JP2731809B2 - ジトリルメタンの製造方法 - Google Patents
ジトリルメタンの製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2/00—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms
- C07C2/76—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing a smaller number of carbon atoms by condensation of hydrocarbons with partial elimination of hydrogen
-
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2529/00—Catalysts comprising molecular sieves
- C07C2529/04—Catalysts comprising molecular sieves having base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites, pillared clays
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- C07C2529/40—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof of the pentasil type, e.g. types ZSM-5, ZSM-8 or ZSM-11
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、ジトリルメタンを製造する方法に関するも
のである。
のである。
[従来技術とその課題] 従来、ジトリルメタンを製造する方法としては、メチ
ルベンジルクロライドなどのハロゲン化物をトルエンに
反応させる方法が主なものであった。
ルベンジルクロライドなどのハロゲン化物をトルエンに
反応させる方法が主なものであった。
更に、本発明者らが既に出願した特願昭62−55863号
明細書では、シリカ・アルミナなどの固体酸、塩化アル
ミニウムなどのルイス酸などを不均化触媒として、トル
エンとジフェニルメタンとからジトリルメタンを製造し
ている。
明細書では、シリカ・アルミナなどの固体酸、塩化アル
ミニウムなどのルイス酸などを不均化触媒として、トル
エンとジフェニルメタンとからジトリルメタンを製造し
ている。
結晶性合成アルミノシリケート・ゼオライトとして
は、従来知られているモルデナイト、Y型ゼオライトな
どのゼオライトもあるが、本発明者らにより、これらの
従来のゼオライトは何れも触媒寿命が短いこと、すなわ
ち活性の低下が著しく、また形状選択性も小さく、本発
明の方法には適さないことが見出されている。
は、従来知られているモルデナイト、Y型ゼオライトな
どのゼオライトもあるが、本発明者らにより、これらの
従来のゼオライトは何れも触媒寿命が短いこと、すなわ
ち活性の低下が著しく、また形状選択性も小さく、本発
明の方法には適さないことが見出されている。
それ故、収率や選択率良くジトリルメタンを製造する
方法が望まれている。
方法が望まれている。
[発明の構成] 本発明の目的は、ジトリルメタンを収率および選択率
良く製造することにある。
良く製造することにある。
すなわち、本発明は、SiO2/Al2O3モル比が20以上であ
って、かつ主空洞の入口が10員酸素環からなる結晶性合
成ゼオライト触媒を用いて、反応温度170〜400℃の範囲
で、トルエンとジフェニルメタン、ベンジルトルエンま
たはその混合物とを反応させることを特徴とするジトリ
ルメタンの製造方法に関する。
って、かつ主空洞の入口が10員酸素環からなる結晶性合
成ゼオライト触媒を用いて、反応温度170〜400℃の範囲
で、トルエンとジフェニルメタン、ベンジルトルエンま
たはその混合物とを反応させることを特徴とするジトリ
ルメタンの製造方法に関する。
以下に本発明をさらに詳しく説明する。
SiO2/Al2O3モル比が20以上であって、主空洞の入口が
10員酸素環からなる結晶性合成ゼオライト触媒の代表的
な例は、ZSM−5型触媒であり、この触媒を用いると、
他の従来使用されている触媒と比較して、ジトリルメタ
ンを高い収率および高い選択率を以て得ることができ
る。
10員酸素環からなる結晶性合成ゼオライト触媒の代表的
な例は、ZSM−5型触媒であり、この触媒を用いると、
他の従来使用されている触媒と比較して、ジトリルメタ
ンを高い収率および高い選択率を以て得ることができ
る。
ここで、ZSM−5型のゼオライトを触媒として、トル
エン同士の不均化により、キシレンを製造する方法が既
に開示されている(特開昭50−96532号公報ほか)。こ
れは、当然ながらメチル基の移動によるものである。
エン同士の不均化により、キシレンを製造する方法が既
に開示されている(特開昭50−96532号公報ほか)。こ
れは、当然ながらメチル基の移動によるものである。
ZSM−5型ゼオライトにより、トルエンとジフェニル
メタンとからジトリルメタンを製造する場合、メチル基
の移動が生じるとすれば、トルエンが存在するので、当
然ながらキシレンが生成すると予想される。キシレンが
生成すれば、その分原料トルエンが消費され、ジトリル
メタンの収率が低下し、好ましくないことになる。それ
故、トルエンとジフェニルメタンとからジトリルメタン
を製造するためには、ZSM−5触媒は適当ではないと予
想されるところである。
メタンとからジトリルメタンを製造する場合、メチル基
の移動が生じるとすれば、トルエンが存在するので、当
然ながらキシレンが生成すると予想される。キシレンが
生成すれば、その分原料トルエンが消費され、ジトリル
メタンの収率が低下し、好ましくないことになる。それ
故、トルエンとジフェニルメタンとからジトリルメタン
を製造するためには、ZSM−5触媒は適当ではないと予
想されるところである。
しかるに本発明者らは、意外にもトルエン存在下にも
かかわらず、実質的にキシレンの生成は認められずに反
応が進行し、ジトリルメタンが生成することを見出し
た。トルエンとベンジルトルエンの場合でも同様であ
る。
かかわらず、実質的にキシレンの生成は認められずに反
応が進行し、ジトリルメタンが生成することを見出し
た。トルエンとベンジルトルエンの場合でも同様であ
る。
本発明におけるトルエンとジフェニルメタンまたはベ
ンジルトルエンとの反応条件は次の通りである。
ンジルトルエンとの反応条件は次の通りである。
まず、触媒は、SiO2/Al2O3モル比が20以上であって、
主空洞の入口が10員酸素環からなる結晶性合成アルミノ
シリケート・ゼオライトなどである。このようなゼオラ
イトとしては、主空洞の入口が10員酸素環からなるZSM
−5型の合成ゼオライトや、更に、ゼオライトゼータ
1、ゼオライトゼータ2なども挙げられる。すなわち、
本発明のゼオライトは、10員酸素環からなることで特徴
付けられるものである。従来の合成ゼオライトであるA
型ゼオライト、エリオナイト、オフレタイトなどは、8
員酸素環型小孔型ゼオライトであり、モルデナイト、X
型ゼオライト、Y型ゼオライトなどは12員酸素環型大孔
径ゼオライトである。
主空洞の入口が10員酸素環からなる結晶性合成アルミノ
シリケート・ゼオライトなどである。このようなゼオラ
イトとしては、主空洞の入口が10員酸素環からなるZSM
−5型の合成ゼオライトや、更に、ゼオライトゼータ
1、ゼオライトゼータ2なども挙げられる。すなわち、
本発明のゼオライトは、10員酸素環からなることで特徴
付けられるものである。従来の合成ゼオライトであるA
型ゼオライト、エリオナイト、オフレタイトなどは、8
員酸素環型小孔型ゼオライトであり、モルデナイト、X
型ゼオライト、Y型ゼオライトなどは12員酸素環型大孔
径ゼオライトである。
これら従来の8員酸素環あるいは12員酸素環からなる
ゼオライトは、その構造が本発明のそれとは相違するこ
とに起因して、本発明の方法には適さないものである。
ゼオライトは、その構造が本発明のそれとは相違するこ
とに起因して、本発明の方法には適さないものである。
本発明において用いる結晶性合成ゼオライトは、主空
洞の入り口が10員酸素環からなる構造特性を有し、SiO2
/Al2O3モル比が20以上である結晶合成アルミノシリケー
トであれば何れのものも使用できる。特に好ましくは、
ZSM−5型の合成ゼオライトであり、例えば、ZSM−5、
ZSM−11、ZSM−12、ZSM−22、ZSM−23、ZSM−35、ZSM−
38、ZSM−48などとして知られている。これらのZSM−5
型の合成ゼオライトは、何れもその主空洞の入口が10員
酸素環からなる構造特性を有する。特に好適な合成ゼオ
ライトはZSM−5である。これらZSM−5型ゼオライトの
組成および製法は何れも下記特許公報に記載されてい
る。
洞の入り口が10員酸素環からなる構造特性を有し、SiO2
/Al2O3モル比が20以上である結晶合成アルミノシリケー
トであれば何れのものも使用できる。特に好ましくは、
ZSM−5型の合成ゼオライトであり、例えば、ZSM−5、
ZSM−11、ZSM−12、ZSM−22、ZSM−23、ZSM−35、ZSM−
38、ZSM−48などとして知られている。これらのZSM−5
型の合成ゼオライトは、何れもその主空洞の入口が10員
酸素環からなる構造特性を有する。特に好適な合成ゼオ
ライトはZSM−5である。これらZSM−5型ゼオライトの
組成および製法は何れも下記特許公報に記載されてい
る。
ZSM−5:米国特許第3,702,886号 英国特許第1,161,974号および特公昭46−10064
号 ZSM−8:英国特許第1,334,243号 ZSM−11:米国特許第3,709,979号および特公昭53−23280
号 ZSM−21:米国特許第4,001,346号 ZSM−35:特開昭53−144500号 ゼオライトゼータ1:特開昭51−67299号 ゼオライトゼータ2:特開昭51−67298号 主空洞の入口が10員酸素環からなる構造特性の合成ゼ
オライトは、高いSiO2/Al2O3モル比を一般的に有し、そ
の値は通常20以上である。場合によっては、SiO2/Al2O3
モル比が非常に高く、例えば1600以上のようなゼオライ
トも有効である。さらに場合によっては、シリカライト
と称する実質的にアルミニウムを含まない、すなわちSi
O2/Al2O3モル比が無限大に近いゼオライトを使用するこ
ともできる。このように「高シリカ」ゼオライトも本発
明の定義に含まれる。このSiO2/Al2O3モル比は原子吸光
法などの通常の分析法で測定される。この比はゼオライ
ト結晶の硬質アニオン骨格中の比にできるだけ近い値を
表わし、結合剤中またはチャンネル内のカチオンその他
の形態中のアルミニウムは除かれる。
号 ZSM−8:英国特許第1,334,243号 ZSM−11:米国特許第3,709,979号および特公昭53−23280
号 ZSM−21:米国特許第4,001,346号 ZSM−35:特開昭53−144500号 ゼオライトゼータ1:特開昭51−67299号 ゼオライトゼータ2:特開昭51−67298号 主空洞の入口が10員酸素環からなる構造特性の合成ゼ
オライトは、高いSiO2/Al2O3モル比を一般的に有し、そ
の値は通常20以上である。場合によっては、SiO2/Al2O3
モル比が非常に高く、例えば1600以上のようなゼオライ
トも有効である。さらに場合によっては、シリカライト
と称する実質的にアルミニウムを含まない、すなわちSi
O2/Al2O3モル比が無限大に近いゼオライトを使用するこ
ともできる。このように「高シリカ」ゼオライトも本発
明の定義に含まれる。このSiO2/Al2O3モル比は原子吸光
法などの通常の分析法で測定される。この比はゼオライ
ト結晶の硬質アニオン骨格中の比にできるだけ近い値を
表わし、結合剤中またはチャンネル内のカチオンその他
の形態中のアルミニウムは除かれる。
主空洞の入口が10員酸素環からなる構造は通常X線回
折法で確認される。例えば、本発明の触媒として好まし
いZSM−5型の合成ゼオライトは、それぞれ特有の特性
X線回折パターンを有する(詳しくは、前記特許公報を
参照)。
折法で確認される。例えば、本発明の触媒として好まし
いZSM−5型の合成ゼオライトは、それぞれ特有の特性
X線回折パターンを有する(詳しくは、前記特許公報を
参照)。
しかしながら、このX線回折分析法によらずとも、制
御指数なる測定値をもってX線回折法の代りとすること
もできる。すなわち、本発明の10員酸素環は制御指数で
1〜12の合成ゼオライトであるとも定義できる。ここ
で、該制御指数は特開昭56−133223号公報に具体的な測
定方法が示されている。この指数は、ゼオライト結晶の
細孔構造がn−パラフィンよりも大きな断面積の分子の
接近を制御する程度を示すものである。その測定法は、
該公報に開示されているように、n−ヘキサンと3−メ
チルペンタンを一定条件下でゼオライトに吸着させ、そ
れらの吸着量から計算される。代表的な制御指数は下記
の通りである。
御指数なる測定値をもってX線回折法の代りとすること
もできる。すなわち、本発明の10員酸素環は制御指数で
1〜12の合成ゼオライトであるとも定義できる。ここ
で、該制御指数は特開昭56−133223号公報に具体的な測
定方法が示されている。この指数は、ゼオライト結晶の
細孔構造がn−パラフィンよりも大きな断面積の分子の
接近を制御する程度を示すものである。その測定法は、
該公報に開示されているように、n−ヘキサンと3−メ
チルペンタンを一定条件下でゼオライトに吸着させ、そ
れらの吸着量から計算される。代表的な制御指数は下記
の通りである。
制御指数 ZSM−5 8.3 ZSM−11 8.7 ZSM−35 4.5 非晶質シリカ・アルミナ 0.6 本発明のゼオライトの製造法としてZSM−5の合成方
法を例にとり説明すると、先ず水酸化テトラプロピルア
ンモニウム、酸化ナトリウム、酸化アルミニウム、酸化
珪素および水を含む反応原料を調製する。その組成は前
記公報に記載された範囲として、この反応混合物を加熱
し水熱合成させる。合成後、得られた結晶を空気中で焼
成することにより、ゼオライトZSM−5触媒が得られ
る。水酸化テトラプロピルアンモニウムは、反応系中に
おいてn−プロピルアミンとn−プロピルブロマイドな
どからin situで合成することもできる。ここでは、酸
化アルミニウムを用いる方法を述べたが、実質的にアル
ミニウム原子を含まないZSM−5を合成することも提案
されている。上記方法では、水酸化テトラプロピルアン
モニウムを用いる方法を説明したが、例えばZSM−5の
合成法として、これ以外に種々の有機カチオンまたはそ
の前駆体としての有機化合物を代わりに用いることが提
案されている。この例としては、例えば、アンモニア、
トリアルキルメチルアンモニウムカチオン、トリエチル
−n−プロピルアンモニウムカチオン、C2〜C9第一級モ
ノアルキルアミン、ネオペンチルアミン、ジまたはトリ
アルキルアミン、アルカノールアミン、C5〜C6アルキル
ジアミン、C3〜C12アルキレンジアミン、エチレンジア
ミン、ヘキサメチレンジアミン、C3〜C6ジオール、エチ
レンまたはプロピレングリコール、ペンタエリスリトー
ル、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトー
ル、1,4−ジメトキシシクロヘキサン、ヒドロキノン、
エチレンオキサイドおよびアンモニア、n−ドデシルベ
ンゼンスルフォネート、シクロペンタジエニルフタロシ
アニン錯体、2−アミノピリジン、エチレングリコール
ジメチルエーテル、ジオキサン、ジオキソラン、テトラ
ヒドロフラン、酒石酸などの脂肪族カルボン酸等が挙げ
られる。また、そのほか、例えば結晶化時の種として、
ZSM−5を添加することなどにより、上記例示の有機カ
チオンまたはその前駆体としての有機化合物を添加する
ことなく製造することさえも提案されている。
法を例にとり説明すると、先ず水酸化テトラプロピルア
ンモニウム、酸化ナトリウム、酸化アルミニウム、酸化
珪素および水を含む反応原料を調製する。その組成は前
記公報に記載された範囲として、この反応混合物を加熱
し水熱合成させる。合成後、得られた結晶を空気中で焼
成することにより、ゼオライトZSM−5触媒が得られ
る。水酸化テトラプロピルアンモニウムは、反応系中に
おいてn−プロピルアミンとn−プロピルブロマイドな
どからin situで合成することもできる。ここでは、酸
化アルミニウムを用いる方法を述べたが、実質的にアル
ミニウム原子を含まないZSM−5を合成することも提案
されている。上記方法では、水酸化テトラプロピルアン
モニウムを用いる方法を説明したが、例えばZSM−5の
合成法として、これ以外に種々の有機カチオンまたはそ
の前駆体としての有機化合物を代わりに用いることが提
案されている。この例としては、例えば、アンモニア、
トリアルキルメチルアンモニウムカチオン、トリエチル
−n−プロピルアンモニウムカチオン、C2〜C9第一級モ
ノアルキルアミン、ネオペンチルアミン、ジまたはトリ
アルキルアミン、アルカノールアミン、C5〜C6アルキル
ジアミン、C3〜C12アルキレンジアミン、エチレンジア
ミン、ヘキサメチレンジアミン、C3〜C6ジオール、エチ
レンまたはプロピレングリコール、ペンタエリスリトー
ル、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトー
ル、1,4−ジメトキシシクロヘキサン、ヒドロキノン、
エチレンオキサイドおよびアンモニア、n−ドデシルベ
ンゼンスルフォネート、シクロペンタジエニルフタロシ
アニン錯体、2−アミノピリジン、エチレングリコール
ジメチルエーテル、ジオキサン、ジオキソラン、テトラ
ヒドロフラン、酒石酸などの脂肪族カルボン酸等が挙げ
られる。また、そのほか、例えば結晶化時の種として、
ZSM−5を添加することなどにより、上記例示の有機カ
チオンまたはその前駆体としての有機化合物を添加する
ことなく製造することさえも提案されている。
反応に用いられるゼオライトは、合成時の反応原料に
起因して、例えば、ナトリウムイオンその他の金属イオ
ンを含む。Naなどのアルカリ金属その他の金属として
は、カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金
属、さらに3価の金属でイオン交換したものも使用でき
る。更に、ほう素、カリウム、燐、もしくはこれらの化
合物で変性した結晶性合成アルミノシリケート・ゼオラ
イト、例えば、ZSM−5型ゼオライトも使用することが
できる。これらのイオン交換あるいは変性は、従来公知
の方法により行なうことができる。
起因して、例えば、ナトリウムイオンその他の金属イオ
ンを含む。Naなどのアルカリ金属その他の金属として
は、カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金
属、さらに3価の金属でイオン交換したものも使用でき
る。更に、ほう素、カリウム、燐、もしくはこれらの化
合物で変性した結晶性合成アルミノシリケート・ゼオラ
イト、例えば、ZSM−5型ゼオライトも使用することが
できる。これらのイオン交換あるいは変性は、従来公知
の方法により行なうことができる。
上記のように本発明の結晶性合成ゼオライトは各種の
金属を含むこともできるが、金属イオンを水素イオンで
交換した、いわゆる水素型ゼオライトが本発明の方法に
は好ましい。代表的な水素型ゼオライトは、触媒調製時
の有機カチオンを含む触媒を不活性雰囲気下で、例えば
400〜700℃で1時間加熱し、しかる後にアンモニウム塩
あるいは塩酸などの鉱酸でイオン交換し、例えば300〜6
00℃で焼成することにより活性化され、いわゆる水素型
のゼオライトが得られる。
金属を含むこともできるが、金属イオンを水素イオンで
交換した、いわゆる水素型ゼオライトが本発明の方法に
は好ましい。代表的な水素型ゼオライトは、触媒調製時
の有機カチオンを含む触媒を不活性雰囲気下で、例えば
400〜700℃で1時間加熱し、しかる後にアンモニウム塩
あるいは塩酸などの鉱酸でイオン交換し、例えば300〜6
00℃で焼成することにより活性化され、いわゆる水素型
のゼオライトが得られる。
本発明の反応温度は170〜400℃、好ましくは200〜350
℃である。
℃である。
この範囲よりも反応温度が低い場合は、原料の転化率
が低くなる。また、反対に反応温度がこの範囲よりも高
くなると、キシレンの生成などの副反応が生じるために
何れも好ましくない。
が低くなる。また、反対に反応温度がこの範囲よりも高
くなると、キシレンの生成などの副反応が生じるために
何れも好ましくない。
反応は気相で行なうこともできるが、触媒活性を長く
保つためには、液相で行なうのが適当である。また、気
相は必然的に反応温度を高くする必要があり、反応温度
が高いと前述のようにキシレンの生成などの副反応を生
じ易い。それ故、反応は液相で行なう。
保つためには、液相で行なうのが適当である。また、気
相は必然的に反応温度を高くする必要があり、反応温度
が高いと前述のようにキシレンの生成などの副反応を生
じ易い。それ故、反応は液相で行なう。
反応を液相で行なうために、反応圧は、反応相を液相
に保つために適当な圧力とすることが望ましい。この圧
力は、通常常圧から50kg/cm2の範囲から選択される。
に保つために適当な圧力とすることが望ましい。この圧
力は、通常常圧から50kg/cm2の範囲から選択される。
本発明の方法の反応形式としては、流通式あるいはバ
ッチ式の何れも選択できる。反応時間は、バッチ式では
反応温度その他の反応条件に応じて0.5〜50時間の範囲
から選ばれる。この範囲より反応時間が短いと転化率が
低くなる。また、反応時間を必要以上に長くしても、ジ
トリルメタンの収率は向上せず、むしろ副反応を招くの
みであり好ましくない。
ッチ式の何れも選択できる。反応時間は、バッチ式では
反応温度その他の反応条件に応じて0.5〜50時間の範囲
から選ばれる。この範囲より反応時間が短いと転化率が
低くなる。また、反応時間を必要以上に長くしても、ジ
トリルメタンの収率は向上せず、むしろ副反応を招くの
みであり好ましくない。
流通式の反応形式の場合は、LHSVは0.2〜20、好まし
くは0.5〜10である。LHSVがこれより小さいと副反応が
多くなり、また、時間当りの収率が小さくなるので好ま
しくない。また、逆にLHSVが大きくなり過ぎると反応が
進行せずに、反応原料が未反応のまま系外に流出するこ
とになるので好ましくない。
くは0.5〜10である。LHSVがこれより小さいと副反応が
多くなり、また、時間当りの収率が小さくなるので好ま
しくない。また、逆にLHSVが大きくなり過ぎると反応が
進行せずに、反応原料が未反応のまま系外に流出するこ
とになるので好ましくない。
バッチ式では、反応原料混合物に対して、通常0.1〜1
0重量%、好ましくは0.5〜5重量%の触媒を使用すれば
良い。これより低い触媒濃度では反応が進行せず、一方
これより高い触媒濃度では、必ずしも目的化合物の収率
が向上せず、触媒を多く使用する分だけ不経済となるの
で好ましくない。
0重量%、好ましくは0.5〜5重量%の触媒を使用すれば
良い。これより低い触媒濃度では反応が進行せず、一方
これより高い触媒濃度では、必ずしも目的化合物の収率
が向上せず、触媒を多く使用する分だけ不経済となるの
で好ましくない。
反応系に供給すべきトルエンのジフェニルメタン、ベ
ンジルトルエンまたはそれらの混合物に対する割合は、
モル比で0.5〜20、好ましくは1〜10である。これより
もモル比が小さいと、すなわちジフェニルメタンに対す
るトルエンの使用量が少ないとも、原料転化率が低下す
るので好ましくない。また、その逆に上記範囲よりもモ
ル比を高くし、トルエンを過剰に使用すると、反応1回
当りのジトリルメタンの生成量が少なくなり好ましくな
い。
ンジルトルエンまたはそれらの混合物に対する割合は、
モル比で0.5〜20、好ましくは1〜10である。これより
もモル比が小さいと、すなわちジフェニルメタンに対す
るトルエンの使用量が少ないとも、原料転化率が低下す
るので好ましくない。また、その逆に上記範囲よりもモ
ル比を高くし、トルエンを過剰に使用すると、反応1回
当りのジトリルメタンの生成量が少なくなり好ましくな
い。
反応終了後、未反応トルエン、ジフェニルメタン、ベ
ンジルトルエンおよび本発明の不均化反応の副生成物で
あるベンゼンを分離し、常法により本発明のジトリルメ
タンが得られる。
ンジルトルエンおよび本発明の不均化反応の副生成物で
あるベンゼンを分離し、常法により本発明のジトリルメ
タンが得られる。
[発明の効果] 本発明の方法は、従来の塩化アルミニウム触媒を用い
る方法と比較しても、より重質な成分の副生がない。こ
れは、シリカ・アルミナ触媒と比較しても同様である。
また、実質的にキシレンの生成がない。
る方法と比較しても、より重質な成分の副生がない。こ
れは、シリカ・アルミナ触媒と比較しても同様である。
また、実質的にキシレンの生成がない。
以下に実施例により本発明を詳述する。
[実施例] 触媒調製例 硫酸アルミニウム、硫酸、n−プロピルアミン、n−
プロピルブロマイドを水に溶解させ、この溶液に水ガラ
スを撹拌しながら徐々に加え、できるだけ均一なゲル状
スラリーを調製した。これをオートクレーブに入れ、撹
拌しながら160℃で72時間かけて結晶化させた。結晶化
後濾別し、水洗液が中性になるまで水洗および濾過を繰
り返すことにより、SiO2/Al2O3モル比が70のゼオライト
ZSM−5を得た。得られたゼオライトを空気中で焼成
し、触媒を調製した。この触媒のX線回折図などは、前
記特許公報(特公昭46−10064号)記載のものと一致し
た。更に前記制御指数なども一致し、それ故、該触媒は
その主空洞の入口が10員酸素環からなる構造特性を有す
る。
プロピルブロマイドを水に溶解させ、この溶液に水ガラ
スを撹拌しながら徐々に加え、できるだけ均一なゲル状
スラリーを調製した。これをオートクレーブに入れ、撹
拌しながら160℃で72時間かけて結晶化させた。結晶化
後濾別し、水洗液が中性になるまで水洗および濾過を繰
り返すことにより、SiO2/Al2O3モル比が70のゼオライト
ZSM−5を得た。得られたゼオライトを空気中で焼成
し、触媒を調製した。この触媒のX線回折図などは、前
記特許公報(特公昭46−10064号)記載のものと一致し
た。更に前記制御指数なども一致し、それ故、該触媒は
その主空洞の入口が10員酸素環からなる構造特性を有す
る。
実施例1 上記触媒調製例において調製したゼオライトZSM−5
を塩酸でイオン交換させることにより、水素型に変換し
た水素型ZS−5(12〜14メッシュ)200mlを、内容積250
mlの反応容器に充填し、乾燥窒素を送りながら480℃で
3時間乾燥した。
を塩酸でイオン交換させることにより、水素型に変換し
た水素型ZS−5(12〜14メッシュ)200mlを、内容積250
mlの反応容器に充填し、乾燥窒素を送りながら480℃で
3時間乾燥した。
反応温度290℃、圧力20気圧(窒素雰囲気下)、LHSV
=1.0にてトルエン2モル対ジフェニルメタン1モルの
割合の混合液を通油した。
=1.0にてトルエン2モル対ジフェニルメタン1モルの
割合の混合液を通油した。
通油された反応液をガスクロマトグラム法で分析し、
一定の通油時間後の反応液の組成を調べた。それらの結
果を表1に示す。
一定の通油時間後の反応液の組成を調べた。それらの結
果を表1に示す。
実施例2 内容積2のオートクレーブに、トルエン4モル、ベ
ンジルトルエン2モル、および触媒としてH−ZSM−5
を20gいれ、270℃、20気圧で3時間反応させた。
ンジルトルエン2モル、および触媒としてH−ZSM−5
を20gいれ、270℃、20気圧で3時間反応させた。
反応後、反応液を分析したところ、ベンジルトルエン
の反応率は55%、ジトリルメタンの選択率は70%でジト
リルメタンが生成した。
の反応率は55%、ジトリルメタンの選択率は70%でジト
リルメタンが生成した。
比較例1 内容積250mlの反応容器に、固体酸触媒であるシリカ
・アルミナ触媒N−632L(商品名、日揮(株)製、粒
径:12〜14メッシュ)200mlを充填し、乾燥窒素を送りな
がら250℃で24時間乾燥した。反応温度290℃、圧力20気
圧(窒素雰囲気下)、LHSV=1.0にてトルエン2モル対
ジフェニルメタン1モルの割合の混合液を通油した。実
施例1と同様に、反応液をガスクロマトグラム法で分析
し、一定の通油時間後の反応液の組成を調べた。それら
の結果を表2に併せて示す。
・アルミナ触媒N−632L(商品名、日揮(株)製、粒
径:12〜14メッシュ)200mlを充填し、乾燥窒素を送りな
がら250℃で24時間乾燥した。反応温度290℃、圧力20気
圧(窒素雰囲気下)、LHSV=1.0にてトルエン2モル対
ジフェニルメタン1モルの割合の混合液を通油した。実
施例1と同様に、反応液をガスクロマトグラム法で分析
し、一定の通油時間後の反応液の組成を調べた。それら
の結果を表2に併せて示す。
表1および表2に示す結果によれば、ZSM−5触媒
が、シリカ・アルミナ触媒の場合と比べてジトリルメタ
ンの選択率が高いことが解る。また触媒活性が低下する
割合も、ZSM−5触媒の方が小さいことが解る。
が、シリカ・アルミナ触媒の場合と比べてジトリルメタ
ンの選択率が高いことが解る。また触媒活性が低下する
割合も、ZSM−5触媒の方が小さいことが解る。
比較例2 内容積1のセパラブルフラスコに、トルエン4モ
ル、ジフェニルメタン2モルおよび触媒として塩化アル
ミニウム10gを入れて、室温で5時間間撹拌した。その
後触媒を失活した後、反応液を実施例と同様に分析した
ところ、以下の表3の通りであった。
ル、ジフェニルメタン2モルおよび触媒として塩化アル
ミニウム10gを入れて、室温で5時間間撹拌した。その
後触媒を失活した後、反応液を実施例と同様に分析した
ところ、以下の表3の通りであった。
表3の結果から明らかなように、塩化アルミニウムを
触媒とすると、その反応液中にはジトリルメタンおよび
重質分が多いという欠点があることが解る。
触媒とすると、その反応液中にはジトリルメタンおよび
重質分が多いという欠点があることが解る。
比較例3 内容量250mlの反応容器に、水素型Y型ゼオライト
(ユニオンカーバイド社製、12〜14メッシュ)200mlを
充填し、乾燥窒素を送りながら480℃で3時間乾燥し
た。反応温度180℃、圧力20気圧(窒素雰囲気下)、LHS
V=1.0の反応条件で、トルエン2モル対ジフェニルメタ
ン1モルの混合液を通油した。
(ユニオンカーバイド社製、12〜14メッシュ)200mlを
充填し、乾燥窒素を送りながら480℃で3時間乾燥し
た。反応温度180℃、圧力20気圧(窒素雰囲気下)、LHS
V=1.0の反応条件で、トルエン2モル対ジフェニルメタ
ン1モルの混合液を通油した。
通油した反応液をガスクロマトグラム法で分析し、20
時間通油後の反応液の組成を分析した。結果を表3に併
せて示す。
時間通油後の反応液の組成を分析した。結果を表3に併
せて示す。
この結果によると、Y型ゼオライトはジトリルメタン
の選択率が低く、また活性低下が著しい。この活性低下
は、反応温度を180℃から260℃に昇温させても回復でき
ない活性低下であった。
の選択率が低く、また活性低下が著しい。この活性低下
は、反応温度を180℃から260℃に昇温させても回復でき
ない活性低下であった。
Claims (5)
- 【請求項1】SiO2/Al2O3モル比が20以上であって、かつ
主空洞の入口が10員酸素環からなる結晶性合成ゼオライ
ト触媒を用いて、反応温度170〜400℃の範囲で、トルエ
ンとジフェニルメタン、ベンジルトルエンまたはその混
合物とを反応させることを特徴とするジトリルメタンの
製造方法。 - 【請求項2】前記結晶性合成ゼオライト触媒が、ZSM−
5型触媒である請求項1記載のジトリルメタンの製造方
法。 - 【請求項3】前記ZSM−5型触媒が、ZSM−5である請求
項2記載のジトリルメタンの製造方法。 - 【請求項4】前記反応系に供給すべきトルエンの、ジフ
ェニルメタンまたはベンジルトルエンまたはその混合物
に対するモル比が、0.5〜20である請求項1記載のジト
リルメタンの製造方法。 - 【請求項5】前記反応温度が、200〜350℃である請求項
1記載のジトリルメタンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1054143A JP2731809B2 (ja) | 1989-03-07 | 1989-03-07 | ジトリルメタンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1054143A JP2731809B2 (ja) | 1989-03-07 | 1989-03-07 | ジトリルメタンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02233623A JPH02233623A (ja) | 1990-09-17 |
JP2731809B2 true JP2731809B2 (ja) | 1998-03-25 |
Family
ID=12962336
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1054143A Expired - Fee Related JP2731809B2 (ja) | 1989-03-07 | 1989-03-07 | ジトリルメタンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2731809B2 (ja) |
-
1989
- 1989-03-07 JP JP1054143A patent/JP2731809B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JPH02233623A (ja) | 1990-09-17 |
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