JP2641823B2 - アミノ酸誘導体およびその製造法 - Google Patents
アミノ酸誘導体およびその製造法Info
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規アミノ酸誘導体およ
びその塩に関する。より詳しくは、本発明はレニン阻害
活性を有する新規アミノ酸誘導体およびその塩、それら
の製造法、およびそれらを有効成分として含有するヒト
または動物における高血圧症、心不全、腎疾患(たとえ
ば、腎不全、糖尿病性腎症、糸球体腎炎、腎盂腎炎、ネ
フローゼ症候群、バーター症候群、レニン分泌性腎腫
瘍、腎性浮腫、高尿酸血症、痛風など]、緑内障などの
治療および/または予防に有用なレニン阻害剤に関する
ものである。さらに、目的化合物は痴呆の治療薬として
その有用性が期待される。
びその塩に関する。より詳しくは、本発明はレニン阻害
活性を有する新規アミノ酸誘導体およびその塩、それら
の製造法、およびそれらを有効成分として含有するヒト
または動物における高血圧症、心不全、腎疾患(たとえ
ば、腎不全、糖尿病性腎症、糸球体腎炎、腎盂腎炎、ネ
フローゼ症候群、バーター症候群、レニン分泌性腎腫
瘍、腎性浮腫、高尿酸血症、痛風など]、緑内障などの
治療および/または予防に有用なレニン阻害剤に関する
ものである。さらに、目的化合物は痴呆の治療薬として
その有用性が期待される。
【0002】
【従来の技術】レニン阻害活性を有するアミノ酸誘導体
は、たとえばヨーロッパ特許出願公開No.01723
46、No.0283970、No.0300189、
No.0391180、国際特許出願公開No.WO8
7/04349、特開平2−243674などに記載さ
れているように、いくつか知られている。
は、たとえばヨーロッパ特許出願公開No.01723
46、No.0283970、No.0300189、
No.0391180、国際特許出願公開No.WO8
7/04349、特開平2−243674などに記載さ
れているように、いくつか知られている。
【0003】
【発明の目的】本発明の一つの目的は、レニン阻害活性
を有し、降圧剤、心不全用剤、腎疾患治療剤および緑内
障治療剤として有用であり、特に経口投与に適した新規
かつ有用なアミノ酸誘導体およびその塩を提供すること
である。本発明の他の目的は、前記アミノ酸誘導体およ
びそれらの塩の製造法を提供することにある。本発明の
さらに他の目的は、前記アミノ酸誘導体およびそれらの
医薬として許容される塩を有効成分として含有する降圧
剤、心不全用剤、腎疾患治療剤および緑内障治療剤を提
供することである。
を有し、降圧剤、心不全用剤、腎疾患治療剤および緑内
障治療剤として有用であり、特に経口投与に適した新規
かつ有用なアミノ酸誘導体およびその塩を提供すること
である。本発明の他の目的は、前記アミノ酸誘導体およ
びそれらの塩の製造法を提供することにある。本発明の
さらに他の目的は、前記アミノ酸誘導体およびそれらの
医薬として許容される塩を有効成分として含有する降圧
剤、心不全用剤、腎疾患治療剤および緑内障治療剤を提
供することである。
【0004】
【発明の構成】本発明の目的化合物であるアミノ酸誘導
体は、新規であり、下記の一般式[I]で表わすことが
できる。
体は、新規であり、下記の一般式[I]で表わすことが
できる。
【化5】 式中、R1 はチオモルホリノカルボニル、R2 は低級ア
ルキル基、R3 はシクロ(低級)アルキル基で置換され
ていてもよい低級アルキル基、R4 は低級アルキル基、
Xは低級アルキレン基、Y1 は単結合または
ルキル基、R3 はシクロ(低級)アルキル基で置換され
ていてもよい低級アルキル基、R4 は低級アルキル基、
Xは低級アルキレン基、Y1 は単結合または
【化6】 (式中、R5 は低級アルキル基を示す)、 Y2 は−NH− を示す。
【0005】目的化合物[I]またはその塩は、下記の
反応式で示される方法によって製造することができる
が、目的化合物[I]の製造はこれらの方法に限定され
るものではない。
反応式で示される方法によって製造することができる
が、目的化合物[I]の製造はこれらの方法に限定され
るものではない。
【0006】プロセス1 ステップ1
【化7】
【0007】ステップ2
【化8】
【0008】ステップ3
【化9】
【0009】上記各式中、R6 はN−保護基、R7 は水
素またはN−保護基およびR1 、R2 、R3 、R4 、
X、Y1 およびY2 はそれぞれ前記定義の通りである。
素またはN−保護基およびR1 、R2 、R3 、R4 、
X、Y1 およびY2 はそれぞれ前記定義の通りである。
【0010】本明細書の前記および後記の記載におけ
る、本発明がその範囲内に包含する種々の定義の好適な
例を示すと、次の通りである。
る、本発明がその範囲内に包含する種々の定義の好適な
例を示すと、次の通りである。
【0011】「低級」とは特記なき限り炭素原子1ない
し6個をもつ基を意味して用いられる。
し6個をもつ基を意味して用いられる。
【0012】「シクロ(低級)アルキル基」の低級アル
キル部分は炭素原子3ないし6個の基である。
キル部分は炭素原子3ないし6個の基である。
【0013】好適な「低級アルキル基」としては直鎖状
または分枝状の何れであってもよく、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、ヘキシル、イソブチ
ル、t−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチ
ル、2−エチルブチルなどを例示することができる。
または分枝状の何れであってもよく、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、ヘキシル、イソブチ
ル、t−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチ
ル、2−エチルブチルなどを例示することができる。
【0014】好適な「シクロ(低級)アルキル基」とし
てはシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルま
たはシクロヘキシルを例示することができ、これらの中
でも好ましいものはシクロヘキシルである。
てはシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルま
たはシクロヘキシルを例示することができ、これらの中
でも好ましいものはシクロヘキシルである。
【0015】好適な「シクロ(低級)アルキル基で置換
された低級アルキル基」としてはシクロ(低級)アルキ
ル(低級)アルキル基およびジシクロ(低級)アルキル
(低級)アルキル基を挙げることができ、それらの中で
もより好ましいものはシクロヘキシルメチルおよびジシ
クロヘキシルエチルである。
された低級アルキル基」としてはシクロ(低級)アルキ
ル(低級)アルキル基およびジシクロ(低級)アルキル
(低級)アルキル基を挙げることができ、それらの中で
もより好ましいものはシクロヘキシルメチルおよびジシ
クロヘキシルエチルである。
【0016】好適な「低級アルキレン基」としては直鎖
状または分枝状の何れであってもよく、メチレン、エチ
レン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレ
ン、ヘキサメチレン、プロピレン、メチルメチレン、エ
チルメチレン、プロピルメチレンなどを例示することが
でき、それらの中でもより好ましいのはC1 −C4 アル
キレン基であり、最も好ましいのはメチレン、エチレ
ン、トリメチレン、テトラメチレンおよびメチルメチレ
ンである。
状または分枝状の何れであってもよく、メチレン、エチ
レン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレ
ン、ヘキサメチレン、プロピレン、メチルメチレン、エ
チルメチレン、プロピルメチレンなどを例示することが
でき、それらの中でもより好ましいのはC1 −C4 アル
キレン基であり、最も好ましいのはメチレン、エチレ
ン、トリメチレン、テトラメチレンおよびメチルメチレ
ンである。
【0017】好適な「N−保護基」としては、置換また
は非置換低級アルカノイル基(たとえば、ホルミル、ア
セチル、プロピオニル、トリフルオロアセチルなど)、
フタロイル、低級アルコキシカルボニル基(たとえば、
t−ブトキシカルボニル、t−アミルオキシカルボニル
など)、置換または非置換アラルキルオキシカルボニル
基(たとえば、ベンジルオキシカルボニル、p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルなど)、置換または非置換ア
レンスルホニル基(たとえば、ベンゼンスルホニル、ト
シルなど)、ニトロフェニルスルフェニル、アラルキル
基(たとえば、トリチル、ベンジルなど)などを挙げる
ことができる。
は非置換低級アルカノイル基(たとえば、ホルミル、ア
セチル、プロピオニル、トリフルオロアセチルなど)、
フタロイル、低級アルコキシカルボニル基(たとえば、
t−ブトキシカルボニル、t−アミルオキシカルボニル
など)、置換または非置換アラルキルオキシカルボニル
基(たとえば、ベンジルオキシカルボニル、p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルなど)、置換または非置換ア
レンスルホニル基(たとえば、ベンゼンスルホニル、ト
シルなど)、ニトロフェニルスルフェニル、アラルキル
基(たとえば、トリチル、ベンジルなど)などを挙げる
ことができる。
【0018】好適な化合物[I]としては、R1 がチオ
モルホリノカルボニル、R2 が低級アルキル基、R3 が
低級アルキル基、R4 が低級アルキル基、Xが低級アル
キレン基、Y1 が
モルホリノカルボニル、R2 が低級アルキル基、R3 が
低級アルキル基、R4 が低級アルキル基、Xが低級アル
キレン基、Y1 が
【化10】 (式中、R5 は低級アルキル基)およびY2 が−NH−
である化合物;R1 がチオモルホリノカルボニル、R2
が低級アルキル基、R3 が低級アルキル基、R4が低級
アルキル基、Xが低級アルキレン基、Y1 が単結合また
は
である化合物;R1 がチオモルホリノカルボニル、R2
が低級アルキル基、R3 が低級アルキル基、R4が低級
アルキル基、Xが低級アルキレン基、Y1 が単結合また
は
【化11】 (式中、R5 は低級アルキル基)およびY2 が−NH−
である化合物;R1 がチオモルホリノカルボニル、R2
が低級アルキル基、R3がシクロ(低級)アルキル基
(より好ましくはシクロヘキシル)で置換されていても
よい低級アルキル基、R4 が低級アルキル基、Xが低級
アルキレン基、Y1が単結合または
である化合物;R1 がチオモルホリノカルボニル、R2
が低級アルキル基、R3がシクロ(低級)アルキル基
(より好ましくはシクロヘキシル)で置換されていても
よい低級アルキル基、R4 が低級アルキル基、Xが低級
アルキレン基、Y1が単結合または
【化12】 (式中、R5 は低級アルキル基)およびY2 が−NH−
である化合物;それらの中でもより好ましいのは、R1
がチオモルホリノカルボニル、R2 が低級アルキル基、
R3 が低級アルキル基、R4 が低級アルキル基、Xが低
級アルキレン基、Y1 が
である化合物;それらの中でもより好ましいのは、R1
がチオモルホリノカルボニル、R2 が低級アルキル基、
R3 が低級アルキル基、R4 が低級アルキル基、Xが低
級アルキレン基、Y1 が
【化13】 (式中、R5 は低級アルキル基)およびY2 が−NH−
である化合物である。
である化合物である。
【0019】目的化合物[I]の医薬として許容される
好適な塩は、慣用的な無毒性の塩であって、有機酸付加
塩(たとえば蟻酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マ
レイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼン
スルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩など)、無機酸付
加塩(たとえば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩
など)、アミノ酸との塩(たとえばアスパラギン酸塩、
グルタミン酸塩など)などを挙げることができる。
好適な塩は、慣用的な無毒性の塩であって、有機酸付加
塩(たとえば蟻酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マ
レイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼン
スルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩など)、無機酸付
加塩(たとえば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩
など)、アミノ酸との塩(たとえばアスパラギン酸塩、
グルタミン酸塩など)などを挙げることができる。
【0020】目的化合物[I]の製造法を以下に詳細に
説明する。 プロセス1 ステップ1 化合物[IV]またはその塩は、化合物[II]もしく
はそのカルボキシ基における反応性誘導体またはそれら
の塩を化合物[III]もしくはそのアミノ基における
反応性誘導体またはそれらの塩と反応させることによっ
て製造することができる。化合物[IV]の好適な塩と
しては、化合物[I]で例示したものを挙げることがで
きる。
説明する。 プロセス1 ステップ1 化合物[IV]またはその塩は、化合物[II]もしく
はそのカルボキシ基における反応性誘導体またはそれら
の塩を化合物[III]もしくはそのアミノ基における
反応性誘導体またはそれらの塩と反応させることによっ
て製造することができる。化合物[IV]の好適な塩と
しては、化合物[I]で例示したものを挙げることがで
きる。
【0021】化合物[II]のカルボキシ基における反
応性誘導体の好適な例としては、酸ハライド、酸無水
物、活性アミド、活性エステルなどが挙げられる。反応
性誘導体の好適な例としては、酸塩化物;酸アジド;置
換燐酸(たとえば、ジアルキル燐酸、フェニル燐酸、ジ
フェニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸な
ど)、ジアルキル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、ス
ルホン酸(たとえば、メタンスルホン酸など)、脂肪族
カルボン酸(たとえば酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ
酪酸、ピバリン酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、2−
エチル酪酸、トリクロロ酢酸など)または芳香族カルボ
ン酸(たとえば、安息香酸など)などの酸との混合酸無
水物;対称酸無水物;イミダゾール、4−置換イミダゾ
ール、ジメチルピラゾール、トリアゾールまたはテトラ
ゾールとの活性アミド;または活性エステル(たとえ
ば、シアノメチルエステル、メトキシメチルエステル、
ジメチルイミノメチル[(CH3)2N+=CH−]エス
テル、ビニルエステル、プロパルギルエステル、p−ニ
トロフェニルエステル、2,4−ジニトロフェニルエス
テル、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロフェ
ニルエステル、メシルフェニルエステル、フェニルアゾ
フェニルエステル、フェニルチオエステル、p−ニトロ
フェニルチオエステル、p−クレシルチオエステル、カ
ルボキシメチルチオエステル、ピラニルエステル、ピリ
ジルエステル、ピペリジルエステル、8−キノリルチオ
エステルなど)またはN−ヒドロキシ化合物(たとえ
ば、N,N−ジメチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロ
キシ−2−(1H)−ピリドン、N−ヒドロキシスクシ
ンイミド、N−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキ
シ−1H−ベンゾトリアゾールなど)とのエステルなど
を挙げることができる。これらの反応性誘導体は、使用
する化合物[II]の種類に応じて適宜選択すればよ
い。
応性誘導体の好適な例としては、酸ハライド、酸無水
物、活性アミド、活性エステルなどが挙げられる。反応
性誘導体の好適な例としては、酸塩化物;酸アジド;置
換燐酸(たとえば、ジアルキル燐酸、フェニル燐酸、ジ
フェニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸な
ど)、ジアルキル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、ス
ルホン酸(たとえば、メタンスルホン酸など)、脂肪族
カルボン酸(たとえば酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ
酪酸、ピバリン酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、2−
エチル酪酸、トリクロロ酢酸など)または芳香族カルボ
ン酸(たとえば、安息香酸など)などの酸との混合酸無
水物;対称酸無水物;イミダゾール、4−置換イミダゾ
ール、ジメチルピラゾール、トリアゾールまたはテトラ
ゾールとの活性アミド;または活性エステル(たとえ
ば、シアノメチルエステル、メトキシメチルエステル、
ジメチルイミノメチル[(CH3)2N+=CH−]エス
テル、ビニルエステル、プロパルギルエステル、p−ニ
トロフェニルエステル、2,4−ジニトロフェニルエス
テル、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロフェ
ニルエステル、メシルフェニルエステル、フェニルアゾ
フェニルエステル、フェニルチオエステル、p−ニトロ
フェニルチオエステル、p−クレシルチオエステル、カ
ルボキシメチルチオエステル、ピラニルエステル、ピリ
ジルエステル、ピペリジルエステル、8−キノリルチオ
エステルなど)またはN−ヒドロキシ化合物(たとえ
ば、N,N−ジメチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロ
キシ−2−(1H)−ピリドン、N−ヒドロキシスクシ
ンイミド、N−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキ
シ−1H−ベンゾトリアゾールなど)とのエステルなど
を挙げることができる。これらの反応性誘導体は、使用
する化合物[II]の種類に応じて適宜選択すればよ
い。
【0022】化合物[II]およびその反応性誘導体の
好適な塩としては、塩基との塩、たとえばアルカリ金属
塩(たとえばナトリウム塩、カリウム塩など)、アルカ
リ土類金属塩(たとえばカルシウム塩、マグネシウム塩
など)、アンモニウム塩、有機塩基との塩(たとえばト
リメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、
ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N,N′−ジ
ベンジルエチレンジアミン塩など)など、化合物[I]
で例示した酸付加塩などを挙げることができる。
好適な塩としては、塩基との塩、たとえばアルカリ金属
塩(たとえばナトリウム塩、カリウム塩など)、アルカ
リ土類金属塩(たとえばカルシウム塩、マグネシウム塩
など)、アンモニウム塩、有機塩基との塩(たとえばト
リメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、
ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N,N′−ジ
ベンジルエチレンジアミン塩など)など、化合物[I]
で例示した酸付加塩などを挙げることができる。
【0023】化合物[III]のアミノ基における反応
性誘導体の好適な例としては、化合物[III]とアル
デヒド、ケトンなどのカルボニル化合物との反応によっ
て形成されるシッフ塩基型のイミノ化合物またはそのエ
ナミン型互変異性体;化合物[III]とシリル化合
物、たとえばビス(トリメチルシリル)アセタミド、モ
ノ(トリメチルシリル)アセタミド、ビス(トリメチル
シリル)尿素など、その反応によって形成されるシリル
誘導体;化合物[III]と三塩化燐またはホスゲンと
の反応によって形成される誘導体などが挙げられる。
性誘導体の好適な例としては、化合物[III]とアル
デヒド、ケトンなどのカルボニル化合物との反応によっ
て形成されるシッフ塩基型のイミノ化合物またはそのエ
ナミン型互変異性体;化合物[III]とシリル化合
物、たとえばビス(トリメチルシリル)アセタミド、モ
ノ(トリメチルシリル)アセタミド、ビス(トリメチル
シリル)尿素など、その反応によって形成されるシリル
誘導体;化合物[III]と三塩化燐またはホスゲンと
の反応によって形成される誘導体などが挙げられる。
【0024】化合物[III]およびその反応性誘導体
の好適な塩としては、化合物[I]で例示したものを挙
げることができる。反応は、通常、水、アルコール(た
とえばメタノール、エタノールなど)、アセトン、ジオ
キサン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレ
ン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、
N,N−ジメチルホルムアミド、ピリジン、その他反応
に悪影響を及ぼさない有機溶媒などの慣用の溶媒中で行
われる。これらの慣用の溶媒は水との混合物としても使
用することができる。
の好適な塩としては、化合物[I]で例示したものを挙
げることができる。反応は、通常、水、アルコール(た
とえばメタノール、エタノールなど)、アセトン、ジオ
キサン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレ
ン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、
N,N−ジメチルホルムアミド、ピリジン、その他反応
に悪影響を及ぼさない有機溶媒などの慣用の溶媒中で行
われる。これらの慣用の溶媒は水との混合物としても使
用することができる。
【0025】この反応では、化合物[II]を遊離酸ま
たはその塩の形で用いる場合、慣用の縮合剤、たとえば
N,N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド;N−シク
ロヘキシル−N′−モルホリノエチルカルボジイミド;
N−シクロヘキシル−N′−(4−ジエチルアミノシク
ロヘキシル)カルボジイミド;N,N′−ジエチルカル
ボジイミド、N,N′−ジイソプロピルカルボジイミ
ド;N−エチル−N′−(3−ジメチルアミノプロピ
ル)カルボジイミド;N,N′−カルボニルビス(2−
メチルイミダゾール);ペンタメチレンケテン−N−シ
クロヘキシルイミン;ジフェニルケテン−N−シクロヘ
キシルイミン;エトキシアセチレン;1−アルコキシ−
1−クロロエチレン;トリアルキルホスファイト;エチ
ルポリホスフェイト;イソプロピルポリホスフェイト;
オキシ塩化燐(塩化ホスホリル);三塩化燐;ジフェニ
ルホスホリルアジド;塩化チオニル;塩化オギザリル;
ハロ蟻酸低級アルキル(たとえばクロロ蟻酸エチル、ク
ロロ蟻酸イソプロピルなど);トリフェニルホスフィ
ン;2−エチル−7−ヒドロキシベンズイソオキサゾリ
ウム塩;水酸化2−エチル−5−(m−スルホフェニ
ル)イソオキサゾリウム分子内塩;1−(p−クロロベ
ンゼンスルホニルオキシ)−6−クロロ−1H−ベンゾ
トリアゾール;N,N−ジメチルホルムアミドと塩化チ
オニル、ホスゲン、クロロ蟻酸トリクロロメチル、オキ
シ塩化燐、塩化オギザリルとを反応させて調製するいわ
ゆるビルスマイヤー試薬など、の存在下で反応を行うこ
とが好ましい。
たはその塩の形で用いる場合、慣用の縮合剤、たとえば
N,N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド;N−シク
ロヘキシル−N′−モルホリノエチルカルボジイミド;
N−シクロヘキシル−N′−(4−ジエチルアミノシク
ロヘキシル)カルボジイミド;N,N′−ジエチルカル
ボジイミド、N,N′−ジイソプロピルカルボジイミ
ド;N−エチル−N′−(3−ジメチルアミノプロピ
ル)カルボジイミド;N,N′−カルボニルビス(2−
メチルイミダゾール);ペンタメチレンケテン−N−シ
クロヘキシルイミン;ジフェニルケテン−N−シクロヘ
キシルイミン;エトキシアセチレン;1−アルコキシ−
1−クロロエチレン;トリアルキルホスファイト;エチ
ルポリホスフェイト;イソプロピルポリホスフェイト;
オキシ塩化燐(塩化ホスホリル);三塩化燐;ジフェニ
ルホスホリルアジド;塩化チオニル;塩化オギザリル;
ハロ蟻酸低級アルキル(たとえばクロロ蟻酸エチル、ク
ロロ蟻酸イソプロピルなど);トリフェニルホスフィ
ン;2−エチル−7−ヒドロキシベンズイソオキサゾリ
ウム塩;水酸化2−エチル−5−(m−スルホフェニ
ル)イソオキサゾリウム分子内塩;1−(p−クロロベ
ンゼンスルホニルオキシ)−6−クロロ−1H−ベンゾ
トリアゾール;N,N−ジメチルホルムアミドと塩化チ
オニル、ホスゲン、クロロ蟻酸トリクロロメチル、オキ
シ塩化燐、塩化オギザリルとを反応させて調製するいわ
ゆるビルスマイヤー試薬など、の存在下で反応を行うこ
とが好ましい。
【0026】反応は、アルカリ金属重炭酸塩、トリ(低
級)アルキルアミン、ピリジン、N−(低級)アルキル
モルホリン、N,N−ジ(低級)アルキルベンジルアミ
ンなどの無機または有機塩基の存在下で行うこともでき
る。反応温度は特に限定されず、通常、冷却ないし加温
下で反応は行われる。
級)アルキルアミン、ピリジン、N−(低級)アルキル
モルホリン、N,N−ジ(低級)アルキルベンジルアミ
ンなどの無機または有機塩基の存在下で行うこともでき
る。反応温度は特に限定されず、通常、冷却ないし加温
下で反応は行われる。
【0027】ステップ2 化合物[V]またはその塩は、化合物[IV]またはそ
の塩をN−保護基脱離反応に付すことによって製造する
ことができる。化合物[V]の好適な塩としては化合物
[I]で例示したものを挙げることができる。
の塩をN−保護基脱離反応に付すことによって製造する
ことができる。化合物[V]の好適な塩としては化合物
[I]で例示したものを挙げることができる。
【0028】この反応は加水分解、還元などの慣用の方
法に従って行われる。加水分解は塩基またはルイス酸を
含む酸の存在下で行うことが好ましい。
法に従って行われる。加水分解は塩基またはルイス酸を
含む酸の存在下で行うことが好ましい。
【0029】好適な塩基としては、アルカリ金属(たと
えばナトリウム、カリウムなど)、アルカリ土類金属
(たとえばマグネシウム、カルシウムなど)、それらの
水酸化物もしくは炭酸塩もしくは重炭酸塩、ヒドラジ
ン、トリアルキルアミン(たとえばトリメチルアミン、
トリエチルアミンなど)、ピコリン、1,5−ジアザビ
シクロ[4.3.0]−ノネン−5、1,4−ジアザビ
シクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシク
ロ[5.4.0]ウンデセン−7などの無機塩基および
有機塩基が挙げられる。
えばナトリウム、カリウムなど)、アルカリ土類金属
(たとえばマグネシウム、カルシウムなど)、それらの
水酸化物もしくは炭酸塩もしくは重炭酸塩、ヒドラジ
ン、トリアルキルアミン(たとえばトリメチルアミン、
トリエチルアミンなど)、ピコリン、1,5−ジアザビ
シクロ[4.3.0]−ノネン−5、1,4−ジアザビ
シクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシク
ロ[5.4.0]ウンデセン−7などの無機塩基および
有機塩基が挙げられる。
【0030】好適な酸としては、有機酸(たとえば蟻
酸、酢酸、プロピオン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオ
ロ酢酸など)、無機酸(たとえば塩酸、臭化水素酸、硫
酸、塩化水素、臭化水素、沸化水素など)および酸付加
塩化合物(たとえば塩酸ピリジンなど)を挙げることが
できる。
酸、酢酸、プロピオン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオ
ロ酢酸など)、無機酸(たとえば塩酸、臭化水素酸、硫
酸、塩化水素、臭化水素、沸化水素など)および酸付加
塩化合物(たとえば塩酸ピリジンなど)を挙げることが
できる。
【0031】トリハロ酢酸(たとえばトリクロロ酢酸、
トリフルオロ酢酸など)などを用いる脱離反応は、カチ
オン捕捉剤(たとえばアニソール、フェノールなど)の
存在下で行うことが好ましい。
トリフルオロ酢酸など)などを用いる脱離反応は、カチ
オン捕捉剤(たとえばアニソール、フェノールなど)の
存在下で行うことが好ましい。
【0032】反応は、通常、水、アルコール(たとえば
メタノール、エタノールなど)、塩化メチレン、クロロ
ホルム、テトラクロロメタン、テトラヒドロフラン、そ
れらの混合物、その他反応に悪影響を及ぼさない溶媒な
どの溶媒中で行われる。液状の塩基または酸は溶媒とし
ても用いられる。反応温度は特に限定されず、通常、冷
却ないし加熱下で反応は行われる。
メタノール、エタノールなど)、塩化メチレン、クロロ
ホルム、テトラクロロメタン、テトラヒドロフラン、そ
れらの混合物、その他反応に悪影響を及ぼさない溶媒な
どの溶媒中で行われる。液状の塩基または酸は溶媒とし
ても用いられる。反応温度は特に限定されず、通常、冷
却ないし加熱下で反応は行われる。
【0033】脱離反応に適用される還元法としては、化
学還元および接触還元を挙げることができる。化学還元
に用いられる好適な還元剤としては、金属(たとえば
錫、亜鉛、鉄など)または金属化合物(たとえば塩化ク
ロム、酢酸クロムなど)と有機または無機酸(たとえば
蟻酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、p−ト
ルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸など)との組合せ
を挙げることができる。
学還元および接触還元を挙げることができる。化学還元
に用いられる好適な還元剤としては、金属(たとえば
錫、亜鉛、鉄など)または金属化合物(たとえば塩化ク
ロム、酢酸クロムなど)と有機または無機酸(たとえば
蟻酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、p−ト
ルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸など)との組合せ
を挙げることができる。
【0034】接触還元に用いられる好適な触媒として
は、白金触媒(たとえば白金板、白金海綿、白金黒、コ
ロイド白金、酸化白金、白金線など)、パラジウム触媒
(たとえばパラジウム海綿、パラジウム黒、酸化パラジ
ウム、パラジウム炭、コロイドパラジウム、パラジウム
硫酸バリウム、パラジウム炭酸バリウムなど)、ニッケ
ル触媒(たとえば還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネー
ニッケルなど)、コバルト触媒(たとえば還元コバル
ト、ラネーコバルトなど)、鉄触媒(たとえば還元鉄、
ラネー鉄など)、銅触媒(たとえば還元銅、ラネー銅、
ウルマン銅など)などの慣用のものを挙げることができ
る。
は、白金触媒(たとえば白金板、白金海綿、白金黒、コ
ロイド白金、酸化白金、白金線など)、パラジウム触媒
(たとえばパラジウム海綿、パラジウム黒、酸化パラジ
ウム、パラジウム炭、コロイドパラジウム、パラジウム
硫酸バリウム、パラジウム炭酸バリウムなど)、ニッケ
ル触媒(たとえば還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネー
ニッケルなど)、コバルト触媒(たとえば還元コバル
ト、ラネーコバルトなど)、鉄触媒(たとえば還元鉄、
ラネー鉄など)、銅触媒(たとえば還元銅、ラネー銅、
ウルマン銅など)などの慣用のものを挙げることができ
る。
【0035】還元は、通常、水、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、N,N−ジメチルホルムアミド、そ
れらの混合物などの反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶
媒中で行われる。さらに、化学還元に用いられる前記の
酸が液状の場合、これらは溶媒としても使用できる。ま
た、接触還元に用いる好適な溶媒として、前記の溶媒な
らびにその他の慣用の溶媒、たとえばジエチルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフランなど、またはそれ
らの混合物を挙げることができる。この還元の反応温度
は特に限定されず、通常、冷却下ないし加熱下で反応は
行われる。
ル、プロパノール、N,N−ジメチルホルムアミド、そ
れらの混合物などの反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶
媒中で行われる。さらに、化学還元に用いられる前記の
酸が液状の場合、これらは溶媒としても使用できる。ま
た、接触還元に用いる好適な溶媒として、前記の溶媒な
らびにその他の慣用の溶媒、たとえばジエチルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフランなど、またはそれ
らの混合物を挙げることができる。この還元の反応温度
は特に限定されず、通常、冷却下ないし加熱下で反応は
行われる。
【0036】ステップ3 目的化合物[I]またはその塩は、化合物[V]もしく
はそのアミノ基における反応性誘導体またはそれらの塩
を化合物[VI]もしくはそのカルボキシ基における反
応性誘導体またはそれらの塩と反応させ、必要に応じて
N−保護基を脱離することによって製造することができ
る。化合物[VI]の好適な塩としては化合物[II]
で例示した塩基との塩を挙げることができる。
はそのアミノ基における反応性誘導体またはそれらの塩
を化合物[VI]もしくはそのカルボキシ基における反
応性誘導体またはそれらの塩と反応させ、必要に応じて
N−保護基を脱離することによって製造することができ
る。化合物[VI]の好適な塩としては化合物[II]
で例示した塩基との塩を挙げることができる。
【0037】この反応は、ステップ1と実質的に同様に
して実施することができ、従って、この反応の方式およ
び条件(たとえば反応性誘導体、縮合剤、溶媒、反応温
度など)としては、ステップ1で説明したものをそのま
ま挙げることができる。
して実施することができ、従って、この反応の方式およ
び条件(たとえば反応性誘導体、縮合剤、溶媒、反応温
度など)としては、ステップ1で説明したものをそのま
ま挙げることができる。
【0038】化合物[V]のイミダゾール基が保護され
ている場合、化合物[V]と化合物[VI]との反応生
成物をさらにN−保護基脱離反応に付すことによって目
的化合物[I]を製造することができる。この脱離反応
は、ステップ2と実質的に同様にして実施することがで
き、従って、この反応の方式および条件(たとえば塩
基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温度など)として
は、このプロセスのステップ2で説明したものをそのま
ま挙げることができる。
ている場合、化合物[V]と化合物[VI]との反応生
成物をさらにN−保護基脱離反応に付すことによって目
的化合物[I]を製造することができる。この脱離反応
は、ステップ2と実質的に同様にして実施することがで
き、従って、この反応の方式および条件(たとえば塩
基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温度など)として
は、このプロセスのステップ2で説明したものをそのま
ま挙げることができる。
【0039】原料化合物[VI]のうち、あるものは新
規であり、下記の反応式で示される方法で製造すること
ができる。
規であり、下記の反応式で示される方法で製造すること
ができる。
【0040】プロセスA
【化14】
【0041】プロセスB
【化15】
【0042】プロセスC
【化16】
【0043】プロセスD
【化17】
【0044】プロセスE
【化18】
【0045】上記各式中、R8 は保護されたカルボキシ
基、R9 はN−保護基、およびR1 、R4 、R5 、X、
Y1 およびY2 はそれぞれ前記定義の通りである。
基、R9 はN−保護基、およびR1 、R4 、R5 、X、
Y1 およびY2 はそれぞれ前記定義の通りである。
【0046】「保護されたカルボキシ基」の好適な例と
しては、慣用の保護基で保護されたカルボキシ基、たと
えば低級アルコキシカルボニル基(たとえば、メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニ
ル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、
sec−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニ
ル、t−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニ
ル、ネオペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカ
ルボニルなど)、置換または非置換のアル(低級)アル
コキシカルボニル基、たとえばニトロ基で置換されてい
てもよいモノ、ジまたはトリフェニル(低級)アルコキ
シカルボニル基(たとえばベンジルオキシカルボニル、
4−ニトロベンジルオキシカルボニル、ベンズヒドリル
オキシカルボニル、トリチルオキシカルボニルなど)な
どを挙げることができる。
しては、慣用の保護基で保護されたカルボキシ基、たと
えば低級アルコキシカルボニル基(たとえば、メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニ
ル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、
sec−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニ
ル、t−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニ
ル、ネオペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカ
ルボニルなど)、置換または非置換のアル(低級)アル
コキシカルボニル基、たとえばニトロ基で置換されてい
てもよいモノ、ジまたはトリフェニル(低級)アルコキ
シカルボニル基(たとえばベンジルオキシカルボニル、
4−ニトロベンジルオキシカルボニル、ベンズヒドリル
オキシカルボニル、トリチルオキシカルボニルなど)な
どを挙げることができる。
【0047】原料化合物の前記製造法を次に詳細に説明
する。 プロセスA 化合物[IX]は化合物[VII]またはその塩と化合
物[VIII]またはその塩をカルボニル基導入反応に
付すことによって製造することができる。化合物[VI
I]および[VIII]の好適な塩としては化合物
[I]で例示したものを挙げることができる。
する。 プロセスA 化合物[IX]は化合物[VII]またはその塩と化合
物[VIII]またはその塩をカルボニル基導入反応に
付すことによって製造することができる。化合物[VI
I]および[VIII]の好適な塩としては化合物
[I]で例示したものを挙げることができる。
【0048】この反応は、カルボニル基導入試薬たとえ
ばホスゲン、ハロ蟻酸エステル化合物(たとえばクロロ
蟻酸エチル、クロロ蟻酸トリクロロメチルなど)、N,
N′−カルボニルジイミダゾール、金属カルボニル化合
物(たとえばコバルトカルボニル、マンガンカルボニル
など)、一酸化炭素と塩化パラジウムなどの触媒との組
合せなどの存在下で行われる。
ばホスゲン、ハロ蟻酸エステル化合物(たとえばクロロ
蟻酸エチル、クロロ蟻酸トリクロロメチルなど)、N,
N′−カルボニルジイミダゾール、金属カルボニル化合
物(たとえばコバルトカルボニル、マンガンカルボニル
など)、一酸化炭素と塩化パラジウムなどの触媒との組
合せなどの存在下で行われる。
【0049】この反応は、通常、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、ベンゼン、トルエン、クロロホルム、塩化
メチレン、N,N−ジメチルホルムアミド、その他反応
に悪影響を及ぼさない有機溶媒などの溶媒中で行われ
る。反応温度は特に限定されず、通常、冷却ないし加熱
下で反応は行われる。
ドロフラン、ベンゼン、トルエン、クロロホルム、塩化
メチレン、N,N−ジメチルホルムアミド、その他反応
に悪影響を及ぼさない有機溶媒などの溶媒中で行われ
る。反応温度は特に限定されず、通常、冷却ないし加熱
下で反応は行われる。
【0050】プロセスB 化合物[VI]またはその塩は化合物[IX]をカルボ
キシ保護基脱離反応に付すことによって製造することが
できる。化合物[VI]の好適な塩としては化合物[I
I]で例示した塩基との塩を挙げることができる。この
反応はプロセス1のステップ2と実質的に同様にして実
施することができ、従って、この反応の方式および条件
(たとえば塩基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温度な
ど)としては、プロセス1のステップ2で説明したもの
をそのまま挙げることができる。
キシ保護基脱離反応に付すことによって製造することが
できる。化合物[VI]の好適な塩としては化合物[I
I]で例示した塩基との塩を挙げることができる。この
反応はプロセス1のステップ2と実質的に同様にして実
施することができ、従って、この反応の方式および条件
(たとえば塩基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温度な
ど)としては、プロセス1のステップ2で説明したもの
をそのまま挙げることができる。
【0051】プロセスC 化合物[XI]は化合物[VIII]またはその塩と化
合物[X]またはその塩をカルボニル基導入反応に付す
ことによって製造することができる。この反応はプロセ
スAと実質的に同様にして実施することができ、従っ
て、この反応の方式および条件(たとえばカルボニル基
導入試薬、溶媒、反応温度など)としては、プロセスA
で説明したものをそのまま挙げることができる。
合物[X]またはその塩をカルボニル基導入反応に付す
ことによって製造することができる。この反応はプロセ
スAと実質的に同様にして実施することができ、従っ
て、この反応の方式および条件(たとえばカルボニル基
導入試薬、溶媒、反応温度など)としては、プロセスA
で説明したものをそのまま挙げることができる。
【0052】プロセスD 化合物[XII]またはその塩は化合物[XI]または
その塩をN−保護基脱離反応に付すことにより製造する
ことができる。化合物[XII]の好適な塩としては化
合物[I]で例示したものを挙げることができる。この
反応はプロセス1のステップ2と実質的に同様にして実
施することができ、従って、この反応の方式および条件
(たとえば塩基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温度な
ど)としては、プロセス1のステップ2で説明したもの
をそのまま挙げることができる。
その塩をN−保護基脱離反応に付すことにより製造する
ことができる。化合物[XII]の好適な塩としては化
合物[I]で例示したものを挙げることができる。この
反応はプロセス1のステップ2と実質的に同様にして実
施することができ、従って、この反応の方式および条件
(たとえば塩基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温度な
ど)としては、プロセス1のステップ2で説明したもの
をそのまま挙げることができる。
【0053】プロセスE 化合物[IXa]は化合物[XII]もしくはそのアミ
ノ基における反応性誘導体またはそれらの塩を化合物
[XIII]もしくはそのカルボキシ基における反応性
誘導体またはそれらの塩と反応させることによって製造
することができる。化合物[XII]の好適な塩として
は化合物[I]で例示したものを挙げることができる。
化合物[XIII]の好適な塩としては化合物[II]
で例示した塩基との塩を挙げることができる。この反応
はプロセス1のステップ1と実質的に同様にして実施す
ることができ、従って、この反応の方式および条件(た
とえば反応性誘導体、縮合剤、溶媒、反応温度など)と
しては、プロセス1のステップ1で説明したものをその
まま挙げることができる。
ノ基における反応性誘導体またはそれらの塩を化合物
[XIII]もしくはそのカルボキシ基における反応性
誘導体またはそれらの塩と反応させることによって製造
することができる。化合物[XII]の好適な塩として
は化合物[I]で例示したものを挙げることができる。
化合物[XIII]の好適な塩としては化合物[II]
で例示した塩基との塩を挙げることができる。この反応
はプロセス1のステップ1と実質的に同様にして実施す
ることができ、従って、この反応の方式および条件(た
とえば反応性誘導体、縮合剤、溶媒、反応温度など)と
しては、プロセス1のステップ1で説明したものをその
まま挙げることができる。
【0054】前記製造法で得た化合物は、粉末化、再結
晶、カラムクロマトグラフィー、再析出などの常法によ
り単離、精製できる。化合物[I]ならびにその他の化
合物には、不斉炭素に由来する立体異性体が1個以上存
在する場合があるが、すべてのそれらの異性体およびそ
れらの混合物もこの発明の範囲に包含されるものであ
る。
晶、カラムクロマトグラフィー、再析出などの常法によ
り単離、精製できる。化合物[I]ならびにその他の化
合物には、不斉炭素に由来する立体異性体が1個以上存
在する場合があるが、すべてのそれらの異性体およびそ
れらの混合物もこの発明の範囲に包含されるものであ
る。
【0055】目的化合物[I]およびその医薬として許
容される塩は、強力なレニン阻害活性を有し、降圧剤な
らびに心不全、腎疾患(たとえば腎不全、糖尿病性腎
症、糸球体腎炎、腎盂腎炎、ネフローゼ症候群、バータ
ー症候群、レニン分泌性腎腫瘍、腎性浮腫、高尿酸血
症、痛風など)、緑内障などの治療薬として有用であ
り、特に経口投与に適している。
容される塩は、強力なレニン阻害活性を有し、降圧剤な
らびに心不全、腎疾患(たとえば腎不全、糖尿病性腎
症、糸球体腎炎、腎盂腎炎、ネフローゼ症候群、バータ
ー症候群、レニン分泌性腎腫瘍、腎性浮腫、高尿酸血
症、痛風など)、緑内障などの治療薬として有用であ
り、特に経口投与に適している。
【0056】治療のための投与には、本発明の目的化合
物[I]およびそれらの医薬として許容される塩の一つ
を有効成分として、これを経口、非経口投与または外用
(局所)に適した有機または無機固体、半固体または液
体賦形剤などの医薬として許容される担体と配合した医
薬製剤の形で用いる。医薬製剤としては、カプセル剤、
錠剤、糖衣錠、坐剤、顆粒、液剤、ローション剤、懸濁
液、乳剤、軟膏剤、ゲルなどを挙げることができる。必
要ならば、上記製剤に補助剤、安定化剤、湿潤剤、乳化
剤、緩衝液、その他の常用添加剤を配合してもよい。
物[I]およびそれらの医薬として許容される塩の一つ
を有効成分として、これを経口、非経口投与または外用
(局所)に適した有機または無機固体、半固体または液
体賦形剤などの医薬として許容される担体と配合した医
薬製剤の形で用いる。医薬製剤としては、カプセル剤、
錠剤、糖衣錠、坐剤、顆粒、液剤、ローション剤、懸濁
液、乳剤、軟膏剤、ゲルなどを挙げることができる。必
要ならば、上記製剤に補助剤、安定化剤、湿潤剤、乳化
剤、緩衝液、その他の常用添加剤を配合してもよい。
【0057】化合物[I]の用量は、患者の年令および
病状によっても変動するが、化合物[I]の平均一回当
り投与量として、約0.1mg、1mg、10mg、5
0mg、100mg、250mg、500mgおよび1
000mgが前記疾患の治療に有効である。一般には、
一人当り日量として0.1〜1,000mgの範囲の量
を投与すればよい。
病状によっても変動するが、化合物[I]の平均一回当
り投与量として、約0.1mg、1mg、10mg、5
0mg、100mg、250mg、500mgおよび1
000mgが前記疾患の治療に有効である。一般には、
一人当り日量として0.1〜1,000mgの範囲の量
を投与すればよい。
【0058】
【発明の効果】目的化合物[I]の有用性を示すため
に、化合物[I]のいくつかの代表的化合物の薬理試験
データを次にしめす。
に、化合物[I]のいくつかの代表的化合物の薬理試験
データを次にしめす。
【0059】試験化合物 (1) (2S,3S)−2−[Nα−[N−[N−メチ
ル−N−{2−(N−チオモルホリノカルボニル−N−
メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル]−L−フェ
ニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミ
ノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−6−メチル
ヘプタン塩酸塩
ル−N−{2−(N−チオモルホリノカルボニル−N−
メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル]−L−フェ
ニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミ
ノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−6−メチル
ヘプタン塩酸塩
【0060】(2) (2S,3S)−2−[Nα−[N
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキ
シ−5−メチルヘキサン塩酸塩
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキ
シ−5−メチルヘキサン塩酸塩
【0061】(3) (2S,3S)−2−[Nα−[N
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1,4−ジシクロヘキシル−3−ヒ
ドロキシブタン塩酸塩
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1,4−ジシクロヘキシル−3−ヒ
ドロキシブタン塩酸塩
【0062】試験方法 薬物を前投与していない男性志願者からヒト血漿を採取
し、プール血漿として用いた。エチレンジアミン四酢酸
(EDTA)2ナトリウム塩を抗凝固剤として用いた。
血漿レニン活性は血漿中の内因性レニンとアンジオテン
シノーゲンをpH6.0でインキュベーション(37
℃)後のアンジオテンシンI(AngI)生成率として
測定した。インキュベーション混合物には血漿250μ
l、フッ化フェニルメチルスルホニル5μl、緩衝液(ナ
トリウム−燐酸カリウム緩衝液、pH6.0)30μ
l、50%エチルアルコール−水溶媒中の適宜濃度の試
験化合物15μlが含まれた。90分間のインキュベー
ション後に生成するAngIを市販キット RENIN
RIABEAD(商品名、ダイナボット製)を用いて
ラジオイムノアッセイ(RIA)で測定した。試料を二
組一揃いとしてインキュベートし、各試験管について二
組一揃いとして RIAで測定を行なった。血漿レニン
活性の抑制率(%)は試験化合物の有無によるAngI
の生成量を比較することによって計算した。血漿レニン
活性を50%抑制する試験化合物の濃度(IC50)はプ
ロビット法によって求めた。
し、プール血漿として用いた。エチレンジアミン四酢酸
(EDTA)2ナトリウム塩を抗凝固剤として用いた。
血漿レニン活性は血漿中の内因性レニンとアンジオテン
シノーゲンをpH6.0でインキュベーション(37
℃)後のアンジオテンシンI(AngI)生成率として
測定した。インキュベーション混合物には血漿250μ
l、フッ化フェニルメチルスルホニル5μl、緩衝液(ナ
トリウム−燐酸カリウム緩衝液、pH6.0)30μ
l、50%エチルアルコール−水溶媒中の適宜濃度の試
験化合物15μlが含まれた。90分間のインキュベー
ション後に生成するAngIを市販キット RENIN
RIABEAD(商品名、ダイナボット製)を用いて
ラジオイムノアッセイ(RIA)で測定した。試料を二
組一揃いとしてインキュベートし、各試験管について二
組一揃いとして RIAで測定を行なった。血漿レニン
活性の抑制率(%)は試験化合物の有無によるAngI
の生成量を比較することによって計算した。血漿レニン
活性を50%抑制する試験化合物の濃度(IC50)はプ
ロビット法によって求めた。
【0063】試験結果
【表1】
【0064】
【実施例】目的化合物[I]の好ましい製造法を説明す
るために下記に製造例と実施例を掲げるが、前記化合物
の製造法はこれらに限定されるものではない。下記の製
造例および実施例において、キーゼルゲル60F254
(商標、メルク社製)(0.25mm厚)をTLCプレ
ートとして使用する。
るために下記に製造例と実施例を掲げるが、前記化合物
の製造法はこれらに限定されるものではない。下記の製
造例および実施例において、キーゼルゲル60F254
(商標、メルク社製)(0.25mm厚)をTLCプレ
ートとして使用する。
【0065】製造例1 L−フェニルアラニンベンジルエステル塩酸塩(9.4
6g)の乾燥トルエン(150ml)溶液にクロロ蟻酸
トリクロロメチル(3.94ml)を加える。130℃
で5時間撹拌後、溶液を減圧濃縮する。残留物を乾燥テ
トラヒドロフラン(100ml)に溶解し、これにN−
t−ブトキシカルボニル−N,N′−ジメチルエチレン
ジアミン(5.55g)の乾燥テトラヒドロフラン(1
0ml)溶液を室温で加える。混合物を同温で2時間撹
拌する。溶媒を留去し、残留物を酢酸エチル(500m
l)に溶解し、溶液を5%塩酸、飽和重炭酸ナトリウム
溶液および食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧濃縮する。残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル、1:
1、v/v)で精製して、N−[N−[2−(N−t−
ブトキシカルボニル−N−メチルアミノ)エチル]−N
−メチルアミノカルボニル]−L−フェニルアラニンベ
ンジルエステル(11.5g)を油状物として得る。 Rf : 0.37 (n−ヘキサン:酢酸エチル、1:1、v/
v)
6g)の乾燥トルエン(150ml)溶液にクロロ蟻酸
トリクロロメチル(3.94ml)を加える。130℃
で5時間撹拌後、溶液を減圧濃縮する。残留物を乾燥テ
トラヒドロフラン(100ml)に溶解し、これにN−
t−ブトキシカルボニル−N,N′−ジメチルエチレン
ジアミン(5.55g)の乾燥テトラヒドロフラン(1
0ml)溶液を室温で加える。混合物を同温で2時間撹
拌する。溶媒を留去し、残留物を酢酸エチル(500m
l)に溶解し、溶液を5%塩酸、飽和重炭酸ナトリウム
溶液および食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧濃縮する。残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル、1:
1、v/v)で精製して、N−[N−[2−(N−t−
ブトキシカルボニル−N−メチルアミノ)エチル]−N
−メチルアミノカルボニル]−L−フェニルアラニンベ
ンジルエステル(11.5g)を油状物として得る。 Rf : 0.37 (n−ヘキサン:酢酸エチル、1:1、v/
v)
【0066】製造例2 N−[N−[2−(N−t−ブトキシカルボニル−N−
メチルアミノ)エチル]−N−メチルアミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニンベンジルエステル(11
g)を酢酸エチル中4M塩化水素溶液(200ml)に
氷浴冷却下で溶解する。溶液を同温で30分間撹拌後、
減圧濃縮して、N−[N−[2−(N−メチルアミノ)
エチル]−N−メチルアミノカルボニル]−L−フェニ
ルアラニンベンジルエステル塩酸塩(10g)を油状物
として得る。 Rf : 0.36 (クロロホルム中10%メタノール)
メチルアミノ)エチル]−N−メチルアミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニンベンジルエステル(11
g)を酢酸エチル中4M塩化水素溶液(200ml)に
氷浴冷却下で溶解する。溶液を同温で30分間撹拌後、
減圧濃縮して、N−[N−[2−(N−メチルアミノ)
エチル]−N−メチルアミノカルボニル]−L−フェニ
ルアラニンベンジルエステル塩酸塩(10g)を油状物
として得る。 Rf : 0.36 (クロロホルム中10%メタノール)
【0067】製造例3 N−[N−[2−(N−メチルアミノ)エチル]−N−
メチルアミノカルボニル]−L−フェニルアラニンベン
ジルエステル塩酸塩(1.62g)とトリエチルアミン
(1.12ml)の塩化メチレン(20ml)溶液にN
−チオモルホリノカルボニルクロライド(0.66g)
溶液を室温で加える。同温で2時間撹拌後、溶液を減圧
濃縮する。残留物を酢酸エチル(50ml)に溶解し、
溶液を5%塩酸、飽和重炭酸ナトリウム溶液および食塩
水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
濃縮する。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(n−ヘキサン:酢酸エチル、1:1、v/v)で精
製して、N−[N−[2−(N−チオモルホリノカルボ
ニル−N−メチルアミノ)エチル]−N−メチルアミノ
カルボニル]−L−フェニルアラニンベンジルエステル
(1.51g)を油状物として得る。 Rf : 0.27 (酢酸エチル)
メチルアミノカルボニル]−L−フェニルアラニンベン
ジルエステル塩酸塩(1.62g)とトリエチルアミン
(1.12ml)の塩化メチレン(20ml)溶液にN
−チオモルホリノカルボニルクロライド(0.66g)
溶液を室温で加える。同温で2時間撹拌後、溶液を減圧
濃縮する。残留物を酢酸エチル(50ml)に溶解し、
溶液を5%塩酸、飽和重炭酸ナトリウム溶液および食塩
水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
濃縮する。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(n−ヘキサン:酢酸エチル、1:1、v/v)で精
製して、N−[N−[2−(N−チオモルホリノカルボ
ニル−N−メチルアミノ)エチル]−N−メチルアミノ
カルボニル]−L−フェニルアラニンベンジルエステル
(1.51g)を油状物として得る。 Rf : 0.27 (酢酸エチル)
【0068】製造例4 製造例3と同様にして下記の化合物を得る。 (1) N−[N−{2−[N−(ヘキサヒドロ−1H−ア
ゼピン−1−イルカルボニル)−N−メチルアミノ]エ
チル}−N−メチルアミノカルボニル]−L−フェニル
アラニンベンジルエステル Rf : 0.43 (酢酸エチル)
ゼピン−1−イルカルボニル)−N−メチルアミノ]エ
チル}−N−メチルアミノカルボニル]−L−フェニル
アラニンベンジルエステル Rf : 0.43 (酢酸エチル)
【0069】(2) N−[N−[2−(N−ピペリジノカ
ルボニル−N−メチルアミノ)エチル]−N−メチルア
ミノカルボニル]−L−フェニルアラニンベンジルエス
テル Rf : 0.43 (酢酸エチル)
ルボニル−N−メチルアミノ)エチル]−N−メチルア
ミノカルボニル]−L−フェニルアラニンベンジルエス
テル Rf : 0.43 (酢酸エチル)
【0070】(3) N−[N−{2−[N−(オクタヒド
ロアゾシン−1−イルカルボニル)−N−メチルアミ
ノ]エチル}−N−メチルアミノカルボニル]−L−フ
ェニルアラニンベンジルエステル Rf : 0.31 (酢酸エチル)
ロアゾシン−1−イルカルボニル)−N−メチルアミ
ノ]エチル}−N−メチルアミノカルボニル]−L−フ
ェニルアラニンベンジルエステル Rf : 0.31 (酢酸エチル)
【0071】(4) N−[N−[2−(N−ジプロピルカ
ルバモイル−N−メチルアミノ)エチル]−N−メチル
アミノカルボニル]−L−フェニルアラニンベンジルエ
ステル Rf : 0.39 (酢酸エチル)
ルバモイル−N−メチルアミノ)エチル]−N−メチル
アミノカルボニル]−L−フェニルアラニンベンジルエ
ステル Rf : 0.39 (酢酸エチル)
【0072】(5) N−[N−[2−[N−(1,2,
3,4−テトラヒドロ−2−イソキノリルカルボニル)
−N−メチルアミノ]エチル]−N−メチルアミノカル
ボニル]−L−フェニルアラニンベンジルエステル Rf : 0.31 (酢酸エチル)
3,4−テトラヒドロ−2−イソキノリルカルボニル)
−N−メチルアミノ]エチル]−N−メチルアミノカル
ボニル]−L−フェニルアラニンベンジルエステル Rf : 0.31 (酢酸エチル)
【0073】製造例5 N−[N−[2−(N−チオモルホリノカルボニル−N
−メチルアミノ)エチル]−N−メチルアミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニンベンジルエステル(1.5
0g)のメタノール(30ml)溶液に1N水酸化ナト
リウム水溶液(6ml)を室温で加える。同温で3時間
撹拌後、溶液を減圧濃縮する。残留物を酢酸エチル(5
0ml)に溶解し、溶液を5%塩酸および食塩水で順次
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮し
て、N−[N−[2−(N−チオモルホリノカルボニル
−N−メチルアミノ)エチル]−N−メチルアミノカル
ボニル]−L−フェニルアラニン(1.14g)を油状
物として得る。 Rf : 0.31 (クロロホルム:メタノール:酢酸、16:
1:1、v/v)
−メチルアミノ)エチル]−N−メチルアミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニンベンジルエステル(1.5
0g)のメタノール(30ml)溶液に1N水酸化ナト
リウム水溶液(6ml)を室温で加える。同温で3時間
撹拌後、溶液を減圧濃縮する。残留物を酢酸エチル(5
0ml)に溶解し、溶液を5%塩酸および食塩水で順次
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮し
て、N−[N−[2−(N−チオモルホリノカルボニル
−N−メチルアミノ)エチル]−N−メチルアミノカル
ボニル]−L−フェニルアラニン(1.14g)を油状
物として得る。 Rf : 0.31 (クロロホルム:メタノール:酢酸、16:
1:1、v/v)
【0074】製造例6 N−[N−{2−[N−(ヘキサヒドロ−1H−アゼピ
ン−1−イルカルボニル)−N−メチルアミノ]エチ
ル}−N−メチルアミノカルボニル]−L−フェニルア
ラニンベンジルエステル(1.46g)のメタノール
(20ml)溶液を10%パラジウム炭(146mg)
を触媒として水素ガス3気圧下室温で1時間水素添加す
る。溶液を濾過し、減圧濃縮して、N−[N−{2−
[N−ヘキサヒドロ−1H−アゼピン−1−イルカルボ
ニル)−N−メチルアミノ]エチル}−N−メチルアミ
ノカルボニル]−L−フェニルアラニン(1.28g)
を油状物として得る。 Rf : 0.35 (クロロホルム:メタノール:酢酸、16:
1:1、v/v)
ン−1−イルカルボニル)−N−メチルアミノ]エチ
ル}−N−メチルアミノカルボニル]−L−フェニルア
ラニンベンジルエステル(1.46g)のメタノール
(20ml)溶液を10%パラジウム炭(146mg)
を触媒として水素ガス3気圧下室温で1時間水素添加す
る。溶液を濾過し、減圧濃縮して、N−[N−{2−
[N−ヘキサヒドロ−1H−アゼピン−1−イルカルボ
ニル)−N−メチルアミノ]エチル}−N−メチルアミ
ノカルボニル]−L−フェニルアラニン(1.28g)
を油状物として得る。 Rf : 0.35 (クロロホルム:メタノール:酢酸、16:
1:1、v/v)
【0075】製造例7 製造例6と同様にして下記の化合物を得る。 (1) N−[N−[2−(N−ピペリジノカルボニル−N
−メチルアミノ)エチル]−N−メチルアミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニン Rf : 0.36 (クロロホルム:メタノール:酢酸、16:
1:1、v/v)
−メチルアミノ)エチル]−N−メチルアミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニン Rf : 0.36 (クロロホルム:メタノール:酢酸、16:
1:1、v/v)
【0076】(2) N−[N−{2−[N−(オクタヒド
ロアゾシン−1−イルカルボニル)−N−メチルアミ
ノ]エチル}−N−メチルアミノカルボニル]−L−フ
ェニルアラニン Rf : 0.25 (クロロホルム:メタノール、5:1、v/
v)
ロアゾシン−1−イルカルボニル)−N−メチルアミ
ノ]エチル}−N−メチルアミノカルボニル]−L−フ
ェニルアラニン Rf : 0.25 (クロロホルム:メタノール、5:1、v/
v)
【0077】(3) N−[N−[2−(N−ジプロピルカ
ルバモイル−N−メチルアミノ)エチル]−N−メチル
アミノカルボニル]−L−フェニルアラニン Rf : 0.29 (クロロホルム:メタノール、5:1、v/
v)
ルバモイル−N−メチルアミノ)エチル]−N−メチル
アミノカルボニル]−L−フェニルアラニン Rf : 0.29 (クロロホルム:メタノール、5:1、v/
v)
【0078】(4) N−[N−[2−[N−(1,2,
3,4−テトラヒドロ−2−イソキノリルカルボニル)
−N−メチルアミノ]エチル]−N−メチルアミノカル
ボニル]−L−フェニルアラニン Rf : 0.27 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
3,4−テトラヒドロ−2−イソキノリルカルボニル)
−N−メチルアミノ]エチル]−N−メチルアミノカル
ボニル]−L−フェニルアラニン Rf : 0.27 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0079】製造例8 N−t−ブトキシカルボニル−L−シクロヘキシルアラ
ニナール(1.36g)の乾燥テトラヒドロフラン(2
0ml)溶液を−78℃に冷却し、これに臭化イソブチ
ル(5.32g)とマグネシウム(1.04g)から調
製した臭化イソブチルマグネシウムの乾燥テトラヒドロ
フラン(25ml)溶液を滴下する。滴下終了後、反応
混合物を2.5時間かけて室温まで戻し、飽和塩化アン
モニウム水溶液(50ml)に注ぐ。得られたスラリー
を酢酸エチル(30ml×2)で抽出し、酢酸エチル抽
出物を合わせ、水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後、蒸
発に付す。残留する油状物をシリカゲル(100g)カ
ラムクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサン中10%
酢酸エチルで溶出して、(2S、3S)−2−t−ブト
キシカルボニルアミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒド
ロキシ−5−メチルヘキサン(396mg)を油状物と
して得る。 Rf : 0.42 (ベンゼン:酢酸エチル、4:1、v/v)
ニナール(1.36g)の乾燥テトラヒドロフラン(2
0ml)溶液を−78℃に冷却し、これに臭化イソブチ
ル(5.32g)とマグネシウム(1.04g)から調
製した臭化イソブチルマグネシウムの乾燥テトラヒドロ
フラン(25ml)溶液を滴下する。滴下終了後、反応
混合物を2.5時間かけて室温まで戻し、飽和塩化アン
モニウム水溶液(50ml)に注ぐ。得られたスラリー
を酢酸エチル(30ml×2)で抽出し、酢酸エチル抽
出物を合わせ、水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後、蒸
発に付す。残留する油状物をシリカゲル(100g)カ
ラムクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサン中10%
酢酸エチルで溶出して、(2S、3S)−2−t−ブト
キシカルボニルアミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒド
ロキシ−5−メチルヘキサン(396mg)を油状物と
して得る。 Rf : 0.42 (ベンゼン:酢酸エチル、4:1、v/v)
【0080】製造例9 製造例8と同様にして下記の化合物を得る。 (1) (2S、3S)−2−t−ブトキシカルボニルアミ
ノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−5−エチル
ヘプタン Rf : 0.46 (酢酸エチル:ベンゼン、1:4、v/v)
ノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−5−エチル
ヘプタン Rf : 0.46 (酢酸エチル:ベンゼン、1:4、v/v)
【0081】(2) (2S、3S)−2−t−ブトキシカ
ルボニルアミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ
−5,5−ジメチルヘキサン Rf : 0.46 (ベンゼン:酢酸エチル、4:1、v/v)
ルボニルアミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ
−5,5−ジメチルヘキサン Rf : 0.46 (ベンゼン:酢酸エチル、4:1、v/v)
【0082】(3) (2S、3S)−2−t−ブトキシカ
ルボニルアミノ−1,4−ジシクロヘキシル−3−ヒド
ロキシブタン Rf : 0.46 (ベンゼン:酢酸エチル、4:1、v/v)
ルボニルアミノ−1,4−ジシクロヘキシル−3−ヒド
ロキシブタン Rf : 0.46 (ベンゼン:酢酸エチル、4:1、v/v)
【0083】(4) (2S、3S)−2−t−ブトキシカ
ルボニルアミノ−1−シクロヘキシル−5,5−ジフェ
ニル−3−ヒドロキシペンタン Rf : 0.52 (n−ヘキサン:酢酸エチル、2:1、v/
v)
ルボニルアミノ−1−シクロヘキシル−5,5−ジフェ
ニル−3−ヒドロキシペンタン Rf : 0.52 (n−ヘキサン:酢酸エチル、2:1、v/
v)
【0084】製造例10 (2S、3S)−2−t−ブトキシカルボニルアミノ−
1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−5−メチルヘキ
サン(120mg)のトリフルオロ酢酸(3ml)溶液
を0℃で30分間撹拌する。溶媒を留去し、残留物を酢
酸エチル(10ml)に溶解する。溶液を飽和重炭酸ナ
トリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥後、真空下蒸発に付して、(2S、3S)
−2−アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
5−メチルヘキサン(82mg)を油状物として得る。 Rf : 0.30 (クロロホルム:メタノール:酢酸、16:
1:1、v/v)
1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−5−メチルヘキ
サン(120mg)のトリフルオロ酢酸(3ml)溶液
を0℃で30分間撹拌する。溶媒を留去し、残留物を酢
酸エチル(10ml)に溶解する。溶液を飽和重炭酸ナ
トリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥後、真空下蒸発に付して、(2S、3S)
−2−アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
5−メチルヘキサン(82mg)を油状物として得る。 Rf : 0.30 (クロロホルム:メタノール:酢酸、16:
1:1、v/v)
【0085】製造例11 製造例10と同様にして下記の化合物を得る。 (1) (2S、3S)−2−アミノ−1−シクロヘキシル
−3−ヒドロキシ−5−エチルヘプタン Rf : 0.30 (クロロホルム:メタノール:酢酸、16:
1:1、v/v)
−3−ヒドロキシ−5−エチルヘプタン Rf : 0.30 (クロロホルム:メタノール:酢酸、16:
1:1、v/v)
【0086】(2) (2S、3S)−2−アミノ−1−シ
クロヘキシル−3−ヒドロキシ−5,5−ジメチルヘキ
サン Rf : 0.13 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
クロヘキシル−3−ヒドロキシ−5,5−ジメチルヘキ
サン Rf : 0.13 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0087】(3) (2S、3S)−2−アミノ−1,4
−ジシクロヘキシル−3−ヒドロキシブタン Rf : 0.33 (クロロホルム:メタノール:酢酸、16:
1:1、v/v)
−ジシクロヘキシル−3−ヒドロキシブタン Rf : 0.33 (クロロホルム:メタノール:酢酸、16:
1:1、v/v)
【0088】(4) (2S、3S)−2−アミノ−3−ヒ
ドロキシ−1,5,5−トリシクロヘキシルペンタン Rf : 0.15 (ベンゼン:酢酸エチル:酢酸、20:20:
1、v/v)
ドロキシ−1,5,5−トリシクロヘキシルペンタン Rf : 0.15 (ベンゼン:酢酸エチル:酢酸、20:20:
1、v/v)
【0089】製造例12 Nα−t−ブトキシカルボニル−Nα−メチル−Nim−
トシル−L−ヒスチジン(195mg)と(2S、3
S)−2−アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキ
シ−5−メチルヘキサン(82mg)の乾燥塩化メチレ
ン(10ml)溶液を0℃に冷却し、これに1−エチル
−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド
(72mg)を加える。混合物を0℃で3時間撹拌す
る。溶媒を留去後、残留物を酢酸エチル(20ml)に
溶解し、溶液を10%クエン酸溶液、飽和重炭酸ナトリ
ウム溶液および水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮する。残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(溶離溶媒として酢酸エチル:n−ヘキサ
ン、2:3、v/v)で精製して、(2S、3S)−2
−(Nα−t−ブトキシカルボニル−Nα−メチル−N
im−トシル−L−ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘキ
シル−3−ヒドロキシ−5−メチルヘキサン(166m
g)を無定形粉末として得る。 Rf : 0.29 (酢酸エチル:n−ヘキサン、3:2、v/
v)
トシル−L−ヒスチジン(195mg)と(2S、3
S)−2−アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキ
シ−5−メチルヘキサン(82mg)の乾燥塩化メチレ
ン(10ml)溶液を0℃に冷却し、これに1−エチル
−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド
(72mg)を加える。混合物を0℃で3時間撹拌す
る。溶媒を留去後、残留物を酢酸エチル(20ml)に
溶解し、溶液を10%クエン酸溶液、飽和重炭酸ナトリ
ウム溶液および水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮する。残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(溶離溶媒として酢酸エチル:n−ヘキサ
ン、2:3、v/v)で精製して、(2S、3S)−2
−(Nα−t−ブトキシカルボニル−Nα−メチル−N
im−トシル−L−ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘキ
シル−3−ヒドロキシ−5−メチルヘキサン(166m
g)を無定形粉末として得る。 Rf : 0.29 (酢酸エチル:n−ヘキサン、3:2、v/
v)
【0090】製造例13 製造例12と同様にして下記の化合物を得る。 (1) (2S、3S)−2−(Nα−t−ブトキシカルボ
ニル−Nα−メチル−Nim−トシル−L−ヒスチジル)
アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−5−エ
チルヘプタン Rf : 0.36 (酢酸エチル:n−ヘキサン、3:2、v/
v)
ニル−Nα−メチル−Nim−トシル−L−ヒスチジル)
アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−5−エ
チルヘプタン Rf : 0.36 (酢酸エチル:n−ヘキサン、3:2、v/
v)
【0091】(2) (2S、3S)−2−(Nα−t−ブ
トキシカルボニル−Nα−メチル−Nim−トシル−L−
ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロ
キシ−5,5−ジメチルヘキサン Rf : 0.33 (酢酸エチル:n−ヘキサン、3:2、v/
v)
トキシカルボニル−Nα−メチル−Nim−トシル−L−
ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロ
キシ−5,5−ジメチルヘキサン Rf : 0.33 (酢酸エチル:n−ヘキサン、3:2、v/
v)
【0092】(3) (2S、3S)−2−(Nα−t−ブ
トキシカルボニル−Nα−メチル−Nim−トシル−L−
ヒスチジル)アミノ−1,4−ジシクロヘキシル−3−
ヒドロキシブタン Rf : 0.35 (酢酸エチル:n−ヘキサン、3:2、v/
v)
トキシカルボニル−Nα−メチル−Nim−トシル−L−
ヒスチジル)アミノ−1,4−ジシクロヘキシル−3−
ヒドロキシブタン Rf : 0.35 (酢酸エチル:n−ヘキサン、3:2、v/
v)
【0093】(4) (2S、3S)−2−(Nα−t−ブ
トキシカルボニル−Nα−メチル−Nim−トシル−L−
ヒスチジル)アミノ−3−ヒドロキシ−1,5,5−ト
リシクロヘキシルペンタン Rf : 0.64 (n−ヘキサン:酢酸エチル、1:1、v/
v)
トキシカルボニル−Nα−メチル−Nim−トシル−L−
ヒスチジル)アミノ−3−ヒドロキシ−1,5,5−ト
リシクロヘキシルペンタン Rf : 0.64 (n−ヘキサン:酢酸エチル、1:1、v/
v)
【0094】製造例14 (2S、3S)−2−(Nα−t−ブトキシカルボニル
−Nα−メチル−Nim−トシル−L−ヒスチジル)アミ
ノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−5−メチル
ヘキサン(160mg)のトリフルオロ酢酸(5ml)
溶液を0℃で2時間撹拌する。混合物を減圧濃縮後、残
留物を酢酸エチル(20ml)に溶解する。溶液を飽和
重炭酸ナトリウム溶液および飽和食塩水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮して、(2S、3S)
−2−(Nα−メチル−Nim−トシル−L−ヒスチジ
ル)アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−5
−メチルヘキサン(134mg)を無定形粉末として得
る。 Rf : 0.44 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
−Nα−メチル−Nim−トシル−L−ヒスチジル)アミ
ノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−5−メチル
ヘキサン(160mg)のトリフルオロ酢酸(5ml)
溶液を0℃で2時間撹拌する。混合物を減圧濃縮後、残
留物を酢酸エチル(20ml)に溶解する。溶液を飽和
重炭酸ナトリウム溶液および飽和食塩水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮して、(2S、3S)
−2−(Nα−メチル−Nim−トシル−L−ヒスチジ
ル)アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−5
−メチルヘキサン(134mg)を無定形粉末として得
る。 Rf : 0.44 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0095】製造例15 製造例14と同様にして下記の化合物を得る。 (1) (2S、3S)−2−(Nα−メチル−Nim−トシ
ル−L−ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘキシル−3
−ヒドロキシ−5−エチルヘプタン Rf : 0.48 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
ル−L−ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘキシル−3
−ヒドロキシ−5−エチルヘプタン Rf : 0.48 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0096】(2) (2S、3S)−2−(Nα−メチル
−Nim−トシル−L−ヒスチジル)アミノ−1−シクロ
ヘキシル−3−ヒドロキシ−5,5−ジメチルヘキサン Rf : 0.55 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
−Nim−トシル−L−ヒスチジル)アミノ−1−シクロ
ヘキシル−3−ヒドロキシ−5,5−ジメチルヘキサン Rf : 0.55 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0097】(3) (2S、3S)−2−(Nα−メチル
−Nim−トシル−L−ヒスチジル)アミノ−1,4−ジ
シクロヘキシル−3−ヒドロキシブタン Rf : 0.44 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
−Nim−トシル−L−ヒスチジル)アミノ−1,4−ジ
シクロヘキシル−3−ヒドロキシブタン Rf : 0.44 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0098】(4) (2S、3S)−2−(Nα−メチル
−Nim−トシル−L−ヒスチジル)アミノ−3−ヒドロ
キシ−1,5,5−トリシクロヘキシルペンタン Rf : 0.71 (クロロホルム:メタノール、9:1、v/
v)
−Nim−トシル−L−ヒスチジル)アミノ−3−ヒドロ
キシ−1,5,5−トリシクロヘキシルペンタン Rf : 0.71 (クロロホルム:メタノール、9:1、v/
v)
【0099】製造例16 チオモルホリノカルボニルクロライド(228mg)と
トリエチルアミン(123mg)の塩化メチレン(10
ml)溶液を0℃に冷却し、これにN−t−ブトキシカ
ルボニル−N,N′−ジメチルエチレンジアミン(20
0mg)を加える。混合物を室温で30分間撹拌し、溶
媒を減圧留去する。残留物を酢酸エチルに溶解し、溶液
を0.6N塩酸、水、飽和重炭酸ナトリウム水溶液およ
び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧濃縮して、N−t−ブトキシカルボニル−N′
−チオモルホリノカルボニル−N,N′−ジメチルエチ
レンジアミン(376mg)を油状物として得る。 Rf : 0.43 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
トリエチルアミン(123mg)の塩化メチレン(10
ml)溶液を0℃に冷却し、これにN−t−ブトキシカ
ルボニル−N,N′−ジメチルエチレンジアミン(20
0mg)を加える。混合物を室温で30分間撹拌し、溶
媒を減圧留去する。残留物を酢酸エチルに溶解し、溶液
を0.6N塩酸、水、飽和重炭酸ナトリウム水溶液およ
び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧濃縮して、N−t−ブトキシカルボニル−N′
−チオモルホリノカルボニル−N,N′−ジメチルエチ
レンジアミン(376mg)を油状物として得る。 Rf : 0.43 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0100】製造例17 N−t−ブトキシカルボニル−N′−チオモルホリノカ
ルボニル−N,N′−ジメチルエチレンジアミン(4.
92g)を酢酸エチル中4N塩化水素溶液(60ml)
に氷浴冷却下に加える。室温で30分間撹拌後、溶液を
減圧濃縮して、N−チオモルホリノカルボニル−N,
N′−ジメチルエチレンジアミン塩酸塩(3.93g)
を油状物として得る。 Rf : 0.25 (クロロホルム:メタノール:酢酸、8:
1:1、v/v)
ルボニル−N,N′−ジメチルエチレンジアミン(4.
92g)を酢酸エチル中4N塩化水素溶液(60ml)
に氷浴冷却下に加える。室温で30分間撹拌後、溶液を
減圧濃縮して、N−チオモルホリノカルボニル−N,
N′−ジメチルエチレンジアミン塩酸塩(3.93g)
を油状物として得る。 Rf : 0.25 (クロロホルム:メタノール:酢酸、8:
1:1、v/v)
【0101】製造例18 N−チオモルホリノカルボニル−N,N′−ジメチルエ
チレンジアミン(3.93g)とトリエチルアミン
(1.57g)の酢酸エチル(200ml)溶液を0℃
に冷却し、これにL−フェニルアラニンベンジルエステ
ルをクロロ蟻酸トリクロロメチルと反応させて調製した
(1S)−1−ベンジルオキシカルボニル−2−フェニ
ルエチルイソシアネート(3.63g)溶液を加える。
室温で30分間撹拌後、溶液を5%塩酸、飽和重炭酸ナ
トリウムおよび食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧濃縮する。残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン、
1:1〜1:0、v/v)で精製して、N−[N−[2
−(N−チオモルホリノカルボニル−N−メチルアミ
ノ)エチル]−N−メチルアミノカルボニル]−L−フ
ェニルアラニンベンジルエステル(4.52g)を油状
物として得る。 Rf : 0.27 (酢酸エチル)
チレンジアミン(3.93g)とトリエチルアミン
(1.57g)の酢酸エチル(200ml)溶液を0℃
に冷却し、これにL−フェニルアラニンベンジルエステ
ルをクロロ蟻酸トリクロロメチルと反応させて調製した
(1S)−1−ベンジルオキシカルボニル−2−フェニ
ルエチルイソシアネート(3.63g)溶液を加える。
室温で30分間撹拌後、溶液を5%塩酸、飽和重炭酸ナ
トリウムおよび食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧濃縮する。残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン、
1:1〜1:0、v/v)で精製して、N−[N−[2
−(N−チオモルホリノカルボニル−N−メチルアミ
ノ)エチル]−N−メチルアミノカルボニル]−L−フ
ェニルアラニンベンジルエステル(4.52g)を油状
物として得る。 Rf : 0.27 (酢酸エチル)
【0102】製造例19 (2S、3S)−2−t−ブトキシカルボニルアミノ−
1−シクロヘキシル−5,5−ジフェニル−3−ヒドロ
キシペンタン(0.74g)の酢酸(50ml)溶液を
酸化白金(0.2g)を触媒として水素ガス3気圧下3
7℃で2時間水素添加する。溶液を濾過し、減圧濃縮し
て、(2S、3S)−2−t−ブトキシカルボニルアミ
ノ−3−ヒドロキシ−1,5,5−トリシクロヘキシル
ペンタン(753mg)を油状物として得る。 Rf : 0.72 (n−ヘキサン:酢酸エチル、2:1、v/
v)
1−シクロヘキシル−5,5−ジフェニル−3−ヒドロ
キシペンタン(0.74g)の酢酸(50ml)溶液を
酸化白金(0.2g)を触媒として水素ガス3気圧下3
7℃で2時間水素添加する。溶液を濾過し、減圧濃縮し
て、(2S、3S)−2−t−ブトキシカルボニルアミ
ノ−3−ヒドロキシ−1,5,5−トリシクロヘキシル
ペンタン(753mg)を油状物として得る。 Rf : 0.72 (n−ヘキサン:酢酸エチル、2:1、v/
v)
【0103】実施例1 N−[N−[2−(N−チオモルホリノカルボニル−N
−メチルアミノ)エチル]−N−メチルアミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニン(292mg)と(2S、
3S)−2−(Nα−メチル−Nim−トシル−L−ヒス
チジル)アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ
−6−メチルヘプタン(346mg)の塩化メチレン
(7ml)溶液を0℃に冷却し、これに1−エチル−3
−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸
塩(150mg)を加える。同温で5時間撹拌後、溶液
を減圧濃縮する。残留物を酢酸エチル(20ml)に溶
解し、溶液を5%塩酸、飽和重炭酸ナトリウム溶液およ
び食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮する。残留物をN,N−ジメチルホルムア
ミド(10ml)に溶解後、この溶液に塩酸ピリジン
(751mg)を室温で加える。混合物を同温で2時間
撹拌する。溶媒を留去後、残留物を酢酸エチル(20m
l)に溶解する。溶液を食塩、1M重炭酸ナトリウム溶
液および食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧濃縮する。残留物をシリカゲル薄層クロマ
トグラフィー(クロロホルム中10%メタノール)で精
製して、(2S、3S)−2−[Nα−[N−[N−メ
チル−N−{2−(N−チオモルホリノカルボニル−N
−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル]−L−フ
ェニルアラニン]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]ア
ミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−6−メチ
ルヘプタン(300mg)を無定形粉末として得る。 Rf : 0.38 (クロロホルム中10%メタノール) FAB-MS : 769 (M+H)+
−メチルアミノ)エチル]−N−メチルアミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニン(292mg)と(2S、
3S)−2−(Nα−メチル−Nim−トシル−L−ヒス
チジル)アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ
−6−メチルヘプタン(346mg)の塩化メチレン
(7ml)溶液を0℃に冷却し、これに1−エチル−3
−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸
塩(150mg)を加える。同温で5時間撹拌後、溶液
を減圧濃縮する。残留物を酢酸エチル(20ml)に溶
解し、溶液を5%塩酸、飽和重炭酸ナトリウム溶液およ
び食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮する。残留物をN,N−ジメチルホルムア
ミド(10ml)に溶解後、この溶液に塩酸ピリジン
(751mg)を室温で加える。混合物を同温で2時間
撹拌する。溶媒を留去後、残留物を酢酸エチル(20m
l)に溶解する。溶液を食塩、1M重炭酸ナトリウム溶
液および食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧濃縮する。残留物をシリカゲル薄層クロマ
トグラフィー(クロロホルム中10%メタノール)で精
製して、(2S、3S)−2−[Nα−[N−[N−メ
チル−N−{2−(N−チオモルホリノカルボニル−N
−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル]−L−フ
ェニルアラニン]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]ア
ミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−6−メチ
ルヘプタン(300mg)を無定形粉末として得る。 Rf : 0.38 (クロロホルム中10%メタノール) FAB-MS : 769 (M+H)+
【0104】実施例2 実施例1と同様にして下記の化合物を得る。
【0105】(1) (2S、3S)−2−[Nα−[N−
[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカルボ
ニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル]
−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒスチ
ジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
5−メチルヘキサン Rf : 0.36 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v) FAB-MS : 755 (M+H)+
[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカルボ
ニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル]
−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒスチ
ジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
5−メチルヘキサン Rf : 0.36 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v) FAB-MS : 755 (M+H)+
【0106】(2) (2S、3S)−2−[Nα−[N−
[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカルボ
ニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル]
−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒスチ
ジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
5−エチルヘプタン Rf : 0.40 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v) FAB-MS : 783 (M+H)+
[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカルボ
ニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル]
−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒスチ
ジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
5−エチルヘプタン Rf : 0.40 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v) FAB-MS : 783 (M+H)+
【0107】(3) (2S、3S)−2−[Nα−[N
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキ
シ−5,5−ジメチルヘキサン Rf : 0.41 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v) FAB-MS : 769 (M+H)+
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキ
シ−5,5−ジメチルヘキサン Rf : 0.41 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v) FAB-MS : 769 (M+H)+
【0108】(4) (2S、3S)−2−[Nα−[N
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1,4−ジシクロヘキシル−3−ヒ
ドロキシブタン Rf : 0.38 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1,4−ジシクロヘキシル−3−ヒ
ドロキシブタン Rf : 0.38 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0109】(5) (2S、3S)−2−[Nα−[N
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−3−ヒドロキシ−1,5,5−トリ
シクロヘキシルペンタン Rf : 0.5 (クロロホルム:メタノール、9:1、v/v)
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−3−ヒドロキシ−1,5,5−トリ
シクロヘキシルペンタン Rf : 0.5 (クロロホルム:メタノール、9:1、v/v)
【0110】実施例3 (2S、3S)−2−[Nα−[N−[N−メチル−N
−{2−(N−チオモルホリノカルボニル−N−メチル
アミノ)エチル}アミノカルボニル]−L−フェニルア
ラニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1
−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−6−メチルヘプタ
ン(300mg)のエタノール(3ml)溶液を0℃に
冷却し、これに酢酸エチル中4M塩化水素溶液(0.1
00ml)を加える。同温で10分間撹拌後、溶液を減
圧濃縮して、(2S、3S)−2−[Nα−[N−[N
−メチル−{2−(N−チオモルホリノカルボニル−N
−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル]−L−フ
ェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]ア
ミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−6−メチ
ルヘプタン塩酸塩(310mg)を無定形粉末として得
る。 Rf : 0.38 (クロロホルム中10%メタノール)
−{2−(N−チオモルホリノカルボニル−N−メチル
アミノ)エチル}アミノカルボニル]−L−フェニルア
ラニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1
−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−6−メチルヘプタ
ン(300mg)のエタノール(3ml)溶液を0℃に
冷却し、これに酢酸エチル中4M塩化水素溶液(0.1
00ml)を加える。同温で10分間撹拌後、溶液を減
圧濃縮して、(2S、3S)−2−[Nα−[N−[N
−メチル−{2−(N−チオモルホリノカルボニル−N
−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル]−L−フ
ェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]ア
ミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−6−メチ
ルヘプタン塩酸塩(310mg)を無定形粉末として得
る。 Rf : 0.38 (クロロホルム中10%メタノール)
【0111】実施例4 実施例3と同様にして下記の化合物を得る。
【0112】(1) (2S、3S)−2−[Nα−[N−
[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカルボ
ニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル]
−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒスチ
ジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
5−メチルヘキサン塩酸塩 Rf : 0.36 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカルボ
ニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル]
−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒスチ
ジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
5−メチルヘキサン塩酸塩 Rf : 0.36 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0113】(2) (2S、3S)−2−[Nα−[N−
[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカルボ
ニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル]
−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒスチ
ジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
5−エチルヘプタン塩酸塩 Rf : 0.40 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカルボ
ニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル]
−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒスチ
ジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
5−エチルヘプタン塩酸塩 Rf : 0.40 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0114】(3) (2S、3S)−2−[Nα−[N
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキ
シ−5,5−ジメチルヘキサン塩酸塩 Rf : 0.41 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキ
シ−5,5−ジメチルヘキサン塩酸塩 Rf : 0.41 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0115】(4) (2S、3S)−2−[Nα−[N
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1,4−ジシクロヘキシル−3−ヒ
ドロキシブタン塩酸塩 Rf : 0.38 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1,4−ジシクロヘキシル−3−ヒ
ドロキシブタン塩酸塩 Rf : 0.38 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0116】(5) (2S、3S)−2−[Nα−[N
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−3−ヒドロキシ−1,5,5−トリ
シクロヘキシルペンタン塩酸塩 Rf : 0.5 (クロロホルム:メタノール、9:1、v/v)
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−3−ヒドロキシ−1,5,5−トリ
シクロヘキシルペンタン塩酸塩 Rf : 0.5 (クロロホルム:メタノール、9:1、v/v)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き 合議体 審判長 加藤 孔一 審判官 宮本 和子 審判官 田中 穣治 (56)参考文献 特開 平1−308261(JP,A) 特開 平1−165571(JP,A) 特開 平1−19071(JP,A) 特開 昭62−33141(JP,A) 特開 昭62−258365(JP,A)
Claims (5)
- 【請求項1】 式: 【化1】 [式中、R1 はチオモルホリノカルボニル、R2 は低級
アルキル基、R3 はシクロ(低級)アルキル基で置換さ
れていてもよい低級アルキル基、R4 は低級アルキル
基、Xは低級アルキレン基、Y1 は単結合または 【化2】 (式中、R5 は低級アルキル基を示す)、Y2 は−NH
−をそれぞれ意味する]で表わされる化合物およびその
塩。 - 【請求項2】 R1 がチオモルホリノカルボニル、R3
が低級アルキル基、Y2 が−NH−である請求項1に記
載の化合物。 - 【請求項3】 R1 がチオモルホリノカルボニル、Y1
が 【化3】 である請求項2に記載の化合物。 - 【請求項4】 R1 がチオモルホリノカルボニル、R3
が2−エチルブチルである請求項3に記載の化合物。 - 【請求項5】 R1 がチオモルホリノカルボニル、R2
がメチル、R4 がメチル、Xがエチレン、Y1 が 【化4】 (式中、R5 はメチルを示す)である請求項4に記載の
化合物。
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