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JP2865486B2 - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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Publication number
JP2865486B2
JP2865486B2 JP4175244A JP17524492A JP2865486B2 JP 2865486 B2 JP2865486 B2 JP 2865486B2 JP 4175244 A JP4175244 A JP 4175244A JP 17524492 A JP17524492 A JP 17524492A JP 2865486 B2 JP2865486 B2 JP 2865486B2
Authority
JP
Japan
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power supply
supply voltage
internal
internal power
voltage
Prior art date
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Application number
JP4175244A
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Japanese (ja)
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JPH0621376A (en
Inventor
誠二 澤田
正紀 林越
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、外部電源電圧を降下
させて内部電源電圧を発生し、内部記憶回路に供給する
内部降圧回路を備えた半導体記憶装置に関し、半導体記
憶装置の特殊モードであるストレスモード機能を実現す
ることのできる半導体記憶装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device having an internal step-down circuit for generating an internal power supply voltage by lowering an external power supply voltage and supplying the same to an internal memory circuit, and is a special mode of the semiconductor memory device. The present invention relates to a semiconductor memory device capable of realizing a stress mode function.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の半導体記憶装置では、外部から入
力された電源電圧がそのまま内部記憶回路を駆動するた
めの電源電圧として使用されていた。しかし、最近の半
導体記憶装置の大容量化に伴って、トランジスタが微細
化され、その信頼性を向上させかつ消費電流を低減させ
るために、外部電源電圧を降圧する方式が広く提案され
るようになった。
2. Description of the Related Art In a conventional semiconductor memory device, a power supply voltage input from the outside is used as it is as a power supply voltage for driving an internal storage circuit. However, with the recent increase in the capacity of semiconductor memory devices, transistors have been miniaturized, and a method of stepping down an external power supply voltage has been widely proposed in order to improve its reliability and reduce current consumption. became.

【0003】ところで、一般に半導体記憶装置において
は、微細化に伴う僅かな欠陥を含み、製造時において
は、良品であっても短期間の使用により不良となるチッ
プがある比率で含まれている。そこで、メーカー側で
は、高温/高電圧で数10時間から数日の間、連続動作
を行ない、上記のような欠陥を含むチップを予め選別す
ることによりスクリーニングしているのが普通である。
この高温/高電圧の連続動作試験をバーンインテストと
呼んでいる。
In general, a semiconductor memory device includes a small number of defects due to miniaturization. At the time of manufacture, even a non-defective product is defective in a short period of use by a certain percentage. Therefore, the manufacturer usually performs continuous operation at high temperature / high voltage for several tens of hours to several days, and performs screening by selecting chips containing the above-mentioned defects in advance.
This high-temperature / high-voltage continuous operation test is called a burn-in test.

【0004】しかしながら、内部降圧回路は、図13に
示すように一定電圧を発生する。このため、内部降圧回
路を内蔵した半導体記憶装置では、外部電源電圧を高く
しても内部電源電圧は一定となり、バーンインテストが
できない。そこで、バーンインテスト時には、内部電源
電圧線と外部電源電圧線とを接続し、図14に示すよう
に内部電源電圧と外部電源電圧とを等しくする方法があ
る。この方法によるテスト機能をストレスモード機能と
呼んでいる。
[0004] However, the internal step-down circuit generates a constant voltage as shown in FIG. Therefore, in a semiconductor memory device having a built-in internal voltage down converter, even if the external power supply voltage is increased, the internal power supply voltage becomes constant, and the burn-in test cannot be performed. Therefore, at the time of the burn-in test, there is a method of connecting the internal power supply voltage line and the external power supply voltage line and making the internal power supply voltage equal to the external power supply voltage as shown in FIG. The test function by this method is called a stress mode function.

【0005】図15は、このようなストレスモード機能
を有する半導体記憶装置の一例を示す概略ブロック図で
ある。図15を参照して、この半導体記憶装置100
は、外部電源電圧を入力する外部電源電圧端子101、
外部電源電圧を降圧するための内部降圧回路102、内
部降圧回路102により降圧された内部電源電圧により
駆動されるメモリ回路103、およびストレスモード信
号/SMを入力する/SM端子を含む。
FIG. 15 is a schematic block diagram showing an example of a semiconductor memory device having such a stress mode function. Referring to FIG. 15, this semiconductor memory device 100
Is an external power supply voltage terminal 101 for inputting an external power supply voltage,
It includes an internal step-down circuit 102 for stepping down an external power supply voltage, a memory circuit 103 driven by the internal power supply voltage stepped down by the internal step-down circuit 102, and a / SM terminal for inputting a stress mode signal / SM.

【0006】動作において、ストレスモード信号/SM
に応答して、内部降圧回路102は、外部電源電圧線1
と内部電源電圧線2とを接続する。その結果、メモリ回
路103には、外部電源電圧が供給され、バーンインテ
ストを行なうことができる。
In operation, stress mode signal / SM
In response to the internal power supply voltage line 1
And internal power supply voltage line 2 are connected. As a result, an external power supply voltage is supplied to the memory circuit 103, and a burn-in test can be performed.

【0007】図16は、内部電源電圧と外部電源電圧と
を等しくする機能を有する従来の内部降圧回路を示す回
路図である。
FIG. 16 is a circuit diagram showing a conventional internal voltage down converter having a function of equalizing an internal power supply voltage and an external power supply voltage.

【0008】図16において、内部降圧回路は、外部電
源電圧線1と、内部電源電圧線2と、内部電源電圧のレ
ベルをシフトダウンした電圧Vsを発生するレベルシフ
タ回路3と、内部電源電圧を一定にするための基準電圧
Vrefを発生する基準電圧発生回路4と、電圧Vsと
基準電圧Vrefとの差を増幅する差動増幅回路5と、
外部電源電圧線1と内部電源電圧線2との間に接続さ
れ、差動増幅回路5の出力に応答してオン/オフするP
チャネルトランジスタ6と、Pチャネルトランジスタ6
と並列に接続され、ストレスモード信号/SMに応答し
てオン/オフするPチャネルトランジスタ19とを含
む。前記ストレスモード信号/SMはストレスモード時
には低レベルである。
In FIG. 16, an internal voltage down converter comprises an external power supply voltage line 1, an internal power supply voltage line 2, a level shifter circuit 3 for generating a voltage Vs shifted down from the level of the internal power supply voltage, and a constant internal power supply voltage. A reference voltage generating circuit 4 for generating a reference voltage Vref for generating a reference voltage Vref, a differential amplifier circuit 5 for amplifying a difference between the voltage Vs and the reference voltage Vref,
P connected between external power supply voltage line 1 and internal power supply voltage line 2 and turned on / off in response to the output of differential amplifier circuit 5
Channel transistor 6 and P-channel transistor 6
And a P-channel transistor 19 connected in parallel and turned on / off in response to stress mode signal / SM. The stress mode signal / SM is at a low level in the stress mode.

【0009】外部電源電圧線1は、外部電源端子101
に接続され、内部電源電圧線2は、メモリ回路(図1
5)に接続される。
External power supply voltage line 1 is connected to external power supply terminal 101.
The internal power supply voltage line 2 is connected to a memory circuit (FIG. 1).
5).

【0010】レベルシフタ回路3は、内部電源電圧線1
に接続され、ストレスモード信号/SM(高レベル)に
応答して活性化し、内部電源電圧のレベルを一定電圧降
下させて電圧Vsを発生する。このレベルシフタ回路3
はストレスモード信号/SM(低レベル)に応答して、
不活性状態となる。電圧Vsは、差動増幅回路5に供給
される。
The level shifter circuit 3 includes an internal power supply voltage line 1
And is activated in response to the stress mode signal / SM (high level) to lower the level of the internal power supply voltage by a predetermined voltage to generate the voltage Vs. This level shifter circuit 3
In response to the stress mode signal / SM (low level)
It becomes inactive. The voltage Vs is supplied to the differential amplifier circuit 5.

【0011】基準電圧発生回路4は、ストレスモード信
号/SM(高レベル)に応答して活性化し、基準電圧V
refを発生し、ストレスモード信号/SM(低レベ
ル)に応答して不活性状態となる。基準電圧Vrefは
差動増幅回路5に供給される。
Reference voltage generating circuit 4 is activated in response to stress mode signal / SM (high level) to generate reference voltage V
ref is generated and inactivated in response to the stress mode signal / SM (low level). The reference voltage Vref is supplied to the differential amplifier circuit 5.

【0012】差動増幅回路5は、2つの入力端子と1つ
の出力端子とを有し、一方の入力端子は電圧Vsを受け
るように接続され、他方の入力端子は基準電圧Vref
を受けるように接続され、出力端子はPチャネルトラン
ジスタ6のゲート電極に接続される。この差動増幅回路
5は、電圧Vsと基準電圧Vrefとを比較し、Vre
f>Vsの場合には、低レベルの信号を出力し、Vre
f<Vsの場合には、高レベルの信号を出力する。
The differential amplifier circuit 5 has two input terminals and one output terminal. One input terminal is connected to receive the voltage Vs, and the other input terminal is connected to the reference voltage Vref.
And the output terminal is connected to the gate electrode of P-channel transistor 6. The differential amplifier circuit 5 compares the voltage Vs with the reference voltage Vref,
If f> Vs, a low-level signal is output and Vre
If f <Vs, a high-level signal is output.

【0013】Pチャネルトランジスタ6は、ドレイン
(またはソース)が外部電源電圧線1に接続され、ソー
ス(またはドレイン)が内部電源電圧線2に接続され、
ゲート電極が差動増幅回路5の出力に接続される。
The P-channel transistor 6 has a drain (or source) connected to the external power supply voltage line 1, a source (or drain) connected to the internal power supply voltage line 2,
The gate electrode is connected to the output of the differential amplifier circuit 5.

【0014】Pチャネルトランジスタ19は、ドレイン
(またはソース)が外部電源電圧線1に接続され、ソー
ス(またはドレイン)が内部電源電圧線2に接続され、
ゲート電極がストレスモード信号/SMを受けるように
接続される。
The P-channel transistor 19 has a drain (or source) connected to the external power supply voltage line 1, a source (or drain) connected to the internal power supply voltage line 2,
The gate electrode is connected to receive stress mode signal / SM.

【0015】前記Pチャネルトランジスタ6および19
はメモリ回路103に電源電圧を供給する必要があるた
め、その電流駆動能力が大きくされ、比較的大きなサイ
ズを有する。
The P-channel transistors 6 and 19
Since it is necessary to supply a power supply voltage to the memory circuit 103, its current driving capability is increased and it has a relatively large size.

【0016】次に図16に示した電圧降下回路の動作に
ついて説明する。
Next, the operation of the voltage drop circuit shown in FIG. 16 will be described.

【0017】内部電源電圧は、レベルシフタ回路3によ
ってレベルダウンされ、電圧Vsとなる。この電圧Vs
のレベルが基準電圧Vrefよりも低い場合には、差動
増幅回路5の出力は低レベルとなる。この低レベルの出
力に応答してPチャネルトランジスタ6がオンし、外部
電源電圧線1と内部電源電圧線2とが接続される。
The level of the internal power supply voltage is reduced by the level shifter circuit 3 to become the voltage Vs. This voltage Vs
Is lower than the reference voltage Vref, the output of the differential amplifier circuit 5 becomes low. In response to this low level output, P-channel transistor 6 is turned on, and external power supply voltage line 1 and internal power supply voltage line 2 are connected.

【0018】逆に、内部電源電圧が高くなって、レベル
シフタ回路3の出力電圧Vsが基準電圧Vrefよりも
高くなった場合には、差動増幅回路5の出力は高レベル
となり、この高レベルの信号に応答してPチャネルトラ
ンジスタ6がオフし、外部電源電圧線1と内部電源電圧
線2とが切り離される。
Conversely, when the internal power supply voltage becomes high and the output voltage Vs of the level shifter circuit 3 becomes higher than the reference voltage Vref, the output of the differential amplifier circuit 5 becomes high level, and this high level P-channel transistor 6 is turned off in response to the signal, and external power supply voltage line 1 and internal power supply voltage line 2 are disconnected.

【0019】このようにして、Pチャネルトランジスタ
6をオン/オフ制御することにより、内部電源電圧を一
定に保つことができる。
As described above, the on / off control of the P-channel transistor 6 allows the internal power supply voltage to be kept constant.

【0020】次に、ストレスモード時には、ストレスモ
ード信号/SMが低レベルになり、Pチャネルトランジ
スタ19がオンする。一方、レベルシフタ回路3、基準
電圧発生回路4、および差動増幅回路5が非活性状態と
なり、差動増幅回路5の出力は高レベルとなる。応答し
て、Pチャネルトランジスタ6がオフし、外部電源電圧
線1と内部電源電圧線2とがPチャネルトランジスタ1
9によって接続される。
Next, in the stress mode, the stress mode signal / SM goes low, and the P-channel transistor 19 turns on. On the other hand, the level shifter circuit 3, the reference voltage generating circuit 4, and the differential amplifier circuit 5 become inactive, and the output of the differential amplifier circuit 5 becomes high. In response, P-channel transistor 6 is turned off, and external power supply voltage line 1 and internal power supply voltage line 2 are connected to P-channel transistor 1.
9.

【0021】この結果、ストレスモード時には内部メモ
リ回路に対して外部電源電圧を与えることができる。
As a result, an external power supply voltage can be applied to the internal memory circuit in the stress mode.

【0022】[0022]

【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
従来の内部降圧回路では、ストレスモード時(ストレス
モード信号/SMが高レベル)には、Pチャネルトラン
ジスタ6により外部電源電圧線1と内部電源電圧線2と
の間をオン/オフして一定の内部電源電圧を発生し、ス
トレスモード時には、Pチャネルトランジスタ19によ
り外部電源電圧線と内部電源電圧線とを接続する。この
ように比較的サイズの大きい2つのトランジスタ6およ
び19を用いているため、内部降圧回路ひいては半導体
記憶装置の面積が大きくなるという問題がある。
As described above,
In the conventional internal voltage down converter, in the stress mode (stress mode signal / SM is high), P-channel transistor 6 turns on / off between external power supply voltage line 1 and internal power supply voltage line 2 to maintain a constant value. An internal power supply voltage is generated, and in a stress mode, an external power supply voltage line and an internal power supply voltage line are connected by a P-channel transistor 19. Since the two relatively large transistors 6 and 19 are used, there is a problem that the area of the internal voltage down converter and thus the semiconductor memory device increases.

【0023】また、ストレスモード時において、レベル
シフタ回路3、基準電圧発生回路4、および差動増幅回
路5を非活性化するため、レベルシフタ回路3、基準電
圧発生回路4および差動増幅回路5にはストレスがかか
らず、これらの回路については、バーンインテストを行
なえないという問題がある。
In the stress mode, the level shifter circuit 3, the reference voltage generation circuit 4, and the differential amplifier circuit 5 are inactivated. There is a problem that no stress is applied and a burn-in test cannot be performed on these circuits.

【0024】この発明の1つの目的は、内部降圧回路を
備える半導体記憶装置において、内部降圧回路の面積を
小さくすることである。
One object of the present invention is to reduce the area of an internal voltage down converter in a semiconductor memory device having an internal voltage down converter.

【0025】また、この発明のもう1つの目的は、内部
降圧回路についてバーンインテストを行なうことを可能
にすることである。
Another object of the present invention is to enable a burn-in test to be performed on an internal voltage down converter.

【0026】[0026]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明に係る半
導体記憶装置は、内部記憶回路と、外部電源電圧を降下
させて内部電源電圧を発生し、前記内部記憶回路に供給
する内部降圧回路とを備えた半導体記憶装置であって、
前記内部降圧回路は、外部電源電圧を前記内部記憶回路
に与えるストレスモードテスト機能を有し、前記外部電
源電圧を供給する外部電源電圧線と前記内部電源電圧を
供給する内部電源電圧線との間をオン/オフする1つの
スイッチング手段、前記内部電源電圧のレベルを降下さ
せるレベル降下手段、前記内部電源電圧のレベルを一定
にするための基準電圧を発生する基準電圧発生手段、お
よび前記基準電圧発生手段により発生された基準電圧と
前記レベル降下手段により降下された内部電源電圧とを
比較し、比較結果に基づいて前記スイッチング手段をオ
ン/オフ制御する制御手段を含み、前記スイッチング手
段は、ストレスモード時には、常時オン状態にされるこ
とを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device comprising: an internal memory circuit; an internal step-down circuit for generating an internal power supply voltage by lowering an external power supply voltage and supplying the generated internal power supply voltage to the internal memory circuit; A semiconductor memory device comprising:
The internal voltage down converter has a stress mode test function of applying an external power supply voltage to the internal storage circuit, and operates between an external power supply voltage line supplying the external power supply voltage and an internal power supply voltage line supplying the internal power supply voltage. Switching means for turning on / off the power supply, level lowering means for lowering the level of the internal power supply voltage, reference voltage generating means for generating a reference voltage for making the level of the internal power supply voltage constant, and the reference voltage generation Control means for comparing the reference voltage generated by the means with the internal power supply voltage dropped by the level lowering means and controlling on / off of the switching means based on the comparison result; Sometimes, it is always turned on.

【0027】請求項2の発明に係る半導体記憶装置は、
請求項1と同様なスイッチング手段、レベル降下手段を
含み、さらに第1の基準電圧発生手段、プルアップ手段
および制御手段を含む。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device comprising:
It includes the same switching means and level lowering means as in claim 1, and further includes first reference voltage generating means, pull-up means and control means.

【0028】第1の基準電圧発生手段は、前記内部電源
電圧を一定にするための第1の基準電圧を発生する。
The first reference voltage generating means generates a first reference voltage for keeping the internal power supply voltage constant.

【0029】プルアップ手段は、ストレスモード時に前
記第1の基準電圧をプルアップし、前記レベル降下手段
により降下された内部電源電圧よりも高い電位の第2の
基準電圧を発生する。
The pull-up means pulls up the first reference voltage in the stress mode, and generates a second reference voltage having a higher potential than the internal power supply voltage dropped by the level lowering means.

【0030】制御手段は、前記発生された第1または第
2の基準電圧と前記降下された内部電源電圧と比較し、
前記第1または第2の基準電圧が前記降下された内部電
源電圧よりも高い場合には、前記スイッチング手段をオ
ン状態にし、前記第1または第2の基準電圧が前記降下
された内部電源電圧よりも低い場合には、前記スイッチ
ング手段をオフ状態にする。
The control means compares the generated first or second reference voltage with the dropped internal power supply voltage,
When the first or second reference voltage is higher than the dropped internal power supply voltage, the switching unit is turned on, and the first or second reference voltage is higher than the dropped internal power supply voltage. If it is also lower, the switching means is turned off.

【0031】請求項3の発明に係る半導体記憶装置は、
前記請求項1と同様なスイッチング手段および基準電圧
発生手段を含み、さらに次のようなレベル降下手段およ
び制御手段を含む。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device comprising:
It includes the same switching means and reference voltage generating means as in claim 1, and further includes the following level lowering means and control means.

【0032】レベル降下手段は、通常動作時には、前記
内部電源電圧のレベルを降下させた第1の電圧に変換
し、ストレスモード時には、前記第1の電圧をさらに降
下させて前記基準電圧よりも低い電位の第2の電圧に変
換する。
The level lowering means converts the level of the internal power supply voltage to a lowered first voltage in a normal operation, and further lowers the first voltage in a stress mode to be lower than the reference voltage in a stress mode. The potential is converted to a second voltage.

【0033】制御手段は、前記発生された基準電圧と前
記レベル降下手段により変換された第1または第2の電
圧とを比較し、前記基準電圧が第1または第2の電圧よ
りも高い場合には、前記スイッチング手段をオン状態に
し、前記基準電圧が前記第1または第2の電圧よりも低
い場合には、前記スイッチング手段をオフ状態にする。
The control means compares the generated reference voltage with the first or second voltage converted by the level lowering means, and when the reference voltage is higher than the first or second voltage, Turns on the switching means, and turns off the switching means when the reference voltage is lower than the first or second voltage.

【0034】請求項4の発明に係る半導体記憶装置は、
請求項1の発明と同様なスイッチング手段、レベル降下
手段、および基準電圧発生手段を含み、さらに第1の制
御手段および第2の制御手段を含む。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device comprising:
It includes switching means, level lowering means, and reference voltage generating means similar to those of the first aspect of the present invention, and further includes first control means and second control means.

【0035】第1の制御手段は、基準電圧発生手段によ
り発生された基準電圧とレベル降下手段より降下された
内部電源電圧と比較し、比較結果に基づいてスイッチン
グ手段をオン/オフ制御する。
The first control means compares the reference voltage generated by the reference voltage generation means with the internal power supply voltage dropped by the level drop means, and controls the switching means on / off based on the comparison result.

【0036】第2の制御手段は、外部的に発生されるス
トレスモード信号に応答して、スイッチング手段を常時
オン状態にする。ストレスモード時には、前記レベル降
下手段、基準電圧発生手段および第1の制御手段の少な
くとも一つは、非活性状態にされる。
The second control means always turns on the switching means in response to an externally generated stress mode signal. At the time of the stress mode, at least one of the level lowering unit, the reference voltage generating unit, and the first control unit is inactivated.

【0037】請求項5の発明に係る半導体記憶装置は、
請求項4の発明と同様なスイッチング手段、レベル降下
手段、基準電圧発生手段、第1の制御手段および第2の
制御手段を含み、さらに前記第1の制御手段と第2の制
御手段との間に接続され、前記ストレスモード信号に応
答して、スイッチオフする手段を含む。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device comprising:
And a switching means, a level lowering means, a reference voltage generating means, a first control means and a second control means similar to those of the fourth invention, and further comprising a first control means and a second control means. And means for switching off in response to the stress mode signal.

【0038】[0038]

【作用】請求項1の発明に係る半導体記憶装置では、外
部電源電圧線と内部電源電圧線との間をオン/オフする
スイッチング手段が1つであり、このスイッチング手段
は、ノーマルモード時にはオン/オフすることにより内
部電源電圧を一定電圧にし、ストレスモード時には、常
時オンする。このように、比較的大きなサイズを必要と
するスイッチング手段をノーマルモード時とストレスモ
ード時とで共有することにより、内部降圧回路ひいては
半導体記憶装置の面積を小さくすることができる。
In the semiconductor memory device according to the first aspect of the present invention, there is one switching means for turning on / off between the external power supply voltage line and the internal power supply voltage line, and this switching means is turned on / off in the normal mode. By turning it off, the internal power supply voltage is made constant, and in the stress mode, it is always turned on. As described above, by sharing the switching means requiring a relatively large size between the normal mode and the stress mode, the area of the internal voltage down converter and the semiconductor memory device can be reduced.

【0039】請求項2の発明に係る半導体記憶装置で
は、プルアップ手段により、ストレスモード時にレベル
降下された内部電源電圧よりも高い第2の基準電圧を発
生しているので、制御手段は、ストレスモード時にはス
イッチの手段を常時オン状態にする。それにより、内部
電源電圧を外部電源電圧と等しくすることができる。こ
のようにして、ストレスモード時においても内部降圧回
路に含まれるすべての手段を活性状態にしたままでバー
ンインテストを行なうことができる。この結果、内部降
圧回路に含まれるすべての手段にストレスをかけること
ができる。
In the semiconductor memory device according to the second aspect of the present invention, since the pull-up means generates the second reference voltage higher than the internal power supply voltage whose level has been lowered in the stress mode, the control means can control the stress. In the mode, the switch means is always turned on. Thereby, the internal power supply voltage can be made equal to the external power supply voltage. Thus, even in the stress mode, the burn-in test can be performed while all means included in the internal voltage down converter remain active. As a result, stress can be applied to all means included in the internal voltage down converter.

【0040】請求項3の発明に係る半導体記憶装置で
は、レベル降下手段は、ストレスモード時には、基準電
圧よりも高い第2の電圧を発生しているので、制御手段
はスイッチング手段をオン状態にする。したがって、請
求項3の発明では、請求項2の発明と同様にスイッチン
グ手段を1つで共有することができ、かつストレスモー
ド時には、内部降圧回路に含まれるすべての手段を活性
化して、ストレスをかけることができる。
In the semiconductor memory device according to the third aspect of the present invention, since the level lowering means generates the second voltage higher than the reference voltage in the stress mode, the control means turns on the switching means. . Therefore, in the third aspect of the present invention, one switching means can be shared similarly to the second aspect of the present invention, and in the stress mode, all means included in the internal voltage down converter are activated to reduce the stress. You can call.

【0041】請求項4の発明に係る半導体記憶装置で
は、レベル降下手段、基準電圧発生手段、および第1の
制御手段の少なくとも1つは、外部的に発生されるスト
レスモード信号により非活性状態にされるが、第2の制
御手段は、外部的に発生されるテストモード信号に応答
して、スイッチング手段をオン状態にする。それにより
内部電源電圧線と外部電源電圧線とが接続され、バーン
インテストを行なうことができる。
In the semiconductor memory device according to the present invention, at least one of the level lowering means, the reference voltage generating means, and the first control means is inactivated by an externally generated stress mode signal. However, the second control means turns on the switching means in response to an externally generated test mode signal. Thereby, the internal power supply voltage line and the external power supply voltage line are connected, and a burn-in test can be performed.

【0042】請求項5の発明に係る半導体記憶装置で
は、ストレスモード時には、第1の制御手段と第2の制
御手段との間を遮断するので、レベル降下手段、基準電
圧発生手段、および第1の制御手段のすべてを活性状態
にしたままで、バーンインテストを行なうことができ
る。それにより、内部降圧回路に含まれるすべての手段
に対してストレスをかけることができる。
In the semiconductor memory device according to the fifth aspect of the present invention, in the stress mode, the connection between the first control means and the second control means is cut off. The burn-in test can be performed while all of the control means are kept active. Thereby, stress can be applied to all means included in the internal voltage down converter.

【0043】[0043]

【実施例】図1は、半導体記憶装置に内蔵される内部降
圧回路の一実施例を示す回路図である。図1に示す内部
降圧回路は、外部電源電圧1、内部電源電圧2、常時活
性状態にされるレベルシフタ回路3、常時活性状態にさ
れる基準電圧発生回路4、常時活性状態にされる差動増
幅回路5、Pチャネルトランジスタ6、およびストレス
モード信号/SMに応答して基準電圧Vrefをプルア
ップするプルアップ回路41を含む。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of an internal voltage down converter built in a semiconductor memory device. The internal step-down circuit shown in FIG. 1 includes an external power supply voltage 1, an internal power supply voltage 2, a level shifter circuit 3 which is always activated, a reference voltage generating circuit 4 which is always activated, and a differential amplifier which is always activated. The circuit includes a circuit 5, a P-channel transistor 6, and a pull-up circuit 41 for pulling up a reference voltage Vref in response to a stress mode signal / SM.

【0044】外部電源電圧線1、内部電源電圧線2およ
びPチャネルトランジスタ6は図16に示した内部降圧
回路と同様な構成である。レベルシフタ回路3、基準電
圧発生回路4、差動増幅回路5は、図16に示したレベ
ルシフタ回路、基準電圧発生回路および差動増幅回路の
ノーマル動作時と同様の動作を行なう。
External power supply voltage line 1, internal power supply voltage line 2, and P-channel transistor 6 have the same structure as the internal voltage down converter shown in FIG. Level shifter circuit 3, reference voltage generating circuit 4, and differential amplifier circuit 5 perform the same operations as the normal operation of level shifter circuit, reference voltage generating circuit, and differential amplifier circuit shown in FIG.

【0045】プルアップ回路41は、インバータ91と
クロックドCMOS10とを含む。インバータ91は、
ストレスモード信号/SMを反転させてクロックドCM
OS10を制御する。クロックドCMOS10は、その
入力が接地端子に接続され、その出力が基準電圧を出力
する基準電圧ライン7に接続される。プルアップ回路4
1は、ストレスモード信号/SMが低レベルのとき基準
電圧ライン7を電源電位までつりあげる。
Pull-up circuit 41 includes an inverter 91 and a clocked CMOS 10. The inverter 91
Inverts stress mode signal / SM to generate clocked CM
The OS 10 is controlled. The clocked CMOS 10 has its input connected to the ground terminal and its output connected to a reference voltage line 7 that outputs a reference voltage. Pull-up circuit 4
1 raises the reference voltage line 7 to the power supply potential when the stress mode signal / SM is at a low level.

【0046】次に、図1に示した内部降圧回路の動作に
ついて説明する。まず、ノーマルモード時には、レベル
シフタ回路3は、内部電源電圧をレベルダウンし、電圧
Vsを発生する。この電圧Vsは差動増幅回路5に供給
される。差動増幅回路5には、基準電圧発生回路4によ
って発生される基準電圧Vrefが供給される。レベル
シフタ回路3からの電圧Vsが基準電圧発生回路4によ
って発生される基準電圧Vrefよりも低い場合には、
差動増幅回路5の出力は低レベルとなる。この低レベル
の出力に応答してPチャネルトランジスタ6がオンし、
外部電源電圧線1と内部電源電圧線2とが接続される。
また、内部電源電圧が高くなると、レベルシフタ回路3
によりレベルダウンされた電圧Vsのレベルも高くな
る。この電圧Vsが基準電圧Vrefよりも高くなる
と、差動増幅回路5の出力は高レベルとなり、Pチャネ
ルトランジスタ6がオフして、外部電源電圧線1の内部
電源電圧線2とが切り離される。以上の動作は従来例と
同様である。
Next, the operation of the internal step-down circuit shown in FIG. 1 will be described. First, in the normal mode, the level shifter circuit 3 lowers the level of the internal power supply voltage to generate the voltage Vs. This voltage Vs is supplied to the differential amplifier circuit 5. The reference voltage Vref generated by the reference voltage generation circuit 4 is supplied to the differential amplifier circuit 5. When the voltage Vs from the level shifter circuit 3 is lower than the reference voltage Vref generated by the reference voltage generation circuit 4,
The output of the differential amplifier circuit 5 becomes low. In response to this low level output, the P-channel transistor 6 turns on,
External power supply voltage line 1 and internal power supply voltage line 2 are connected.
When the internal power supply voltage increases, the level shifter circuit 3
As a result, the level of the voltage Vs which has been lowered is also increased. When the voltage Vs becomes higher than the reference voltage Vref, the output of the differential amplifier circuit 5 goes high, the P-channel transistor 6 turns off, and the external power supply voltage line 1 is disconnected from the internal power supply voltage line 2. The above operation is the same as in the conventional example.

【0047】次に、ストレスモード時における動作を説
明する。基準電圧発生回路4は、常時活性化されている
ため、ノーマルモード時における基準電圧Vrefを発
生しようとするが、プルアップ回路41は、ストレスモ
ード信号/SM(低レベル)に応答して、基準電圧線ラ
インの電位を電源電位にまでつり上げる。それによりレ
ベルシフタ回路3の出力Vsのレベルは、基準電圧ライ
ン7のレベルよりも低くなる。したがって、差動増幅回
路5の出力は低レベルとなり、低レベルの出力に応答し
てPチャネルトランジスタ6は常にオン状態となる。そ
れにより外部電源電圧線1と内部電源電圧線2とを接続
することができる。
Next, the operation in the stress mode will be described. Since the reference voltage generation circuit 4 is always activated, the reference voltage generation circuit 4 attempts to generate the reference voltage Vref in the normal mode, but the pull-up circuit 41 responds to the stress mode signal / SM (low level) to generate the reference voltage Vref. The potential of the voltage line is raised to the power supply potential. Thereby, the level of the output Vs of the level shifter circuit 3 becomes lower than the level of the reference voltage line 7. Therefore, the output of the differential amplifier circuit 5 becomes low level, and the P-channel transistor 6 is always turned on in response to the low level output. Thus, external power supply voltage line 1 and internal power supply voltage line 2 can be connected.

【0048】図1に示した内部降圧回路であれば、外部
電源電圧線1と内部電源電圧線2との間に接続される比
較的大きいサイズのPチャネルトランジスタを1つにす
ることができ、内部降圧回路の面積を小さくすることが
できる。また、レベルシフタ回路3、基準電圧発生回路
4、および差動増幅回路5は常時活性化状態にされてい
るため、ストレスモード時においてもストレスがかけら
れている。
In the case of the internal step-down circuit shown in FIG. 1, a relatively large-sized P-channel transistor connected between external power supply voltage line 1 and internal power supply voltage line 2 can be reduced to one. The area of the internal voltage down converter can be reduced. Further, since the level shifter circuit 3, the reference voltage generating circuit 4, and the differential amplifier circuit 5 are always in an activated state, stress is applied even in the stress mode.

【0049】図2は、この発明の第2の実施例を示す回
路図である。図2に示される内部降圧回路と図1に示さ
れる内部降圧回路とが異なるところは、プルアップ回路
41の出力端と基準電圧発生回路4の出力端との間にC
MOSトランスファゲート11が設けられ、トランスフ
ァゲートを構成するPMOSトランジスタのゲート電極
に接続されるインバータ92が設けられていることであ
る。CMOSトランスファゲート11およびインバータ
92は、ストレスモード信号/SMに応答してオン/オ
フする。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a second embodiment of the present invention. The difference between the internal voltage down-converting circuit shown in FIG. 2 and the internal voltage down-converting circuit shown in FIG. 1 is that the output terminal of the pull-up circuit 41 and the output terminal of the reference voltage generating circuit 4
The MOS transfer gate 11 is provided, and the inverter 92 connected to the gate electrode of the PMOS transistor constituting the transfer gate is provided. CMOS transfer gate 11 and inverter 92 are turned on / off in response to stress mode signal / SM.

【0050】次に第2の実施例の動作を説明する。ノー
マルモード時には、ストレスモード信号/SMは高レベ
ルであり、CMOSトランスファゲート11はオンす
る。したがって、基準電圧発生回路4により発生された
基準電圧Vrefが差動増幅回路5に供給される。レベ
ルシフタ回路3により内部電源電圧をレベルダウンした
電圧Vsのレベルが、基準電圧Vrefより低いときに
は、差動増幅回路5の出力は低レベルとなる。この低レ
ベルの出力に応答して、Pチャネルトランジスタ6がオ
ンする。それにより、外部電源電圧線と内部電源電圧線
とが接続される。また、内部電源電圧が高くなると、レ
ベルシフタ回路3の出力電圧Vsのレベルが基準電圧V
refより高くなり、差動増幅回路5の出力は高レベル
となる。この高レベルの出力に応答してPチャネルトラ
ンジスタ6がオフし、外部電源電圧線1と内部電源電圧
線2とが切り離される。
Next, the operation of the second embodiment will be described. In the normal mode, the stress mode signal / SM is at a high level, and the CMOS transfer gate 11 is turned on. Therefore, the reference voltage Vref generated by the reference voltage generation circuit 4 is supplied to the differential amplifier circuit 5. When the level of the voltage Vs obtained by lowering the internal power supply voltage by the level shifter circuit 3 is lower than the reference voltage Vref, the output of the differential amplifier circuit 5 becomes low. In response to this low level output, P-channel transistor 6 turns on. Thereby, the external power supply voltage line and the internal power supply voltage line are connected. When the internal power supply voltage increases, the level of the output voltage Vs of the level shifter circuit 3 becomes higher than the reference voltage Vs.
ref, and the output of the differential amplifier circuit 5 becomes a high level. In response to this high level output, P-channel transistor 6 is turned off, and external power supply voltage line 1 and internal power supply voltage line 2 are disconnected.

【0051】次に、ストレスモード時には、常時活性状
態にされる基準電圧発生回路4により基準電圧Vref
が発生されているが、ストレスモード信号/SMが低レ
ベルであるため、CMOSトランスファゲート11はオ
フしており、基準電圧Vrefは差動増幅回路5には伝
わらない。一方、クロックドCMOS10は、ストレス
モード信号/SM(低レベル)に応答して、オンするた
め、基準電圧ライン7のレベルは高レベル(外部電源電
圧レベル)になる。したがってレベルシフタ回路3の出
力電圧Vsのレベルは、常に基準電圧ライン7の電位よ
りも低くなる。この結果、差動増幅回路5の出力は低レ
ベルとなり、応答してPチャネルトランジスタ6は常に
オン状態となる。このようにして、外部電源電圧線1と
内部電源電圧線2とを接続することができる。
Next, in the stress mode, the reference voltage Vref is generated by the reference voltage generation circuit 4 which is always activated.
However, since the stress mode signal / SM is at a low level, the CMOS transfer gate 11 is off, and the reference voltage Vref is not transmitted to the differential amplifier circuit 5. On the other hand, since the clocked CMOS 10 is turned on in response to the stress mode signal / SM (low level), the level of the reference voltage line 7 becomes high (external power supply voltage level). Therefore, the level of the output voltage Vs of the level shifter circuit 3 is always lower than the potential of the reference voltage line 7. As a result, the output of the differential amplifier circuit 5 goes low, and in response, the P-channel transistor 6 is always on. Thus, external power supply voltage line 1 and internal power supply voltage line 2 can be connected.

【0052】図3は、この発明の第3の実施例を示す回
路図である。図3に示す内部降圧回路が図2に示す内部
降圧回路と異なるところは、CMOSトランスファゲー
ト11およびインバータ92に代えて、ストレスモード
信号/SMに応答してオン/オフするNチャネルトラン
スファゲート12が設けられていることである。その他
の回路については図2に示した回路と同様であり、その
説明は適宜省略する。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a third embodiment of the present invention. The difference between the internal step-down circuit shown in FIG. 3 and the internal step-down circuit shown in FIG. 2 is that N-channel transfer gate 12 which is turned on / off in response to stress mode signal / SM is used instead of CMOS transfer gate 11 and inverter 92. It is provided. The other circuits are the same as the circuits shown in FIG. 2, and the description thereof will be omitted as appropriate.

【0053】次に動作について説明する。まず、ノーマ
ルモード時には、ストレスモード信号/SMは高レベル
であり、Nチャネルトランスファゲート12がオンして
いるため、基準電圧発生回路4の出力は基準電圧ライン
7を介して差動増幅回路5に供給される。よって、レベ
ルシフタ回路3によってレベルダウンされた電圧Vsの
レベルは基準電圧Vrefより低いとき、差動増幅回路
5の出力は低レベルとなる。この低レベルの出力に応答
してPチャネルトランジスタ6がオンし、外部電源電圧
線1と内部電源電圧線2とが接続される。また、内部電
源電圧が高くなると、レベルシフタ回路3によってレベ
ルダウンされた電圧Vsのレベルが基準電圧Vrefよ
りも高くなり、差動増幅回路5の出力は高レベルとな
る。この高レベルの出力に応答してPチャネルトランジ
スタ6がオフし、外部電源電圧線1と内部電源電圧線2
とが切り離される。
Next, the operation will be described. First, in the normal mode, since the stress mode signal / SM is at a high level and the N-channel transfer gate 12 is turned on, the output of the reference voltage generating circuit 4 is sent to the differential amplifier circuit 5 via the reference voltage line 7. Supplied. Therefore, when the level of the voltage Vs lowered by the level shifter circuit 3 is lower than the reference voltage Vref, the output of the differential amplifier circuit 5 becomes low. In response to this low level output, P-channel transistor 6 is turned on, and external power supply voltage line 1 and internal power supply voltage line 2 are connected. When the internal power supply voltage increases, the level of the voltage Vs lowered by the level shifter circuit 3 becomes higher than the reference voltage Vref, and the output of the differential amplifier circuit 5 becomes high. In response to this high level output, P-channel transistor 6 is turned off, and external power supply voltage line 1 and internal power supply voltage line 2
And is separated.

【0054】次にストレスモード時には、活性状態にさ
れている基準電圧発生回路4から基準電圧Vrefが出
力されるが、ストレスモード信号/SMが低レベルであ
るためNチャネルトランスファゲート12はオフしてい
る。したがって、基準電圧Vrefは差動増幅回路5に
は伝わらない。一方、クロックドCMOS10がオンす
るため、基準電圧ライン7は高レベル(外部電源電圧レ
ベル)になる。ストレスモードにおける以後の動作は図
2の場合と同様であり、その説明は省略する。
Next, in the stress mode, reference voltage Vref is output from activated reference voltage generating circuit 4, but N-channel transfer gate 12 is turned off because stress mode signal / SM is at a low level. I have. Therefore, the reference voltage Vref is not transmitted to the differential amplifier circuit 5. On the other hand, since the clocked CMOS 10 is turned on, the reference voltage line 7 goes high (external power supply voltage level). Subsequent operations in the stress mode are the same as those in FIG. 2, and a description thereof will be omitted.

【0055】図4は、この発明の第4の実施例を示す回
路図である。第4の実施例と第1の実施例とが異なると
ころプルアップ回路のみであり、図4においてはプルア
ップ回路のみを示す。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a fourth embodiment of the present invention. The fourth embodiment is different from the first embodiment only in the pull-up circuit, and FIG. 4 shows only the pull-up circuit.

【0056】図4において、プルアップ回路としてPチ
ャネルトランジスタ13が用いられる。Pチャネルトラ
ンジスタ13は、そのソース(またはドレイン)が電源
電圧に接続され、そのドレイン(またはソース)が基準
電圧ライン7に接続され、そのゲート電極がストレスモ
ード信号/SMを受けるように接続する。
In FIG. 4, a P-channel transistor 13 is used as a pull-up circuit. P-channel transistor 13 has its source (or drain) connected to the power supply voltage, its drain (or source) connected to reference voltage line 7, and its gate electrode connected to receive stress mode signal / SM.

【0057】次に動作について説明する。まず、ノーマ
ルモード時にはストレスモード信号/SMは高レベルで
あり、Pチャネルトランジスタ13はオフしている。し
たがって、基準電圧発生回路4により発生される基準電
圧Vrefは差動増幅回路5に供給される。以後のノー
マル動作時における動作は図1に示した場合と同様であ
り、その説明は省略する。
Next, the operation will be described. First, in the normal mode, the stress mode signal / SM is at a high level, and the P-channel transistor 13 is off. Therefore, the reference voltage Vref generated by the reference voltage generation circuit 4 is supplied to the differential amplifier circuit 5. The subsequent operations in the normal operation are the same as those in the case shown in FIG.

【0058】次に、ストレスモード時には、活性状態に
されている基準電圧発生回路4により基準電圧Vref
が発生されているが、ストレスモード信号/SMが低レ
ベルであるためPチャネルトランジスタ13がオンし、
基準電圧ライン7が強制的高レベル(外部電源電圧レベ
ル)になる。以後の動作は、図1に示した第1の実施例
と同様であり、その説明は省略する。
Next, in the stress mode, the reference voltage Vref is generated by the reference voltage generation circuit 4 which is activated.
However, since the stress mode signal / SM is at a low level, the P-channel transistor 13 is turned on,
The reference voltage line 7 is forced to a high level (external power supply voltage level). Subsequent operations are the same as in the first embodiment shown in FIG. 1, and a description thereof will be omitted.

【0059】図5は、この発明の第5の実施例を示す回
路図である。図5に示す回路と図2に示す回路とが異な
るところは、プルアップ回路41に代えて、図4に示し
たPチャネルトランジスタ13が設けられていることで
ある。図5においては、差動増幅回路、レベルシフタ回
路などについては図2と同様であり表示の簡単化のため
にその記載は省略する。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a fifth embodiment of the present invention. The circuit shown in FIG. 5 is different from the circuit shown in FIG. 2 in that the pull-up circuit 41 is replaced with the P-channel transistor 13 shown in FIG. In FIG. 5, a differential amplifier circuit, a level shifter circuit, and the like are the same as in FIG. 2, and description thereof is omitted for simplification of display.

【0060】次に、動作について説明する。まず、ノー
マルモード時には、ストレスモード信号/SMは高レベ
ルであり、Pチャネルトランジスタ13はオフし、CM
OSトランスファゲート11がオンしているため、基準
電圧発生回路4の出力Vrefは差動増幅回路5に供給
される。ノーマルモード時における以後の動作は第1な
いし第4の実施例に示した場合と同様であり、その説明
は省略する。
Next, the operation will be described. First, in the normal mode, the stress mode signal / SM is at a high level, the P-channel transistor 13 is turned off, and the CM
Since the OS transfer gate 11 is on, the output Vref of the reference voltage generation circuit 4 is supplied to the differential amplifier circuit 5. Subsequent operations in the normal mode are the same as those shown in the first to fourth embodiments, and a description thereof will be omitted.

【0061】次にストレスモード時には、活性状態にさ
れている基準電圧発生回路4により基準電圧Vrefが
発生するが、ストレスモード信号/SMが低レベルであ
るためCMOSトランスファゲート11はオフしてお
り、基準電圧Vrefは差動増幅回路5には伝わらな
い。一方、ストレスモード信号/SM(低レベル)に応
答してPチャネルトランジスタ13がオンするため、基
準電圧ライン7の電位は高レベル(外部電源電圧レベ
ル)になる。ストレスモード時における以後の動作は第
1ないし第4の実施例と同様であり、その説明は省略す
る。
Next, in the stress mode, the reference voltage Vref is generated by the activated reference voltage generating circuit 4. However, since the stress mode signal / SM is at a low level, the CMOS transfer gate 11 is off. The reference voltage Vref is not transmitted to the differential amplifier circuit 5. On the other hand, since P-channel transistor 13 is turned on in response to stress mode signal / SM (low level), the potential of reference voltage line 7 goes high (external power supply voltage level). Subsequent operations in the stress mode are the same as in the first to fourth embodiments, and a description thereof will be omitted.

【0062】図6はこの発明の第6の実施例を示す回路
図である。図6に示す回路が図7に示す回路と異なると
ころは、CMOSトランスファゲート11およびインバ
ータ92に代えて、図3に示したNチャネルトランジス
タ12が設けられていることである。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a sixth embodiment of the present invention. The circuit shown in FIG. 6 differs from the circuit shown in FIG. 7 in that an N-channel transistor 12 shown in FIG. 3 is provided instead of CMOS transfer gate 11 and inverter 92.

【0063】次に動作について説明する。まず、ノーマ
ルモード時には、ストレスモード信号/SMが高レベル
であるためPチャネルトランジスタ13はオフし、Nチ
ャネルトランスファゲート12がオンしているため、基
準電圧発生回路4により発生される基準電圧Vrefは
差動増幅回路5に供給される。ノーマルモード時におけ
る以後の動作は第1ないし第5の実施例に示した場合と
同様であり、その説明は省略する。
Next, the operation will be described. First, in the normal mode, since the stress mode signal / SM is at a high level, the P-channel transistor 13 is turned off and the N-channel transfer gate 12 is turned on, so that the reference voltage Vref generated by the reference voltage generating circuit 4 is It is supplied to the differential amplifier circuit 5. Subsequent operations in the normal mode are the same as those in the first to fifth embodiments, and a description thereof will be omitted.

【0064】次にストレスモード時には、活性状態にさ
れている基準電圧発生回路4により基準電圧Vrefが
発生されるが、ストレスモード信号/SMが低レベルで
あるため、Nチャネルトランスファゲート12はオフし
ており、基準電圧Vrefは差動増幅回路5には伝わら
ない。一方、Pチャネルトランジスタ13がストレスモ
ード信号/SM(低レベル)に応答してオンするため、
基準電圧ライン7の電位は高レベル(外部電源電圧レベ
ル)になる。ストレスモード時における以後の動作は第
1ないし第5の実施例の場合と同様であるのでその説明
は省略する。
Next, in the stress mode, reference voltage Vref is generated by activated reference voltage generating circuit 4, but N-channel transfer gate 12 is turned off since stress mode signal / SM is at a low level. Therefore, the reference voltage Vref is not transmitted to the differential amplifier circuit 5. On the other hand, since the P-channel transistor 13 turns on in response to the stress mode signal / SM (low level),
The potential of the reference voltage line 7 goes high (external power supply voltage level). Subsequent operations in the stress mode are the same as those in the first to fifth embodiments, and thus description thereof will be omitted.

【0065】図7は、この発明の第7の実施例を示す回
路図である。なお、図7においても、外部電源電圧線
1、内部電源電圧線2、レベルシフタ回路3、差動増幅
回路5の記載は省略する。図7に示す回路と図1に示す
回路とが異なるところは、基準電圧発生回路4がストレ
スモード信号/SMにより非活性状態にされることであ
る。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a seventh embodiment of the present invention. In FIG. 7, the description of the external power supply voltage line 1, the internal power supply voltage line 2, the level shifter circuit 3, and the differential amplifier circuit 5 is omitted. The difference between the circuit shown in FIG. 7 and the circuit shown in FIG. 1 is that reference voltage generating circuit 4 is inactivated by stress mode signal / SM.

【0066】次に動作について説明する。まず、ノーマ
ルモード時には、ストレスモード信号/SMは高レベル
であり、クロックドCMOS10はオフしている。また
基準電圧発生回路4は、ストレスモード信号/SMが低
レベルのとき非活性化され、高レベルのときに活性化さ
れる。したがって、ノーマルモード時においてのみ、基
準電圧発生回路4は基準電圧Vrefを発生する。した
がってノーマルモード時における動作は、第1ないし第
6の実施例と同様であり、その説明は省略する。
Next, the operation will be described. First, in the normal mode, the stress mode signal / SM is at a high level, and the clocked CMOS 10 is off. Reference voltage generating circuit 4 is inactivated when stress mode signal / SM is at a low level and activated when stress mode signal / SM is at a high level. Therefore, only in the normal mode, reference voltage generating circuit 4 generates reference voltage Vref. Therefore, the operation in the normal mode is the same as in the first to sixth embodiments, and a description thereof will be omitted.

【0067】次にストレスモード時には、ストレスモー
ド信号/SMが低レベルであるため基準電圧発生回路4
は非活性状態にされる。また、クロックドCMOS10
がオンするための、基準電圧Vrefは高レベル(外部
電源電圧レベル)になる。したがって、レベルシフタ回
路3によりレベルダウンされた電圧Vsのレベルは、常
に基準電圧Vrefより低くなり、差動増幅回路5の出
力は低レベルとなる。この低レベルの出力に応答してP
チャネルトランジスタ6は常にオンし、外部電源電圧線
1と内部電源電圧線2とが接続される。
Next, in the stress mode, since the stress mode signal / SM is at a low level, the reference voltage generation circuit 4
Are deactivated. The clocked CMOS 10
Is turned on, the reference voltage Vref becomes a high level (external power supply voltage level). Therefore, the level of the voltage Vs lowered by the level shifter circuit 3 is always lower than the reference voltage Vref, and the output of the differential amplifier circuit 5 is low. In response to this low level output, P
Channel transistor 6 is always on, and external power supply voltage line 1 and internal power supply voltage line 2 are connected.

【0068】図8は、この発明の第8の実施例を示す回
路図である。
FIG. 8 is a circuit diagram showing an eighth embodiment of the present invention.

【0069】なお、図8においても外部電源電圧線1、
内部電源電圧線2、レベルシフタ回路3、差動増幅回路
5の記載は省略する。図8に示す回路と図4に示す回路
とが異なるところはストレスモード信号/SMにより基
準電圧発生回路4が非活性状態にされることである。
In FIG. 8, external power supply voltage lines 1,
The description of the internal power supply voltage line 2, the level shifter circuit 3, and the differential amplifier circuit 5 is omitted. The circuit shown in FIG. 8 is different from the circuit shown in FIG. 4 in that reference voltage generating circuit 4 is deactivated by stress mode signal / SM.

【0070】次に、動作について説明する。まずノーマ
ルモード時には、ストレスモード信号/SMは高レベル
であり、Pチャネルトランジスタ13はオフしている。
また、ノーマルモード時の基準電圧発生回路4は、スト
レスモード信号/SMが低レベルのときに非活性化さ
れ、高レベルのときに活性化される。したがって、ノー
マルモード時には、基準電圧Vrefが発生される。こ
の発生された基準電圧Vrefは差動増幅回路5に供給
される。以後のノーマルモード時における動作は第1な
いし第7の実施例と同様であり、その説明は省略する。
Next, the operation will be described. First, in the normal mode, the stress mode signal / SM is at a high level, and the P-channel transistor 13 is off.
In the normal mode, reference voltage generating circuit 4 is inactivated when stress mode signal / SM is at a low level, and activated when stress mode signal / SM is at a high level. Therefore, in the normal mode, reference voltage Vref is generated. The generated reference voltage Vref is supplied to the differential amplifier circuit 5. The subsequent operation in the normal mode is the same as in the first to seventh embodiments, and the description thereof will be omitted.

【0071】次にストレスモード時には、ストレスモー
ド信号/SMが低レベルであるため、基準電圧発生回路
4は非活性化状態にされる。一方、Pチャネルトランジ
スタ13はストレスモード信号/SMに応答してオンす
るため基準電圧ライン7の電位は高レベル(外部電源電
圧レベル)になる。ストレスモード時における以後の動
作は、第1ないし第7の実施例と同様であり、その説明
は省略する。
Next, in the stress mode, since the stress mode signal / SM is at a low level, the reference voltage generating circuit 4 is deactivated. On the other hand, P channel transistor 13 is turned on in response to stress mode signal / SM, so that the potential of reference voltage line 7 is at a high level (external power supply voltage level). Subsequent operations in the stress mode are the same as in the first to seventh embodiments, and a description thereof will be omitted.

【0072】図9は、この発明の第9の実施例を示す回
路図である。図9に示す内部降圧回路と図1に示す内部
降圧回路とが異なるところは、プルアップ回路が省略さ
れ、電圧Vsを発生するレベルシフタ回路3に代えて、
電圧VsとPMOSトランジスタのしきい値電圧を出力
することのできるレベルシフタ回路31が設けられてい
ることである。
FIG. 9 is a circuit diagram showing a ninth embodiment of the present invention. The difference between the internal step-down circuit shown in FIG. 9 and the internal step-down circuit shown in FIG. 1 is that the pull-up circuit is omitted and the level shifter circuit 3 generating the voltage Vs is replaced by
A level shifter circuit 31 capable of outputting the voltage Vs and the threshold voltage of the PMOS transistor is provided.

【0073】レベルシフタ回路31は、2つの電極と1
つの制御電極を有するPチャネルトランジスタ14およ
び15と、インバータ93とを含む。Pチャネルトラン
ジスタ14は、その一方電極が内部電源電圧線2に接続
され、この他方電極がPチャネルトランジスタ15の一
方電極に接続され、そのゲート電極がインバータ93の
出力に接続される。Pチャネルトランジスタ15は、そ
の他方電極が接地電位に接続され、そのゲート電極が接
地電位に接続される。インバータ93は、その入力端子
がストレスモード信号/SMを受けるように接続され、
その出力端子がPチャネルトランジスタ14のゲート電
極に接続される。Pチャネルトランジスタ14と15と
の接続点は差動増幅回路5に接続される。
The level shifter circuit 31 has two electrodes and 1
P-channel transistors 14 and 15 having two control electrodes, and an inverter 93 are provided. P-channel transistor 14 has one electrode connected to internal power supply voltage line 2, the other electrode connected to one electrode of P-channel transistor 15, and the gate electrode connected to the output of inverter 93. P-channel transistor 15 has the other electrode connected to the ground potential and the gate electrode connected to the ground potential. Inverter 93 is connected so that its input terminal receives stress mode signal / SM,
Its output terminal is connected to the gate electrode of P-channel transistor 14. The connection point between P-channel transistors 14 and 15 is connected to differential amplifier circuit 5.

【0074】次に動作について説明する。まず、ノーマ
ルモード時にはストレスモード信号/SMは高レベルで
あり、Pチャネルトランジスタ14および15はともに
オンしているため、その抵抗分割により、内部電源電圧
のレベルは降下される。それにより、電圧Vsの値が決
定される。また、基準電圧発生回路4はある一定の値で
ある基準電圧Vrefを発生している。したがって、レ
ベルシフタ回路3によりレベルダウンされた電圧Vsの
レベルが、基準電圧Vrefより低いときには、差動増
幅回路5の出力は低レベルとなる。この低レベルの出力
に応答してPチャネルトランジスタ6がオンし、外部電
源電圧線1と内部電源電圧線2とが接続される。また、
内部電源電圧が高くなると、レベルシフタ回路3によっ
てレベルダウンされた電圧Vsのレベルが基準電圧Vr
efよりも高くなる。この場合には、差動増幅回路5の
出力は高レベルとなり、Pチャネルトランジスタ6がオ
フし、外部電源電圧線1と内部電源電圧線2とが切り離
される。
Next, the operation will be described. First, in normal mode, stress mode signal / SM is at a high level, and P-channel transistors 14 and 15 are both on, so that the level of the internal power supply voltage is reduced by the resistance division. Thereby, the value of the voltage Vs is determined. Further, the reference voltage generation circuit 4 generates a reference voltage Vref which is a certain value. Therefore, when the level of the voltage Vs lowered by the level shifter circuit 3 is lower than the reference voltage Vref, the output of the differential amplifier circuit 5 becomes low. In response to this low level output, P-channel transistor 6 is turned on, and external power supply voltage line 1 and internal power supply voltage line 2 are connected. Also,
When the internal power supply voltage increases, the level of the voltage Vs, which has been lowered by the level shifter circuit 3, is changed to the reference voltage Vr.
ef. In this case, the output of differential amplifier circuit 5 becomes high level, P-channel transistor 6 is turned off, and external power supply voltage line 1 and internal power supply voltage line 2 are disconnected.

【0075】次に、ストレスモード時には、ストレスモ
ード信号/SMが低レベルであるため、Pチャネルトラ
ンジスタ14はオフし、Pチャネルトランジスタ15は
オンしているため、レベルシフタ回路3の出力Vsは、
Pチャネルトランジスタ15のしきい値電圧のレベルと
なる。また、基準電圧発生回路4により一定の値である
基準電圧Vrefが発生されているが、この基準電圧V
refの値が電圧Vs(しきい値電圧Vtp)の値より
も大きい値に設定されていると、差動増幅回路5の出力
は低レベルとなりPチャネルトランジスタ6は常にオン
する。それによって外部電源電圧線1と内部電源電圧線
2とが接続される。
Next, in the stress mode, since the stress mode signal / SM is at a low level, the P-channel transistor 14 is turned off and the P-channel transistor 15 is turned on, so that the output Vs of the level shifter circuit 3 becomes
This is the level of the threshold voltage of P-channel transistor 15. The reference voltage generation circuit 4 generates a reference voltage Vref which is a constant value.
When the value of ref is set to a value larger than the value of the voltage Vs (threshold voltage Vtp), the output of the differential amplifier circuit 5 becomes low and the P-channel transistor 6 is always turned on. Thereby, external power supply voltage line 1 and internal power supply voltage line 2 are connected.

【0076】図10はこの発明の第10実施例を示す回
路図である。図10に示す内部降圧回路と図9に示す内
部降圧回路とが異なるところは、電圧VsまたはVtp
(pチャネルトランジスタのしきい値電圧)を発生する
レベルシフタ回路に代えて電圧Vsまたは接地電位GN
Dを出力するレベルシフタ回路32が設けられているこ
とである。レベルシフタ回路32は、図9に示したレベ
ルシフタ回路にさらにNチャネルトランジスタ17およ
びインバータ94が追加されている。Nチャネルトラン
ジスタ17は、その一方電極が差動増幅回路5に接続さ
れ、その他方電極は接地電位に接続され、そのゲート電
極がインバータ94に接続されている。インバータ94
はストレスモード信号/SMを受けるように接続されい
る。
FIG. 10 is a circuit diagram showing a tenth embodiment of the present invention. The difference between the internal step-down circuit shown in FIG. 10 and the internal step-down circuit shown in FIG. 9 is that the voltage Vs or Vtp
Voltage Vs or ground potential GN instead of the level shifter circuit for generating (threshold voltage of p-channel transistor)
That is, a level shifter circuit 32 for outputting D is provided. In the level shifter circuit 32, an N-channel transistor 17 and an inverter 94 are further added to the level shifter circuit shown in FIG. N-channel transistor 17 has one electrode connected to differential amplifier circuit 5, the other electrode connected to ground potential, and the gate electrode connected to inverter 94. Inverter 94
Are connected to receive stress mode signal / SM.

【0077】次に、動作について説明する。まず、ノー
マルモード時には、ストレスモード信号/SMは高レベ
ルであり、Pチャネルトランジスタ14および15は、
ともにオンし、Nチャネルトランジスタ17はオフして
いる。したがって、レベルシフタ回路32の出力電圧V
sは、Pチャネルトランジスタ14および15の抵抗分
割により、内部電源電圧のレベルはレベルダウンされ、
Vsの値が決定される。ノーマルモード時における以後
の動作は第9実施例と同様でありその説明は省略する。
Next, the operation will be described. First, in the normal mode, stress mode signal / SM is at a high level, and P-channel transistors 14 and 15
Both are turned on, and the N-channel transistor 17 is turned off. Therefore, the output voltage V of the level shifter circuit 32
s, the level of the internal power supply voltage is reduced by the resistance division of the P-channel transistors 14 and 15;
The value of Vs is determined. Subsequent operations in the normal mode are the same as in the ninth embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0078】次に、ストレスモード時には、ストレスモ
ード信号/SMが低レベルであるため、Pチャネルトラ
ンジスタ14および15はオフし、Nチャネルトランジ
スタ17がオンしている。このため、レベルシフタ回路
32の出力電圧Vsは低レベル(グランドレベル)にな
り、基準電圧Vrefの値よりも小さくなるため、差動
増幅回路5の出力は低レベルとなる。この低レベルの出
力に応答してPチャネルトランジスタ6は常にオンし、
外部電源電圧線1と内部電源電圧線2とが接続される。
Next, in the stress mode, since the stress mode signal / SM is at a low level, the P-channel transistors 14 and 15 are turned off and the N-channel transistor 17 is turned on. Therefore, the output voltage Vs of the level shifter circuit 32 becomes low level (ground level) and becomes smaller than the value of the reference voltage Vref, so that the output of the differential amplifier circuit 5 becomes low level. In response to this low level output, the P-channel transistor 6 is always on,
External power supply voltage line 1 and internal power supply voltage line 2 are connected.

【0079】図11は、この発明の第11実施例を示す
回路図である。図11に示す内部降圧回路と図1に示す
内部降圧回路とが異なるところは、常時活性化される差
動増幅回路に代えて、ストレスモード信号/SMにより
非活性状態にされる差動増幅回路5が設けられ、かつス
トレスモード信号/SMに応答してPチャネルトランジ
スタ6を常にオン状態にするための回路51が設けられ
ていることである。回路51は、Nチャネルトランジス
タ18およびインバータ95を含む。Nチャネルトラン
ジスタ18はその一方電極がPチャネルトランジスタ6
のゲート電極に接続され、その他方電極は接地端子に接
続され、そのゲート電極がインバータ95の出力に接続
される。インバータ95は、ストレスモード信号/SM
を受けるように接続される。
FIG. 11 is a circuit diagram showing an eleventh embodiment of the present invention. The difference between the internal step-down circuit shown in FIG. 11 and the internal step-down circuit shown in FIG. 1 is that, instead of the differential amplifier always activated, a differential amplifier circuit inactivated by a stress mode signal / SM 5 and a circuit 51 for constantly turning on the P-channel transistor 6 in response to the stress mode signal / SM. Circuit 51 includes N-channel transistor 18 and inverter 95. One electrode of the N-channel transistor 18 is a P-channel transistor 6
The other electrode is connected to the ground terminal, and the gate electrode is connected to the output of the inverter 95. Inverter 95 receives stress mode signal / SM
Connected to receive.

【0080】動作においてノーマルモード時には、スト
レスモード信号/SMは高レベルであり、Nチャネルト
ランジスタ18は、オフしている。差動増幅回路5は、
ストレスモード信号/SMが高レベルのときに活性化さ
れ、低レベルのときに非活性化される。ノーマルモード
時においては、ストレスモード信号/SMは高レベルで
あり、差動増幅回路5は活性状態である。よって、ノー
マルモード時におけるその他の動作については実施例1
ないし10で述べたのと同様であるためその説明は省略
する。
In the normal mode in operation, stress mode signal / SM is at a high level, and N-channel transistor 18 is off. The differential amplifier circuit 5
It is activated when the stress mode signal / SM is at a high level and deactivated when it is at a low level. In the normal mode, stress mode signal / SM is at a high level, and differential amplifier circuit 5 is active. Therefore, other operations in the normal mode are described in the first embodiment.
The description is omitted because it is the same as that described in (10) to (10).

【0081】次にストレスモード時には、ストレスモー
ド信号/SMは低レベルであり、基準電圧発生回路4に
より発生される基準電圧Vrefおよびレベルシフタ回
路3により出力される電圧Vsの値に関係なく差動増幅
回路て5は非活性状態となる。Nチャネルトランジスタ
18は、ストレスモード信号/SMに応答してオンし、
低レベルの信号を出力する。この低レベルの信号に応答
してPチャネルトランジスタ6は常にオンし、外部電源
電圧線1と内部電源電圧線2とが接続される。
Next, in the stress mode, the stress mode signal / SM is at a low level, and differential amplification is performed irrespective of the values of the reference voltage Vref generated by the reference voltage generating circuit 4 and the voltage Vs output by the level shifter circuit 3. The circuit 5 becomes inactive. N-channel transistor 18 turns on in response to stress mode signal / SM,
Outputs a low-level signal. In response to this low level signal, P-channel transistor 6 is always turned on, and external power supply voltage line 1 and internal power supply voltage line 2 are connected.

【0082】図12はこの発明の第12実施例を示す回
路図である。図12に示す内部降圧回路と図11に示す
内部降圧回路とが異なるところは、差動増幅回路5とP
チャネルトランジスタ6との間をオン/オフするための
CMOSトランスファゲート16およびインバータ96
が設けられ、かつ差動増幅回路5が常時活性状態にされ
ていることである。
FIG. 12 is a circuit diagram showing a twelfth embodiment of the present invention. The difference between the internal step-down circuit shown in FIG. 12 and the internal step-down circuit shown in FIG.
CMOS transfer gate 16 for turning on / off between channel transistor 6 and inverter 96
And the differential amplifier circuit 5 is always activated.

【0083】次に動作について説明する。まずノーマル
モード時においてストレスモード信号/SMは高レベル
であり、Nチャネルトランジスタ18はオフしており、
CMOSトランスファゲート16はオンしている。よっ
て、ノーマルモード時における以後の動作は第1実施例
ないし第11実施例で述べたのと同様である。
Next, the operation will be described. First, in the normal mode, the stress mode signal / SM is at a high level, the N-channel transistor 18 is off,
The CMOS transfer gate 16 is on. Therefore, subsequent operations in the normal mode are the same as those described in the first to eleventh embodiments.

【0084】次に、ストレスモード時には、ストレスモ
ード信号/SMが低レベルであり、Nチャネルトランジ
スタ18はオンしCMOSトランスファゲート16はオ
フしている。このため、基準電圧発生回路4により発生
される基準電圧Vrefやレベルシフタ回路3の出力電
圧Vsの値に関係なく、Pチャネルトランジスタ6は常
にオンする。それにより、外部電源電圧線1と内部電源
電圧線とを接続することができる。
Next, in the stress mode, the stress mode signal / SM is at a low level, the N-channel transistor 18 is on, and the CMOS transfer gate 16 is off. Therefore, the P-channel transistor 6 is always turned on irrespective of the value of the reference voltage Vref generated by the reference voltage generation circuit 4 or the value of the output voltage Vs of the level shifter circuit 3. Thereby, external power supply voltage line 1 and internal power supply voltage line can be connected.

【0085】[0085]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、1つのスイッチング手段によりノーマルモード時に
外部電源電圧線と内部電源電圧線との間をオン/オフす
ることができ、かつストレスモード時に外部電源電圧線
と内部電源電圧線とを常に接続することができる。した
がって、従来よりも内部降圧回路の面積を小さくするこ
とができ、ひいては半導体記憶装置の面積を小さくする
ことができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to turn on / off the external power supply voltage line and the internal power supply voltage line in the normal mode by one switching means, and to perform the operation in the stress mode. The external power supply voltage line and the internal power supply voltage line can always be connected. Therefore, the area of the internal voltage down converter can be made smaller than before, and the area of the semiconductor memory device can be made smaller.

【0086】また、ストレスモード時であっても、スイ
ッチング手段、レベル降下手段、基準電圧発生手段およ
び制御手段のすべてを活性化することができ、これらの
すべての手段に対しストレスをかけることができる。
Further, even in the stress mode, all of the switching means, the level lowering means, the reference voltage generating means and the control means can be activated, and stress can be applied to all these means. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】半導体記憶装置の内部降圧回路の一実施例を示
す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of an internal voltage down converter of a semiconductor memory device.

【図2】この発明の第2の実施例を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing a second embodiment of the present invention.

【図3】この発明の第3の実施例を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a third embodiment of the present invention.

【図4】この発明の第4の実施例を示す回路図である。FIG. 4 is a circuit diagram showing a fourth embodiment of the present invention.

【図5】この発明の第5の実施例を示す回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram showing a fifth embodiment of the present invention.

【図6】この発明の第6の実施例を示す回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram showing a sixth embodiment of the present invention.

【図7】この発明の第7の実施例を示す回路図である。FIG. 7 is a circuit diagram showing a seventh embodiment of the present invention.

【図8】この発明の第8の実施例を示す回路図である。FIG. 8 is a circuit diagram showing an eighth embodiment of the present invention.

【図9】この発明の第9の実施例を示す回路図である。FIG. 9 is a circuit diagram showing a ninth embodiment of the present invention.

【図10】この発明の第10の実施例を示す回路図であ
る。
FIG. 10 is a circuit diagram showing a tenth embodiment of the present invention.

【図11】この発明の第11の実施例を示す回路図であ
る。
FIG. 11 is a circuit diagram showing an eleventh embodiment of the present invention.

【図12】この発明の第12の実施例を示す回路図であ
る。
FIG. 12 is a circuit diagram showing a twelfth embodiment of the present invention.

【図13】内部降圧回路の特性を示すグラフである。FIG. 13 is a graph showing characteristics of the internal voltage down converter.

【図14】バーンインテスト時における外部電源電圧と
内部電源電圧との関係を示すグラフである。
FIG. 14 is a graph showing a relationship between an external power supply voltage and an internal power supply voltage during a burn-in test.

【図15】ストレスモード機能を有する半導体記憶装置
の一例を示す概略ブロック図である。
FIG. 15 is a schematic block diagram illustrating an example of a semiconductor memory device having a stress mode function.

【図16】内部電源電圧と外部電源電圧とを等しくする
機能を有する従来の内部降圧回路を示す回路図である。
FIG. 16 is a circuit diagram showing a conventional internal step-down circuit having a function of equalizing an internal power supply voltage and an external power supply voltage.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 外部電源電圧線 2 内部電源電圧線 3 レベルシフタ回路 4 基準電圧発生回路 5 差動増幅回路 6 Pチャネルトランジスタ 7 基準電圧ライン 41 プルアップ回路 REFERENCE SIGNS LIST 1 external power supply voltage line 2 internal power supply voltage line 3 level shifter circuit 4 reference voltage generation circuit 5 differential amplifier circuit 6 P-channel transistor 7 reference voltage line 41 pull-up circuit

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 27/10 481 G01R 31/28 H01L 21/66Continued on the front page (58) Fields surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) H01L 27/10 481 G01R 31/28 H01L 21/66

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 内部記憶回路と、外部電源電圧を降下さ
せて内部電源電圧を発生し前記内部記憶回路に供給する
内部降圧回路とを備えた半導体記憶装置であって、 前記内部降圧回路は、外部電源電圧を前記内部記憶回路
に与えるストレスモードテスト機能を有し、 前記外部電源電圧を供給する外部電源電圧線と前記内部
電源電圧を供給する内部電源電圧線との間をオン/オフ
する1つのスイッチング手段、 前記内部電源電圧のレベルを降下させるレベル降下手
段、 前記内部電源電圧のレベルを一定にするための基準電圧
を発生する基準電圧発生手段、および前記基準電圧発生
手段により発生された基準電圧と前記レベル降下手段に
より降下された内部電源電圧とを比較し、比較結果に基
づいて前記スイッチング手段をオン/オフ制御する制御
手段を含み、 前記スイッチング手段は、ストレスモード時には、常時
オン状態にされることを特徴とする半導体記憶装置。
1. A semiconductor memory device comprising: an internal storage circuit; and an internal step-down circuit that generates an internal power supply voltage by lowering an external power supply voltage and supplies the generated internal power supply voltage to the internal storage circuit. A stress mode test function of applying an external power supply voltage to the internal storage circuit; and turning on / off between an external power supply voltage line supplying the external power supply voltage and an internal power supply voltage line supplying the internal power supply voltage. Switching means, level lowering means for lowering the level of the internal power supply voltage, reference voltage generating means for generating a reference voltage for keeping the level of the internal power supply voltage constant, and a reference generated by the reference voltage generating means A system for comparing a voltage with the internal power supply voltage dropped by the level lowering means, and for controlling on / off of the switching means based on the comparison result. Includes means, said switching means, to the stress mode, a semiconductor memory device characterized in that it is always on state.
【請求項2】 内部記憶回路と、外部電源電圧を降下
させて内部電源電圧を発生し前記内部記憶回路に供給す
る内部降圧回路とを備えた半導体記憶装置であって、 前記内部降圧回路は、外部電源電圧を前記内部記憶回路
に与えるストレスモードテスト機能を有し、 前記外部電源電圧を供給する外部電源電圧線と前記内部
電源電圧を供給する内部電源電圧線との間をオン/オフ
する1つのスイッチング手段、 前記内部電源電圧のレベルを降下させるレベル降下手
段、 前記内部電源電圧を一定にするための第1の基準電圧を
発生する基準電圧発生手段、 ストレスモード時に前記第1の基準電圧をプルアップし
て前記レベル降下手段により降下された内部電源電圧よ
りも高い電位の第2の基準電圧を発生するプルアップ手
段、および前記発生された第1または第2の基準電圧と
前記降下された内部電源電圧とを比較し、前記第1また
は第2の基準電圧が前記降下された内部電源電圧よりも
高い場合には、前記スイッチング手段をオン状態にし、
前記第1または第2の基準電圧が前記降下された内部電
源電圧よりも低い場合には、前記スイッチング手段をオ
フ状態にする制御手段を含むことを特徴とする半導体記
憶装置。
2. A semiconductor memory device comprising: an internal storage circuit; and an internal step-down circuit that generates an internal power supply voltage by lowering an external power supply voltage and supplies the internal power supply voltage to the internal storage circuit. A stress mode test function of applying an external power supply voltage to the internal storage circuit; and turning on / off between an external power supply voltage line supplying the external power supply voltage and an internal power supply voltage line supplying the internal power supply voltage. Level switching means for lowering the level of the internal power supply voltage, reference voltage generating means for generating a first reference voltage for keeping the internal power supply voltage constant, and setting the first reference voltage in a stress mode Pull-up means for pulling up to generate a second reference voltage having a higher potential than the internal power supply voltage dropped by the level lowering means; A first or second reference voltage is compared with the dropped internal power supply voltage, and if the first or second reference voltage is higher than the dropped internal power supply voltage, the switching means is turned on. State,
A semiconductor memory device, comprising: control means for turning off the switching means when the first or second reference voltage is lower than the dropped internal power supply voltage.
【請求項3】 内部記憶回路と、外部電源電圧を降下
させて内部電源電圧を発生し前記内部記憶回路に供給す
る内部降圧回路とを備えた半導体記憶装置であって、 前記内部降圧回路は、外部電源電圧を前記内部記憶回路
に与えるストレスモードテスト機能を有し、 前記外部電源電圧を供給する外部電源電圧線と前記内部
電源電圧を供給する内部電源電圧線との間をオン/オフ
する1つのスイッチング手段、 前記内部電源電圧を一定にするための基準電圧を発生す
る基準電圧発生手段、通常動作時には、前記内部電源電
圧のレベルを降下させた第1の電圧に変換し、ストレス
モード時には、前記第1の電圧をさらに降下させて、前
記基準電圧よりも低い電位の第2の電圧に変換するレベ
ル降下手段、および前記発生された基準電圧と前記レベ
ル降下手段により変換された第1または第2の電圧とを
比較し、前記基準電圧が前記第1または第2の電圧より
も高い場合には、前記スイッチング手段をオン状態に
し、前記基準電圧が前記第1または第2の電圧よりも低
い場合には、前記スイッチング手段をオフ状態にする制
御手段を含むことを特徴とする半導体記憶装置。
3. A semiconductor memory device comprising: an internal storage circuit; and an internal step-down circuit for generating an internal power supply voltage by lowering an external power supply voltage and supplying the generated internal power supply voltage to the internal storage circuit. A stress mode test function of applying an external power supply voltage to the internal storage circuit; and turning on / off between an external power supply voltage line supplying the external power supply voltage and an internal power supply voltage line supplying the internal power supply voltage. Two switching means, a reference voltage generating means for generating a reference voltage for keeping the internal power supply voltage constant, and converting the internal power supply voltage to a first voltage lowered during normal operation, and in a stress mode, Level lowering means for further lowering the first voltage to convert it into a second voltage having a lower potential than the reference voltage, and the generated reference voltage and the level Comparing with the first or second voltage converted by the falling means, and when the reference voltage is higher than the first or second voltage, the switching means is turned on, and the reference voltage is A semiconductor memory device comprising a control unit that turns off the switching unit when the voltage is lower than the first or second voltage.
【請求項4】 内部記憶回路と、外部電源電圧を降下さ
せて内部電源電圧を発生し前記内部記憶回路に供給する
内部降圧回路とを備えた半導体記憶装置であって、 前記内部降圧回路は、外部電源電圧を前記内部記憶回路
に与えるストレスモードテスト機能を有し、 前記外部電源電圧を供給する外部電源電圧線と前記内部
電源電圧を供給する内部電源電圧線との間をオン/オフ
する1つのスイッチング手段、 前記内部電源電圧のレベルを降下させるレベル降下手
段、 前記内部電源電圧のレベルを一定にするための基準電圧
を発生する基準電圧発生手段、 前記基準電圧発生手段により発生された基準電圧と前記
レベル降下手段により降下された内部電源電圧とを比較
し、比較結果に基づいて前記スイッチング手段をオン/
オフ制御する第1の制御手段、および外部的に発生され
るストレスモード信号に応答して、前記スイッチング手
段を常時オン状態にする第2の制御手段を含み、 ストレスモード時には前記レベル降下手段、基準電圧発
生手段および第1の制御手段のいずれか一つが非活性状
態にされることを特徴とする半導体記憶装置。
4. A semiconductor memory device comprising: an internal storage circuit; and an internal step-down circuit that generates an internal power supply voltage by lowering an external power supply voltage and supplies the internal power supply voltage to the internal storage circuit. A stress mode test function of applying an external power supply voltage to the internal storage circuit; and turning on / off between an external power supply voltage line supplying the external power supply voltage and an internal power supply voltage line supplying the internal power supply voltage. Switching means, level lowering means for lowering the level of the internal power supply voltage, reference voltage generating means for generating a reference voltage for keeping the level of the internal power supply voltage constant, reference voltage generated by the reference voltage generating means And the internal power supply voltage dropped by the level lowering means, and based on the comparison result, turns on / off the switching means.
A first control means for controlling the off state; and a second control means for constantly turning on the switching means in response to an externally generated stress mode signal. A semiconductor memory device, wherein one of the voltage generating means and the first control means is deactivated.
【請求項5】 内部記憶回路と、外部電源電圧を降下さ
せて内部電源電圧を発生し前記内部記憶回路に供給する
内部降圧回路とを備えた半導体記憶装置であって、 前記内部降圧回路は、外部電源電圧を前記内部記憶回路
に与えるストレスモードテスト機能を有し、 前記外部電源電圧を供給する外部電源電圧線と前記内部
電源電圧を供給する内部電源電圧線との間をオン/オフ
する1つのスイッチング手段、 前記内部電源電圧のレベルを降下させるレベル降下手
段、 前記内部電源電圧のレベルを一定にするための基準電圧
を発生する基準電圧発生手段、 前記基準電圧発生手段により発生された基準電圧と前記
レベル降下手段により降下された内部電源電圧とを比較
し、比較結果に基づいて前記スイッチング手段をオン/
オフ制御する第1の制御手段、および外部的に発生され
るストレスモード信号に応答して、前記スイッチング手
段を常時オン状態にする第2の制御手段、 前記第1の制御手段と前記第2の制御手段との間に接続
され、前記ストレスモード信号に応答してスイッチオフ
する手段を含むことを特徴とする半導体記憶装置。
5. A semiconductor memory device comprising: an internal storage circuit; and an internal step-down circuit that generates an internal power supply voltage by lowering an external power supply voltage and supplies the internal power supply voltage to the internal storage circuit. A stress mode test function of applying an external power supply voltage to the internal storage circuit; and turning on / off between an external power supply voltage line supplying the external power supply voltage and an internal power supply voltage line supplying the internal power supply voltage. Switching means, level lowering means for lowering the level of the internal power supply voltage, reference voltage generating means for generating a reference voltage for keeping the level of the internal power supply voltage constant, reference voltage generated by the reference voltage generating means And the internal power supply voltage dropped by the level lowering means, and based on the comparison result, turns on / off the switching means.
First control means for performing off-control, and second control means for constantly turning on the switching means in response to an externally generated stress mode signal; the first control means and the second control means A semiconductor memory device that is connected between the control unit and a switching unit in response to the stress mode signal.
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