JP2785635B2 - ハーメチックコート光ファイバの製造装置 - Google Patents
ハーメチックコート光ファイバの製造装置Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/12—General methods of coating; Devices therefor
- C03C25/22—Deposition from the vapour phase
- C03C25/223—Deposition from the vapour phase by chemical vapour deposition or pyrolysis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/104—Coating to obtain optical fibres
- C03C25/106—Single coatings
- C03C25/1061—Inorganic coatings
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
- C23C16/545—Apparatus specially adapted for continuous coating for coating elongated substrates
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- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は耐水素特性及び機械的特
性共に優れたハーメチックコート光ファイバの量産製造
に適した製造装置に関する。
性共に優れたハーメチックコート光ファイバの量産製造
に適した製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバへのハーメチックコートは、
光ファイバへの水及び水素等、外気の浸入を防ぐ手段と
して有効である。コーティング材料としては金属（合金
を含む）、炭素等の無機材料が一般的であり、この中で
も炭素コーティングはその化学的安定性、組織の緻密性
等の面から優れており、そのコーティング方法としては
原料ガスを化学的に反応させて、ファイバ表面に析出さ
せるＣＶＤ法が成膜速度及び膜質の点で有利であること
が知られている。従来このような技術として例えば米国
特許第4,790,625 号明細書、欧州特許第0,308,143 号明
細書等に示されているような製造装置がある。反応容器
はこれらに記載されるように上からシールガス導入口、
原料ガス導入口、排気ガス排出口を有するタイプが代表
的で、紡糸された高温のファイバはこれら原料ガス導入
口と排出口との間で熱的化学反応によりハーメチックコ
ートが施される。
光ファイバへの水及び水素等、外気の浸入を防ぐ手段と
して有効である。コーティング材料としては金属（合金
を含む）、炭素等の無機材料が一般的であり、この中で
も炭素コーティングはその化学的安定性、組織の緻密性
等の面から優れており、そのコーティング方法としては
原料ガスを化学的に反応させて、ファイバ表面に析出さ
せるＣＶＤ法が成膜速度及び膜質の点で有利であること
が知られている。従来このような技術として例えば米国
特許第4,790,625 号明細書、欧州特許第0,308,143 号明
細書等に示されているような製造装置がある。反応容器
はこれらに記載されるように上からシールガス導入口、
原料ガス導入口、排気ガス排出口を有するタイプが代表
的で、紡糸された高温のファイバはこれら原料ガス導入
口と排出口との間で熱的化学反応によりハーメチックコ
ートが施される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来このような装置で
は気相中に生成した固体粒子、例えばカーボン粒子が反
応容器の内壁に付着し、長尺にコーティングしようとす
ると、それが徐々に堆積して反応容器を塞いで線引きの
継続が不可能になるという問題があった。従ってかかる
問題を解決しなければ歩留りは向上せず、生産性を高め
ることはできない。そこで、本発明では固体粒子等の堆
積が低減できるハーメチックコート光ファイバの製造装
置を提供することを目的とする。
は気相中に生成した固体粒子、例えばカーボン粒子が反
応容器の内壁に付着し、長尺にコーティングしようとす
ると、それが徐々に堆積して反応容器を塞いで線引きの
継続が不可能になるという問題があった。従ってかかる
問題を解決しなければ歩留りは向上せず、生産性を高め
ることはできない。そこで、本発明では固体粒子等の堆
積が低減できるハーメチックコート光ファイバの製造装
置を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】かかる問題を解決するた
めに本発明者等は鋭意検討を重ねた結果、反応容器の形
状を上部より下部にかけてその内径を増加させ、その材
質を化学的に安定で、かつ耐熱性の高いものとし、その
内壁面を鏡面状に滑らかなものとすることにより上記目
的を達成できる装置となることを見出した。またこの装
置を用いて原料条件を好適に設定することにより、耐水
素特性および機械的特性共に優れたハーメチックコート
光ファイバを高い生産性で製造できた。すなわち本発明
は、光ファイバ用プリフオームを線引炉で溶融、紡糸し
て裸ファイバとした後、該裸ファイバを反応容器内に導
入すると共に、該反応容器内に原料ガスを導入し、該裸
ファイバ上に化学気相析出法により薄膜被覆層を形成す
るハーメチックコート光ファイバの製造装置において、
該反応容器は上から順に原料ガス導入手段を有する上
部、反応部である中間部、排気手段を有する下部の３部
分から構成され、該上部は原料ガス導入管を有し、該上
部の内部の断面積は該原料ガス導入管直下から下方に向
かい増加しており、該中間部の内部の断面積は該上部の
内部の最大断面積と等しいかより大きいものであること
を特徴とする上記製造装置を提供する。
めに本発明者等は鋭意検討を重ねた結果、反応容器の形
状を上部より下部にかけてその内径を増加させ、その材
質を化学的に安定で、かつ耐熱性の高いものとし、その
内壁面を鏡面状に滑らかなものとすることにより上記目
的を達成できる装置となることを見出した。またこの装
置を用いて原料条件を好適に設定することにより、耐水
素特性および機械的特性共に優れたハーメチックコート
光ファイバを高い生産性で製造できた。すなわち本発明
は、光ファイバ用プリフオームを線引炉で溶融、紡糸し
て裸ファイバとした後、該裸ファイバを反応容器内に導
入すると共に、該反応容器内に原料ガスを導入し、該裸
ファイバ上に化学気相析出法により薄膜被覆層を形成す
るハーメチックコート光ファイバの製造装置において、
該反応容器は上から順に原料ガス導入手段を有する上
部、反応部である中間部、排気手段を有する下部の３部
分から構成され、該上部は原料ガス導入管を有し、該上
部の内部の断面積は該原料ガス導入管直下から下方に向
かい増加しており、該中間部の内部の断面積は該上部の
内部の最大断面積と等しいかより大きいものであること
を特徴とする上記製造装置を提供する。
【０００５】図１に本発明の装置の一具体例を示す。１
は線引炉、２は線引炉と反応容器５を繋ぐガスシールド
で、開閉度自在の開口部９を有し、長さも自由に設定で
きる。５が本発明に係る反応容器であり、テーパー状に
下部に向かいその内部の断面積が大きくなっている。３
は上部シールガス導入管、４は原料ガス導入管、６は排
気管、７はファイバ保護管、８は下部シールガス導入
管、１０はハーメチックコート光ファイバをそれぞれ示
す。反応容器の断面形状は、容器内のガスの流れが均一
になれば特に制限は無いが、好ましくは正方形等の線対
称形、より好ましくは円形のような点対称形のほうがガ
スの流れもそれに応じてファイバを軸として対称な形で
流れるのでファイバ周方向のコーティングの均一性の点
で有利である。
は線引炉、２は線引炉と反応容器５を繋ぐガスシールド
で、開閉度自在の開口部９を有し、長さも自由に設定で
きる。５が本発明に係る反応容器であり、テーパー状に
下部に向かいその内部の断面積が大きくなっている。３
は上部シールガス導入管、４は原料ガス導入管、６は排
気管、７はファイバ保護管、８は下部シールガス導入
管、１０はハーメチックコート光ファイバをそれぞれ示
す。反応容器の断面形状は、容器内のガスの流れが均一
になれば特に制限は無いが、好ましくは正方形等の線対
称形、より好ましくは円形のような点対称形のほうがガ
スの流れもそれに応じてファイバを軸として対称な形で
流れるのでファイバ周方向のコーティングの均一性の点
で有利である。
【０００６】
【作用】本発明者らの所見によれば、気体中で生成した
固体粒子（以下単に粒子という）の堆積は、反応容器の
形状及び内壁面の形状に大きく左右される。すなわち内
壁面に突起や大きな凹凸が存在すると、その部分でガス
の流れが乱れ微視的な澱み部分が形成されたりして、粒
子が優先的に堆積し易くなる。従って粒子の堆積を効果
的に防止するためにはこの内面形状を鏡面状に滑らかに
することがまず効果的である。しかしながら、これだけ
では不十分で、反応容器の形状も堆積防止には重要な役
割を果たすことを見いだした。すなわち、反応容器の断
面積を上部より中間部を大きくすることにより粒子の堆
積を著しく減少させることができ、更に図１に示したよ
うに下部にいくに従ってその断面積を増加させると更に
粒子が堆積しにくくなる。なお、断面円形の反応管の場
合、中間部の内径が該上部の内径よりも大きいものが好
ましく、図１に示したように下部にいくに従ってその内
径を増加させると更に粒子が堆積しにくくなる。これは
ガスの流れと粒子の移動現象の変化によって粒子が壁面
に付着するのを効果的に防ぐためと考えられる。また、
本発明者らの所見では、粒子が最も多く堆積する場所
は、原料ガス導入管近傍（上部）、及び排気口近傍（下
部）の二箇所である。従って図１及び図２に示すよう
に、この部分の形状をなだらかに太くすることが効果的
である。なお、図２の２１は開口部である。具体的には
本発明装置において、該反応容器の上部における断面積
はおよそ８０〜７００ｍｍ2 、下部における断面積は７
００〜５０００ｍｍ2 程度が好ましく、断面が円形の容
器の場合には、該反応容器の上部における最小径は１０
ｍｍ〜３０ｍｍ、下部における最大径は３０ｍｍ〜８０
ｍｍであることが特に好ましい。これは上部の最小断面
積（断面が円形の場合は最小径）が小さすぎる（例えば
最小径１０ｍｍ以下）と、僅かな粒子の堆積でも反応管
を閉塞させてしまい、また大きすぎると原料ガスがファ
イバに届きにくくなり良好なコーティングができなくな
ってしまうためである。また下部の最大断面積（断面が
円形の場合は最大径）が大きすぎるとその部分での容器
内のガス流速が低くなるため澱みを生じやすく粒子の堆
積を誘発してしまう。本発明の反応容器の材質として
は、高い耐熱性と耐蝕性、耐熱的衝撃性、表面粗さ及び
加工性の点から透明石英ガラスが最も適しており、場合
によってはシリコン、チタン等の金属の炭化物や窒化物
のセラミックス、あるいは炭素等の材質も使用できる。
またこれらを表面にコーティング処理した複合材料もも
ちろん利用できる。
固体粒子（以下単に粒子という）の堆積は、反応容器の
形状及び内壁面の形状に大きく左右される。すなわち内
壁面に突起や大きな凹凸が存在すると、その部分でガス
の流れが乱れ微視的な澱み部分が形成されたりして、粒
子が優先的に堆積し易くなる。従って粒子の堆積を効果
的に防止するためにはこの内面形状を鏡面状に滑らかに
することがまず効果的である。しかしながら、これだけ
では不十分で、反応容器の形状も堆積防止には重要な役
割を果たすことを見いだした。すなわち、反応容器の断
面積を上部より中間部を大きくすることにより粒子の堆
積を著しく減少させることができ、更に図１に示したよ
うに下部にいくに従ってその断面積を増加させると更に
粒子が堆積しにくくなる。なお、断面円形の反応管の場
合、中間部の内径が該上部の内径よりも大きいものが好
ましく、図１に示したように下部にいくに従ってその内
径を増加させると更に粒子が堆積しにくくなる。これは
ガスの流れと粒子の移動現象の変化によって粒子が壁面
に付着するのを効果的に防ぐためと考えられる。また、
本発明者らの所見では、粒子が最も多く堆積する場所
は、原料ガス導入管近傍（上部）、及び排気口近傍（下
部）の二箇所である。従って図１及び図２に示すよう
に、この部分の形状をなだらかに太くすることが効果的
である。なお、図２の２１は開口部である。具体的には
本発明装置において、該反応容器の上部における断面積
はおよそ８０〜７００ｍｍ2 、下部における断面積は７
００〜５０００ｍｍ2 程度が好ましく、断面が円形の容
器の場合には、該反応容器の上部における最小径は１０
ｍｍ〜３０ｍｍ、下部における最大径は３０ｍｍ〜８０
ｍｍであることが特に好ましい。これは上部の最小断面
積（断面が円形の場合は最小径）が小さすぎる（例えば
最小径１０ｍｍ以下）と、僅かな粒子の堆積でも反応管
を閉塞させてしまい、また大きすぎると原料ガスがファ
イバに届きにくくなり良好なコーティングができなくな
ってしまうためである。また下部の最大断面積（断面が
円形の場合は最大径）が大きすぎるとその部分での容器
内のガス流速が低くなるため澱みを生じやすく粒子の堆
積を誘発してしまう。本発明の反応容器の材質として
は、高い耐熱性と耐蝕性、耐熱的衝撃性、表面粗さ及び
加工性の点から透明石英ガラスが最も適しており、場合
によってはシリコン、チタン等の金属の炭化物や窒化物
のセラミックス、あるいは炭素等の材質も使用できる。
またこれらを表面にコーティング処理した複合材料もも
ちろん利用できる。
【０００７】本発明の製造装置を用いたハーメチックコ
ート光ファイバ製造の好ましい条件についても種々検討
した。その結果、原料ガスとしては例えば、炭化水素
類，ハロゲン化炭化水素類，ハロゲン化炭素，ハロゲン
ガス等を用いることができるが、特にエチレンとクロロ
ホルムとの混合ガスが好適であった。エチレンとクロロ
ホルムの混合比率は、混合ガス中の水素原子数と塩素原
子数の比が１．３以上、好ましくは１．６以上の場合
に、得られたハーメチックコート光ファイバの耐水素特
性が優れることが判明した（後記各実施例、比較例参
照）。図３は原料組成と耐水素特性の関係を示したもの
である。横軸はＨ／Ｃｌ、縦軸は水素分子の吸収帯であ
る波長１．２４μｍにおける伝送損失増加量を示してい
る。この原料組成は反応容器の形状及び断面積に従って
適宜決められる。原料の総量は少なすぎると形成される
カーボン被覆の厚さが不十分となり、良好な耐水素特性
が得られない。また多すぎても粒子の生成を増長させ、
得られる被覆膜の性質も劣化する。これらのことから原
料の総流量はおよそ１００〜１０００ｃｃ／ｍｉｎが適
当である。
ート光ファイバ製造の好ましい条件についても種々検討
した。その結果、原料ガスとしては例えば、炭化水素
類，ハロゲン化炭化水素類，ハロゲン化炭素，ハロゲン
ガス等を用いることができるが、特にエチレンとクロロ
ホルムとの混合ガスが好適であった。エチレンとクロロ
ホルムの混合比率は、混合ガス中の水素原子数と塩素原
子数の比が１．３以上、好ましくは１．６以上の場合
に、得られたハーメチックコート光ファイバの耐水素特
性が優れることが判明した（後記各実施例、比較例参
照）。図３は原料組成と耐水素特性の関係を示したもの
である。横軸はＨ／Ｃｌ、縦軸は水素分子の吸収帯であ
る波長１．２４μｍにおける伝送損失増加量を示してい
る。この原料組成は反応容器の形状及び断面積に従って
適宜決められる。原料の総量は少なすぎると形成される
カーボン被覆の厚さが不十分となり、良好な耐水素特性
が得られない。また多すぎても粒子の生成を増長させ、
得られる被覆膜の性質も劣化する。これらのことから原
料の総流量はおよそ１００〜１０００ｃｃ／ｍｉｎが適
当である。
【０００８】
【実施例】以下、実施例を参照しながら詳細に説明す
る。 実施例１ 図１に示すような反応容器を用いてコーティングを行っ
た。上部の内径は２０ｍｍ、下部の内径は６０ｍｍ、中
部は上部より大きい内径でなだらかなテーパ形状に内径
及び断面積が増加している。原料総流量２５０ｃｃ／ｍ
ｉｎとし、原料組成と耐水素特性の関係を調べ（図
３）、原料組成Ｈ／Ｃｌを１．６とした。この条件下で
約１５０ｋｍ線引き後、反応容器内部を観察したとこ
ろ、上部、下部共に粒子の堆積は殆ど認められず、また
得られたハーメチックコート光ファイバの耐水素特性及
び機械的特性は共に良好であった。
る。 実施例１ 図１に示すような反応容器を用いてコーティングを行っ
た。上部の内径は２０ｍｍ、下部の内径は６０ｍｍ、中
部は上部より大きい内径でなだらかなテーパ形状に内径
及び断面積が増加している。原料総流量２５０ｃｃ／ｍ
ｉｎとし、原料組成と耐水素特性の関係を調べ（図
３）、原料組成Ｈ／Ｃｌを１．６とした。この条件下で
約１５０ｋｍ線引き後、反応容器内部を観察したとこ
ろ、上部、下部共に粒子の堆積は殆ど認められず、また
得られたハーメチックコート光ファイバの耐水素特性及
び機械的特性は共に良好であった。
【０００９】実施例２ 図２に示すような本発明の反応容器を用いてハーメチッ
クコートコーティングを行った。上部の内径は２０ｍｍ
で、原料ガス導入管下部約１ｃｍから径を広げて、中間
部では内径約３２ｍｍ、下部では内径約６０ｍｍとし
た。これは粒子堆積の著しい場所のみ径を拡げたタイプ
である。この場合も実施例１と同様の条件で約１５０ｋ
ｍコーティングを行い、反応容器内部を調べたところ、
容器内に粒子の堆積は殆ど認められず、得られたファイ
バの耐水素特性及び機械的特性共に良好であった。原料
組成と耐水素特性の関係を調べた結果を図３に示す。
クコートコーティングを行った。上部の内径は２０ｍｍ
で、原料ガス導入管下部約１ｃｍから径を広げて、中間
部では内径約３２ｍｍ、下部では内径約６０ｍｍとし
た。これは粒子堆積の著しい場所のみ径を拡げたタイプ
である。この場合も実施例１と同様の条件で約１５０ｋ
ｍコーティングを行い、反応容器内部を調べたところ、
容器内に粒子の堆積は殆ど認められず、得られたファイ
バの耐水素特性及び機械的特性共に良好であった。原料
組成と耐水素特性の関係を調べた結果を図３に示す。
【００１０】実施例３ 図２に示すような本発明の反応容器を用いてハーメチッ
クコーティングを行った。但し、この反応容器の断面形
状は正方形であり、上部における内部の一辺の長さは２
５ｍｍ、原料ガス導入管下部約１ｃｍから内部の寸法を
大きくし、中間部では内部の一辺の長さが３５ｍｍ、そ
して同様に断面積を大きくして下部では一辺の長さを５
０ｍｍとした。これは粒子堆積の著しい場所のみ断面積
を広げた断面形状が正方形のタイプである。この場合も
約１５０ｋｍコーティング後、反応容器内部を観察した
ところ、粒子の堆積は僅かで更にコーティングが可能な
状態であった。
クコーティングを行った。但し、この反応容器の断面形
状は正方形であり、上部における内部の一辺の長さは２
５ｍｍ、原料ガス導入管下部約１ｃｍから内部の寸法を
大きくし、中間部では内部の一辺の長さが３５ｍｍ、そ
して同様に断面積を大きくして下部では一辺の長さを５
０ｍｍとした。これは粒子堆積の著しい場所のみ断面積
を広げた断面形状が正方形のタイプである。この場合も
約１５０ｋｍコーティング後、反応容器内部を観察した
ところ、粒子の堆積は僅かで更にコーティングが可能な
状態であった。
【００１１】比較例１ 原料ガスにＣ2 Ｈ4 とＣＨＣｌ3 とを用い、ＣＨＣｌ3
のキャリヤーガスとしてはＨe を用いて、石英ファイバ
上にカーボンをコーティングした。また上部シールガス
にはＮ2 を、下部シールガスには空気を使用した。線引
き速度は２００ｍ／ｍｉｎで行った。反応容器は図４に
示すタイプの石英製でその内径は上部、下部とも２０ｍ
ｍと一定にし、反応管長は７００ｍｍとした。原料組成
と耐水素特性の関係を調べた結果を図３に示す。図３の
実験の結果により原料の流量を次のようにした。 Ｃ2 Ｈ4 ： １１４ｃｃ／ｍｉｎ ＣＨＣｌ3 ： １３２ｃｃ／ｍｉｎ（Ｈ／Ｃｌ＝１．
５） このような条件の下でコーティングを行ったところ、内
面形状の滑らかな材質の反応容器を使用したため中間部
では粒子の堆積はほとんど認められず、約６０ｋｍまで
線引長を延ばすことができたが、反応管上部及び下部で
粒子の堆積が著しく、更に継続することは困難な状態と
なった。
のキャリヤーガスとしてはＨe を用いて、石英ファイバ
上にカーボンをコーティングした。また上部シールガス
にはＮ2 を、下部シールガスには空気を使用した。線引
き速度は２００ｍ／ｍｉｎで行った。反応容器は図４に
示すタイプの石英製でその内径は上部、下部とも２０ｍ
ｍと一定にし、反応管長は７００ｍｍとした。原料組成
と耐水素特性の関係を調べた結果を図３に示す。図３の
実験の結果により原料の流量を次のようにした。 Ｃ2 Ｈ4 ： １１４ｃｃ／ｍｉｎ ＣＨＣｌ3 ： １３２ｃｃ／ｍｉｎ（Ｈ／Ｃｌ＝１．
５） このような条件の下でコーティングを行ったところ、内
面形状の滑らかな材質の反応容器を使用したため中間部
では粒子の堆積はほとんど認められず、約６０ｋｍまで
線引長を延ばすことができたが、反応管上部及び下部で
粒子の堆積が著しく、更に継続することは困難な状態と
なった。
【００１２】比較例２ 反応容器の内径は上部及び中部が３６ｍｍ、下部６０ｍ
ｍとし、図５に示すようにその内径変化部を排気口近辺
に設けた。ガスの流量条件は比較例１と同様とした。こ
のような反応管でコーティングを行った。約１５０ｋｍ
線引き後、反応容器内部を観察したところ、下部での粒
子の堆積は認められなかったが、上部原料ガス導入管直
下での堆積は著しかった。また、得られた光ファイバの
耐水素特性は広い原料組成域にわたり、比較例１に比べ
劣化した。原料組成と耐水素特性の関係を調べた結果を
図３に示す。
ｍとし、図５に示すようにその内径変化部を排気口近辺
に設けた。ガスの流量条件は比較例１と同様とした。こ
のような反応管でコーティングを行った。約１５０ｋｍ
線引き後、反応容器内部を観察したところ、下部での粒
子の堆積は認められなかったが、上部原料ガス導入管直
下での堆積は著しかった。また、得られた光ファイバの
耐水素特性は広い原料組成域にわたり、比較例１に比べ
劣化した。原料組成と耐水素特性の関係を調べた結果を
図３に示す。
【００１３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の装置を用
いることによって長時間の連続コーティングが可能とな
り、生産性の向上に大いに役立つ。また、本発明による
ハーメチックコート光ファイバは耐水素特性、機械的特
性共に優れた高品質のものである。
いることによって長時間の連続コーティングが可能とな
り、生産性の向上に大いに役立つ。また、本発明による
ハーメチックコート光ファイバは耐水素特性、機械的特
性共に優れた高品質のものである。
【図１】 本発明の実施態様を示す概略説明図である。
【図２】 本発明の他の実施態様を示す概略説明図であ
る。
る。
【図３】 本発明または従来の製造装置を用いてハーメ
チックコート光ファイバを製造するときの、原料ガス組
成と得られた光ファイバの耐水素特性との関係を示すグ
ラフ図である。
チックコート光ファイバを製造するときの、原料ガス組
成と得られた光ファイバの耐水素特性との関係を示すグ
ラフ図である。
【図４】 比較例１で用いた従来装置を示す概略説明図
である。
である。
【図５】 比較例２で用いた装置の概略説明図である。
１ 線引炉 ２ ガスシールド ３ シールガス導入管 ４ 原料ガス導入管 ５ 反応容器本体 ６ 排気管 ７ ファイバ保護管 ８ シールガス導入管 ９ 開口部 10 ハーメチックコート光ファイバ
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C03C 25/02
Claims (9)
- 【請求項１】 光ファイバ用プリフオームを線引炉で溶
融、紡糸して裸ファイバとした後、該裸ファイバを反応
容器内に導入すると共に、該反応容器内に原料ガスを導
入し、該裸ファイバ上に化学気相析出法により薄膜被覆
層を形成するハーメチックコート光ファイバの製造装置
において、該反応容器は上から順に原料ガス導入手段を
有する上部、反応部である中間部、排気手段を有する下
部の３部分から構成され、該上部は原料ガス導入管を有
し、該上部の内部の断面積は該原料ガス導入管直下から
下方に向かい増加しており、該中間部の内部の断面積は
該上部の内部の最大断面積と等しいかより大きいもので
あることを特徴とする上記製造装置。 - 【請求項２】 前記反応容器は２以上の部分において断
面積が変化するものであることを特徴とする請求項１記
載の製造装置。 - 【請求項３】 前記反応容器の下部の内部の断面積は中
間部の内部の断面積よりも大きいことを特徴とする請求
項１または請求項２記載の製造装置。 - 【請求項４】 前記反応容器の上部における内部の最小
断面積が８０〜７００ｍｍ2 、下部における内部の最大
断面積が７００〜５０００ｍｍ2 であることを特徴とす
る請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の製造装
置。 - 【請求項５】 前記反応容器の内部の断面積は、該上部
より下方に向かってテーパー状になだらかに増加してい
ることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか
に記載の製造装置。 - 【請求項６】 前記反応容器は断面が円形もしくは正方
形のものであることを特徴とする請求項１ないし請求項
５のいずれかに記載の製造装置。 - 【請求項７】 前記反応容器は断面が円形で上部におけ
る最小径は１０ｍｍ〜３０ｍｍ、下部における最大径は
３０ｍｍ〜８０ｍｍであることを特徴とする請求項６に
記載の製造装置。 - 【請求項８】 前記反応容器の内面は鏡面状に滑らかで
あることを特徴とする請求項１ないし請求項７のいずれ
かに記載の製造装置。 - 【請求項９】 前記反応容器の材質が透明石英ガラスで
あることを特徴とする請求項１ないし請求項８のいずれ
かに記載の製造装置。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5052238A JP2785635B2 (ja) | 1992-05-26 | 1993-03-12 | ハーメチックコート光ファイバの製造装置 |
| AU38612/93A AU659732B2 (en) | 1992-05-26 | 1993-05-18 | Apparatus for the production of hermetically coated optical fiber |
| EP93108347A EP0571915B1 (en) | 1992-05-26 | 1993-05-24 | Apparatus for the production of hermetically coated optical fiber |
| DE69305229T DE69305229T2 (de) | 1992-05-26 | 1993-05-24 | Vorrichtung zur Herstellung einer hermetisch beschichteten optischen Faser |
| KR1019930008938A KR0125948B1 (ko) | 1992-05-26 | 1993-05-24 | 밀봉피복광파이버의 제조장치 |
| CA002096872A CA2096872C (en) | 1992-05-26 | 1993-05-25 | Apparatus for the production of hermetically coated optical fiber |
| US08/066,427 US5352261A (en) | 1992-05-26 | 1993-05-25 | Apparatus for the production of hermetically coated optical fiber |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13364592 | 1992-05-26 | ||
| JP4-133645 | 1992-05-26 | ||
| JP5052238A JP2785635B2 (ja) | 1992-05-26 | 1993-03-12 | ハーメチックコート光ファイバの製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0640750A JPH0640750A (ja) | 1994-02-15 |
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Family
ID=26392839
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5052238A Expired - Fee Related JP2785635B2 (ja) | 1992-05-26 | 1993-03-12 | ハーメチックコート光ファイバの製造装置 |
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|---|---|
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| EP (1) | EP0571915B1 (ja) |
| JP (1) | JP2785635B2 (ja) |
| KR (1) | KR0125948B1 (ja) |
| AU (1) | AU659732B2 (ja) |
| CA (1) | CA2096872C (ja) |
| DE (1) | DE69305229T2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| US5702498A (en) * | 1995-08-09 | 1997-12-30 | Owens-Corning Fiberglas Technology, Inc. | Process for carbon-coating silicate glass fibers |
| FR2761979B1 (fr) * | 1997-04-14 | 1999-05-28 | Alsthom Cge Alcatel | Procede et appareil de fabrication d'une fibre optique munie d'un revetement hermetique |
| CA2492597A1 (en) * | 2002-07-17 | 2004-01-22 | Hitco Carbon Composites, Inc. | Continuous chemical vapor deposition process and process furnace |
| US6997989B2 (en) * | 2003-12-08 | 2006-02-14 | Boston Scientific Scimed, Inc. | Medical implant processing chamber |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4790625A (en) * | 1982-05-28 | 1988-12-13 | Alcatel Usa, Corp. | Method of applying hermetic coating on optical fiber |
| GB2159812B (en) * | 1984-06-01 | 1988-02-10 | Stc Plc | Manufacturing optical fibre |
| FI74269C (fi) * | 1985-12-17 | 1988-01-11 | Nokia Oy Ab | Foerfarande och anordning foer beklaedning av en optisk fiber med ett primaeroeverdrag. |
| GB2206576B (en) * | 1987-07-09 | 1991-08-07 | Glaverbel | Spherulizing furnace and process of manufacturing vitreous beads |
| DE3885827T2 (de) * | 1987-09-18 | 1994-03-17 | American Telephone & Telegraph | Hermetisch verschlossene, optische Fasern. |
| FR2658501B1 (fr) * | 1990-02-22 | 1992-04-30 | Alsthom Cge Alcatel | Procede et dispositif pour deposer une couche de carbone sur une fibre de verre, et fibre optique en faisant application. |
| US5256177A (en) * | 1991-01-15 | 1993-10-26 | Corning Incorporated | Method for coating optical fibers |
| JPH05155643A (ja) * | 1991-12-05 | 1993-06-22 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | カーボンコート用反応容器 |
| US5354348A (en) * | 1991-05-12 | 1994-10-11 | Mitsubishi Cable Industries, Ltd. | Method for producing silica glass optical fiber with carbon coating |
| JPH05124841A (ja) * | 1991-06-12 | 1993-05-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ハーメチツクコート光フアイバの製造方法 |
-
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- 1993-03-12 JP JP5052238A patent/JP2785635B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1993-05-18 AU AU38612/93A patent/AU659732B2/en not_active Ceased
- 1993-05-24 EP EP93108347A patent/EP0571915B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-05-24 KR KR1019930008938A patent/KR0125948B1/ko not_active IP Right Cessation
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- 1993-05-25 CA CA002096872A patent/CA2096872C/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-05-25 US US08/066,427 patent/US5352261A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
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| AU3861293A (en) | 1993-12-02 |
| CA2096872A1 (en) | 1993-11-27 |
| AU659732B2 (en) | 1995-05-25 |
| KR0125948B1 (ko) | 1997-12-19 |
| EP0571915A1 (en) | 1993-12-01 |
| US5352261A (en) | 1994-10-04 |
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|---|---|---|---|
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