[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP2682101B2 - Transparent barrier composite film with retort resistance - Google Patents

Transparent barrier composite film with retort resistance

Info

Publication number
JP2682101B2
JP2682101B2 JP1429689A JP1429689A JP2682101B2 JP 2682101 B2 JP2682101 B2 JP 2682101B2 JP 1429689 A JP1429689 A JP 1429689A JP 1429689 A JP1429689 A JP 1429689A JP 2682101 B2 JP2682101 B2 JP 2682101B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin film
film
oxide thin
silicon oxide
composite film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP1429689A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH02194944A (en
Inventor
伸彦 今井
守 関口
直之 秋山
隆司 宮本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Inc filed Critical Toppan Inc
Priority to JP1429689A priority Critical patent/JP2682101B2/en
Publication of JPH02194944A publication Critical patent/JPH02194944A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2682101B2 publication Critical patent/JP2682101B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、プラスチックフィルムからなる基材に酸化
アルミニウム薄膜を介して酸化珪素を設けるか、あるい
は、更に上記酸化珪素薄膜上に酸化珪化薄膜を設けたレ
トルト耐性を有する透明バリアー複合フィルムに関す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial field of application> The present invention provides a base material made of a plastic film with silicon oxide via an aluminum oxide thin film, or further, a silicon oxide thin film on the silicon oxide thin film. Provided is a transparent barrier composite film having retort resistance.

<従来技術> 医薬、食品の包装分野において、内容物の保護性を高
めるため、包装に用いる材料には種々の物性が要求さ
れ、これら要求された物性は増々高いものが望まれるよ
うになってきている。
<Prior Art> In the fields of medicine and food packaging, various physical properties are required for materials used for packaging in order to enhance the protective property of contents, and these demanded physical properties are increasingly desired. ing.

特に内容物の保護のうち、内容物の変質、酸化防止の
点から、酸素バリアー性、水蒸気バリアー性、は、包装
材料には欠くことのできない事項で、今日これらのバリ
アー性を付与することは、一般的になりつつあり、その
観点から包装材料の設計が行われている。
Among the protection of contents, oxygen barrier properties and water vapor barrier properties are essential items for packaging materials from the viewpoints of alteration and oxidation prevention of the contents, and these barrier properties cannot be imparted today. It is becoming commonplace, and packaging materials are being designed from that viewpoint.

上記、諸物性を満たした透明性を有するフィルムとし
て、酸化珪素蒸着フィルムが提案されている。(特公昭
53−12953公報)しかし、酸化ケイ素、蒸着フィルム
は、プラスチックフィルム上に線膨張係数のきわめて異
なるガラス状薄膜を設けるので薄膜形成時にプラスチッ
クフィルムからなる基材と薄膜界面とに生じた熱応力否
のために得られる蒸着フィルムとしては、該基材と薄膜
の必着性が不十分であり、特にレトルト殺菌処理によ
り、蒸着膜に割れが生じ、密着性が劣化すると共に、酸
素及び水蒸気バリアー性の劣化が生じるなど、大きな問
題があった。
A silicon oxide vapor-deposited film has been proposed as a transparent film satisfying the various physical properties described above. (Special public akiaki
However, since silicon oxide and vapor-deposited films are provided with glassy thin films having extremely different linear expansion coefficients on a plastic film, it is possible to determine whether or not the thermal stress generated between the substrate made of the plastic film and the thin film interface during thin film formation. As a vapor-deposited film obtained in this way, the adherence between the substrate and the thin film is insufficient, and in particular, the retort sterilization treatment causes cracks in the vapor-deposited film, resulting in poor adhesion and poor oxygen and water vapor barrier properties. There was a big problem such as.

<発明が解決しようとする課題> 本発明は従来の酸化珪素蒸着フィルムを改良すること
で上記問題点を解決するものであり、その目的とすると
ころは、透明性を有し、かつレトルト殺菌処理に耐えう
る、つまり、蒸着薄膜に割れを生ずることなく、強密着
性を保ち、バリアー劣化が極めて少ないことを特徴とす
る、レトルト耐性を有する透明バリアー複合フィルムを
提供するものである。
<Problems to be Solved by the Invention> The present invention solves the above-mentioned problems by improving a conventional silicon oxide vapor deposition film, and an object thereof is to have transparency and retort sterilization treatment. The present invention provides a transparent barrier composite film having retort resistance, which is characterized in that it can withstand, that is, does not cause cracks in a vapor-deposited thin film, maintains strong adhesion, and has extremely little barrier deterioration.

<課題を解決するための手段> 本発明は、真空系内で真空蒸着、スパッタリング、イ
オンプレーティング等のPVD法により高分子フィルムか
らなる基材上に、酸化アルミニウム薄膜層を介し、酸化
珪素薄膜層を設ける、あるいはさらに該酸化珪素薄膜上
に酸化アルミニウム薄膜を設けることを特徴としたレト
ルト耐性を有する透明バリアー複合フィルムである。
<Means for Solving the Problems> The present invention relates to a silicon oxide thin film via an aluminum oxide thin film layer on a base material made of a polymer film by a PVD method such as vacuum deposition, sputtering, and ion plating in a vacuum system. A transparent barrier composite film having retort resistance, which is characterized by providing a layer or further providing an aluminum oxide thin film on the silicon oxide thin film.

以下具体的に述べると本発明で用いる機材のプラスチ
ックフィルムは、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
アミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナ
フタレート、ポリカーボネート、ポリウレタン等のは一
種以上の樹脂から得られる未延伸、任意の延伸倍率、を
持つフィルム、シートであって、表面平滑性、安定性付
与のため添加剤を含んでもかまわないが、真空下でそれ
らが表面へブリードし、基材と薄膜の密着性が低下して
しまう点から、極力低添加物含有の樹脂から成るフィル
ム、シート好ましく、特に、透明性、耐熱性のあるポリ
エチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタ
レート(PEN)等が好ましい。
Specifically described below, the plastic film of the equipment used in the present invention is polyethylene, polypropylene, polyamide, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyurethane or the like unstretched from any one or more resins, any stretching ratio, A film or sheet that has the property of containing an additive for imparting surface smoothness and stability, but in that they bleed to the surface under vacuum and the adhesion between the substrate and the thin film decreases. Therefore, a film or sheet made of a resin containing an additive as low as possible is preferable, and particularly, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN) and the like, which have transparency and heat resistance, are preferable.

本発明でいう酸化珪素薄膜、及び酸化アルミニウム薄
膜というのは、真空系内で、抵抗加熱、高周波誘導加
熱、電子ビーム加熱方式を用いた一般的な真空蒸着法、
二極直流スパッタリング(DC)、高周波スパッタリング
(RF)等のマグネトロンスパッタリング、更には、イオ
ンプレーティング、あるいは、上記手法の応用として、
酸素及び酸素を含む不活性キャリアを真空系内に導入し
ながら薄膜形成する反応性蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング等いずれの方法により得られる薄膜で
あってもかまわない。
The silicon oxide thin film and the aluminum oxide thin film referred to in the present invention are a general vacuum vapor deposition method using resistance heating, high frequency induction heating, and electron beam heating in a vacuum system,
Magnetron sputtering such as bipolar DC sputtering (DC), radio frequency sputtering (RF), further ion plating, or application of the above method,
It may be a thin film obtained by any method such as reactive vapor deposition, sputtering, or ion plating in which a thin film is formed while introducing oxygen and an inert carrier containing oxygen into the vacuum system.

密着性の点で、イオンプレーティング、スパッタリン
グが優れているが、巻取状で高速加工でき、経済面で蒸
着がもっとも有利である。
Although ion plating and sputtering are excellent in terms of adhesion, vapor deposition is the most advantageous from the economical viewpoint because high-speed processing can be performed in a rolled shape.

上記方法で得られる本考案でいう酸化珪素薄膜という
のは、Si、SiO、Si3O4、Si2O3、SiO2等の各種珪素酸化
物の混合物から成り立っていると考えられ、それぞれの
含有比等は、加工条件により異なる。酸化珪素薄膜の膜
厚としては、300〜3000Åが適当であり、好ましくは、5
00〜1000Åで300Å以下であると均一な薄膜が形成され
ず、その結果、酸素、水蒸気バリアー性が不十分であ
り、3000Å以上の厚さでは、着色が濃く透明性が損なわ
れ、カールも強いため、後の加工適正が悪い、しかも、
蒸着膜に亀裂、剥離が生じ易く、その場合バリアー効果
も減少するので蒸着速度、耐熱性、バリアー性の面から
3000Å以下が好ましい。
The silicon oxide thin film according to the present invention obtained by the above method is considered to be composed of a mixture of various silicon oxides such as Si, SiO, Si 3 O 4 , Si 2 O 3 and SiO 2 , and each of them is The content ratio varies depending on the processing conditions. The thickness of the silicon oxide thin film is suitably 300 to 3000 Å, preferably 5
A uniform thin film will not be formed if it is from 00 to 1000Å and below 300Å, and as a result, the oxygen and water vapor barrier properties are insufficient, and at a thickness of 3000Å or above, the coloring will be dark and the transparency will be impaired and the curl will be strong. Therefore, the post-processing suitability is poor, and moreover,
Cracks and peeling easily occur in the deposited film, and in that case the barrier effect also decreases, so from the viewpoint of deposition rate, heat resistance and barrier properties
3000 Å or less is preferable.

また本発明でいう酸化アルミニウム薄膜でいうのは、
Al、AlO、Al3O4、Al2O3等の各種珪素酸化物の混合物か
ら成り立っていると考えらる。膜厚としては300〜3000
Åが適当であり、好ましくは500〜1000Åで、これは酸
化アルミニウム薄膜のバリアー性、特に密着性を損なわ
ない膜厚である。
Further, the aluminum oxide thin film referred to in the present invention is,
It is considered to be composed of a mixture of various silicon oxides such as Al, AlO, Al 3 O 4 , and Al 2 O 3 . 300-3000 as film thickness
Å is suitable, preferably 500 to 1000 Å, which is a film thickness that does not impair the barrier property, particularly the adhesiveness, of the aluminum oxide thin film.

本発明では、薄膜を2層あるいは3層に積層するが、
この際異種薄膜界面への不純物混入、吸着によるバリア
ー性、密着性及び純度の劣化を防止するため、これら薄
膜積層工程において、大気との接触がない様、一回の同
一真空排気下にて順次薄膜形成を行うのが好ましい。
In the present invention, the thin films are laminated in two layers or three layers,
At this time, in order to prevent deterioration of barrier properties, adhesion, and purity due to admixture of impurities at the interface of different thin films and adsorption, in order to avoid contact with the atmosphere during these thin film laminating processes, the films are sequentially evacuated under the same vacuum exhaustion. It is preferable to form a thin film.

さらに、本発明における酸化珪素薄膜、酸化アルミニ
ウム薄膜手段は先に述べたようないずれの方法であって
もかまわないが、高速生産性、経済的に考慮すると酸化
珪素・酸化アルミニウムを蒸着材料として、一般的に抵
抗加熱、高周波誘導、電子ビーム等の加熱手段による真
空蒸着、あるいは、珪素・アルミニウムを蒸着材料して
特定のO2ガスを含むキャリアーを導入しながら行う反応
性蒸着が好適である。
Further, the silicon oxide thin film and aluminum oxide thin film means in the present invention may be any of the methods described above, but in view of high speed productivity and economy, silicon oxide / aluminum oxide is used as the vapor deposition material. In general, resistance heating, high-frequency induction, vacuum vapor deposition by a heating means such as electron beam, or reactive vapor deposition performed by introducing a carrier containing silicon-aluminum as a vapor deposition material and containing a specific O 2 gas is suitable.

スパッタリング、イオンプレーティング等は、基材上
への蒸着膜が優れていることから、密着性を重視する際
は、これらの方法が利用できる。
For sputtering, ion plating, etc., these methods can be used when importance is attached to adhesion, because the deposited film on the substrate is excellent.

また、基材上に薄膜層を形成する際基材には、特定の
処理は必要ないが、O2、N2、Ar、He、Ne等のガスにより
103〜数Torr下での放電処理、いわゆる低温プラズマ処
理、基材上の帯電物、ほこり等を不活性ガスによりスパ
ッタリングし、表面をクリーングするイオンボンバード
処理をすることで、より基材と密着性のある薄膜層が形
成される。更には、基材上に熱硬化型樹脂層を設けるこ
とで、基材と薄膜層との密着性を上げることができる。
In addition, when the thin film layer is formed on the base material, the base material does not require any specific treatment, but it can be treated with a gas such as O 2 , N 2 , Ar, He or Ne.
More closely adheres to the base material by performing an electric discharge treatment under 10 3 to several Torr, a so-called low temperature plasma treatment, an ion bombardment treatment that cleans the surface by sputtering charged substances, dust, etc. on the base material with an inert gas. A thin film layer having properties is formed. Furthermore, by providing a thermosetting resin layer on the base material, the adhesion between the base material and the thin film layer can be increased.

<作用> 本発明は、真空系内で蒸着・スパッタリング・イオン
プレーティング等のPVD法により、基材上に酸化アルミ
ニウム薄膜層、酸化珪素薄膜層あるいは、さらに該酸化
珪素薄膜層上に酸化アルミニウム薄膜層を、それぞれ膜
厚300〜3000Åにて順次、積層することにより、従来の
酸化珪素蒸着フィルムでは困難であった。レトルト耐
性、つまり、れとると殺菌処理後でも強密着性、バリア
ー性劣化の極めて少ない複合フィルムが得られた。
<Operation> The present invention is an aluminum oxide thin film layer, a silicon oxide thin film layer on a substrate, or an aluminum oxide thin film on the silicon oxide thin film layer by a PVD method such as vapor deposition / sputtering / ion plating in a vacuum system. It was difficult for the conventional silicon oxide vapor-deposited film to stack the layers sequentially with a film thickness of 300 to 3000 Å. A retort resistance, that is, a composite film having extremely low adhesion and deterioration in barrier property even after sterilization treatment was obtained.

<実施例−1> 二軸延伸ポリエステルフィルム12μ(帝人製NSフィル
ム)を基材として片面に、電子ビーム加熱により巻取式
蒸着スパッタリング装置(SPW−020特型日本真空技術
製)を用いて下記の条件で、酸化アルミニウム薄膜、酸
化珪素薄膜をそれぞれ約1000Åの膜厚で連続的に順次積
層して設けた透明性に優れた蒸着フィルムを得た。
<Example-1> Using a biaxially stretched polyester film 12μ (NS film made by Teijin Ltd.) as a base material on one side and using a winding type vapor deposition sputtering device (SPW-020 special type Japan Vacuum Technology) by electron beam heating, Under these conditions, an aluminum oxide thin film and a silicon oxide thin film each having a film thickness of about 1000 Å were successively and successively laminated to obtain a vapor-deposited film having excellent transparency.

(蒸着条件) ・酸化アルミニウム薄膜(1000Å) 蒸着材料 Al2O3(高純度化学研究所製2N) 真空度 1.0×10-(Torr) 蒸着スピード 30(Å/S) 〜水晶発振式モニターにより連続測定したところ安定し
ていた。
(Deposition conditions) of aluminum oxide thin film (1000 Å) deposited materials Al 2 O 3 (manufactured by Kojundo Chemical Laboratory Co., Ltd. 2N) vacuum 1.0 × 10 - (Torr) Continuous by deposition speed 30 (Å / S) ~ Crystal Oscillation type monitor It was stable when measured.

ビームパワー 7.5kV−650mA ラインスピード 1.0m/min ・酸化珪素薄膜(1000Å) 蒸着材料 SiO(大阪チタニウム製3N) 真空度 5.0×10-6(Torr) 蒸着スピード 70(Å/S) 〜酸化アルミニウムと同様測定法 ビームパワー 6kV−50mA ラインスピード 3(m/min) このときのクーリングロール温度は−10℃、または酸
化アルミニウム薄膜と酸化珪素薄膜の成膜は、一回の排
気にて連続的に順次、積層する。膜厚測定は、触針式に
より測定したところ(Dektak II、日本真空技術製)フ
ィルム幅方向に対し2000ű20%であった。
Beam power 7.5kV-650mA Line speed 1.0m / min ・ Silicon oxide thin film (1000Å) Vapor deposition material SiO (Osaka Titanium 3N) Vacuum degree 5.0 × 10 -6 (Torr) Vapor deposition speed 70 (Å / S) ~ Aluminum oxide Similar measurement method Beam power 6kV-50mA Line speed 3 (m / min) Cooling roll temperature at this time is -10 ° C, or aluminum oxide thin film and silicon oxide thin film are formed continuously by one exhaust. , Stack. The film thickness was measured by a stylus method (Dektak II, manufactured by Nippon Vacuum Technology Co., Ltd.) and was 2000Å ± 20% in the width direction of the film.

ここで得られたフィルムの酸素バリアー性、水蒸気バ
リアー性を測定したところ、それぞれ、2.0(cc/m2・da
y・atm)in25℃、100%RH、1.8(g/m2・day)であり、
バリアー性が良好であった。また、透明性を評価するた
めに700〜400(nm)波長の透過率を測定したところ700
〜550nmでは80%以上の透明性が認められた。
When the oxygen barrier property and water vapor barrier property of the film obtained here were measured, they were respectively 2.0 (cc / m 2 · da
y ・ atm) in25 ℃, 100% RH, 1.8 (g / m 2・ day)
The barrier property was good. Moreover, the transmittance of 700 to 400 (nm) wavelength was measured to evaluate the transparency.
At ~ 550 nm, 80% or more transparency was observed.

<実施例−2> 実施例1で得られた蒸着フィルムの蒸着面に下記に示
す二液硬化型ウレタン型ハイレトルトタイプ接着剤を塗
工し、未延伸ポリプロピレン60μ(ショーアロマAT、昭
和電工製)をラミネートすることで、複合フィルムを得
た。
<Example-2> The following two-component curing type urethane high retort type adhesive was applied to the vapor deposition surface of the vapor deposition film obtained in Example 1, and unstretched polypropylene 60μ (Showaroma AT, Showa Denko ) Was laminated to obtain a composite film.

同様に酸素バリアー、水蒸気バリアーを測定したとこ
ろいずれも1.0以下であった(単位は上述と同じ) ・接着剤 主剤 AD 81OA(東洋モートン製) 硬化剤 AD 81OB( 〃 ) 希釈剤 NC−401(東洋インキ製造業) AD81OA/AD81OB/NC−401=100/10/81.7(T.N.V=30%) ・塗布量 3.5g/m2 また、ラミネート強度を測定したところ、(テンシロ
ンUTM−III−100、TOTOBALDWIN製)流れ方向、幅方向そ
れぞれ、基材であるポリエチレンテレフタレートフィル
ムが切断してしまった。実施例−2で得られた複合フィ
ルムを以下の条件でレトルト殺菌処理を行った。
Similarly, when the oxygen barrier and water vapor barrier were measured, both were 1.0 or less (the unit is the same as above) -Adhesive base agent AD 81OA (manufactured by Toyo Morton) Curing agent AD 81OB (〃) Diluent NC-401 (Toyo Ink manufacturing industry) AD81OA / AD81OB / NC-401 = 100/10 / 81.7 (TNV = 30%) ・ Coating amount 3.5g / m 2 Also, when the laminate strength was measured, (Tensilon UTM-III-100, manufactured by TOTOBALDWIN ) The polyethylene terephthalate film as the base material was cut in both the flow direction and the width direction. The composite film obtained in Example-2 was subjected to retort sterilization treatment under the following conditions.

(レトルト条件) 〜回収式一段冷却(RCS−40RTGN、日阪製作所製) ・サンプル 180×180mm(内寸170×170mm) ・内容物 水200cc、4%酢酸溶液200cc ・熱水温度 125℃ ・圧力 2.1kg/cm2 ・時間 20min ここでレトルト処理された複合フィルムの酸素バリア
ー性、水蒸気バリアー性を測定したところ、表−1に示
す結果であった。
(Retort conditions) -Recovery type first-stage cooling (RCS-40RTGN, manufactured by Hisaka Seisakusho) -Sample 180 x 180 mm (internal dimension 170 x 170 mm) -Content water 200cc, 4% acetic acid solution 200cc-Hot water temperature 125 ° C-Pressure 2.1 kg / cm 2 · time 20 min Here, the oxygen barrier properties and water vapor barrier properties of the retorted composite film were measured, and the results are shown in Table 1.

<実施例−4> 酸化珪素薄膜及び酸化アルミニウム薄膜のそれぞれの
蒸着膜厚を500ű20%にするために、ラインスピード
を変えた以外は実施例−1と同様にして複合フィルムを
得た。この複合フィルムを実施例2と同様にヒートシー
ル層を設け、実施例3と同様レトルト処理を行った。そ
の結果は表−1に示す。
<Example-4> A composite film was obtained in the same manner as in Example-1 except that the line speed was changed so that the vapor deposition film thickness of each of the silicon oxide thin film and the aluminum oxide thin film was 500Å ± 20%. This composite film was provided with a heat seal layer as in Example 2, and was subjected to retort treatment as in Example 3. The results are shown in Table 1.

<実施例−5> 実施例−1の構成の酸化珪素薄膜上、再度、酸化アル
ミニウム薄膜を約1000Åの膜厚で連続的に順次積層し
た。このときの蒸着条件は、実施例−1の酸化アルミニ
ウム薄膜形成時と同様で、しかも、酸化珪素薄膜及び2
層の酸化アルミニウム薄膜は、同一排気時に設けた。こ
れ以外は全て、実施例−1と同様にして複合フィルムを
得た。
<Example-5> On the silicon oxide thin film having the structure of Example-1, again, an aluminum oxide thin film was continuously and successively laminated in a thickness of about 1000Å. The vapor deposition conditions at this time were the same as those for forming the aluminum oxide thin film of Example-1, and moreover, the silicon oxide thin film and 2
The aluminum oxide thin film of the layer was provided at the same evacuation. A composite film was obtained in the same manner as in Example 1 except for this.

この複合フィルムを実施例2と同様にしてヒートシー
ル層を設け、実施例3と同様のレトルト処理を行った。
その結果は表−1に示す。
This composite film was provided with a heat seal layer in the same manner as in Example 2, and the same retort treatment as in Example 3 was performed.
The results are shown in Table 1.

<比較例−1> 実施例−1の構成において、酸化アルミニウム薄膜を
介さなかった以外全て、実施例−1と同様にして複合フ
ィルムを得た。
<Comparative Example-1> A composite film was obtained in the same manner as in Example-1, except that the aluminum oxide thin film was not interposed in the configuration of Example-1.

この複合フィルムと実施例2と同様にしてヒートシー
ル層を設け、実施例3と同様のレトルト処理を行った。
その結果は表−1に示す。
A heat seal layer was provided in the same manner as in Example 2 and this composite film, and the same retort treatment as in Example 3 was performed.
The results are shown in Table 1.

<効果> 透明性を有するプラスチックフィルムからなる基材上
に300〜3000Åの酸化アルミニウム薄膜層、酸化珪素薄
膜層を、あるいは、更に該酸化珪素薄膜層上に300〜300
0Åの酸化アルミニウム薄膜層を順次積層することで従
来の酸化珪素蒸着フィルムと同等、それ以上の酸素、水
蒸気バリアー性を有し、かつ、透明性の優れた複合フィ
ルムを得られたことはもちろん、レトルト殺菌処理後に
おけるバリアー性、密着性の劣化が極めて少ない有用な
透明バリアー複合フィルムとし、従来のアルミニウム箔
を用いた材料と同等の性質を有し、しかも透明であるの
で内容物が見える包装材料である。
<Effect> An aluminum oxide thin film layer of 300 to 3000 Å or a silicon oxide thin film layer is formed on a substrate made of a transparent plastic film, or 300 to 300 is further formed on the silicon oxide thin film layer.
By sequentially laminating 0 Å aluminum oxide thin film layers, it is possible to obtain a composite film having oxygen and water vapor barrier properties equivalent to or better than the conventional silicon oxide vapor deposition film, and having excellent transparency, A useful transparent barrier composite film with extremely little deterioration in barrier properties and adhesion after retort sterilization treatment, with the same properties as materials using conventional aluminum foil, and because it is transparent, a packaging material whose contents can be seen. Is.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−61252(JP,A) 特開 昭62−103139(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── --Continued from front page (56) References JP-A-60-61252 (JP, A) JP-A-62-103139 (JP, A)

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】透明なプラスチックフィルムからなる基材
の表面に酸化アルミニウム薄膜を介して、酸化珪素薄膜
を設けたことを特徴とするレトルト耐性を有する透明バ
リアー複合フィルム。
1. A transparent barrier composite film having retort resistance, characterized in that a silicon oxide thin film is provided on the surface of a substrate made of a transparent plastic film via an aluminum oxide thin film.
【請求項2】請求項(1)の複合フィルム外層である酸
化珪素薄膜上に、更に一層酸化アルミニウム薄膜を設け
たことを特徴とするレトルト耐性を有する透明バリアー
複合フィルム。
2. A transparent barrier composite film having retort resistance, further comprising an aluminum oxide thin film further formed on the silicon oxide thin film which is the outer layer of the composite film according to claim 1.
【請求項3】請求項(1)の酸化珪素薄膜上に接着剤層
を介して、ヒートシール性を有する樹脂からなるヒート
シール層を設けたことを特徴とするレトルト耐性を有す
る透明バリアー複合フィルム。
3. A transparent barrier composite film having retort resistance, comprising a heat seal layer made of a resin having heat sealability provided on the silicon oxide thin film according to claim 1 through an adhesive layer. .
【請求項4】請求項(2)の酸化アルミニウム薄膜上に
接着剤層を介して、ヒートシール性を有する樹脂からな
るヒートシール層を設けたことを特徴とするレトルト耐
性を有する透明バリアー複合フィルム。
4. A transparent barrier composite film having retort resistance, characterized in that a heat seal layer made of a resin having heat sealability is provided on the aluminum oxide thin film of claim (2) via an adhesive layer. .
JP1429689A 1989-01-24 1989-01-24 Transparent barrier composite film with retort resistance Expired - Lifetime JP2682101B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1429689A JP2682101B2 (en) 1989-01-24 1989-01-24 Transparent barrier composite film with retort resistance

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1429689A JP2682101B2 (en) 1989-01-24 1989-01-24 Transparent barrier composite film with retort resistance

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02194944A JPH02194944A (en) 1990-08-01
JP2682101B2 true JP2682101B2 (en) 1997-11-26

Family

ID=11857133

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1429689A Expired - Lifetime JP2682101B2 (en) 1989-01-24 1989-01-24 Transparent barrier composite film with retort resistance

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2682101B2 (en)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2044053C (en) * 1990-06-08 2001-11-27 Roger W. Phillips Barrier film having high colorless transparency and method
DE69231344T2 (en) * 1991-12-26 2001-03-29 Toyo Boseki K.K., Osaka Gas barrier film
EP0624460B1 (en) * 1991-12-28 1998-09-02 Toppan Printing Co., Ltd. Laminated wrapping material
JP4522506B2 (en) * 1999-02-16 2010-08-11 大日本印刷株式会社 Laminated material and packaging container using the same
JP2002028999A (en) * 2000-05-11 2002-01-29 Mitsui Chemicals Inc Gas barrier film laminate
JP4649789B2 (en) * 2001-07-18 2011-03-16 凸版印刷株式会社 Barrier laminate
KR100727716B1 (en) * 2006-02-02 2007-06-13 엘에스전선 주식회사 Flexible metal laminate and its manufacturing method
JP4544287B2 (en) * 2007-03-08 2010-09-15 エプソンイメージングデバイス株式会社 Electro-optical device and electronic apparatus
US9389445B2 (en) 2007-03-08 2016-07-12 Japan Display Inc. Electro-optic device and electronic apparatus
JP2008284869A (en) * 2007-05-15 2008-11-27 Ls Cable Ltd Flexible metal laminated plate having high visible ray transmittance
JP5073378B2 (en) * 2007-06-26 2012-11-14 大日本印刷株式会社 Production method of transparent barrier polypropylene film
JP2013028018A (en) * 2011-07-27 2013-02-07 Daicel Corp Gas barrier film and device

Also Published As

Publication number Publication date
JPH02194944A (en) 1990-08-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA2453596C (en) Vapor-deposited film
JP2682101B2 (en) Transparent barrier composite film with retort resistance
JP2019111822A (en) Transparent vapor-deposited film
JPH0414440A (en) Laminated film
JP4253780B2 (en) Gas barrier film
JP4260907B2 (en) Film laminate
JP3589331B2 (en) Electrode substrate
JP4389519B2 (en) Method for producing gas barrier film
JP3489844B2 (en) Transparent conductive film and method for producing the same
JP2889576B2 (en) Packaging material made of transparent composite film
JP3654841B2 (en) Transparent conductive film and method for producing the same
JP3123371B2 (en) Barrier laminate
JP2550988B2 (en) Laminated film for transparent gas barrier packaging
JPH08269690A (en) Coating layer forming film and coating film
JP4736869B2 (en) Polypropylene film
JP3331670B2 (en) Transparent conductive film
JPH1170611A (en) Transparent gas barrier film
JPH07257595A (en) Gas-barrier packaging bag
JP2009228015A (en) Method and apparatus for manufacturing laminate and gas barrier-film
JPS61279004A (en) Conducting laminate body
JPH11116702A (en) Polyethylene terephthalate film for vapor deposition
JPH01152054A (en) Transparent gas-barrier film
JPH08142251A (en) Transparent gas barrier film
JPH01297237A (en) Vapor deposition film
JPH0759748B2 (en) Method for manufacturing composite film

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 10

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070808

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080808

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 11

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080808

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 12

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090808

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 12

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090808