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JP2797525B2 - Capacitor - Google Patents

Capacitor

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JP2797525B2
JP2797525B2 JP1256185A JP25618589A JP2797525B2 JP 2797525 B2 JP2797525 B2 JP 2797525B2 JP 1256185 A JP1256185 A JP 1256185A JP 25618589 A JP25618589 A JP 25618589A JP 2797525 B2 JP2797525 B2 JP 2797525B2
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JP
Japan
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film
aromatic
dielectric layer
polymer
dielectric
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孝宏 名川
伸明 伊藤
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Toray Industries Inc
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Toray Industries Inc
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  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、耐熱性に優れ小型でしかも高容量のコンデ
ンサに関するものである。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a small-sized and high-capacity capacitor having excellent heat resistance.

[従来の技術] フィルムコンデンサの体積あたりを容量を上げるため
に従来から誘電体であるフィルムの厚みを薄くしたり、
フィルムに高誘電率フィラーを混入しフィルムの誘電率
を上げたりする方法がとられてきた。また、最近では両
面金属化フィルムに高誘電率を有する誘電体層を設けこ
れを巻回、積層して高容量化する方法が現われた。特開
昭63−216323では微粉末セラミック誘電体とポリフェニ
レンオキサイドとからなる複合誘電体を用い、特開昭63
−224313ではシアノエチル化高分子誘電体とポリフェニ
レンオキサイドの混合物を誘電体としている。
[Prior art] In order to increase the capacitance per volume of a film capacitor, the thickness of a conventional dielectric film has been reduced,
A method of increasing the dielectric constant of a film by mixing a high dielectric constant filler into the film has been adopted. Recently, a method has been developed in which a double-sided metallized film is provided with a dielectric layer having a high dielectric constant, wound and laminated to increase the capacity. JP-A-63-216323 uses a composite dielectric comprising a fine powder ceramic dielectric and polyphenylene oxide.
In -224313, a mixture of a cyanoethylated polymer dielectric and polyphenylene oxide is used as a dielectric.

[発明が解決しようとする課題] しかし大容量化のために、フィルムの厚みを薄くした
り、高誘電率フィラーを混入し誘電率を上げるのは、フ
ィルムの機械特性が悪くなるなどの理由で限界がある。
これに対して、両面金属化したフィルムに高誘電率に有
する誘電体層を設けるというのは小型化大容量には非常
に有効な方法である。しかし、上記の方法で得られたも
のは、耐熱性に乏しく耐ハンダ性がないとか高温で長期
使用した際誘電率の変化がおおきく信頼性に劣るなどの
欠点がある。また、体積あたりの容量もまだ十分に高く
なく、誘電率をさらに高くしようとすると、誘電体膜状
物の機械特性が極端に悪化し製品が得られないなど、近
年の電子部品の小型化、高性能化の要求にはまだ答えら
れていない。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in order to increase the capacity, the thickness of the film is reduced, or a high dielectric constant filler is mixed to increase the dielectric constant because the mechanical properties of the film are deteriorated. There is a limit.
On the other hand, providing a dielectric layer having a high dielectric constant on a film metalized on both sides is a very effective method for miniaturization and large capacity. However, those obtained by the above method have disadvantages such as poor heat resistance and lack of solder resistance, and a large change in dielectric constant when used at high temperatures for a long period of time, resulting in poor reliability. In addition, the capacity per volume is not yet sufficiently high, and in order to further increase the dielectric constant, the mechanical characteristics of the dielectric film-like material are extremely deteriorated, and products cannot be obtained. The demand for higher performance has not yet been answered.

本発明の目的は上記の課題を解決し、耐熱性に優れ小
型化、高容量化が可能なコンデンサを提供することにあ
る。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide a capacitor which is excellent in heat resistance and can be reduced in size and increased in capacity.

[課題を解決するための手段] 本発明は、両面金属化フィルムの片面あるいは両面に
誘電体層を設けこれを巻回または積層してなるコンデン
サにおいて、該フィルムが芳香族ポリアミド、芳香族ポ
リイミドから選ばれた一種以上のポリマからなり、かつ
該誘電体層が芳香族ポリアミド、芳香族ポリイミドから
選ばれた一種以上のポリマーと、高誘電率とを有する無
機フイラーからなる膜状物であることを特徴とするコン
デンサに関するものである。
[Means for Solving the Problems] The present invention provides a capacitor formed by providing a dielectric layer on one or both sides of a double-sided metallized film and winding or laminating the film, wherein the film is made of an aromatic polyamide or an aromatic polyimide. The dielectric layer is made of one or more selected polymers, and the dielectric layer is a film made of one or more polymers selected from aromatic polyamide and aromatic polyimide, and an inorganic filler having a high dielectric constant. It relates to a characteristic capacitor.

本発明の両面金属化フィルム、あるいは、誘電体層に
おける芳香族ポリアミドとは一般式 −HN−Ar1−NHOC−Ar2−CO− で示される繰り返し単位を70モル%以上含む重合体から
成るものが好ましい。
Sided metallized films of the present invention, or made of a polymer is an aromatic polyamide in the dielectric layer comprises the general formula -HN-Ar 1 -NHOC-Ar 2 -CO- In the repeating unit 70 mol% or more represented Is preferred.

ここでAr1,Ar2は少なくとも一個の芳香環を含み、同
一でも異なっていてもよく、これらの代表例としては次
のものが挙げられる。
Here, Ar 1 and Ar 2 contain at least one aromatic ring and may be the same or different, and representative examples thereof include the following.

また、これらの芳香環の環上の水素の一部が、ハロゲ
ン基(特に塩素)、ニトロ基、C1〜C3のアルキル基(特
にメチル基)、C1〜C3のアルコキシ基などの置換基で置
換されているものも含む。また、Xは、−O−,−CH2
−,−SO2−,−S−,−CO−などである。これらは単
独または共重合の形で含まれる。
Also, part of the hydrogen on these aromatic rings are halogen (especially chlorine), a nitro group, an alkyl group of C 1 -C 3 (especially methyl), such as alkoxy groups C 1 -C 3 Also includes those substituted with a substituent. X represents —O—, —CH 2
-, - SO 2 -, - S -, - CO- , and the like. These are included in the form of homopolymer or copolymer.

アルキル基や−CH2−を有するポリマは、ポリマ溶液
中で溶解性が置換基のないものより向上し、無機フイラ
ーとの相性がよくなり、好ましい。例えば、 などを50モル%以上含むポリマが挙げられる。
A polymer having an alkyl group or —CH 2 — is preferable because the solubility in a polymer solution is higher than that having no substituent and the compatibility with an inorganic filler is improved. For example, And the like containing 50 mol% or more.

また、本発明の両面金属化フィルム、あるいは、誘電
体層における芳香族ポリイミドとは、重合体の繰り返し
単位の中に芳香環とイミド環を各々1つ以上含むもので
あり、一般式 あるいは で示される繰り返し単位を70モル%以上含むものが好ま
しい。
Further, the double-sided metallized film of the present invention, or the aromatic polyimide in the dielectric layer is a polymer containing at least one aromatic ring and at least one imide ring in the repeating unit of the polymer, a general formula Or Those containing 70 mol% or more of the repeating unit represented by are preferred.

ここでAr3,Ar5は少なくとも1個の芳香環を含み、イ
ミド環を形成する2つのカルボニル基は芳香環上の隣接
する炭素原子に結合している。このAr3は、芳香族テト
ラカルボン酸あるいはこの無水物に由来する。代表例と
しては、次のようなものが挙げられる。
Here, Ar 3 and Ar 5 contain at least one aromatic ring, and two carbonyl groups forming an imide ring are bonded to adjacent carbon atoms on the aromatic ring. This Ar 3 is derived from an aromatic tetracarboxylic acid or its anhydride. Representative examples include the following.

ここで、Yは、−O−,−CH2−,−SO2−,−S−,
−CO−などである。
Here, Y is, -O -, - CH 2 - , - SO 2 -, - S-,
—CO— and the like.

また、Ar5は、トリカルボン酸、あるいはこの無水物
に由来する。
Ar 5 is derived from tricarboxylic acid or its anhydride.

Ar4,Ar6は少なくとも1個の芳香環を含み、芳香族ジ
アミン、芳香族ジイソシアネートに由来する。また、ア
ミド結合、ウレタン結合等を含んでいてもよい。Ar4、A
r6の代表例としては、次のようなものが挙げられる。
Ar 4 and Ar 6 contain at least one aromatic ring and are derived from aromatic diamines and aromatic diisocyanates. Further, it may contain an amide bond, a urethane bond, or the like. Ar 4 , A
Typical examples of r 6 include the following.

ここで、これらの芳香環の環上の水素の一部が、ハロ
ゲン基、ニトロ基、C1〜C3のアルキル基、C1〜C3のアル
コキシ基などの置換基で置換されているものも含む。Z
は、−O−,−CH2−,−SO2−,−S−,−CO−などで
ある。これらは単独または共重合の形で含まれる。
Here, some of the hydrogens on these aromatic rings are substituted with substituents such as halogen groups, nitro groups, C 1 to C 3 alkyl groups, and C 1 to C 3 alkoxy groups. Including. Z
Is, -O -, - CH 2 - , - SO 2 -, - S -, - CO- , and the like. These are included in the form of homopolymer or copolymer.

また、本発明の両面金属化フィルムにおける芳香族ポ
リアミド、芳香族ポリイミドにはフイルムの物性を損わ
ない程度に、滑材、酸化防止剤、その他の添加剤等や他
のポリマがブレンドされていてもよい。さらに、後に示
すような高誘電率を有する無機フィラーが添加されてい
てもよい。
Further, the aromatic polyamide and the aromatic polyimide in the double-sided metallized film of the present invention are blended with a lubricant, an antioxidant, other additives, and other polymers to such an extent that the physical properties of the film are not impaired. Is also good. Further, an inorganic filler having a high dielectric constant as described later may be added.

さらに、両面金属化フィルムに用いられる芳香族ポリ
アミド、芳香族ポリイミドと誘電体層として用いられる
芳香族ポリアミド、芳香族ポリイミドは同じでも異なっ
ていてもよいが、フィルムの方は誘電体層を溶液で塗布
した場合でもその溶媒に侵されにくいポリマを選ぶのが
好ましい。
Furthermore, the aromatic polyamide used for the double-sided metallized film, the aromatic polyimide used for the dielectric layer and the aromatic polyamide used for the dielectric layer and the aromatic polyimide may be the same or different. It is preferable to select a polymer that is hardly affected by the solvent even when applied.

本発明において用いられる高誘電率を有する無機フイ
ラーとしては、ポリマとの相溶性をを考えると金属酸化
物が好ましい。具体的には、チタン酸バリウム、チタン
酸亜鉛、チタン酸ストロンチウム、チタン酸化カルシウ
ム、チタン酸鉛、チタン酸マグネシウム、酸化チタン、
アンチモン酸バリウム、アンチモン酸マグネシウム、ア
ンチモン酸ストロンチウム、アンチモン酸カルシウム、
アンチモン酸マグネシウム、アンチモン酸鉛、スズ酸バ
リウム、スズ酸ストロンチウムなどが挙げられ、これら
の複合化合物、固溶体、単なる混合物であってもよい。
無機フイラーの形状は、球状、鱗状、釘状、不定形など
いずれでもよく、一時粒径は、得られる誘電体層の厚み
が10μ以下であり、また、これらの粒子は粒径分布をも
っており、10mμ〜5μの範囲のものが好ましく、より
好ましくは20mμ〜2μであり、二次凝集が少なく、ま
た、しにくいものが好ましい。
As the inorganic filler having a high dielectric constant used in the present invention, a metal oxide is preferable in consideration of compatibility with a polymer. Specifically, barium titanate, zinc titanate, strontium titanate, titanium calcium oxide, lead titanate, magnesium titanate, titanium oxide,
Barium antimonate, magnesium antimonate, strontium antimonate, calcium antimonate,
Examples thereof include magnesium antimonate, lead antimonate, barium stannate, and strontium stannate, and a composite compound, a solid solution, or a simple mixture thereof may be used.
The shape of the inorganic filler may be spherical, scale-like, nail-like, irregular, etc., and the temporary particle size is such that the thickness of the obtained dielectric layer is 10 μ or less, and these particles have a particle size distribution, Those having a range of from 10 μm to 5 μm are preferable, and those having a range of 20 μm to 2 μm are preferable.

フイラーの添加量は、目的とする誘電率によって異な
るが、ポリマ100重量部に対して、好ましくは30〜7000
重量部であり、より好ましくは150〜5000重量部であ
る。30量部未満では、高容量化は期待できないし、7000
重量部を越えると、膜特性が極端に悪くなり誘電体層を
形成することが困難となる。この時、誘電体層の誘電率
は10〜200が好ましい。また、誘電正接tan δ(1KHz)
は50%以下が好ましい。
The amount of the filler added depends on the desired dielectric constant, but preferably ranges from 30 to 7000 relative to 100 parts by weight of the polymer.
Parts by weight, more preferably 150 to 5,000 parts by weight. If the amount is less than 30 parts, high capacity cannot be expected and 7000
If the amount is more than 10 parts by weight, the film characteristics will be extremely deteriorated, and it will be difficult to form a dielectric layer. At this time, the dielectric constant of the dielectric layer is preferably 10 to 200. The dielectric loss tangent tan δ (1KHz)
Is preferably 50% or less.

また、絶縁破壊電圧(BDV)は、フィルム厚み10μで
0.1KV以上であることが好ましい。0.1KV未満では、実用
性に欠ける。より好ましくは0.2KV以上である。
The dielectric breakdown voltage (BDV) is
It is preferably 0.1 KV or more. If it is less than 0.1 KV, it is not practical. More preferably, it is 0.2 KV or more.

さらに膜状物の機械特性を向上する目的で、芳香族ポ
リアミド、芳香族ポリイミドから選ばれた一種以上のポ
リマーと、高誘電率を有する無機フイラーからなる誘電
体層にシラン系、チタネート系、アルミナ系等のカップ
リング剤や界面活性剤を添加することは何等差し支えな
い。
For the purpose of further improving the mechanical properties of the film-like material, silane-based, titanate-based, and alumina-based dielectric layers composed of one or more polymers selected from aromatic polyamide and aromatic polyimide, and an inorganic filler having a high dielectric constant. Addition of a coupling agent or a surfactant such as a system may be used without any problem.

本発明の誘電体層の厚みは0.1〜10μが好ましい。0.1
μより薄いと電気、機械特性とも悪く、10μより厚いと
小形化の目的からはずれる。より好ましくは0.2〜5μ
である。
The thickness of the dielectric layer of the present invention is preferably 0.1 to 10 μm. 0.1
If it is thinner than μ, the electrical and mechanical properties are poor. If it is thicker than 10 μm, it is not possible to reduce the size. More preferably 0.2-5μ
It is.

本発明の両面金属化フイルムの厚みは小型化を目的と
することから薄い方がよいが、1〜10μが好ましくは、
より好ましくは1〜5μである。
The thickness of the double-sided metallized film of the present invention is preferably thinner for the purpose of miniaturization, but preferably 1 to 10 μm,
More preferably, it is 1-5 μm.

また、本発名の両面金属化フイルムに用いるフィルム
の少なくとも一方向の250℃の熱収縮率は、好ましくは
5%以下、より好ましくは2%以下であり、強度と伸度
は、少なくとも一方向が5kg/mm2以上、5%以上が好ま
しく、より好ましくは8kg/mm2以上、10%以上である。
さらにフイルムの吸湿率は、好ましく5%以下、より好
ましくは4%以下である。5%より大きいと湿度により
誘電率の変動が大きくなり、実用上問題となることがあ
る。
The heat shrinkage at 250 ° C. in at least one direction of the film used for the double-sided metallized film of the present invention is preferably 5% or less, more preferably 2% or less, and the strength and elongation are at least one direction. Is preferably 5 kg / mm 2 or more and 5% or more, more preferably 8 kg / mm 2 or more and 10% or more.
Further, the moisture absorption of the film is preferably 5% or less, more preferably 4% or less. If it is more than 5%, the fluctuation of the dielectric constant due to the humidity increases, which may cause a practical problem.

次に本発明の膜状物の製造方法について述べるがこれ
らに限定されるものではない。
Next, the method for producing a film-like material of the present invention will be described, but the present invention is not limited thereto.

まず、芳香族ポリアミドであるが、酸クロリドとジア
ミンとからの場合は、N−メチルピロリドン、ジメチル
アセトアミド、ジメチルホルムアミドなどの非プロトン
性有機極性溶媒中で、溶液重合したり、水系媒体を使用
する界面重合などで合成される。ポリマ溶液は、単量体
として酸クロリドとジアミンを使用すると塩化水素が副
生するため、これを中和するために水酸化カルシウムな
どの無機の中和剤、又はエチレンオキサイドなどの有機
の中和剤を添加する。また、イソシアネートとカルボン
酸との反応は、非プロトン性有機極性溶媒中、触媒の存
在下で行なわれる。
First, in the case of an aromatic polyamide, from an acid chloride and a diamine, in an aprotic organic polar solvent such as N-methylpyrrolidone, dimethylacetamide, and dimethylformamide, a solution polymerization or an aqueous medium is used. It is synthesized by interfacial polymerization or the like. When acid chloride and diamine are used as monomers in a polymer solution, hydrogen chloride is produced as a by-product.To neutralize this, an inorganic neutralizer such as calcium hydroxide or an organic neutralizer such as ethylene oxide is used. Add the agent. The reaction between the isocyanate and the carboxylic acid is performed in an aprotic organic polar solvent in the presence of a catalyst.

これらのポリマ溶液はそのままフイルムを成形する製
膜原液にしてもよく、またポリマーを一度単離してから
上記の溶媒に再溶解して製膜原液を調製してもよい。製
膜原液には溶解助剤として無機塩、例えば塩化カルシウ
ム、塩化マグネシウムなどを添加する場合もある。製膜
原液中のポリマ濃度は2〜4重量%程度が好ましい。
These polymer solutions may be used as a stock solution for forming a film as it is, or the polymer may be isolated once and then redissolved in the above solvent to prepare a stock solution. In some cases, an inorganic salt, such as calcium chloride or magnesium chloride, is added as a dissolution aid to the film forming stock solution. The polymer concentration in the film forming stock solution is preferably about 2 to 4% by weight.

一方、芳香族ポリイミドあるいはポリアミド酸の溶液
は次のようにして得られる。即ち、ポリアミド酸はN−
メチルピロリドン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホ
ルムアミドなどの非プロトン製有機極性溶媒中でテトラ
カルボン酸二無水物と芳香族ジアミンを反応させて、調
製することができる。又、芳香族ポリイミドは前記のポ
リアミド酸を含有する溶液を加熱したり、ピリジンなど
のイミド化剤を添加してポリイミドの粉末を得、これを
再度溶媒に溶解して調製できる。製膜原液中のポリマ濃
度は、5〜40重量%程度が好ましい。
On the other hand, a solution of aromatic polyimide or polyamic acid is obtained as follows. That is, polyamic acid is N-
It can be prepared by reacting tetracarboxylic dianhydride with an aromatic diamine in an aprotic organic polar solvent such as methylpyrrolidone, dimethylacetamide and dimethylformamide. The aromatic polyimide can be prepared by heating a solution containing the above-mentioned polyamic acid or adding an imidizing agent such as pyridine to obtain a polyimide powder, which is dissolved in a solvent again. The polymer concentration in the film forming solution is preferably about 5 to 40% by weight.

この製膜原液は、いわゆる溶液製膜法によりフイルム
化が行なわれる。溶液製膜法には、乾湿式法、乾式法、
湿式法などがあるが、乾湿式法、乾式法が表面性のよい
フイルムを得るには好ましい。キャスト時の粘度は、10
0〜10000ポイズになるように製膜原液のポリマ濃度や温
度を調節することが好ましい。
This film forming stock solution is formed into a film by a so-called solution film forming method. The solution casting method includes a wet-dry method, a dry method,
There are a wet method and the like, but a dry-wet method and a dry method are preferable for obtaining a film having good surface properties. The viscosity at the time of casting is 10
It is preferable to adjust the polymer concentration and temperature of the membrane-forming stock solution so as to be 0 to 10,000 poise.

ここで粘度とは、回転式B型粘度計でキャスト時と同
一条件(濃度、温度)で測定した値をいう。
Here, the viscosity refers to a value measured with a rotary B-type viscometer under the same conditions (concentration and temperature) as at the time of casting.

キャストは金属ドラムやエンドレスの金属ベルトなど
の支持体上に行なわれ、ここで薄膜が自己保持性をもつ
まで乾燥あるいはイミド化反応を促進させる。この際溶
媒が急激に飛散して面荒れを起こさないように調節する
必要があり、一般に室温〜300℃、好ましくは50〜250℃
で60分以内の範囲で行なわれる。
Casting is performed on a support such as a metal drum or an endless metal belt where the thin film is self-supporting to promote the drying or imidization reaction. At this time, it is necessary to adjust so that the solvent does not suddenly scatter and cause surface roughness, and is generally room temperature to 300 ° C, preferably 50 to 250 ° C.
In less than 60 minutes.

自己保持性をもつに至ったフイルムは支持体から剥離
され、乾湿式のプロセスの採用する際には湿式浴中へ導
入される。この浴は、一般に水系媒体からなるものであ
り、水の他に、有機溶媒や無機塩等を含有していてもよ
い。該浴中でフイルム中の残存溶媒や無機塩、イミド化
剤が抽出される。
The self-retaining film is peeled off from the support and introduced into a wet bath when a dry-wet process is employed. This bath is generally composed of an aqueous medium, and may contain an organic solvent, an inorganic salt or the like in addition to water. In the bath, the remaining solvent, inorganic salt and imidating agent in the film are extracted.

さらにフイルム長手方向に延伸、あるいはリラックス
が行なわれる。浴から出たフィルムは次いで乾燥や延
伸、リラックス、熱処理が行なわれる。
Further, the film is stretched or relaxed in the longitudinal direction of the film. The film exiting the bath is then dried, stretched, relaxed and heat treated.

これらの処理は、一般に100〜500℃で行なわれる。 These treatments are generally performed at 100 to 500 ° C.

乾式法の場合には、自己保持性をもったフイルムは支
持体から剥離後、一般には、残存揮発分を少なくとも3
重量%以下になるまで、乾燥、延伸リラックス、熱処理
がなされる。これらの処理は一般に150℃〜500℃で行な
われる。
In the case of the dry method, the self-holding film is generally separated from the support by at least 3 vol.
Drying, stretching relaxation, and heat treatment are performed until the amount becomes less than the weight percent. These treatments are generally performed at 150 ° C to 500 ° C.

以上、乾湿式法、乾式法のいずれの製膜方法をとる場
合にも、面倍率は、好ましくは0.8〜5.0倍、より好まし
くは、1.1〜3.0倍で延伸あるいはリラックスを行なう。
面倍率とはフイルム長手方向(MD方向)の延伸倍率と幅
方向(TD方向)の延伸倍率の積を言う。
As described above, in any of the film forming methods of the dry-wet method and the dry method, stretching or relaxation is performed at an area magnification of preferably 0.8 to 5.0 times, more preferably 1.1 to 3.0 times.
The area magnification refers to the product of the stretching ratio in the film longitudinal direction (MD direction) and the stretching ratio in the width direction (TD direction).

次にフィルムの金属化の方法であるが、真空蒸着、メ
ッキ、スパッタリング、イオンプレーティング等の方法
によって金属薄膜を形成する。この時の金属してはアル
ミニウム、亜鉛、ニッケル、ニッケルクロム合金等が挙
げられるが、これらのうちアルニウムが蒸着性、特性の
点で好ましい。
Next, as a method of metallizing a film, a metal thin film is formed by a method such as vacuum deposition, plating, sputtering, or ion plating. Examples of the metal at this time include aluminum, zinc, nickel, and nickel-chromium alloy. Of these, alnium is preferred in terms of vapor deposition properties and characteristics.

次に、誘電体層に用いる芳香族ポリアミド、芳香族ポ
リイミドと無機フィラーとの混合は、ポリマの重合前、
重合中、重合後のいずれに行なってもよい。
Next, the aromatic polyamide used for the dielectric layer, the mixture of the aromatic polyimide and the inorganic filler, before polymerization of the polymer,
The reaction may be performed during or after the polymerization.

上記芳香族ポリアミド、芳香族ポリイミドフィルム上
にポリマと無機フィラーの混合物を塗布する方法は、公
知の方法で行なわれ、グラビアコーターあるいはリバー
スロールコーター、ロッドコーター、エアドクタコータ
ーなどがあるが、これらに限定されるものではない。
The method of applying a mixture of a polymer and an inorganic filler on the aromatic polyamide or aromatic polyimide film is performed by a known method, and includes a gravure coater or a reverse roll coater, a rod coater, an air doctor coater, and the like. It is not limited.

次に上記のように両面金属化したフィルム上に誘電体
層を設けたものを巻回あるいは積層し、さらにこれに外
部電極、外装を施して本発明のコンデンサとする。この
コンデンサの260℃のはんだ浴に30秒間浸した際の前後
の容量変化は、10%以下が好ましく、より好ましくは7
%以下である。また、150℃の雰囲気中に1000時間保存
した時の前後の耐電圧変化は10%以下が好ましくなり、
より好ましくは7%以下である。両者とも、この範囲外
であると実用に耐えない。
Next, a film provided with a dielectric layer on the film metallized on both sides as described above is wound or laminated, and further provided with an external electrode and a package to obtain a capacitor of the present invention. The change in capacitance before and after the capacitor is immersed in a 260 ° C. solder bath for 30 seconds is preferably 10% or less, more preferably 7% or less.
% Or less. In addition, the withstand voltage change before and after storage in an atmosphere at 150 ° C. for 1000 hours is preferably 10% or less,
It is more preferably at most 7%. Both are not practical for use outside of this range.

[発明の効果] 以上のように両面金属化フィルムに誘電体層を設ける
方法において、上記組成のフィルム、誘電体を用いるこ
とで、耐熱性の優れた小型高容量のコンデンサを作成す
ることができる。また、両面金属化フィルムと誘電体層
に同種のポリマを用いているために、それらの間の接着
性に優れ、また、金属面との接着性もよく、長期の安定
性に特に優れている。
[Effect of the Invention] As described above, in the method of providing the dielectric layer on the double-sided metallized film, by using the film and the dielectric having the above composition, a small-sized and high-capacitance capacitor having excellent heat resistance can be produced. . In addition, since the same type of polymer is used for the double-sided metallized film and the dielectric layer, the adhesion between them is excellent, and the adhesion with the metal surface is also good, and the long-term stability is particularly excellent. .

[特性の評価法] (1)耐はんだ性 260℃のはんだ浴中に30秒間浸し、前後の容量変化を
測定した。
[Evaluation Method of Characteristics] (1) Solder Resistance The sample was immersed in a solder bath at 260 ° C. for 30 seconds, and the change in capacitance before and after was measured.

容量変化率(%)=(浸漬前の容量−浸漬後の容量)/
浸漬前の容量×100 (2)長期耐熱性 150℃の雰囲気中に1000時間保存し、前後の耐電圧変
化を測定した。
Capacity change rate (%) = (capacity before immersion−capacity after immersion) /
Capacity before immersion × 100 (2) Long-term heat resistance The sample was stored in an atmosphere at 150 ° C. for 1000 hours, and a change in withstand voltage before and after was measured.

帯電圧変化率(%)=(保存前の耐電圧−保存後の耐電
圧)/保存前の耐電圧×100 [実施例] 以下本発明を実施例をもって説明するが、これに限定
されるものではない。
Charge rate (%) = (Dielectric strength before storage−Dielectric strength after storage) / Dielectric strength before storage × 100 [Examples] Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples, but is not limited thereto. is not.

実施例、比較例を表にまとめたものを表1に示す。 Table 1 summarizes examples and comparative examples.

実施例1 (1)両面金属化フィルムの製造 2−クロロ−p−フェニレンジアミン(CPA)、4,4′
−ジアミノジフェニルエーテル(DAE)とテレフタル酸
クロリド(TPC)から合成したポリマのNMP(N−メチル
ピロリドン)溶液をステンレス製エンドレスベルト上に
流延し、150℃の熱風によって自己支持性を持つまで乾
燥した。自己支持性を得たゲルフィルムを連続的にベル
トから剥離し、次にこれを水槽中へ導入して溶媒の抽出
を行い、さらにステンター内で水分の乾燥と熱処理を行
って厚さ2.0μmのフィルムを得た。このフィルムをフ
ィルム1とする。
Example 1 (1) Production of double-sided metallized film 2-chloro-p-phenylenediamine (CPA), 4,4 '
-An NMP (N-methylpyrrolidone) solution of a polymer synthesized from diaminodiphenyl ether (DAE) and terephthalic acid chloride (TPC) was cast on a stainless steel endless belt and dried with hot air at 150 ° C until it became self-supporting. . The gel film with self-supporting property was continuously peeled off from the belt, then introduced into a water tank to extract the solvent, and further dried and heat-treated in a stenter to a thickness of 2.0 μm. A film was obtained. This film is referred to as Film 1.

(2)誘電体の製造 CPAと2−クロロテレフタル酸クロリド(CTPC)から
合成したポリマを一旦単離し、再度NMPに10wt%の濃度
で溶解し、これに粒径0.1μmのチタン酸バリウムを固
形分の60wt%になるように添加して、1時間撹拌した。
これを、ポリマ濃度が3%になるように希釈して、コー
ティング液1とした。
(2) Production of dielectric A polymer synthesized from CPA and 2-chloroterephthalic acid chloride (CTPC) is once isolated, dissolved again in NMP at a concentration of 10 wt%, and barium titanate having a particle size of 0.1 μm is solidified. And stirred for 1 hour.
This was diluted so that the polymer concentration became 3% to obtain a coating liquid 1.

(3)金属化および誘導体層の形成 膜状物1に表面抵抗が2Ωになるようにアルミニウム
を両面に真空蒸着した。その際長手方向に走るマージン
部を有するストライプ状に蒸着し、蒸着上に電極の取り
出しを残すようにコーティング液1を塗布した。
(3) Metallization and Formation of Derivative Layer Aluminum was vacuum-deposited on both surfaces of the film-shaped material 1 so that the surface resistance became 2Ω. At this time, vapor deposition was performed in a stripe shape having a margin portion running in the longitudinal direction, and the coating liquid 1 was applied so as to leave the electrode taken out on the vapor deposition.

(4)巻回体の製造 スリットしたテープを直径50cmのリールに巻回した。(4) Production of Wound Body The slit tape was wound on a reel having a diameter of 50 cm.

(5)コンデンサの製造 この巻回体から5mm切り出し両端面にメタリコンを溶
射して外部電極とし、メタリコンにリード線を接続して
巻回コンデンサ(2.1μF)を得た。このコンデンサの
耐はんだ性、長期耐熱性の評価結果を表1に示すが良好
なコンデンサ特性を有していた。
(5) Production of Capacitor A 5 mm cut-out of this wound body was sprayed with metallikon on both end surfaces to form external electrodes, and a lead wire was connected to the metallikon to obtain a wound capacitor (2.1 μF). The evaluation results of the solder resistance and the long-term heat resistance of this capacitor are shown in Table 1, and the capacitor had good capacitor characteristics.

実施例2 ピロメリット酸二無水物(PMDA)とDAEの反応で得ら
れたポリアミド酸のN,N−ジメチルアセトアミド(DMA
C)溶液をステンレス製のドラム上にキャストし、150℃
の熱風によって、自己支持性を持つまで乾燥した。自己
支持性を得たゲルフィルムを連続的にドラムから剥離
し、400℃のステンターへ導き熱閉環と乾燥を行ない、
厚み5μmのフィルムを得た(フィルム2)。このフィ
ルム2とコーティング液1を用いて、実施例1と同様に
コンデンサ(1.5μF)を作製したところ、良好な特性
を示した。
Example 2 N, N-dimethylacetamide (DMA) of polyamic acid obtained by the reaction of pyromellitic dianhydride (PMDA) with DAE
C) Cast the solution on a stainless steel drum,
And dried by hot air until self-supporting. The gel film with self-supporting properties was continuously peeled off from the drum, led to a 400 ° C stenter, and thermally closed and dried.
A film having a thickness of 5 μm was obtained (film 2). Using this film 2 and coating liquid 1, a capacitor (1.5 μF) was produced in the same manner as in Example 1, and showed good characteristics.

実施例3 CPA、4,4′−ジアミノジフェニルスルホン(DAS)とT
PCから合成したフィルム3(2.5μm)と4,4′−ジアミ
ノジフェニルメタン(DAM)、CTPCから合成したポリマ
に粒径0.3μmのチタン酸バリウムを固形分の70wt%に
なるように添加して得られたコーティング液2を用いて
実施例1と同様な方法でコンデンサ(1.7μF)を作製
したところ良好な特性を示していた。
Example 3 CPA, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone (DAS) and T
A film 3 (2.5 μm) synthesized from PC, 4,4′-diaminodiphenylmethane (DAM), and a polymer synthesized from CTPC, obtained by adding barium titanate having a particle size of 0.3 μm to a solid content of 70 wt%. Using the coating liquid 2 thus obtained, a capacitor (1.7 μF) was produced in the same manner as in Example 1 and showed good characteristics.

比較例1 ポリフェニレンオキサイドをトリクレンに10wt%の濃
度で溶解し、この溶液へ固形分の60wt%になるように0.
1μmの酸化チタンを添加しコーティング液3を得た。
フィルム1とこのコーティング液3を用いて実施例1と
同様な方法でコンデンサ(2.1μF)を作製した。耐は
んだ性、長期耐熱性をテストしたが耐熱性がなく、容
量、耐電圧とも測定できなかった。
Comparative Example 1 Polyphenylene oxide was dissolved in trichlene at a concentration of 10% by weight, and 0.2% of the solid content was added to this solution at a concentration of 60% by weight.
1 μm of titanium oxide was added to obtain a coating liquid 3.
Using the film 1 and the coating solution 3, a capacitor (2.1 μF) was produced in the same manner as in Example 1. Although the solder resistance and the long-term heat resistance were tested, there was no heat resistance, and neither the capacity nor the withstand voltage could be measured.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】両面金属化フィルムの片面あるいは両面に
誘電体層を設けこれを巻回または積層してなるコンデン
サにおいて、該フィルムが芳香族ポリアミド、芳香族ポ
リイミドから選ばれた一種以上のポリマからなり、かつ
該誘電体層が芳香族ポリアミド、芳香族ポリイミドから
選ばれた一種以上のポリマーと、高誘電率とを有する無
機フイラーからなる膜状物であることを特徴とするコン
デンサ。
A capacitor formed by providing a dielectric layer on one or both sides of a double-sided metallized film and winding or laminating the dielectric layer, wherein the film is made of at least one polymer selected from aromatic polyamide and aromatic polyimide. Wherein the dielectric layer is a film made of at least one polymer selected from aromatic polyamide and aromatic polyimide and an inorganic filler having a high dielectric constant.
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