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JP2680170B2 - Heating device for die bonding of semiconductor chips - Google Patents

Heating device for die bonding of semiconductor chips

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Publication number
JP2680170B2
JP2680170B2 JP19456690A JP19456690A JP2680170B2 JP 2680170 B2 JP2680170 B2 JP 2680170B2 JP 19456690 A JP19456690 A JP 19456690A JP 19456690 A JP19456690 A JP 19456690A JP 2680170 B2 JP2680170 B2 JP 2680170B2
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JP
Japan
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lead frame
longitudinal direction
endless chains
lead
supporting member
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和則 富士
英史 永田
信之 中村
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Rohm Co Ltd
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Rohm Co Ltd
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Publication date
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  • Die Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電子部品における半導体チップを、適宜長
さの短冊状に形成したリードフレームにおける所定箇所
に、導電性ペーストを使用してダイボンディングする場
合、前記半導体チップを導電性ペーストにて接着した後
において、前記導電性ペーストを乾燥・硬化するための
加熱装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of application] The present invention relates to die bonding using a conductive paste at a predetermined position on a lead frame in which a semiconductor chip in an electronic component is formed in a strip shape of an appropriate length. In this case, the present invention relates to a heating device for drying and curing the conductive paste after the semiconductor chip is bonded with the conductive paste.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、この種の加熱装置は、例えば特開昭58−34933
号公報等に記載されているように、半導体チップを導電
性ペーストにて接着したリードフレームを、当該リード
フレームの長手方向に一定の速度で連続して搬送する経
路に、加熱ブロックを、前記リードフレームの搬送方向
に沿って延びるように配設して、前記リードフレーム
を、この加熱ブロックに接触した状態で連続して搬送す
ることによって、前記導電性ペーストの乾燥・硬化を連
続的に行うように構成している。
Conventionally, this type of heating device is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 58-34933.
As described in Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai), a lead frame to which a semiconductor chip is bonded with a conductive paste is continuously conveyed in the longitudinal direction of the lead frame at a constant speed, and a heating block is attached to the lead block. The lead frame is arranged so as to extend along the conveying direction, and the lead frame is continuously conveyed while being in contact with the heating block, so that the conductive paste is continuously dried and cured. Is configured.

この場合、前記導電性ペーストを乾燥・硬化するに際
しての加熱温度を高くすると、乾燥・硬化するに要する
時間は短くなるが、加熱温度が高いと、導電性ペースト
に気泡が発生したり、導電性ペーストが脆くなったりし
て、当該導電性ペーストによる接着強度が低下し、不良
品の発生率が高くなる。
In this case, if the heating temperature at the time of drying / curing the conductive paste is increased, the time required for drying / curing is shortened, but if the heating temperature is high, bubbles are generated in the conductive paste or When the paste becomes brittle, the adhesive strength of the conductive paste is reduced, and the rate of defective products increases.

そこで、前記従来の加熱装置では、加熱ブロックにお
ける加熱温度を、導電性ペーストによる接着強度の低下
を招来することがないように、低い温度に設定しなけれ
ばならず、加熱ブロックにおけるリードフレームの搬送
方向に沿っての長さが長くなるから、加熱装置の著しい
大型化を招来するのである。
Therefore, in the conventional heating device, the heating temperature in the heating block must be set to a low temperature so as not to cause a decrease in the adhesive strength due to the conductive paste. Since the length along the direction becomes long, the heating device becomes significantly large.

しかも、前記従来の加熱装置は、長手方向に連続して
搬送中のリードフレームを、加熱ブロックに対して接触
することによって、当該リードフレームを加熱するもの
で、このリードフレームは、前記加熱ブロックに対して
常時接触した状態で連続して搬送されることにより、当
該リードフレームに対して塗着の導電性ペーストは、そ
の乾燥・硬化中において、リードフレームと加熱ブロッ
クとの接触摺動によって発生する微細な振動を、間断な
く連続して受けることになるから、当該導電性ペースト
による接着強度が、大幅に低下すると共に、半導体チッ
プの取付け装置にずれが発生して、半導体チップの取付
け位置の精度が低下すると言う問題もあった。
Moreover, the conventional heating device heats the lead frame by continuously contacting the lead frame, which is being conveyed in the longitudinal direction, with the heating block. The conductive paste applied to the lead frame is continuously conveyed while being in constant contact with the lead frame, and the conductive paste is generated by contact sliding between the lead frame and the heating block during drying and curing of the conductive paste. Since minute vibrations are continuously received without interruption, the adhesive strength of the conductive paste is significantly reduced, and the semiconductor chip mounting device is misaligned, resulting in the accuracy of the semiconductor chip mounting position. There was also a problem that it would decrease.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

本発明の技術的課題は、従来の加熱装置が有する前記
の問題、つまり、加熱装置が大型化すること、及び導電
性ペーストの接着強度が低下すること及び半導体チップ
の取付け位置の精度が低下するのを解消することにあ
る。
A technical problem of the present invention is that the above-mentioned problems of the conventional heating device, that is, the heating device becomes large, the adhesive strength of the conductive paste is reduced, and the accuracy of the mounting position of the semiconductor chip is reduced. To eliminate the problem.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

この技術的課題を達成するために本発明は、左右一対
の無端チエンの間に、当該両無端チエンの長手方向と直
角方向に延びる複数本のリードフレーム支持部材を、両
無端チエンの長手方向に沿って適宜間隔で装架し、前記
両無端チエンに、当該両無端チエンを前記リードフレー
ム支持部材の間隔で間欠的に搬送するようにした間欠送
り機構を設ける一方、前記両無端チエンの一端部に、上
面に半導体チップを導電性ペーストにして接着して成る
リードフレームを、前記各リードフレーム支持部材の上
面に対して、当該リードフレームの長手方向がリードー
フレーム支持部材の長手方向と平行の状態で、且つ、当
該リードフレームにおける半導体チップ取付け部がリー
ドフレーム支持部材の長手方向の一側縁から突出する状
態にして送り込むようにした送り込み機構を設け、更
に、前記両無端チエンの他端部に、前記リードフレーム
支持部材の上面におけるリードフレームを、当該リード
フレームの長手方向に送り出すようにした送り出し機構
を設け、且つ、前記各リードフレーム支持部材の間の部
位に、複数個の上下動式加熱ブロックを、当該加熱ブロ
ックが上昇したとき前記リードフレーム支持部材の上面
におけるリードフレームの下面に接当するように配設す
る構成にした。
In order to achieve this technical problem, according to the present invention, between a pair of left and right endless chains, a plurality of lead frame support members extending in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the endless chains are provided in the longitudinal direction of the endless chains. The both endless chains are mounted at appropriate intervals along the space, and an intermittent feeding mechanism for intermittently conveying the both endless chains at the intervals of the lead frame support member is provided, while one end of the both endless chains is provided. A lead frame formed by bonding a semiconductor chip to a top surface of the lead frame supporting member by using a conductive paste as an adhesive and the longitudinal direction of the lead frame is parallel to the longitudinal direction of the lead frame supporting member. In this state, the semiconductor chip mounting portion of the lead frame is fed so as to project from one side edge of the lead frame supporting member in the longitudinal direction. And a feed mechanism for feeding the lead frame on the upper surface of the lead frame supporting member in the longitudinal direction of the lead frame at the other end of the both endless chains, and A structure in which a plurality of vertically movable heating blocks are arranged so as to come into contact with the lower surface of the lead frame on the upper surface of the lead frame supporting member when the heating blocks are raised between the lead frame supporting members. I chose

〔発明の作用・効果〕[Functions and effects of the invention]

この構成において、両無端チエンの間に装架した各リ
ードフレーム支持部材における間欠的な搬送が停止して
いるとき、各リードフレーム支持部材の上面には、両無
端チエンの一端部において、上面に半導体チップを導電
性ペーストにて接着して成るリードフレームが、送り込
み機構によって順次送り込まれる。
In this configuration, when the intermittent conveyance in each lead frame supporting member mounted between both endless chains is stopped, the upper surface of each lead frame supporting member is attached to the upper surface at one end of each endless chain. The lead frame formed by bonding the semiconductor chips with the conductive paste is sequentially fed by the feeding mechanism.

このようにして、リードフレームが送り込まれたリー
ドフレーム支持部材は、両無端チエンの他端部に向かっ
て間欠的に搬送される途中において、その間欠的な搬送
が停止しているとき、加熱ブロックが上昇して当該リー
ドフレーム支持部材に支持されているリードフレームの
下面に接当することにより、リードフレームを加熱する
のであり、この加熱を複数の加熱ブロック箇所において
繰り返すことにより、導電性ペーストを、乾燥・硬化す
るのであり、この導電性ペーストの乾燥・硬化が完了す
ると、リードフレームは、両無端チエンの他端部の箇所
において、送り出し機構により、当該リードフレームの
長手方向にリードフレーム支持部材から送り出されるの
である。
In this way, the lead frame support member into which the lead frame has been fed is intermittently conveyed toward the other end of both endless chains, and when the intermittent conveyance is stopped, the heating block Rises to contact the lower surface of the lead frame supported by the lead frame supporting member to heat the lead frame. By repeating this heating at a plurality of heating block locations, the conductive paste is removed. When the conductive paste is completely dried and hardened, the lead frame is moved at the other end portions of the two endless chains by the feeding mechanism in the longitudinal direction of the lead frame supporting member. Is sent from.

すなわち、本発明は、リードフレームを、前記従来の
ように、当該リードフレームの長手方向に沿って連結し
て搬送する途中において、このリードフレームに対して
加熱ブロックを接触することによって、導電性ペースト
の乾燥・硬化を行うのではなく、リードフレームを、両
無端チエンの間に装架したリードフレーム支持部材によ
って、当該リードフレームの長手方向と直角の方向に間
欠的に搬送し、この間欠的な搬送が停止しているときに
おいて、このリードフレームの下面に、上下動式の加熱
ブロックを接触することによって、導電性ペーストの乾
燥・硬化を行うもので、リードフレームの搬送方向に沿
っての長さが、前記従来のように長大になることを回避
できるから、加熱装置を大幅に小型化できると言う効果
を有する。
That is, according to the present invention, as in the conventional case, the lead frame is connected along the longitudinal direction of the lead frame and is conveyed, and the heating block is brought into contact with the lead frame to thereby form the conductive paste. Instead of drying and curing the lead frame, the lead frame is intermittently conveyed in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the lead frame by the lead frame support member mounted between the two endless chains. When the transport is stopped, the conductive paste is dried and hardened by contacting the vertical heating block with the lower surface of the lead frame. However, it is possible to prevent the heating device from becoming large as in the conventional case, and thus it is possible to significantly reduce the size of the heating device.

しかも、本発明は、前記のように、リードフレーム
を、両無端チエンの間に装架したリードフレーム支持部
材によって、当該リードフレームの長手方向と直角の方
向に間欠的に搬送し、この間欠的な搬送が停止している
ときにおいて、このリードフレームの下面に、上下動式
の加熱ブロックを接触して、導電性ペーストの乾燥・硬
化を行うことにより、導電性ペーストの乾燥・硬化中に
おいて、リードフレームに対して付与する振動を、前記
従来の場合よりも大幅に低減することができるから、導
電性ペーストにおける接着強度が低下すること、及び半
導体チップの取付け位置がずれることを確実に防止でき
る効果をも有する。
Moreover, according to the present invention, as described above, the lead frame is intermittently conveyed in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the lead frame by the lead frame support member mounted between the endless chains, and this intermittent When transporting is stopped, the lower surface of this lead frame is brought into contact with a vertically moving heating block to dry and cure the conductive paste, so that during the drying and curing of the conductive paste, Since the vibration applied to the lead frame can be significantly reduced as compared with the conventional case, it is possible to surely prevent the adhesive strength of the conductive paste from being lowered and the mounting position of the semiconductor chip from being displaced. It also has an effect.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例を図面について説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図において符号1及び2は、左右一対の機枠フレーム
を、符号3及び4は、左右一対の向端チエンを各々示
し、該両無端チエン3,4は、前記両機枠フレーム1,2の間
に装着した四つのスプロケット5,6,7,8に対して巻掛け
されている。
In the figure, reference numerals 1 and 2 denote a pair of left and right machine frame frames, and reference numerals 3 and 4 denote a pair of left and right end chains, and both endless chains 3 and 4 are between the two machine frame frames 1 and 2. It is wound around four sprockets 5, 6, 7, 8 attached to the.

符号9は、前記両無端チエン3,4の長手方向と直角方
向に延びるリードフレーム支持部材を示し、該リードフ
レーム支持部材9の複数本を、前記両無端チエン3,4の
間に、当該両無端チエン3,4の長手方向に沿って適宜間
隔で装架する一方、前記両向端チエン3,4を、図示しな
いステップモータ等の間欠送り機構にて、前記リードフ
レーム支持部材9の間隔で間欠的に搬送するように構成
する。
Reference numeral 9 indicates a lead frame supporting member extending in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the both endless chains 3 and 4, and a plurality of lead frame supporting members 9 are provided between the endless chains 3 and 4. While mounting the endless chains 3 and 4 at appropriate intervals along the longitudinal direction, the bidirectional ends 3 and 4 are mounted at intervals of the lead frame support member 9 by an intermittent feeding mechanism such as a step motor (not shown). It is configured to be intermittently transported.

この間欠的な搬送に際しては、リードフレーム支持部
材9の搬送を適宜時間の間(例えば約30秒間)だけ停止
したのち当該リードフレーム支持部材9の間隔だけ搬送
するように構成する。
In this intermittent conveyance, the conveyance of the lead frame supporting member 9 is stopped for an appropriate time (for example, about 30 seconds), and then the lead frame supporting member 9 is conveyed by the interval.

また、前記各リードフレーム支持部材9の両端に設け
たコロ10,11を、前記両機枠フレーム1,2の内側面に固着
したガイドレール12,13に対して、摺動自在に嵌まり係
合することによって、各リードフレーム支持部材9を、
前記両ガイドレール12,13によって、水平の状態で搬送
するようにガイドする。
Further, the rollers 10 and 11 provided at both ends of the lead frame support member 9 are slidably engaged with the guide rails 12 and 13 fixed to the inner side surfaces of the machine frame frames 1 and 2, respectively. By doing so, each lead frame support member 9
The guide rails 12 and 13 guide each other so that they are conveyed in a horizontal state.

前記各リードフレーム支持部材9における断面を、略
L型に形成して、この上面に、リードフレームAを、当
該リードフレームAの長手方向がリードフレーム支持部
材9の長手方向と平行の状態にして載置したとき、当該
リードフレームAにおける半導体チップと取付け部A1
が、前記リードフレーム支持部材9における長手方向の
一側縁から突出するように構成する一方、前記各リード
フレーム支持部材9には、金属板製の押え部材14を、上
下動自在に設けて(但し、符号15は、この押え部材14の
上下動に対するガイドピンである)、この押え部材14
を、ばね16にて下向きに付勢することにより、この押え
部材14にて、前記リードフレームAを、前記リードフレ
ーム支持部材9の上面に対して押圧するように、換言す
ると、リードフレームAを、リードフレーム支持部材9
と押え部材14とによって挟み付けるように構成する。
The cross section of each lead frame supporting member 9 is formed in a substantially L shape, and the lead frame A is placed on the upper surface of the lead frame supporting member 9 such that the longitudinal direction of the lead frame A is parallel to the longitudinal direction of the lead frame supporting member 9. When mounted, the semiconductor chip in the lead frame A and the mounting portion A1
Is configured so as to project from one side edge in the longitudinal direction of the lead frame supporting member 9, while a pressing member 14 made of a metal plate is provided on each lead frame supporting member 9 so as to be vertically movable ( However, reference numeral 15 is a guide pin for the vertical movement of the pressing member 14), and the pressing member 14
Is urged downward by the spring 16 so that the lead frame A is pressed by the pressing member 14 against the upper surface of the lead frame support member 9, in other words, the lead frame A is pressed. , Lead frame support member 9
It is configured to be sandwiched between and by the pressing member 14.

符号17は、前記両無端チエン3,4における一端部に配
設した送り込み機構を示し、該送り込み機構17は、図示
しないダイボンディング工程において、予め各半導体チ
ップ取付け部A1に半導体チップを導電性ペーストにて接
着して成るリードフレームAを、第1図に矢印Bで示す
ように、前記リードフレーム支持部材9に対して送り込
むもので、このリードフレームAの送り込みに際して
は、両機枠フレーム1,2の間に配設した押上げ部材18を
空気圧シリンダ19にて上昇し、この押上げ部材18にてリ
ードフレーム支持部材9における押え部材14、そのばね
16に抗して押し上げた状態にし、この状態で、リードフ
レーム支持部材9の上面にリードフレームAを送り込ん
だのち、前記押上げ部材18を下降することによって、リ
ードフレームAを、リードフレーム支持部材9と押え部
材14とで挟み付けるようにする。
Reference numeral 17 indicates a feeding mechanism arranged at one end of each of the endless chains 3 and 4, and the feeding mechanism 17 makes a semiconductor chip conductive to each semiconductor chip mounting portion A 1 in advance in a die bonding process (not shown). A lead frame A formed by adhering with a paste is sent to the lead frame supporting member 9 as shown by an arrow B in FIG. 1. When the lead frame A is sent, both machine frame frames 1, The push-up member 18 disposed between the two is raised by the pneumatic cylinder 19, and the push-up member 18 holds the push-up member 14 in the lead frame support member 9 and its spring.
The lead frame A is pushed up against 16 and, in this state, the lead frame A is fed to the upper surface of the lead frame support member 9, and then the push-up member 18 is lowered to move the lead frame A to the lead frame support member. 9 and the pressing member 14 so that they are sandwiched.

また、符号20は、前記無端チエン3,4における他端部
に配設した送り出し機構を示し、該送り出し機構20は、
前記リードフレーム支持部材9の上面におけるリードフ
レームAを、第1図に矢印Cで示すように、リードフレ
ーム支持部材9から当該リードフレーム支持部材9の長
手方向に送り出すもので、このリードフレームAの送り
出しに際しては、両機枠フレーム1,2の間に配設した押
上げ部材21を空気圧シリンダ22にて上昇し、この押上げ
部材21にてリードフレーム支持部材9における押え部材
14を、そのばね16に抗して押し上げることによって、リ
ードフレームAの挟み付けを解除した状態で行うように
構成する。
Further, reference numeral 20 indicates a delivery mechanism arranged at the other end of the endless chains 3, 4, and the delivery mechanism 20 is
The lead frame A on the upper surface of the lead frame supporting member 9 is sent out from the lead frame supporting member 9 in the longitudinal direction of the lead frame supporting member 9 as shown by an arrow C in FIG. At the time of feeding, the push-up member 21 disposed between the machine frame frames 1 and 2 is raised by the pneumatic cylinder 22, and the push-up member 21 holds the lead frame support member 9 in place.
14 is pushed up against its spring 16 so that the lead frame A is released from the pinched state.

符号23は、加熱温度を例えば140℃に設定した第1加
熱ブロックを、符号24は、加熱温度を前記第1加熱ブロ
ック23よりも高い例えば170℃に設定した第2加熱ブロ
ックを、そして、符号25は、加熱温度を前記第2加熱ブ
ロック24よりも更に高い例えば190℃に設定した第3加
熱ブロックを各々示し、これら各加熱ブロック23,24,25
を、ガイド部材26,27にて上下動自在にガイドされた昇
降台28に取付けて、この昇降台28を、前記各リードフレ
ーム支持部材9の間欠的な搬送が停止しているときにお
いて空気圧シリンダ29にて上昇動することにより、前記
各加熱ブロック23,24,25の上面を、前記リードフレーム
Aの下面に対して接当するように構成する。
Reference numeral 23 is a first heating block whose heating temperature is set to, for example, 140 ° C., reference numeral 24 is a second heating block whose heating temperature is set to, for example, 170 ° C. which is higher than that of the first heating block 23, and reference numeral Reference numeral 25 denotes a third heating block whose heating temperature is set to, for example, 190 ° C. higher than that of the second heating block 24, and these heating blocks 23, 24, 25
Is attached to an elevating table 28 guided vertically by guide members 26, 27, and the elevating table 28 is pneumatic cylinder when the intermittent transfer of each lead frame supporting member 9 is stopped. By ascending at 29, the upper surfaces of the heating blocks 23, 24, 25 are brought into contact with the lower surface of the lead frame A.

この構成において、両無端チエン3,4の間に装架した
各リードフレーム支持部材9における間欠的な搬送が停
止しているとき、各リードフレーム支持部材9の上面に
は、両無端チエン3,4の一端部において、上面に半導体
チップを導電性ペーストにて接着して成るリードフレー
ムAが、送り込み機構17によって順次送り込まれる。
In this configuration, when the intermittent conveyance in each lead frame support member 9 mounted between both endless chains 3 and 4 is stopped, the upper surface of each lead frame support member 9 has two endless chains 3 and 4, respectively. At one end of the lead frame 4, a lead frame A formed by bonding a semiconductor chip to the upper surface with a conductive paste is sequentially fed by a feeding mechanism 17.

このようにして、リードフレームAが送り込まれたリ
ードフレーム支持部材Aは、両無端チエン3,4の他端部
に向かって間欠的に搬送される途中において、その間欠
的な搬送が停止しているとき、各加熱ブロック23,24,25
が上昇して当該リードフレーム支持部材9に支持されて
いるリードフレームAの下面に当接することにより、リ
ードフレームAを加熱するのであり、この加熱を複数の
加熱ブロック23,24,25の箇所において繰り返すことによ
り、導電性ペーストを、乾燥・硬化するのであり、この
導電性ペーストの乾燥・硬化が完了するとリードフレー
ムAは、両無端チエン3,4の他端部の箇所において、送
り出し機構20により、当該リードフレームAの長手方向
にリードフレーム支持部材9から、次の工程であるワイ
ヤーボンディング工程に送り出されるのである。
In this way, the lead frame support member A into which the lead frame A has been fed is intermittently conveyed toward the other end of both endless chains 3 and 4, and the intermittent conveyance is stopped. Each heating block 23,24,25
Rises to come into contact with the lower surface of the lead frame A supported by the lead frame support member 9 to heat the lead frame A. This heating is performed at a plurality of heating blocks 23, 24, 25. By repeating this, the conductive paste is dried and cured. When the conductive paste is completely dried and cured, the lead frame A is moved by the delivery mechanism 20 at the other end of both endless chains 3, 4. The lead frame A is sent out in the longitudinal direction of the lead frame A from the lead frame supporting member 9 to the next wire bonding step.

なお、前記両機枠フレーム1,2間の上方には、各リー
ドフレーム支持部材9を覆うようにしたカバー30を設
け、このカバー30内に窒素ガス等の不活性ガスを入口31
より導入したのち出口32より排出することにより、前記
各加熱ブロック23,24,25によるリードフレームAの加熱
に際して、リードフレームAが酸化変色することを防止
するのであるが、この場合において、前記カバー30内
に、その内部を上下に仕切る仕切板33を設けて、その上
部室30a内に窒素ガス等の不活性ガスを入口31より導入
したのち、下部室30bにおける出口から排出するように
構成するのである。
A cover 30 is provided above the machine frame frames 1 and 2 so as to cover the lead frame support members 9, and an inert gas such as nitrogen gas is introduced into the cover 30.
When the lead frame A is heated by the heating blocks 23, 24 and 25 and then discharged through the outlet 32, the lead frame A is prevented from being discolored due to oxidation. A partition plate 33 for partitioning the inside into an upper part and a lower part is provided inside 30, and an inert gas such as nitrogen gas is introduced into the upper chamber 30a from the inlet 31 and then discharged from the outlet in the lower chamber 30b. Of.

このように構成すると、入口31より流入する温度の低
い不活性ガスは、上部室30a内を流れるときにおいて温
度が上昇するから、入口31より流入する温度の低い不活
性ガスが、リードフレームAに対して直接的に接触する
こと、つまり、前記入口31より流入する温度の低い不活
性ガスによって、加熱中のリードフレームAを冷却する
ことを確実に回避できるのである。
With this structure, the temperature of the low temperature inert gas flowing from the inlet 31 rises when flowing through the upper chamber 30a, so that the temperature of the low temperature inert gas flowing into the inlet 31 enters the lead frame A. It is possible to reliably avoid direct contact with each other, that is, cooling of the lead frame A being heated by the inert gas having a low temperature flowing from the inlet 31.

また、この加熱装置において、導電性ペーストを乾燥
・硬化した後のリードフレームAを、次の工程であるワ
イヤーボンディング工程に供給するように構成した場合
には、ワイヤーボンディング工程にトラブルが発生する
こと、これに応じてその都度、前記加熱装置の運転を停
止しなければならず、加熱装置の運転を停止すると、リ
ードフレームAが長時間にわたって加熱されることによ
り、導出性ペーストの変質及びリードフレームAの変色
が発生する等の不具合を招来することになる。
Further, in this heating device, when the lead frame A after the conductive paste is dried and cured is supplied to the wire bonding step which is the next step, a trouble may occur in the wire bonding step. Accordingly, the operation of the heating device must be stopped accordingly, and when the operation of the heating device is stopped, the lead frame A is heated for a long time, which causes deterioration of the derivable paste and the lead frame. This causes a problem such as discoloration of A.

この不具合を回避するには、加熱装置におけるリード
フレームAの送り出し部と、ワイヤーボンディング工程
との間の部位に、加熱装置から順次送り出されてくる複
数枚のリードフレームAを一時的に蓄えるようにしたバ
ッファ装置34を設けるように構成すれば良い。
In order to avoid this inconvenience, it is necessary to temporarily store a plurality of lead frames A sequentially fed from the heating device at a portion between the feeding portion of the lead frame A in the heating device and the wire bonding process. The buffer device 34 described above may be provided.

このバッフア装置34は、機枠フレーム35と、該機枠フ
レーム35に対して左右一対のガイド部材36を介して上下
動自在に装着したブラケット板37とから成り、前記この
ブラケット板37の前面に、前記リードフレームAに対す
る受け棚38を複数段設ける一方、前記機枠フレーム35と
ブラケット板37との間の部位に、パルスモータ(ステッ
プモータ)39にて回転されるねじ軸40を軸支し、該ねじ
軸40の外周面に刻設したねじ溝41に、前記ブラケット板
37の裏面から突出した摺動子44を摺動自在に係合するこ
とにより、前記パルスモータ29の正逆回転にて前記ブラ
ケット板37を上下動するように構成されている。
The buffer device 34 includes a machine frame 35 and a bracket plate 37 mounted on the machine frame 35 so as to be vertically movable via a pair of left and right guide members 36. The bracket plate 37 is provided on the front surface of the bracket plate 37. While a plurality of receiving shelves 38 for the lead frame A are provided, a screw shaft 40 rotated by a pulse motor (step motor) 39 is rotatably supported between the machine frame 35 and the bracket plate 37. The bracket plate is formed in the thread groove 41 formed on the outer peripheral surface of the screw shaft 40.
By slidingly engaging a slider 44 projecting from the back surface of 37, the bracket plate 37 is moved up and down by forward and reverse rotations of the pulse motor 29.

すなわち、前記リードフレーム支持部材9より送り出
し機構20にて送り出されたリードフレームAは、バッフ
ア装置34のブラケット板37の前面における一つの受け棚
38の上面に載置される(この場合、前記ブラケット板37
を、アルミ又は合成樹脂等の非磁性体製にし、その内部
に、永久磁石43に埋設して、この永久磁石43にて前記リ
ードフレームAを受け棚38の上面に保持するように構成
する)。
That is, the lead frame A sent from the lead frame support member 9 by the sending mechanism 20 is one receiving rack on the front surface of the bracket plate 37 of the buffer device 34.
It is placed on the upper surface of 38 (in this case, the bracket plate 37
Is made of a non-magnetic material such as aluminum or synthetic resin, and is embedded in the permanent magnet 43 therein, and the permanent magnet 43 holds the lead frame A on the upper surface of the shelf 38). .

すると、ブラケット板37が、パルスモータ39の正逆回
転にて、上昇又は下降動して、次の受け棚38に、加熱装
置から次に送り出されるリードフレームAを載置するこ
とを繰り返すことにより、バッファ装置34に複数枚のリ
ードフレームAを蓄えることができるのであり、これに
より、ワイヤーボンディング工程にトラブルが発生して
も、その都度、加熱装置の運転を停止することを回避で
きるのである。
Then, the bracket plate 37 moves up or down by the forward and reverse rotations of the pulse motor 39, and the lead frame A sent next from the heating device is placed on the next receiving rack 38 repeatedly. Since the plurality of lead frames A can be stored in the buffer device 34, even if a trouble occurs in the wire bonding process, it is possible to avoid stopping the operation of the heating device each time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

図面は本発明の実施例を示し、第1図は全体の平面図、
第2図は第1図のII−II視拡大断面図、第3図は第1図
のIII−III視断面図、第4図は第2図のIV−IV視拡大断
面図、第5図は第4図のV−V視断面図、第6図は第4
図のIV−IV視断面図、第7図は第6図の平面図、第8図
は第1図のVIII−VIII視拡大断面図、第9図は第8図の
要部拡大図、第10図は第9図のX−X視断面図である。 A……リードフレーム、A1……リードフレームにおける
半導体チップ取付け部、1,2……機枠フレーム、3,4……
無端チエン、5,6,7,8……スプロケット、9……リード
フレーム支持部材、10,11……コロ、12,13……ガイドレ
ール、14……押え部材、17……リードフレームの送り込
み機構、18……押上げ部材、20……リードフレームの送
り出し機構、21……押上げ部材、30……カバー、31……
不活性ガス入口、32……不活性ガス出口、34……バッフ
ア装置、35……機枠フレーム、37……ブラケット板、38
……リードフレームの受け棚、39……パルスモータ、40
……ねじ軸、41……ねじ溝、42……摺動子、43……永久
磁石。
The drawings show an embodiment of the present invention, and FIG. 1 is an overall plan view,
2 is an enlarged sectional view taken along the line II-II of FIG. 1, FIG. 3 is a sectional view taken along the line III-III of FIG. 1, and FIG. 4 is an enlarged sectional view taken along the line IV-IV of FIG. Is a sectional view taken along line V-V in FIG. 4, and FIG.
IV-IV sectional view of the figure, FIG. 7 is a plan view of FIG. 6, FIG. 8 is an enlarged sectional view of FIG. 1 taken along the line VIII-VIII, and FIG. 9 is an enlarged view of essential parts of FIG. FIG. 10 is a sectional view taken along line XX of FIG. The semiconductor chip mounting portion of the A ...... lead frame, A 1 ...... leadframe, 1,2 ...... machine frame frame, 3,4 ......
Endless chain, 5,6,7,8 sprocket, 9 ...... lead frame supporting member, 10,11 ...... roller, 12,13 ...... guide rail, 14 ...... pressing member, 17 ...... lead frame feeding Mechanism, 18 ... Push-up member, 20 ... Lead frame feeding mechanism, 21 ... Push-up member, 30 ... Cover, 31 ...
Inert gas inlet, 32 ... Inert gas outlet, 34 ... Buffer device, 35 ... Machine frame, 37 ... Bracket plate, 38
...... Lead frame holder, 39 ...... Pulse motor, 40
…… Screw shaft, 41 …… Screw groove, 42 …… Slider, 43 …… Permanent magnet.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】左右一対の無端チエンの間に、当該両無端
チエンの長手方向と直角方向に延びる複数本のリードフ
レーム支持部材を、両無端チエンの長手方向に沿って適
宜間隔で装架し、前記両無端チエンに、当該両無端チエ
ンを前記リードフレーム支持部材の間隔で間欠搬送する
ようにした間欠送り機構を設ける一方、前記両無端チエ
ンの一端部に、上面に半導体チップを導電性ペーストに
て接着して成るリードフレームを、前記各リードフレー
ム支持部材の上面に対して、当該リードフレームの長手
方向がリードフレーム支持部材の長手方向と平行の状態
で、且つ、当該リードフレームにおける半導体チップ取
付け部がリードフレーム支持部材の長手方向の一側縁か
ら突出する状態にして送り込むようにした送り込み機構
を設け、更に、前記両無端チエンの他端部に、前記リー
ドフレーム支持部材の上面におけるリードフレームを、
当該リードフレームの長手方向に送り出すようにした送
り出し機構を設け、且つ、前記各リードフレーム支持部
材の間の部位に、複数個の上下動式加熱ブロックを、当
該加熱ブロックが上昇したとき前記リードフレーム支持
部材の上面におけるリードフレームの下面に接当するよ
うに配設したことを特徴とする半導体チップのダイボン
ディング用加熱装置。
1. A plurality of lead frame support members extending between a pair of left and right endless chains extending in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the endless chains are mounted at appropriate intervals along the longitudinal direction of the endless chains. , Both the endless chains are provided with an intermittent feeding mechanism adapted to intermittently convey the both endless chains at intervals of the lead frame supporting member, while at the one end of the both endless chains, a semiconductor chip is provided with a conductive paste. The lead frame formed by adhering the lead frames to the upper surface of each of the lead frame supporting members in a state where the longitudinal direction of the lead frame is parallel to the longitudinal direction of the lead frame supporting member and the semiconductor chip in the lead frame. A lead-in mechanism is provided in which the attachment portion projects from one side edge of the lead frame support member in the longitudinal direction, and a feed mechanism is provided. The other end portions of the endless chain, the lead frame in the upper surface of the lead frame support member,
A lead-out mechanism adapted to feed the lead frame in the longitudinal direction is provided, and a plurality of vertically movable heating blocks are provided between the lead frame support members, and the lead frame is provided when the heating block rises. A heating device for die bonding of a semiconductor chip, wherein the heating device is arranged so as to come into contact with the lower surface of the lead frame on the upper surface of the supporting member.
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