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JP2838171B2 - Phase shift micro Fizeau interferometer - Google Patents

Phase shift micro Fizeau interferometer

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Publication number
JP2838171B2
JP2838171B2 JP3087577A JP8757791A JP2838171B2 JP 2838171 B2 JP2838171 B2 JP 2838171B2 JP 3087577 A JP3087577 A JP 3087577A JP 8757791 A JP8757791 A JP 8757791A JP 2838171 B2 JP2838171 B2 JP 2838171B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor laser
phase shift
light
injection current
light source
Prior art date
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Application number
JP3087577A
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Japanese (ja)
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Inventor
軍 陳
克典 江原
泰三 中村
行弘 石井
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MITSUTOYO KK
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MITSUTOYO KK
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Publication date
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  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は位相シフトマイクロフィ
ゾー干渉計、特にレーザー光源を用いた干渉計の改良に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a phase shift micro-Fizeau interferometer, and more particularly to an improvement in an interferometer using a laser light source.

【0002】[0002]

【従来の技術】非接触で測定対象の表面微細形状の測定
を行なう場合等に、位相シフト干渉法を用いた干渉顕微
鏡が注目されている。この位相シフト干渉法では、光源
から出射された光の一部を参照ミラーにより反射させる
と共に、前記光源から出射された光の他の部分を試料に
反射させる。そして、前記参照ミラーからの反射光と前
記試料からの反射光を合成し干渉光を生起させ、そこ
で、干渉計に位相シフトを導入し、干渉縞を走査させ、
その時に干渉縞より試料の表面形状の情報を得るもので
ある。
2. Description of the Related Art An interference microscope using a phase shift interferometer has attracted attention when measuring a fine surface shape of a measurement object in a non-contact manner. In this phase shift interferometry, a part of light emitted from a light source is reflected by a reference mirror, and another part of light emitted from the light source is reflected on a sample. Then, the reflected light from the reference mirror and the reflected light from the sample are combined to generate interference light, where a phase shift is introduced into the interferometer, and the interference fringes are scanned.
At this time, information on the surface shape of the sample is obtained from the interference fringes.

【0003】ところで、この位相シフト干渉計において
は、一般に光源として白色光源、或いはヘリウム・ネオ
ンレーザーを用いており、位相シフト干渉法に必要な位
相差は、ピエゾ素子を用いて参照ミラーを動かすことで
得ていた。
In this phase shift interferometer, a white light source or a helium / neon laser is generally used as a light source. The phase difference required for the phase shift interferometry is determined by moving a reference mirror using a piezo element. I was getting in.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところが、このピエゾ
素子には非線形性や、不安定性、ヒステレシス特性等が
あり、しかも装置が高価であり、更に駆動に高電圧が要
求されるという課題があった。すなわち、ピエゾ素子等
により参照ミラーの厳密な移動制御を行なうことは困難
であり測定精度の向上が図りにくく、また駆動制御自体
に時間が係、高速測定には限界があった。このため、位
相シフト干渉法は理論的には極めて優れた表面微細形状
の測定法であるにもかかわらず、高精度、高速性等の特
徴を十分に発揮していないものであった。
However, this piezo element has problems such as non-linearity, instability, hysteresis characteristics, etc., and the apparatus is expensive, and a high voltage is required for driving. . That is, it is difficult to precisely control the movement of the reference mirror using a piezo element or the like, and it is difficult to improve the measurement accuracy. In addition, the drive control itself takes time, and there is a limit to high-speed measurement. For this reason, although the phase shift interferometry is theoretically a very excellent method for measuring a fine surface shape, it does not sufficiently exhibit features such as high accuracy and high speed.

【0005】本発明は前記従来技術の課題に鑑みなされ
たものであり、その目的は高精度で高速測定が可能な安
価な位相シフトマイクロフィゾー干渉計を提供すること
にある。
An object of the present invention is to provide an inexpensive phase shift micro-Fizeau interferometer capable of high-accuracy and high-speed measurement.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明にかかる位相シフトマイクロフィゾー干渉計
は、前記光源として半導体レーザを用いると共に、該半
導体レーザへの注入電流を調整する注入電流調整手段を
設けたことを特徴とする。
In order to achieve the above object, a phase shift micro Fizeau interferometer according to the present invention uses a semiconductor laser as the light source and adjusts an injection current to the semiconductor laser. Means are provided.

【0007】また、本発明にかかる位相シフトマイクロ
フィゾー干渉計は、半導体レーザの温度調整手段を設
け、長作動距離の対物レンズを備えることを特徴とす
。なお、ここで対物レンズの作動距離とは、対物レン
ズの前端から試料までの距離を示す。
A phase shift micro-Fizeau interferometer according to the present invention is characterized in that a semiconductor laser temperature adjusting means is provided and an objective lens having a long working distance is provided . Here, the working distance of the objective lens means the objective lens.
The distance from the front end of the noise to the sample is shown.

【0008】[0008]

【作用】本発明にかかる位相シフトマイクロフィゾー干
渉計は、光源として半導体レーザーを用い、その注入電
流を段階的に変えて干渉計に相対的な位相差を与え、干
渉縞を走査させ、位相シフト干渉法を用いて被検位相を
導出する。また、半導体レーザーの温度を一定に保つ温
度調整手段を設けることで、より高度の検出を行うこと
ができる。さらに、長作動距離の対物レンズを設け、光
路差を大きくすることで注入電流の変化を小さくし、レ
ーザー出力の変化を最小限にすることが可能となるの
で、注入電流の変化による影響を受けず精度の高い検出
結果が得られる。
The phase shift micro-Fizeau interferometer according to the present invention uses a semiconductor laser as a light source, gradually changes the injection current to give a relative phase difference to the interferometer, scans the interference fringes, and shifts the phase shift. The phase to be detected is derived using the interferometry. Further, by providing a temperature adjusting means for keeping the temperature of the semiconductor laser constant, higher detection can be performed . In addition, an objective lens with a long working distance
Increasing the path difference reduces the change in injection current,
Changes in the user output can be minimized.
High-accuracy detection without being affected by changes in injection current
The result is obtained.

【0009】[0009]

【実施例】以下、図面に基づき本発明の好適な実施例を
説明する。図1には本発明の一実施例にかかる位相シフ
トマイクロフィゾー干渉計の基本構成が示されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a basic configuration of a phase shift micro-Fizeau interferometer according to one embodiment of the present invention.

【0010】同図に示す干渉計10は、赤色半導体レー
ザよりなる光源12と、ビームスプリッタ14と、参照
ミラー16と、試料保持手段18とよりなる。そして、
光源12から出射したレーザー光はコリメータレンズ2
0により平行光とされ、更にレンズ22,24,26を
介して前記ビームスプリッタ14に入射される。該ビー
ムスプリッタ14により図中下方に反射された光は対物
レンズ28により再度平行光とされ、更に1/4波長板
30で円偏光となる。そして、円偏光された光は参照ミ
ラー16を照射し、該参照ミラー16の表面で一部の光
が反射されると共に、参照ミラー16を透過した光は試
料保持手段18に保持された被検試料32の表面34で
反射される。
The interferometer 10 shown in FIG. 1 includes a light source 12 made of a red semiconductor laser, a beam splitter 14, a reference mirror 16, and a sample holding means 18. And
The laser light emitted from the light source 12 is collimated by the collimator lens 2.
The light is collimated by 0, and is incident on the beam splitter 14 via lenses 22, 24 and 26. The light reflected by the beam splitter 14 downward in the figure is converted into parallel light again by the objective lens 28, and further converted into circularly polarized light by the 波長 wavelength plate 30. Then, the circularly polarized light irradiates the reference mirror 16, and a part of the light is reflected on the surface of the reference mirror 16, and the light transmitted through the reference mirror 16 is a test object held by the sample holding unit 18. The light is reflected by the surface 34 of the sample 32.

【0011】この結果、参照ミラー16の表面で反射さ
れた光と被検試料32の表面34で反射された光は、参
照ミラー16により再び重ね合わされて、干渉光を形成
する。そして、再度レンズ28、ビームスプリッタ14
を通過し、図中上方に導光される。この光は結像レンズ
36によりCCDカメラ38の受光面に結像される。カ
メラ38による観察結果はモニタ40により目視観察さ
れると共に、フレームメモリ42に記憶され、マイクロ
コンピュータ44により所望のデータ処理を施された
後、X−Yプロッター46に出力される。
As a result, the light reflected on the surface of the reference mirror 16 and the light reflected on the surface 34 of the test sample 32 are superimposed again by the reference mirror 16 to form interference light. Then, the lens 28 and the beam splitter 14 again
And is guided upward in the figure. This light is imaged by the imaging lens 36 on the light receiving surface of the CCD camera 38. The observation result by the camera 38 is visually observed by the monitor 40, stored in the frame memory 42, subjected to desired data processing by the microcomputer 44, and output to the XY plotter 46.

【0012】本発明において特徴的なことは、位相シフ
トマイクロフィゾー干渉計の光源として赤色半導体レー
ザーを用い、且つ半導体レーザーの温度を一定に保ち、
その注入電流を段階的に変えて干渉計に相対的な位相差
を与え、干渉縞を走査させ、位相シフト干渉法を用いて
被検位相を導出することである。このために本実施例に
おいては、マイクロコンピュータ44よりの注入電流制
御指令をインタフェース48を介して注入電流制御手段
50に与え、半導体レーザー12への注入電流を制御す
ると共に、温度制御手段52が半導体レーザー12の温
度を一定に保つ。
A feature of the present invention is that a red semiconductor laser is used as a light source of a phase shift micro-Fizeau interferometer, and the temperature of the semiconductor laser is kept constant.
That is, a relative phase difference is given to the interferometer by changing the injection current in a stepwise manner, the interference fringes are scanned, and the phase to be detected is derived using the phase shift interferometry. For this purpose, in the present embodiment, an injection current control command from the microcomputer 44 is given to the injection current control means 50 via the interface 48 to control the injection current to the semiconductor laser 12 and the temperature control means 52 The temperature of the laser 12 is kept constant.

【0013】すなわち、図2に示すように半導体レーザ
は電流iがしきい値is以上注入されると、レーザ光の
発振を開始する。そして、更に注入電流iを増加してい
くと、その注入電流iの増加に比例して波長λが大きく
なっていく。そして、境界電流iaとなると、段差を有
して波長が大きくなり、また一定の線形領域が続く。本
発明は、半導体レーザのこの特徴的な性質を利用したも
のである。
[0013] That is, the semiconductor laser as shown in FIG. 2 when the current i is injected above the threshold i s, starts oscillation of laser light. When the injection current i further increases, the wavelength λ increases in proportion to the increase of the injection current i. When the boundary currents i a, wavelength increases with a step, also a constant linear region continues. The present invention utilizes this characteristic property of the semiconductor laser.

【0014】そして、被検位相の導出は以下のように行
なわれる。被検試料表面34及び参照ミラー16の反射
率が低く、二次以上の繰返し反射の影響が無視できると
すれば、像面における干渉縞の強度分布は、次の数1で
表わすことができる。
The derivation of the test phase is performed as follows. Assuming that the reflectance of the surface 34 of the test sample and the reference mirror 16 is low and the influence of the second or higher-order repetitive reflection is negligible, the intensity distribution of the interference fringes on the image plane can be expressed by the following equation (1).

【0015】[0015]

【数1】I(x,y,λ)=a(x,y)+b(x,y)cos{φ(x,y)} ここで、φ(x,y)は2π・ω(x,y)/λであり、ω(x,y)
は被検面の高低分布である。従って、このω(x,y)を求
めることにより、被検試料の表面情報を得ることができ
る。また、a(x,y)及びb(x,y)はそれぞれ被検表面の特
定点については定数と考えることができる。そこで、何
らかの手法で干渉計に位相シフトΔφを導入すると、前
記数1を次の数2のように置き換えられる。
I (x, y, λ) = a (x, y) + b (x, y) cos, φ (x, y)} where φ (x, y) is 2π · ω (x, y) / λ and ω (x, y)
Is the height distribution of the test surface. Therefore, by obtaining ω (x, y), surface information of the test sample can be obtained. Further, a (x, y) and b (x, y) can be considered as constants at specific points on the surface to be inspected. Therefore, when the phase shift Δφ is introduced into the interferometer by some method, the above equation (1) can be replaced by the following equation (2).

【0016】[0016]

【数2】 I(x,y,Δφ)=a(x,y)+b(x,y)cos{φ(x,y+Δφ)} そして、前記Δφを0,π/2,π,3π/2と変化さ
せ、それぞれの強度分布I1,I2,I3,I4を測定する
ことで、次の数3によりφ(x,y)を求めることがで
きる。
## EQU2 ## I (x, y, Δφ) = a (x, y) + b (x, y) cos {φ (x, y + Δφ)} Then, the Δφ is 0, π / 2, π, 3π / 2, and by measuring the respective intensity distributions I 1 , I 2 , I 3 , I 4 , φ (x, y) can be obtained from the following equation (3).

【0017】[0017]

【数3】 φ(x,y)=tan-1{(I4−I2)/(I1−I3)} このφ(x,y)から被検表面の情報を得るのである。とこ
ろで、従来このΔφの変化を、ピエゾ素子等を用いて参
照ミラー16を動かして得ていたが、本発明ではレーザ
の発振波長を偏移させることにより得ている。すなわ
ち、図1の干渉顕微鏡は、模式的に図3のように示され
る。そして、前記数1は波長λをパラメータとして次の
ように書き改めることができる。
## EQU3 ## φ (x, y) = tan −1 {(I 4 −I 2 ) / (I 1 −I 3 )} Information on the surface to be inspected is obtained from φ (x, y). By the way, conventionally, the change of Δφ is obtained by moving the reference mirror 16 using a piezo element or the like, but in the present invention, it is obtained by shifting the oscillation wavelength of the laser. That is, the interference microscope of FIG. 1 is schematically shown in FIG. Equation 1 can be rewritten as follows using the wavelength λ as a parameter.

【0018】[0018]

【数4】 I(x,y,λ)=a(x,y)+b(x,y)cos{(2π・2ω(x,y)+L)/λ0−Δφ} そして、前記Δφを変化させ、I1〜I4を得るのであ
る。尚、Lは参照ミラー16と被検試料32表面との光
路長差である。ここで、半導体レーザ12の注入電流を
変化させると、発振波長だけでなくレーザ出力も変化す
るため、レーザ強度をモニタし干渉縞の強度を正規化す
るか、或いは干渉計の光路差を大きくして必要な位相差
を得るのに必要な注入電流の変化を小さくし、レーザー
出力の変化を最小限にする。この結果、本発明のように
レーザ波長を偏移させた場合にも、前記数4の干渉縞の
強度分布のバイアスaと振幅bを一定とみなすことがで
きる。
## EQU4 ## I (x, y, λ) = a (x, y) + b (x, y) cos {(2π · 2ω (x, y) + L) / λ 0 −Δφ} Then, I 1 to I 4 are obtained. Here, L is the optical path length difference between the reference mirror 16 and the surface of the test sample 32. Here, when the injection current of the semiconductor laser 12 is changed, not only the oscillation wavelength but also the laser output changes, so that the laser intensity is monitored to normalize the interference fringe intensity, or the optical path difference of the interferometer is increased. The change in the injection current necessary to obtain the required phase difference is minimized, and the change in the laser output is minimized. As a result, even when the laser wavelength is shifted as in the present invention, the bias a and the amplitude b of the intensity distribution of the interference fringe of the above equation 4 can be regarded as constant.

【0019】一方、注入電流iを変化させ、発振波長を
λ1からλ2に変位させると、位相はそれぞれ次のように
表示できる。 λ1: φ1=2π・(L/2×2)/λ1=2πL/λ1 λ2: φ2=2π・(L/2×2)/λ2=2πL/λ2 従って、位相差Δφ=φ2−φ1=2πLΔλ/λ1 2とな
る。このため、Δφ=2πLΔλ/λ2と表わすことが
できる。すなわち、 Δφ=2πLΔλ/λ2=0 Δφ=2πLΔλ/λ2=π Δφ=2πLΔλ/λ2=3π/2 Δφ=2πLΔλ/λ2=2π となるΔλを、それぞれ注入電流iを変化させてI1
2、I3、I4を得れば良いのである。
On the other hand, when the injection current i is changed to change the oscillation wavelength from λ 1 to λ 2 , the phases can be expressed as follows. λ 1 : φ 1 = 2π · (L / 2 × 2) / λ 1 = 2πL / λ 1 λ 2 : φ 2 = 2π · (L / 2 × 2) / λ 2 = 2πL / λ 2 Therefore, the phase difference the Δφ = φ 2 -φ 1 = 2πLΔλ / λ 1 2. Therefore, it can be expressed as Δφ = 2πLΔλ / λ 2 . That is, Δφ = 2πLΔλ / λ 2 = 0 Δφ = 2πLΔλ / λ 2 = π Δφ = 2πLΔλ / λ 2 = 3π / 2 Δφ = 2πLΔλ / λ 2 = 2π 1 ,
What is necessary is just to obtain I 2 , I 3 and I 4 .

【0020】ところで、波長の変化量Δλは注入電流の
変化Δiに比例するから、 Δλ=α・Δi すなわち2πLΔλ/λ2=2πLαΔi/λ2=2πの
場合を例にとると、 Δi=λ2/Lα となる。一般的な赤色レーザの場合、20℃では670
nmの基準波長に対しα=0.017nm/mA程度であるか
らL=24mmとすると、2πの変化に必要とする電流変
化は、 Δi(mA)=(670×10-32/(24×0.017)=1.100mA となる。
Incidentally, the change amount Δλ of the wavelength is proportional to the change Δi of the injection current. Therefore, in the case of Δλ = α · Δi, that is, 2πLΔλ / λ 2 = 2πLαΔi / λ 2 = 2π, for example, Δi = λ 2 / Lα. In the case of a general red laser, 670 at 20 ° C.
Since α = about 0.017 nm / mA with respect to the reference wavelength of nm, if L = 24 mm, the current change required for the change of 2π is Δi (mA) = (670 × 10 −3 ) 2 / (24 × 0.017) = 1.100 mA.

【0021】従って、前記π/2,π,3π/2はそれ
ぞれ注入電流を0.275mA,0.550mA,0.82
5mAづつ変化させればよいことになる。半導体レーザの
線形領域は10mA程度あるので、この程度の電流変化を
行なうことは容易である。
Therefore, π / 2, π, and 3π / 2 indicate injection currents of 0.275 mA, 0.550 mA, and 0.82 mA, respectively.
That is, it is only necessary to change 5 mA at a time. Since the linear region of the semiconductor laser is about 10 mA, it is easy to make a current change of this order.

【0022】図4には、本実施例にしたがって注入電流
iを時間と共に段階的に増加させた場合が示されてい
る。そして、図5に示すように、注入電流iの変化に伴
い干渉縞強度分布Iが変化し、各々の受光結果より被検
位相を導くことができることが理解される。
FIG. 4 shows a case where the injection current i is increased stepwise with time according to this embodiment. Then, as shown in FIG. 5, it is understood that the interference fringe intensity distribution I changes with the change of the injection current i, and the test phase can be derived from the respective light receiving results.

【0023】以上説明したように、本実施例にかかるマ
イクロフィゾー干渉計によれば、ピエゾ素子等の機械的
可動部分がないため、システムが安定化される。また、
装置の小型化、低価格化を図ることができ、操作性に優
れている。更に本実施例では30mmという長作動距離の
対物レンズを用いているため、注入電流iの変化が少な
くてすみ、半導体レーザの出力の変化を小さくすること
ができる。
As described above, according to the micro-Fizeau interferometer according to the present embodiment, since there is no mechanically movable part such as a piezo element, the system is stabilized. Also,
The apparatus can be reduced in size and cost, and has excellent operability. Further, in this embodiment, since the objective lens having a long working distance of 30 mm is used, the change in the injection current i can be small, and the change in the output of the semiconductor laser can be reduced.

【0024】尚、半導体レーザの発振波長λは温度にも
依存する。このため、注入電流iをパラメータとする場
合には、温度制御手段50により温度を一定に維持する
ことが好適である。また、半導体レーザの発振波長λ
を、半導体レーザの温度によって変化させることも可能
である。ちなみに、前記赤色半導体レーザの場合、注入
電流を49mAに設定したときの発振波長の温度による変
化率は、0.061nm/℃であった。
The oscillation wavelength λ of the semiconductor laser also depends on the temperature. Therefore, when the injection current i is used as a parameter, it is preferable that the temperature is kept constant by the temperature control means 50. Also, the oscillation wavelength λ of the semiconductor laser
Can be changed by the temperature of the semiconductor laser. Incidentally, in the case of the red semiconductor laser, the rate of change of the oscillation wavelength with temperature when the injection current was set to 49 mA was 0.061 nm / ° C.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上説明したように本発明にかかる位相
シフトマイクロフィゾー干渉計によれば、光源として半
導体レーザーを用い、その注入電流を段階的に変えて干
渉計に相対的な位相差を与え、位相シフト干渉法を用い
て被検位相を導出することとしたので、測定を高速で、
しかも精度よく行うことができる。さらに、長作動距離
の対物レンズを設け、光路差を大きくすることで注入電
流の変化を小さくし、レーザー出力の変化を最小限にす
ることが可能となるので注入電流の変化による影響を受
けず精度の高い検出結果が得られる。
As described above, according to the phase shift micro-Fizeau interferometer according to the present invention, a semiconductor laser is used as a light source, and a relative phase difference is given to the interferometer by changing its injection current stepwise. Since the phase to be detected is derived using the phase shift interferometry, the measurement is performed at high speed,
Moreover, it can be performed with high accuracy . In addition, long working distance
The objective lens is provided, and the optical path difference is increased.
Minimize changes in flow and minimize changes in laser power
To be affected by changes in the injection current.
A highly accurate detection result can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例にかかる位相シフトマイクロ
フィゾー干渉計の構成説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a configuration of a phase shift micro-Fizeau interferometer according to one embodiment of the present invention.

【図2】赤色半導体レーザの注入電流と波長の関係の説
明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram of a relationship between an injection current and a wavelength of a red semiconductor laser.

【図3】図1に示した干渉計の模式化図である。FIG. 3 is a schematic diagram of the interferometer shown in FIG.

【図4】,FIG.

【図5】図1に示した干渉計において、注入電流と干渉
縞強度分布の変化の説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing changes in an injection current and an interference fringe intensity distribution in the interferometer shown in FIG. 1;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12 半導体レーザ 16 参照ミラー 18 試料保持手段 32 被検試料 Reference Signs List 12 semiconductor laser 16 reference mirror 18 sample holding means 32 test sample

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石井 行弘 東京都武蔵村山市大字岸808番48 (56)参考文献 特開 昭60−211301(JP,A) 特開 昭62−129707(JP,A) 特開 平3−238309(JP,A) 特開 昭61−155902(JP,A) 特開 昭64−35304(JP,A) 実開 昭56−65411(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G01B 9/00 - 9/10 G01B 11/00 - 11/30──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Yukihiro Ishii 808-48, Oishi, Musashimurayama-shi, Tokyo (56) References JP-A-60-211301 (JP, A) JP-A-62-129707 (JP, A JP-A-3-238309 (JP, A) JP-A-61-155902 (JP, A) JP-A-64-35304 (JP, A) Japanese Utility Model Showa 56-65411 (JP, U) (58) Field (Int.Cl. 6 , DB name) G01B 9/00-9/10 G01B 11/00-11/30

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】光源から出射された光の一部を反射する参
照ミラーと、 前記光源から出射された光の他の部分を反射する試料を
保持する試料保持手段と、 前記参照ミラーからの反射光と前記試料からの反射光を
合成し干渉光を生起させる合成手段と、 前記光源として半導体レーザを用いると共に該半導体レ
ーザへの注入電流を調整する注入電流調整手段と、 該半導体レーザの温度を一定に保つ温度調整手段と、 長作動距離の対物レンズと、 を備えた位相シフトマイクロフィゾー干渉計において、前記半導体レーザの注入電流を波長変化量/注入電流の
線形領域において段階的に変えて、該半導体レーザの発
振波長を変移させ、位相変位を2π内で段階的に変位さ
せること を特徴とする位相シフトマイクロフィゾー干渉
計。
1. A reference mirror that reflects a part of light emitted from a light source, a sample holding unit that holds a sample that reflects another part of the light emitted from the light source, and a reflection from the reference mirror Combining means for combining light and reflected light from the sample to generate interference light; using a semiconductor laser as the light source and adjusting injection current to the semiconductor laser; and adjusting the temperature of the semiconductor laser. In a phase shift micro-Fizeau interferometer comprising: a temperature adjusting means for keeping the temperature constant; and an objective lens having a long working distance, the injection current of the semiconductor laser is obtained by dividing a wavelength change amount / an injection current.
The emission of the semiconductor laser is changed stepwise in the linear region.
The phase shift within 2π.
A phase shift micro-Fizeau interferometer characterized in that
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5665411U (en) * 1979-10-23 1981-06-01
JPS60211301A (en) * 1984-04-06 1985-10-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd Measuring method of interference
JPS61155902A (en) * 1984-12-28 1986-07-15 Tokyo Seimitsu Co Ltd Interference measuring apparatus
JPS62129707A (en) * 1985-11-29 1987-06-12 Kyocera Corp Method and apparatus for measuring surface configuration
JPS6435304A (en) * 1987-07-31 1989-02-06 Hitachi Electr Eng Method and instrument for measurement of absolute distance
JPH03238309A (en) * 1990-02-16 1991-10-24 Yokogawa Electric Corp Surface-shape measuring apparatus

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