JP2739992B2 - Reversible thermosensitive recording material - Google Patents
Reversible thermosensitive recording materialInfo
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- JP2739992B2 JP2739992B2 JP1044675A JP4467589A JP2739992B2 JP 2739992 B2 JP2739992 B2 JP 2739992B2 JP 1044675 A JP1044675 A JP 1044675A JP 4467589 A JP4467589 A JP 4467589A JP 2739992 B2 JP2739992 B2 JP 2739992B2
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Description
【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は温度による感熱体の可逆的な透明度変化を利
用して記録及び消去を行なう可逆性感熱記録材料に関す
る。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a reversible thermosensitive recording material that performs recording and erasing by utilizing a reversible change in transparency of a thermosensitive material depending on temperature.
従来技術 可逆的な記録及び消去が可能な感熱記録材料として支
持体上にポリエステル等の樹脂中に高級アルコール、高
級脂肪酸等の有機低分子物質を分散した感熱層を設けた
ものが、例えば特開昭54−119377号、同55−154198号等
で知られている。この種の記録材料による記録、即ち画
像形成及び消去は感熱層の温度による透明度変化を利用
したものである。BACKGROUND ART As a heat-sensitive recording material capable of reversible recording and erasing, a heat-sensitive recording material having a heat-sensitive layer in which an organic low-molecular substance such as a higher alcohol or a higher fatty acid is dispersed in a resin such as polyester on a support is disclosed in, for example, These are known from JP-A-54-119377 and JP-A-55-154198. Recording with this type of recording material, that is, image formation and erasing, utilizes a change in transparency due to the temperature of the heat-sensitive layer.
しかしこれらの可逆性感熱記録材料においては画像を
見易くするために支持体として黒色等に着色したものを
用いると、コントラストが著しく低下するという欠点が
あった。そこで本発明者らはこのような欠点を除去する
ため、先に特願昭62−171629号において金属製光反射層
を設けることを提案した。However, these reversible thermosensitive recording materials have a drawback that the contrast is remarkably lowered when a support colored in black or the like is used as a support in order to make the image easy to see. Therefore, the present inventors have previously proposed in Japanese Patent Application No. 62-171629 to provide a metal light reflecting layer in order to eliminate such a defect.
しかしこの可逆性感熱記録材料も光反射層である金属
表面上に直接感熱層を設けた場合には両層間の接着性が
悪いため、耐久性に劣るものであった。However, this reversible thermosensitive recording material was also inferior in durability when the thermosensitive layer was provided directly on the metal surface serving as the light reflecting layer, because of poor adhesion between the two layers.
目的 本発明の目的は高コントラストで、且つ耐久性の優れ
た可逆性感熱記録材料を提供することである。An object of the present invention is to provide a reversible thermosensitive recording material having high contrast and excellent durability.
構成 本発明の可逆性感熱記録材料は表面の少くとも一部が
金属からなる支持体上に樹脂母材とこの樹脂母材中に分
散された有機低分子物質を主成分としてなり、温度に依
存して透明度が可逆的に変化する感熱層を設けた可逆性
感熱記録材料において、前記樹脂母材の主成分が塩化ビ
ニルとビニル基含有燐酸エステルと他のビニル系モノマ
ーとを主体とする共重合体であることを特徴とするもの
である。The reversible thermosensitive recording material of the present invention comprises a resin base material and an organic low-molecular substance dispersed in the resin base material as a main component on a support having at least a part of the surface made of metal, and is dependent on temperature. In a reversible thermosensitive recording material provided with a thermosensitive layer whose transparency reversibly changes, a main component of the resin base material is a copolymer containing mainly vinyl chloride, a vinyl group-containing phosphate ester and another vinyl monomer. It is characterized by being united.
本発明記録材料の記録原理は感熱層の温度による透明
度変化、即ち透明から白濁不透明への変化又はその逆の
変化を利用したものである。なお透明部が透明に見える
のはこの部分の樹脂母材中に分散された有機低分子物質
粒子が大きな結晶で構成されているため、一方の側から
入射した光は散乱されることなく、他方の側に透過する
からであると考えられる。また不透明部が白く見えるの
はこの部分の樹脂母材中に分散された有機低分子物質粒
子の微細結晶が集合した多結晶で構成され、個々の結晶
の結晶軸が様々な方向に向いているため、一方の側から
入射した光は各結晶の界面で何度も屈折し散乱されるか
らであると考えられる。The recording principle of the recording material of the present invention utilizes a change in transparency due to the temperature of the heat-sensitive layer, that is, a change from transparent to cloudy and opaque or vice versa. Note that the transparent portion looks transparent because the organic low-molecular substance particles dispersed in the resin base material of this portion are composed of large crystals, so that light incident from one side is not scattered, and the other It is considered that the light is transmitted to the side of. The opaque part looks white because it is composed of polycrystals in which fine crystals of organic low-molecular substance particles dispersed in the resin base material are gathered, and the crystal axes of the individual crystals are oriented in various directions. Therefore, it is considered that the light incident from one side is refracted and scattered many times at the interface of each crystal.
以上のような温度による透明度変化を図面によって説
明する。第1図において感熱層は例えばT0以下の常温で
は白濁不透明状態にある。これをT1〜T2間の温度に加熱
すると透明になり、この状態でT0以下の常温に戻しても
透明のままである。これは温度T1〜T2間から温度T0以下
に至るまでに有機低分子物質が半溶融状態を経て多結晶
から単結晶へと結晶が成長するからであると考えられ
る。更にT3以上の温度に加熱すると、最大透明度と最大
不透明度との中間の半透明状態になる。次にこの温度を
下げて行くと、再び透明状態をとることなく、最初の白
濁不透明状態に戻る。これは温度T3以上で有機低分子物
質が溶融後、冷却されることにより多結晶が析出するか
らであると考えられる。なおこの不透明状態のものをT0
〜T1間の温度に加熱した後、常温、即ち、T0以下の温度
に冷却した場合には透明と不透明との間の中間状態をと
ることができる。また前記、常温で透明になったものも
再びT3以上の温度に加熱し、常温に戻せば、再び白濁不
透明状態に戻る。即ち常温で不透明及び透明の両形態並
びにその中間状態をとることができる。The above-described change in transparency due to temperature will be described with reference to the drawings. In cloudy opaque state in the heat-sensitive layer, for example T 0 or less at room temperature in the first view. When this is heated to a temperature between T 1 and T 2 , it becomes transparent, and in this state, it remains transparent even if it is returned to room temperature of T 0 or lower. This is believed to low-molecular organic material before reaching the temperature T 0 or less from between the temperature T 1 through T 2 is because the crystal to a single crystal from a polycrystalline via a semi-molten state grows. Upon further heating to T 3 or more temperature becomes translucent state intermediate between the maximum transparency and the maximum opacity. Next, when the temperature is lowered, the state returns to the original cloudy and opaque state without taking the transparent state again. This after low-molecular organic material is melted at a temperature T 3 or more, is considered to be because polycrystalline precipitates by being cooled. In this opaque state, T 0
After heating to a temperature between through T 1, ambient temperature, that is, when cooled to T 0 temperature below it can take an intermediate state between the opaque and transparent. The above things became clear at room temperature also again heated to T 3 or higher, by returning to room temperature, return to the cloudy opaque state again. That is, both opaque and transparent forms at room temperature and intermediate states thereof can be taken.
従って以上のような感熱層を有する感熱記録材料の表
面に選択的に熱を印加することにより記録材料を選択的
に加熱すれば透明地に白濁画像を、又は白濁地に透明画
像を形成することができ、またこの画像形成は何回も繰
返すことができる。またこのような画像を有する感熱記
録材料の背面に着色シートを配置すれば白地に着色シー
トの色の画像、又は着色シートの色の地に白地の画像を
形成することができる。更にこの感熱記録材料をオーバ
ーヘッドプロジェクターのような投影装置で投影すれば
白濁部は暗部として、また透明部は光の透過によって明
部としてスクリーン上に写る。Therefore, if the recording material is selectively heated by selectively applying heat to the surface of the heat-sensitive recording material having the above-described heat-sensitive layer, a cloudy image can be formed on a transparent ground, or a transparent image can be formed on a cloudy ground. This image formation can be repeated many times. If a colored sheet is arranged on the back of the thermosensitive recording material having such an image, an image of the color of the colored sheet on a white background or an image of a white background on the colored background of the colored sheet can be formed. Further, when this heat-sensitive recording material is projected by a projection device such as an overhead projector, the white turbid portions appear as dark portions, and the transparent portions appear as bright portions due to light transmission on the screen.
こゝで前述のように感熱層下に金属製の光反射層を設
けると、一度感熱層を透過した光が反射層で反射されて
再び感熱層中に入り込むため、コントラスト、特に白濁
不透明状態の白濁度は向上するが、光反射層である金属
表面上に直接感熱層を設けると、従来は金属〜感熱層間
の接着性が悪いために、感熱層が剥れ易く、耐久性に問
題があった。そこで本発明者らは感熱層中の樹脂母材と
して金属との接着性が良好な塩化ビニル系共重合体に着
目し、種々検討した結果、塩化ビニルとビニル基含有燐
酸エステルと他のビニル系モノマーとの共重合体が金属
との接着性を大巾に向上し得ることを見出し、本発明に
到達した。Here, if a metal light reflecting layer is provided below the heat-sensitive layer as described above, light that has once passed through the heat-sensitive layer is reflected by the reflection layer and enters the heat-sensitive layer again, so that the contrast, particularly the cloudy opaque state Although the turbidity is improved, if a heat-sensitive layer is provided directly on the metal surface as the light reflection layer, the heat-sensitive layer is easily peeled off because of poor adhesion between the metal and the heat-sensitive layer, and there is a problem in durability. Was. Therefore, the present inventors focused on a vinyl chloride copolymer having good adhesion to metal as a resin base material in the heat-sensitive layer, and as a result of various studies, found that vinyl chloride, a vinyl group-containing phosphoric ester and another vinyl-based copolymer were used. The present inventors have found that a copolymer with a monomer can greatly improve the adhesion to a metal, and have reached the present invention.
本発明の可逆性感熱記録材料を作るには一般には下記
方法により支持体上に感熱層を形成する方法が採用され
る。In order to prepare the reversible thermosensitive recording material of the present invention, a method of forming a thermosensitive layer on a support by the following method is generally employed.
即ち、樹脂母材及び有機低分子物質を溶解した溶液、
又は樹脂母材の溶液(溶剤としては有機低分子物質を溶
解しないものを用いる)に有機低分子物質を微粒子状に
分散してなる分散液を支持体上に塗布乾燥して感熱層を
形成する。こうして形成される感熱層においては有機低
分子物質は樹脂母材中に微粒子として分散状態で存在す
る。That is, a solution in which a resin base material and an organic low-molecular substance are dissolved,
Alternatively, a heat-sensitive layer is formed by applying a dispersion of a low-molecular-weight organic substance in the form of fine particles in a solution of a resin base material (a solvent that does not dissolve the low-molecular-weight organic substance as a solvent) on a support and drying. . In the heat-sensitive layer thus formed, the organic low-molecular substance exists in a dispersed state as fine particles in the resin base material.
なお感熱層の厚さは1〜30μm、好ましくは3〜20μ
m程度が適当である。The thickness of the heat-sensitive layer is 1 to 30 μm, preferably 3 to 20 μm.
About m is appropriate.
また必要に応じて感熱層の上に更に保護層を設けるこ
とができる。保護層の厚さは10μm以下が好ましい。If necessary, a protective layer can be further provided on the heat-sensitive layer. The thickness of the protective layer is preferably 10 μm or less.
次に以上のような感熱記録材料に用いられる材料等に
ついて説明する。Next, materials and the like used for the above-described thermosensitive recording material will be described.
まず支持体としては表面は少くとも一部が金属からな
るものが使用される。具体的にはプラスチックフィル
ム、紙等に真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパ
ッタリング法等で金属薄膜を形成したもの;同様にプラ
スチックフィルム、紙等に金属薄膜を接着したもの;金
属フィルム又はシート等が挙げられる。金属としては光
を反射するものであればいかなるものでもよく、例えば
Al,Ge,Au,Ag,Cu及びそれらの合金が挙げられる。なお金
属表面は余分な光の正反射を抑えてどの角度からも見易
い画像を形成するために、適当な方法(例えば特願昭63
−252767号、同63−306855号)で凹凸形状にしてもよ
い。またプラスチックフィルム、紙等と金属薄膜との間
に磁気記録層を設けてもよく、このような支持体を用い
た場合には画像形成と磁気記録とを同一面で行なうこと
ができ、特にカード等、小サイズ用として限られた面積
を有効に利用することができる。但しこの場合、磁気ヘ
ッドによる磁気記録の読取りは感熱層の上から行なう必
要上、感熱層の厚さは8μm以下、好ましくは5μm以
下に抑える。First, a support whose surface is at least partially made of metal is used. Specifically, a thin metal film formed on a plastic film, paper, or the like by a vacuum evaporation method, an ion plating method, a sputtering method, or the like; similarly, a thin metal film adhered to a plastic film, paper, or the like; a metal film or sheet, etc. Is mentioned. Any metal may be used as long as it reflects light, for example,
Al, Ge, Au, Ag, Cu and their alloys are mentioned. In order to form an image that can be easily viewed from any angle by suppressing the specular reflection of extra light on the metal surface, an appropriate method (for example, Japanese Patent Application No.
-252767, 63-306855). A magnetic recording layer may be provided between a plastic film, paper, or the like and a metal thin film. When such a support is used, image formation and magnetic recording can be performed on the same surface. For example, a limited area for small size can be effectively used. However, in this case, reading of magnetic recording by the magnetic head must be performed from above the heat-sensitive layer, and the thickness of the heat-sensitive layer is suppressed to 8 μm or less, preferably 5 μm or less.
次に感熱層に使用される材料は次の通りである。 Next, the materials used for the heat-sensitive layer are as follows.
まず樹脂母材の主成分として用いられる塩化ビニルと
ビニル基含有燐酸エステルと他のビニル系モノマーとの
共重合体を構成するビニル基含有燐酸エステルは下記一
般式で表わされるものである。First, a vinyl group-containing phosphate ester constituting a copolymer of vinyl chloride, a vinyl group-containing phosphate ester, and another vinyl monomer used as a main component of the resin base material is represented by the following general formula.
一般式I; (但しR1は−H又は−CH3、R2は−H、−CH3又は−CH2C
l、R3は−H、炭素数8以下のアルキル基、又はフェニ
ル基、nは1〜10の整数である。) 一般式II; (但しR1,R2及びnは前記一般式Iに同じ) 前記一般式I及びIIの化合物の具体例は次の通りであ
る。General formula I; (However, R 1 is -H or -CH 3 , R 2 is -H, -CH 3 or -CH 2 C
l and R 3 are —H, an alkyl group having 8 or less carbon atoms, or a phenyl group, and n is an integer of 1 to 10. ) General formula II; (However, R 1 , R 2, and n are the same as those in the general formula I.) Specific examples of the compounds of the general formulas I and II are as follows.
前記共重合体を構成する他のビニル系モノマーとして
は酢酸ビニル等のカルボン酸ビニル、塩化ビニリデン、
アクリロニトリル、アクリル酸エステル、メタクリル酸
エステル、ビニルエーテル、マレイン酸、マレイン酸エ
ステル、スチレン、プロピレン、エチレン等が挙げられ
る。これらは単独又は2種以上混合して使用される。 As other vinyl monomers constituting the copolymer, vinyl carboxylate such as vinyl acetate, vinylidene chloride,
Acrylonitrile, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, vinyl ether, maleic acid, maleic acid ester, styrene, propylene, ethylene and the like can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.
次に本発明に使用される共重合体を製造する一般的方
法を説明する。Next, a general method for producing the copolymer used in the present invention will be described.
この共重合体の製造は通常の溶液重合法、懸濁重合
法、塊状重合法、乳化重合法で実施できるが、実用的な
方法は溶液重合法及び懸濁重合法である。ここでは溶液
重合法による製造方法について説明すると、この方法の
場合は塩化ビニル、ビニル基含有燐酸エステル及び他の
ビニル系モノマーを重合開始剤の存在下に溶媒中で加
熱、反応させればよい。こゝでビニル基含有燐酸エステ
ルは最初から一度に添加するより、塩化ビニルと他のビ
ニル系モノマーとの共重合反応が進むにつれて連続的に
添加した方が均一組成の共重合体が得られ、有機低分子
物質の分散性及び感熱層形成時の塗膜の物性の面で好ま
しい。また必要に応じて得られた共重合体をアルコール
の存在下、触媒として塩酸を用いてケン化反応を行なう
ことも可能である。いずれにしても塩化ビニル、ビニル
基含有燐酸エステル及び他のビニル系モノマーの使用量
は夫々50〜95%(重量、以下同様)、0.1〜10%、0.1〜
45%が適当である。The production of this copolymer can be carried out by a usual solution polymerization method, suspension polymerization method, bulk polymerization method, or emulsion polymerization method, but practical methods are a solution polymerization method and a suspension polymerization method. Here, a production method by a solution polymerization method will be described. In this method, vinyl chloride, a phosphoric ester having a vinyl group and another vinyl monomer may be heated and reacted in a solvent in the presence of a polymerization initiator. Here, rather than adding the vinyl group-containing phosphate at once from the beginning, a copolymer having a uniform composition can be obtained by continuously adding the vinyl chloride and the other vinyl-based monomer as the copolymerization reaction proceeds, It is preferable in terms of the dispersibility of the organic low-molecular substance and the physical properties of the coating film when forming the heat-sensitive layer. If necessary, the obtained copolymer can be subjected to a saponification reaction in the presence of alcohol using hydrochloric acid as a catalyst. In any case, the amounts of vinyl chloride, vinyl group-containing phosphoric acid ester and other vinyl monomers used are 50 to 95% (weight, the same applies hereinafter), 0.1 to 10%, 0.1 to 10%, respectively.
45% is appropriate.
本発明では樹脂母材として以上のようにして得られる
共重合体をポリ塩化ビニル、塩化ビニル〜酢酸ビニル共
重合体、ポリエステル等の他の樹脂と混合して用いるこ
とも可能である。In the present invention, the copolymer obtained as described above can be used as a resin base material by mixing with other resins such as polyvinyl chloride, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, and polyester.
一方、有機低分子物質は第1図の温度T0〜T3を選定す
ることに応じて適宜選択すればよいが、融点30〜200
℃、特に50〜150℃程度のものが好ましい。このような
有機低分子物質としてはアルカノール;アルカンジオー
ル;ハロゲンアルカノールまたはハロゲンアルカンジオ
ール;アルキルアミン;アルカン;アルケン;アルキ
ン;ハロゲンアルカン;ハロゲンアルケン、ハロゲンア
ルキン;シクロアルカン;シクロアルケン;シクロアル
キン;飽和または不飽和モノまたはジカルボン酸または
これらのエステル、アミド、またはアンモニウム塩;飽
和または不飽和ハロゲン脂肪酸またはこれらのエステ
ル、アミド、またはアンモニウム塩;アリルカルボン酸
またはそれらのエステル、アミドまたはアンモニウム
塩;ハロゲンアリルカルボン酸またはそれらのエステ
ル、アミド、またはアンモニウム塩;チオアルコール;
チオカルボン酸またはそれらのエステル、アミン、また
はアンモニウム塩;チオアルコールのカルボン酸エステ
ル等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上混合し
て使用される。これらの化合物の炭素数は10〜60、好ま
しくは10〜38、特に10〜30が好ましい。エステル中のア
ルコール基部分は飽和していても飽和していなくてもよ
く、またハロゲン置換されていてもよい。いずれにして
も有機低分子物質は分子中に酸素、窒素、硫黄及びハロ
ゲンの少なくとも1種、例えば−OH,−COOH,−CONH,−C
OOR,−NH−,−NH2,−S−,−S−S−,−O−,ハロ
ゲン等を含む化合物であることが好ましい。On the other hand, the organic low-molecular substance may be appropriately selected in accordance with the selection of the temperatures T 0 to T 3 in FIG.
° C, particularly preferably about 50 to 150 ° C. Such organic low molecular weight substances include alkanol; alkane diol; halogen alkanol or halogen alkane diol; alkylamine; alkane; alkene; alkyne; halogen alkane; halogen alkene, halogen alkyne; cycloalkane; cycloalkene; cycloalkyne; Unsaturated or monocarboxylic acids or their esters, amides or ammonium salts; saturated or unsaturated halogen fatty acids or their esters, amides or ammonium salts; allylcarboxylic acids or their esters, amides or ammonium salts; Acids or their esters, amides or ammonium salts; thioalcohols;
Thiocarboxylic acids or their esters, amines, or ammonium salts; carboxylic acid esters of thioalcohols, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. The carbon number of these compounds is 10 to 60, preferably 10 to 38, particularly preferably 10 to 30. The alcohol group in the ester may be saturated or unsaturated, and may be halogen-substituted. In any case, the organic low molecular weight substance contains at least one of oxygen, nitrogen, sulfur and halogen in the molecule, for example, -OH, -COOH, -CONH, -C
OOR, -NH -, - NH 2 , -S -, - S-S -, - O-, is preferably a compound containing a halogen and the like.
更に具体的にはこれら化合物にはラウリン酸、ドデカ
ン酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、パルミチン酸、
ステアリン酸、ベヘン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、
オレイン酸等の高級脂肪酸;ステアリン酸メチル、ステ
アリン酸テトラデシル、ステアリン酸オクタデシル、ラ
ウリン酸オクタデシル、パルミチン酸テトラデシル、ベ
ヘン酸ドコシル等の高級脂肪酸のエステル; 等のエーテル又はチオエーテル等がある。More specifically, these compounds include lauric acid, dodecanoic acid, myristic acid, pentadecanoic acid, palmitic acid,
Stearic acid, behenic acid, nonadecanoic acid, arachiic acid,
Higher fatty acids such as oleic acid; esters of higher fatty acids such as methyl stearate, tetradecyl stearate, octadecyl stearate, octadecyl laurate, tetradecyl palmitate, docosyl behenate; And ether or thioether.
なお感熱層中の有機低分子物質と樹脂母材との割合は
重量比で1:0.5〜1:16程度、特に1:1〜1:3が好ましい。
樹脂母材の割合がこれ以下になると、有機低分子物質を
樹脂母材中に保持した膜を形成することが困難となり、
一方、これ以上になると、有機低分子物質の量が少ない
ため、不透明化が困難となる。The ratio between the organic low-molecular substance and the resin base material in the heat-sensitive layer is preferably about 1: 0.5 to 1:16, particularly preferably 1: 1 to 1: 3 by weight.
When the ratio of the resin base material is less than this, it becomes difficult to form a film holding the organic low-molecular substance in the resin base material,
On the other hand, if it is more than this, the amount of the organic low-molecular substance is small, so that it is difficult to make the material opaque.
また本発明においては有機低分子物質の結晶成長を制
御する物質を併用することができる。このような物質と
しては有機低分子物質と共融し、且つ有機低分子物質が
半溶融状態にある温度範囲を広げることができるもの、
結晶の動きを促進するもの等が挙げられる。例えば一般
的に界面活性剤として用いられているもので、多価アル
コール高級脂肪酸エステル;多価アルコール高級アルキ
ルエーテル;多価アルコール高級脂肪酸エステル、高級
アルコール、高級アルキルフェノール、高級脂肪酸高級
アルキルアミン、高級脂肪酸アミド、油脂又はポリプロ
ピレングリコールの低級オレフィンオキサイド付加物;
アセチレングリコール;高級アルキルベンゼンスルホン
酸のNa、Ca、Ba又はMg塩;芳香族カルボン酸、高級脂肪
族スルホン酸、芳香族スルホン酸硫酸モノエステル又は
リン酸モノー又はジーエステルのCa、Ba又はMg塩;低度
硫酸化油;ポリ長鎖アルキルアクリレート;アクリル系
オリゴマー;ポリ長鎖アルキルメタクリレート;長鎖ア
ルキルメタクリレート〜アミン含有モノマー共重合体;
スチレン〜無水マレイン酸共重合体;オレフィン〜無水
マレイン酸共重合体;オレフィン〜無水マレイン酸共重
合体等が挙げられる。またフィルムの可塑剤として用い
られているリン酸トリブチル、リン酸トリ−2−エチル
ヘキシル、リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、
オレイン酸ブチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸
ジ−n−オクチル、フタル酸ジ−2−エチルヘキシル、
フタル酸ジイソノニル、フタル酸ジオクチルデシル、フ
タル酸ジイソデシル、フタル酸ブチルベンジル、アジピ
ン酸ジブチル、アジピン酸ジ−n−ヘキシル、アジピン
酸ジ−2−エチルヘキシル、アゼライン酸ジ−2−エチ
ルヘキシル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジ−2−
エチルヘキシル、ジエチレングリコールジベンゾエー
ト、トリエチレングリコールジ−2−エチルブチラー
ト、アセチルリシノール酸メチル、アセチルリシノール
酸ブチル、ブチルフタリルブチルグリコレート、アセチ
ルクエン酸トリブチル等が挙げられる。In the present invention, a substance that controls the crystal growth of an organic low-molecular substance can be used in combination. Such a substance can be eutectic with an organic low-molecular substance and expand the temperature range in which the organic low-molecular substance is in a semi-molten state,
One that promotes the movement of the crystal may be used. For example, those commonly used as surfactants, higher fatty acid esters of polyhydric alcohols; higher alkyl ethers of polyhydric alcohols; higher fatty acid esters of polyhydric alcohols, higher alcohols, higher alkyl phenols, higher fatty acid higher alkyl amines, higher fatty acids A lower olefin oxide adduct of amide, fat or polypropylene glycol;
Acetylene glycol; Na, Ca, Ba or Mg salt of higher alkylbenzene sulfonic acid; Ca, Ba or Mg salt of aromatic carboxylic acid, higher aliphatic sulfonic acid, aromatic monosulfonic acid monoester or diester phosphate; Low-sulfated oil; poly long-chain alkyl acrylate; acrylic oligomer; poly long-chain alkyl methacrylate; long-chain alkyl methacrylate-amine-containing monomer copolymer;
Styrene-maleic anhydride copolymer; olefin-maleic anhydride copolymer; olefin-maleic anhydride copolymer. Tributyl phosphate, tri-2-ethylhexyl phosphate, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate used as a plasticizer for the film,
Butyl oleate, dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diheptyl phthalate, di-n-octyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate,
Diisononyl phthalate, dioctyldecyl phthalate, diisodecyl phthalate, butylbenzyl phthalate, dibutyl adipate, di-n-hexyl adipate, di-2-ethylhexyl adipate, di-2-ethylhexyl azelate, dibutyl sebacate, Di-2-sebacic acid
Examples include ethylhexyl, diethylene glycol dibenzoate, triethylene glycol di-2-ethyl butyrate, methyl acetyl ricinoleate, butyl acetyl ricinoleate, butyl phthalyl butyl glycolate, and tributyl acetyl citrate.
また先に挙げた有機低分子物質の中の一種を有機低分
子物質として用い、別の種類の有機低分子物質を結晶成
長を制御する物質として用いることもできる。例えばス
テアリン酸を有機低分子物質とし、ステアリルアルコー
ルを結晶成長を制御する物質として用いる。In addition, one of the above-mentioned organic low-molecular substances can be used as an organic low-molecular substance, and another type of organic low-molecular substances can be used as a substance for controlling crystal growth. For example, stearic acid is used as a low-molecular organic substance, and stearyl alcohol is used as a substance for controlling crystal growth.
有機低分子物質とこの有機低分子物質の結晶成長を制
御する物質は重量比で1:0.01〜1:0.8程度が好ましい。
有機低分子物質の結晶成長を制御する物質がこれ以下に
なると透明になる温度範囲又はエネルギー範囲を広くす
ることができないし、これ以上になると不透明度が低下
する。The weight ratio of the organic low-molecular substance and the substance controlling the crystal growth of the organic low-molecular substance is preferably about 1: 0.01 to 1: 0.8.
If the substance controlling the crystal growth of the organic low-molecular substance is less than this, the temperature range or energy range in which it becomes transparent cannot be widened, and if it exceeds this, the opacity decreases.
感熱層形成用の溶媒としては、有機低分子物質及び樹
脂母材の種類によって各種のものを用いることが可能で
ある。例えばテトラヒドロフラン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、クロロホルム、四塩化炭
素、エタノール、トルエン、ベンゼン等の有機溶剤が挙
げられる。保護層の材料としては透明材料が好ましく、
例えばシリコーンゴム、シリコーン樹脂(例えば特開昭
63−221087号記載のもの)、ポリシロキサングラフトポ
リマー(例えば特開昭62−317385号記載のもの)、紫外
線又は電子線硬化性樹脂等が使用できる。As the solvent for forming the heat-sensitive layer, various solvents can be used depending on the type of the organic low-molecular substance and the resin base material. Examples include organic solvents such as tetrahydrofuran, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, chloroform, carbon tetrachloride, ethanol, toluene and benzene. As a material of the protective layer, a transparent material is preferable,
For example, silicone rubber, silicone resin (for example,
63-221087), polysiloxane graft polymers (for example, those described in JP-A-62-317385), and ultraviolet or electron beam curable resins.
以下に本発明を実施例によって説明する。なお「部」
及び「%」はいずれも重量基準である。Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples. "Department"
And “%” are based on weight.
実施例1 50μm厚のAl蒸着ポリエステルフィルムからなる支持
体のAl蒸着面上に ベヘン酸 8部 ステアリルステアレート 2部 フタル酸ジ(2−エチルヘキシル) 2部 塩化ビニル〜酢酸ビニル〜ビニル基含有燐酸エステル
共重合体(比率85:14:1,燐酸エステルはアシッドホスホ
オキシエチルメタクリレート) 20部 テトラヒドロフラン 150部 トルエン 15部 よりなる溶液をワイヤーバーで塗布し、加熱乾燥して4
μm厚の感熱層を設け、ついで65℃に再加熱することに
より感熱層が透明化した可逆性感熱記録材料を作成し
た。Example 1 Behenic acid 8 parts Stearyl stearate 2 parts Di (2-ethylhexyl) phthalate 2 parts Vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl group-containing phosphoric acid ester on the Al-deposited surface of a support made of an Al-deposited polyester film having a thickness of 50 μm Copolymer (ratio 85: 14: 1, phosphoric acid ester is acid phosphooxyethyl methacrylate) 20 parts Tetrahydrofuran 150 parts Toluene 15 parts A solution composed of a wire bar is applied, dried by heating and dried.
A heat-sensitive layer having a thickness of μm was provided, and then reheated to 65 ° C. to prepare a reversible heat-sensitive recording material in which the heat-sensitive layer became transparent.
実施例2 支持体として10μm厚のAl箔と25μm厚のポリエステ
ルフィルムとを貼合せたものを用い、塩化ビニル〜酢酸
ビニル〜ビニル基含有燐酸エステル共重合体を塩化ビニ
ル〜酢酸ビニル〜ビニルアルコール〜ビニル基含有燐酸
エステル共重合体(比率91:2:6:1、燐酸エステルはアシ
ッドホスホオキシプロピルメタクリレート)に変え、且
つ感熱層の厚さを10μmとした他は実施例1と同じ方法
で感熱層が透明な可逆性感熱記録材料を作成した。Example 2 As a support, a 10 μm-thick Al foil and a 25 μm-thick polyester film were bonded together, and a vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl group-containing phosphoric acid ester copolymer was converted from vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol- Heat-sensitive in the same manner as in Example 1 except that the vinyl group-containing phosphate ester copolymer (ratio 91: 2: 6: 1, the phosphate ester was acid phosphooxypropyl methacrylate) and the thickness of the heat-sensitive layer was 10 μm. A reversible thermosensitive recording material having a transparent layer was prepared.
実施例3 ガラス板上にGeを真空蒸着して支持体とし、そのGe面
上に ベヘン酸 8部 1,10−デカンジカルボン酸 2部 フタル酸ジ(2−エチルヘキシル) 2部 塩化ビニル〜塩化ビニリデン〜ビニル基含有燐酸エス
テル共重合体(比率82:15:3、燐酸エステルは3−クロ
ロ−2アシッドホスホオキシプロピルメタクリレート)
20部 テトラヒドロフラン 150部 トルエン 15部 よりなる溶液をワイヤーバーで塗布し、加熱乾燥して15
μm厚の感熱層を設け、その後75℃に再加熱することに
より感熱層が透明化した可逆性感熱記録材料を作成し
た。Example 3 Ge was vacuum-deposited on a glass plate to form a support, and 8 parts of behenic acid 1,2 parts of 10-decanedicarboxylic acid 2 parts of di (2-ethylhexyl) phthalate 2 parts of vinyl chloride to vinylidene chloride -Vinyl group-containing phosphate copolymer (ratio 82: 15: 3, phosphate ester is 3-chloro-2-acid phosphooxypropyl methacrylate)
Apply a solution consisting of 20 parts of tetrahydrofuran 150 parts of toluene 15 parts with a wire bar, and heat and dry.
A heat-sensitive layer having a thickness of μm was provided, and then reheated to 75 ° C. to prepare a reversible heat-sensitive recording material in which the heat-sensitive layer became transparent.
比較例1 塩化ビニル〜酢酸ビニル〜ビニル基含有燐酸エステル
共重合体を塩化ビニル〜酢酸ビニル共重合体(比率86:1
4)に変えた他は実施例1と同じ方法で可逆性感熱記録
材料を作成した。Comparative Example 1 A vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl group-containing phosphate copolymer was converted to a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (ratio 86: 1).
A reversible thermosensitive recording material was prepared in the same manner as in Example 1 except that the method was changed to 4).
比較例2 塩化ビニル〜酢酸ビニル〜ビニルアルコール〜ビニル
基含有燐酸エステル共重合体を塩化ビニル〜酢酸ビニル
〜ビニルアルコール共重合体(比率91:2:7)に変えた他
は実施例2と同じ方法で可逆性感熱記録材料を作成し
た。Comparative Example 2 Same as Example 2 except that the vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol-vinyl group-containing phosphate copolymer was changed to a vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer (ratio 91: 2: 7). A reversible thermosensitive recording material was prepared by the method.
比較例3 塩化ビニル〜塩化ビニリデン〜ビニル基含有燐酸エス
テル共重合体を塩化ビニル〜塩化ビニリデン共重合体
(比率80:20)に変えた他は実施例3と同じ方法で可逆
性感熱記録材料を作成した。Comparative Example 3 A reversible thermosensitive recording material was prepared in the same manner as in Example 3 except that the vinyl chloride-vinylidene chloride-vinyl group-containing phosphate copolymer was changed to a vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer (ratio 80:20). Created.
比較例4 Al蒸着ポリエステルフィルム支持体をカーボンを練り
込んだ厚さ100μmの黒色フィルム支持体に変えた他は
実施例1と同じ方法で可逆性感熱記録材料を作成した。Comparative Example 4 A reversible thermosensitive recording material was produced in the same manner as in Example 1 except that the Al-deposited polyester film support was changed to a black film support having a thickness of 100 μm into which carbon was kneaded.
以上のようにして作成した可逆性感熱記録材料の表面
を部分的に100℃に加熱し白濁化させた。感熱層が透明
な部分及び白濁部分をマクベス反射濃度計RD514で測定
した。また、エリクセン社製モデル295型マルチクロス
カッターを用いて感熱層にカット線(25マス)を入れ、
メンディングテープを貼った後、剥して接着性を評価し
た。The surface of the reversible thermosensitive recording material prepared as described above was partially heated to 100 ° C. to make it turbid. The transparent portion and the cloudy portion of the heat-sensitive layer were measured with a Macbeth reflection densitometer RD514. In addition, a cut line (25 squares) was inserted into the heat-sensitive layer using an Eriksen model 295 type multi-cross cutter,
After sticking the mending tape, it was peeled off and the adhesiveness was evaluated.
その結果を表に示す。 The results are shown in the table.
〔発明の作用効果〕 以上のように本発明の可逆性感熱記録材料は樹脂母材
として塩化ビニル〜ビニル基含有燐酸エステル〜他のビ
ニル系モノマー共重合体を用いたので、金属との接着性
が向上し、このため高コントラストを維持したまゝ耐久
性を向上することができる。 [Effects of the Invention] As described above, the reversible thermosensitive recording material of the present invention uses vinyl chloride, a vinyl group-containing phosphate ester, and other vinyl monomer copolymers as a resin base material. And thus durability can be improved while maintaining high contrast.
第1図は本発明可逆性感熱記録材料の記録及び消去原理
の説明図である。FIG. 1 is an explanatory view of the principle of recording and erasing of the reversible thermosensitive recording material of the present invention.
Claims (1)
上に樹脂母材とこの樹脂母材中に分散された有機低分子
物質とを主成分としてなり、温度に依存して透明度が可
逆的に変化する感熱層を設けた可逆性感熱記録材料にお
いて、前記樹脂母材の主成分が塩化ビニルとビニル基含
有燐酸エステルと他のビニル系モノマーとを主体とする
共重合体であることを特徴とする可逆性感熱記録材料。1. A resin base material and an organic low-molecular substance dispersed in the resin base material as a main component on a support having at least a part of the surface made of metal, and the transparency depends on the temperature. In a reversible thermosensitive recording material provided with a reversibly changing thermosensitive layer, the main component of the resin base material is a copolymer mainly composed of vinyl chloride, a vinyl group-containing phosphate ester, and another vinyl monomer. A reversible thermosensitive recording material characterized by the following.
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP1044675A JP2739992B2 (en) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | Reversible thermosensitive recording material |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
JP1044675A JP2739992B2 (en) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | Reversible thermosensitive recording material |
Publications (2)
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JPH02220889A JPH02220889A (en) | 1990-09-04 |
JP2739992B2 true JP2739992B2 (en) | 1998-04-15 |
Family
ID=12698021
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1044675A Expired - Lifetime JP2739992B2 (en) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | Reversible thermosensitive recording material |
Country Status (1)
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Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2665857B2 (en) * | 1991-05-27 | 1997-10-22 | 株式会社リコー | Reversible thermosensitive recording material |
JP2706188B2 (en) * | 1991-07-22 | 1998-01-28 | 沖電気工業株式会社 | Thermoreversible recording material |
EP0692389B1 (en) * | 1994-01-28 | 1999-09-01 | Ricoh Company, Ltd | Reversible heat-sensitive recording medium, and image forming and erasing method |
-
1989
- 1989-02-23 JP JP1044675A patent/JP2739992B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH02220889A (en) | 1990-09-04 |
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