JP2762107B2 - 1―置換―3―ヒドロキシピロリジンの製造方法 - Google Patents
1―置換―3―ヒドロキシピロリジンの製造方法Info
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- JP2762107B2 JP2762107B2 JP1080390A JP8039089A JP2762107B2 JP 2762107 B2 JP2762107 B2 JP 2762107B2 JP 1080390 A JP1080390 A JP 1080390A JP 8039089 A JP8039089 A JP 8039089A JP 2762107 B2 JP2762107 B2 JP 2762107B2
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- hydroxypyrrolidine
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Pyrrole Compounds (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は1−置換−3−ヒドロキシピロリジン類の製
造方法に関する。更に詳しくは、1−置換−3−ピロリ
ジノン類を水の存在下、水素化触媒としてラネー触媒を
用いて接触還元することによる1−置換−3−ヒドロキ
シピロリジン類の製造方法に関する。1−置換−3−ヒ
ドロキシピロリジノン類は医薬農薬等の合成原料として
有用な化合物である。
造方法に関する。更に詳しくは、1−置換−3−ピロリ
ジノン類を水の存在下、水素化触媒としてラネー触媒を
用いて接触還元することによる1−置換−3−ヒドロキ
シピロリジン類の製造方法に関する。1−置換−3−ヒ
ドロキシピロリジノン類は医薬農薬等の合成原料として
有用な化合物である。
(従来技術及び発明が解決しようとする問題点) 従来1−置換−3−ヒドロキシピロリジン類の製造方
法としては、例えば1−置換−3−ピロリジノン類をリ
チウムアルミニウムハイドライド又はソディウムボロハ
イドライド等の還元試薬で還元する方法等が知られてい
る(特開昭63−122658)。しかしながらこれらの方法で
は反応時の溶媒量が多く必要であり又後処理として中
和、抽出工程を必要とする。中和時には正確なPH調整を
行わないと蒸留の際、固化等の現象がみられ収率が低下
する。
法としては、例えば1−置換−3−ピロリジノン類をリ
チウムアルミニウムハイドライド又はソディウムボロハ
イドライド等の還元試薬で還元する方法等が知られてい
る(特開昭63−122658)。しかしながらこれらの方法で
は反応時の溶媒量が多く必要であり又後処理として中
和、抽出工程を必要とする。中和時には正確なPH調整を
行わないと蒸留の際、固化等の現象がみられ収率が低下
する。
これらのことよりソディウムボロハイドライド等の還
元試薬による方法は工業的に有利な方法とは言い難い。
元試薬による方法は工業的に有利な方法とは言い難い。
(課題を解決するための手段) 本発明は一般式[1]: [式中、R1は炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基、アラル
キル基、アリール基又は炭素数1〜5の低級アルコキシ
カルボニル基を示す。R2は水素原子又は炭素数1〜4の
低級アルキル基を示す]で示される1−置換−3−ピロ
リジノン類を水の存在下水素化触媒としてラネー触媒を
用い接触還元することを特徴とする一般式[2]: [式中、R1及びR2は前記に同じ]で示される1−置換−
3−ヒドロキシピロリジン類の製造方法を提供するもの
である。
キル基、アリール基又は炭素数1〜5の低級アルコキシ
カルボニル基を示す。R2は水素原子又は炭素数1〜4の
低級アルキル基を示す]で示される1−置換−3−ピロ
リジノン類を水の存在下水素化触媒としてラネー触媒を
用い接触還元することを特徴とする一般式[2]: [式中、R1及びR2は前記に同じ]で示される1−置換−
3−ヒドロキシピロリジン類の製造方法を提供するもの
である。
前記式[1]で示される1−置換−3−ピロリジノン
類に於いて、R1が炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基を表
わすときにはR1は例えば、メチル基、エチル基、イソプ
ロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル
基等の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基である。R1
がアラルキル基又はアリール基を表わすときにはR1は例
えば、ベンジル基、クロルベンジル基、ブロモベンジル
基、フェネチル基、シンナモイル基等である。R1がアル
コキシカルボニル基を表わすときにはR1は例えば、メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポ
キシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、tert−ブト
キシカルボニル基等である。R2が炭素数1〜4の低級ア
ルキル基を表わすときにはR2は例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブ
チル基、tert−ブチル基等の直鎖状又は分岐状のアルキ
ル基である。
類に於いて、R1が炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基を表
わすときにはR1は例えば、メチル基、エチル基、イソプ
ロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル
基等の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基である。R1
がアラルキル基又はアリール基を表わすときにはR1は例
えば、ベンジル基、クロルベンジル基、ブロモベンジル
基、フェネチル基、シンナモイル基等である。R1がアル
コキシカルボニル基を表わすときにはR1は例えば、メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポ
キシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、tert−ブト
キシカルボニル基等である。R2が炭素数1〜4の低級ア
ルキル基を表わすときにはR2は例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブ
チル基、tert−ブチル基等の直鎖状又は分岐状のアルキ
ル基である。
反応時に使用する水の量は1−置換−3−ピロリジノ
ン類に対し0.01−10重量倍、好ましくは0.1−3倍であ
る。反応は無有機溶媒で行なうことが望ましいが有機溶
媒を使用することもできる。この時反応に使用する溶媒
としてはメタノール、エタノール、イソプロパノール等
のアルコール類;ベンゼン、トルエン、キシレン、シク
ロヘキサン等の炭化水素類を用いることができる。
ン類に対し0.01−10重量倍、好ましくは0.1−3倍であ
る。反応は無有機溶媒で行なうことが望ましいが有機溶
媒を使用することもできる。この時反応に使用する溶媒
としてはメタノール、エタノール、イソプロパノール等
のアルコール類;ベンゼン、トルエン、キシレン、シク
ロヘキサン等の炭化水素類を用いることができる。
使用する溶媒が例えばベンゼン、トルエン等の炭化水
素類又は無溶媒のときには、反応系は有機層と水の分液
状態となっている。この状態でも反応はすみやかに進行
し目的物を収率良く与える。
素類又は無溶媒のときには、反応系は有機層と水の分液
状態となっている。この状態でも反応はすみやかに進行
し目的物を収率良く与える。
反応時に水を使用しない場合、例えばメタノール溶媒
のみで反応を行うと水素吸収速度は遅くさらに副反応
(目的物の脱水反応、縮合(2量化)反応)により高沸
生成物を生じ、目的物の収率は低いものとなる。この高
沸生成物は、反応系内に水が存在しないため、1度生成
した1−置換−3−ヒドロキシピロリジンが脱水、縮合
等を起こして生じたものと推定される。
のみで反応を行うと水素吸収速度は遅くさらに副反応
(目的物の脱水反応、縮合(2量化)反応)により高沸
生成物を生じ、目的物の収率は低いものとなる。この高
沸生成物は、反応系内に水が存在しないため、1度生成
した1−置換−3−ヒドロキシピロリジンが脱水、縮合
等を起こして生じたものと推定される。
本発明に於いて、水はケトンの還元反応を促進しさら
に生成した目的物の副反応を抑制するという2つの重要
な役割を担っている。
に生成した目的物の副反応を抑制するという2つの重要
な役割を担っている。
本反応に使用するラネー触媒としては好ましくはラネ
ーニッケル,ラネーコバルトである。ラネー触媒の量は
1−置換−3−ピロリジノン類に対し1ー50重量%,好
ましくは5ー30重量%である。
ーニッケル,ラネーコバルトである。ラネー触媒の量は
1−置換−3−ピロリジノン類に対し1ー50重量%,好
ましくは5ー30重量%である。
本反応における水素圧は常圧〜150kg/cm2好ましくは
5−60Kg/cm2である。
5−60Kg/cm2である。
次に反応温度は0ー150℃好ましくは20ー100℃であ
り、反応時間は反応温度、水の使用量、触媒量により適
宜選択することができるが通常0.5〜4時間である。
り、反応時間は反応温度、水の使用量、触媒量により適
宜選択することができるが通常0.5〜4時間である。
本発明方法において生成した1−置換−3−ヒドロキ
シピロリジン類の単離、精製は、反応終了後触媒のろ
別、溶媒及び水の留去を行なった後蒸留により容易に行
なうことができる。
シピロリジン類の単離、精製は、反応終了後触媒のろ
別、溶媒及び水の留去を行なった後蒸留により容易に行
なうことができる。
(実施例) 以下に実施例を示しさらに詳細に本発明を説明するが
本発明はそれらの実施例に限定されるものではない。
本発明はそれらの実施例に限定されるものではない。
実施例1 容量1リッターの電磁攪拌式オートクレーブに1−ベ
ンジル−3−ピロリジノン175g、ラネーニッケル17.5g
を仕込みさらに水175gを加えた後、これに水素を導入お
よび加熱して50℃、40kg/cm2に昇温昇圧し、ついで当該
温度,該圧力を保ちながら水素の導入を続け接触還元反
応を行なった。水素吸収は水素導入開始後1時間で終了
した。
ンジル−3−ピロリジノン175g、ラネーニッケル17.5g
を仕込みさらに水175gを加えた後、これに水素を導入お
よび加熱して50℃、40kg/cm2に昇温昇圧し、ついで当該
温度,該圧力を保ちながら水素の導入を続け接触還元反
応を行なった。水素吸収は水素導入開始後1時間で終了
した。
反応終了後オートクレーブを室温まで冷却し、反応液
から触媒をろ別したのち、水を留去し残液を蒸留して1
−ベンジル−3−ヒドロキシピロリジン165.5g(収率9
3.4%)を得た。このものをガスクロマトグラフィーに
より分析したところ99.5%の純度であった。沸点:144〜
148℃/4mmHg 実施例2 触媒をラネーコバルトとした他は実施例1と同様に反
応及び後処理を行ない1−ベンジル−3−ヒドロキシピ
ロリジンを161.3g(収率91.0%)得た。
から触媒をろ別したのち、水を留去し残液を蒸留して1
−ベンジル−3−ヒドロキシピロリジン165.5g(収率9
3.4%)を得た。このものをガスクロマトグラフィーに
より分析したところ99.5%の純度であった。沸点:144〜
148℃/4mmHg 実施例2 触媒をラネーコバルトとした他は実施例1と同様に反
応及び後処理を行ない1−ベンジル−3−ヒドロキシピ
ロリジンを161.3g(収率91.0%)得た。
実施例3 水の量を17.5gとした他は実施例1と同様に反応およ
び後処理を行ない1−ベンジル−3−ヒドロキシピロリ
ジンを160.4g(収率90.5%)得た。
び後処理を行ない1−ベンジル−3−ヒドロキシピロリ
ジンを160.4g(収率90.5%)得た。
実施例4 溶媒としてメタノール87gを加えた他は実施例1と同
様に反応および後処理を行ない1−ベンジル−3−ヒド
ロキシピロリジン152.1g(収率85.8%)を得た。
様に反応および後処理を行ない1−ベンジル−3−ヒド
ロキシピロリジン152.1g(収率85.8%)を得た。
実施例5 溶媒としてトルエン87gを加えた他は実施例1と同様
に反応および後処理を行ない1−ベンジル−3−ヒドロ
キシピロリジン144.8g(収率85.8%)を得た。
に反応および後処理を行ない1−ベンジル−3−ヒドロ
キシピロリジン144.8g(収率85.8%)を得た。
実施例6 1−ベンジル−3−ピロリジノンのかわりに1−ブチ
ル−3−ピロリジノン141g(1モル)を用いラネーニッ
ケル14.1g、水141gとした他は実施例1と同様に反応お
よび後処理を行なった。目的物である1−ブチル−3−
ヒドロキシピロリジンを121.6g(収率85%)で得た。
ル−3−ピロリジノン141g(1モル)を用いラネーニッ
ケル14.1g、水141gとした他は実施例1と同様に反応お
よび後処理を行なった。目的物である1−ブチル−3−
ヒドロキシピロリジンを121.6g(収率85%)で得た。
実施例7 1−ベンジル−3−ピロリジノンのかわりに1−カル
ボエトキシ−3−ピロリジノン157g(1モル)を用いラ
ネーニッケル15.7g、水157gとした他は実施例1と同様
に反応および後処理を行なった。目的物である1−カル
ボエトキシ−3−ヒドロキシピロリジンを130.5g(収率
85%)で得た。
ボエトキシ−3−ピロリジノン157g(1モル)を用いラ
ネーニッケル15.7g、水157gとした他は実施例1と同様
に反応および後処理を行なった。目的物である1−カル
ボエトキシ−3−ヒドロキシピロリジンを130.5g(収率
85%)で得た。
比較例1 溶媒としてメタノール177gを用い、水を共存させない
条件にしたほかは実施例1と同様に反応および後処理を
行なった。水素吸収は3時間程度継続したが終点は明確
ではなかった。1−ベンジル−3−ヒドロキシピロリジ
ン81.1g(収率45.7%)を得た他に高沸生成物43.9gと若
干の原料を回収した。
条件にしたほかは実施例1と同様に反応および後処理を
行なった。水素吸収は3時間程度継続したが終点は明確
ではなかった。1−ベンジル−3−ヒドロキシピロリジ
ン81.1g(収率45.7%)を得た他に高沸生成物43.9gと若
干の原料を回収した。
比較例2 溶媒をトルエンにかえた他は比較例1と同様に反応お
よび後処理を行なったが、水素の吸収はみられず原料を
回収した。
よび後処理を行なったが、水素の吸収はみられず原料を
回収した。
(発明の効果) 本発明によれば、医薬、農薬等の原体、中間体の合成
原料として有用な1−置換−3−ヒドロキシピロリジン
類を煩雑な後処理をすることなく容易に、高純度かつ収
率よく製造することができる。
原料として有用な1−置換−3−ヒドロキシピロリジン
類を煩雑な後処理をすることなく容易に、高純度かつ収
率よく製造することができる。
Claims (1)
- 【請求項1】一般式[1]: [式中、R1は炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基、アラル
キル基、アリール基又は炭素数1〜5の低級アルコキシ
カルボニル基を示す。R2は水素原子又は炭素数1〜4の
低級アルキル基を示す]で示される1−置換−3−ピロ
リジノン類を水の存在下水素化触媒としてラネー触媒を
用いて接触還元することを特徴とする 一般式[2]: [式中、R1及びR2は前記に同じ]で示される1−置換−
3−ヒドロキシピロリジン類の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1080390A JP2762107B2 (ja) | 1989-03-30 | 1989-03-30 | 1―置換―3―ヒドロキシピロリジンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1080390A JP2762107B2 (ja) | 1989-03-30 | 1989-03-30 | 1―置換―3―ヒドロキシピロリジンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02258763A JPH02258763A (ja) | 1990-10-19 |
JP2762107B2 true JP2762107B2 (ja) | 1998-06-04 |
Family
ID=13716962
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1080390A Expired - Fee Related JP2762107B2 (ja) | 1989-03-30 | 1989-03-30 | 1―置換―3―ヒドロキシピロリジンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2762107B2 (ja) |
-
1989
- 1989-03-30 JP JP1080390A patent/JP2762107B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH02258763A (ja) | 1990-10-19 |
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