JP2705943B2 - 放射線画像変換パネル - Google Patents
放射線画像変換パネルInfo
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- JP2705943B2 JP2705943B2 JP63147997A JP14799788A JP2705943B2 JP 2705943 B2 JP2705943 B2 JP 2705943B2 JP 63147997 A JP63147997 A JP 63147997A JP 14799788 A JP14799788 A JP 14799788A JP 2705943 B2 JP2705943 B2 JP 2705943B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネ
ルに関するものであり、さらに詳しくは水分の侵入によ
り劣化されず、初期性能が優れた輝尽性蛍光体層を有す
る放射線画像変換パネルに関する。
ルに関するものであり、さらに詳しくは水分の侵入によ
り劣化されず、初期性能が優れた輝尽性蛍光体層を有す
る放射線画像変換パネルに関する。
（従来の技術） Ｘ線画像のような放射線画像は病気診断用などに多く
用いられている。
用いられている。
このＸ線画像を得るために、ハロゲン化銀感光材料に
代って蛍光体層から直接画像を取出すＸ線画像変換方法
が工夫されている。
代って蛍光体層から直接画像を取出すＸ線画像変換方法
が工夫されている。
この方法は、被写体を透過した放射線（一般にＸ線）
を蛍光体に吸収せしめ、しかる後、この蛍光体を例えば
光または熱エネルギーで励起することによりこの蛍光体
が上記放射線吸収により蓄積している放射線エネルギー
を蛍光として放射せしめ、この蛍光を検出して画像化す
る方法である。
を蛍光体に吸収せしめ、しかる後、この蛍光体を例えば
光または熱エネルギーで励起することによりこの蛍光体
が上記放射線吸収により蓄積している放射線エネルギー
を蛍光として放射せしめ、この蛍光を検出して画像化す
る方法である。
具体的には、例えば、米国特許3,859,527号及び特開
昭55-12144号公報には輝尽性蛍光体を用い可視光線又は
赤外線を輝尽励起光とした放射線画像変換方法が示され
ている。
昭55-12144号公報には輝尽性蛍光体を用い可視光線又は
赤外線を輝尽励起光とした放射線画像変換方法が示され
ている。
この方法は、輝尽性蛍光体層（以後輝尽層と略称）を
有する放射線画像変換パネル（以後変換パネルと略称）
を使用するもので、この変換パネルの輝尽相に被写体を
透過した放射線を当てて被写体各部の放射線透過度に対
応する放射線エネルギーを蓄積させて潜像を形成し、し
かる後にこの輝尽層を輝尽励起光で走査することによっ
て各部の蓄積された放射線エネルギーを放射させてこれ
を光に変換し、この光の強弱による光信号により画像を
得るものである。
有する放射線画像変換パネル（以後変換パネルと略称）
を使用するもので、この変換パネルの輝尽相に被写体を
透過した放射線を当てて被写体各部の放射線透過度に対
応する放射線エネルギーを蓄積させて潜像を形成し、し
かる後にこの輝尽層を輝尽励起光で走査することによっ
て各部の蓄積された放射線エネルギーを放射させてこれ
を光に変換し、この光の強弱による光信号により画像を
得るものである。
この最終的な画像はハードコピーとして再生してもよ
いし、CRT上に再生してもよい。
いし、CRT上に再生してもよい。
この放射線画像変換方法において使用される変換パネ
ルは、放射線画像情報を蓄積した後輝尽励起光の走査に
よって蓄積エネルギーを放出するので、走査後再度放射
線画像の蓄積を行うことができ、繰返し使用が可能であ
る。
ルは、放射線画像情報を蓄積した後輝尽励起光の走査に
よって蓄積エネルギーを放出するので、走査後再度放射
線画像の蓄積を行うことができ、繰返し使用が可能であ
る。
そこで、前記変換パネルは、得られる放射線画像の画
質を劣化させることなく長期間あるいは多数回繰り返し
の使用に耐える性能を有することが望ましい。そのため
には、前記変換パネルの輝尽層が外部からの物理的ある
いは化学的刺激から十分に保護される必要がある。
質を劣化させることなく長期間あるいは多数回繰り返し
の使用に耐える性能を有することが望ましい。そのため
には、前記変換パネルの輝尽層が外部からの物理的ある
いは化学的刺激から十分に保護される必要がある。
従来の変換パネルにおいては、上記の問題の解決を図
るため、変換パネルの支持体上の輝尽層面を被覆する保
護層を設ける方法がとられてきた。
るため、変換パネルの支持体上の輝尽層面を被覆する保
護層を設ける方法がとられてきた。
この保護層は、例えば特開昭59-42500号公報に開示さ
れているように、保護層用塗布液を輝尽層上に直接塗布
して形成されるか、あるいはあらかじめ別途形成した保
護層を輝尽層上に接着する方法により形成されている。
れているように、保護層用塗布液を輝尽層上に直接塗布
して形成されるか、あるいはあらかじめ別途形成した保
護層を輝尽層上に接着する方法により形成されている。
保護層としては、一般的には有機高分子からなる薄い
保護層（層厚数十μｍ程度）が用いられている。このよ
うな薄い保護層が用いられるのは、変換パネルの鮮鋭性
の低下を防ぐためである。
保護層（層厚数十μｍ程度）が用いられている。このよ
うな薄い保護層が用いられるのは、変換パネルの鮮鋭性
の低下を防ぐためである。
例えば、輝尽層を有する変換パネルの鮮鋭性と保護層
厚みの関係を空間周波数１p/mmおよび2lp/mmのMTF
（変調伝達関数）を用いて以下の表に示す。
厚みの関係を空間周波数１p/mmおよび2lp/mmのMTF
（変調伝達関数）を用いて以下の表に示す。
表に示すように、保護層が厚いほど鮮鋭性が低下す
る。この原因としては、入射した輝尽励起光の輝尽層表
面での反射散乱光が保護層−空気界面で反射され、輝尽
層へ再入射することが挙げられる。保護層が厚いほど反
射散乱光はより遠くまで到達し、対象画素外の画素の情
報を混入させるので、鮮鋭性が低下するのである。
る。この原因としては、入射した輝尽励起光の輝尽層表
面での反射散乱光が保護層−空気界面で反射され、輝尽
層へ再入射することが挙げられる。保護層が厚いほど反
射散乱光はより遠くまで到達し、対象画素外の画素の情
報を混入させるので、鮮鋭性が低下するのである。
Ｘ線撮影に用いる一般型の増感紙−フィルム系におい
て、１p/mmの場合のMTFは約65％、2lp/mmの場合は約3
5％を示すので、変換パネルにおいても前記増感紙−フ
ィルム系の数値より劣ることは好ましくなく、従って、
保護層の厚さは10μｍ以下が望ましい。
て、１p/mmの場合のMTFは約65％、2lp/mmの場合は約3
5％を示すので、変換パネルにおいても前記増感紙−フ
ィルム系の数値より劣ることは好ましくなく、従って、
保護層の厚さは10μｍ以下が望ましい。
（解決しようとする問題点） しかしながら、常用される有機高分子からなる薄い保
護層は、ある程度の水分、湿気等に対し透過性であり、
輝尽層が水分を吸収し、その結果、変換パネルの放射線
感度の低下あるいは輝尽励起光照射を受けるまでの蓄積
エネルギーの減衰が大きく、得られる放射線画像の画質
のばらつきや劣化をもたらしていた。
護層は、ある程度の水分、湿気等に対し透過性であり、
輝尽層が水分を吸収し、その結果、変換パネルの放射線
感度の低下あるいは輝尽励起光照射を受けるまでの蓄積
エネルギーの減衰が大きく、得られる放射線画像の画質
のばらつきや劣化をもたらしていた。
このように薄い保護層を有する変換パネルを過酷な温
湿度条件下で使用したり、水分に対して充分な耐性を有
しない輝尽性蛍光体を使用した変換パネルを用いる場合
には、保護層を透過して侵入する微量の水分による輝尽
層の劣化が問題となっている。例えば通常使用される保
護層である厚さ20μｍのポリエチレンテレフタレートフ
ィルム（以下、PETフィルムと略記する）の場合、その
透湿度は25g/m2・24hrであり、１日に単位面積当り25g
もの水分を透過するのである。
湿度条件下で使用したり、水分に対して充分な耐性を有
しない輝尽性蛍光体を使用した変換パネルを用いる場合
には、保護層を透過して侵入する微量の水分による輝尽
層の劣化が問題となっている。例えば通常使用される保
護層である厚さ20μｍのポリエチレンテレフタレートフ
ィルム（以下、PETフィルムと略記する）の場合、その
透湿度は25g/m2・24hrであり、１日に単位面積当り25g
もの水分を透過するのである。
このような変換パネルは、耐湿性を向上させるため、
支持体、輝尽性蛍光体および保護層からなる積層体の周
縁部を封止して製造される。その封止の方法としては、
例えば周縁部をシール剤により封止し、シール剤を固定
部剤により外側から固定する方法（特開昭61-237099号
公報）や周縁部が保護層の延長部分により被覆された状
態でシールする方法（特開昭61-237100号公報）等が用
いられている。
支持体、輝尽性蛍光体および保護層からなる積層体の周
縁部を封止して製造される。その封止の方法としては、
例えば周縁部をシール剤により封止し、シール剤を固定
部剤により外側から固定する方法（特開昭61-237099号
公報）や周縁部が保護層の延長部分により被覆された状
態でシールする方法（特開昭61-237100号公報）等が用
いられている。
しかしながら、このように封止しただけでは保護層を
透過する水分の輝尽層への影響を十分に防ぐことはでき
ない。
透過する水分の輝尽層への影響を十分に防ぐことはでき
ない。
そこで、本発明は輝尽性蛍光体の水分の侵入による劣
化を防ぎ、初期性能を向上させ、鮮鋭性のよい放射線画
像変換パネルを提供することを目的とする。
化を防ぎ、初期性能を向上させ、鮮鋭性のよい放射線画
像変換パネルを提供することを目的とする。
［発明の構成］ （問題点を解決するための手段） 本発明は、支持体と保護層との間に輝尽性蛍光体層
（以下、輝尽層という）を有する放射線画像変換パネル
において、 前記輝尽性蛍光体層の周りに設けられた封着部材と、 前記輝尽性蛍光体層と前記保護層との間に、前記保護
層よりも屈折率の低い低屈折率層とを有し、 前記支持体、前記保護層および前記封着部材により形
成される空間内に、前記輝尽性蛍光体層および吸湿剤が
封入されていることを特徴とする。
（以下、輝尽層という）を有する放射線画像変換パネル
において、 前記輝尽性蛍光体層の周りに設けられた封着部材と、 前記輝尽性蛍光体層と前記保護層との間に、前記保護
層よりも屈折率の低い低屈折率層とを有し、 前記支持体、前記保護層および前記封着部材により形
成される空間内に、前記輝尽性蛍光体層および吸湿剤が
封入されていることを特徴とする。
第３図は、本発明の変換パネルの一例を模式的に表し
たものであり、１は輝尽層、２は保護層、３は支持体、
４は吸湿剤、５は封着部材、６はスペーサー、７は低屈
折率層である。
たものであり、１は輝尽層、２は保護層、３は支持体、
４は吸湿剤、５は封着部材、６はスペーサー、７は低屈
折率層である。
本発明において使用される輝尽性蛍光体とは、最初の
光もしくは高エネルギー放射線が照射された後に、光
的、熱的、機械的、化学的または電気的等の刺激（輝尽
励起）により、最初の光もしくは高エネルギー放射線の
照射量に対応した輝尽発光を示す蛍光体であるが、実用
的な面から好ましくは500nm以上の励起光によって輝尽
発光を示す蛍光体である。そのような輝尽性蛍光体とし
ては、例えば特開昭48-80487号公報に記載されているBa
SO4:AX、特開昭48-80489号公報に記載されているSrSO4:
AX、特開昭53-39277号公報のLi2B4O7:Cu,Ag等、特開昭5
4-47883号公報のLi2O・(B2O2)x:Cu及びLi2O・(B2O2)x:C
u,Ag等、米国特許3,859,527号のSrS:Ce,Sm、SrS:Eu,S
m、La2O2S:Eu,Sm及び（Zn,Cd）S:Mn,で示される蛍光体
が挙げられる。
光もしくは高エネルギー放射線が照射された後に、光
的、熱的、機械的、化学的または電気的等の刺激（輝尽
励起）により、最初の光もしくは高エネルギー放射線の
照射量に対応した輝尽発光を示す蛍光体であるが、実用
的な面から好ましくは500nm以上の励起光によって輝尽
発光を示す蛍光体である。そのような輝尽性蛍光体とし
ては、例えば特開昭48-80487号公報に記載されているBa
SO4:AX、特開昭48-80489号公報に記載されているSrSO4:
AX、特開昭53-39277号公報のLi2B4O7:Cu,Ag等、特開昭5
4-47883号公報のLi2O・(B2O2)x:Cu及びLi2O・(B2O2)x:C
u,Ag等、米国特許3,859,527号のSrS:Ce,Sm、SrS:Eu,S
m、La2O2S:Eu,Sm及び（Zn,Cd）S:Mn,で示される蛍光体
が挙げられる。
また、特開昭55-12142号公報に記載されているZnS:C
u,Pb蛍光体、一般式BaO・xAl2O3:Euで示されるアルミン
酸バリウム蛍光体、及び一般式MIIO・xSiO2:Aで示され
るアルカリ土類金属珪酸塩系蛍光体が挙げられる。ま
た、特開昭55-12143号公報に記載されている一般式 （Ba1-x-yMgxCay）FX:eEu2+で示されるアルカリ土類弗
化ハロゲン化物蛍光体、特開昭55-12144号公報に記載さ
れている一般式 LnOX:xA で示される蛍光体、特開昭55-12145号公報に記載されて
いる一般式 （Ba1-xMII x）FX:yA で示される蛍光体、特開昭55-84389号公報に記載されて
いる一般式 BaFX:xCe,yA で示される蛍光体、特開昭55-160078号公報に記載され
ている一般式 MIIFX・xA:yLn で示される希土類元素付活２価金属フルオロハライド蛍
光体、一般式ZnS:A、CdS:A、（Zn,Cd）S:A、S:A,ZnS:A,
X及びCdS:A,Xで示される蛍光体、特開昭59-38278号公報
に記載されている下記いずれかの一般式 xM3(PO4)2・NX2:yA M3(PO4)2:yA で示される蛍光体、特開昭59-155487号公報に記載され
ている下記いずれかの一般式 nReX3・mAX′２:xEu nReX3・mAX′２:xEu,ySm で示される蛍光体、特開昭61-72087号公報に記載されて
いる及び下記一般式 MIX・aMIIX′２・bMIIIX″３:cA で示されるアルカリハライド蛍光体等が挙げられる。特
にアルカリハライド蛍光体は、蒸着・スパッタリング等
の方法で輝尽層を形成しやすく好ましい。
u,Pb蛍光体、一般式BaO・xAl2O3:Euで示されるアルミン
酸バリウム蛍光体、及び一般式MIIO・xSiO2:Aで示され
るアルカリ土類金属珪酸塩系蛍光体が挙げられる。ま
た、特開昭55-12143号公報に記載されている一般式 （Ba1-x-yMgxCay）FX:eEu2+で示されるアルカリ土類弗
化ハロゲン化物蛍光体、特開昭55-12144号公報に記載さ
れている一般式 LnOX:xA で示される蛍光体、特開昭55-12145号公報に記載されて
いる一般式 （Ba1-xMII x）FX:yA で示される蛍光体、特開昭55-84389号公報に記載されて
いる一般式 BaFX:xCe,yA で示される蛍光体、特開昭55-160078号公報に記載され
ている一般式 MIIFX・xA:yLn で示される希土類元素付活２価金属フルオロハライド蛍
光体、一般式ZnS:A、CdS:A、（Zn,Cd）S:A、S:A,ZnS:A,
X及びCdS:A,Xで示される蛍光体、特開昭59-38278号公報
に記載されている下記いずれかの一般式 xM3(PO4)2・NX2:yA M3(PO4)2:yA で示される蛍光体、特開昭59-155487号公報に記載され
ている下記いずれかの一般式 nReX3・mAX′２:xEu nReX3・mAX′２:xEu,ySm で示される蛍光体、特開昭61-72087号公報に記載されて
いる及び下記一般式 MIX・aMIIX′２・bMIIIX″３:cA で示されるアルカリハライド蛍光体等が挙げられる。特
にアルカリハライド蛍光体は、蒸着・スパッタリング等
の方法で輝尽層を形成しやすく好ましい。
しかし、本発明の変換パネルに用いられる輝尽性蛍光
体は、前述の蛍光体に限られるものではなく、放射線を
照射した後輝尽励起光を照射した場合に輝尽発光を示す
蛍光体であればいかなる蛍光体であってもよい。
体は、前述の蛍光体に限られるものではなく、放射線を
照射した後輝尽励起光を照射した場合に輝尽発光を示す
蛍光体であればいかなる蛍光体であってもよい。
本発明の変換パネルにおける輝尽層は、前記の輝尽性
蛍光体の少なくとも一種類を含む一つ若しくは二つ以上
の輝尽層から成る輝尽層群であってもよい。また、それ
ぞれの輝尽層に含まれる輝尽性蛍光体は同一であっても
よいが異なっていてもよい。
蛍光体の少なくとも一種類を含む一つ若しくは二つ以上
の輝尽層から成る輝尽層群であってもよい。また、それ
ぞれの輝尽層に含まれる輝尽性蛍光体は同一であっても
よいが異なっていてもよい。
変換パネルの輝尽層の層厚は、目的とする変換パネル
の放射線に対する感度、輝尽性蛍光体の種類等によって
異なるが、結着剤を含有しない場合10μｍ〜1000μｍの
範囲、好ましくは20μｍ〜800μｍの範囲から選ばれ、
結着剤を含有する場合で20μｍ〜1000μｍの範囲、好ま
しくは50μｍ〜500μｍの範囲から選ばれる。
の放射線に対する感度、輝尽性蛍光体の種類等によって
異なるが、結着剤を含有しない場合10μｍ〜1000μｍの
範囲、好ましくは20μｍ〜800μｍの範囲から選ばれ、
結着剤を含有する場合で20μｍ〜1000μｍの範囲、好ま
しくは50μｍ〜500μｍの範囲から選ばれる。
このような輝尽層は支持体上に塗布法や気相成長法等
を用いて形成されるが、輝尽層を保護層上に形成せしめ
た後、支持体に積層してもよい。
を用いて形成されるが、輝尽層を保護層上に形成せしめ
た後、支持体に積層してもよい。
本発明において使用される支持体としては各種高分子
材料、ガラス、セラミックス、金属等が挙げられる。
材料、ガラス、セラミックス、金属等が挙げられる。
高分子材料としては例えばセルロースアセテートフィ
ルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリアミド、ポリイミド、トリアセテート、ポリ
カーボネート等のフィルムが挙げられる。金属として
は、アルミニウム、鉄、銅、クロム等の金属シートまた
は金属板或は該金属酸化物の被覆層を有する金属シート
または金属板が挙げられる。ガラスとしては化学的強化
ガラスや結晶化ガラスなどが挙げられる。またセラミッ
クスとしてはアルミナやジルコニアの焼結板などが挙げ
られる。
ルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリアミド、ポリイミド、トリアセテート、ポリ
カーボネート等のフィルムが挙げられる。金属として
は、アルミニウム、鉄、銅、クロム等の金属シートまた
は金属板或は該金属酸化物の被覆層を有する金属シート
または金属板が挙げられる。ガラスとしては化学的強化
ガラスや結晶化ガラスなどが挙げられる。またセラミッ
クスとしてはアルミナやジルコニアの焼結板などが挙げ
られる。
本発明に使用される支持体は透湿度が低いことが望ま
しく、透湿度は10（g/m2・24hr）以下が好ましく、１
（g/m2・24hr）以下がより好ましい。気密性が優れ、透
湿度が実質的に０であるような金属シートまたは金属
板、ガラス、セラミックスなどが特に好ましい。
しく、透湿度は10（g/m2・24hr）以下が好ましく、１
（g/m2・24hr）以下がより好ましい。気密性が優れ、透
湿度が実質的に０であるような金属シートまたは金属
板、ガラス、セラミックスなどが特に好ましい。
また、これら支持体の層厚は用いる支持体の材質等に
よって異なるが、一般的には80μｍ〜5mmであり、取り
扱いが容易であるという点から、好ましくは200μｍ〜3
mmである。
よって異なるが、一般的には80μｍ〜5mmであり、取り
扱いが容易であるという点から、好ましくは200μｍ〜3
mmである。
これら支持体の表面は滑面であってもよいし、輝尽性
蛍光体層との接着性を向上させる目的でマット面として
もよい。また、支持体の表面は凹凸面としてもよいし、
個々に独立した微小タイル状板を密に配置した表面構造
としてもよい。
蛍光体層との接着性を向上させる目的でマット面として
もよい。また、支持体の表面は凹凸面としてもよいし、
個々に独立した微小タイル状板を密に配置した表面構造
としてもよい。
さらに、これら支持体上には、輝尽層との接着性を向
上させる目的で輝尽層が設けられる面に下引層を設けて
もよいし、必要に応じて光反射層、光吸収層等を設けて
もよい。
上させる目的で輝尽層が設けられる面に下引層を設けて
もよいし、必要に応じて光反射層、光吸収層等を設けて
もよい。
本発明の変換パネルにおいて用いられる保護層として
は、透光性がよく、シート状に成形できるものが使用さ
れる。保護層は輝尽励起光および輝尽発光を効率よく透
過するために、広い波長範囲で高い透過率を示すことが
望ましく、透過率は400nm〜800nmの波長範囲で80％以上
が好ましく、90％以上がより好ましい。また、360nm〜4
00nmの波長範囲では60％以上が好ましく80％以上がより
好ましい。
は、透光性がよく、シート状に成形できるものが使用さ
れる。保護層は輝尽励起光および輝尽発光を効率よく透
過するために、広い波長範囲で高い透過率を示すことが
望ましく、透過率は400nm〜800nmの波長範囲で80％以上
が好ましく、90％以上がより好ましい。また、360nm〜4
00nmの波長範囲では60％以上が好ましく80％以上がより
好ましい。
そのようなものとしては、例えば、石英、硼珪酸ガラ
ス、化学的強化ガラス等の板ガラスや、PET、延伸ポリ
プロピレン、ポリ塩化ビニル等の有機高分子化合物が挙
げられる。硼珪酸ガラスは330nm〜2.6μｍの波長範囲で
80％以上の透過率を示し、石英ガラスではさらに短波長
においても高い透過率を示す。
ス、化学的強化ガラス等の板ガラスや、PET、延伸ポリ
プロピレン、ポリ塩化ビニル等の有機高分子化合物が挙
げられる。硼珪酸ガラスは330nm〜2.6μｍの波長範囲で
80％以上の透過率を示し、石英ガラスではさらに短波長
においても高い透過率を示す。
さらに、保護層の表面に、MgF2等の反射防止層を設け
ると、輝尽励起光および輝尽発光を効率よく透過すると
ともに、鮮鋭性の低下を小さくする効果もあり好まし
い。
ると、輝尽励起光および輝尽発光を効率よく透過すると
ともに、鮮鋭性の低下を小さくする効果もあり好まし
い。
本発明に使用される保護層は透湿度が低いことが望ま
しく、透湿度は10（g/m2・24hr）以下が好ましく、１
（g/m2・24hr）以下がより好ましい。気密性が優れ、透
湿度が実質的に０であるようなガラスが特に好ましい。
しく、透湿度は10（g/m2・24hr）以下が好ましく、１
（g/m2・24hr）以下がより好ましい。気密性が優れ、透
湿度が実質的に０であるようなガラスが特に好ましい。
また、保護層の厚さは、100μｍ〜5mmであり、良好な
防湿性と耐衝撃性を得るためには、300μｍ〜3mmが好ま
しい。
防湿性と耐衝撃性を得るためには、300μｍ〜3mmが好ま
しい。
本発明の保護層は単一層であってもよいし、多層でも
よく材質の異なる２種類以上の層からなっていてもよ
い。例えば２層以上の有機高分子膜を複合したフィルム
を用いることができる。このような複合高分子フィルム
の製法としては、ドライラミネート、押出ラミネートま
たは共押出コーティングラミネートなどの方法が挙げら
れる。
よく材質の異なる２種類以上の層からなっていてもよ
い。例えば２層以上の有機高分子膜を複合したフィルム
を用いることができる。このような複合高分子フィルム
の製法としては、ドライラミネート、押出ラミネートま
たは共押出コーティングラミネートなどの方法が挙げら
れる。
２層以上の保護膜の組合せとしては有機高分子同志に
限られるものではなく、板ガラス同志や板ガラスと有機
高分子層などが挙げられる。例えば板ガラスと高分子層
とを組合せる方法としては、保護層用塗布液を板ガラス
上に直接塗布して形成するか、あるいはあらかじめ別途
形成した高分子保護層を板ガラス上に接着する方法が挙
げられる。なお、２層以上の保護層は互いに密着状態に
あってもよいし、離れていてもよい。
限られるものではなく、板ガラス同志や板ガラスと有機
高分子層などが挙げられる。例えば板ガラスと高分子層
とを組合せる方法としては、保護層用塗布液を板ガラス
上に直接塗布して形成するか、あるいはあらかじめ別途
形成した高分子保護層を板ガラス上に接着する方法が挙
げられる。なお、２層以上の保護層は互いに密着状態に
あってもよいし、離れていてもよい。
この保護層は、保護層用塗布液を輝尽層上に直接塗布
して形成してもよいし、あるいはあらかじめ別途形成し
た保護層を輝尽層上に接着もしくは載置したり、保護層
上に輝尽層を形成してもよい。
して形成してもよいし、あるいはあらかじめ別途形成し
た保護層を輝尽層上に接着もしくは載置したり、保護層
上に輝尽層を形成してもよい。
保護層は輝尽層に接着していてもいなくてもよいが、
両層間に保護層よりも屈折率の低い層（以後、低屈折率
層という）を設けると、保護層を厚くしても鮮鋭性の低
下が小さく、耐湿性、鮮鋭性共に優れた変換パネルが得
られて好ましい。
両層間に保護層よりも屈折率の低い層（以後、低屈折率
層という）を設けると、保護層を厚くしても鮮鋭性の低
下が小さく、耐湿性、鮮鋭性共に優れた変換パネルが得
られて好ましい。
低屈折率層としては、屈折率が実質的に１であるよう
な気体層が特に好ましく、空気、窒素、アルゴン等が挙
げられる。
な気体層が特に好ましく、空気、窒素、アルゴン等が挙
げられる。
気体層からなる低屈折率層を設ける場合には、第３図
のように、輝尽層と保護層の間隔を保持するために、保
護層と支持体の間にスペーサ６を設けてもよい。スペー
サとしてはプラスチック、金属、ガラス、セラミックス
等を用いることができる。
のように、輝尽層と保護層の間隔を保持するために、保
護層と支持体の間にスペーサ６を設けてもよい。スペー
サとしてはプラスチック、金属、ガラス、セラミックス
等を用いることができる。
本発明において使用される吸湿剤としては、シリカゲ
ル、CaCl2、LiCl用、ポリビニルアルコール、エチレン
・ビニルアルコール共重合体等の吸湿性の高い有機高分
子化合物等が挙げられ、これらをそのまま用いても、ま
たは成型して用いてもよく、さらには、これらの吸湿剤
を樹脂中に含有させた形態として用いてもよい。
ル、CaCl2、LiCl用、ポリビニルアルコール、エチレン
・ビニルアルコール共重合体等の吸湿性の高い有機高分
子化合物等が挙げられ、これらをそのまま用いても、ま
たは成型して用いてもよく、さらには、これらの吸湿剤
を樹脂中に含有させた形態として用いてもよい。
吸湿剤は、輝尽性蛍光体 1gに対して、水分吸着量が
0.1〜50mgとなる量を用いる。
0.1〜50mgとなる量を用いる。
吸湿剤は、支持体と保護層の層間にあればどこにあっ
てもよいが、蓄積されたＸ線エネルギーを変換して画像
として使用する領域内にある輝尽層と保護層の層間は除
く。吸湿剤は、連続していても、また、断続的に存在し
ていてもよい。好ましくは、吸湿剤が支持体と保護層の
間で、輝尽層の外側部と封着部材との間に隙間なく充填
されている状態である。
てもよいが、蓄積されたＸ線エネルギーを変換して画像
として使用する領域内にある輝尽層と保護層の層間は除
く。吸湿剤は、連続していても、また、断続的に存在し
ていてもよい。好ましくは、吸湿剤が支持体と保護層の
間で、輝尽層の外側部と封着部材との間に隙間なく充填
されている状態である。
本発明に使用される封着部材としては、エポキシ系樹
脂、フェノール系樹脂、シアノアクリレート系樹脂、酢
酸ビニル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン系樹
脂、アクリル系樹脂、エチレン酢酸ビニル系樹脂、ポリ
オレフィン系樹脂、クロロプレン系ゴム、ニトリル系ゴ
ム、等の有機高分子系接着剤や、シリコーン系接着剤等
が挙げられる。半導体や電子部品の封止に用いられるエ
ポキシ系樹脂やシリコーン系樹脂は耐湿性が優れている
ので好ましく、特にエポキシ系接着剤は透湿度が低く好
適である。また、前記のような接着剤の他、低融点ガラ
ス等の封着用ガラスを用いてガラス融着により封着して
も、保護層の延長部で封着してもよい。
脂、フェノール系樹脂、シアノアクリレート系樹脂、酢
酸ビニル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン系樹
脂、アクリル系樹脂、エチレン酢酸ビニル系樹脂、ポリ
オレフィン系樹脂、クロロプレン系ゴム、ニトリル系ゴ
ム、等の有機高分子系接着剤や、シリコーン系接着剤等
が挙げられる。半導体や電子部品の封止に用いられるエ
ポキシ系樹脂やシリコーン系樹脂は耐湿性が優れている
ので好ましく、特にエポキシ系接着剤は透湿度が低く好
適である。また、前記のような接着剤の他、低融点ガラ
ス等の封着用ガラスを用いてガラス融着により封着して
も、保護層の延長部で封着してもよい。
本発明の変換パネルは、第５図に概略的に示される放
射線画像変換方法に用いられる。
射線画像変換方法に用いられる。
すなわち、放射線発生装置41からの放射線は、被写体
42を通して変換パネル43に入射する。
42を通して変換パネル43に入射する。
この入射した放射線はパネル43の輝尽層に吸収され、
そのエネルギーが蓄積され、放射線透過像の蓄積像が形
成される。
そのエネルギーが蓄積され、放射線透過像の蓄積像が形
成される。
次にこの蓄積像を輝尽励起光源44からの輝尽励起光で
励起して輝尽発光の強弱は蓄積された放射線エネルギー
量に比例するので、この光信号を例えば光電子増倍管等
の光電変換装置45で光電変換し、画像再生装置46によっ
て画像として再生し画像表示装置47によって表示するこ
とにより、被写体の放射線透過像を観察することができ
る。
励起して輝尽発光の強弱は蓄積された放射線エネルギー
量に比例するので、この光信号を例えば光電子増倍管等
の光電変換装置45で光電変換し、画像再生装置46によっ
て画像として再生し画像表示装置47によって表示するこ
とにより、被写体の放射線透過像を観察することができ
る。
本発明の変換パネルは、吸湿剤が封入されているの
で、変換パネル周縁の封着部分から侵入する水分を吸湿
剤により有効に吸着除去することができる。また、変換
パネル製造の際、輝尽層が徐々に吸着していた水分は吸
湿剤により確実に吸着除去されるため、輝尽層の水分に
よる劣化が防止され、変換パネルの初期性能を向上させ
ることができる。
で、変換パネル周縁の封着部分から侵入する水分を吸湿
剤により有効に吸着除去することができる。また、変換
パネル製造の際、輝尽層が徐々に吸着していた水分は吸
湿剤により確実に吸着除去されるため、輝尽層の水分に
よる劣化が防止され、変換パネルの初期性能を向上させ
ることができる。
特に保護層が厚く透湿度の低い変換パネルについて
は、保護層からの水分の侵入はわずかで、封着部からの
水分の侵入が支配的なので、輝尽層の外側部を取囲むよ
うに吸湿剤を設ければ吸湿剤による水分の吸着除去が効
果的に行なわれ、耐湿性向上および初期性能の向上の効
果が著しい。
は、保護層からの水分の侵入はわずかで、封着部からの
水分の侵入が支配的なので、輝尽層の外側部を取囲むよ
うに吸湿剤を設ければ吸湿剤による水分の吸着除去が効
果的に行なわれ、耐湿性向上および初期性能の向上の効
果が著しい。
また、気体層からなる低屈折率層を設けた場合には変
換パネル製造の際に気体層中にも水分が取り込まれる
が、この水分をも吸湿剤によって吸着除去することがで
きる。さらに、輝尽層が吸着していた水分が気体層中を
拡散して吸湿剤に到達するので、吸湿剤を輝尽層の周縁
部に設けても、輝尽層全域にわたって水分が除去される
ので、気体層からなる低屈折率層を有する場合には特に
有効である。
換パネル製造の際に気体層中にも水分が取り込まれる
が、この水分をも吸湿剤によって吸着除去することがで
きる。さらに、輝尽層が吸着していた水分が気体層中を
拡散して吸湿剤に到達するので、吸湿剤を輝尽層の周縁
部に設けても、輝尽層全域にわたって水分が除去される
ので、気体層からなる低屈折率層を有する場合には特に
有効である。
（実施例） 次に本発明を実施例によって説明する。
参考例１ 1.0mm厚の結晶化ガラス支持体（400mm×500mm）を、
エレクトロンビーム法（EB法）による蒸着装置中に設置
した。次いで、水冷したルツボにアルカリハライド蛍光
体（RbBr;0.0006T1）を入れ、プレスしてルツボの形状
に成形した。
エレクトロンビーム法（EB法）による蒸着装置中に設置
した。次いで、水冷したルツボにアルカリハライド蛍光
体（RbBr;0.0006T1）を入れ、プレスしてルツボの形状
に成形した。
続いて、蒸着装置内を排気し、５×10-6Torrの真空度
とした。次に、支持体を40〜45℃に保持しながら、EBガ
ンに電力を供給して輝尽性蛍光体を蒸発させた。
とした。次に、支持体を40〜45℃に保持しながら、EBガ
ンに電力を供給して輝尽性蛍光体を蒸発させた。
目的とする輝尽層を得るために膜厚モニタにより蒸着
速度が105Å/minとなるようにコントロールした。ま
た、電子ビームはルツボの輝尽性蛍光体表面をラスター
状にスキャンさせた。
速度が105Å/minとなるようにコントロールした。ま
た、電子ビームはルツボの輝尽性蛍光体表面をラスター
状にスキャンさせた。
輝尽層の層厚が300μｍとなったところで蒸着を終了
させた。輝尽層の蒸着領域はステンレス板のマスクを用
いて370mm×470mmとした。
させた。輝尽層の蒸着領域はステンレス板のマスクを用
いて370mm×470mmとした。
次いで支持体上の前記輝尽層が蒸着されていない部分
（輝尽層の外側部）に、吸湿剤としてシリカゲルを封入
したポリエチレン（ハイシート・ドライ，丸谷加工機
（株）製,25℃,80％RHでの平衡吸湿率3.3％）を1.8g
（層厚300μｍ）第１図のように配置した。さらに、輝
尽層上（支持体と反対側の面）に20μｍ厚のポリ塩化ビ
ニリデンの保護層をポリウレタン系接着剤（T-600,日本
曹達（株）製）にて接着した。このものを80℃で１時間
加熱して乾燥させ、周縁部をエポキシ樹脂系接着剤（AV
138＋HV998,日本チバガイギー（株）製）を用いて封着
し、第１図に示したような変換パネルを製造した。
（輝尽層の外側部）に、吸湿剤としてシリカゲルを封入
したポリエチレン（ハイシート・ドライ，丸谷加工機
（株）製,25℃,80％RHでの平衡吸湿率3.3％）を1.8g
（層厚300μｍ）第１図のように配置した。さらに、輝
尽層上（支持体と反対側の面）に20μｍ厚のポリ塩化ビ
ニリデンの保護層をポリウレタン系接着剤（T-600,日本
曹達（株）製）にて接着した。このものを80℃で１時間
加熱して乾燥させ、周縁部をエポキシ樹脂系接着剤（AV
138＋HV998,日本チバガイギー（株）製）を用いて封着
し、第１図に示したような変換パネルを製造した。
かくして得られた放射線画像変換パネルについて、次
の特性を調べ、結果を表１に示した。
の特性を調べ、結果を表１に示した。
相対感度 封着後２時間経過後の変換パネルの相対感度を次のよ
うにして調べた。
うにして調べた。
管電圧80KVpのＸ線を10mR照射し、ｔ秒後に半導体レ
ーザ光（780nm）で輝尽励起し、輝尽性蛍光体層から放
射される輝尽発光を光検出器（光電子増倍管）で光電変
換し、この信号の電圧値V(t)を求めた。後述する比較例
の変換パネルについて同様にして得られた信号の電圧値
をV0(t)とし、V(5)／V0(5)をもって相対感度とした。
ーザ光（780nm）で輝尽励起し、輝尽性蛍光体層から放
射される輝尽発光を光検出器（光電子増倍管）で光電変
換し、この信号の電圧値V(t)を求めた。後述する比較例
の変換パネルについて同様にして得られた信号の電圧値
をV0(t)とし、V(5)／V0(5)をもって相対感度とした。
感度残存率 封着後40℃、相対湿度40％の条件で２時間経過後、１
週間経過後、２週間経過後および１ケ月経過後の感度残
存率を、 により求めた。
週間経過後、２週間経過後および１ケ月経過後の感度残
存率を、 により求めた。
鮮鋭性 空間周波数１p/mmにおけるMTF（変調伝達関数
％）を求め、変換パネルの鮮鋭性を評価した。
％）を求め、変換パネルの鮮鋭性を評価した。
参考例２ 吸湿剤としてエチレンビニルアルコール共重合体（20
℃,65％RHでの平衡吸湿率3.9％）2.7g（層厚300μｍ）
を用いた他は参考例１と同様にして変換パネルを製造
し、その特性の評価を行なった。結果を表１に示した。
℃,65％RHでの平衡吸湿率3.9％）2.7g（層厚300μｍ）
を用いた他は参考例１と同様にして変換パネルを製造
し、その特性の評価を行なった。結果を表１に示した。
実施例１ 1.0mm厚の結晶化ガラス支持体（400mm×500mm）に、
参考例１と同様の方法でアルカリハライド蛍光体（RbB
r;0.0006T1）を層厚が300μｍとなるまで蒸着した。
参考例１と同様の方法でアルカリハライド蛍光体（RbB
r;0.0006T1）を層厚が300μｍとなるまで蒸着した。
次いで支持体上の前記輝尽層が蒸着されていない部分
（輝尽層の外側部）に、吸湿剤としてシリカゲルを封入
したポリエチレン（25℃,80％RHでの平衡吸湿率14％）
を7g（層厚1mm）第３図のように配置した。
（輝尽層の外側部）に、吸湿剤としてシリカゲルを封入
したポリエチレン（25℃,80％RHでの平衡吸湿率14％）
を7g（層厚1mm）第３図のように配置した。
前記輝尽層上に700μｍ厚さの空気層が設けられるよ
うに層厚1mmで幅5mmのガラスのスペーサを第３図に示す
ように配置した。
うに層厚1mmで幅5mmのガラスのスペーサを第３図に示す
ように配置した。
さらにこの上に1.0mm厚のガラスの保護層を載置した
後、このものを80℃で１時間加熱して乾燥させ、周縁部
をエポキシ樹脂系接着剤（AV138＋HV998,日本チバガイ
ギー（株）製）を用いて封着し、第３図に示したような
変換パネルを製造した。
後、このものを80℃で１時間加熱して乾燥させ、周縁部
をエポキシ樹脂系接着剤（AV138＋HV998,日本チバガイ
ギー（株）製）を用いて封着し、第３図に示したような
変換パネルを製造した。
かくして製造した変換パネルについて、参考例１と同
様に特性の評価を行ない、その結果を表１に示した。
様に特性の評価を行ない、その結果を表１に示した。
実施例２ 吸湿剤としてエチレンビニルアルコール共重合体（20
℃,65％RHでの平衡吸湿率3.9％）9.0g（層厚1mm）を用
いた他は実施例１と同様にして変換パネルを製造し、そ
の特性の評価を行なった。結果を表１に示した。
℃,65％RHでの平衡吸湿率3.9％）9.0g（層厚1mm）を用
いた他は実施例１と同様にして変換パネルを製造し、そ
の特性の評価を行なった。結果を表１に示した。
比較例１ 保護層として1.0mmの板ガラスを用いた他は参考例１
と同様にして変換パネルを製造し、その特性の評価を行
なった。結果を表１に示した。
と同様にして変換パネルを製造し、その特性の評価を行
なった。結果を表１に示した。
比較例２ 吸湿剤を用いない他は参考例１と同様にして第４図の
ような変換パネルを製造した。その特性の評価を行ない
結果を表１に示した。
ような変換パネルを製造した。その特性の評価を行ない
結果を表１に示した。
比較例３ 吸湿剤を用いない他は実施例１と同様にして第３図の
ような変換パネルを製造した。その特性の評価を行ない
結果を表１に示した。
ような変換パネルを製造した。その特性の評価を行ない
結果を表１に示した。
［発明の効果］ 本発明の放射線画像変換パネルは、支持体と保護層と
の間に前記保護層よりも屈折率の低い低屈折率層を有
し、さらに輝尽層および吸湿剤が封入されており、該吸
湿剤が、変換パネルの周りの封着部分より侵入する水分
を吸着除去し、また、変換パネル製造時に輝尽層が含有
していた水分も吸着除去するので、輝尽層が水分により
劣化することなく、初期性能を向上させ、鮮鋭性の低下
を防止することができる。
の間に前記保護層よりも屈折率の低い低屈折率層を有
し、さらに輝尽層および吸湿剤が封入されており、該吸
湿剤が、変換パネルの周りの封着部分より侵入する水分
を吸着除去し、また、変換パネル製造時に輝尽層が含有
していた水分も吸着除去するので、輝尽層が水分により
劣化することなく、初期性能を向上させ、鮮鋭性の低下
を防止することができる。
したがって、本発明によれば、過酷な温湿度条件下で
使用したり、耐湿性に劣る輝尽性蛍光体を用いた場合に
おいても優れた特性を示す変換パネルを提供することが
できる。
使用したり、耐湿性に劣る輝尽性蛍光体を用いた場合に
おいても優れた特性を示す変換パネルを提供することが
できる。
第３図は本発明の放射線画像変換パネルの実施例の断面
図であり、第１図は参考例の断面図であり、第２図は第
１図のＡ−Ａ′断面図であり、第４図は比較例の放射線
画像変換パネルの断面図であり、第５図は放射線画像変
換パネルを用いる放射線画像変換方法の説明図である。 １……輝尽層 ２……保護層 ３……支持体 ４……吸着剤 ５……封着部材 ６……スペーサ ７……低屈折層 41……放射線発生装置 42……被写体 43……放射線画像変換パネル 44……輝尽励起光源 45……光電変換装置 46……放射線画像再生装置 47……放射線画像表示装置 48……フィルタ
図であり、第１図は参考例の断面図であり、第２図は第
１図のＡ−Ａ′断面図であり、第４図は比較例の放射線
画像変換パネルの断面図であり、第５図は放射線画像変
換パネルを用いる放射線画像変換方法の説明図である。 １……輝尽層 ２……保護層 ３……支持体 ４……吸着剤 ５……封着部材 ６……スペーサ ７……低屈折層 41……放射線発生装置 42……被写体 43……放射線画像変換パネル 44……輝尽励起光源 45……光電変換装置 46……放射線画像再生装置 47……放射線画像表示装置 48……フィルタ
Claims (1)
- 【請求項１】支持体と保護層との間に、輝尽性蛍光体層
を有する放射線画像変換パネルにおいて、 前記輝尽性蛍光体層の周りに設けられた封着部材と、 前記輝尽性蛍光体層と前記保護層との間に、前記保護層
よりも屈折率の低い低屈折率層とを有し、 前記支持体、前記保護層および前記封着部材により形成
される空間内に、前記輝尽性蛍光体層および吸湿剤が封
入されていることを特徴とする放射線画像変換パネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63147997A JP2705943B2 (ja) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | 放射線画像変換パネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63147997A JP2705943B2 (ja) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | 放射線画像変換パネル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01316696A JPH01316696A (ja) | 1989-12-21 |
| JP2705943B2 true JP2705943B2 (ja) | 1998-01-28 |
Family
ID=15442805
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63147997A Expired - Lifetime JP2705943B2 (ja) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | 放射線画像変換パネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2705943B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102007047829A1 (de) | 2006-11-21 | 2008-09-18 | Aisin Seiki K.K., Kariya | Sitzvorrichtung für ein Fahrzeug |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1605472A1 (en) * | 2004-06-10 | 2005-12-14 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Radiation image conversion panel |
| JPWO2010106884A1 (ja) * | 2009-03-19 | 2012-09-20 | コニカミノルタエムジー株式会社 | シンチレータパネル |
| JP6523620B2 (ja) * | 2014-06-16 | 2019-06-05 | キヤノン電子管デバイス株式会社 | 放射線検出器及びその製造方法 |
| JP6880309B2 (ja) * | 2018-03-19 | 2021-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 放射線検出器、放射線画像撮影装置、及び製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61237100A (ja) * | 1985-04-13 | 1986-10-22 | 富士写真フイルム株式会社 | 放射線像変換パネル |
| JPH0660960B2 (ja) * | 1986-09-17 | 1994-08-10 | コニカ株式会社 | 放射線画像変換パネル |
-
1988
- 1988-06-17 JP JP63147997A patent/JP2705943B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102007047829A1 (de) | 2006-11-21 | 2008-09-18 | Aisin Seiki K.K., Kariya | Sitzvorrichtung für ein Fahrzeug |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01316696A (ja) | 1989-12-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081009 Year of fee payment: 11 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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