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JP2641823B2 - アミノ酸誘導体およびその製造法 - Google Patents

アミノ酸誘導体およびその製造法

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Publication number
JP2641823B2
JP2641823B2 JP3310279A JP31027991A JP2641823B2 JP 2641823 B2 JP2641823 B2 JP 2641823B2 JP 3310279 A JP3310279 A JP 3310279A JP 31027991 A JP31027991 A JP 31027991A JP 2641823 B2 JP2641823 B2 JP 2641823B2
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acid
methyl
ethyl
reaction
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恵次 逸見
正博 閨
宏 丸澤
真也 渡邊
眞志 橋本
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Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規アミノ酸誘導体およ
びその塩に関する。より詳しくは、本発明はレニン阻害
活性を有する新規アミノ酸誘導体およびその塩、それら
の製造法、およびそれらを有効成分として含有するヒト
または動物における高血圧症、心不全、腎疾患(たとえ
ば、腎不全、糖尿病性腎症、糸球体腎炎、腎盂腎炎、ネ
フローゼ症候群、バーター症候群、レニン分泌性腎腫
瘍、腎性浮腫、高尿酸血症、痛風など]、緑内障などの
治療および/または予防に有用なレニン阻害剤に関する
ものである。さらに、目的化合物は痴呆の治療薬として
その有用性が期待される。
【0002】
【従来の技術】レニン阻害活性を有するアミノ酸誘導体
は、たとえばヨーロッパ特許出願公開No.01723
46、No.0283970、No.0300189、
No.0391180、国際特許出願公開No.WO8
7/04349、特開平2−243674などに記載さ
れているように、いくつか知られている。
【0003】
【発明の目的】本発明の一つの目的は、レニン阻害活性
を有し、降圧剤、心不全用剤、腎疾患治療剤および緑内
障治療剤として有用であり、特に経口投与に適した新規
かつ有用なアミノ酸誘導体およびその塩を提供すること
である。本発明の他の目的は、前記アミノ酸誘導体およ
びそれらの塩の製造法を提供することにある。本発明の
さらに他の目的は、前記アミノ酸誘導体およびそれらの
医薬として許容される塩を有効成分として含有する降圧
剤、心不全用剤、腎疾患治療剤および緑内障治療剤を提
供することである。
【0004】
【発明の構成】本発明の目的化合物であるアミノ酸誘導
体は、新規であり、下記の一般式[I]で表わすことが
できる。
【化5】 式中、R1 はチオモルホリノカルボニル、R2 は低級ア
ルキル基、R3 はシクロ(低級)アルキル基で置換され
ていてもよい低級アルキル基、R4 は低級アルキル基、
Xは低級アルキレン基、Y1 は単結合または
【化6】 (式中、R5 は低級アルキル基を示す)、 Y2 は−NH− を示す。
【0005】目的化合物[I]またはその塩は、下記の
反応式で示される方法によって製造することができる
が、目的化合物[I]の製造はこれらの方法に限定され
るものではない。
【0006】プロセス1 ステップ1
【化7】
【0007】ステップ2
【化8】
【0008】ステップ3
【化9】
【0009】上記各式中、R6 はN−保護基、R7 は水
素またはN−保護基およびR1 、R2 、R3 、R4
X、Y1 およびY2 はそれぞれ前記定義の通りである。
【0010】本明細書の前記および後記の記載におけ
る、本発明がその範囲内に包含する種々の定義の好適な
例を示すと、次の通りである。
【0011】「低級」とは特記なき限り炭素原子1ない
し6個をもつ基を意味して用いられる。
【0012】「シクロ(低級)アルキル基」の低級アル
キル部分は炭素原子3ないし6個の基である。
【0013】好適な「低級アルキル基」としては直鎖状
または分枝状の何れであってもよく、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、ヘキシル、イソブチ
ル、t−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチ
ル、2−エチルブチルなどを例示することができる。
【0014】好適な「シクロ(低級)アルキル基」とし
てはシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルま
たはシクロヘキシルを例示することができ、これらの中
でも好ましいものはシクロヘキシルである。
【0015】好適な「シクロ(低級)アルキル基で置換
された低級アルキル基」としてはシクロ(低級)アルキ
ル(低級)アルキル基およびジシクロ(低級)アルキル
(低級)アルキル基を挙げることができ、それらの中で
もより好ましいものはシクロヘキシルメチルおよびジシ
クロヘキシルエチルである。
【0016】好適な「低級アルキレン基」としては直鎖
状または分枝状の何れであってもよく、メチレン、エチ
レン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレ
ン、ヘキサメチレン、プロピレン、メチルメチレン、エ
チルメチレン、プロピルメチレンなどを例示することが
でき、それらの中でもより好ましいのはC1 −C4 アル
キレン基であり、最も好ましいのはメチレン、エチレ
ン、トリメチレン、テトラメチレンおよびメチルメチレ
ンである。
【0017】好適な「N−保護基」としては、置換また
は非置換低級アルカノイル基(たとえば、ホルミル、ア
セチル、プロピオニル、トリフルオロアセチルなど)、
フタロイル、低級アルコキシカルボニル基(たとえば、
t−ブトキシカルボニル、t−アミルオキシカルボニル
など)、置換または非置換アラルキルオキシカルボニル
基(たとえば、ベンジルオキシカルボニル、p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルなど)、置換または非置換ア
レンスルホニル基(たとえば、ベンゼンスルホニル、ト
シルなど)、ニトロフェニルスルフェニル、アラルキル
基(たとえば、トリチル、ベンジルなど)などを挙げる
ことができる。
【0018】好適な化合物[I]としては、R1 がチオ
モルホリノカルボニル、R2 が低級アルキル基、R3
低級アルキル基、R4 が低級アルキル基、Xが低級アル
キレン基、Y1
【化10】 (式中、R5 は低級アルキル基)およびY2 が−NH−
である化合物;R1 がチオモルホリノカルボニル、R2
が低級アルキル基、R3 が低級アルキル基、R4が低級
アルキル基、Xが低級アルキレン基、Y1 が単結合また
【化11】 (式中、R5 は低級アルキル基)およびY2 が−NH−
である化合物;R1 がチオモルホリノカルボニル、R2
が低級アルキル基、R3がシクロ(低級)アルキル基
(より好ましくはシクロヘキシル)で置換されていても
よい低級アルキル基、R4 が低級アルキル基、Xが低級
アルキレン基、Y1が単結合または
【化12】 (式中、R5 は低級アルキル基)およびY2 が−NH−
である化合物;それらの中でもより好ましいのは、R1
がチオモルホリノカルボニル、R2 が低級アルキル基、
3 が低級アルキル基、R4 が低級アルキル基、Xが低
級アルキレン基、Y1
【化13】 (式中、R5 は低級アルキル基)およびY2 が−NH−
である化合物である。
【0019】目的化合物[I]の医薬として許容される
好適な塩は、慣用的な無毒性の塩であって、有機酸付加
塩(たとえば蟻酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マ
レイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼン
スルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩など)、無機酸付
加塩(たとえば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩
など)、アミノ酸との塩(たとえばアスパラギン酸塩、
グルタミン酸塩など)などを挙げることができる。
【0020】目的化合物[I]の製造法を以下に詳細に
説明する。 プロセス1 ステップ1 化合物[IV]またはその塩は、化合物[II]もしく
はそのカルボキシ基における反応性誘導体またはそれら
の塩を化合物[III]もしくはそのアミノ基における
反応性誘導体またはそれらの塩と反応させることによっ
て製造することができる。化合物[IV]の好適な塩と
しては、化合物[I]で例示したものを挙げることがで
きる。
【0021】化合物[II]のカルボキシ基における反
応性誘導体の好適な例としては、酸ハライド、酸無水
物、活性アミド、活性エステルなどが挙げられる。反応
性誘導体の好適な例としては、酸塩化物;酸アジド;置
換燐酸(たとえば、ジアルキル燐酸、フェニル燐酸、ジ
フェニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸な
ど)、ジアルキル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、ス
ルホン酸(たとえば、メタンスルホン酸など)、脂肪族
カルボン酸(たとえば酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ
酪酸、ピバリン酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、2−
エチル酪酸、トリクロロ酢酸など)または芳香族カルボ
ン酸(たとえば、安息香酸など)などの酸との混合酸無
水物;対称酸無水物;イミダゾール、4−置換イミダゾ
ール、ジメチルピラゾール、トリアゾールまたはテトラ
ゾールとの活性アミド;または活性エステル(たとえ
ば、シアノメチルエステル、メトキシメチルエステル、
ジメチルイミノメチル[(CH32+=CH−]エス
テル、ビニルエステル、プロパルギルエステル、p−ニ
トロフェニルエステル、2,4−ジニトロフェニルエス
テル、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロフェ
ニルエステル、メシルフェニルエステル、フェニルアゾ
フェニルエステル、フェニルチオエステル、p−ニトロ
フェニルチオエステル、p−クレシルチオエステル、カ
ルボキシメチルチオエステル、ピラニルエステル、ピリ
ジルエステル、ピペリジルエステル、8−キノリルチオ
エステルなど)またはN−ヒドロキシ化合物(たとえ
ば、N,N−ジメチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロ
キシ−2−(1H)−ピリドン、N−ヒドロキシスクシ
ンイミド、N−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキ
シ−1H−ベンゾトリアゾールなど)とのエステルなど
を挙げることができる。これらの反応性誘導体は、使用
する化合物[II]の種類に応じて適宜選択すればよ
い。
【0022】化合物[II]およびその反応性誘導体の
好適な塩としては、塩基との塩、たとえばアルカリ金属
塩(たとえばナトリウム塩、カリウム塩など)、アルカ
リ土類金属塩(たとえばカルシウム塩、マグネシウム塩
など)、アンモニウム塩、有機塩基との塩(たとえばト
リメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、
ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N,N′−ジ
ベンジルエチレンジアミン塩など)など、化合物[I]
で例示した酸付加塩などを挙げることができる。
【0023】化合物[III]のアミノ基における反応
性誘導体の好適な例としては、化合物[III]とアル
デヒド、ケトンなどのカルボニル化合物との反応によっ
て形成されるシッフ塩基型のイミノ化合物またはそのエ
ナミン型互変異性体;化合物[III]とシリル化合
物、たとえばビス(トリメチルシリル)アセタミド、モ
ノ(トリメチルシリル)アセタミド、ビス(トリメチル
シリル)尿素など、その反応によって形成されるシリル
誘導体;化合物[III]と三塩化燐またはホスゲンと
の反応によって形成される誘導体などが挙げられる。
【0024】化合物[III]およびその反応性誘導体
の好適な塩としては、化合物[I]で例示したものを挙
げることができる。反応は、通常、水、アルコール(た
とえばメタノール、エタノールなど)、アセトン、ジオ
キサン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレ
ン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、
N,N−ジメチルホルムアミド、ピリジン、その他反応
に悪影響を及ぼさない有機溶媒などの慣用の溶媒中で行
われる。これらの慣用の溶媒は水との混合物としても使
用することができる。
【0025】この反応では、化合物[II]を遊離酸ま
たはその塩の形で用いる場合、慣用の縮合剤、たとえば
N,N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド;N−シク
ロヘキシル−N′−モルホリノエチルカルボジイミド;
N−シクロヘキシル−N′−(4−ジエチルアミノシク
ロヘキシル)カルボジイミド;N,N′−ジエチルカル
ボジイミド、N,N′−ジイソプロピルカルボジイミ
ド;N−エチル−N′−(3−ジメチルアミノプロピ
ル)カルボジイミド;N,N′−カルボニルビス(2−
メチルイミダゾール);ペンタメチレンケテン−N−シ
クロヘキシルイミン;ジフェニルケテン−N−シクロヘ
キシルイミン;エトキシアセチレン;1−アルコキシ−
1−クロロエチレン;トリアルキルホスファイト;エチ
ルポリホスフェイト;イソプロピルポリホスフェイト;
オキシ塩化燐(塩化ホスホリル);三塩化燐;ジフェニ
ルホスホリルアジド;塩化チオニル;塩化オギザリル;
ハロ蟻酸低級アルキル(たとえばクロロ蟻酸エチル、ク
ロロ蟻酸イソプロピルなど);トリフェニルホスフィ
ン;2−エチル−7−ヒドロキシベンズイソオキサゾリ
ウム塩;水酸化2−エチル−5−(m−スルホフェニ
ル)イソオキサゾリウム分子内塩;1−(p−クロロベ
ンゼンスルホニルオキシ)−6−クロロ−1H−ベンゾ
トリアゾール;N,N−ジメチルホルムアミドと塩化チ
オニル、ホスゲン、クロロ蟻酸トリクロロメチル、オキ
シ塩化燐、塩化オギザリルとを反応させて調製するいわ
ゆるビルスマイヤー試薬など、の存在下で反応を行うこ
とが好ましい。
【0026】反応は、アルカリ金属重炭酸塩、トリ(低
級)アルキルアミン、ピリジン、N−(低級)アルキル
モルホリン、N,N−ジ(低級)アルキルベンジルアミ
ンなどの無機または有機塩基の存在下で行うこともでき
る。反応温度は特に限定されず、通常、冷却ないし加温
下で反応は行われる。
【0027】ステップ2 化合物[V]またはその塩は、化合物[IV]またはそ
の塩をN−保護基脱離反応に付すことによって製造する
ことができる。化合物[V]の好適な塩としては化合物
[I]で例示したものを挙げることができる。
【0028】この反応は加水分解、還元などの慣用の方
法に従って行われる。加水分解は塩基またはルイス酸を
含む酸の存在下で行うことが好ましい。
【0029】好適な塩基としては、アルカリ金属(たと
えばナトリウム、カリウムなど)、アルカリ土類金属
(たとえばマグネシウム、カルシウムなど)、それらの
水酸化物もしくは炭酸塩もしくは重炭酸塩、ヒドラジ
ン、トリアルキルアミン(たとえばトリメチルアミン、
トリエチルアミンなど)、ピコリン、1,5−ジアザビ
シクロ[4.3.0]−ノネン−5、1,4−ジアザビ
シクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシク
ロ[5.4.0]ウンデセン−7などの無機塩基および
有機塩基が挙げられる。
【0030】好適な酸としては、有機酸(たとえば蟻
酸、酢酸、プロピオン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオ
ロ酢酸など)、無機酸(たとえば塩酸、臭化水素酸、硫
酸、塩化水素、臭化水素、沸化水素など)および酸付加
塩化合物(たとえば塩酸ピリジンなど)を挙げることが
できる。
【0031】トリハロ酢酸(たとえばトリクロロ酢酸、
トリフルオロ酢酸など)などを用いる脱離反応は、カチ
オン捕捉剤(たとえばアニソール、フェノールなど)の
存在下で行うことが好ましい。
【0032】反応は、通常、水、アルコール(たとえば
メタノール、エタノールなど)、塩化メチレン、クロロ
ホルム、テトラクロロメタン、テトラヒドロフラン、そ
れらの混合物、その他反応に悪影響を及ぼさない溶媒な
どの溶媒中で行われる。液状の塩基または酸は溶媒とし
ても用いられる。反応温度は特に限定されず、通常、冷
却ないし加熱下で反応は行われる。
【0033】脱離反応に適用される還元法としては、化
学還元および接触還元を挙げることができる。化学還元
に用いられる好適な還元剤としては、金属(たとえば
錫、亜鉛、鉄など)または金属化合物(たとえば塩化ク
ロム、酢酸クロムなど)と有機または無機酸(たとえば
蟻酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、p−ト
ルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸など)との組合せ
を挙げることができる。
【0034】接触還元に用いられる好適な触媒として
は、白金触媒(たとえば白金板、白金海綿、白金黒、コ
ロイド白金、酸化白金、白金線など)、パラジウム触媒
(たとえばパラジウム海綿、パラジウム黒、酸化パラジ
ウム、パラジウム炭、コロイドパラジウム、パラジウム
硫酸バリウム、パラジウム炭酸バリウムなど)、ニッケ
ル触媒(たとえば還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネー
ニッケルなど)、コバルト触媒(たとえば還元コバル
ト、ラネーコバルトなど)、鉄触媒(たとえば還元鉄、
ラネー鉄など)、銅触媒(たとえば還元銅、ラネー銅、
ウルマン銅など)などの慣用のものを挙げることができ
る。
【0035】還元は、通常、水、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、N,N−ジメチルホルムアミド、そ
れらの混合物などの反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶
媒中で行われる。さらに、化学還元に用いられる前記の
酸が液状の場合、これらは溶媒としても使用できる。ま
た、接触還元に用いる好適な溶媒として、前記の溶媒な
らびにその他の慣用の溶媒、たとえばジエチルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフランなど、またはそれ
らの混合物を挙げることができる。この還元の反応温度
は特に限定されず、通常、冷却下ないし加熱下で反応は
行われる。
【0036】ステップ3 目的化合物[I]またはその塩は、化合物[V]もしく
はそのアミノ基における反応性誘導体またはそれらの塩
を化合物[VI]もしくはそのカルボキシ基における反
応性誘導体またはそれらの塩と反応させ、必要に応じて
N−保護基を脱離することによって製造することができ
る。化合物[VI]の好適な塩としては化合物[II]
で例示した塩基との塩を挙げることができる。
【0037】この反応は、ステップ1と実質的に同様に
して実施することができ、従って、この反応の方式およ
び条件(たとえば反応性誘導体、縮合剤、溶媒、反応温
度など)としては、ステップ1で説明したものをそのま
ま挙げることができる。
【0038】化合物[V]のイミダゾール基が保護され
ている場合、化合物[V]と化合物[VI]との反応生
成物をさらにN−保護基脱離反応に付すことによって目
的化合物[I]を製造することができる。この脱離反応
は、ステップ2と実質的に同様にして実施することがで
き、従って、この反応の方式および条件(たとえば塩
基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温度など)として
は、このプロセスのステップ2で説明したものをそのま
ま挙げることができる。
【0039】原料化合物[VI]のうち、あるものは新
規であり、下記の反応式で示される方法で製造すること
ができる。
【0040】プロセスA
【化14】
【0041】プロセスB
【化15】
【0042】プロセスC
【化16】
【0043】プロセスD
【化17】
【0044】プロセスE
【化18】
【0045】上記各式中、R8 は保護されたカルボキシ
基、R9 はN−保護基、およびR1 、R4 、R5 、X、
1 およびY2 はそれぞれ前記定義の通りである。
【0046】「保護されたカルボキシ基」の好適な例と
しては、慣用の保護基で保護されたカルボキシ基、たと
えば低級アルコキシカルボニル基(たとえば、メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニ
ル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、
sec−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニ
ル、t−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニ
ル、ネオペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカ
ルボニルなど)、置換または非置換のアル(低級)アル
コキシカルボニル基、たとえばニトロ基で置換されてい
てもよいモノ、ジまたはトリフェニル(低級)アルコキ
シカルボニル基(たとえばベンジルオキシカルボニル、
4−ニトロベンジルオキシカルボニル、ベンズヒドリル
オキシカルボニル、トリチルオキシカルボニルなど)な
どを挙げることができる。
【0047】原料化合物の前記製造法を次に詳細に説明
する。 プロセスA 化合物[IX]は化合物[VII]またはその塩と化合
物[VIII]またはその塩をカルボニル基導入反応に
付すことによって製造することができる。化合物[VI
I]および[VIII]の好適な塩としては化合物
[I]で例示したものを挙げることができる。
【0048】この反応は、カルボニル基導入試薬たとえ
ばホスゲン、ハロ蟻酸エステル化合物(たとえばクロロ
蟻酸エチル、クロロ蟻酸トリクロロメチルなど)、N,
N′−カルボニルジイミダゾール、金属カルボニル化合
物(たとえばコバルトカルボニル、マンガンカルボニル
など)、一酸化炭素と塩化パラジウムなどの触媒との組
合せなどの存在下で行われる。
【0049】この反応は、通常、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、ベンゼン、トルエン、クロロホルム、塩化
メチレン、N,N−ジメチルホルムアミド、その他反応
に悪影響を及ぼさない有機溶媒などの溶媒中で行われ
る。反応温度は特に限定されず、通常、冷却ないし加熱
下で反応は行われる。
【0050】プロセスB 化合物[VI]またはその塩は化合物[IX]をカルボ
キシ保護基脱離反応に付すことによって製造することが
できる。化合物[VI]の好適な塩としては化合物[I
I]で例示した塩基との塩を挙げることができる。この
反応はプロセス1のステップ2と実質的に同様にして実
施することができ、従って、この反応の方式および条件
(たとえば塩基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温度な
ど)としては、プロセス1のステップ2で説明したもの
をそのまま挙げることができる。
【0051】プロセスC 化合物[XI]は化合物[VIII]またはその塩と化
合物[X]またはその塩をカルボニル基導入反応に付す
ことによって製造することができる。この反応はプロセ
スAと実質的に同様にして実施することができ、従っ
て、この反応の方式および条件(たとえばカルボニル基
導入試薬、溶媒、反応温度など)としては、プロセスA
で説明したものをそのまま挙げることができる。
【0052】プロセスD 化合物[XII]またはその塩は化合物[XI]または
その塩をN−保護基脱離反応に付すことにより製造する
ことができる。化合物[XII]の好適な塩としては化
合物[I]で例示したものを挙げることができる。この
反応はプロセス1のステップ2と実質的に同様にして実
施することができ、従って、この反応の方式および条件
(たとえば塩基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温度な
ど)としては、プロセス1のステップ2で説明したもの
をそのまま挙げることができる。
【0053】プロセスE 化合物[IXa]は化合物[XII]もしくはそのアミ
ノ基における反応性誘導体またはそれらの塩を化合物
[XIII]もしくはそのカルボキシ基における反応性
誘導体またはそれらの塩と反応させることによって製造
することができる。化合物[XII]の好適な塩として
は化合物[I]で例示したものを挙げることができる。
化合物[XIII]の好適な塩としては化合物[II]
で例示した塩基との塩を挙げることができる。この反応
はプロセス1のステップ1と実質的に同様にして実施す
ることができ、従って、この反応の方式および条件(た
とえば反応性誘導体、縮合剤、溶媒、反応温度など)と
しては、プロセス1のステップ1で説明したものをその
まま挙げることができる。
【0054】前記製造法で得た化合物は、粉末化、再結
晶、カラムクロマトグラフィー、再析出などの常法によ
り単離、精製できる。化合物[I]ならびにその他の化
合物には、不斉炭素に由来する立体異性体が1個以上存
在する場合があるが、すべてのそれらの異性体およびそ
れらの混合物もこの発明の範囲に包含されるものであ
る。
【0055】目的化合物[I]およびその医薬として許
容される塩は、強力なレニン阻害活性を有し、降圧剤な
らびに心不全、腎疾患(たとえば腎不全、糖尿病性腎
症、糸球体腎炎、腎盂腎炎、ネフローゼ症候群、バータ
ー症候群、レニン分泌性腎腫瘍、腎性浮腫、高尿酸血
症、痛風など)、緑内障などの治療薬として有用であ
り、特に経口投与に適している。
【0056】治療のための投与には、本発明の目的化合
物[I]およびそれらの医薬として許容される塩の一つ
を有効成分として、これを経口、非経口投与または外用
(局所)に適した有機または無機固体、半固体または液
体賦形剤などの医薬として許容される担体と配合した医
薬製剤の形で用いる。医薬製剤としては、カプセル剤、
錠剤、糖衣錠、坐剤、顆粒、液剤、ローション剤、懸濁
液、乳剤、軟膏剤、ゲルなどを挙げることができる。必
要ならば、上記製剤に補助剤、安定化剤、湿潤剤、乳化
剤、緩衝液、その他の常用添加剤を配合してもよい。
【0057】化合物[I]の用量は、患者の年令および
病状によっても変動するが、化合物[I]の平均一回当
り投与量として、約0.1mg、1mg、10mg、5
0mg、100mg、250mg、500mgおよび1
000mgが前記疾患の治療に有効である。一般には、
一人当り日量として0.1〜1,000mgの範囲の量
を投与すればよい。
【0058】
【発明の効果】目的化合物[I]の有用性を示すため
に、化合物[I]のいくつかの代表的化合物の薬理試験
データを次にしめす。
【0059】試験化合物 (1) (2S,3S)−2−[Nα−[N−[N−メチ
ル−N−{2−(N−チオモルホリノカルボニル−N−
メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル]−L−フェ
ニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミ
ノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−6−メチル
ヘプタン塩酸塩
【0060】(2) (2S,3S)−2−[Nα−[N
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキ
シ−5−メチルヘキサン塩酸塩
【0061】(3) (2S,3S)−2−[Nα−[N
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1,4−ジシクロヘキシル−3−ヒ
ドロキシブタン塩酸塩
【0062】試験方法 薬物を前投与していない男性志願者からヒト血漿を採取
し、プール血漿として用いた。エチレンジアミン四酢酸
(EDTA)2ナトリウム塩を抗凝固剤として用いた。
血漿レニン活性は血漿中の内因性レニンとアンジオテン
シノーゲンをpH6.0でインキュベーション(37
℃)後のアンジオテンシンI(AngI)生成率として
測定した。インキュベーション混合物には血漿250μ
l、フッ化フェニルメチルスルホニル5μl、緩衝液(ナ
トリウム−燐酸カリウム緩衝液、pH6.0)30μ
l、50%エチルアルコール−水溶媒中の適宜濃度の試
験化合物15μlが含まれた。90分間のインキュベー
ション後に生成するAngIを市販キット RENIN
RIABEAD(商品名、ダイナボット製)を用いて
ラジオイムノアッセイ(RIA)で測定した。試料を二
組一揃いとしてインキュベートし、各試験管について二
組一揃いとして RIAで測定を行なった。血漿レニン
活性の抑制率(%)は試験化合物の有無によるAngI
の生成量を比較することによって計算した。血漿レニン
活性を50%抑制する試験化合物の濃度(IC50)はプ
ロビット法によって求めた。
【0063】試験結果
【表1】
【0064】
【実施例】目的化合物[I]の好ましい製造法を説明す
るために下記に製造例と実施例を掲げるが、前記化合物
の製造法はこれらに限定されるものではない。下記の製
造例および実施例において、キーゼルゲル60F254
(商標、メルク社製)(0.25mm厚)をTLCプレ
ートとして使用する。
【0065】製造例1 L−フェニルアラニンベンジルエステル塩酸塩(9.4
6g)の乾燥トルエン(150ml)溶液にクロロ蟻酸
トリクロロメチル(3.94ml)を加える。130℃
で5時間撹拌後、溶液を減圧濃縮する。残留物を乾燥テ
トラヒドロフラン(100ml)に溶解し、これにN−
t−ブトキシカルボニル−N,N′−ジメチルエチレン
ジアミン(5.55g)の乾燥テトラヒドロフラン(1
0ml)溶液を室温で加える。混合物を同温で2時間撹
拌する。溶媒を留去し、残留物を酢酸エチル(500m
l)に溶解し、溶液を5%塩酸、飽和重炭酸ナトリウム
溶液および食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧濃縮する。残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル、1:
1、v/v)で精製して、N−[N−[2−(N−t−
ブトキシカルボニル−N−メチルアミノ)エチル]−N
−メチルアミノカルボニル]−L−フェニルアラニンベ
ンジルエステル(11.5g)を油状物として得る。 Rf : 0.37 (n−ヘキサン:酢酸エチル、1:1、v/
v)
【0066】製造例2 N−[N−[2−(N−t−ブトキシカルボニル−N−
メチルアミノ)エチル]−N−メチルアミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニンベンジルエステル(11
g)を酢酸エチル中4M塩化水素溶液(200ml)に
氷浴冷却下で溶解する。溶液を同温で30分間撹拌後、
減圧濃縮して、N−[N−[2−(N−メチルアミノ)
エチル]−N−メチルアミノカルボニル]−L−フェニ
ルアラニンベンジルエステル塩酸塩(10g)を油状物
として得る。 Rf : 0.36 (クロロホルム中10%メタノール)
【0067】製造例3 N−[N−[2−(N−メチルアミノ)エチル]−N−
メチルアミノカルボニル]−L−フェニルアラニンベン
ジルエステル塩酸塩(1.62g)とトリエチルアミン
(1.12ml)の塩化メチレン(20ml)溶液にN
−チオモルホリノカルボニルクロライド(0.66g)
溶液を室温で加える。同温で2時間撹拌後、溶液を減圧
濃縮する。残留物を酢酸エチル(50ml)に溶解し、
溶液を5%塩酸、飽和重炭酸ナトリウム溶液および食塩
水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
濃縮する。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(n−ヘキサン:酢酸エチル、1:1、v/v)で精
製して、N−[N−[2−(N−チオモルホリノカルボ
ニル−N−メチルアミノ)エチル]−N−メチルアミノ
カルボニル]−L−フェニルアラニンベンジルエステル
(1.51g)を油状物として得る。 Rf : 0.27 (酢酸エチル)
【0068】製造例4 製造例3と同様にして下記の化合物を得る。 (1) N−[N−{2−[N−(ヘキサヒドロ−1H−ア
ゼピン−1−イルカルボニル)−N−メチルアミノ]エ
チル}−N−メチルアミノカルボニル]−L−フェニル
アラニンベンジルエステル Rf : 0.43 (酢酸エチル)
【0069】(2) N−[N−[2−(N−ピペリジノカ
ルボニル−N−メチルアミノ)エチル]−N−メチルア
ミノカルボニル]−L−フェニルアラニンベンジルエス
テル Rf : 0.43 (酢酸エチル)
【0070】(3) N−[N−{2−[N−(オクタヒド
ロアゾシン−1−イルカルボニル)−N−メチルアミ
ノ]エチル}−N−メチルアミノカルボニル]−L−フ
ェニルアラニンベンジルエステル Rf : 0.31 (酢酸エチル)
【0071】(4) N−[N−[2−(N−ジプロピルカ
ルバモイル−N−メチルアミノ)エチル]−N−メチル
アミノカルボニル]−L−フェニルアラニンベンジルエ
ステル Rf : 0.39 (酢酸エチル)
【0072】(5) N−[N−[2−[N−(1,2,
3,4−テトラヒドロ−2−イソキノリルカルボニル)
−N−メチルアミノ]エチル]−N−メチルアミノカル
ボニル]−L−フェニルアラニンベンジルエステル Rf : 0.31 (酢酸エチル)
【0073】製造例5 N−[N−[2−(N−チオモルホリノカルボニル−N
−メチルアミノ)エチル]−N−メチルアミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニンベンジルエステル(1.5
0g)のメタノール(30ml)溶液に1N水酸化ナト
リウム水溶液(6ml)を室温で加える。同温で3時間
撹拌後、溶液を減圧濃縮する。残留物を酢酸エチル(5
0ml)に溶解し、溶液を5%塩酸および食塩水で順次
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮し
て、N−[N−[2−(N−チオモルホリノカルボニル
−N−メチルアミノ)エチル]−N−メチルアミノカル
ボニル]−L−フェニルアラニン(1.14g)を油状
物として得る。 Rf : 0.31 (クロロホルム:メタノール:酢酸、16:
1:1、v/v)
【0074】製造例6 N−[N−{2−[N−(ヘキサヒドロ−1H−アゼピ
ン−1−イルカルボニル)−N−メチルアミノ]エチ
ル}−N−メチルアミノカルボニル]−L−フェニルア
ラニンベンジルエステル(1.46g)のメタノール
(20ml)溶液を10%パラジウム炭(146mg)
を触媒として水素ガス3気圧下室温で1時間水素添加す
る。溶液を濾過し、減圧濃縮して、N−[N−{2−
[N−ヘキサヒドロ−1H−アゼピン−1−イルカルボ
ニル)−N−メチルアミノ]エチル}−N−メチルアミ
ノカルボニル]−L−フェニルアラニン(1.28g)
を油状物として得る。 Rf : 0.35 (クロロホルム:メタノール:酢酸、16:
1:1、v/v)
【0075】製造例7 製造例6と同様にして下記の化合物を得る。 (1) N−[N−[2−(N−ピペリジノカルボニル−N
−メチルアミノ)エチル]−N−メチルアミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニン Rf : 0.36 (クロロホルム:メタノール:酢酸、16:
1:1、v/v)
【0076】(2) N−[N−{2−[N−(オクタヒド
ロアゾシン−1−イルカルボニル)−N−メチルアミ
ノ]エチル}−N−メチルアミノカルボニル]−L−フ
ェニルアラニン Rf : 0.25 (クロロホルム:メタノール、5:1、v/
v)
【0077】(3) N−[N−[2−(N−ジプロピルカ
ルバモイル−N−メチルアミノ)エチル]−N−メチル
アミノカルボニル]−L−フェニルアラニン Rf : 0.29 (クロロホルム:メタノール、5:1、v/
v)
【0078】(4) N−[N−[2−[N−(1,2,
3,4−テトラヒドロ−2−イソキノリルカルボニル)
−N−メチルアミノ]エチル]−N−メチルアミノカル
ボニル]−L−フェニルアラニン Rf : 0.27 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0079】製造例8 N−t−ブトキシカルボニル−L−シクロヘキシルアラ
ニナール(1.36g)の乾燥テトラヒドロフラン(2
0ml)溶液を−78℃に冷却し、これに臭化イソブチ
ル(5.32g)とマグネシウム(1.04g)から調
製した臭化イソブチルマグネシウムの乾燥テトラヒドロ
フラン(25ml)溶液を滴下する。滴下終了後、反応
混合物を2.5時間かけて室温まで戻し、飽和塩化アン
モニウム水溶液(50ml)に注ぐ。得られたスラリー
を酢酸エチル(30ml×2)で抽出し、酢酸エチル抽
出物を合わせ、水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後、蒸
発に付す。残留する油状物をシリカゲル(100g)カ
ラムクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサン中10%
酢酸エチルで溶出して、(2S、3S)−2−t−ブト
キシカルボニルアミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒド
ロキシ−5−メチルヘキサン(396mg)を油状物と
して得る。 Rf : 0.42 (ベンゼン:酢酸エチル、4:1、v/v)
【0080】製造例9 製造例8と同様にして下記の化合物を得る。 (1) (2S、3S)−2−t−ブトキシカルボニルアミ
ノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−5−エチル
ヘプタン Rf : 0.46 (酢酸エチル:ベンゼン、1:4、v/v)
【0081】(2) (2S、3S)−2−t−ブトキシカ
ルボニルアミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ
−5,5−ジメチルヘキサン Rf : 0.46 (ベンゼン:酢酸エチル、4:1、v/v)
【0082】(3) (2S、3S)−2−t−ブトキシカ
ルボニルアミノ−1,4−ジシクロヘキシル−3−ヒド
ロキシブタン Rf : 0.46 (ベンゼン:酢酸エチル、4:1、v/v)
【0083】(4) (2S、3S)−2−t−ブトキシカ
ルボニルアミノ−1−シクロヘキシル−5,5−ジフェ
ニル−3−ヒドロキシペンタン Rf : 0.52 (n−ヘキサン:酢酸エチル、2:1、v/
v)
【0084】製造例10 (2S、3S)−2−t−ブトキシカルボニルアミノ−
1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−5−メチルヘキ
サン(120mg)のトリフルオロ酢酸(3ml)溶液
を0℃で30分間撹拌する。溶媒を留去し、残留物を酢
酸エチル(10ml)に溶解する。溶液を飽和重炭酸ナ
トリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥後、真空下蒸発に付して、(2S、3S)
−2−アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
5−メチルヘキサン(82mg)を油状物として得る。 Rf : 0.30 (クロロホルム:メタノール:酢酸、16:
1:1、v/v)
【0085】製造例11 製造例10と同様にして下記の化合物を得る。 (1) (2S、3S)−2−アミノ−1−シクロヘキシル
−3−ヒドロキシ−5−エチルヘプタン Rf : 0.30 (クロロホルム:メタノール:酢酸、16:
1:1、v/v)
【0086】(2) (2S、3S)−2−アミノ−1−シ
クロヘキシル−3−ヒドロキシ−5,5−ジメチルヘキ
サン Rf : 0.13 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0087】(3) (2S、3S)−2−アミノ−1,4
−ジシクロヘキシル−3−ヒドロキシブタン Rf : 0.33 (クロロホルム:メタノール:酢酸、16:
1:1、v/v)
【0088】(4) (2S、3S)−2−アミノ−3−ヒ
ドロキシ−1,5,5−トリシクロヘキシルペンタン Rf : 0.15 (ベンゼン:酢酸エチル:酢酸、20:20:
1、v/v)
【0089】製造例12 Nα−t−ブトキシカルボニル−Nα−メチル−Nim
トシル−L−ヒスチジン(195mg)と(2S、3
S)−2−アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキ
シ−5−メチルヘキサン(82mg)の乾燥塩化メチレ
ン(10ml)溶液を0℃に冷却し、これに1−エチル
−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド
(72mg)を加える。混合物を0℃で3時間撹拌す
る。溶媒を留去後、残留物を酢酸エチル(20ml)に
溶解し、溶液を10%クエン酸溶液、飽和重炭酸ナトリ
ウム溶液および水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮する。残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(溶離溶媒として酢酸エチル:n−ヘキサ
ン、2:3、v/v)で精製して、(2S、3S)−2
−(Nα−t−ブトキシカルボニル−Nα−メチル−N
im−トシル−L−ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘキ
シル−3−ヒドロキシ−5−メチルヘキサン(166m
g)を無定形粉末として得る。 Rf : 0.29 (酢酸エチル:n−ヘキサン、3:2、v/
v)
【0090】製造例13 製造例12と同様にして下記の化合物を得る。 (1) (2S、3S)−2−(Nα−t−ブトキシカルボ
ニル−Nα−メチル−Nim−トシル−L−ヒスチジル)
アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−5−エ
チルヘプタン Rf : 0.36 (酢酸エチル:n−ヘキサン、3:2、v/
v)
【0091】(2) (2S、3S)−2−(Nα−t−ブ
トキシカルボニル−Nα−メチル−Nim−トシル−L−
ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロ
キシ−5,5−ジメチルヘキサン Rf : 0.33 (酢酸エチル:n−ヘキサン、3:2、v/
v)
【0092】(3) (2S、3S)−2−(Nα−t−ブ
トキシカルボニル−Nα−メチル−Nim−トシル−L−
ヒスチジル)アミノ−1,4−ジシクロヘキシル−3−
ヒドロキシブタン Rf : 0.35 (酢酸エチル:n−ヘキサン、3:2、v/
v)
【0093】(4) (2S、3S)−2−(Nα−t−ブ
トキシカルボニル−Nα−メチル−Nim−トシル−L−
ヒスチジル)アミノ−3−ヒドロキシ−1,5,5−ト
リシクロヘキシルペンタン Rf : 0.64 (n−ヘキサン:酢酸エチル、1:1、v/
v)
【0094】製造例14 (2S、3S)−2−(Nα−t−ブトキシカルボニル
−Nα−メチル−Nim−トシル−L−ヒスチジル)アミ
ノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−5−メチル
ヘキサン(160mg)のトリフルオロ酢酸(5ml)
溶液を0℃で2時間撹拌する。混合物を減圧濃縮後、残
留物を酢酸エチル(20ml)に溶解する。溶液を飽和
重炭酸ナトリウム溶液および飽和食塩水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮して、(2S、3S)
−2−(Nα−メチル−Nim−トシル−L−ヒスチジ
ル)アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−5
−メチルヘキサン(134mg)を無定形粉末として得
る。 Rf : 0.44 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0095】製造例15 製造例14と同様にして下記の化合物を得る。 (1) (2S、3S)−2−(Nα−メチル−Nim−トシ
ル−L−ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘキシル−3
−ヒドロキシ−5−エチルヘプタン Rf : 0.48 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0096】(2) (2S、3S)−2−(Nα−メチル
−Nim−トシル−L−ヒスチジル)アミノ−1−シクロ
ヘキシル−3−ヒドロキシ−5,5−ジメチルヘキサン Rf : 0.55 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0097】(3) (2S、3S)−2−(Nα−メチル
−Nim−トシル−L−ヒスチジル)アミノ−1,4−ジ
シクロヘキシル−3−ヒドロキシブタン Rf : 0.44 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0098】(4) (2S、3S)−2−(Nα−メチル
−Nim−トシル−L−ヒスチジル)アミノ−3−ヒドロ
キシ−1,5,5−トリシクロヘキシルペンタン Rf : 0.71 (クロロホルム:メタノール、9:1、v/
v)
【0099】製造例16 チオモルホリノカルボニルクロライド(228mg)と
トリエチルアミン(123mg)の塩化メチレン(10
ml)溶液を0℃に冷却し、これにN−t−ブトキシカ
ルボニル−N,N′−ジメチルエチレンジアミン(20
0mg)を加える。混合物を室温で30分間撹拌し、溶
媒を減圧留去する。残留物を酢酸エチルに溶解し、溶液
を0.6N塩酸、水、飽和重炭酸ナトリウム水溶液およ
び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧濃縮して、N−t−ブトキシカルボニル−N′
−チオモルホリノカルボニル−N,N′−ジメチルエチ
レンジアミン(376mg)を油状物として得る。 Rf : 0.43 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0100】製造例17 N−t−ブトキシカルボニル−N′−チオモルホリノカ
ルボニル−N,N′−ジメチルエチレンジアミン(4.
92g)を酢酸エチル中4N塩化水素溶液(60ml)
に氷浴冷却下に加える。室温で30分間撹拌後、溶液を
減圧濃縮して、N−チオモルホリノカルボニル−N,
N′−ジメチルエチレンジアミン塩酸塩(3.93g)
を油状物として得る。 Rf : 0.25 (クロロホルム:メタノール:酢酸、8:
1:1、v/v)
【0101】製造例18 N−チオモルホリノカルボニル−N,N′−ジメチルエ
チレンジアミン(3.93g)とトリエチルアミン
(1.57g)の酢酸エチル(200ml)溶液を0℃
に冷却し、これにL−フェニルアラニンベンジルエステ
ルをクロロ蟻酸トリクロロメチルと反応させて調製した
(1S)−1−ベンジルオキシカルボニル−2−フェニ
ルエチルイソシアネート(3.63g)溶液を加える。
室温で30分間撹拌後、溶液を5%塩酸、飽和重炭酸ナ
トリウムおよび食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧濃縮する。残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン、
1:1〜1:0、v/v)で精製して、N−[N−[2
−(N−チオモルホリノカルボニル−N−メチルアミ
ノ)エチル]−N−メチルアミノカルボニル]−L−フ
ェニルアラニンベンジルエステル(4.52g)を油状
物として得る。 Rf : 0.27 (酢酸エチル)
【0102】製造例19 (2S、3S)−2−t−ブトキシカルボニルアミノ−
1−シクロヘキシル−5,5−ジフェニル−3−ヒドロ
キシペンタン(0.74g)の酢酸(50ml)溶液を
酸化白金(0.2g)を触媒として水素ガス3気圧下3
7℃で2時間水素添加する。溶液を濾過し、減圧濃縮し
て、(2S、3S)−2−t−ブトキシカルボニルアミ
ノ−3−ヒドロキシ−1,5,5−トリシクロヘキシル
ペンタン(753mg)を油状物として得る。 Rf : 0.72 (n−ヘキサン:酢酸エチル、2:1、v/
v)
【0103】実施例1 N−[N−[2−(N−チオモルホリノカルボニル−N
−メチルアミノ)エチル]−N−メチルアミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニン(292mg)と(2S、
3S)−2−(Nα−メチル−Nim−トシル−L−ヒス
チジル)アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ
−6−メチルヘプタン(346mg)の塩化メチレン
(7ml)溶液を0℃に冷却し、これに1−エチル−3
−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸
塩(150mg)を加える。同温で5時間撹拌後、溶液
を減圧濃縮する。残留物を酢酸エチル(20ml)に溶
解し、溶液を5%塩酸、飽和重炭酸ナトリウム溶液およ
び食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮する。残留物をN,N−ジメチルホルムア
ミド(10ml)に溶解後、この溶液に塩酸ピリジン
(751mg)を室温で加える。混合物を同温で2時間
撹拌する。溶媒を留去後、残留物を酢酸エチル(20m
l)に溶解する。溶液を食塩、1M重炭酸ナトリウム溶
液および食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧濃縮する。残留物をシリカゲル薄層クロマ
トグラフィー(クロロホルム中10%メタノール)で精
製して、(2S、3S)−2−[Nα−[N−[N−メ
チル−N−{2−(N−チオモルホリノカルボニル−N
−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル]−L−フ
ェニルアラニン]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]ア
ミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−6−メチ
ルヘプタン(300mg)を無定形粉末として得る。 Rf : 0.38 (クロロホルム中10%メタノール) FAB-MS : 769 (M+H)+
【0104】実施例2 実施例1と同様にして下記の化合物を得る。
【0105】(1) (2S、3S)−2−[Nα−[N−
[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカルボ
ニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル]
−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒスチ
ジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
5−メチルヘキサン Rf : 0.36 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v) FAB-MS : 755 (M+H)+
【0106】(2) (2S、3S)−2−[Nα−[N−
[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカルボ
ニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル]
−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒスチ
ジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
5−エチルヘプタン Rf : 0.40 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v) FAB-MS : 783 (M+H)+
【0107】(3) (2S、3S)−2−[Nα−[N
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキ
シ−5,5−ジメチルヘキサン Rf : 0.41 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v) FAB-MS : 769 (M+H)+
【0108】(4) (2S、3S)−2−[Nα−[N
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1,4−ジシクロヘキシル−3−ヒ
ドロキシブタン Rf : 0.38 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0109】(5) (2S、3S)−2−[Nα−[N
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−3−ヒドロキシ−1,5,5−トリ
シクロヘキシルペンタン Rf : 0.5 (クロロホルム:メタノール、9:1、v/v)
【0110】実施例3 (2S、3S)−2−[Nα−[N−[N−メチル−N
−{2−(N−チオモルホリノカルボニル−N−メチル
アミノ)エチル}アミノカルボニル]−L−フェニルア
ラニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1
−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−6−メチルヘプタ
ン(300mg)のエタノール(3ml)溶液を0℃に
冷却し、これに酢酸エチル中4M塩化水素溶液(0.1
00ml)を加える。同温で10分間撹拌後、溶液を減
圧濃縮して、(2S、3S)−2−[Nα−[N−[N
−メチル−{2−(N−チオモルホリノカルボニル−N
−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル]−L−フ
ェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]ア
ミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−6−メチ
ルヘプタン塩酸塩(310mg)を無定形粉末として得
る。 Rf : 0.38 (クロロホルム中10%メタノール)
【0111】実施例4 実施例3と同様にして下記の化合物を得る。
【0112】(1) (2S、3S)−2−[Nα−[N−
[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカルボ
ニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル]
−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒスチ
ジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
5−メチルヘキサン塩酸塩 Rf : 0.36 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0113】(2) (2S、3S)−2−[Nα−[N−
[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカルボ
ニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル]
−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒスチ
ジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−
5−エチルヘプタン塩酸塩 Rf : 0.40 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0114】(3) (2S、3S)−2−[Nα−[N
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3−ヒドロキ
シ−5,5−ジメチルヘキサン塩酸塩 Rf : 0.41 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0115】(4) (2S、3S)−2−[Nα−[N
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1,4−ジシクロヘキシル−3−ヒ
ドロキシブタン塩酸塩 Rf : 0.38 (クロロホルム:メタノール、10:1、v/
v)
【0116】(5) (2S、3S)−2−[Nα−[N
−[N−メチル−N−{2−(N−チオモルホリノカル
ボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニ
ル]−L−フェニルアラニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−3−ヒドロキシ−1,5,5−トリ
シクロヘキシルペンタン塩酸塩 Rf : 0.5 (クロロホルム:メタノール、9:1、v/v)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き 合議体 審判長 加藤 孔一 審判官 宮本 和子 審判官 田中 穣治 (56)参考文献 特開 平1−308261(JP,A) 特開 平1−165571(JP,A) 特開 平1−19071(JP,A) 特開 昭62−33141(JP,A) 特開 昭62−258365(JP,A)

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式: 【化1】 [式中、R1 はチオモルホリノカルボニル、R2 は低級
    アルキル基、R3 はシクロ(低級)アルキル基で置換さ
    れていてもよい低級アルキル基、R4 は低級アルキル
    基、Xは低級アルキレン基、Y1 は単結合または 【化2】 (式中、R5 は低級アルキル基を示す)、Y2 は−NH
    −をそれぞれ意味する]で表わされる化合物およびその
    塩。
  2. 【請求項2】 R1 がチオモルホリノカルボニル、R3
    が低級アルキル基、Y2 が−NH−である請求項1に記
    載の化合物。
  3. 【請求項3】 R1 がチオモルホリノカルボニル、Y1
    が 【化3】 である請求項2に記載の化合物。
  4. 【請求項4】 R1 がチオモルホリノカルボニル、R3
    が2−エチルブチルである請求項3に記載の化合物。
  5. 【請求項5】 R1 がチオモルホリノカルボニル、R2
    がメチル、R4 がメチル、Xがエチレン、Y1 が 【化4】 (式中、R5 はメチルを示す)である請求項4に記載の
    化合物。
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