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JP2632600B2 - 処理空間規制部材およびその製造方法 - Google Patents

処理空間規制部材およびその製造方法

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Publication number
JP2632600B2
JP2632600B2 JP2960491A JP2960491A JP2632600B2 JP 2632600 B2 JP2632600 B2 JP 2632600B2 JP 2960491 A JP2960491 A JP 2960491A JP 2960491 A JP2960491 A JP 2960491A JP 2632600 B2 JP2632600 B2 JP 2632600B2
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JP
Japan
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processing
processing space
regulating member
space regulating
photosensitive material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2960491A
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English (en)
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JPH04245244A (ja
Inventor
俊夫 黒川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2960491A priority Critical patent/JP2632600B2/ja
Publication of JPH04245244A publication Critical patent/JPH04245244A/ja
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀写真感光
材料(以下、単に、感光材料という)を処理する処理槽
内に設置される処理空間規制部材およびその製造方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】露光後のハロゲン化銀写真感光材料(以
下、感光材料という)に対しては、その種類に応じた処
理がなされる。例えば、カラー感光材料に対しては、現
像、漂白、定着(または漂白定着)、水洗および安定化
処理が順次なされる。
【0003】このような処理は、通常、自動現像機のよ
うな感光材料処理装置を用い、この装置が備える複数の
処理槽のそれぞれに入れられた現像液、漂白液、定着液
(または漂白定着)、水洗水および安定液に感光材料を
順次浸漬することによりなされる。
【0004】近年、ミニラボと呼ばれる小型現像機によ
る小規模用処理システムの開発が進み、大型現像機を備
える現像所のみならず、写真店の店頭等でもフィルムの
現像およびプリントがなされるようになっている。
【0005】このような小規模用処理システムにおいて
は、簡易かつ迅速に処理が行なえること、処理液の補充
量および排液量をより低減すること、処理効率が高く、
優れた写真性が得られることおよび装置の小型化を図る
ことが課題とされている。
【0006】しかしながら、現状では、このような課題
を両立することは容易ではない。
【0007】例えば、水洗処理に関しては、多段カスケ
ード水洗方式を採用すれば、水洗性は向上し、良好な写
真性が得られ、水洗水の節約にはなるが、装置が大型と
なる。また、水洗水の補充量および排液量を少なくすれ
ば、良好な水洗性を得るために、水洗時間を長くしなけ
ればならない。
【0008】このような問題を解決するために、本願出
願人は、複数の処理室を幅狭の通路で連結してなる処理
空間(以下、多室処理空間という)が形成された処理槽
を有する感光材料処理装置を開示し(特願平01−02
5132号)、さらに、前記各通路に、処理液の流通を
遮断するための可撓性を有する一対のブレードを設けた
感光材料処理装置を開示している(特願平02−155
667号)。
【0009】このような多室処理空間を有する感光材料
処理装置によれば、各処理室内における処理液の液組成
勾配(濃度勾配)を良好に維持することにより、感光材
料の処理効率が向上し、処理液の補充量の低減や処理時
間の短縮を図ることができる。
【0010】ところで、このような感光材料処理装置に
おいて、多室処理空間の形成は、処理空間規制部材を、
ラックに固定した状態で、処理槽内に挿入することによ
りなされる。この処理空間規制部材は、樹脂等で成形さ
れたブロック状の部材またはブロック状の部分を有する
部材であって、通常は中実の部材である。従って、重量
が重くなり、処理槽からのラックの着脱操作や運搬等に
おける操作性が悪く、また、材料コストが高くなるとい
う欠点がある。
【0011】そのため、ブロー成形等により処理空間規
制部材を中空の部材で構成し、軽量化を図ることも可能
であるが、この場合には、液圧の変化、温度変化等によ
り処理空間規制部材が変形を生じ易くなり、次のような
不都合が生じる。
【0012】すなわち、第1に、処理空間規制部材が変
形すると、処理室内の容積が変り、隣接する処理室間同
士で液流通が生じる。特に、処理液量の少ない多室処理
空間では、処理室間同士で液流通が生じると、各処理室
内における処理液の液組成勾配(濃度勾配)の維持に支
障を来すため、これを避ける必要がある。
【0013】第2に、処理空間規制部材の変形により、
隣接する処理室を連結する幅狭の通路の幅が変り、感光
材料の搬送性が低下することがある。
【0014】また、上記多室処理空間を有する感光材料
処理装置と同様の目的で、狭幅の連続処理路を有する感
光材料処理装置も開示されているが(特開平02−23
0144号、特願平01−025131号等)、この感
光材料処理装置についても、処理空間規制部材の変形に
よる上記と同様の問題が生じる。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、軽量
で、かつ強度の高い処理空間規制部材およびその製造方
法を提供することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(8)の本発明により達成される。
【0017】(1) ハロゲン化銀写真感光材料を処理
する処理空間を規制する処理空間規制部材であって、発
泡体を射出成形により得られる被覆層で被覆してなるこ
とを特徴とする処理空間規制部材。
【0018】(2) 前記被覆層は、ポリオレフィン、
ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、尿素樹
脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステ
ル樹脂よりなる群から選ばれた少なくとも一種の材料で
構成されたものである上記(1)に記載の処理空間規制
部材。
【0019】(3) 前記ポリオレフィンは、環状オレ
フィンのポリオレフィンである上記(2)に記載の処理
空間規制部材。
【0020】(4) 前記ポリオレフィンは、ポリジシ
クロペンタジエンである上記(2)または(3)に記載
の処理空間規制部材。
【0021】(5) 前記処理空間は、複数の処理室を
狭幅の通路で連結してなるものである上記(1)ないし
(4)のいずれかに記載の処理空間規制部材。
【0022】(6) 前記処理空間は、狭幅の連続処理
路で構成される上記(1)ないし(4)のいずれかに記
載の処理空間規制部材。
【0023】(7) 上記(1)ないし(6)のいずれ
かに記載の処理空間規制部材の製造方法であって、発泡
体を芯材とし、この芯材の外面に、射出成形により被覆
層を形成することを特徴とする処理空間規制部材の製造
方法。
【0024】(8) 前記射出成形は、反応射出成形で
ある上記(7)に記載の処理空間規制部材の製造方法。
【0025】
【作用】本発明の処理空間規制部材は、芯材として発泡
体を用い、この発泡体の外周を射出成形により得られる
被覆層で被覆してなるものであるため、軽量であり、か
つ強度が高く、また、被覆層の材料の選定により、耐薬
品性にも優れる。
【0026】また、本発明の処理空間規制部材の製造方
法は、インサート成形により、芯材である発泡体(イン
サート部品)の外面に、例えば、ポリオレフィン、ポリ
アミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、尿素樹脂、
フェノール樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂よりなる被覆層を形成するため、製造が容易である。
特に、反応射出成形によりポリジシクロペンタジエンの
ような環状オレフィンのポリオレフィンよりなる被覆層
の形成を行なう場合には、金型へ供給する液体原料の粘
度が比較的小さいため、射出圧力が小さく、よって、発
泡体のつぶれが生じないので、精度の良い処理空間規制
部材が得られる。
【0027】
【発明の構成】以下、本発明の処理空間規制部材および
その製造方法を添付図面に示す好適実施例に基づいて詳
細に説明する。
【0028】図1は、本発明の処理空間規制部材を有す
る感光材料処理装置であって、これを水洗処理装置に適
用した場合の構成例を示す概略断面側図面である。同図
に示すように、感光材料処理装置1は、所定の容積を有
する縦長の処理槽2を有する。この処理槽2内には、ラ
ック3が着脱自在に装填される。
【0029】このラック3は、一対の側板31、31を
有し、これらの側板31間には、ブロック状の部分を有
する部材である本発明の処理空間規制部材4、5が設置
されている。図示の例では、一対の処理空間規制部材
4、4を図中下部において突き合せ、それらの間に処理
空間規制部材5を挿入した状態となっている。
【0030】このような処理空間規制部材4および5に
より、感光材料Sを水洗処理するための処理空間の輪郭
が規制される。この処理空間は、5つの処理室6A、6
B、6C、6Dおよび6Eと、上下に隣接する処理室間
を連結する狭幅の通路71、72、73および74とで
構成される。この処理空間には、水洗水Wが満たされ
る。
【0031】また、処理室6Aおよび6Eの上部には、
それぞれ感光材料Sを搬入および搬出するための同様の
通路75および76が形成されている。
【0032】なお、処理空間規制部材4および5の構造
および製造方法については、後に詳述する。
【0033】図示の構成において、処理室一室当たりの
容積は特に限定されないが、20〜3000ml程度、特
に、500〜2000ml程度とするのが好ましい。
【0034】各通路71〜76の幅(有効スリット幅)
は、感光材料Sの厚さの4〜80倍程度(0.5〜10
mm程度)とするのが好ましく、より好ましくは、感光材
料Sの厚さの5〜40倍程度(0.5〜5mm程度)とさ
れる。このような幅とすることにより、通路の液流通が
抑制され、感光材料Sも支障なく搬送される。
【0035】また、図示の構成において、通路71〜7
4の長さは10〜250mm程度、特に、20〜100mm
程度とするのが好ましい。
【0036】なお、図示されていないが、通路71〜7
4の各々には、1対または2対以上のブレードを設置し
てもよい。このようなブレードを設置することにより、
感光材料Sの通過時にその表面から液を拭いとる機能
(スクイズ機能)および通路の液流通を遮断する機能
(シール機能)を得ることができる。
【0037】このブレードとしては、例えば、ブレード
を支持固定する基部と、この基部から先端へ向って厚さ
が漸減する薄肉部とで構成されたものが挙げられ、特願
平02−155667号に記載のものが使用可能であ
る。
【0038】図1に示すように、処理室6A、6B、6
Dおよび6Eの中央部付近には、それぞれ1対の搬送ロ
ーラ8が設置され、処理室6Cには、3対の搬送ローラ
8が設置されている。また、通路75の上方および通路
76の上方にも、それぞれ1対の搬送ローラ8が設置さ
れている。
【0039】これらの各搬送ローラ8は、その回転軸に
て側板31、31に軸支されており、図示しない駆動系
により、ローラ対の双方が駆動回転し、ローラ間に感光
材料Sを挟持して感光材料Sを搬送するようになってい
る。
【0040】各搬送ローラ8の構成材料としては、例え
ば、ネオプレン、EPTゴム等の各種ゴム、サンプレー
ン、サーモラン、ハイトレル等のエラストマー、硬質塩
化ビニル、ポリプロピレン、ポリエチレン、ABS樹
脂、PPO、ナイロン、ポリアセタール(POM)、フェ
ノール樹脂、ポリフェニレンスルフィド(PPS)、ポ
リエーテルスルホン(PES)、ポリエーテルエーテルケ
トン(PEEK)、テフロン等の各種樹脂、アルミナ等
のセラミックス、ステンレス、チタン、ハステロイ等の
耐食性を有する金属類、またはこれらを組み合わせたも
のを挙げることができる。
【0041】処理室6A、6B、6Dおよび6E内の搬
送ローラ8と通路71〜76との間には、感光材料Sを
案内するためのガイド9が設置されている。このガイド
9は、対をなす板状の部材で構成され、感光材料Sが通
過しうる間隔を隔てて対面設置されている。
【0042】また、処理室6Cの搬送ローラ8間には、
円弧状に湾曲し、この湾曲部に沿って感光材料Sの方向
を転換する反転ガイド10が設置されている。
【0043】さらに、通路75および76と、その上方
の搬送ローラ8との間には、それぞれ、湾曲した板状の
ガイド11が設置されている。
【0044】これらのガイド9〜11は、例えば成型プ
ラスチックや金属の板で構成されている。また、液中に
設置されるガイド9、10には、ガイドを貫通する開口
(図示せず)がほぼ均一に形成されているのが好まし
い。これにより水洗水Wの流通が可能となり、処理室内
での液の循環が促進されるため、水洗効率が向上する。
【0045】このようなガイド9〜11、前記搬送ロー
ラ8およびその駆動系により感光材料搬送手段が構成さ
れる。
【0046】なお、ガイド9〜11は、感光材料Sの搬
送性に支障をきたさない限り、搬送経路に沿って部分的
に設けてもよく、また、設置しなくてもよい。
【0047】このような感光材料処理装置1には、水洗
水の供給(補充)および排出を行なう手段が設けられて
いる。すなわち、処理槽2には、その側壁を貫通して処
理室6Eに連通する給液管12および処理室6Aに連通
する排液管13が設置されている。
【0048】給液管12は、水洗水Wを供給(補充)す
るためのものであり、排液管13は、オーバーフロー等
により処理後の疲労した水洗水Wを排出するためのもの
である。
【0049】このような感光材料処理装置1において
は、各処理室6A〜6E内の水洗水Wを適温(例えば2
5〜50℃)に加温するヒーター(図示せず)が設置さ
れる。
【0050】このヒーターとしては、通常のシーズヒー
ターやセラミックスヒーターを用いてもよいが、面状発
熱体を用いるのが好ましい。
【0051】この面状発熱体としては、ヒーター内蔵パ
ネルヒーター、オイル循環式パネルヒーター、各種導電
性フィラーを含有する面状発熱体、ヒーターエレメント
を絶縁材料で被覆したもの等が挙げられるが、その中で
も特に、導電性フィラーを含有するものやヒーターエレ
メントを絶縁材料(有機材料、セラミックスまたはこれ
らの混合材料等)で被覆したものが好ましい。
【0052】ここで、導電性フィラーとしては、例え
ば、カーボンブラック、グラファイト、炭素繊維等の炭
素系材料のような有機導電性フィラーや、鉄、アルミニ
ウム、チタン、ニッケル、タングステン等の金属粉末ま
たは二酸化チタン、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化マグネシウ
ム等の金属酸化物粉末のような無機導電性フィラーが挙
げられる。
【0053】なお、面状発熱体の具体例としては、特願
平02−223768号に記載されたものを用いること
ができる。
【0054】このような面状発熱体は、熱効率が良く、
また、その形状がゆえに設置スペースをとらず、装置の
小型化に寄与する。
【0055】なお、ヒーターの設置位置は特に限定され
ず、例えば、処理室6A〜6Eのうちの任意の処理室
内、処理槽2の内面、処理空間規制部材4、5の表面ま
たは内部、各処理室6A〜6Eに設置される水洗水の循
環系(図示せず)や水洗水の補充系の途中等に設置する
ことができる。特に、前記面状発熱体を用いれば、その
設置位置の選択範囲が広く、設計上有利である。
【0056】また、本発明では、任意の処理室6A〜6
E内に水洗水Wの温度を検出する温度センサー(図示せ
ず)を設置し、この温度センサーにより水洗水Wの温度
を検出し、この検出値に基づいて、マイクロコンピュー
タのような制御手段(図示せず)によりヒーターをO
N、OFFしまたは発熱量を制御することもできる。
【0057】次に、本発明の処理空間規制部材4、5に
ついて説明する。なお、処理空間規制部材4および5の
断面構造、構成材料および製造方法は、基本的には同様
であるため、処理空間規制部材5について代表的に説明
する。
【0058】図1に示すように、処理空間規制部材5
は、芯材である発泡体51の外表面をポリオレフィンで
構成される被覆層52で被覆してなるものである。な
お、本発明では、図示のごとく発泡体51の外表面全面
を被覆層52で被覆したものに限らず、例えば、空中に
露出した部分については、発泡体51の外表面に被覆層
52を設けない部分があってもよい。
【0059】発泡体51の構成材料としては、例えば、
発泡ポリウレタン、発泡シリコーン、発泡ポリスチレ
ン、発泡ポリエチレン、発泡ポリプロピレン、発泡ポリ
ブタジエン、発泡フェノール樹脂、発泡ユリア樹脂、発
泡ポリ塩化ビニル、発泡ポリエステル等が挙げられる。
このなかでも、特に、発泡ポリウレタン、発泡シリコー
ン、発泡ポリプロピレンが好ましい。
【0060】このような発泡体51の平均空孔径は、
0.01〜5mm程度、特に、0.1〜1mm程度とするの
が好ましい。
【0061】また、発泡体51の嵩密度は、0.01〜
0.8g/cm 3 程度、特に、0.1〜0.7g/cm 3 程度
とするのが好ましい。
【0062】被覆層52の構成材料としては、射出成形
により製造しうるものであればよく、その好適例として
は、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリアミドイミド、
ポリウレタン、尿素樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹
脂、不飽和ポリエステル樹脂よりなる群から選ばれた少
なくとも一種の材料が挙げられる。これらの材料によれ
ば十分な強度の被覆層52が得られる。
【0063】ポリオレフィンとしては、ポリジシクロペ
ンタジエン、ポリメチルシクロペンタジエン、ポリアク
リルシクロペンタジエン、ポリ−2,5−ジメチル−
1,5ヘキサジエン等の環状オレフィンのポリオレフィ
ンや、その他、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、ポリブタジエン、ポリメチルペンテン等が挙げ
られる。このなかでも、特に、環状オレフィンのポリオ
レフィンが好ましく、さらには、ポリジシクロペンタジ
エンのようなノルボネン類が最も好ましい。これらの材
料は、後述のごとく製造上有利であり、また、各種処理
液に対する耐薬品性に優れるからである。
【0064】なお、ポリジシクロペンタジエンとして
は、例えば、テイジン社製の商品名:MEITON、日
本ゼオン社製の商品名:PENTAM等を用いることが
できる。
【0065】また、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリ
アミドイミド、ポリウレタン、尿素樹脂、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂は、後述す
る反応射出成形により被覆層52を製造するのに適して
いる。
【0066】被覆層52の厚さは、特に限定されない
が、1〜10mm程度、特に、2〜5mm程度とするのが好
ましい。厚さが1mm未満では、構成材料によっては強度
不足となり、また、厚さが10mmを超えると十分な軽量
化が図れなくなるからである。
【0067】また、同様の理由から、発泡体51に対す
る被覆層52の体積比は、10〜90%程度、特に、3
0〜70%程度とするのが好ましい。
【0068】なお、図示しないが、処理空間規制部材
4、5の感光材料Sと接触する部分、すなわち、通路7
1〜76の内壁に相当する部分には、例えば、ポリアセ
タール、テフロン、超高分子量ポリエチレン等よりなる
低摩擦材を被着しておくこともできる。この場合には、
感光材料Sとの摺動抵抗が低減し、乳剤面のキズ付が防
止される。
【0069】このような処理空間規制部材5の製造方法
は、次の通りである。
【0070】処理空間規制部材5は、インサート成形、
すなわち、発泡体51を芯材(インサート部品)とし、
この芯材の外面に、射出成形により被覆層52を形成す
ることにより製造される。
【0071】この場合、被覆層52の射出成形は、反応
射出成形(RIM)により行なうのが好ましい。以下、
図2に基き、被覆層52をポリジシクロペンタジエンで
構成する場合を例にして、具体的に説明する。
【0072】A液として、ジシクロペンタジエンのモノ
マー群(以下、単に、モノマー群という)と、共触媒
と、必要に応じ添加剤とを含む液を用意する。A液にお
ける共触媒としては、例えば、有機アルミニウム化合物
が挙げられる。
【0073】一方、B液として、モノマー群の残部と、
主触媒と、必要に応じ添加剤とを含む液を用意する。B
液における主触媒としては、例えば、モノマー群に可溶
となるように変性されたモリブデン化合物が挙げられ
る。
【0074】なお、A液およびB液の粘度は、それぞ
れ、5〜300cP程度である。
【0075】次に、図2に示すように、A液およびB液
を成形機16の混合室内に導入して混合し、直ちに、所
望形状の金型17内へ射出する。ここで、金型17内に
は、予め、発泡体51がインサートされてる。なお、A
液およびB液の混合比は、例えば、1:0.9〜1:
1.1程度とされる。
【0076】金型17内ではA液およびB液の成分が反
応し、ジシクロペンタジエンが重合(イオン重合)す
る。これにより、発泡体51の外面にポリジシクロペン
タジエンよりなる被覆層52が形成されたキャビティー
が得られる。
【0077】なお、射出成形の好適な条件は、次の通り
である。
【0078】A液およびB液の金型内17への射出温度
は、20〜70℃程度、特に、25〜30℃程度が好ま
しく、射出圧力は、10〜100kgf/cm2 程度、特に3
0〜50kgf/cm2 程度が好ましい。
【0079】金型温度は、30〜90℃程度、特に、5
0〜70℃程度好ましい
【0080】サイクルタイムは、金型温度や触媒により
異なり、10秒〜数十分程度が可能で、特に10〜60
秒程度が好ましい。
【0081】なお、重合反応の速度は、広範囲でコント
ロールすることができる。
【0082】このような反応射出成形では、上述したよ
うに、A液およびB液の粘度が比較的低く射出圧力が低
いこと、および金型温度が比較的低いことから、インサ
ート部品である発泡体51のつぶれやねつによる変形、
変質が生じず、よって、寸法精度の良い処理空間規制部
材5が得られる。
【0083】なお、反応射出成形に関しては、特開昭5
8−127728号公報、同58−51911号公報、
同59−33246号公報等に記載された事項を本発明
に適用することができる。
【0084】このようにして得られたポリジシクロペン
タジエンによる被覆層52の物性を下記表1に示す。
【0085】
【表1】
【0086】表1に示すように、ポリジシクロペンタジ
エンによる被覆層52は、軽量でかつ強度が高い。ま
た、耐水性に優れるとともに、成形品に残留応力が少な
いので、成形後の寸法安定性に優れる。
【0087】また、ポリジシクロペンタジエン以外のポ
リオレフィン、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリウ
レタン、尿素樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、不
飽和ポリエステル樹脂においても同様の反応射出成形に
より被覆層52を形成することができる。これらの材料
による被覆層52は、処理液、特に、水洗水に対する耐
薬品性に優れる。
【0088】なお、本発明では、このような反応射出成
形において、例えばガラス繊維のような強化材を混入す
る強化反応射出成形を行なってもよい。この場合には、
被覆層52の強度がさらに高まり、処理空間規制部材5
の軽量化を図る上でより好ましい。
【0089】以上のようにして製造された処理空間規制
部材5に対しては、必要に応じ、研削、研磨、塗装、め
っき、印刷、フィルムのラミネート等の表面処理や仕上
加工、処理空間規制部材同士の連結、組み立て、他の部
品の装着、インサート、アウトサート、真空成形や圧空
成形等の熱プレス加工(スタンピング加工)等の各種2
次加工を施すことができる。
【0090】次に、図1に基づいて、感光材料処理装置
1の使用法および動作について説明する。
【0091】感光材料Sの処理を開始するに際して、給
液管12から水洗水Wが供給され、処理空間、すなわち
処理室6A〜6Eおよび通路71〜74に水洗水Wが満
たされる。
【0092】また、処理空間に水洗水Wが満たされた状
態で、図示しないヒーターを作動し、水洗水Wの温調を
行なう。
【0093】この状態で、感光材料Sがガイド11を経
て通路75内に搬入されると、これと同時に給液管12
から水洗水Wの補充が開始される。
【0094】処理室6Eに水洗水Wが補充されると、補
充量とほぼ同量の水洗水Wが、処理室6Eから処理室6
D、6C、6B、6Aの順に流れ、排液管13からオー
バーフローにより排出される。
【0095】一方、感光材料Sは、図1中の矢印で示す
ように、処理室6A、6B、6C、6D、6Eの順に搬
送される。
【0096】従って、水洗水Wの流れ方向は、感光材料
Sの搬送方向と逆方向(カウンターフロー)である。こ
れによっても水洗効率は向上する。
【0097】そして、処理が終了し、感光材料Sが処理
室6Eの上方の通路76外へ搬出されると、これと同時
に水洗水Wの補充は停止される。
【0098】このような場合、感光材料Sに付着した薬
剤の前浴からの持ち込み等に起因する各処理室6A〜6
Eにおける水洗水Wの汚れの度合は、処理室6Aで最も
大きく、処理室6B、6C、6D、6Eと次第に小さく
なっている。そして、このような各処理室6A〜6Eに
おける濃度勾配(液組成勾配)は良好に維持される。特
に、各通路71〜74に前記ブレードを設置した場合に
は、このブレードのスクイズ機能およびシール機能によ
り、各処理室6A〜6Eにおける濃度勾配はより一層良
好に維持される。
【0099】従って、水洗効率が格段と向上し、その結
果、優れた写真性が得られるとともに、処理時間の短縮
および水洗水Wの補充量、排液量の低減を図ることがで
きる。また、水洗効率を向上させることができる結果、
各処理室6A〜6Eの容積等を小さくすることができ、
装置1の小型化に寄与する。
【0100】なお、上記における補充のタイミングや補
充量の制御は、公知の制御方式および手段を用いて行な
えばよい。
【0101】図3は、本発明の処理空間規制部材を有す
る感光材料処理装置の他の構成例を示す概略断面側図面
である。同図に示す感光材料処理装置1’は、前記と同
様のの処理槽2内に、ラック3が着脱自在に装填され、
このラック3の側板31間には、処理空間規制部材4お
よび5が設置されている。図示の例では、外側の処理空
間規制部材4の凹部内に3つの処理空間規制部材5を挿
入した状態となっている。
【0102】このような処理空間規制部材4および5に
より、感光材料Sの処理空間の輪郭全部または一部が規
制される。この処理空間は、狭幅の連続処理路18で構
成されるものである。そして、この処理空間には、水洗
水等の処理液が満たされる。
【0103】連続処理路18の有効幅は、前記通路71
〜76の幅と同程度とされる。
【0104】また、処理層2内の各所には、感光材料S
を搬送する前記と同様の搬送ローラ8が設置されてい
る。
【0105】また、連続処理路18の両端には、前記と
同様の給液管12および排液管13が設置されている。
【0106】このような感光材料処理装置1’における
処理空間規制部材4および5の構成(構造および構成材
料)および製造方法も前記と同様である。感光材料処理
装置1’では、狭幅の連続処理路18で感光材料Sを処
理するので、処理液の補充量および排液量が少なく、写
真性も向上し、装置も小型となる。この場合、処理空間
の容積が小さいので、処理空間規制部材4および5が変
形すると、この変形量に対する処理空間の容積変化は大
きくなるが、処理空間規制部材4および5は、十分な強
度を有するので、変形しにくく、処理空間の容積変化は
ほとんど生じない。
【0107】なお、本発明の処理空間規制部材は、図1
に示すような多室処理空間を形成するものや図3に示す
ような狭幅の連続処理路を形成したものに適用する場合
に限定されず、例えば、従来より知られている単一の箱
型処理槽や多段カスケード水洗方式等にも適用すること
ができる。
【0108】また、感光材料処理装置1、1’は、水洗
処理装置に適用されるものに限らず、安定化処理に適用
しても同様の作用、効果が得られ、また、その他の処
理、例えば、現像、漂白、漂白定着、定着、調整、反
転、停止等にも適用することができる。
【0109】なお、感光材料S中の不要物質を洗い出す
機能を有する処理(例えば、安定、定着、調整、反転
等)については前記感光材料処理装置1、1’と同様の
構成とすればよい。
【0110】また、現像液、漂白液、漂白定着液、定着
液のような感光材料S中のハロゲン化銀等と反応する化
合物を含む処理液では、前記水洗水と異なり、処理液の
流れは、感光材料Sの搬送方向と同方向(パラレルフロ
ー)となるようにするのが処理効率の向上にとって好ま
しい。なお、定着機能を有する処理液については、前述
したように、感光材料S中の不要物質の洗い出し効果も
あるため、カウンターフローでもよい。
【0111】このような水洗以外の種々の処理装置にお
いても、処理効率が向上し、写真性の向上、処理時間の
短縮、補充量の低減および装置の小型化を図ることがで
きる。
【0112】また、用いる水洗水、安定液、黒白現像
液、発色現像液、漂白液、定着液、漂白定着液、停止
液、調整液、反転液等の処理液は、公知のいずれのもの
であってもよく、これら処理液の詳細については、日本
写真学会編「写真工学の基礎」コロナ社刊(昭和54
年)P299「第4章現像処理」等の記載を参照するこ
とができる。
【0113】感光材料処理装置1、1’において、処理
対象とされる感光材料Sの種類は特に限定されず、カラ
ーおよび黒白感光材料のいずれであってもよい。例え
ば、カラーネガフィルム、カラー反転フィルム、カラー
ポジフィルム、カラー印画紙、カラー反転印画紙、製版
用写真感光材料、X線写真感光材料、黒白ネガフィル
ム、黒白印画紙、マイクロ用感光材料等が挙げられる。
【0114】また、感光材料処理装置1は、例えば、自
動現像機、湿式の複写機、プリンタープロセッサー、ビ
デオプリンタープロセッサー、写真プリント作成コイン
マシーン、検版用カラーペーパー処理機等の各種感光材
料処理装置に適用することができる。
【0115】以上、本発明の構成例を例示して説明した
が、本発明は、これに限定されるものではない。
【0116】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、軽
量で、かつ強度の高い処理空間規制部材が得られる。こ
れにより、処理空間規制部材の着脱操作や運搬等におけ
る操作性が向上し、材料コストも安価となる。特に、多
室処理空間や狭幅の連続処理路を形成する場合、処理空
間規制部材の変形による液流通や狭幅の通路、連続処理
路での感光材料の通過不良が防止され、感光材料の良好
な処理性、写真性、搬送性を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の処理空間規制部材を有する感光材料処
理装置の構成例を示す断面側面図である。
【図2】本発明の処理空間規制部材の製造工程の一例を
示す例を示す概略構成図である。
【図3】本発明の処理空間規制部材を有する感光材料処
理装置の他の構成例を示す断面側面図である。
【符号の説明】
1、1’ 感光材料処理装置 2 処理槽 3 ラック 31 側板 4、5 処理空間規制部材 51 発泡体 52 被覆層 6A〜6E 処理室 71〜76 通路 8 搬送ローラ 9 ガイド 10 反転ガイド 11 ガイド 12 給液管 13 排液管 16 成形機 17 金型 18 連続処理路 S 感光材料 W 水洗水

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ハロゲン化銀写真感光材料を処理する処
    理空間を規制する処理空間規制部材であって、発泡体を
    射出成形により得られる被覆層で被覆してなることを特
    徴とする処理空間規制部材。
  2. 【請求項2】 前記被覆層は、ポリオレフィン、ポリア
    ミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、尿素樹脂、フ
    ェノール樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂
    よりなる群から選ばれた少なくとも一種の材料で構成さ
    れたものである請求項1に記載の処理空間規制部材。
  3. 【請求項3】 前記ポリオレフィンは、環状オレフィン
    のポリオレフィンである請求項2に記載の処理空間規制
    部材。
  4. 【請求項4】 前記ポリオレフィンは、ポリジシクロペ
    ンタジエンである請求項2または3に記載の処理空間規
    制部材。
  5. 【請求項5】 前記処理空間は、複数の処理室を狭幅の
    通路で連結してなるものである請求項1ないし4のいず
    れかに記載の処理空間規制部材。
  6. 【請求項6】 前記処理空間は、狭幅の連続処理路で構
    成される請求項1ないし4のいずれかに記載の処理空間
    規制部材。
  7. 【請求項7】 請求項1ないし6のいずれかに記載の処
    理空間規制部材の製造方法であって、発泡体を芯材と
    し、この芯材の外面に、射出成形により被覆層を形成す
    ることを特徴とする処理空間規制部材の製造方法。
  8. 【請求項8】 前記射出成形は、反応射出成形である請
    求項7に記載の処理空間規制部材の製造方法。
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