JP2740698B2 - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
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Description
ク用磁気記録装置に使用される薄膜磁気ヘッドに関する
もので、特にギャップデプス精度の高い薄膜磁気ヘッド
に関するものである。
に示す。符号1は基板、2は下部絶縁層、3は下部コ
ア、4はギャップ層、5は層間絶縁層、6はコイル導
体、7は上部コア、8は保護層である。また、各コア
3,7の媒体対向面側の先端部をギャップ層4を介して
重ね合わせることでそれらコア3,7の先端部を対の磁
極(ポール)9,10となしたものである。薄膜磁気ヘッ
ドを製造するにあっては、ウエハ工程、チップスライス
工程、研磨工程、アセンブリ工程等を経るが、これらの
うちのウエハ工程の一例を以下に記す。セラミック(Al
2O3−TiC等)からなる基板1上に、下部絶縁層2(Al
2O3、SiO2等)を形成し、その上面にパーマロイやセ
ンダスト等の強磁性材料をスパッタリングして下部コア
3を形成する。次に、下部コア3の上にギャップ層4と
して酸化ケイ素(SiO2)、酸化アルミニウム(Al2O3)
などをギャップ長を規制する所定厚さにスパッタリング
し、下部コア3と上部コア7とを接続するバックギャッ
プ部11をエッチングで除去する。さらに、ギャップ層
4の上にアルミニウム(Al)や銅(Cu)等を蒸着あるいは
スパッタリングし、ドライエッチング法によりコイル導
体6を形成する。その後、層間絶縁層5として、ポリイ
ミド系樹脂もしくはSiO2等でコイル導体6を被包して
平坦化する。次に、フロントギャップ部12、バックギ
ャップ部11の層間絶縁層5をエッチングして除去す
る。そして、前記層間絶縁層5の表面上に、パーマロイ
やセンダスト等をスパッタリングして上部コア7を形成
し、所定のコア形状にエッチングする。こうして、両コ
ア3,7の媒体対向面側の先端部が対の磁極9,10とな
って、それらの間にギャップ層4が形成される。さら
に、Al2O3,SiO2等からなる保護層8を形成する。
端の磁気ギャップにおいて磁気記録再生を行なうもので
あり、下部磁極9と上部磁極10がギャップ層4を介し
て対峙してなる磁気ギャップの深さ、即ちギャップデプ
スGdが磁気ヘッドの特性に与える影響は大きい。一般
に、ギャップデプスGdは±1μm以下という高精度で
形成されることが要求されてきていた。ギャップデプス
Gdの精度は、上部コア7の上部コアエッジ13の位置
で決まってしまっているが、これは製造時における層間
絶縁層5のエッチング工程で定められるものである。即
ち、フロントギャップ部12の層間絶縁層5のエッチン
グ精度に左右されてしまうものである。層間絶縁層5に
は、ポリイミド系樹脂等の有機材料やSiO2などが使用
されるが、これらをエッチングするとサイドエッチング
効果が大きく、エッチング精度は低いものである。特
に、層間絶縁層5に有機材料を使用した場合には調整が
困難である。従って、上部コアエッジ13の位置決め精
度を高めることが困難であった。
たもので、下部コアに凹部を形成することで、下部コア
エッジの位置決めを行ない、もってギャップデプスの形
成精度を高めるとともに、下部コアと基板との間に非コ
ア層を設けて下部磁極の厚さを調整できるように構成し
て下部磁極の厚さを下部コアよりも薄くできるようにし
た技術の提供を目的とする。
は、基板の表面にコイル導体を被包した絶縁層とギャッ
プ層とを介して積層した下部コア及び上部コアのそれぞ
れの先端面を前記基板の側面側に露出させることによ
り、それら下部コアと上部コアの先端部をそれらの間に
ギャップ層を介する対の下部磁極と上部磁極となした薄
膜磁気ヘッドであって、前記基板の側面側の前記下部磁
極と前記基板との間に非磁性体からなる非コア層が形成
されて下部磁極が下部コアよりも薄く形成され、前記下
部磁極のコイル導体側の後方部分から、コイル導体外方
の絶縁層を覆った上部コアの前記基板の側面側の斜面部
に至る範囲に凹部が形成され、この凹部の先端が下部コ
アエッジを規定してなることを特徴とする。
を形成する。この凹部の先端が下部コアエッジを規定
し、また、ギャップデプスは磁気ヘッドの先端から下部
コアエッジまでの距離とすることができる。磁性体から
構成される下部コアのエッチング精度は高くすることが
できるので、凹部の位置決め精度は高いものである。よ
って、下部コアエッジの位置決め精度も高く、もってギ
ャップデプスの精度を高くすることができる。更に、凹
部を形成する位置は、下部磁極のコイル導体側の後方部
分から、コイル導体周囲の絶縁層を覆った上部コアの前
記基板の側面側の斜面部に至る範囲とする。また、下部
磁極と基板との間に非コア層を設けて下部磁極の厚さを
調整できるように構成して下部磁極の厚さを下部コアよ
りも薄くできるようにしたので、下部磁極の厚さを好適
範囲内にすることができる。
本実施例の薄膜磁気ヘッドは、アルチックからなる基板
12上にパーマロイ等の磁性材料からなる下部コア16
が形成され、さらにその上に二酸化ケイ素等からなるギ
ャップ層20と銅等からなるコイル導体22、22を被
包する層間絶縁層24が積層されている。下部コア16
の厚さは5μm程度が好ましい。また、層間絶縁層24
は従来例同様、ポリイミド系樹脂もしくはSiO2等から
なるものであってもかまわない。さらに、層間絶縁層2
4上にはこれを覆う上部コア18が形成されている。
尚、上部コア18上には図1では図示されていないが、
図4に示す薄膜磁気ヘッド同様、保護層が形成されてい
る。また、層間絶縁層24を覆う上部コア18の傾斜角
度Rは45゜位が好ましい。下部コア16と上部コア1
8の先端は基板12の側面側(図1においては、左方)
に露出されており、下部コア16と上部コア18の先端
部は、それらの間にギャップ層20のみを介する一対の
下部磁極28と上部磁極30を構成している。そして、
下部磁極28のコイル導体22側の後方には凹部26が
形成されている。その際、凹部26の先端は下部磁極2
8の後端(下部コアエッジ34)をその一端としてい
る。この際、ギャップ層20は下部コア16の表面に沿
って形成されているので、ギャップ層20は凹部26の
表面に沿っている。実施例1の薄膜磁気ヘッドでは、凹
部26は、深さが2.5μm程度で、長さが3μm程度で
あることが好ましい。尚、凹部26の内側面の側面角度
θは実施例1の薄膜磁気ヘッドでは、45゜に設定され
ている。さらに、下部磁極28と基板12の間にはアル
ミナやポリイミド等の非磁性体からなる非コア層14が
形成されている。以上の構成の薄膜磁気ヘッドでは、ギ
ャップデプスGdは上部コアエッジ32で規定されるの
でなく、凹部26の端末でもある下部コアエッジ34で
規定されている。尚、ギャップデプスGdは一般に2〜
3μmが適当である。
3を参照して説明する。まず、図3(a)で示すよう
に、基板12上の所定の位置に、非磁性体からなる非コ
ア層14を形成する。その後、基板12と非コア層14
上にパーマロイ等の磁性体をスパッタリング等で積層し
て下部コア16aを形成する。そして、図3(b)に示
すように、非コア層14を下方に介さない部分の下部コ
ア16a上にレジスト36を塗布する。その後、これを
上方からエッチングして図3(c)に示すように、非コ
ア層14と下部コア16aを平坦化する。さらに、この
平坦化された非コア層14と下部コア16aの上に磁性
体を積層して下部コア16bを形成する。こうして図3
(d)に示すように、基板12上に非コア層14と下部
コア16が形成される。尚、下部磁極28の厚さは下部
コア16bの厚さによって調節できる。そして、下部コ
ア16上に、凹部26の形成部分を除いてレジスト38
を塗布する(図3(e))。そして、レジスト38のベ
ーク後に、イオンミリング加工をして、深さ2.5μm程
度の凹部26を形成し、さらにレジスト38を除去する
ことで図3(f)に示すように、凹部26の形成された
下部コア16が形成される。その後は、従来技術同様
に、層間絶縁層24とコイル導体22を順次積層し、さ
らに、上部コア18と保護層を成膜して形成する。さら
に、これら積層工程終了後に、先端から研磨加工を施し
て所定長のギャップデプスGdを有する薄膜磁気ヘッド
が製造される。
の先端である下部コアエッジ34から先端側に磁気ギャ
ップが形成されている。即ち、ギャップデプスGdは磁
気ヘッドの先端から、従来例のように上部コアエッジま
での長さでなく、下部コアエッジ34までの長さで定ま
っている。そして、その下部コアエッジ34は凹部26
を形成することでその位置が定まるものである。下部コ
ア16のエッチングは、ケミカルエッチングやイオンエ
ッチングが使用できるが、パーマロイ等の磁性体からな
る下部コア16のエッチングではサイドエッチング効果
が起こらず、高精度に凹部26を形成することができ
る。従って、ギャップデプスGdの精度を格段に高める
ことができる。ギャップデプスGdの精度の高い本実施
例の薄膜磁気ヘッドでは、磁気記録特性が向上されてお
り、また信頼性が高いものである。
方法では、下部磁極28の厚みが大き過ぎてしまうこと
があるが、基板12と下部磁極28の間に非コア層14
を形成することで、下部磁極28の厚みを好適範囲内に
設定することができる。
6を積層することで、下部コア16には斜部40が形成
され、その下部コア16の斜部40に凹部26が形成さ
れるために、下部コア16の斜部40が細くなってしま
う可能性があるが、これは凹部26の側面を斜面にする
ことで解決できる。
図2に示す。実施例2の薄膜磁気ヘッドは実施例1の薄
膜磁気ヘッドとほぼ同様であるが、凹部26の側面の側
面角度θを変えたものである。即ち、側面角度θは実施
例1の薄膜磁気ヘッドでは45゜であったが、実施例2
の薄膜磁気ヘッドでは60゜に設定した。この側面角度
θを大きくすることで、下部コア16の斜部40を必要
に応じて太くすることができる。側面の側面角度θは4
5゜〜70゜が好ましい。また、凹部26の側面の側面
角度θの調製方法は、図6(a)に示すように、レジス
ト38を形成した後に、レジスト38をベークするが、
この時にレジスト38に傾斜角度α、α’が形成される
(図6(b))。その後にイオンミリングをして、レジ
スト38を除去することで、図6(c)に示すように、
下部コア16に、側面角度θの内側面を有する凹部26
が形成される。従って、側面角度θは傾斜角度αに対応
するわけだが、傾斜角度αはベーク温度を制御すること
で調製できる。
のコイル導体側の後方部分から、コイル導体周囲の絶縁
層を覆った上部コアの前記基板の側面側の斜面部に至る
範囲に凹部を形成し、その凹部の先端を下部コアエッジ
としたもので、凹部の形成精度は高くできるために、先
端から下部コアエッジまでの距離であるギャップデプス
の精度を格段に高めることができる。従って、本発明の
薄膜磁気ヘッドでは、ギャップデプスが高精度に形成さ
れているので、磁気特性が良好で、信頼性の高いもので
ある。また、下部磁極と基板との間に非コア層を設けて
下部磁極の厚さを調整できるように構成して下部磁極の
厚さを下部コアよりも薄くできるようにしたので、下部
磁極の厚さを好適範囲内にすることができる。
ための工程断面図である。
る。
ための工程断面図である。
Claims (1)
- 【請求項1】 基板の表面にコイル導体を被包した絶縁
層とギャップ層とを介して積層した下部コア及び上部コ
アのそれぞれの先端面を前記基板の側面側に露出させる
ことにより、それら下部コアと上部コアの先端部をそれ
らの間にギャップ層を介する対の下部磁極と上部磁極と
なした薄膜磁気ヘッドであって、前記基板の側面側の前記下部磁極と前記基板との間に非
磁性体からなる非コア層が形成されて下部磁極が下部コ
アよりも薄く形成され、 前記下部磁極のコイル導体側の後方部分から、コイル導
体外方の絶縁層を覆った上部コアの前記基板の側面側の
斜面部に至る範囲に 凹部が形成され、この凹部の先端が
下部コアエッジを規定してなることを特徴とする薄膜磁
気ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3161907A JP2740698B2 (ja) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3161907A JP2740698B2 (ja) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0589430A JPH0589430A (ja) | 1993-04-09 |
JP2740698B2 true JP2740698B2 (ja) | 1998-04-15 |
Family
ID=15744290
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3161907A Expired - Lifetime JP2740698B2 (ja) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2740698B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11288503A (ja) | 1998-04-02 | 1999-10-19 | Tdk Corp | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 |
JPH11353614A (ja) | 1998-06-08 | 1999-12-24 | Nec Corp | 薄膜磁気ヘッド及びこれを用いた磁気記憶装置 |
JP3292148B2 (ja) | 1998-07-15 | 2002-06-17 | 日本電気株式会社 | 薄膜磁気ヘッド、その製造方法及び磁気記憶装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6358610A (ja) * | 1986-08-28 | 1988-03-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
JPH02302916A (ja) * | 1989-05-17 | 1990-12-14 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘッド |
JPH0411310A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-16 | Victor Co Of Japan Ltd | 薄膜磁気ヘッド |
JPH04276305A (ja) * | 1991-03-04 | 1992-10-01 | Tdk Corp | 薄膜磁気ヘッド |
-
1991
- 1991-07-02 JP JP3161907A patent/JP2740698B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0589430A (ja) | 1993-04-09 |
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