７０の位置を検出する複数個の位置
センサ１２８をガラス円筒３０の軸心方向に沿って設け
る他に、例えば、移動モータ１１８の回転量から間接的
にシリンダ部７０の位置を検出するものであっても良
い。
【００８４】また、吐出細管は、必ずしも実施例で示し
たニードル１０１のように曲げ弾性を備えた長いもので
なくとも良く、また、レジネートペーストを塗布するに
際してその先端がガラス円筒３０の外周面に押圧されな
くとも、その外周面に対して所定距離離隔した状態で螺
旋状に移動させられるように構成されても良い。
たニードル１０１のように曲げ弾性を備えた長いもので
なくとも良く、また、レジネートペーストを塗布するに
際してその先端がガラス円筒３０の外周面に押圧されな
くとも、その外周面に対して所定距離離隔した状態で螺
旋状に移動させられるように構成されても良い。
【００８５】また、実施例においては、本発明がトナー
定着用加熱ローラ１０，１４２の製造に適用された場合
を説明したが、本発明は、円筒状の外周面に抵抗発熱体
層が設けられてその外周面を用いて均等に押圧しつつ加
熱する種々の加熱ローラに適用され得る。
定着用加熱ローラ１０，１４２の製造に適用された場合
を説明したが、本発明は、円筒状の外周面に抵抗発熱体
層が設けられてその外周面を用いて均等に押圧しつつ加
熱する種々の加熱ローラに適用され得る。
【００８６】その他、一々例示はしないが、本発明はそ
の主旨を逸脱しない範囲で種々変更が加えられるもので
ある。
の主旨を逸脱しない範囲で種々変更が加えられるもので
ある。
【図１】本発明の一実施例の膜形成装置により製造され
た加熱ローラが用いられる複写機等のトナー定着部の構
造を模式的に示す図である。
た加熱ローラが用いられる複写機等のトナー定着部の構
造を模式的に示す図である。
【図２】図１の加熱ローラの構造を示す図である。
【図３】図１の加熱ローラの製造方法を示す工程流れ図
である。
である。
【図４】本発明の一実施例の膜形成装置の構造を示す図
である。
である。
【図５】図４の膜形成装置の右側面を示す図である。
【図６】図４の膜形成装置の制御構成を示す図である。
【図７】図４の膜形成装置の制御装置の作動を示すフロ
ーチャートである。
ーチャートである。
【図８】抵抗体ペースト塗布時のペースト吐出部、ニー
ドルとガラス円筒との位置関係を説明するための図であ
り、(a) はガラス円筒の軸心方向に垂直な方向から見た
状態を、(b) はガラス円筒の軸心方向に垂直な断面をそ
れぞれ示す図である。
ドルとガラス円筒との位置関係を説明するための図であ
り、(a) はガラス円筒の軸心方向に垂直な方向から見た
状態を、(b) はガラス円筒の軸心方向に垂直な断面をそ
れぞれ示す図である。
【図９】図４の膜形成装置を用いて図１の加熱ローラの
抵抗発熱体層を形成する場合のシリンダ部の移動速度パ
ターンを示す図である。
抵抗発熱体層を形成する場合のシリンダ部の移動速度パ
ターンを示す図である。
【図１０】ガラス円筒の外周面に抵抗体ペーストが塗布
される状態を説明する図である。
される状態を説明する図である。
【図１１】図１の加熱ローラの表面温度分布を従来の加
熱ローラを比較して示す図である。
熱ローラを比較して示す図である。
【図１２】図４の膜形成装置を用いて抵抗発熱体層を形
成する場合のシリンダ部の移動速度パターンの他の例を
示す図である。
成する場合のシリンダ部の移動速度パターンの他の例を
示す図である。
【図１３】図１２の移動速度パターンで抵抗発熱体層が
形成された加熱ローラの表面温度分布を示す図である。
形成された加熱ローラの表面温度分布を示す図である。
【図１４】加熱ローラの他の製造方法を示す工程流れ図
である。
である。
【図１５】抵抗値分布の測定方法を説明する図である。
【図１６】図４の膜形成装置により抵抗発熱体層が積層
形成された他の加熱ローラにおいて第２層の塗布パター
ンを説明する図である。
形成された他の加熱ローラにおいて第２層の塗布パター
ンを説明する図である。
【図１７】図１６の加熱ローラの表面温度分布を示す図
である。
である。
【図１８】図４の膜形成装置を用いて抵抗発熱体層を形
成する場合のシリンダ部の移動速度パターンの更に他の
例を示す図である。
成する場合のシリンダ部の移動速度パターンの更に他の
例を示す図である。
【図１９】本発明の他の実施例の膜形成装置の制御構成
を示す図６に対応する図である。
を示す図６に対応する図である。
【図２０】図１９の膜形成装置を用いて抵抗発熱体層を
積層形成する場合の移動速度パターンを説明する図であ
る。
積層形成する場合の移動速度パターンを説明する図であ
る。
１０：トナー定着用加熱ローラ（加熱ローラ） ３０：ガラス円筒（電気絶縁性基体） ３４：抵抗発熱体層 ３８：膜形成装置（加熱ローラの製造装置） ４０：回転装置（回転駆動装置） ７０：シリンダ部（ペースト吐出装置） １０１：ニードル（吐出細管） ｛１１８：モータ，１２０：移動レール，１２２：移動
部材｝（軸心方向駆動装置） １２５：制御装置 １２８：位置センサ（相対位置検出装置）
部材｝（軸心方向駆動装置） １２５：制御装置 １２８：位置センサ（相対位置検出装置）
フロントページの続き (72)発明者 武岡 健 愛知県名古屋市西区則武新町三丁目１番 36号 株式会社ノリタケカンパニーリミ テド内 (72)発明者 細見 和徳 愛知県名古屋市西区則武新町三丁目１番 36号 株式会社ノリタケカンパニーリミ テド内 (56)参考文献 特開 平７−121044（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−92839（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−164862（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−74570（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G03G 13/20 G03G 15/20 F16C 13/00 H05B 3/00 - 3/00 375
Claims (4)
- 【請求項１】 円筒状の外周面を有する電気絶縁性基体
の該外周面に抵抗発熱体層が備えられ、該外周面を用い
て均等に押圧しつつ加熱する加熱ローラの製造方法であ
って、 前記電気絶縁性基体をその軸心回りに回転させる回転工
程と、 回転させられている前記電気絶縁性基体の外周面に、前
記抵抗発熱体層を形成するための抵抗体ペーストをペー
スト吐出装置の吐出細管を通して吐出する吐出工程と、 前記ペースト吐出装置を前記電気絶縁性基体に対してそ
の軸心方向に平行な方向に、該軸心方向に連続的な抵抗
体ペーストの塗布膜が形成される範囲内において該軸心
方向の相対位置に関連して決定される速度で相対移動さ
せる移動工程とを、含むことを特徴とする加熱ローラの
製造方法。 - 【請求項２】 円筒状の外周面を有する電気絶縁性基体
の該外周面に抵抗発熱体層が備えられ、該外周面を用い
て均等に押圧しつつ加熱する加熱ローラの製造方法であ
って、 前記電気絶縁性基体をその軸心回りに回転させる回転工
程と、 回転させられている前記電気絶縁性基体の外周面に、前
記抵抗発熱体層を形成するための金属有機化合物を含む
抵抗体ペーストをペースト吐出装置の吐出細管を通して
吐出する吐出工程と、 前記ペースト吐出装置を前記電気絶縁性基体に対してそ
の軸心方向に平行な方向に所定の速度で相対移動させる
ことにより、該電気絶縁性基体の外周面に該軸心方向に
連続的な抵抗体ペーストの塗布膜を形成する第１移動工
程と、 前記ペースト吐出装置を前記電気絶縁性基体に対してそ
の軸心方向に平行な方向に、該軸心方向の相対位置に関
連して決定される速度で相対移動させる第２移動工程
と、 前記電気絶縁性基体の外周面に塗布された抵抗体ペース
トから薄膜金属から成る前記抵抗発熱体層を加熱生成す
る加熱工程とを、含むことを特徴とする加熱ローラの製
造方法。 - 【請求項３】 前記加熱ローラの製造方法は、 前記第１移動工程により塗布された抵抗体ペーストから
形成された前記抵抗発熱体層の第１層の前記軸心方向の
抵抗値分布を測定する抵抗値測定工程を更に含み、 前記第２移動工程における相対移動速度は、前記第１層
の抵抗値分布に基づいて前記電気絶縁性基体の軸心方向
の相対位置に関連して決定されるものである請求項２の
加熱ローラの製造方法。 - 【請求項４】 円筒状の外周面を有する電気絶縁性基体
の該外周面に抵抗発熱体層が備えられ、該外周面を用い
て均等に押圧しつつ加熱する加熱ローラの製造装置であ
って、 前記電気絶縁性基体をその軸心回りに回転可能に支持
し、該電気絶縁性基体を回転駆動する回転駆動装置と、 吐出細管を備え、該吐出細管を通して抵抗発熱体層を形
成するための抵抗体ペーストを前記電気絶縁性基体の外
周面に吐出するペースト吐出装置と、 前記ペースト吐出装置を該電気絶縁性基体の軸心方向に
平行な方向へ相対移動させる軸心方向駆動装置と、 前記ペースト吐出装置の前記軸心方向の相対位置を検出
する相対位置検出装置と、 該相対位置検出装置により検出された軸心方向の相対位
置に基づき、前記相対移動の速度を制御する制御装置と
を、含むことを特徴とする加熱ローラの製造装置。
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| JPH0658580B2 (ja) * | 1986-12-23 | 1994-08-03 | 富士ゼロックス株式会社 | 加熱定着ロ−ル |
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| US5199992A (en) * | 1990-03-01 | 1993-04-06 | Hines Industries, Inc. | Apparatus for the single station balancing and correction of rotating workpieces |
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