JP2644115B2 - Semiconductor device - Google Patents
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は半導体装置に関し、特
にNチャネルトランジスタをロード側及びドライバ側ト
ランジスタとして有するバッファ回路を出力にもつ半導
体装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly, to a semiconductor device having a buffer circuit having an N-channel transistor as a load-side transistor and a driver-side transistor as an output.
【0002】[0002]
【従来の技術】図4は従来の入出力バッファを備えた半
導体装置の構成図であり、図において、103はデータ
入出力を行うためのI/O線であり、その後段には出力
バッファ100と入力バッファ101が並列に接続さ
れ、さらに入力バッファ101の後段には内部回路10
2が接続されている。2. Description of the Related Art FIG. 4 is a block diagram of a conventional semiconductor device having an input / output buffer. In the figure, reference numeral 103 denotes an I / O line for inputting / outputting data, and an output buffer 100 is provided at a subsequent stage. And an input buffer 101 are connected in parallel.
2 are connected.
【0003】上記出力バッファ100を構成するロード
側Tr2 ,ドライバ側Tr3 はそれぞれn型MOSトラ
ンジスタで、電源VCCと接地VSSとの間に直列に接続さ
れている。またn型MOSトランジスタTr1 のソース
・ドレインは、それぞれ“H”データを出力するための
信号ψH およびトランジスタTr2 のゲートが接続さ
れ、そのゲートには信号ψH を受ける遅延回路2および
インバータ1の出力ノードN2 が接続され、また上記ト
ランジスタTr2 のゲートと接続するノードN1 には上
記信号ψH を受ける昇圧回路3の出力が接続されてい
る。一方、トランジスタTr3 のゲートには“L”デー
タを出力するための信号ψL が接続されている。なおR
は配線抵抗、Lはワイヤリングあるいは配線などのイン
ダクタンス、Cは浮遊容量あるいは配線容量を表わす。The load-side Tr 2 and the driver-side Tr 3 constituting the output buffer 100 are n-type MOS transistors, respectively, and are connected in series between a power supply V CC and a ground V SS . The source and drain of the n-type MOS transistor Tr 1 are respectively "H" signal [psi H and the gate of the transistor Tr 2 to output the data is connected, the delay circuit 2 and an inverter receiving the signal [psi H to the gate 1 of the output node N 2 is connected also to the node N 1 to be connected to the gate of the transistor Tr 2 output of the booster circuit 3 for receiving the signal [psi H is connected. On the other hand, the signal for outputting the "L" data to the gate of the transistor Tr 3 [psi L is connected. Note that R
Represents wiring resistance, L represents inductance of wiring or wiring, and C represents stray capacitance or wiring capacitance.
【0004】次に図5を用いて動作について説明する。
ここでは、半導体記憶装置(例えばダイナミックランダ
ムアクセスメモリ:DRAM)を例として用い、ext /
RAS,ext /CASは外部の制御信号を示し、Add
rは外部アドレスを表わす。通常、DRAMでは制御信
号ext /RAS,ext /CASがLowのとき、アクテ
ィブ状態となり、アドレスが切り換わるたびにそれぞれ
のアドレスに対応するデータが出力される。ここでは、
アドレス(X,Y1 )からは“H”データが、アドレス
(X,Y2 )からは“L”データが、アドレス(X,Y
3 )からは“H”データが出力される場合を示す。Next, the operation will be described with reference to FIG.
Here, a semiconductor memory device (for example, a dynamic random access memory: DRAM) is used as an example, and ext /
RAS, ext / CAS indicates an external control signal, and Add
r represents an external address. Normally, when the control signals ext / RAS and ext / CAS are Low, the DRAM is in an active state, and data corresponding to each address is output each time the address is switched. here,
"H" data from the address (X, Y 1 ), "L" data from the address (X, Y 2 ), and address (X, Y 1 )
3 ) shows a case where "H" data is output.
【0005】まず、“H”データが出力される場合、信
号ψH がHighレベルになると、今までLowレベル
であったノードN1 が“H”になる。その後、ディレイ
回路2及びインバータ1を通じてノードN2 が“L”と
なりトランジスタTr1 のゲートがオフし、昇圧回路3
が動作して信号ψH が昇圧され、ノードN1 はより高い
レベル(VCC+α)の電位となる。この昇圧動作は通
常、DRAMでは入出力ピンにかかる電圧は(VCC+
1.5)Vまでの電位を保証しているので、p型MOS
トランジスタは使用できず、n型MOSトランジスタT
r2 をロードトランジスタとして用いる。しかしなが
ら、ロードトランジスタのしきい値電圧Vth分だけ出力
レベルが低下するため、前述したようにゲートレベルを
(VCC+α)つまり(VCC+Vth以上)のレベルに昇圧
することにより低いVCCでも出力の“H”レベルを保証
できるようにしている。[0005] First, when "H" data is output, when the signal に な るH goes high, the node N 1 which has been low until now goes high. Thereafter, the node N 2 through the delay circuit 2 and the inverter 1 is turned off and the gate of the "L" next to the transistor Tr 1, the booster circuit 3
There signal [psi H is boosted operating, the node N 1 becomes a higher level of (V CC + α) potential. Normally, this boosting operation is performed when the voltage applied to the input / output pins in the DRAM is (V CC +
1.5) Since the potential up to V is guaranteed, p-type MOS
The transistor cannot be used, and the n-type MOS transistor T
use the r 2 as a load transistor. However, since the threshold voltage V th amount corresponding output level of the load transistor decreases, low V CC by boosting the level of the gate-level as described above (V CC + alpha) that is (V CC + V th or more) However, the "H" level of the output can be guaranteed.
【0006】そして上記動作に続いてトランジスタTr
2 が上記ノードN1 の電位に応じてオンし、電源からV
CCレベルの電位が与えられI/O線103に“H”デー
タが出力されることとなる。Then, following the above operation, the transistor Tr
2 is turned on in response to the potential of the node N 1, V from the power supply
The potential of the CC level is applied, and "H" data is output to the I / O line 103.
【0007】次に“L”データを出力する場合には、信
号ψH がLowレベルに、また信号ψL がHighとな
り、ノードN1 の電位が低下してトランジスタTr2 が
オフする。一方トランジスタTr3 がオンすることで、
接地に引かれてVSSレベルの電位となり、I/O線10
3に“L”データが出力されることとなる。なお出力動
作時には内部回路102に出力バッファ100の出力が
伝わらないように入力バッファ101等のタイミングが
制御されている。[0007] Then when outputting "L" data, the signal [psi H is Low level, and the signal [psi L is next High, the transistor Tr 2 potential is lowered at the node N 1 is turned off. On the other hand, when the transistor Tr 3 is turned on,
It is pulled to the ground and becomes the potential of the V SS level, and the I / O line 10
3, "L" data is output. During the output operation, the timing of the input buffer 101 and the like is controlled so that the output of the output buffer 100 is not transmitted to the internal circuit 102.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】従来の半導体装置は以
上のように構成されているので、電源VCCレベルに係わ
らず、出力ロードトランジスタのゲートレベルは必ず
(VCC+Vth以上、つまりVCC+α)に昇圧される。し
かしながら実際には、I/O線103と出力バッファ1
00との間には抵抗R,インダクタンスL,容量C等の
成分があるため、I/O線103の出力にLowデータ
が出力されるとき、これらの成分によりリンギングが生
じ、図5に示すようにLデータがVOLレベルだけ浮きあ
がる。Since the conventional semiconductor device is configured as described above, the gate level of the output load transistor must be (V CC + V th or more, that is, V CC) regardless of the power supply V CC level. + Α). However, actually, the I / O line 103 and the output buffer 1
Since there are components such as a resistance R, an inductance L, a capacitance C, and the like between 00 and 00, when Low data is output to the output of the I / O line 103, ringing occurs due to these components, as shown in FIG. L data rises float only V OL level.
【0009】そしてDRAMではLowデータの規格が
通常0.4Vと非常に厳しいため、出力の“H”レベル
もよりも高いVCCが用いられる場合、さらに浮きあがり
(VOL)の程度が大きくなり、Lowデータの規格に対
してマージンがなくなることとなる。これを避けるため
には昇圧を行わないようにすればよいように思われる
が、昇圧を行わないと、低いVCCの時出力の“H”レベ
ルが規格に対してマージンがなくなるなどの問題点が生
じ、従って昇圧動作を行いつつ、出力レベルの規格に対
するマージンを十分に確保することは困難であるという
問題点があった。In a DRAM, the standard of Low data is very strict, usually 0.4 V. Therefore, when a V CC higher than the output “H” level is used, the degree of floating (V OL ) is further increased. , Low data is no longer margined. To avoid this, it seems that boosting should not be performed. However, if boosting is not performed, there is a problem that the output “H” level at low V CC has no margin with respect to the standard. Therefore, there is a problem that it is difficult to secure a sufficient margin for the output level standard while performing the boosting operation.
【0010】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、高いVCCが用いられた時の出力
Lowデータのリンギングによる浮きあがりを抑えると
ともに、低いVCCが用いられた時にも出力“H”データ
のレベルを規格に対して十分マージンを出すことができ
る半導体装置を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and it is possible to suppress the floating due to the ringing of the output Low data when a high V CC is used, and to use a low V CC . It is an object of the present invention to provide a semiconductor device in which the level of output "H" data can sometimes provide a sufficient margin with respect to the standard.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体装
置は、電源電圧の電位を検出し、その値が所定値よりも
大きい時には昇圧動作を停止する昇圧回路制御手段を備
えたものである。A semiconductor device according to the present invention comprises a booster circuit control means for detecting a potential of a power supply voltage and stopping a boosting operation when the value is larger than a predetermined value.
【0012】[0012]
【作用】この発明においては、電源電圧の電位を検出
し、その値に応じて昇圧回路の動作を制御する昇圧回路
制御手段を設け、高い電源電圧時は昇圧を行わず、低い
電源電圧時のときのみ昇圧するようにしたから、高い電
源電圧時の出力Lowデータのリンギングによる浮きあ
がりを抑えることができるとともに、低い電源電圧時に
も出力“H”データのレベルを規格に対して十分マージ
ンを出すことができる。According to the present invention, booster circuit control means for detecting the potential of the power supply voltage and controlling the operation of the booster circuit in accordance with the value is provided. Only when the power supply voltage is high, it is possible to suppress the floating due to the ringing of the output Low data at the time of the high power supply voltage, and to provide a sufficient margin for the output “H” data level with respect to the standard even at the low power supply voltage. be able to.
【0013】[0013]
【実施例】以下、この発明の一実施例による半導体装置
を図について説明する。図1において、図4と同一符号
は同一または相当部分を示し、104は出力バッファ回
路であり、昇圧回路3の前段には電源電圧検出回路(昇
圧回路制御手段)14が挿入されている。この電源電圧
検出回路14の一回路例を図2に示す。図2において、
信号ψH とノードN12、及びノードN12と接地電位VSS
との間には、n型MOSトランジスタTr21,p型MO
SトランジスタTr22、及びn型MOSトランジスタT
r26,p型MOSトランジスタTr27からなるトランス
ミッション型ゲートがそれぞれ挿入されている。また、
電源電圧VCCと接地電位VSSとの間には、n段に直列接
続され、同一の閾値を有するp型MOSトランジスタT
r23,Tr24と、そのゲートにチップ選択・非選択を制
御する信号/CSがインバータ23を介して入力される
n型MOSトランジスタTr25及び高抵抗素子R2 が直
列に接続されている。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A semiconductor device according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In FIG. 1, the same reference numerals as those in FIG. 4 denote the same or corresponding parts. Reference numeral 104 denotes an output buffer circuit, and a power supply voltage detection circuit (boost circuit control means) 14 is inserted before the boost circuit 3. FIG. 2 shows an example of the power supply voltage detection circuit 14. In FIG.
The signal ψ H and the node N 12 , and the node N 12 and the ground potential V SS
Between the n-type MOS transistor Tr 21 and the p-type MO transistor.
S transistor Tr 22 and n-type MOS transistor T
A transmission type gate composed of r 26 and a p-type MOS transistor Tr 27 is inserted. Also,
Between the power supply voltage V CC and the ground potential V SS , a p-type MOS transistor T connected in series in n stages and having the same threshold value
r 23 , Tr 24 , an n-type MOS transistor Tr 25 to which a signal / CS for controlling chip selection / non-selection is input to the gate via an inverter 23, and a high resistance element R 2 are connected in series.
【0014】また上記トランジスタTr25と高抵抗素子
R2 との間のノードN13はインバータ22に接続され、
該インバータ22の出力は上記2つのトランスミッショ
ン型ゲートを構成するそれぞれの一方のトランジスタT
r21及びTr27のゲートに入力されるとともに、インバ
ータ21を介して上記トランスミッション型ゲートを構
成するそれぞれの他方のトランジスタTr22及びTr26
に接続されている。また、インバータ25はラッチの役
目をする。[0014] node N 13 between the transistor Tr 25 and the high-resistance element R 2 are connected to the inverter 22,
The output of the inverter 22 is connected to one transistor T of each of the two transmission type gates.
The other transistors Tr 22 and Tr 26 which are input to the gates of r 21 and Tr 27 and constitute the transmission type gate via the inverter 21.
It is connected to the. Also, the inverter 25 functions as a latch.
【0015】次に図3を用いて動作について説明する。
信号/RAS,/CASがLow状態、即ち出力可能の
状態ではチップ選択・非選択制御信号/CSがLowに
なるように設定されている。図2に示すように、この信
号/CSを電源電圧検出回路に入力するのは、出力を行
わない時、即ち/RAS,/CASが“H”のスタンバ
イ時に電源電位VCCから抵抗R2 を経由して流れる貫通
電流をなくすためである。そして信号/CSがLowに
なると、電源電圧検出回路14を構成するインバータ2
3を介して反転されてHighレベルとなりトランジス
タTr25がオン状態になる。ここでノードN13の電位
は、電源電位VCCがn段に接続されたp型MOSトラン
ジスタTr23,Tr24を介して流れ、また抵抗R2 は高
抵抗であるため、(VCC−n|Vth|)Vとなる。ここ
でVthとはトランジスタTr23,Tr24のしきい値電圧
である。すなわちノードN13には、電源電位VCCからト
ランジスタTr23,Tr24の閾値Vthのn段分の電位が
減算された電位が現れることとなる。Next, the operation will be described with reference to FIG.
The chip selection / non-selection control signal / CS is set to be low when the signals / RAS and / CAS are in the low state, that is, in the output enabled state. As shown in FIG. 2, to input the signal / CS to the power supply voltage detection circuit, when no output, i.e. / RAS, / CAS is a resistor R 2 from the power supply potential V CC during standby "H" This is to eliminate a through current flowing through the device. When the signal / CS becomes low, the inverter 2 constituting the power supply voltage detection circuit 14
3, the signal is inverted to a high level, and the transistor Tr 25 is turned on. Since the potential of where the node N 13 flows the power supply potential V CC via a p-type MOS transistor Tr 23, Tr 24 which is connected to n stages, also the resistance R 2 is a high-resistance, (V CC -n | V th |) V. Here, V th is the threshold voltage of the transistors Tr 23 and Tr 24 . That is, the node N 13 becomes the potential of the potential of the n-stage partial threshold V th is subtracted supply potential V CC from the transistor Tr 23, Tr 24 appears.
【0016】そしてこのトランジスタの段数nを任意に
設定することにより、ノードN13に現れるレベルを変え
ることができる。例えば、トランジスタの段数n=6,
各p型MOSトランジスタのしきい値電圧|Vth|=
0.5Vとすると、ノードN13のレベルは電源電圧VCC
が5Vのとき、5−6×0.5(V)=2(V)とな
り、また、VCC=4.5Vのときは1.5Vとなる。ま
たノードN13のレベルを受けるインバータ22のしきい
値の設定により、ノードN13のレベルによりインバータ
22の出力の“H”,“L”を選択することができる。
仮に、インバータ22のしきい値を1.7Vに設定した
場合、電源電位VCC=4.5VではノードN13の電位は
1.5Vとなりインバータ22の出力は“H”となり、
トランジスタTr21,Tr22からなるトランスミッショ
ンゲートがオンして信号ψH とノードN12が同一電位と
なり、後段に接続される昇圧回路3が活性化され、従っ
てノードN1 も昇圧され、I/O線103には図3の破
線で示す波形が現れる。[0016] Then by setting the number of stages n of the transistors arbitrarily, it is possible to change the level appearing at node N 13. For example, the number of transistor stages n = 6,
The threshold voltage of each p-type MOS transistor | V th | =
When 0.5V, the level of the node N 13 is the power supply voltage V CC
When is the 5V, 5-6 × 0.5 (V) = 2 (V) becomes also becomes 1.5V when the V CC = 4.5V. Also it is possible to select a node by the threshold setting of the inverter 22 which receives the level of the N 13, "H" of the output of the inverter 22 by the level of the node N 13, "L".
If the threshold value of the inverter 22 is set to 1.7 V, when the power supply potential V CC = 4.5 V, the potential of the node N 13 becomes 1.5 V and the output of the inverter 22 becomes “H”.
The transmission gate formed of the transistors Tr 21 and Tr 22 is turned on, the signal ψ H and the node N 12 have the same potential, the boosting circuit 3 connected to the subsequent stage is activated, and therefore the node N 1 is also boosted, and the I / O is performed. A waveform shown by a broken line in FIG.
【0017】一方、電源電圧VCC=5Vの場合、ノード
N13の電位は2Vとなり、インバータ22のしきい値
1.7Vを超えてその出力はLowレベルになり、トラ
ンジスタTr26,Tr27からなるトランスミッションゲ
ートがオンしてノードN12は接地電位VSSに接続され、
後段の昇圧回路3は動作しない。従って、昇圧動作は行
われずI/O線103には図3の破線で示す波形が現れ
る。On the other hand, when the power supply voltage V cc = 5 V, the potential of the node N 13 becomes 2 V, the output of which exceeds the threshold voltage 1.7 V of the inverter 22 and becomes a low level, and the transistors Tr 26 and Tr 27 output from the transistors Tr 26 and Tr 27. node N 12 transmission gate is turned on made is connected to the ground potential V SS,
The subsequent booster circuit 3 does not operate. Therefore, the boosting operation is not performed, and the waveform shown by the broken line in FIG. 3 appears on the I / O line 103.
【0018】このように本実施例によれば、昇圧回路3
の前段に電源電圧検出回路14を設け、該回路14のト
ランジスタ直列接続体のトランジスタ段数を調整するこ
とにより、電源電圧VCCのレベルの大小を判定し、電源
電圧VCCが所定の値よりも小さい時にはノードN12に信
号ψH を接続して昇圧回路3を駆動して昇圧動作を行
い、電源電圧VCCが所定の値よりも大きい時にはノード
N12を接地電位VSSに接続して昇圧回路3を駆動しない
ようにしたから、高い電源電圧を用いても出力レベルが
HからLになる時に、リンギングによる浮きあがりを抑
えることができ(VOL′<VOL)、また、低い電源電圧
の時には出力“H”データのレベルを規格に対して十分
マージンを出すことができる。As described above, according to the present embodiment, the booster circuit 3
The power supply voltage detection circuit 14 provided in front of, by adjusting the transistor stages of the transistor series circuit of the circuit 14 determines the level of the magnitude of the supply voltage V CC, than the power supply voltage V CC is a predetermined value performs a boosting operation by driving the booster circuit 3 are connected to signal [psi H to node N 12 when small, when the power supply voltage V CC is greater than a predetermined value by connecting the node N 12 to the ground potential V SS boost Since the circuit 3 is not driven, the floating due to ringing can be suppressed when the output level changes from H to L even when a high power supply voltage is used (V OL ′ <V OL ), and a low power supply voltage is used. In this case, the level of the output "H" data can have a sufficient margin with respect to the standard.
【0019】[0019]
【発明の効果】以上のように、この発明に係る半導体装
置によれば、電源電圧の電位を検出し、その値に応じて
昇圧回路の動作を制御する昇圧回路制御手段を設け、高
い電源電圧時は昇圧を行わず、低い電源電圧時のときの
み昇圧するようにしたから、高いVCC時のHighから
Lowデータになるときのリンギングによるデータの浮
きあがりを低減することができ、また低いVCCの時のH
ighデータのレベルも規格に対して十分マージンを出
すことができるという効果がある。As described above, according to the semiconductor device of the present invention, the booster circuit control means for detecting the potential of the power supply voltage and controlling the operation of the booster circuit according to the value is provided. time without boosting, it is so arranged to boost only when at a low power supply voltage, it is possible to reduce the raised data by ringing when becomes low data from high at high V CC, also lower V H at CC
There is an effect that the level of the high data can provide a sufficient margin with respect to the standard.
【図1】本発明の一実施例による半導体装置の構成図。FIG. 1 is a configuration diagram of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の一実施例による半導体装置の電源電圧
検出回路の一構成例を示す図。FIG. 2 is a diagram showing a configuration example of a power supply voltage detection circuit of a semiconductor device according to one embodiment of the present invention.
【図3】本発明の一実施例による半導体装置の回路動作
を示すタイミングチャート図。FIG. 3 is a timing chart showing a circuit operation of the semiconductor device according to one embodiment of the present invention.
【図4】従来例の半導体装置の構成図。FIG. 4 is a configuration diagram of a conventional semiconductor device.
【図5】従来例の半導体装置の動作を示すタイミングチ
ャート図。FIG. 5 is a timing chart showing the operation of a conventional semiconductor device.
14 電源電圧検出回路(昇圧回路制御手段) 100 出力バッファ 103 I/O線 R 抵抗成分 R2 抵抗成分 C 容量成分 L インダクタンス成分 Tr1 n型MOSトランジスタ Tr2 n型MOSトランジスタ(ロード側トランジス
タ) Tr3 n型MOSトランジスタ(ドライバ側トランジ
スタ) Tr21 n型MOSトランジスタ Tr25 n型MOSトランジスタ Tr26 n型MOSトランジスタ Tr22 p型MOSトランジスタ Tr23 p型MOSトランジスタ Tr24 p型MOSトランジスタ Tr27 p型MOSトランジスタ14 power supply voltage detection circuit (step-up circuit control means) 100 Output buffer 103 I / O line R the resistance component R 2 the resistance component C capacitance component L inductance component Tr 1 n-type MOS transistor Tr 2 n-type MOS transistor (load-side transistors) Tr 3 n-type MOS transistor (driver-side transistor) Tr 21 n-type MOS transistor Tr 25 n-type MOS transistor Tr 26 n-type MOS transistor Tr 22 p-type MOS transistor Tr 23 p-type MOS transistor Tr 24 p-type MOS transistor Tr 27 p-type MOS transistor
Claims (1)
ス・ドレイン間が接続されたロード側トランジスタと、
接地電位源と上記出力端子との間にそのソース・ドレイ
ン間が接続されたドライバ側トランジスタと、上記ロー
ド側トランジスタのゲート電圧に印加される電圧を昇圧
する昇圧回路とを備えた半導体装置において、 電源電圧源の電位を検出し、該電位が所定値よりも大き
い時に上記昇圧回路の昇圧動作を停止する昇圧回路制御
手段を備えたことを特徴とする半導体装置。A load-side transistor having a source and a drain connected between a power supply voltage source and an output terminal;
A semiconductor device comprising: a driver-side transistor whose source and drain are connected between a ground potential source and the output terminal; and a booster circuit that boosts a voltage applied to a gate voltage of the load-side transistor. A semiconductor device comprising a booster circuit control means for detecting a potential of a power supply voltage source and stopping a boosting operation of the booster circuit when the potential is larger than a predetermined value.
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Publication number | Publication date |
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JPH0537355A (en) | 1993-02-12 |
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