JP2532831B2 - Memory circuit - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の概要〕 多量のランダムなデータの書込み,読出しを高速に行
うSRAMで、データ入力回路,書込み制御回路,ビツト線
信号のレベル変換回路にバイポーラトランジスタを用い
ることを特徴とし、その目的はメモリセルへの書込み,
読出しを小振幅信号で行うことにより、さらには、大き
な負荷容量を駆動する回路に電流駆動力の大きいバイポ
ーラトランジスタを用いることにより、高速なスタテイ
ツクRAMを構成することをねらつた同一基板上にMOSトラ
ンジスタとバイポーラトランジスタを集積化したMOS・
バイポーラ複合回路を用いたECLコンパチブルSRAM。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Outline of the Invention] In an SRAM that writes and reads a large amount of random data at high speed, it is possible to use bipolar transistors in a data input circuit, a write control circuit, and a bit line signal level conversion circuit. The purpose is to write to the memory cell,
MOS transistors on the same substrate aiming to form a high-speed static RAM by reading with a small amplitude signal and by using a bipolar transistor with a large current driving force in a circuit that drives a large load capacitance. MOS with integrated bipolar transistor
ECL compatible SRAM using bipolar composite circuit.
マトリクス状に配置されたメモリセルに、高速にデー
タを書込み、読出す従来のMOS SRAMの実施例を第3図
に示す。第3図のMOS SRAMは、アドレスバツフア・デ
コーダ回路1,メモリセルアレイ2,ビツト線プルアツプ回
路3,書込み制御回路4,ビツト線信号のレベルシフト回路
5,データ線プルアツプ回路6,データ入力回路7,センスア
ンプ8,出力バツフア回路9が同一基板上に集積化されて
いる。電源電圧は、高電位電源VCC=0V,低電位電源VEE
=5.2Vである。アドレスバツフア・デコーダ回路1は、
ECL入力信号(高レベル−0.8V,低レベル−1.6V)A1〜AK
をMOSレベル(高レベルV,低レベル−5.2V)に変換し
て、行選択信号(ワード線選択信号)WL1〜WLnと列選択
信号(ビツト線選択信号)C1〜Cmを発生して、メモリセ
ルの番地を指定する回路である。メモリセルアレイ2
は、メモリセルがマトクス状(n行m列)に配置されて
おり、アドレスバツフア・デコーダ回路1で指定された
メモリセルに入力データが保持される。メモリセルは、
第4図に示すように2個の負荷41,42と4個のMOSトラン
ジスタT10,T11,T12,T13からなるフリツプフロツプ回路
で構成されており、負荷41,42としては抵抗あるいはゲ
ートが同一側の駆動トランジスタのゲートに接続された
pチヤネルMOSトランジスタで構成される。ビツト線プ
ルアツプ回路3は、データの読出し時にメモリセルの出
力レベルを決定する回路であり、MOSトランジスタT1,T2
で構成され(ここでは、第1列について説明する。)、
そのソースは高電位電源VCCに接続され、そのドレイン
はそれぞれビツト線対に接続され、そのゲートには低電
位電源VEEが接続されている。書込み制御回路4は、ビ
ツト線列を選択してメモリセルに入力データの書込みを
行う回路であり、MOSトランジスタのトランスフアゲー
トで構成される。MOSトランジスタT3,T4はトランジスフ
アゲートであり、MOSトランジスタT3,T4のドレインは、
それぞれビット線対に接続され、そのソースはデータ入
力対Din,▲▼に接続され、各ゲートには、列選択
信号と外部書込み制御信号とのAND論理をとつた書込み
制御信号WE1が入力される。ビツト線信号のレベルシフ
ト回路5とデータ線プルアツプ回路6は、データの読出
し時に後段のセンスアンプ回路8を高速に動作させるた
めに、ビツト線信号をレベルシフトする回路である。ビ
ツト線信号のレベルシフト回路5は、MOSトランジスタT
5,T6,T7で構成され、MOSトランジスタT5,T6のドレイン
は、それぞれデータ線対に接続され、MOSトランジスタT
5,T6のゲートは、それぞれビツト線対に接続され、MOS
トランジスタT5,T6のソースはMOSトランジスタT7のドレ
インに接続されている。また、MOSトランジスタT7のソ
ースは、低電位電源VEEに接続されており、そのゲート
には列選択信号C1が入力される。データ線プルアツプ回
路6は、MOSトランジスタT8,T9で構成され、各ソースは
高電位電源VCCに接続され、各ドレインはデータ線対D,
に接続され、各ゲートは低電位電源VEEに接続されて
いる。データ入力回路7は、ECLレベルの外部データ入
力DINをMOSレベルの内部データ入力Din,▲▼に変
換する回路である。FIG. 3 shows an embodiment of a conventional MOS SRAM for writing and reading data at high speed in memory cells arranged in a matrix. The MOS SRAM shown in FIG. 3 includes an address buffer / decoder circuit 1, a memory cell array 2, a bit line pull-up circuit 3, a write control circuit 4, and a bit line signal level shift circuit.
5, the data line pull-up circuit 6, the data input circuit 7, the sense amplifier 8, and the output buffer circuit 9 are integrated on the same substrate. Power supply voltage is high potential power supply V CC = 0V, low potential power supply V EE
= 5.2V. The address buffer / decoder circuit 1 is
ECL input signal (high level -0.8 V, the low level -1.6V) A 1 ~A K
To a MOS level (high level V, low level −5.2V) to generate row selection signals (word line selection signals) WL 1 to WL n and column selection signals (bit line selection signals) C 1 to C m Then, it is a circuit for designating the address of the memory cell. Memory cell array 2
, The memory cells are arranged in a matrix (n rows and m columns), and the input data is held in the memory cells designated by the address buffer / decoder circuit 1. The memory cell is
As shown in FIG. 4, it is composed of a flip-flop circuit composed of two loads 41 and 42 and four MOS transistors T 10 , T 11 , T 12 and T 13. The loads 41 and 42 may be resistors or gates. Is a p-channel MOS transistor connected to the gates of the drive transistors on the same side. The bit line pull-up circuit 3 is a circuit that determines the output level of the memory cell at the time of reading data, and the MOS transistors T 1 , T 2
(The first column will be described here.),
Its source is connected to the high potential power supply V CC , its drain is connected to each bit line pair, and its gate is connected to the low potential power supply V EE . The write control circuit 4 is a circuit that selects a bit line row and writes input data to a memory cell, and is composed of a transfer gate of a MOS transistor. The MOS transistors T 3 and T 4 are transistor gates, and the drains of the MOS transistors T 3 and T 4 are
Each of them is connected to a bit line pair, its source is connected to a data input pair Din, ▲ ▼, and each gate receives a write control signal WE 1 which is an AND logic of a column select signal and an external write control signal. It The bit line signal level shift circuit 5 and the data line pull-up circuit 6 are circuits that shift the level of the bit line signal in order to operate the sense amplifier circuit 8 in the subsequent stage at high speed when reading data. The bit line signal level shift circuit 5 includes a MOS transistor T
5, is composed of T 6, T 7, the drain of the MOS transistor T 5, T 6 are respectively connected to the data line pair, MOS transistors T
The gates of 5 and T 6 are connected to bit line pairs, and
The sources of the transistors T 5 and T 6 are connected to the drain of the MOS transistor T 7 . Further, the source of the MOS transistor T 7 is connected to the low potential power supply V EE , and the column selection signal C 1 is input to its gate. The data line pull-up circuit 6 is composed of MOS transistors T 8 and T 9 , each source is connected to the high potential power supply V CC , and each drain is a data line pair D,
And each gate is connected to a low potential power supply V EE . The data input circuit 7 is a circuit for converting the external data input D IN at the ECL level into the internal data input D in, ▲ ▼ at the MOS level.
上記のように、従来のSRAMはMOSトランジスタを用い
て構成しているために、データの書込み時に、 (1) 小振幅の入力データ信号を、データ入力回路で
大振幅に増幅してメモリセルに書込むため、大振幅に増
幅する分だけ遅延時間が増大する。As described above, since the conventional SRAM is configured by using MOS transistors, (1) an input data signal of a small amplitude is amplified to a large amplitude by a data input circuit to be a memory cell when writing data. Since the writing is performed, the delay time increases as much as the amplitude is amplified.
(2) 書込み制御回路にトランスフアゲートを用いる
ため、ビツト線の負荷容量に依存して遅延時間が増大す
る。(2) Since the transfer gate is used in the write control circuit, the delay time increases depending on the load capacitance of the bit line.
データの読出し時に、 (3) ビツト線の信号レベルをMOSトランジスタで構
成した差動増幅回路でレベルシフトするため、データ線
の負荷容量に依存して遅延時間が増大する。At the time of reading data, (3) the signal level of the bit line is level-shifted by the differential amplifier circuit composed of MOS transistors, so that the delay time increases depending on the load capacitance of the data line.
等の欠点があつた。There were drawbacks such as.
本発明は従来の欠点を除去するため、メモリ回路の各
列を、列選択時に第1の電源でビツト線を駆動し、列非
選択時に第2の電源でビツト線を駆動するプルアップ回
路、メモリセル、データの読出し時にビツト線信号をレ
ベルシフトするレベル変換回路、データの読出し時にビ
ツト線信号の低レベルを第2の電源レベルにレベルシフ
トする読出し加速回路、ビツト線の電流切り換えにより
メモリセルにデータの書込みを行う書込み制御回路、お
よび外部データ信号を相補信号に変換してレベルシフト
を行うデータ入力回路で構成したことを特徴とする。According to the present invention, in order to eliminate the conventional drawback, each column of the memory circuit is pulled up by a first power source when a column is selected and a bit line is driven by a second power source when a column is not selected. Memory cell, level conversion circuit for level shifting the bit line signal when reading data, read accelerating circuit for level shifting the low level of the bit line signal to the second power supply level when reading data, memory cell by current switching of the bit line And a data input circuit for converting an external data signal into a complementary signal and performing a level shift.
本発明は、データ入力回路,書込み制御回路,ビツト
線信号のレベル変換回路にバイポーラトランジスタを用
い、メモリセルへの書込み、読出しを小振幅信号で行う
ことにより、さらには、大きな負荷容量を駆動する回路
に電流駆動力の大きいバイポーラトランジスタを用いる
ことにより、高速なスタテイツクRAMを構成することが
できる。以下図面により説明する。According to the present invention, a bipolar transistor is used in the data input circuit, the write control circuit, and the bit line signal level conversion circuit, and writing and reading to and from the memory cell are performed with a small amplitude signal, thereby further driving a large load capacitance. A high-speed static RAM can be constructed by using a bipolar transistor having a large current driving capability in the circuit. This will be described below with reference to the drawings.
第1図は本発明の実施例であつて、10はビツト線プル
アツプ回路、11はビツト線のレベル変換回路、12は読出
し加速回路、13は書込み制御回路,14はデータ入力回路
である。ここでは、第1列について説明する。ビツト線
プルアツプ回路10は、MOSトランジスタT14,T15,T16,T17
で構成され、MOSトランジスタT16,T17のソースは、第1
の電源VC1(−0.8V)に接続され、MOSトランジスタT16,
T17のドレインはビツト線対とMOSトランジスタT14,T15
のドレインに接続されている。また、MOSトランジスタT
14,T15のソースは、第2の電源VE1(1.6V)に接続され
ている。MOSトランジスタT14,T15,T16,T17のゲートに
は、列選択信号C1が入力される。ビツト線信号のレベル
変換回路11は、バイポーラトランジスタQ1,Q2で構成さ
れ、バイポーラトランジスタQ1,Q2のコレクタは第3の
電源VCC(0V)に接続され、各ベースはビツト線対BL,▲
▼に接続され、エミツタはデータ線対D,に接続さ
れている。読出し加速回路12は、バイポーラトランジス
タQ3,Q4で構成され、バイポーラトランジスタQ3,Q4のコ
レクタは第3の電源VCC(0V)に接続され、ベースには
外部書込み信号の反転論理をとつた内部読出し信号REが
入力され、各エミツタにはビツト線対BL,▲▼が接
続されている。書込み制御回路13は、バイポーラトラン
ジスタQ5,Q6で構成され、バイポーラトランジスタQ5,Q6
のコレクタはビツト線対BL,▲▼に接続され、ベー
スには列選択信号と外部書込み信号とのAND論理をとつ
た書込み信号WE1が入力され、エミツタはデータ線対Di
n,▲▼に接続されている。データ入力回路14は、
外部データ入力DINを相補信号に変換して、該信号をレ
ベルシフトして内部データ入力Din,▲▼を発生す
る回路であり、相補信号発生回路15とレベルシフト回路
で構成され、レベルシフト回路は、バイポーラトランジ
スタQ7,直列接続されたダイオードD1〜D4,抵抗R3,の直
列接続と、バイポーラトランジスタQ8,直列接続された
ダイオードD5〜D8,抵抗R4の直列接続で構成される。バ
イポーラトランジスタQ7,Q8のコレクタは、第3の電源V
CC(0V)に接続され、抵抗R3,R4は第4の電源VEE(−5.
2V)に接続されている。FIG. 1 shows an embodiment of the present invention, in which 10 is a bit line pull-up circuit, 11 is a bit line level conversion circuit, 12 is a read acceleration circuit, 13 is a write control circuit, and 14 is a data input circuit. Here, the first column will be described. The bit line pull-up circuit 10 includes MOS transistors T 14 , T 15 , T 16 , T 17
The sources of the MOS transistors T 16 and T 17 are the first
Is connected to the power supply V C1 (−0.8V) of the MOS transistor T 16 ,
The drain of T 17 is a bit line pair and MOS transistors T 14 , T 15
Connected to the drain of. Also, the MOS transistor T
The sources of 14 and T 15 are connected to the second power supply V E1 (1.6 V). The column selection signal C 1 is input to the gates of the MOS transistors T 14 , T 15 , T 16 , T 17 . Level converting circuit 11 of the bit line signal is composed of bipolar transistors Q 1, Q 2, the collector of the bipolar transistor Q 1, Q 2 are connected to a third power supply V CC (0V), the base bit line pairs BL, ▲
And the emitter is connected to the data line pair D ,. Reading acceleration circuit 12 is constituted by a bipolar transistor Q 3, Q 4, the collector of the bipolar transistor Q 3, Q 4 is connected to a third power supply V CC (0V), the inverted logic of the external write signal to the base The internal read signal RE is input to each emitter, and the bit line pair BL, ▲ ▼ is connected to each emitter. The write control circuit 13 is composed of bipolar transistors Q 5 and Q 6 , and is composed of bipolar transistors Q 5 and Q 6.
The collector of is connected to the bit line pair BL, ▲ ▼, the write signal WE 1 which is the AND logic of the column selection signal and the external write signal is input to the base, and the emitter is connected to the data line pair Di.
It is connected to n, ▲ ▼. The data input circuit 14 is
A circuit for converting an external data input D IN into a complementary signal and level-shifting the signal to generate an internal data input D in, ▲ ▼, which is composed of a complementary signal generating circuit 15 and a level shift circuit. Is a series connection of a bipolar transistor Q 7 , a series connection of diodes D 1 to D 4 , a resistor R 3 , and a series connection of a bipolar transistor Q 8 , a series connection of diodes D 5 to D 8 and a resistor R 4. Composed. The collectors of the bipolar transistors Q 7 and Q 8 are the third power source V
Connected to CC (0V), resistors R 3 and R 4 are connected to the fourth power source V EE (−5.
2V) is connected.
第2図はプルアツプ回路の第2の実施例であつて、書
込み制御回路13のバイポーラトランジスタQ5,Q6の飽和
を防ぐために、MOSトランジスタT20,T21と並列にダイオ
ードD9〜D12,D13〜D16を接続した回路である。FIG. 2 shows a second embodiment of the pull-up circuit. In order to prevent the saturation of the bipolar transistors Q 5 and Q 6 of the write control circuit 13, diodes D 9 to D 12 are provided in parallel with the MOS transistors T 20 and T 21. , D 13 to D 16 are connected to each other.
第1図により本発明の動作説明を行う。 The operation of the present invention will be described with reference to FIG.
以下では、第1列について動作説明を行う。 The operation of the first column will be described below.
まず、書込み動作を説明する。 First, the write operation will be described.
アドレスバツフア・デコーダ回路1により、データを
書込むメモリセルの番地が決定すると、書込み制御回路
13に入力する書込み信号WE1(約Dinレベル)によつて、
バイポーラトランジスタQ5,Q6のベース電圧が上昇す
る。このとき、バイポーラトランジスタQ5,Q6のベース
電圧とエミツタ電圧(内部データ入力Din,▲▼)
のどちらか一方の電位差がバイポーラトランジスタのビ
ルトイン電圧以上となるため、バイポーラトランジスタ
Q5,Q6のいずれか一方が導通してビツト線に大振幅信号
(高レベル0V,低レベル約WE1レベル)が発生し、メモリ
セルへの書込みが可能になる。When the address of the memory cell to write data is determined by the address buffer / decoder circuit 1, the write control circuit
By the write signal WE 1 (about D in level) input to 13,
The base voltage of the bipolar transistors Q 5 and Q 6 rises. At this time, the base voltage and the emitter voltage of the bipolar transistors Q 5 and Q 6 (internal data input Din, ▲ ▼)
Since the potential difference of either one of them becomes higher than the built-in voltage of the bipolar transistor,
One of Q 5 and Q 6 becomes conductive to generate a large amplitude signal (high level 0 V, low level about WE 1 level) on the bit line, and writing to the memory cell becomes possible.
つぎに、読出し動作を説明する。 Next, the read operation will be described.
アドレスバツフア・デコーダ回路1により、データを
読出すメモリセルの番地が決定すると、読出し加速回路
12に読出し信号RE(−0.8V)が入力されるので、ビツト
線の信号レベルが−1.6Vに上昇する。また、ビツト線ブ
ルアツプ回路10に列選択信号C1が入力されるため、MOS
トランジスタT16,T17によるプルアツプ動作を開始し、
選択されたセルの低電位電源にビツト線を通して電流が
流れるため、ビツト線には高レベルの小振幅信号(高レ
ベル−0.8V,低レベル−1.6V以上)が発生する。ビツト
線に発生した小振幅信号は、ビツト線のレベルシフトを
行うレベル変換回路11と抵抗R1,R2によりバイポーラト
ランジスタQ1,Q2のビルトイン電圧だけレベルシフトさ
れ、データ線にその信号が発生する。データ線に発生し
た小振幅信号は、センスアンプ回路8とECL出力回路9
を通して、ECLレベルが発生する。When the address of the memory cell from which data is read is determined by the address buffer / decoder circuit 1, the read acceleration circuit
Since the read signal RE (-0.8V) is input to 12, the bit line signal level rises to -1.6V. Further, since the column selection signal C 1 is input to the bit line pull-up circuit 10, the MOS
The pull-up operation by the transistors T 16 and T 17 is started,
Since a current flows through the bit line to the low potential power source of the selected cell, a high level small amplitude signal (high level −0.8V, low level −1.6V or higher) is generated in the bit line. The small-amplitude signal generated on the bit line is level-shifted by the built-in voltage of the bipolar transistors Q 1 and Q 2 by the level conversion circuit 11 that shifts the level of the bit line and the resistors R 1 and R 2 , and the signal is transferred to the data line. appear. The small amplitude signal generated on the data line is applied to the sense amplifier circuit 8 and the ECL output circuit 9
Through, the ECL level is generated.
このとき、非選択列のメモリセルのビツト線は、ビツ
ト線プルアツプ回路10で−1.6Vに固定されるので、デー
タ線には選択されたメモリセルの情報だけが現れる。At this time, the bit line of the memory cell in the non-selected column is fixed at -1.6V by the bit line pull-up circuit 10, so that only the information of the selected memory cell appears on the data line.
上記のように本発明のSRAMは、小振幅の外部データ入
力(ECLレベル)を大振幅(MOSレベル)の内部データ入
力に変換せずに、レベルシフトするだけでメモリセルへ
の書込みが可能になるので、入力データの書込みを高速
に行うことができる。また、負荷容量が大きくなるビツ
ト線やデータ線をバイポーラトランジスタで駆動するの
で、MOSトランジスタに比べて高速化が可能となる。As described above, the SRAM of the present invention enables writing to a memory cell only by level shifting without converting a small-amplitude external data input (ECL level) into a large-amplitude (MOS level) internal data input. Therefore, the input data can be written at high speed. Further, since the bit line and the data line, which increase the load capacitance, are driven by the bipolar transistor, the speed can be increased as compared with the MOS transistor.
以上説明したように本発明のSRAMは、小振幅(ELCレ
ベル)の外部データ信号を大振幅(MOSレベル)に増幅
せずに、小振幅の入力信号のままメモリに書込むことが
できるので、書込み動作の高速化がはかれる。また、負
荷容量の大きいビツト線とデータ線をバイポーラトラン
ジスタで駆動するため、従来のMOSトランジスタに比べ
て、高速化がはかれるという利点がある。As described above, in the SRAM of the present invention, an external data signal having a small amplitude (ELC level) can be written to the memory as an input signal having a small amplitude without being amplified to a large amplitude (MOS level). The write operation can be speeded up. Further, since the bit line and the data line having a large load capacitance are driven by the bipolar transistor, there is an advantage that the speed can be increased as compared with the conventional MOS transistor.
第1図は本発明によるMOS SRAMの実施例、 第2図は本発明によるプルアツプ回路の第2の実施例、 第3図は従来のMOS SRAM、 第4図は第3図のメモリセル形式を示したものである。 1:アドレスバツフア・デコーダ回路 2:メモリセルアレイ 3:プルアツプ回路(1) 4:書込み制御回路(1) 5:ビツト線のレベルシフト回路(1) 6:データ線駆動回路(1) 7:データ入力回路(1) 8:センスアンプ 9:出力バツフア回路 10:ビツト線プルアツプ回路(2) 11:ビツト線のレベル変換回路(2) 12:読出し加速回路 13:書込み制御回路(2) 14:データ入力回路(2) 15:相補信号発生回路 16:プルアツプ回路(3) 41,42 負荷 T1〜T21:MOSトランジスタ Q1〜Q8:バイポーラトランジスタ D1〜D16:ダイオード R1〜R4:抵抗 VCC:第3の電源(0V) VEE:第4の電源(−5.2V) VC1:第1の電源(−0.8V) VE1:第2の電源(−1.6V) Ci(i=1,m):列選択信号 WEi(i=1,m):書込み信号 RE:読出し信号 A1〜AK:アドレス入力信号 DIN:外部データ入力信号 Din,▲▼:内部データ入力信号 WL1〜WLK:行選択信号 BL,▲▼:ビツト線対 D,:データ線対 VSO:センスアンプの出力 VOUT:ECL出力FIG. 1 shows an embodiment of a MOS SRAM according to the present invention, FIG. 2 shows a second embodiment of a pull-up circuit according to the present invention, FIG. 3 shows a conventional MOS SRAM, and FIG. 4 shows the memory cell type shown in FIG. It is shown. 1: Address buffer / decoder circuit 2: Memory cell array 3: Pull-up circuit (1) 4: Write control circuit (1) 5: Bit line level shift circuit (1) 6: Data line drive circuit (1) 7: Data Input circuit (1) 8: Sense amplifier 9: Output buffer circuit 10: Bit line pull-up circuit (2) 11: Bit line level conversion circuit (2) 12: Read acceleration circuit 13: Write control circuit (2) 14: Data Input circuit (2) 15: Complementary signal generation circuit 16: Pull-up circuit (3) 41,42 Load T 1 to T 21 : MOS transistors Q 1 to Q 8 : Bipolar transistors D 1 to D 16 : Diodes R 1 to R 4 : Resistor V CC : 3rd power supply (0V) V EE : 4th power supply (-5.2V) V C1 : 1st power supply (-0.8V) V E1 : 2nd power supply (-1.6V) C i (i = 1, m): the column selection signal WE i (i = 1, m ): write signal RE: read signals A 1 to A K: address input signal D IN: external data input signal D in, ▲ ▼: internal data input signals WL 1 to WL K: row selection signal BL, ▲ ▼: bit line pair D ,: data line pairs V SO: a sense amplifier output V OUT: ECL Output
Claims (4)
ンダムなデータの書込み、読出しを行うメモリ回路であ
って、 前記メモリ回路の各列に、 前記列選択時にビット線を第1の電源により駆動し、列
非選択時にビット線を第2の電源により駆動するビット
線プルアップ回路と、 前記マトリクス状に配置される複数のメモリセルと、 前記データを読出すときビット線信号のレベルをシフト
するビット線のレベル変換回路と、 前記データを読出したとき前記ビット線信号の低レベル
を前記第2の電源レベルに上昇する読出し加速回路と、 前記メモリセルにデータを書込むときビット線の電流を
大振幅信号により電流切り換えを行う書込み制御回路
と、 外部データ入力信号を相補信号に変換しレベルシフトを
行い内部データ入力相補信号を発生するデータ入力回路
と、 を備えてなるメモリ回路において、 前記ビット線プルアップ回路は、第1、第2、第3、第
4の電界効果トランジスタにより構成され、 該第1、第2の電界効果トランジスタのソースを第1の
電源に接続し、 該第1、第2の電界効果トランジスタのドレインをそれ
ぞれ該第3、第4の電界効果トランジスタのドレインと
ビット線対に接続し、 該第3、第4の電界効果トランジスタのソースを前記第
2の電源に接続し、 該第1、第2、第3、第4の電界効果トランジスタのゲ
ートに列選択信号を入力してなり、 前記ビット線のレベル変換回路は、第1、第2のバイポ
ーラトランジスタにより構成され、 該第1、第2のバイポーラトランジスタのコレクタを第
3の電源に接続し、 該第1、第2のバイポーラトランジスタのベースにビッ
ト線対を接続し、 該第1、第2のバイポーラトランジスタのエミッタをデ
ータ線対に接続してなることを特徴とするメモリ回路。1. A memory circuit for writing and reading random data into and from memory cells arranged in a matrix, wherein each column of the memory circuit drives a bit line by a first power source when the column is selected. Then, a bit line pull-up circuit that drives the bit line by the second power source when the column is not selected, a plurality of memory cells arranged in the matrix, and shifts the level of the bit line signal when reading the data. A bit line level conversion circuit; a read accelerating circuit that raises the low level of the bit line signal to the second power supply level when the data is read; and a bit line current when writing data to the memory cell. A write control circuit that switches the current with a large-amplitude signal, and an external data input signal are converted to complementary signals and level-shifted to generate internal data input complementary signals. And a bit line pull-up circuit including first, second, third, and fourth field effect transistors. The source of the effect transistor is connected to a first power supply, the drains of the first and second field effect transistors are connected to the drains of the third and fourth field effect transistors, respectively, and a bit line pair, A source of the fourth field effect transistor is connected to the second power source, and a column selection signal is input to the gates of the first, second, third and fourth field effect transistors, and the bit line Of the first level converter circuit is composed of first and second bipolar transistors, the collectors of the first and second bipolar transistors are connected to a third power supply, and the first and second bipolar transistors are connected. A base connected to the bit line pair of static, first, a memory circuit, characterized in that formed by connecting the emitter of the second bipolar transistor to the data line pair.
第3の電源に接続し、 該第3、第4のバイポーラトランジスタのベースに高レ
ベルが前記第2の電源レベルとなる読出し信号を入力
し、 該第3、第4のバイポーラトランジスタのエミッタをビ
ット線対に接続してなることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載のメモリ回路。2. The read acceleration circuit is composed of third and fourth bipolar transistors, the collectors of the third and fourth bipolar transistors are connected to the third power supply, and the third and fourth bipolar transistors are connected. A read signal having a high level as the second power supply level is input to the base of the bipolar transistor, and the emitters of the third and fourth bipolar transistors are connected to a bit line pair. 2. A memory circuit according to claim 1.
ーラトタンジスタにより構成され、 該第5、第6のバイポーラトランジスタのコレクタをビ
ット線対に接続し、 該第5、第6のバイポーラトランジスタのベースに書込
み信号を入力し、 該第5、第6のバイポーラトランジスタのエミッタにそ
れぞれデータ入力対を接続してなることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載のメモリ回路。3. The write control circuit is composed of fifth and sixth bipolar transistors, the collectors of the fifth and sixth bipolar transistors are connected to a bit line pair, and the fifth and sixth bipolar transistors are connected. 2. The memory circuit according to claim 1, wherein a write signal is input to the base of the transistor, and a data input pair is connected to the emitters of the fifth and sixth bipolar transistors, respectively.
4の各電界効果トランジスタと並列にダイオード列を接
続したことを特徴とする特許請求の範囲第1及至第3項
記載のメモリ回路。4. A memory circuit according to any one of claims 1 to 3, wherein a diode string is connected in parallel with each of the third and fourth field effect transistors in the bit line pull-up circuit. .
Priority Applications (1)
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JP60120193A JP2532831B2 (en) | 1985-06-03 | 1985-06-03 | Memory circuit |
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JP60120193A JP2532831B2 (en) | 1985-06-03 | 1985-06-03 | Memory circuit |
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ID=14780211
Family Applications (1)
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JP60120193A Expired - Lifetime JP2532831B2 (en) | 1985-06-03 | 1985-06-03 | Memory circuit |
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-
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