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JP2709535B2 - Photosensitive lithographic printing plate - Google Patents

Photosensitive lithographic printing plate

Info

Publication number
JP2709535B2
JP2709535B2 JP4693291A JP4693291A JP2709535B2 JP 2709535 B2 JP2709535 B2 JP 2709535B2 JP 4693291 A JP4693291 A JP 4693291A JP 4693291 A JP4693291 A JP 4693291A JP 2709535 B2 JP2709535 B2 JP 2709535B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
group
weight
printing plate
lithographic printing
Prior art date
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Expired - Fee Related
Application number
JP4693291A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH04282637A (en
Inventor
慶侍 秋山
忠夫 登山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP4693291A priority Critical patent/JP2709535B2/en
Priority to US07/827,452 priority patent/US5254430A/en
Priority to EP92101561A priority patent/EP0497351B1/en
Priority to DE69219175T priority patent/DE69219175T2/en
Priority to US07/848,854 priority patent/US5230988A/en
Priority to DE69202888T priority patent/DE69202888T2/en
Priority to EP92104199A priority patent/EP0503602B1/en
Publication of JPH04282637A publication Critical patent/JPH04282637A/en
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  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ポジ型感光性平版印刷
版に関するものであり、さらに詳しくは、親水化処理を
施したアルミニウム板上に中間層を設けたo−キノンジ
アジド化合物を含むポジ型感光性平版印刷版に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a positive photosensitive lithographic printing plate and, more particularly, to a positive photosensitive lithographic printing plate comprising an o-quinonediazide compound having an intermediate layer provided on an aluminum plate subjected to a hydrophilic treatment. It relates to a photosensitive lithographic printing plate.

【0002】[0002]

【従来技術】従来、平版印刷版は、アルミニウム板上に
感光性組成物を薄層状に塗設した感光性平版印刷版を画
像露光後、現像して得られる。上記のアルミニウム板は
通常ブラシグレイン法やボールグレイン法のごとき機械
的な方法や電解グレイン法のごとき電気化学的方法ある
いは両者を組合せた方法などの粗面化処理に付され、そ
の表面が梨地状にされたのち、酸またはアルカリ等の水
溶液によりエッチングされ、さらに陽極酸化処理を経た
のち所望により親水化処理が施されて平版印刷版用支持
体とされ、この支持体上に感光層が設けられて感光性平
版印刷版(いわゆるPS版)とされる。このPS版は、
通常、像露光、現像、修正、ガム引き工程を施して平版
印刷版とされ、これを印刷機に取り付けて印刷する。
2. Description of the Related Art Heretofore, a lithographic printing plate is obtained by developing a photosensitive lithographic printing plate obtained by coating a photosensitive composition in a thin layer on an aluminum plate after image exposure. The above aluminum plate is usually subjected to a surface roughening treatment such as a mechanical method such as a brush grain method or a ball grain method, an electrochemical method such as an electrolytic grain method, or a method combining the both, and the surface thereof has a satin finish. After that, the substrate is etched with an aqueous solution of an acid or an alkali, and further subjected to an anodizing treatment and, if desired, subjected to a hydrophilic treatment to form a lithographic printing plate support. A photosensitive layer is provided on the support. To obtain a photosensitive lithographic printing plate (so-called PS plate). This PS version is
Usually, a lithographic printing plate is subjected to image exposure, development, correction, and gumming steps, and is mounted on a printing press for printing.

【0003】しかしながら上記の平版印刷版において、
ポジ作用のPS版を像露光し、現像して得られた平版印
刷版の非画像部には感光層中に含まれる物質が不可逆的
に吸着し、非画像部を汚染するため、いわゆる残色が生
じたり、修正工程で画像部と非画像部の識別が困難であ
ったり、修正跡が明瞭に残り不均一な版面となり、その
程度がひどくなると汚れとなるため印刷版として使用で
きなくなるという問題があった。
However, in the above lithographic printing plate,
The substance contained in the photosensitive layer is irreversibly adsorbed on the non-image area of the lithographic printing plate obtained by image-exposing and developing the positive working PS plate, and contaminates the non-image area. Problem, or it is difficult to distinguish between the image part and the non-image part in the correction process, and the correction mark remains clearly on the non-uniform plate surface. If the degree of the correction becomes severe, the plate becomes dirty and cannot be used as a printing plate. was there.

【0004】これを改善するために、従来は、陽極酸化
処理したアルミニウム支持体表面を、米国特許第3,18
1,461号明細書などに開示されているようなアルカリ
金属シリケート処理(例えば珪酸ナトリウム水溶液)、
あるいは、特公昭36−22063号などに開示されて
いるような弗化ジルコン酸処理、あるいは、米国特許第
3,276,868号明細書などに開示されているポリビニ
ルホスホン酸処理などにより親水化する方法が用いられ
てきた。しかしながらこれらの方法では、非画像部の残
色、あるいは上述した汚れ性は良化するものの感光性組
成物と支持体との密着が充分でないため印刷枚数は、数
百枚程度にしかならなかった。
In order to improve this, the surface of an aluminum support which has been anodized has conventionally been coated with a material such as that described in US Pat.
Alkali metal silicate treatment (for example, sodium silicate aqueous solution) as disclosed in the specification of Japanese Patent No. 1,461,
Alternatively, a treatment with fluorinated zirconic acid as disclosed in JP-B-36-22063 or the like, or U.S. Pat.
A method of hydrophilizing by polyvinyl phosphonic acid treatment and the like disclosed in 3,276,868 and the like has been used. However, in these methods, although the remaining color of the non-image area or the above-mentioned stainability is improved, the number of printed sheets is only several hundreds because the adhesion between the photosensitive composition and the support is insufficient. .

【0005】また、その他に、陽極酸化処理したアルミ
ニウム支持体上に、特開昭60−149491号公報に
開示されているアミノ酸およびその塩類(Na塩、K塩
等のアルカリ金属塩、アンモニウム塩、塩酸塩、蓚酸
塩、酢酸塩、りん酸塩等)、特開昭60−232998
号公報に開示されている水酸基を有するアミン類および
その塩類(塩酸塩、蓚酸塩、りん酸塩等)、特開昭63
−165183号公報に開示されているアミノ基及びホ
スホン酸基を有する化合物又はその塩を下塗りする方法
などが提案されている。
[0005] In addition, amino acids and salts thereof (alkali metal salts such as Na salt and K salt, ammonium salts, etc.) disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 60-1499491 are additionally provided on an anodized aluminum support. Hydrochloride, oxalate, acetate, phosphate, etc.), JP-A-60-232998
Nos. 3,087,067 and 5,887,098. Amines having hydroxyl groups and their salts (hydrochloride, oxalate, phosphate, etc.) disclosed in
A method of undercoating a compound having an amino group and a phosphonic acid group or a salt thereof disclosed in JP-A-165183 is proposed.

【0006】しかしながらこれらの方法では、非画像部
の残色の低減は必ずしも充分でなく、上述の汚れも、現
像液が疲労してくると特にひどく発生したりした。ま
た、アルカリ金属シリケートなどの親水化処理ほどでは
ないものの、耐刷性能は下塗りのない場合よりは、劣化
し、充分ではなかった。
However, in these methods, the reduction of the residual color in the non-image area is not always sufficient, and the above-mentioned stains are particularly seriously generated when the developer becomes fatigued. In addition, although not as good as the hydrophilizing treatment of alkali metal silicate or the like, the printing durability deteriorated and was not sufficient as compared with the case without the undercoat.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、像様
露光後現像処理した時に非画像部の残色(感光層中の色
素成分の残存)が少なく消去液による修正跡汚れの少な
い平版印刷版を与えるようなポジ型感光性平版印刷版を
提供することである。またさらに他の目的は、画像部の
アルミニウム板との密着性が強く耐刷性能の優れた平版
印刷版を与えるようなポジ型感光性平版印刷版を提供す
ることである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a lithographic plate which has less residual color (residual dye components in a photosensitive layer) in a non-image area when developed after imagewise exposure and has less correction stain due to an erasing liquid. The object is to provide a positive photosensitive lithographic printing plate that gives a printing plate. Still another object is to provide a positive photosensitive lithographic printing plate which provides a lithographic printing plate having a high adhesion of an image portion to an aluminum plate and excellent printing durability.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成すべく、鋭意検討した結果本発明を完成するに
至った。本発明は、陽極酸化処理し、その後に親水化処
理を施したアルミニウム板上に、R1(PO(OH)2
n またはR1 −(PO(OH)(R2 ))n (式中、n
は1または2であり、nが1のとき、R1 、R2 は置換
または無置換のアルキル基、アルコキシ基、アリーロキ
シ基、アリール基、アシル基、アシロキシ基を表し、n
が2のときR1 は置換または無置換のアルキレン基また
はアリーレン基を表し、R2 は前記定義のとおりであ
る)で表される化合物群より選ばれた少なくとも1種の
化合物を含む有機層を設け、その上にo−キノンジアジ
ド化合物及び有機高分子重合体を含むポジ型感光層を設
けたことを特徴とする感光性平版印刷版によって達成さ
れる。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies in order to achieve the above object, and have completed the present invention. In the present invention, R 1 (PO (OH) 2 ) is placed on an aluminum plate that has been subjected to anodizing treatment and then subjected to hydrophilic treatment.
n or R 1- (PO (OH) (R 2 )) n where n
Is 1 or 2, and when n is 1, R 1 and R 2 represent a substituted or unsubstituted alkyl group, alkoxy group, aryloxy group, aryl group, acyl group, acyloxy group, and n
Is 2, R 1 represents a substituted or unsubstituted alkylene group or an arylene group, and R 2 is as defined above), the organic layer containing at least one compound selected from the group consisting of And a positive type photosensitive layer containing an o-quinonediazide compound and an organic polymer is provided thereon.

【0009】以下本発明について詳しく説明する。本発
明において用いられるアルミニウム板は、純アルミニウ
ムや、アルミニウムを主成分とし、微量の異原子を含む
アルミニウム合金等の板状体である。この異原子には、
珪素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜
鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の
異原子の含有量は高々10重量%以下である。本発明に
好適なアルミニウムは純アルミニウムであるが、完全に
純粋なアルミニウムは、精練技術上製造が困難であるの
で、できるだけ異原子の含有量の低いものがよい。又、
上述した程度の含有率のアルミニウム合金であれば、本
発明に適用しうる素材ということができる。このように
本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定
されるものではなく従来公知、公用の素材のものを適宜
利用することができる。本発明に用いられるアルミニウ
ム板の厚さは、およそ0.1mm〜0.5mm程度である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. The aluminum plate used in the present invention is a plate-shaped body such as pure aluminum or an aluminum alloy containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign atoms. This foreign atom
There are silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of foreign atoms in the alloy is at most 10% by weight or less. Aluminum which is suitable for the present invention is pure aluminum. However, since pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, it is preferable that the content of foreign atoms be as low as possible. or,
Any aluminum alloy having the above-described content can be said to be a material applicable to the present invention. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and conventionally known and publicly available materials can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.5 mm.

【0010】アルミニウム板を粗面化処理するに先立
ち、所望により、表面の圧延油を除去するための、例え
ば界面活性剤又はアルカリ性水溶液による脱脂処理が行
なわれる。なお本発明の感光性平版印刷版は、片面のみ
使用できるものであっても、両面とも同様な処理によっ
て使用できるものであってもよい。両面でも同様なた
め、以下は、片面の場合について説明する。まず、アル
ミニウム板は、粗面化処理されるが粗面化処理方法とし
ては、機械的に表面を粗面化する方法、電気化学的に表
面を溶解する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方
法がある。機械的に表面を粗面化する方法としては、ボ
ール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨
法等と称せられる公知の方法を用いることができる。ま
た電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中
で交流又は直流により行なう方法がある。また、特開昭
54−63902号公報に開示されているように両者を
組合せた方法も利用することができる。
Prior to the surface roughening treatment of the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant or an alkaline aqueous solution is performed to remove the rolling oil on the surface. The photosensitive lithographic printing plate of the present invention may be one that can be used on one side only, or one that can be used on both sides by the same treatment. Since the same applies to both surfaces, the case of one surface will be described below. First, the aluminum plate is subjected to a surface roughening treatment. As the surface roughening treatment method, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. There is a way. As a method for mechanically roughening the surface, a known method called a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, a buff polishing method, or the like can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can be used.

【0011】このように粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理
される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電
解質としては多孔質酸化皮膜を形成するものならばいか
なるものでも使用することができ、一般には硫酸、燐
酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられ、
それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決め
られる。
The aluminum plate thus roughened is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment as required. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, any electrolyte can be used as long as it forms a porous oxide film.Generally, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used.
The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.

【0012】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解
質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は、5〜70℃、
電流密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解
時間10秒〜50分の範囲にあれば適当である。陽極酸
化皮膜の量は1.0g/m2 以上が好適であるが、より好
ましくは、2.0〜6.0g/m2 の範囲である。陽極酸化
皮膜が1.0gより少ないと耐刷性が不十分であったり、
平版印刷版の非画像部に傷がつき易くなって、印刷時
に、傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が
生じ易くなる。
The anodic oxidation treatment conditions vary depending on the electrolyte used and cannot be specified unconditionally. However, in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, and the solution temperature is 5 to 70 ° C.
It is appropriate that the current density is 5 to 60 A / dm 2 , the voltage is 1 to 100 V, and the electrolysis time is 10 seconds to 50 minutes. The amount of the anodic oxide film is preferably at least 1.0 g / m 2, but is more preferably in the range of 2.0 to 6.0 g / m 2 . If the anodic oxide film is less than 1.0 g, the printing durability is insufficient,
The non-image portion of the lithographic printing plate is easily scratched, and so-called "scratch stain" in which ink adheres to the scratched portion during printing.

【0013】上述の処理を施した後に用いられる親水化
処理としては、従来より知られている、親水化処理が用
いられる。このような親水化処理としては、米国特許第
2,714,066号、第3,181,461号、第3,280,7
34号、第3,902,734号に開示されているようなア
ルカリ金属シリケート(例えば珪酸ナトリウム水溶液)
法がある。この方法においては、支持体が珪酸ナトリウ
ム水溶液中で浸漬処理されるか又は電解処理される。あ
るいは、特公昭36−22063号公報に開示されてい
る弗化ジルコン酸カリウム及び米国特許第3,276,86
8号、第4,153,461号、第4,689,272号に開示
されている様なポリビニルホスホン酸で処理する方法な
どが用いられる。これらの中で特に好ましい親水化処理
はアルカリ金属シリケート処理である。
As the hydrophilization treatment used after the above-mentioned treatment, a conventionally known hydrophilization treatment is used. U.S. Patent No.
No. 2,714,066, No. 3,181,461, No. 3,280,7
No. 34, No. 3,902,734, alkali metal silicates (eg aqueous sodium silicate solution)
There is a law. In this method, the support is immersed or electrolytically treated in an aqueous solution of sodium silicate. Alternatively, potassium fluoride zirconate disclosed in JP-B-36-22063 and U.S. Pat. No. 3,276,86.
No. 8, No. 4,153,461 and No. 4,689,272, for example, a method of treating with polyvinyl phosphonic acid is used. Among these, a particularly preferred hydrophilization treatment is an alkali metal silicate treatment.

【0014】これらの親水化処理を施した後、アルミニ
ウム板上に、後述する種々の方法で下記の有機層を設け
る。本発明に用いられる化合物は、(I)R1 − (PO
(OH)2n 又は(II)R1 −(PO(OH)(R
2 ))n 〔これらの式中、nは1または2であり、nが
1のとき、R1 、R2 は置換または無置換のアルキル基
(好ましくは炭素数1〜14のもの)、アルコキシ基
(好ましくは炭素数1〜14のもの)、アリーロキシ基
(好ましくは炭素数6〜10のもの)、アリール基(好
ましくは炭素数6〜10のもの)、アシル基(好ましく
は炭素数1〜14のもの)、アシロキシ基(好ましくは
炭素数1〜14のもの)であり、nが2のときR1 は置
換または無置換のアルキレン基(好ましくは炭素数1〜
14のもの)またはアリーレン基(好ましくは炭素数6
〜10のもの)を表し、R2 は前記定義のとおりであ
り、置換基としてはアルキル基(但し、アリール残基に
対する置換基に限る)、アリール基(但し、アルキル残
基に対する置換基に限る)、アルコキシ基、アシル基、
アシロキシ基、アリーロキシ基、ビニル基、ヒドロキシ
ル基、カルボキシル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ
基、ハロゲンから選ばれた少なくとも1種である。〕で
表される化合物群より選ばれた少なくとも1種の化合物
である。
After performing these hydrophilic treatments, the following organic layers are provided on the aluminum plate by various methods described below. The compound used in the present invention is (I) R 1- (PO
(OH) 2 ) n or (II) R 1- (PO (OH) (R
2 )) n wherein n is 1 or 2, and when n is 1, R 1 and R 2 are a substituted or unsubstituted alkyl group (preferably having 1 to 14 carbon atoms), alkoxy, Groups (preferably having 1 to 14 carbon atoms), aryloxy groups (preferably having 6 to 10 carbon atoms), aryl groups (preferably having 6 to 10 carbon atoms), acyl groups (preferably having 1 to 14 carbon atoms) 14) and an acyloxy group (preferably having 1 to 14 carbon atoms), and when n is 2, R 1 is a substituted or unsubstituted alkylene group (preferably having 1 to 14 carbon atoms).
14) or an arylene group (preferably having 6 carbon atoms)
And R 2 is as defined above, and the substituent is an alkyl group (limited to a substituent for an aryl residue) or an aryl group (limited to a substituent for an alkyl residue) ), An alkoxy group, an acyl group,
It is at least one selected from an acyloxy group, an aryloxy group, a vinyl group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, a cyano group, a nitro group, and a halogen. At least one compound selected from the group of compounds represented by the formula:

【0015】アリーロキシ基としては、フェノキシ基、
p−クロロフェノキシ基、p−メチルフェノキシ基、ピ
リジニル基、アリール基としては、フェニル基、o−ト
リル基、m−トリル基、p−トリル基、p−クロロフェ
ニル基、アシル基としては、ホルミル基、アセチル基、
プロピオニル基、ベンゾイル基、アシロキシ基として
は、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ピバロイル
オキシ基などが挙げられる。(I)及び(II)の化合物
は、塩の形で用いてもよい。塩としては、カリウム、ナ
トリウム、リチウム等のアルカリ金属塩の他に、カルシ
ウム、コバルト、鉄、ニッケル、マンガン、マグネシウ
ム、バリウム、銅などの塩が挙げられる。
The aryloxy group includes a phenoxy group,
A p-chlorophenoxy group, a p-methylphenoxy group, a pyridinyl group, and an aryl group include a phenyl group, an o-tolyl group, an m-tolyl group, a p-tolyl group, a p-chlorophenyl group, and an acyl group include a formyl group. , Acetyl group,
Examples of the propionyl group, benzoyl group, and acyloxy group include an acetoxy group, a propionyloxy group, and a pivaloyloxy group. The compounds (I) and (II) may be used in the form of a salt. Examples of the salt include salts of calcium, cobalt, iron, nickel, manganese, magnesium, barium, copper, and the like, in addition to alkali metal salts such as potassium, sodium, and lithium.

【0016】以下に具体例を示す。式(1)の化合物の
例としては、フェニルホスホン酸、フェニルリン酸、ナ
フチルホスホン酸、ナフチルリン酸、グリセロホスホン
酸、グリセロリン酸、p−ニトロフェニルホスホン酸、
p−ニトロフェニルリン酸、p−メトキシフェニルホス
ホン酸、p−メトキシフェニルリン酸、p−ヒドロキシ
フェニルホスホン酸、p−ヒドロキシフェニルリン酸、
p−トリルホスホン酸、p−トリルリン酸、p−アセチ
ルフェニルホスホン酸、p−アセチルフェニルリン酸、
p−シアノフェニルホスホン酸、p−シアノフェニルリ
ン酸、m−クロルフェニルホスホン酸、m−クロルフェ
ニルリン酸、メチルホスホン酸、メチレンジホスホン
酸、エチルホスホン酸、エチレンジホスホン酸、2−カ
ルボキシエチルホスホン酸、フォスフォノアセティック
アシッド、2−フェニルエチルホスホン酸、2−ヒドロ
キシエチルホスホン酸、1−ヒドロキシエタン−1,1
−ジホスホン酸、アミノヘキシルリン酸、2−メトキシ
エチルホスホン酸、2−アセチルエチルホスホン酸、グ
リシン−N,N−ビス(メチレンフォスフォン酸)、ホ
スホセリン、ホスホスレオニン、リン酸ピリドキサール
などが挙げられる。
A specific example will be described below. Examples of the compound of the formula (1) include phenylphosphonic acid, phenylphosphoric acid, naphthylphosphonic acid, naphthylphosphoric acid, glycerophosphonic acid, glycerophosphoric acid, p-nitrophenylphosphonic acid,
p-nitrophenylphosphoric acid, p-methoxyphenylphosphonic acid, p-methoxyphenylphosphonic acid, p-hydroxyphenylphosphonic acid, p-hydroxyphenylphosphoric acid,
p-tolylphosphonic acid, p-tolylphosphoric acid, p-acetylphenylphosphonic acid, p-acetylphenylphosphoric acid,
p-cyanophenylphosphonic acid, p-cyanophenylphosphoric acid, m-chlorophenylphosphonic acid, m-chlorophenylphosphonic acid, methylphosphonic acid, methylenediphosphonic acid, ethylphosphonic acid, ethylenediphosphonic acid, 2-carboxyethylphosphone Acid, phosphonoacetic acid, 2-phenylethylphosphonic acid, 2-hydroxyethylphosphonic acid, 1-hydroxyethane-1,1
-Diphosphonic acid, aminohexyl phosphoric acid, 2-methoxyethyl phosphonic acid, 2-acetylethyl phosphonic acid, glycine-N, N-bis (methylenephosphonic acid), phosphoserine, phosphothreonine, pyridoxal phosphate and the like.

【0017】式(II) の化合物の例としては、フェニル
ホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、ジフェニルホス
フィン酸、ジメチルホスフィン酸、p−ニトロフェニル
ホスフィン酸、p−メトキシフェニルホスフィン酸、p
−ヒドロキシフェニルホスフィン酸、p−トリルホスフ
ィン酸、p−アセチルフェニルホスフィン酸、ビスニト
ロフェニルリン酸、リン酸ジオクチル、リン酸ジイソプ
ロピル、リン酸ジブチルエステル、リン酸ジメチルエス
テル、リン酸ジエチルエステル、リン酸ジ−2−エチル
ヘキシルエステル、リン酸ジフェニルエステル、メチル
ホスフィン酸、エチルホスフィン酸、ジエチルホスフィ
ン酸、2−カルボキシエチルホスフィン酸、2−フェニ
ルエチルホスフィン酸、2−ヒドロキシエチルホスフィ
ン酸、2−メトキシエチルホスフィン酸、2−アセチル
エチルホスフィン酸などが挙げられる。
Examples of compounds of formula (II) include phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, diphenylphosphinic acid, dimethylphosphinic acid, p-nitrophenylphosphinic acid, p-methoxyphenylphosphinic acid,
-Hydroxyphenylphosphinic acid, p-tolylphosphinic acid, p-acetylphenylphosphinic acid, bisnitrophenylphosphoric acid, dioctyl phosphate, diisopropyl phosphate, dibutyl phosphate, dimethyl phosphate, diethyl phosphate, phosphoric acid Di-2-ethylhexyl ester, phosphoric acid diphenyl ester, methyl phosphinic acid, ethyl phosphinic acid, diethyl phosphinic acid, 2-carboxyethyl phosphinic acid, 2-phenylethyl phosphinic acid, 2-hydroxyethyl phosphinic acid, 2-methoxyethyl phosphine Acid and 2-acetylethylphosphinic acid.

【0018】これらの化合物は2種以上併用してもよ
い。これらの中で特に好ましい化合物としては、フェニ
ルホスホン酸、フェニルリン酸、ナフチルホスホン酸、
ナフチルリン酸、フェニルホスフィン酸、ジフェニルホ
スフィン酸、ナフチルホスフィン酸が挙げられる。本発
明におるけ有機層は、次のような方法で設けることがで
きる。すなわち、水又はメタノール、エタノールなどの
有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の化合物を溶
解させた溶液を塗布、乾燥して有機層を設ける方法と、
水又はメタノール、エタノールなどの有機溶剤もしくは
それらの混合溶剤に、上記の化合物を溶解させた溶液
に、上述の親水化処理を施したアルミニウム板を浸漬し
て化合物を吸着させ、しかる後、水などによって、洗
浄、乾燥して有機層を設ける方法である。前者の方法で
は、上記のような化合物を0.005〜10重量%の濃度
で溶解した塗布液を種々の方法で塗布できる。例えばバ
ーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗
布等のいずれの方法を用いてもよい。また、本発明の化
合物を溶解した溶液に浸漬後、水などによって洗浄する
方法では、溶液の濃度は0.01〜20重量%、好ましく
は0.05〜5重量%であり、浸漬温度は20℃〜90
℃、好ましくは25℃〜50℃であり、浸漬時間は、0.
1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。
These compounds may be used in combination of two or more. Particularly preferred compounds among these are phenylphosphonic acid, phenylphosphoric acid, naphthylphosphonic acid,
Examples include naphthylphosphoric acid, phenylphosphinic acid, diphenylphosphinic acid, and naphthylphosphinic acid. The organic layer in the present invention can be provided by the following method. That is, a solution in which the above compound is dissolved in water or an organic solvent such as methanol or ethanol or a mixed solvent thereof is applied and dried to form an organic layer,
Water or an organic solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof, is immersed in a solution in which the above compound is dissolved, and the aluminum plate that has been subjected to the above-mentioned hydrophilization treatment is adsorbed by the compound. And drying to provide an organic layer. In the former method, a coating solution in which the above compound is dissolved at a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, and curtain coating may be used. In the method of washing with water or the like after immersion in a solution in which the compound of the present invention is dissolved, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, and the immersion temperature is 20%. ° C to 90
° C, preferably 25 ° C to 50 ° C, and the immersion time is
It is 1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute.

【0019】有機層の乾燥後の被覆量は、2mg/m2
200mg/m2 が適当であり、好ましくは5mg/m2
100mg/m2 、さらに好ましくは10mg/m2 〜60
mg/m2 である。上記の被覆量が2mg/m2 より少ない
と非画像部の残色の低減効果及び耐刷性能が充分でな
い。また、200mg/m2 より多くなると、非画像部の
残色低減効果はあるものの耐刷性能が充分なものが得ら
れない。
The coating amount of the organic layer after drying is 2 mg / m 2 to
200 mg / m 2 is suitable, preferably 5 mg / m 2 to
100 mg / m 2 , more preferably 10 mg / m 2 to 60
mg / m 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2, the effect of reducing the residual color in the non-image area and the printing durability are not sufficient. On the other hand, when the amount is more than 200 mg / m 2, the effect of reducing the residual color in the non-image area is obtained, but the printing durability is not sufficient.

【0020】本発明の有機層を設ける際に使用する溶液
は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウム等
の塩基性物質や、塩酸、リン酸等の酸性物質によりpHを
調節し、pH1〜12の範囲で使用することもできる。ま
た、感光性平版印刷版の調子再現性改良のため、黄色染
料を添加することもできる。また本発明の有機層には公
知の例えばカルボキシメチルセルロース、デキストリ
ン、アラビアゴム、2−アミノエチルホスホン酸などの
アミノ基を有するホスホン酸類、グリシンやβ−アラニ
ンなどのアミノ酸類、トリエタノールアミンの塩酸塩等
のヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等を混合させる
ことができる。本発明の有機層は、上記式(I)及び/
又は(II)の化合物を少なくとも30重量%含むことが
望ましく、より好ましくは80重量%以上、最も好まし
くは100重量%である。
The pH of the solution used for forming the organic layer of the present invention is adjusted by a basic substance such as ammonia, triethylamine or potassium hydroxide or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid. Can also be used. Further, a yellow dye may be added for improving the tone reproducibility of the photosensitive lithographic printing plate. In the organic layer of the present invention, known carboxylic acid having an amino group such as carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, 2-aminoethylphosphonic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochloride of triethanolamine can be used. And the like can be mixed with a hydrochloride of an amine having a hydroxy group. The organic layer of the present invention has the above formula (I) and / or
Or it is desirable to contain at least 30% by weight of the compound of (II), more preferably 80% by weight or more, and most preferably 100% by weight.

【0021】このようにして得られた有機層で被覆され
たアルミニウム支持体上に、公知のo−キノンジアジド
化合物を有するポジ型感光性組成物を含む感光層を設け
て、感光性平版印刷版を得る。上記の感光層の組成物と
しては、露光の前後で現像液に対する溶解性又は膨潤性
が変化するものであればいずれも使用できる。以下、そ
の代表的なものについて説明する。
A photosensitive layer containing a positive photosensitive composition having a known o-quinonediazide compound is provided on the thus obtained aluminum support covered with an organic layer, and a photosensitive lithographic printing plate is prepared. obtain. As the composition for the photosensitive layer, any one can be used as long as its solubility or swelling property in a developer changes before and after exposure. Hereinafter, typical ones will be described.

【0022】o−ナフトキノンジアジド化合物として
は、特公昭43−28403号公報に記載されている
1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロライドとピ
ロガロール−アセトン樹脂とのエステルであるものが好
ましい。その他の好適なオルトキノンジアジド化合物と
しては、米国特許第3,046,120号および同第3,18
8,210号明細書中に記載されている1,2−ジアゾナ
フトキノン−5−スルホン酸クロリドとフェノール−ホ
ルムアルデヒド樹脂とのエステルがあり、特開平2−9
6163号公報、特開平2−96165号公報、特開平
2−96761号公報に記載されている1,2−ジアゾ
ナフトキノン−4−スルホン酸クロリドとフェノール−
ホルムアルデヒド樹脂とのエステルがある。その他の有
用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許
に報告され、知られているものが挙げられる。たとえ
ば、特開昭47−5303号、同48−63802号、
同48−63803号、同48−96575号、同49
−38701号、同48−13354号、特公昭37−
18015号、同41−11222号、同45−961
0号、同49−17481号公報、米国特許第2,797,
213号、同第3,454,400号、同第3,544,323
号、同第3,573,917号、同第3,674,495号、同
第3,785,825号、英国特許第1,227,602号、同
第1,251,345号、同第1,267,005号、同第1,3
29,888号、同第1,330,932号、ドイツ特許第8
54,890号などの各明細書中に記載されているものを
あげることができる。
The o-naphthoquinonediazide compound is preferably an ester of 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin described in JP-B-43-28403. Other suitable orthoquinonediazide compounds include U.S. Pat. Nos. 3,046,120 and 3,18,120.
No. 8,210, described in JP-A No. 2-9, there is an ester of 1,2-diazonaphthoquinone-5-sulfonic acid chloride and a phenol-formaldehyde resin.
No. 6,163, JP-A-2-96165, JP-A-2-96661, and 1,2-diazonaphthoquinone-4-sulfonic acid chloride and phenol.
There are esters with formaldehyde resins. Other useful o-quinonediazide compounds include those reported and known in numerous patents. For example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802,
No. 48-63803, No. 48-96575, No. 49
No. 38701, No. 48-13354, Japanese Patent Publication No. 37-
No. 18015, No. 41-11222, No. 45-961
No. 0, 49-17481, U.S. Pat.
No. 213, No. 3,454,400, No. 3,544,323
No. 3,573,917, No. 3,674,495, No. 3,785,825, British Patent No. 1,227,602, No. 1,251,345, No. 1,267,005, 1,3
No. 29,888, No. 1,330,932, German Patent No. 8
Examples described in each specification such as 54,890 can be mentioned.

【0023】本発明において特に好ましいo−ナフトキ
ノンジアジド化合物は、分子量1,000以下のポリヒド
ロキシ化合物と1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸
クロリドとの反応により得られる化合物である。このよ
うな化合物の具体例は、特開昭51−139402号、
同58−150948号、同58−203434号、同
59−165053号、同60−121445号、同6
0−134235号、同60−163043号、同61
−118744号、同62−10645号、同62−1
0646号、同62−153950号、同62−178
562号、同64−76047号、米国特許第3,102,
809号、同第3,126,281号、同第3,130,047
号、同第3,148,983号、同第3,184,310号、同
第3,188,210号、同第4,639,406号などの各公
報または明細書に記載されているものを挙げることがで
きる。
The particularly preferred o-naphthoquinonediazide compound in the present invention is a compound obtained by reacting a polyhydroxy compound having a molecular weight of 1,000 or less with 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid chloride. Specific examples of such compounds are described in JP-A-51-139402,
No. 58-150948, No. 58-203434, No. 59-165053, No. 60-112445, No. 6
0-134235, 60-16043, 61
-118744, 62-10645, 62-1
Nos. 0646, 62-153950, 62-178
No. 562, No. 64-76047, U.S. Pat.
No. 809, No. 3,126,281, No. 3,130,047
No. 3,148,983, No. 3,184,310, No. 3,188,210, No. 4,639,406, etc. Can be mentioned.

【0024】これらのo−ナフトキノンジアジド化合物
を合成する際は、ポリヒドロキシ化合物のヒドロキシル
基に対して1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロ
リドを0.2〜1.2当量反応させる事が好ましく、0.3〜
1.0当量反応させる事がさらに好ましい。1,2−ジア
ゾナフトキノンスルホン酸クロリドとしては、1,2−
ジアゾナフトキノン−5−スルホン酸クロリドまたは
1,2−ジアゾナフトキノン−4−スルホン酸クロリド
を用いることができる。
When synthesizing these o-naphthoquinonediazide compounds, it is preferable to react 0.2-1.2 equivalents of 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid chloride with respect to the hydroxyl group of the polyhydroxy compound. .3 ~
More preferably, the reaction is carried out at 1.0 equivalent. 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid chloride includes 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid chloride.
Diazonaphthoquinone-5-sulfonic acid chloride or 1,2-diazonaphthoquinone-4-sulfonic acid chloride can be used.

【0025】また得られるo−ナフトキノンジアジド化
合物は、1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸エステ
ル基の位置及び導入量の種々異なるものの混合物となる
が、ヒドロキシル基がすべて1,2−ジアゾナフトキノ
ンスルホン酸エステルで転換された化合物がこの混合物
中に占める割合(完全にエステル化された化合物の含有
率)は5モル%以上である事が好ましく、さらに好まし
くは20〜99モル%である。
The resulting o-naphthoquinonediazide compound is a mixture of various 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid ester groups having different positions and amounts of introduction, and all the hydroxyl groups are 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid ester. The ratio of the compound converted in the above to the mixture (content of the completely esterified compound) is preferably 5 mol% or more, more preferably 20 to 99 mol%.

【0026】本発明の感光性組成物中に占めるこれらの
ポジ型に作用する感光性化合物(上記のような組合せを
含む)の量は10〜50重量%が適当であり、より好ま
しくは15〜40重量%である。o−キノンジアジド化
合物は単独でも感光層を構成するが、アルカリ水に可溶
な樹脂を結合剤(バインダー)としてこの種の樹脂と共
に使用することが好ましい。このようなアルカリ水に可
溶性の樹脂としては、この性質を有するノボラック樹脂
があり、たとえばフェノールホルムアルデヒド樹脂、m
−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホ
ルムアルデヒド樹脂、o−クレゾールホルムアルデヒド
樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹
脂、フェノール/クレゾール(m−、p−、o−、又は
m−/p−、m−/o−混合のいずれでもよい)混合ホ
ルムアルデヒド樹脂などのクレゾールホルムアルデヒド
樹脂などが挙げられる。
The amount of these positive-acting photosensitive compounds (including the above-mentioned combinations) in the photosensitive composition of the present invention is suitably from 10 to 50% by weight, more preferably from 15 to 50% by weight. 40% by weight. Although the o-quinonediazide compound alone constitutes the photosensitive layer, it is preferable to use a resin soluble in alkaline water as a binder together with this kind of resin. As such a resin soluble in alkaline water, there is a novolak resin having this property.
-Cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, o-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin, phenol / cresol (m-, p-, o-, or m- / p-, m- / cresol formaldehyde resin such as a mixed formaldehyde resin.

【0027】また、フェノール変性キシレン樹脂、ポリ
ヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレ
ン、特開昭51−34711号公報に開示されているよ
うなフェノール性水酸基を含有するアクリル系樹脂も用
いることができる。その他の好適なバインダとして以下
(1)〜(13)に示すモノマーをその構成単位とする
通常1〜20万の分子量をもつ共重合体を挙げることが
できる。(1) 芳香族水酸基を有するアクリルアミド
類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類、メタ
クリル酸エステル類およびヒドロキシスチレン類、例え
ばN−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド又は
N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o
−、m−、p−ヒドロキシスチレン、o−、m−、p−
ヒドロキシフェニル−アクリレート又はメタクリレー
ト、(2) 脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル
類、およびメタクリル酸エステル類、例えば2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、又は2−ヒドロキシエチル
メタクリレート、(3) アクリル酸、メタクリル酸、
無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸、
(4) アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、
アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸
−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、N−ジ
メチルアミノエチルアクリレート等の(置換)アルキル
アクリレート、(5) メチルメタクリレート、エチル
メタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタ
クリレート、アミルメタクリレート、シクロヘキシルメ
タクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、
グリシジルメタクリレート、N−ジメチルアミノエチル
メタクリレート等の(置換)アルキルメタクリレート、
(6) アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチ
ロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミ
ド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリ
ルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒ
ドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリル
アミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチ
ル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若
しくはメタクリルアミド類、(7) エチルビニルエー
テル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエ
チルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチル
ビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビ
ニルエーテル等のビニルエーテル類、(8) ビニルア
セテート、ビチルクロロアセテート、ビニルブチレー
ト、安息香酸ビニル等のビニルエステル類、(9) ス
チレン、α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン等
のスチレン類、(10) メチルビニルケトン、エチル
ビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニル
ケトン等のビニルケトン類、(11) エチレン、プロ
ピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオ
レフィン類、(12) N−ビニルピロリドン、N−ビ
ニルカルバゾル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリル等、(13) N−(o−アミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−
(p−アミノ)スルホニルフェニルメタクリルアミド、
N−(1−(3−アミノスルホニル)ナフチル)メタク
リルアミド、N−(2−アミノスルホニルエチル)メタ
クリルアミド等のメタクリルアミド類、及び上記と同様
の置換基を有するアクリルアミド類、また、o−アミノ
スルホニルフェニルメタクリレート、m−アミノスルホ
ニルフェニルメタクリレート、p−アミノスルホニルフ
ェニルメタクリレート、1−(3−アミノスルホニルナ
フチル)メタクリレート等のメタクリル酸エステル類、
及び上記と同様の置換基を有するアクリル酸エステル類
などの不飽和スルホンアミド。
Further, a phenol-modified xylene resin, polyhydroxystyrene, polyhalogenated hydroxystyrene, and an acrylic resin containing a phenolic hydroxyl group as disclosed in JP-A-51-34711 can also be used. Other suitable binders include copolymers having the following (1) to (13) monomers as structural units and usually having a molecular weight of from 100,000 to 200,000. (1) Acrylamides, methacrylamides, acrylates, methacrylates and hydroxystyrenes having an aromatic hydroxyl group, for example, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide or N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide , O
-, M-, p-hydroxystyrene, o-, m-, p-
Hydroxyphenyl-acrylate or methacrylate, (2) acrylates having an aliphatic hydroxyl group, and methacrylates, for example, 2-hydroxyethyl methacrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate, (3) acrylic acid, methacrylic acid,
Unsaturated carboxylic acids such as maleic anhydride and itaconic acid,
(4) methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate,
(Substituted) alkyl acrylates such as hexyl acrylate, octyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl acrylate, (5) methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, Cyclohexyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate,
(Substituted) alkyl methacrylates such as glycidyl methacrylate and N-dimethylaminoethyl methacrylate;
(6) acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-methylolmethacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylmethacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-nitrophenyl Acrylamide or methacrylamides such as acrylamide and N-ethyl-N-phenylacrylamide; (7) vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether and phenyl vinyl ether; (8) vinyl acetate, bityl chloroacetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate, etc. Nylesters, (9) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, chloromethylstyrene, (10) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone, (11) ethylene, propylene Olefins such as isobutylene, butadiene and isoprene; (12) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like; (13) N- (o-aminosulfonylphenyl) methacryl Amide, N- (m-
Aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N-
(P-amino) sulfonylphenyl methacrylamide,
Methacrylamides such as N- (1- (3-aminosulfonyl) naphthyl) methacrylamide, N- (2-aminosulfonylethyl) methacrylamide, acrylamides having the same substituents as described above, and o-amino Methacrylic acid esters such as sulfonylphenyl methacrylate, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, p-aminosulfonylphenyl methacrylate, 1- (3-aminosulfonylnaphthyl) methacrylate,
And unsaturated sulfonamides such as acrylic esters having the same substituents as described above.

【0028】更に、上記モノマーと共重合し得るモノマ
ーを共重合させてもよい。また、上記モノマーの共重合
によって得られる共重合体を例えば、グリシジルメタク
リレート、グリシジルアクリレート等によって修飾した
ものも含まれるがこれらに限られるものではない。上記
共重合体には(3)に掲げた不飽和カルボン酸を含有す
ることが好ましく、共重合体の好ましいカルボン酸価の
値は0〜3meq /g、さらに好ましくは、0.5〜2.5me
q /gである。
Further, a monomer copolymerizable with the above monomer may be copolymerized. In addition, a copolymer obtained by copolymerization of the above-mentioned monomers, for example, modified with glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, or the like is also included, but is not limited thereto. The copolymer preferably contains the unsaturated carboxylic acid listed in (3), and the carboxylic acid value of the copolymer is preferably from 0 to 3 meq / g, more preferably from 0.5 to 2.5 meq / g. 5me
q / g.

【0029】上記共重合体の好ましい分子量は1〜10
万である。また上記共重合体には必要に応じて、ポリビ
ニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹
脂、エポキシ樹脂、を添加してもよい。このようなアル
カリ可溶性の高分子化合物は、1種類あるいは2種類以
上組みあわせることができ、全組成物の80重量%以下
の添加量で用いられる。
The preferred molecular weight of the above copolymer is from 1 to 10
It is ten thousand. If necessary, a polyvinyl butyral resin, a polyurethane resin, a polyamide resin, or an epoxy resin may be added to the copolymer. Such alkali-soluble polymer compounds can be used alone or in combination of two or more, and are used in an amount of 80% by weight or less of the total composition.

【0030】更に、米国特許第4,123,279号明細書
に記載されているように、t−ブチルフェノールホルム
アルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド
樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基とし
て有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮合物を併
用することは画像の感脂性を向上させる上で好ましい。
Further, as described in US Pat. No. 4,123,279, an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms as a substituent such as a t-butylphenol formaldehyde resin or an octylphenol formaldehyde resin is used. It is preferable to use a condensate of phenol and formaldehyde in combination to improve the oil sensitivity of the image.

【0031】本発明における感光性組成物中には、感度
を高めるために環状酸無水物類、フェノール類、有機酸
類を添加することが好ましい。環状酸無水物としては米
国特許第4,115,128号明細書に記載されているよう
に無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒ
ドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−Δ4 −テト
ラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無
水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無
水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸等が
ある。
In the photosensitive composition of the present invention, it is preferable to add a cyclic acid anhydride, a phenol or an organic acid in order to increase the sensitivity. Cyclic acid anhydride include U.S. Pat phthalic anhydride as described in 4,115,128 Pat, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,6-oxy - [delta 4 - tetrahydrophthalic anhydride Examples include phthalic acid, tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, and pyromellitic anhydride.

【0032】フェノール類としては、ビスフェノール
A、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、
2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒド
ロキシベンゾフェノン、2,4,4′−トリヒドロキシ
ベンゾフェノン、4,4′,4″−トリヒドロキシ−ト
リフェニルメタン、4,4′、3″、4″−テトラヒド
ロキシ−3,5,3′、5′−テトラメチルトリフェニ
ルメタンなどが挙げられる。
As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol,
2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 4,4 ', 4 "-trihydroxy-triphenylmethane, 4,4', 3", 4 "-Tetrahydroxy-3,5,3 ', 5'-tetramethyltriphenylmethane.

【0033】有機酸類としては、特開昭60−8894
2号公報、特開平2−96755号公報などに記載され
ている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸
類、ホスホン酸類、ホスフィン酸類、リン酸エステル
類、カルボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエ
ンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トル
エンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、
フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェ
ニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トル
イル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレ
フタル酸、1,4−シクロヘキセン−2,2−ジカルボ
ン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アス
コルビン酸などが挙げられる。
As the organic acids, JP-A-60-8894
2, sulfonic acids, sulfinic acids, alkyl sulfates, phosphonic acids, phosphinic acids, phosphoric esters, carboxylic acids, and the like described in JP-A No. 2-96755 and JP-A-2-96755. p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfate, phenylphosphonic acid,
Phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 1,4-cyclohexene-2,2- Examples thereof include dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, and ascorbic acid.

【0034】上記の環状酸無水物類、フェノール類、有
機酸類の感光性組成物中に占める割合は、0.05〜15
重量%が好ましく、より好ましくは、0.1〜5重量%で
ある。また本発明における感光性組成物中には、現像の
ラチチュードを広げるために、特開昭62−25174
0号公報や、特願平2−181248号明細書に記載さ
れているような非イオン性界面活性剤、特開昭59−1
21044号公報、特願平2−115992号明細書に
記載されているような両性界面活性剤を添加することが
できる。非イオン性界面活性剤の具体例としては、ソル
ビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミラー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどが挙げら
れ、両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ(ア
ミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリ
シン塩酸塩、アモーゲン水(商品名、第一工業(株)
製、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型)、2−ア
ルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチル
イミダゾリニウムベタイン、レボン15(商品名、三洋
化成(株)製、アルキルイミダゾリン系)などが挙げら
れる。
The proportion of the above-mentioned cyclic acid anhydrides, phenols and organic acids in the photosensitive composition is 0.05 to 15%.
% By weight, more preferably 0.1 to 5% by weight. Also, in the photosensitive composition of the present invention, in order to widen the latitude of development, JP-A-62-25174 is used.
0 and non-ionic surfactants described in Japanese Patent Application No. 181248/1990;
An amphoteric surfactant as described in JP-A-21044 and Japanese Patent Application No. 2-115992 can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmirate, sorbitan triolate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene sorbitan monooleate, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, and the like. Specific examples of the activator include alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, amogen water (trade name, Daiichi Kogyo Co., Ltd.)
N-tetradecyl-N, N-betaine type), 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine, Levon 15 (trade name, Sanyo Chemical Co., Ltd., alkylimidazoline) Is mentioned.

【0035】上記非イオン性界面活性剤、両性界面活性
剤の感光性組成物中に占める割合は、0.05%〜15重
量%が、好ましく、より好ましくは、0.1〜5重量%で
ある。本発明における感光性組成物中には、露光後直ち
に可視像を得るための焼出し剤、画像着色剤としての染
料やその他のフィラーなどを加えることができる。露光
後直ちに可視像を得るための焼出し剤としては露光によ
って酸を放出する感光性化合物と塩を形成し得る有機染
料との組合せを代表としてあげることができる。具体的
には特開昭50−36209号公報、特開昭53−81
28号公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド
─4─スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料との組
合せや特開昭53−36223号、同54−74728
号、同60−3626号、同60−138539号、同
61−143748号、同61−151644号、同6
3−58440号公報に記載されているトリハロメチル
化合物と塩形成性有機染料との組合せをあげることがで
きる。かかるトリハロメチル化合物は、オキサジアゾー
ル系化合物とトリアジン系化合物があり、どちらも、経
時安定性に優れ、明瞭な焼出し画像を与える。
The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the photosensitive composition is preferably 0.05% to 15% by weight, more preferably 0.1% to 5% by weight. is there. In the photosensitive composition of the present invention, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after exposure, a dye as an image coloring agent, and other fillers can be added. As a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after exposure, a combination of a photosensitive compound that releases an acid upon exposure and an organic dye capable of forming a salt can be exemplified. Specifically, JP-A-50-36209 and JP-A-53-81
Combinations of o-naphthoquinonediazide {4} sulfonic acid halogenide and salt-forming organic dyes described in JP-A-28-28, JP-A-53-36223 and JP-A-54-74728.
No. 60-3626, No. 60-138439, No. 61-143748, No. 61-151644, No. 6
Combinations of a trihalomethyl compound and a salt-forming organic dye described in 3-58440 can be mentioned. Such trihalomethyl compounds include oxadiazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent stability over time and give clear print-out images.

【0036】かかる化合物を含有した感光性組成物を用
いた場合に特に本発明は有効で、残色がほとんどない平
版印刷版を得ることができる。画像の着色剤として前記
の塩形成性有機染料以外に他の染料も用いることができ
る。塩形成性有機染料を含めて好適な染料として油溶性
染料および塩基染料をあげることができる。具体的に
は、オイルイエロー#101、オイルイエロー#13
0、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイ
ルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラッ
クBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−50
5(以上、オリエント化学工業株式会社製)、ビクトリ
アピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI425
55)、メチルバイオレット(C142535)、エチ
ルバイオレット、ローダミンB(CI45170B)、
マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブル
ー(CI52015)などをあげることができる。ま
た、特開昭62−293247号公報に記載されている
染料は特に好ましい。
The present invention is particularly effective when a photosensitive composition containing such a compound is used, and a lithographic printing plate having almost no residual color can be obtained. Other dyes besides the above-mentioned salt-forming organic dyes can be used as image coloring agents. Suitable dyes including salt-forming organic dyes include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 13
0, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-50
5, Orient Chemical Co., Ltd., Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI425
55), methyl violet (C142535), ethyl violet, rhodamine B (CI45170B),
Malachite green (CI42000) and methylene blue (CI52015). Dyes described in JP-A-62-293247 are particularly preferred.

【0037】本発明における感光性組成物は、上記各成
分を溶解する溶媒に溶かして支持体上に塗布する。ここ
で使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シク
ロヘキサノン、メチルエチルケトン、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチル
エーテル、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキ
シ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルア
セテート、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エ
チル、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、
ジメチルホルムアミド、水、N−メチルピロリドン、テ
トラヒドロフルフリルアルコール、アセトン、ジアセト
ンアルコール、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどがあ
り、これらの溶媒を単独あるいは混合して使用する。そ
して、上記成分中の濃度(固形分)は、2〜50重量%
である。また、塗布量は用途により異なるが、一般的に
固形分として0.5〜3.0g/m2 が好ましい。塗布量が
薄くなるにつれて感光性は大になるが、感光膜の物性は
低下する。
The photosensitive composition of the present invention is dissolved in a solvent in which each of the above components is dissolved, and coated on a support. As the solvent used here, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, toluene , Ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, dimethylacetamide,
Examples include dimethylformamide, water, N-methylpyrrolidone, tetrahydrofurfuryl alcohol, acetone, diacetone alcohol, methanol, ethanol, isopropanol, and diethylene glycol dimethyl ether. These solvents are used alone or in combination. The concentration (solid content) in the above components is 2 to 50% by weight.
It is. The amount of application varies depending on the application, but generally 0.5 to 3.0 g / m 2 as a solid content is preferable. The photosensitivity increases as the coating amount decreases, but the physical properties of the photosensitive film deteriorate.

【0038】本発明における感光性組成物中には、塗布
性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭62−1
70950号公報に記載されているようなフッ素系界面
活性剤を添加することができる。、好ましい添加量は、
全感光性組成物の0.01〜1重量%、さらに好ましくは
0.05〜0.5重量%である。上記のようにして設けられ
た感光層の表面は、真空焼枠を用いた密着露光の際の真
空引きの時間を短縮し、且つ焼きボケを防ぐ為、マット
化することが好ましい。具体的には、特開昭50−12
5805号、特公昭57−6582号、同61−289
86号の各公報に記載されているようなマット層を設け
る方法、特公昭62−62337号公報に記載されてい
るような固体粉末を熱融着させる方法などがあげられ
る。
In the photosensitive composition of the present invention, a surfactant for improving coating properties, for example, JP-A-62-1
A fluorine-based surfactant as described in JP-A-70950 can be added. , A preferable addition amount is
0.01 to 1% by weight of the total photosensitive composition, more preferably
0.05 to 0.5% by weight. The surface of the photosensitive layer provided as described above is preferably matted in order to reduce the time for evacuation during contact exposure using a vacuum printing frame and to prevent printing blur. Specifically, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 50-12
No. 5805, Japanese Patent Publication No. 57-6582, No. 61-289
No. 86, a method of providing a mat layer, and a method of heat-fusing a solid powder as described in JP-B-62-62337.

【0039】本発明の感光性平版印刷版の現像液は、具
体的には珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナ
トリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウ
ム、第二リン酸カリウムム、第三リン酸アンモニウム、
第二リン酸アンモニウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、重炭酸カリウム、重炭酸アンモ
ニウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ア
ンモア水などのような水溶液が適当であり、それらの濃
度が0.1〜10重量%、好ましくは0.5〜5重量%にな
るように添加される。これらは単独又は混合して用いら
れる。
The developer for the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is specifically sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, tribasic sodium phosphate, dibasic sodium phosphate, Potassium tertiary phosphate, potassium diphosphate, ammonium tertiary phosphate,
Aqueous solutions such as ammonium diphosphate, sodium carbonate, sodium bicarbonate, potassium carbonate, potassium bicarbonate, ammonium bicarbonate, ammonium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium borate, potassium borate, ammore water, etc. Are added so that their concentration is 0.1 to 10% by weight, preferably 0.5 to 5% by weight. These are used alone or in combination.

【0040】現像液成分としてはまた、水溶性有機アミ
ン化合物も使用できる。たとえば、モノメチルアミン、
ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミ
ン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロ
ピルアミン、ジイソプロピルアミン、n−ブチルアミ
ン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイ
ソプロパノールアミン、エチレンアミン、エチレンジア
ミン、ピリジンなどのような化合物が挙げられる。この
うち特にモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、
トリエタノールアミンなどが好ましく、無機アルカリ金
属塩などと組み合せて使用してもよい。
A water-soluble organic amine compound can also be used as a developer component. For example, monomethylamine,
Such as dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, ethyleneamine, ethylenediamine, pyridine, etc. Compounds. Of these, monoethanolamine, diethanolamine,
Triethanolamine and the like are preferred, and may be used in combination with an inorganic alkali metal salt or the like.

【0041】これらの塩基性化合物の水溶液中の濃度
は、0.05重量%〜10重量%が好ましい。また必要に
応じて、該現像液中には、アニオン界面活性剤を加えて
もよい。更に、有機溶媒を加えることもできる。アニオ
ン界面活性剤としては例えば、ラウリルアルコールサル
フェートのナトリウム塩、オクチルアルコールサルフェ
ートのナトリウム塩、ラウリルアルコールサルフェート
のアンモニウム塩、第2ナトリウムアルキルサルフェー
トなどの炭素数8〜22の高級アルコール硫酸エステル
塩類、例えばセチルアルコール燐酸エステルのナトリウ
ム塩などのような脂肪族アルコール燐酸エステル塩類、
例えばドデシルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩、イ
ソプロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、メタ
ニトロベンゼンスルホン酸のナトリウム塩などのような
アルキルアリールスルホン酸塩類、例えばC17H33CON(CH
3)CH2CH2SO3Na などのようなアルキルアミドのスルホン
酸塩類、例えばナトリウムスルホこはく酸ジオクチルエ
ステル、ナトリウムスルホこはく酸ジヘキシルエステル
などの二塩基性脂肪酸エステルのスルホン酸塩類などが
含まれる。
The concentration of these basic compounds in an aqueous solution is preferably 0.05% by weight to 10% by weight. If necessary, an anionic surfactant may be added to the developer. Further, an organic solvent can be added. Examples of the anionic surfactant include higher alcohol sulfates having 8 to 22 carbon atoms, such as sodium salts of lauryl alcohol sulfate, sodium salts of octyl alcohol sulfate, ammonium salts of lauryl alcohol sulfate, and sodium sulphate, such as cetyl. Aliphatic alcohol phosphate salts such as sodium salts of alcohol phosphate esters,
For example, alkylarylsulfonic acid salts such as sodium salt of dodecylbenzenesulfonic acid, sodium salt of isopropylnaphthalenesulfonic acid, and sodium salt of metanitrobenzenesulfonic acid, for example, C 17 H 33 CON (CH
3 ) Sulfonates of alkylamides such as CH 2 CH 2 SO 3 Na and the like, and sulfonates of dibasic fatty acid esters such as dioctyl sodium sulfosuccinate and dihexyl sodium sulfosuccinate are included.

【0042】アニオン界面活性剤は、使用時の現像液の
総重量に対して0.1〜5重量%の範囲で含有させておく
ことが適当である。0.1重量%よりも少なくなるとその
使用効果が低くなり、5重量%よりも多くなると、画像
部の色素の溶出(色抜け)が過多になったり、画像の耐
摩耗性などの機械的、化学的強度が劣化するなどの弊害
が出てくる。
It is appropriate that the anionic surfactant is contained in the range of 0.1 to 5% by weight based on the total weight of the developing solution at the time of use. When the amount is less than 0.1% by weight, the effect of the use is reduced. When the amount is more than 5% by weight, the dissolution (color loss) of the dye in the image area becomes excessive, There are adverse effects such as deterioration of chemical strength.

【0043】有機溶媒としては、水に対する溶解度が約
10重量%以下のものが適しており、好ましくは5重量
%以下のものから選ばれる。たとえば1−フェニルエタ
ノール、2−フェニルエタノール、3−フェニルプロパ
ノール−1,4−フェニルブタノール−1,4−フェニ
ルブタノール−2,2−フェニルブタノール−1,2−
フェキシエタノール、2−ベンジルオキシエタノール、
o−メトキシベンジルアルコール、m−メトキシベンジ
ルアルコール、p−メトキシベンジルアルコール、ベン
ジルアルコール、シクロヘキサノール、2−メチルシク
ロヘキサノール、4−メチルシクロヘキサノール及び3
−メチルシクロヘキサノール等をあげることができる。
Suitable organic solvents are those having a solubility in water of about 10% by weight or less, and preferably those having a solubility in water of 5% by weight or less. For example, 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenylpropanol-1,4-phenylbutanol-1,4-phenylbutanol-2,2-phenylbutanol-1,2-
Fexiethanol, 2-benzyloxyethanol,
o-methoxybenzyl alcohol, m-methoxybenzyl alcohol, p-methoxybenzyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 4-methylcyclohexanol and 3
-Methylcyclohexanol and the like.

【0044】有機溶媒の含有量は使用時の現像液の総重
量に対して1〜5重量%が好適である。その使用量は界
面活性剤の使用量と密接な関係があり、有機溶媒の量が
増すにつれ、アニオン界面活性剤の量は増加させること
が好ましい。これはアニオン界面活性剤の量が少なく、
有機溶媒の量を多く用いると有機溶媒が溶解せず、従っ
て良好な現像性の確保が期待できなくなるからである。
The content of the organic solvent is preferably from 1 to 5% by weight based on the total weight of the developing solution at the time of use. The amount used is closely related to the amount used of the surfactant, and it is preferable to increase the amount of the anionic surfactant as the amount of the organic solvent increases. This is because the amount of anionic surfactant is small,
If a large amount of the organic solvent is used, the organic solvent does not dissolve, so that good development property cannot be expected.

【0045】また、さらに必要に応じ、消泡剤及び硬水
軟化剤のような添加剤を含有させることもできる。硬水
軟化剤としては例えば Na2P2O7、Na5P3O3 、Na3P3O9
Na2O 4P(NaO3P)PO3Na2、カルゴン(ポリメタ燐酸ナトリ
ウム)などのポリ燐酸塩、例えばエチレンジアミンテト
ラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレ
ントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、ナトリウム
塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム
塩、そのナトリウム塩;ヒドロキシエチルエチレンジア
ミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニ
トリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;
1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸、そのカリ
ウム塩、そのナトリウム塩;1,3−ジアミノ−2−プ
ロパノールテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウ
ム塩などのようなアミノポリカルボン酸類を挙げること
ができる。このような硬水軟化剤は使用される硬水の硬
度およびその使用量に応じて最適量が変化するが、一般
的な使用量を示せば、使用時の現像液中に0.01〜5重
量%、より好ましくは0.01〜0.5重量%の範囲で含有
させられる。
Further, if necessary, an antifoaming agent and hard water
Additives such as softeners can also be included. hard water
As a softener, for example, NaTwoPTwoO7, NaFivePThreeOThree, NaThreePThreeO9,
NaTwoO FourP (NaOThreeP) POThreeNaTwo, Calgon (polymetaphosphate sodium
Polyphosphates such as ethylenediaminetetrate
Laacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; diethyle
Triaminepentaacetic acid, its potassium salt, sodium
Salt; triethylenetetramine hexaacetic acid, potassium
Salt, its sodium salt; hydroxyethylethylenedia
Mintriacetic acid, its potassium salt, its sodium salt;
Trilotriacetic acid, its potassium salt, its sodium salt;
1,2-diaminocyclohexanetetraacetic acid, its potassium
Salt, sodium salt thereof; 1,3-diamino-2-p
Lopanol tetraacetic acid, its potassium salt, its sodium
List aminopolycarboxylic acids such as salt
Can be. Such a water softener is used to harden the hard water used.
The optimum amount changes according to the degree and amount used,
If the amount of use is shown, 0.01 to 5 times
%, More preferably 0.01 to 0.5% by weight.
Let me do.

【0046】本発明の感光性平版印刷版の露光に使用さ
れる光源としては、カーボンアーク灯、水銀灯、キセノ
ンランプ、タングステンランプ、メタルハライドランプ
などがある。本発明の感光性平版印刷版は、特開昭54
−8002号、同55−115045号、特開昭59−
58431号の各公報に記載されている方法で製版処理
してもよいことは言うまでもない。即ち、現像処理後、
水洗してから不感脂化処理、またはそのまま不感脂化処
理、または酸を含む水溶液での処理、または酸を含む水
溶液で処理後不感脂化処理を施してもよい。さらに、こ
の種の感光性平版印刷版の現像工程では、処理量に応じ
て現像液が疲労してくるので、補充液又は新鮮な現像液
を用いて処理能力を回復させてもよい。この場合、米国
特許第 4,882,246号に記載されている方法で補充するこ
とが好ましい。
The light source used for exposing the photosensitive lithographic printing plate of the present invention includes a carbon arc lamp, a mercury lamp, a xenon lamp, a tungsten lamp, a metal halide lamp and the like. The photosensitive lithographic printing plate of the present invention is disclosed in
JP-A-8002, JP-A-55-115045 and JP-A-59-15045.
It goes without saying that the plate-making process may be performed by the method described in each of the publications of No. 58431. That is, after the development processing,
A desensitization treatment after washing with water, a desensitization treatment as it is, a treatment with an aqueous solution containing an acid, or a treatment with an aqueous solution containing an acid may be followed by a desensitization treatment. Further, in the developing process of this type of photosensitive lithographic printing plate, the developing solution becomes fatigued according to the processing amount, and thus the processing ability may be restored by using a replenisher or a fresh developing solution. In this case, it is preferable to replenish by the method described in U.S. Pat. No. 4,882,246.

【0047】また、上記のような製版処理は、特開平2
−7054号、同2−32357号に記載されているよ
うな自動現像機で行なうことが好ましい。また、本発明
の感光性平版印刷版を画像露光し、現像し、水洗又はリ
ンスしたのちに、不必要な画像部の消去を行なう場合に
は、特公平2−13293号公報に記載されているよう
な消去液を用いることが好ましい。更に製版工程の最終
工程で所望により塗布される不感脂化ガムとしては、特
公昭62−16834号、同62−25118号、同6
3−52600号、特開昭62−7595号、同62−
11693号、同62−83194号の各公報に記載さ
れているものが好ましい。
The plate making process described above is disclosed in
It is preferably carried out using an automatic developing machine as described in JP-A-7054 and JP-A-2-32357. Further, when the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is subjected to image exposure, development, washing or rinsing, and then unnecessary image portions are erased, it is described in JP-B-2-13293. It is preferable to use such an erasing liquid. Further, as the desensitized gum to be applied as required in the final step of the plate making step, Japanese Patent Publication Nos. 62-16834, 62-25118, and 6
3-52600, JP-A-62-7595 and JP-A-62-7595
Those described in JP-A-11693 and JP-A-62-83194 are preferable.

【0048】更にまた、本発明の感光性平版印刷版を画
像露光し、現像し、水洗又はリンスし、所望により消去
作業をし、水洗したのちにバーニングする場合には、バ
ーニング前に特公昭61−2518号、同55−280
62号、特開昭62−31859号、同61−1596
55号の各公報に開示されているような整面液で処理す
ることが好ましい。
Further, when the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is subjected to image exposure, development, washing or rinsing, erasing if desired, and washing after washing with water, burning is performed before burning. -2518, 55-280
No. 62, JP-A-62-131859 and JP-A-61-1596.
It is preferable to carry out treatment with a surface-regulating liquid as disclosed in each publication of No. 55.

【0049】[0049]

【発明の効果】本発明の感光性平版印刷版は、従来のも
のに比べて現像後の非画像部の残色が少なく、そのため
に検版性が優れ、さらに印刷時に消去液による修正跡汚
れが出にくく、またさらに高い耐刷力を有するという顕
著な効果を奏する。
As described above, the photosensitive lithographic printing plate of the present invention has less residual color in the non-image area after development as compared with the conventional lithographic printing plate, and therefore has excellent plate inspection properties. And a remarkable effect of having higher printing durability.

【0050】[0050]

【実施例】以下、本発明を実施例を用いてより具体的に
説明する。なお、実施例中の「%」は、特に指定のない
限り「重量%」を示すものとする。
The present invention will be described below more specifically with reference to examples. In the examples, "%" indicates "% by weight" unless otherwise specified.

【0051】<実施例1〜5、比較例1〜3> 厚さ0.15mmの2S材アルミニウム板を80℃に保たれ
た第三リン酸ナトリウムの10%水溶液に30秒間浸漬
して脱脂し、パミススラリーをアルミニウム板上に流し
ながらナイロンブラッシで砂目立て後、60℃のアルミ
ン酸ナトリウム水溶液中で10秒間エッチングし、引続
き硫酸水素ナトリウム3%水溶液で洗滌した。このアル
ミニウム板を20%硫酸中で電流密度2A/dm2 におい
て2分間陽極酸化し、その後、70℃の2.5%ケイ酸ナ
トリウム水溶液で1分間処理し、アルミニウム板支持体
Aを作製した。このように処理された基板Aの表面に、
下記組成の下塗り液(I)を塗布し90℃1分間乾燥し
た。乾燥後の被覆量は20mg/m2 であった。 (I) フェニルリン酸 0.1g ……実施例
1 メタノール 95g 水 5g 同様にして下塗り液(I)のフェニルリン酸の代りに、
フェニルホスホン酸(実施例2)、ナフチルリン酸(実
施例3)、フェニルホスフィン酸(実施例4)、ジフェ
ニルホスフィン酸(実施例5)を用いた下塗り液を20
mg/m2 基板Aに塗布した支持体を作製した。
<Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3> A 0.15 mm thick 2S aluminum plate was immersed in a 10% aqueous solution of tribasic sodium phosphate kept at 80 ° C. for 30 seconds to degrease it. The pumice slurry was grained with a nylon brush while flowing on an aluminum plate, etched in a sodium aluminate aqueous solution at 60 ° C. for 10 seconds, and subsequently washed with a 3% aqueous sodium hydrogen sulfate solution. The aluminum plate was anodized in a 20% sulfuric acid at a current density of 2 A / dm 2 for 2 minutes, and then treated with a 2.5% aqueous sodium silicate solution at 70 ° C. for 1 minute to prepare an aluminum plate support A. On the surface of the substrate A thus treated,
The undercoat liquid (I) having the following composition was applied and dried at 90 ° C. for 1 minute. The coating amount after drying was 20 mg / m 2 . (I) 0.1 g of phenylphosphoric acid Example 1 95 g of methanol 5 g of water In the same manner, instead of phenylphosphoric acid of the undercoat liquid (I),
An undercoating solution using phenylphosphonic acid (Example 2), naphthylphosphoric acid (Example 3), phenylphosphinic acid (Example 4), and diphenylphosphinic acid (Example 5) was prepared.
A support coated on mg / m 2 substrate A was prepared.

【0052】一方比較のために下塗り液を塗布してない
支持体(比較例1)を作製した。またさらに比較のため
に、支持体Aで陽極酸化処理までしたものに(I)液を
塗布した支持体(比較例2)も作製した。また(I)液
を塗布しない支持体も使用した(比較例3)。このよう
にして作製した基板に下記に示す感光液を塗布した。 2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンと ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホニ ルクロリドとのエステル化物(エステル化率:9 0mol %) 0.47重量部 フェノールホルムアルデヒド樹脂(重量平均分子 量:2300) 1.15重量部 2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス (トリクロロメチル)−s−トリアジン 0.02重量部 ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホニ ルクロリド 0.01重量部 エチルバイオレット(保土谷化学(株)の染料) 0.016重量部 メガファックF−177(大日本インキ化学工業 (株)製フッ素系界面活性剤) 0.004重量部 メチルエチルケトン 12重量部 メタノール 4重量部 エチレンジクロリド 4重量部 塗布乾燥重量は2.1g/m2 であった。
On the other hand, for comparison, a support (Comparative Example 1) to which no undercoat liquid was applied was prepared. For further comparison, a support (Comparative Example 2) was prepared by applying the solution (I) to the support A which had been subjected to anodizing treatment. A support to which the solution (I) was not applied was also used (Comparative Example 3). The following photosensitive solution was applied to the substrate thus produced. Esterified product of 2,3,4-trihydroxybenzophenone and naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonyl chloride (esterification ratio: 90 mol%) 0.47 parts by weight Phenol formaldehyde resin (weight average molecular weight: 2300) 1.15 parts by weight 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine 0.02 parts by weight Naphthoquinone-1,2-diazide-4-sulfonyl chloride 0.01 parts by weight Ethyl violet (dye of Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 0.016 parts by weight Megafac F-177 (fluorinated surfactant manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.004 parts by weight Methyl ethyl ketone 12 parts by weight Methanol 4 parts by weight Part ethylene dichloride 4 parts by weight The applied dry weight was 2.1 g / m 2 .

【0053】この感光性平版印刷版を30アンペアのカ
ーボンアーク灯で70cmの距離から45秒間画像露光
し、次に示す組成の現像液を用いて自動現像機にて25
℃で30秒間現像した。 原液(1:4に水で希釈して使用する) 水 75重量部 炭酸水素カリウム 3.5重量部 炭酸カリウム 7重量部 ペレックスNBL(花王アトラス(株)製) 20重量部 フェニルセルソルブ 2重量部
This photosensitive lithographic printing plate was image-exposed for 45 seconds at a distance of 70 cm from a 30-ampere carbon arc lamp using a developing solution having the following composition.
Developed at 30 ° C for 30 seconds. Stock solution (1: 4 diluted with water) Water 75 parts by weight Potassium bicarbonate 3.5 parts by weight Potassium carbonate 7 parts by weight Perex NBL (manufactured by Kao Atlas Co., Ltd.) 20 parts by weight Phenylcellosolve 2 parts by weight

【0054】このように現像した後、十分水洗し、消去
液にて不要部を消去し、ガム引きしたのち、常法の手順
で印刷した。この時の修正跡汚れと、非画像部の残色の
結果と、耐刷力の結果を表1に示した。表1の結果か
ら、本発明による感光性平版印刷版は、比較例に比べ
て、残色、汚れ、耐刷力のいずれも充分な性能であるこ
とがわかる。
After development as described above, washing was carried out sufficiently, unnecessary portions were erased with an erasing solution, gummed, and printed by a conventional procedure. Table 1 shows the correction trace stains, the result of the residual color in the non-image portion, and the result of printing durability at this time. From the results shown in Table 1, it can be seen that the photosensitive lithographic printing plate according to the present invention has sufficient performance in all of the remaining colors, stains, and printing durability as compared with Comparative Examples.

【0055】 〔第1表〕 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 支 持 体 印刷時 残色*1 耐刷力 陽極 親水 下塗り の修正 (枚数) 酸化 化処 跡汚れ 処理 理 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例1 あり あり フェニルリン酸 なし 0.01 10万 〃 2 あり あり フェニルホスホン酸 なし 0.02 10万 〃 3 あり あり ナフチルリン酸 なし 0.01 10万 〃 4 あり あり フェニルホスフィン 酸 なし 0.02 10万 〃 5 あり あり シ゛フェニルホスフィン酸 なし 0.01 10万 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 比較例1 あり あり なし ヤヤアリ 0.04 1万以下 〃 2 あり なし フェニルリン酸 あり 0.07 8万 〃 3 あり なし なし アリ(地汚) 0.15 12万 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ *1)現像後の非画像部の濃度と塗布前の支持体の濃度の差(△D)で表示 した。[Table 1] ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ Supporting body When printing Remaining color * 1 Correction of Anode Hydrophilic Undercoat Correction (Number of sheets) Oxidation treatment Trace dirt treatment Example 1 Yes Yes Phenylphosphoric acid None 0.01 100,000 〃 2 Yes Yes Phenylphosphonic acid No 0.02 100,000 3 3 Yes Yes Naphthyl phosphoric acid No 0.01 100,000 4 4 Yes Yes Phenylphosphinic acid No 0.02 100,000 5 5 Yes Yes Diphenylphosphinic acid None 0.01 100,000 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ Comparative Example 1 Yes Yes No Fire ants 0.04 10,000 or less 〃 2 Yes No Phenyl phosphate Yes 0.07 80,000 〃 3 Yes No No Ants (ground pollution) 0.15 120,000 ━━━━━━━ * 1) The difference between the density of the non-image area after development and the density of the support before coating (ΔD) displayed.

【0056】<実施例6〜10、比較例4〜6>厚さ0.
30mmのアルミニウム板をナイロンブラシと400メッ
シュのパミストンの水懸濁液を用いその表面を砂目立て
した後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナトリウムに
70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、流水で水
洗後20%HNO3 で中和洗浄、水洗した。これをVA
=12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて1
%硝酸水溶液中で160クーロン/dm2の陽極時電気量
で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定したと
ころ、0.6μ(Ra表示)であった。ひきつづいて30
%のH2 SO4 水溶液中に浸漬し55℃で2分間デスマ
ットした後、20%H2 SO4 水溶液中、電流密度2A
/dm2 において厚さが2.7g/m2 になるように陽極酸
化し、その後70℃の2.5%ケイ酸カリウム水溶液で3
0秒間処理し、アルミニウム支持体Bを作製した。この
ように処理された基板Bの表面に、実施例1〜5、比較
例1〜3と同様の下塗りを施した。このようにして作製
した基板に下記に示す感光液を塗布した。
<Examples 6 to 10, Comparative Examples 4 to 6>
A 30 mm aluminum plate was grained with a nylon brush and a 400 mesh aqueous suspension of pumicestone, and then thoroughly washed with water. After etching by dipping in 10% sodium hydroxide at 70 ° C. for 60 seconds, the substrate was washed with running water, then neutralized with 20% HNO 3 , and washed with water. This is V A
= 12.7 V using a sinusoidal alternating current under the condition of 2.7 V
The electrolytic surface roughening treatment was performed in an aqueous solution of nitric acid at a rate of 160 coulombs / dm 2 at the anode. When the surface roughness was measured, it was 0.6 μ (Ra indication). Continued 30
% H 2 SO 4 aqueous solution and desmutted at 55 ° C. for 2 minutes, and then in a 20% H 2 SO 4 aqueous solution, current density 2 A
/ Dm 2 at 2.7 g / m 2 and then anodized at 70 ° C. with 2.5% aqueous potassium silicate solution.
The treatment was performed for 0 second to produce an aluminum support B. The surface of the substrate B thus treated was coated with the same undercoat as in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3. The following photosensitive solution was applied to the substrate thus produced.

【0057】 1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホニル クロリドとピロガロール−アセトン樹脂とのエス テル化物(米国特許第3,635,709 号明細書の実施 例1に記載されているもの) 0.45g クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂 (メタ/パラ比、6対4、重量平均分子量3,000 、 数平均分子量1,100) 1.1g 4−〔P−N−(P−ヒドロキシベンゾイルア ミノフェニル〕−2,6−ビス(トリクロロメチ ル)−S−トリアジン 0.02g テトラヒドロ無水フタル酸 0.05g ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学(株)製) 0.02g メガファック F−177 (大日本インキ化学工業(株)製フッ素系界面活性剤)0.006g メチルエチルケトン 15g 1−メトキシ−2−プロパノール 15g このようにして作られた感光性平版印刷版を、真空焼枠
中で、透明ポジティブフィルムを通して1mの距離から
3kwのメタルハライドランプにより、50秒間露光を
行なったのち、SiO2 /K2 Oのモル比が1.5の珪酸
カリウムの4.5%水溶液(pH=12.9)で現像した。
Esters of 1,2-diazonaphthoquinone-5-sulfonyl chloride with pyrogallol-acetone resin (as described in Example 1 of US Pat. No. 3,635,709) 0.45 g cresol-formaldehyde novolak Resin (meta / para ratio, 6: 4, weight average molecular weight 3,000, number average molecular weight 1,100) 1.1 g 4- [PN- (P-hydroxybenzoylaminophenyl) -2,6-bis (trichloromethyl) -S-Triazine 0.02 g Tetrahydrophthalic anhydride 0.05 g Victoria Pure Blue BOH (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 0.02 g Megafac F-177 (fluorinated surfactant manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.006 g methyl ethyl ketone 15 g 1-methoxy-2-propanol 15 g A lithographic printing plate, a vacuum printing frame in by 3kw metal halide lamp from a distance of 1m through the transparent positive film, after performing 50 seconds exposure, the molar ratio of SiO 2 / K 2 O is 1.5 Potassium Silicate Development was performed with a 4.5% aqueous solution (pH = 12.9).

【0058】このように現像した後、十分水洗し、ガム
引きしたのち、実施例1〜5、比較例1〜3と同様の手
順で印刷した。表2にその結果を示す。本発明による印
刷版は比較例と比べて優れたものであることがわかる。
After development as described above, washing was performed sufficiently, gumming was performed, and printing was performed in the same procedure as in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3. Table 2 shows the results. It can be seen that the printing plate according to the present invention is superior to the comparative example.

【0059】 〔第2表〕 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 支 持 体 印刷時 残色 耐刷力 陽極 親水 下塗り の修正 酸化 化処 跡汚れ 処理 理 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例6 あり あり フェニルリン酸 なし 0.01 14万 〃 7 あり あり フェニルホスホン酸 なし 0.02 14万 〃 8 あり あり ナフチルリン酸 なし 0.02 14万 〃 9 あり あり フェニルホスフィン 酸 なし 0.02 14万 〃10 あり あり シ゛フェニルホスフィン酸 なし 0.01 14万 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 比較例4 あり あり なし なし 0.03 1万以下 〃 5 あり なし フェニルリン酸 ホトント゛ナシ 0.04 12万 〃 6 あり なし ─ ヤヤアリ 0.05 15万 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━[Table 2] ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ Supporting body When printing Remaining color Printing durability Anode Hydrophilic Undercoating modification Oxidation treatment Trace dirt treatment ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ Example 6 Yes Yes Phenyl Phosphoric acid None 0.01 140,000 7 Available Yes Phenylphosphonic acid None 0.02 140,000 8 Available Available Naphthyl phosphoric acid 0.02 140,000 9 Available Available Phenylphosphinic acid None 0.02 140,000 10 Available Available Diphenyl phosphinic acid 0.01 140,000 Available ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ Comparative Example 4 Yes Yes No No 0.03 10,000 or less 〃 5 Yes No Phenyl phosphate photon pear 0.04 120,000 〃 6 Yes No ヤ Fire ants 0.05 150,000 ━━━━━━━━━━━ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 陽極酸化処理し、その後に親水化処理を
施したアルミニウム板上に、R1(PO(OH)2n
たはR1 −(PO(OH)(R2 ))n (式中、nは1
または2であり、nが1のとき、R1 、R2 は置換また
は無置換のアルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ
基、アリール基、アシル基、アシロキシ基を表し、nが
2のときR1 は置換または無置換のアルキレン基または
アリーレン基を表し、R2 は前記定義のとおりである)
で表される化合物群より選ばれた少なくとも1種の化合
物を含む有機層を設け、その上にo−キノンジアジド化
合物及び有機高分子重合体を含むポジ型感光層を設けた
ことを特徴とする感光性平版印刷版。
An R 1 (PO (OH) 2 ) n or R 1- (PO (OH) (R 2 )) n (formula 1 ) is formed on an aluminum plate that has been subjected to an anodizing treatment and then subjected to a hydrophilic treatment. Where n is 1
Or 2, and when n is 1, R 1 and R 2 represent a substituted or unsubstituted alkyl group, alkoxy group, aryloxy group, aryl group, acyl group, acyloxy group, and when n is 2, R 1 is Represents a substituted or unsubstituted alkylene group or an arylene group, wherein R 2 is as defined above.
Wherein an organic layer containing at least one compound selected from the group consisting of compounds represented by the formula is provided, and a positive photosensitive layer containing an o-quinonediazide compound and an organic polymer is provided thereon. Sexographic printing plate.
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