JP2747855B2 - 新規な9,10−ビス(n,n−ジアリールアミノ)フェナントレン誘導体およびその製造方法 - Google Patents
新規な9,10−ビス(n,n−ジアリールアミノ)フェナントレン誘導体およびその製造方法Info
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Description
輸送層に用いられる有機光導電性材料として有用な新規
9,10−ビス(N,N−ジアリールアミノ)フェナン
トレン誘導体およびその製造方法を提供するものであ
る。
方式(米国特許第2,297,691号)は、画像形成
法の一つであり、ゼログラフィとも言われる。この原理
は、先ずコロナ放電により感光体を帯電させ、ついで光
像露光して静電潜像に替えた後、着色トナーを付着させ
て現像し、得られたトナー像を紙へ転写することに特徴
がある。このような電子写真感光体に要求される特性と
して、1)暗所においてコロナ受容電位で充分に帯電で
きること 2)帯電位の保持能力が高いこと 3)光照
射により表面電荷がすみやかに消失すること等が挙げら
れる。
レン、硫化カドミウム、酸化亜鉛等の無機光導電性材料
が使用されている。これらの無機光導電性材料は、安全
性、耐刷性が高いなどの利点を備えているが幾つかの欠
点があり、例えば、製造コストが高く、加工性に劣り、
又、毒性の問題などが指摘されている。
導電性材料を用いた電子写真用感光体の研究が活発にお
こなわれている。有機光導電性材料は、軽量、形状の多
様性、低コスト、無公害性等多くの利点がありそれに対
して多くの有機化合物が提案されている。例えば、ヒド
ラゾン誘導体(米国特許第3,717,462号、特開
昭54−59,143号、米国特許第4,150,98
7号)、トリアリールピラゾリン誘導体(米国特許第
3,837,851号、米国特許第3,180,729
号)、ジアリールアルカン誘導体(米国特許第3,82
0,989号、特開昭51−93,224号、特開昭5
5−108,667号)、アリールアミン誘導体(米国
特許第3,180,730号、特開昭55−144,2
50、特開昭56−119,132号)、およびスチル
ベン誘導体(特開昭58−190,953、特開昭59
−195,658号)等が知られている。しかし、これ
らの化合物を有機光導電材料として電荷輸送層に用いた
電子写真感光体では、帯電性、感度および残留電位が、
必ずしも満足とは言えないのが現状であり、更に、優れ
た電荷輸送機能を有し且つ長期使用が可能な電荷輸送物
質の開発が望まれていた。
ような状況に鑑み、従来技術の問題点を解決すべく使用
適性の優れた有機光導電体について鋭意研究を重ねてき
た結果、有用な新規9,10−ビス(N,N−ジアリー
ルアミノ)フェナントレン誘導体およびその製造方法を
見出し、本発明を完成するに到った。
一般式〔1a〕で表わされる9,10−ビス(N,N−
ジアリールアミノ)フェナントレン誘導体および一般式
〔1〕で表わされる9,10−ビス(N,N−ジアリー
ルアミノ)フェナントレン誘導体の製造方法を、その要
旨とするものである。
素原子、低級アルキル基またはハロゲン原子を表わし、
R 11 ,R 12 ,R 13 およびR 14 は同一でも異なってもよい
が、但し、R 11 〜R 14 のうち少なくとも1つはハロゲン
原子を表し、またR 11 とR 12 およびR 13 とR 14 が同じ組
み合わせのものを示す場合を除く。)本発明で得られる
前記一般式〔1a〕で示される9,10−ビス(N,N
−ジアリールアミノ)フェナントレン誘導体は新規化合
物である。本発明の態様を更に詳しく説明すると、9,
10−ビス(N,N−ジアリールアミノ)フェナントレ
ン誘導体を得る基本の反応は化8によって表わされる。
である。)
−フェナントレンキノン(Ann.,166 365、
J.Cem.Soc.,97 1661(1910))
と一般式〔2〕で示されるアニリン誘導体を酸触媒存在
下で反応させ、一般式〔3〕で示されるジイミノ誘導体
とした後、還元し一般式〔4〕で示されるジアミン誘導
体を得、さらに一般式〔4〕と一般式〔5〕で示される
ハロベンゼン誘導体とを反応させることにより、一般式
〔1〕で示されるトリアリールアミン誘導体を高収率で
合成することができる。
よび〔5〕で示される化合物においてR1 ,R2 ,
R3 ,およびR4 のうち、アルキル基、アルコキシ基と
しては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、メトキシ基、エトキシ基、ブロポキシ基、ブトキ
シ基などが挙げられ、ハロゲン原子としては、例えば塩
素、臭素、沃素などがあげられる。一般式〔1a〕にお
けるR 11 ,R 12 ,R 13 ,およびR 14 のうち、アルキル基
としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基などが挙げられ、ハロゲン原子としては、例えば
塩素、臭素、沃素などがあげられる。一般式〔5〕で示
されるXとしては、例えば塩素、臭素、沃素原子などが
挙げられる。
合成(反応式1)に用いられる酸触媒としては、例え
ば、濃硫酸、P−トルエンスルホン酸の如き有機スルホ
ン酸、又、例えば、ポリリン酸、TiCl4 、ZnCl
2 、AlCl3 、SnCl4 、BF3 の如きルイス酸
が、又、例えばポリスチレンスルホン酸やNafion
の如きスルホン酸基を結合した高分子担体が挙げられ
る。使用量は原料に対して2〜5.0倍モル、望ましく
は3.0〜3.5倍モルが適当である。
合成に用いられる還元剤としては、例えば、H2 /P
t,H2 /Pd,H2 /Ni,LiAlH4 ,NaBH
4 ,Zn,Sn,などが挙げられる。使用量は原料に対
して4〜10.0倍モル、望ましくは、5〜6倍モルが
適当である。
れるアニリン誘導体が、P−トルイジンの如くP−位電
子供与性基を有し活性が高い場合は、生成物は期待され
る一般式〔3〕で表わされる化合物ではなく、更に還元
が進行した一般式〔4〕で表わされる化合物であった。
このような場合には、反応式1に相当する還元反応操作
は省略することができる。
(N,N−ジアリールアミノ)フェナントレン誘導体の
合成(反応式1)に用いられる塩基としては、例えば炭
酸カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウムの如き無機塩基が、又、例えば、ピリジン、
ピコリン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリ
ン、N−メチルピロリジン、1,5−ジアザビシクロ
〔4・3・0〕ノネン−5(DBN)、1,5−ジアザ
ビシクロ〔5・4・0〕ウンデセン−5(DBU)、
1,4−ジアザビシクロ〔2・2・0〕オクタン(DB
CO)の如き有機塩基が挙げられる。触媒としては、例
えば、銅粉、酸化銅、塩化第一銅、硫酸銅、酢酸銅など
が挙げられる。溶媒は、使用しても使用しなくても良い
が、使用する場合は原料である一般式〔4〕で表わされ
るジアミン誘導体および一般式〔5〕で表わされるハロ
ベンゼン誘導体を溶解し、反応を円滑に進行させるもの
であれば良く、例えば、トルエン、キシレンの如き芳香
族炭化水素およびニトロベンゼン、ジメチルスルホキシ
ド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチル
アセトアミド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチ
ル−2−イミダゾリジノン、HMPAの如き非プロトン
性極性溶媒が好ましい。適用される反応温度は、一般式
〔1〕で表わされる目的物の生成率が最も良好になるよ
うに適宜選択が可能であり、80〜300℃、特に15
0〜260℃が好ましい。反応は、常圧でも良いが、反
応を加速して反応時間を短縮するには加圧下で反応させ
ても良い。
(N,N−ジアリールアミノ)フェナントレン誘導体
は、有機顔料あるいは無機顔料を電荷発生物質とする機
能分離型感光体における電荷輸送物質として有用であ
る。
施例を示すが、これは本発明を限定するものではない。
以下、本発明を実施例により詳細に説明する。
(3−メチルフェニル)−9,10−ジアミノフェナン
トレン〔化合物No.1〕の合成 トルエン400mlに9,10−フェナントレンキノン
20g、m−トルイジン34.4g、ピリジン39.8
mlを加え、10℃以下に冷却後、TiCl4 54.6
gをトルエン196mlに溶解した液を滴下した。滴下
終了後、20℃で8時間反応させた。反応終了後、水8
00mlおよび酢酸エチル200mlを添加し、分液
後、有機層を減圧下で濃縮した。濃縮液にエタノール2
00mlを添加し、加熱還流後内温を室温まで冷却して
濾過し、淡黄色粉末として融点123〜124℃のN,
N′−ジ(3−メチルフェニル)−9,10−フェナン
トレンキノンジイミンを22.3g(収率60.0%)
得た。次にエタノール180mlに塩化ニッケル1.0
8g,N,N′−ジ(3−メチルフェニル)−9,10
−フェナントレンキノンジイミン8.1g加え、5℃以
下に冷却後、NaBH4 4.8gを添加し50℃で2時
間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し水42ml
および濃塩酸23mlを添加、一旦酸性にした後、アン
モニア水130mlでアルカリ性としクロロホルム63
mlで抽出した。分液後、クロロホルム層を減圧下で濃
縮して得られる残渣をエタノールより再結晶し、淡黄色
針状結晶として融点198〜199℃の9,10−ジ
(3−メチルアニリノ)フェナントレンを6.3g(収
率77%)得た。次にヨードベンゼン2.2g、炭酸カ
リウム0.71g、塩化第一銅3mg、9,10−ジ(3
−メチルアニリノ)フェナントレン0.5gの混合物を
窒素気流下190℃で30時間加温した。反応混合物に
水40ml、クロロホルム40mlを添加し、分液後、
クロロホルム層を減圧下で濃縮して得られる残渣をn−
ヘキサンから再結晶し、淡黄色粉末として融点243〜
244℃の化合物No.1を0.4g(収率67%)得
た。
N,N′−ジ(4−エチルフェニル)−9,10−ジア
ミノフェナントレン〔化合物No.4〕の合成 実施例1と同様にして得られた9,10−ジ(4−エチ
ルアニリノ)フェナントレン4.16g、p−ヨードト
ルエン13.1g、炭酸カリウム2.8gおよび硫酸銅
10mgの混合物を窒素気流下210℃で7時間加温し
た。反応混合物に水120ml、クロロホルム120m
lを添加し、分液後、クロロホルム層を減圧下で濃縮し
て得られる残渣をn−ヘキサンから再結晶し、淡黄色針
状結晶として融点256〜258℃の化合物No.4を
4.1g(収率69%)得た。
N,N′−ジ(4−メトキシフェニル)−9,10−ジ
アミノフェナントレン〔化合物No.5〕の合成 実施例1と同様にして得られた9,10−ジ(4−メチ
ルアニリノ)フェナントレン3.89g、p−ヨードア
ニソール14g、炭酸カリウム3.0gおよび硫酸銅1
0mgの混合物を窒素気流下210℃で1時間反応させ
た。反応混合物に水120ml、クロロホルム120m
lを添加し、分液後、クロロホルム層を減圧下で濃縮し
て得られる残渣をn−ヘキサンから再結晶し、淡黄色粉
末として融点247〜248℃の化合物No.5を3.
8g(収率62%)得た。
N,N′−ジ(4−n−ブチルフェニル)−9,10−
ジアミノフェナントレン〔化合物No.6〕の合成 実施例1と同様にして得られた9,10−ジ(4−n−
ブチルアニリノ)フェナントレン8.48g、p−ヨー
ドトルエン15.7g、炭酸カリウム9.9gおよび硫
酸銅71.6mgの混合物を窒素気流下210℃で4時間
反応させた。反応後混合物に水150ml、クロロホル
ム180mlを添加し、分液後、クロロホルム層を減圧
下で濃縮して得られる残渣をn−ヘキサンから再結晶
し、淡黄色結晶として融点178〜179℃の化合物N
o.6を6.53g(収率77%)得た。本発明の方法
によって合成した9,10−ビス(N,N−ジアリール
アミノ)フェナントレン誘導体を表−1に示す。
るビスアゾ化合物2部とポリエステル樹脂〔東洋紡績
(株)製:商品名バイロン200〕2部をテトラヒドロ
フラン10部に溶解し、ボールミルで10時間粉砕混合
し、得られた光導電組成物を厚さ5μmのアルミニウム
箔とポリエステルフィルムとのラミネートフィルム上に
塗布、乾燥して厚さ約0.5μmの電荷発生層を有する
フィルム試料を作製した。次に、ポリカーボネート樹脂
〔帝人(株)製:商品名パンライトK−1300〕3部
とテトラヒドロフラン15部の樹脂溶液に、電荷輸送物
質として実施例1の化合物No.1を2部溶解し、この
溶液を前記電荷発生層上にアプリケーターを用いて塗布
し、厚さ約15μmの電荷輸送層を形成させ2層からな
る感光層を有する電子写真感光体を作製した。こうして
得られた感光体試料について、静電複写紙試験装置
〔(株)川口電気製作所製:EPA−8100型〕を用
い、−5KVのコロナ放電を10秒間行って帯電させた
後、10秒間暗減衰させ、この時の表面電位V0 (ボル
ト)を測定し、ついで2854Kのタングステンランプ
を照射しその表面電位がV0 の1/2になる迄の時間
(sec)を求め、感度(半減露光量E1/2 )を測定し
た。その結果はV0 =−680、E1/2 =1.5 lu
x・secであった。
す9,10−ビス(N,N−ジアリールアミノ)フェナ
ントレン誘導体に代えた以外は、応用例1と同様にして
2層構成の感光体を作製し、応用例1と同様にして負帯
電による表面電位V0 、半減露光量E1/2 を測定した。
その結果を表−2に示す。
ル−N−(4−メチルフェニル)−N−フェニル−ベン
ゼンアミンを、表1に示すトリアリールアミン誘導体に
代えた以外は、応用例1と同様にして、2層構成の感光
を作製し、応用例1と同様にして負帯電による表面電位
V0 、半減露光量E1/2を測定した。その結果を表2に
示す。化11の比較化合物は、本発明の化合物に比べ、
帯電性が悪く、又、電子写真感度が低いことが認められ
た。
される新規な9,10−ビス(N,N−ジアリールアミ
ノ)フェナントレン誘導体を電子写真感光体の電荷輸送
物質に用いると、帯電性、感度、残留電位などの初期特
性が極めて良好となり、又、コロナ放電や可視光に対
し、繰り返し使用において性能の劣化がなく、特に耐光
性に優れていることが特徴であり、実用上の要求性能を
充分に満足している。
Claims (2)
- 【請求項1】 次の一般式〔1a〕で表わされる9,1
0−ビス(N,N−ジアリールアミノ)フェナントレン
誘導体。 【化1】 (式中、R 11 ,R 12 ,R 13 およびR 14 は水素原子、低級
アルキル基またはハロゲン原子を表わし、R 11 ,R 12 ,
R 13 およびR 14 は同一でも異なってもよいが、但し、R
11 〜R 14 のうち少なくとも1つはハロゲン原子を表し、
またR 11 とR 12 およびR 13 とR 14 が同じ組み合わせのも
のを示す場合を除く。) - 【請求項2】 次の一般式〔2〕で表わされるアニリン
誘導体を、 【化2】 (式中、R1 およびR2 は水素原子、低級アルキル基、
低級アルコキシ基またはハロゲン原子を表わし、R1 お
よびR2 は同一でも異なってもよい。) 9,10−フェナントレンキノンと反応させ、次の一般
式〔3〕で表わされるジイミン誘導体とした後、 【化3】 (式中、R1 およびR2 は前記と同じである。) 次の一般式〔4〕で表わされるジアミン体へ誘導し、 【化4】 (式中、R1 およびR2 は前記と同じである。) これと一般式〔5〕で表わされる、ハロベンゼン誘導体
と反応させることを特徴とする 【化5】 (式中、R3 およびR4 は水素原子、低級アルキル基、
低級アルコキシ基またはハロゲン原子を表わし、R3 お
よびR4 は同一でも異なってもよいが、R3 とR4 の組
み合わせが前記R1 とR2 の組み合わせと同じになる場
合は除く。Xはハロゲン原子を表わす。) 一般式〔1〕で表わされる新規な9,10−ビス(N,
N−ジアリールアミノ)フェナントレン誘導体の製造方
法。 【化6】
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3322166A JP2747855B2 (ja) | 1991-12-05 | 1991-12-05 | 新規な9,10−ビス(n,n−ジアリールアミノ)フェナントレン誘導体およびその製造方法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP3322166A JP2747855B2 (ja) | 1991-12-05 | 1991-12-05 | 新規な9,10−ビス(n,n−ジアリールアミノ)フェナントレン誘導体およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05155825A JPH05155825A (ja) | 1993-06-22 |
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JP3322166A Expired - Fee Related JP2747855B2 (ja) | 1991-12-05 | 1991-12-05 | 新規な9,10−ビス(n,n−ジアリールアミノ)フェナントレン誘導体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2747855B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102399156A (zh) * | 2011-11-30 | 2012-04-04 | 徐州宇家医药科技有限公司 | 一种具有强荧光性菲醌衍生物的合成 |
CN102399157A (zh) * | 2011-11-30 | 2012-04-04 | 徐州宇家医药科技有限公司 | 一种具有强荧光性菲醌衍生物的合成 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3105602B2 (ja) * | 1991-11-29 | 2000-11-06 | 京セラミタ株式会社 | 電子写真感光体 |
-
1991
- 1991-12-05 JP JP3322166A patent/JP2747855B2/ja not_active Expired - Fee Related
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