JP2590796B2 - ヒドロキシシクロペンタノン類の製法 - Google Patents
ヒドロキシシクロペンタノン類の製法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/51—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition
- C07C45/518—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition involving transformation of sulfur-containing compounds to >C = O groups
-
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/51—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition
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-
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Organic Chemistry (AREA)
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬、農薬および
これらの中間体として有用なヒドロキシシクロペンタノ
ン誘導体およびこの誘導体の製法に関する。
これらの中間体として有用なヒドロキシシクロペンタノ
ン誘導体およびこの誘導体の製法に関する。
【0002】
【従来の技術】本発明に関するヒドロキシシクロペンタ
ノン誘導体の合成例としては、シンテーシス(Synthes
is), 364 (1985) (以下文献という。)、アンゲブァ
ンテヒェミー国際英語版(Angew. Chem. Int. Ed. Eng
l.), 23, 847 (1984)(以下文献という。)等の文献に
記載の方法がある。
ノン誘導体の合成例としては、シンテーシス(Synthes
is), 364 (1985) (以下文献という。)、アンゲブァ
ンテヒェミー国際英語版(Angew. Chem. Int. Ed. Eng
l.), 23, 847 (1984)(以下文献という。)等の文献に
記載の方法がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】文献とに記載の方
法は、いずれもシクロペンテノン環内のケトン基に隣接
する二重結合のβ位にカルバニオンを選択的に付加する
反応 (以下、1,4−付加反応という。) において、有
機銅試薬とホスフィン類を触媒として使用している。
法は、いずれもシクロペンテノン環内のケトン基に隣接
する二重結合のβ位にカルバニオンを選択的に付加する
反応 (以下、1,4−付加反応という。) において、有
機銅試薬とホスフィン類を触媒として使用している。
【0004】これら有機銅試薬とホスフイン類は、多大
な公害処理を必要とすること、回収が困難である等の問
題点がある。本発明者は、これらの有機銅試薬とホスフ
イン類を使用しない新規の1,4−付加反応を鋭意探索
研究した結果、この目的を満たす下記の新規の反応を発
明した。
な公害処理を必要とすること、回収が困難である等の問
題点がある。本発明者は、これらの有機銅試薬とホスフ
イン類を使用しない新規の1,4−付加反応を鋭意探索
研究した結果、この目的を満たす下記の新規の反応を発
明した。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記の新規の
反応およびそれに関連する反応群並びに化合物群よりな
る。新規の反応とは、α, β−不飽和シクロペンテノン
誘導体に、LiCH(SO2A)SR2型の硫黄系の化合物を、1,
4−付加反応させることを特徴とする反応である。
反応およびそれに関連する反応群並びに化合物群よりな
る。新規の反応とは、α, β−不飽和シクロペンテノン
誘導体に、LiCH(SO2A)SR2型の硫黄系の化合物を、1,
4−付加反応させることを特徴とする反応である。
【0006】以下、本発明の詳細を説明する。本発明の
新規反応は、一般式(II)
新規反応は、一般式(II)
【0007】
【化3】
【0008】〔式中、Xは水素原子または水酸基の保護
基を意味する。〕で表される4−ヒドロキシ−2−シク
ロペンタノン誘導体に、一般式 (III) LiCH(SO2A)SR2 (III) 〔式中、Aは、1乃至3ヶの低級アルキル基、低級アル
コキシ基あるいはハロゲン原子によって置換されていて
もよいフェニル基を意味し;R2は低級アルキル基を意
味する。〕によって表される化合物を反応させ、次いで
一般式 (IV) R1Z (IV) 〔式中、R1は0から3ヶの不飽和結合を有し、かつ低
級アルコキシ基、低級アル コキシカルボニル基によっ
て置換されていてもよい炭素数1ないし10の脂肪 族
基を意味し;Zはハロゲン原子を意味する。〕によって
表される化合物を反応させることを特徴とする一般式
(I)
基を意味する。〕で表される4−ヒドロキシ−2−シク
ロペンタノン誘導体に、一般式 (III) LiCH(SO2A)SR2 (III) 〔式中、Aは、1乃至3ヶの低級アルキル基、低級アル
コキシ基あるいはハロゲン原子によって置換されていて
もよいフェニル基を意味し;R2は低級アルキル基を意
味する。〕によって表される化合物を反応させ、次いで
一般式 (IV) R1Z (IV) 〔式中、R1は0から3ヶの不飽和結合を有し、かつ低
級アルコキシ基、低級アル コキシカルボニル基によっ
て置換されていてもよい炭素数1ないし10の脂肪 族
基を意味し;Zはハロゲン原子を意味する。〕によって
表される化合物を反応させることを特徴とする一般式
(I)
【0009】
【化4】
【0010】〔式中、X、R1、AおよびR2は上述の説
明と同意味である。〕によって表される化合物の製法で
ある。上記一般式 (III) によって表される硫黄系の化
合物は、 HCH(SO2A)SR2 (III-2) 〔式中、AおよびR2は上述の説明と同意味である。〕
で示される化合物に通常の活性水素のリチウム化剤、例
えば n-BuLi を反応させることによって合成しうる。
明と同意味である。〕によって表される化合物の製法で
ある。上記一般式 (III) によって表される硫黄系の化
合物は、 HCH(SO2A)SR2 (III-2) 〔式中、AおよびR2は上述の説明と同意味である。〕
で示される化合物に通常の活性水素のリチウム化剤、例
えば n-BuLi を反応させることによって合成しうる。
【0011】また、この一般式 (III)の化合物は、本
反応の反応系内で予め合成され、単離されることなしに
本反応の1,4−付加反応に使用される。また、本発明
は一般式(I)
反応の反応系内で予め合成され、単離されることなしに
本反応の1,4−付加反応に使用される。また、本発明
は一般式(I)
【0012】
【化5】
【0013】〔式中、X、R1、AおよびR2は上述の説
明と同意味である。〕により表される化合物を紫外線照
射することを特徴とする一般式(V)
明と同意味である。〕により表される化合物を紫外線照
射することを特徴とする一般式(V)
【0014】
【化6】
【0015】〔式中、X、R1、R2およびAは上述の説
明と同意味である。〕により表されるヒドロキシシクロ
ペンタノン類の製法に関する。
明と同意味である。〕により表されるヒドロキシシクロ
ペンタノン類の製法に関する。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本反応に使用する各置換基
の具体例についてさらに説明する。但し、これら具体例
によって本発明は限定されるものではない。一般式 (I
I) のXは、水素原子、-Si(Me)3、-Si(Me)2(t-Bu)、-Si
(Me)2Ph、テトラヒドロピラニル基またはメトキシメチ
ル基を意味する。
の具体例についてさらに説明する。但し、これら具体例
によって本発明は限定されるものではない。一般式 (I
I) のXは、水素原子、-Si(Me)3、-Si(Me)2(t-Bu)、-Si
(Me)2Ph、テトラヒドロピラニル基またはメトキシメチ
ル基を意味する。
【0017】一般式 (III) のR2は、メチル基、エチル
基、イソプロピル基、プロピル基、n-ブチル基、イソブ
チル基または sec-ブチル基を意味する。また、Aは、
フェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニル基、
クロロフェニル基またはキシリル基を意味する。一般式
(IV) の R1 の例としては、水素原子、メチル基、エ
チル基、アリル基、プロパルギル基、メトキシメチル
基、メトキシカルボニルメチル基、6−メトキシカルボ
ニル−2−ヘキセン−1−イル基および6−メトキシカ
ルボニルヘキシル基等がある。
基、イソプロピル基、プロピル基、n-ブチル基、イソブ
チル基または sec-ブチル基を意味する。また、Aは、
フェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニル基、
クロロフェニル基またはキシリル基を意味する。一般式
(IV) の R1 の例としては、水素原子、メチル基、エ
チル基、アリル基、プロパルギル基、メトキシメチル
基、メトキシカルボニルメチル基、6−メトキシカルボ
ニル−2−ヘキセン−1−イル基および6−メトキシカ
ルボニルヘキシル基等がある。
【0018】一般式(II)により表される化合物に、一
般式 (III) により表される化合物を反応させる際の溶
媒は、一般式 (III-2) により表される化合物にリチウ
ム化剤を反応させる際の溶媒をそのまま使用するか、適
当な極性溶媒、例えばヘキサメチルリン酸トリアミドを
加えて反応すればよい。また、一般式(II)により表さ
れる化合物と一般式 (III) により表される化合物とを
反応させる場合の反応温度は、−100〜−10℃の範
囲であり、−80〜−20℃の範囲が好ましい。
般式 (III) により表される化合物を反応させる際の溶
媒は、一般式 (III-2) により表される化合物にリチウ
ム化剤を反応させる際の溶媒をそのまま使用するか、適
当な極性溶媒、例えばヘキサメチルリン酸トリアミドを
加えて反応すればよい。また、一般式(II)により表さ
れる化合物と一般式 (III) により表される化合物とを
反応させる場合の反応温度は、−100〜−10℃の範
囲であり、−80〜−20℃の範囲が好ましい。
【0019】反応時間は、0.1〜200時間の範囲で
あり、0.5〜20時間の範囲が好ましい。一般式(I
I)により表される4−ヒドロキシ−2−シクロペンテ
ノン誘導体に、1,4−付加反応により、β炭素に -CH
(SO2A)SR2 基の導入が終了した後、一般式(IV) により
表される化合物を反応させ、一般式(I)により表され
る化合物を生成せしめる際の反応条件を下記する。
あり、0.5〜20時間の範囲が好ましい。一般式(I
I)により表される4−ヒドロキシ−2−シクロペンテ
ノン誘導体に、1,4−付加反応により、β炭素に -CH
(SO2A)SR2 基の導入が終了した後、一般式(IV) により
表される化合物を反応させ、一般式(I)により表され
る化合物を生成せしめる際の反応条件を下記する。
【0020】上記の1,4−付加反応が終了したときの
溶媒条件と反応温度を維持したまま、R1Z を反応液に添
加することにより、R1Z との反応を行ってもよい。この
反応の溶媒条件は、脱水された極性溶媒で直接反応に関
与しない溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジメトキシ
エタン、ジオキサンおよびジエチルエーテル等のエーテ
ル類またはヘキサメチルリン酸トリアミド等のリン化合
物を添加した溶媒が好ましく用いられる。
溶媒条件と反応温度を維持したまま、R1Z を反応液に添
加することにより、R1Z との反応を行ってもよい。この
反応の溶媒条件は、脱水された極性溶媒で直接反応に関
与しない溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジメトキシ
エタン、ジオキサンおよびジエチルエーテル等のエーテ
ル類またはヘキサメチルリン酸トリアミド等のリン化合
物を添加した溶媒が好ましく用いられる。
【0021】この反応の温度は、−100〜40℃の範
囲であり、−60〜30℃の範囲が好ましい。反応時間
は、0.1〜200時間の範囲であり、0.5〜20時
間の範囲が好ましい。一般式(I) により表される化合
物を紫外線照射する条件を下記する。
囲であり、−60〜30℃の範囲が好ましい。反応時間
は、0.1〜200時間の範囲であり、0.5〜20時
間の範囲が好ましい。一般式(I) により表される化合
物を紫外線照射する条件を下記する。
【0022】本発明における紫外線照射は、通常溶媒中
で紫外線照射することによって実施される。紫外線とし
ては ASO2 基が吸収できる紫外線であればよく、一般に
は300〜200 nm の範囲の波長を有するものがよ
く、さらに好ましくは290〜220nm の紫外線が好
ましい。
で紫外線照射することによって実施される。紫外線とし
ては ASO2 基が吸収できる紫外線であればよく、一般に
は300〜200 nm の範囲の波長を有するものがよ
く、さらに好ましくは290〜220nm の紫外線が好
ましい。
【0023】これより短波長の紫外線では目的とする以
外の部分の光励起等により副反応が多く生起し、所望す
る一般式 (V) で表されるヒドロキシシクロペンタノン
類の収率の低下を招く。また、300 nm 以上の紫外線
では吸収効率が悪く実用的でない。これらの紫外線を得
るためには水銀灯 (低圧、中圧、高圧) やキセノン灯が
利用でき、220 nm より短波長の紫外線を遮断するた
めにバイコールフィルターを用いるとよい。
外の部分の光励起等により副反応が多く生起し、所望す
る一般式 (V) で表されるヒドロキシシクロペンタノン
類の収率の低下を招く。また、300 nm 以上の紫外線
では吸収効率が悪く実用的でない。これらの紫外線を得
るためには水銀灯 (低圧、中圧、高圧) やキセノン灯が
利用でき、220 nm より短波長の紫外線を遮断するた
めにバイコールフィルターを用いるとよい。
【0024】本反応の実施に当たっては、水を共存させ
ると収率が増加する傾向がみられる。必要に応じて塩基
の共存下に反応を行ってもよく、この塩基の添加は反応
系が酸性になるのを防ぎ、置換基R1あるいは R2 に酸
性条件下において不安定な部分を有する場合でも一般式
(V)で表されるヒドロキシシクロペンタノン類を収率
良く与える。
ると収率が増加する傾向がみられる。必要に応じて塩基
の共存下に反応を行ってもよく、この塩基の添加は反応
系が酸性になるのを防ぎ、置換基R1あるいは R2 に酸
性条件下において不安定な部分を有する場合でも一般式
(V)で表されるヒドロキシシクロペンタノン類を収率
良く与える。
【0025】さらには、これらの塩基は反応によって生
成してくるスルフィン酸 (ASO2H)をその塩の形で捕捉で
きるので、生成する一般式 (V) で表されるヒドロキシ
シクロペンタノン類の単離がきわめて容易になる。溶媒
としては、一般に用いられる有機溶媒でよいが、水およ
び塩基を共存させる場合には極性溶媒、例えばメタノー
ル、エタノール、アセトニトリル、ジエチルエーテル、
ジオキサン等が好適に用いられる。
成してくるスルフィン酸 (ASO2H)をその塩の形で捕捉で
きるので、生成する一般式 (V) で表されるヒドロキシ
シクロペンタノン類の単離がきわめて容易になる。溶媒
としては、一般に用いられる有機溶媒でよいが、水およ
び塩基を共存させる場合には極性溶媒、例えばメタノー
ル、エタノール、アセトニトリル、ジエチルエーテル、
ジオキサン等が好適に用いられる。
【0026】反応温度は、−20℃から溶媒(反応系)
の還流温度でよく、通常は氷水冷下で行えばよい。本発
明者らは、さらに本発明によって得られる一般式(I-
1)
の還流温度でよく、通常は氷水冷下で行えばよい。本発
明者らは、さらに本発明によって得られる一般式(I-
1)
【0027】
【化7】
【0028】〔式中、R3は低級アルコキシカルボニル
メチル基を意味し;A、R2およびXは 上述と同意味
である。〕により表される化合物をカルボニル基の還元
剤で還元することにより一般式 (I-1-ラクトン)
メチル基を意味し;A、R2およびXは 上述と同意味
である。〕により表される化合物をカルボニル基の還元
剤で還元することにより一般式 (I-1-ラクトン)
【0029】
【化8】
【0030】〔式中、A、R2およびXは、上述と同意
味である。〕により表される化合物に変換できることを
見出した。この還元法としては、ケトン基をアルコール
基に還元する公知の還元剤による還元方法、例えば水素
化ホウ素ナトリウム、ジボラン、水素化ジイソブチルア
ルミニウム、9−ボラビシクロ〔3,3,1〕ノナン(9
−BBN)、水素化トリ(sec-ブチル) ホウ素リチウム
(L−Selectride)、水素化トリ(sec-ブチ
ル) ホウ素カリウム(K−Selectride)また
は水素化ジ(メトキシエトキシ) アルミニウムナトリウ
ム(Vitride)等の還元剤による還元法が挙げら
れる。
味である。〕により表される化合物に変換できることを
見出した。この還元法としては、ケトン基をアルコール
基に還元する公知の還元剤による還元方法、例えば水素
化ホウ素ナトリウム、ジボラン、水素化ジイソブチルア
ルミニウム、9−ボラビシクロ〔3,3,1〕ノナン(9
−BBN)、水素化トリ(sec-ブチル) ホウ素リチウム
(L−Selectride)、水素化トリ(sec-ブチ
ル) ホウ素カリウム(K−Selectride)また
は水素化ジ(メトキシエトキシ) アルミニウムナトリウ
ム(Vitride)等の還元剤による還元法が挙げら
れる。
【0031】本発明者らは、さらに本発明によって得ら
れる一般式(I-1-ラクトン)
れる一般式(I-1-ラクトン)
【0032】
【化9】
【0033】〔式中、A、R2およびXは、上述と同意
味である。〕により表される化合物を紫外線照射するこ
とにより、一般式(V-ラクトン)
味である。〕により表される化合物を紫外線照射するこ
とにより、一般式(V-ラクトン)
【0034】
【化10】
【0035】〔式中、Xは、上述と同意味である。〕に
より表される化合物が得られる方法を発明した。この紫
外線照射の反応条件は上述の一般式 (I) により表され
る化合物を紫外線照射して一般式(V)のヒドロキシシ
クロペンタノン類を合成する際の反応条件と同様であ
る。
より表される化合物が得られる方法を発明した。この紫
外線照射の反応条件は上述の一般式 (I) により表され
る化合物を紫外線照射して一般式(V)のヒドロキシシ
クロペンタノン類を合成する際の反応条件と同様であ
る。
【0036】
【実施例】以下、本発明について、さらに具体的かつ詳
細に実施例および比較例を用いて説明するが、本発明は
これらに限定されるものではない。 参考例1
細に実施例および比較例を用いて説明するが、本発明は
これらに限定されるものではない。 参考例1
【0037】
【化11】
【0038】(±)−2α−メトキシカルボニルメチル
−3β−〔 (メチルチオ) p−トリルスルホニルメチ
ル〕−4α−〔ジメチル(t−ブチル)シリルオキシ〕
シクロペンタノン[(±)−1]の合成 アルゴン雰囲気下、 (メチルチオ) メチルp−トリルス
ルホン432 mg をテトラヒドロフラン10 ml に溶解
し、−40℃まで冷却し、n−ブチルリチウム(1.5
5モル、ヘキサン溶液)1.29 ml を滴下した。
−3β−〔 (メチルチオ) p−トリルスルホニルメチ
ル〕−4α−〔ジメチル(t−ブチル)シリルオキシ〕
シクロペンタノン[(±)−1]の合成 アルゴン雰囲気下、 (メチルチオ) メチルp−トリルス
ルホン432 mg をテトラヒドロフラン10 ml に溶解
し、−40℃まで冷却し、n−ブチルリチウム(1.5
5モル、ヘキサン溶液)1.29 ml を滴下した。
【0039】浴温を−20℃まで上昇させ、30分間攪
拌した後−78℃まで冷却し、ヘキサメチルリン酸トリ
アミド2.5 ml、続いて (±)−4−〔ジメチル(t
−ブチル) シリルオキシ〕−2−シクロペンテノン50
4 mg のTHF2 ml 溶液を滴下し、この温度で1時間
攪拌した後、ブロモ酢酸メチル1.0 ml を加えた。反
応温度をゆっくり上昇させ、−40℃で飽和塩化アンモ
ニウム水溶液 2 mlを加えた後、酢酸エチルで抽出し
た。
拌した後−78℃まで冷却し、ヘキサメチルリン酸トリ
アミド2.5 ml、続いて (±)−4−〔ジメチル(t
−ブチル) シリルオキシ〕−2−シクロペンテノン50
4 mg のTHF2 ml 溶液を滴下し、この温度で1時間
攪拌した後、ブロモ酢酸メチル1.0 ml を加えた。反
応温度をゆっくり上昇させ、−40℃で飽和塩化アンモ
ニウム水溶液 2 mlを加えた後、酢酸エチルで抽出し
た。
【0040】有機層を水洗、濃縮し、粗生成物をシリカ
ゲルクロマトグラフィーで分離精製し、 (±)−2α−
メトキシカルボニルメチル−3β−〔 (メチルチオ) p
−トリルスルホニルメチル〕−4α−〔ジメチル(t−
ブチル)シリルオキシ〕シクロペンタノン[(±)−
1]584 mg(収率56%)を無色結晶として得た。 mp 143.5〜144.0℃ NMR(CDCl3 )δ:7.8-7.2(m, 4H), 4.4-3.9 (m,
1H), 4.20(br.s, 1H),3.65(s, 3H), 3.2-2.3(m, 6H),
2.40(s, 3H),2.18(s, 3H), 0.80(s, 9H), 0.05(s, 6H) IR(KBr):1740, 1730, 1310, 1195, 1125, 111
5, 835 cm-1 MS(m/e):443(M-57,23), 213(100), 181(100),
160(95), 75(91) 参考例2 (+)−2α−メトキシカルボニルメチル−3β−〔
(メチルチオ) p−トリルスルホニルメチル〕−4α−
〔ジメチル(t−ブチル)シリルオキシ〕シクロペンタ
ノン[(+)−1]の合成 参考例1に於いて、(±)−4−〔ジメチル(t−ブチ
ル) シリルオキシ〕−2−シクロペンテノンの代わり
に、光学活性な(−)−4−〔ジメチル(t−ブチル)
シリルオキシ〕−2−シクロペンテノン(〔α〕D 25−
66.4°(c=1.0、メタノール))を用いて、参
考例1と同様に処理し、光学活性な(+)−2α−メト
キシカルボニルメチル−3β−〔 (メチルチオ) p−ト
リルスルホニルメチル〕−4α−〔ジメチル(t−ブチ
ル)シリルオキシ〕シクロペンタノン[(+)−1]2
38 mg(収率48%)を無色結晶として得た。〔α〕D
25+58.3°(c=0.511、クロロホルム)、m
p 107.0〜109.0℃ NMRとMSのデータは参考例1と同じであった。 実施例1
ゲルクロマトグラフィーで分離精製し、 (±)−2α−
メトキシカルボニルメチル−3β−〔 (メチルチオ) p
−トリルスルホニルメチル〕−4α−〔ジメチル(t−
ブチル)シリルオキシ〕シクロペンタノン[(±)−
1]584 mg(収率56%)を無色結晶として得た。 mp 143.5〜144.0℃ NMR(CDCl3 )δ:7.8-7.2(m, 4H), 4.4-3.9 (m,
1H), 4.20(br.s, 1H),3.65(s, 3H), 3.2-2.3(m, 6H),
2.40(s, 3H),2.18(s, 3H), 0.80(s, 9H), 0.05(s, 6H) IR(KBr):1740, 1730, 1310, 1195, 1125, 111
5, 835 cm-1 MS(m/e):443(M-57,23), 213(100), 181(100),
160(95), 75(91) 参考例2 (+)−2α−メトキシカルボニルメチル−3β−〔
(メチルチオ) p−トリルスルホニルメチル〕−4α−
〔ジメチル(t−ブチル)シリルオキシ〕シクロペンタ
ノン[(+)−1]の合成 参考例1に於いて、(±)−4−〔ジメチル(t−ブチ
ル) シリルオキシ〕−2−シクロペンテノンの代わり
に、光学活性な(−)−4−〔ジメチル(t−ブチル)
シリルオキシ〕−2−シクロペンテノン(〔α〕D 25−
66.4°(c=1.0、メタノール))を用いて、参
考例1と同様に処理し、光学活性な(+)−2α−メト
キシカルボニルメチル−3β−〔 (メチルチオ) p−ト
リルスルホニルメチル〕−4α−〔ジメチル(t−ブチ
ル)シリルオキシ〕シクロペンタノン[(+)−1]2
38 mg(収率48%)を無色結晶として得た。〔α〕D
25+58.3°(c=0.511、クロロホルム)、m
p 107.0〜109.0℃ NMRとMSのデータは参考例1と同じであった。 実施例1
【0041】
【化12】
【0042】(±)−2α−メトキシカルボニルメチル
−3β−ホルミル−4α−〔ジメチル(t−ブチル)シ
リルオキシ〕シクロペンタノン[(±)−2]の合成 (±)−2α−メトキシカルボニルメチル−3β−〔
(メチルチオ) p−トリルスルホニルメチル〕−4α−
〔ジメチル(t−ブチル)シリルオキシ〕シクロペンタ
ノン100 mg をジエチルエーテル190 ml に溶解し
た後、炭酸水素ナトリウム65 mg、水10 ml を加
え、窒素ガスをバブリングさせながら30分間、中紫外
線照射(30ワット低圧水銀灯、バイコールフィルター
254nm)した。 反応液を分液し、エーテル層を水
洗、濃縮し、粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフ
ィーで分離精製し、 (±)−2α−メトキシカルボニル
メチル−3β−ホルミル−4α−〔ジメチル(t−ブチ
ル)シリルオキシ〕シクロペンタノン[(±)−2]5
0 mg(収率80%)を得た。 NMR(CDCl3)δ:0.08(s, 6H), 0.88(s, 9H),2.2
〜3.2(m, 6H),3.60(s, 3H), 4.3〜4.7(m, 1H), 9.65(d,
J=2Hz, 1H) 参考例3
−3β−ホルミル−4α−〔ジメチル(t−ブチル)シ
リルオキシ〕シクロペンタノン[(±)−2]の合成 (±)−2α−メトキシカルボニルメチル−3β−〔
(メチルチオ) p−トリルスルホニルメチル〕−4α−
〔ジメチル(t−ブチル)シリルオキシ〕シクロペンタ
ノン100 mg をジエチルエーテル190 ml に溶解し
た後、炭酸水素ナトリウム65 mg、水10 ml を加
え、窒素ガスをバブリングさせながら30分間、中紫外
線照射(30ワット低圧水銀灯、バイコールフィルター
254nm)した。 反応液を分液し、エーテル層を水
洗、濃縮し、粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフ
ィーで分離精製し、 (±)−2α−メトキシカルボニル
メチル−3β−ホルミル−4α−〔ジメチル(t−ブチ
ル)シリルオキシ〕シクロペンタノン[(±)−2]5
0 mg(収率80%)を得た。 NMR(CDCl3)δ:0.08(s, 6H), 0.88(s, 9H),2.2
〜3.2(m, 6H),3.60(s, 3H), 4.3〜4.7(m, 1H), 9.65(d,
J=2Hz, 1H) 参考例3
【0043】
【化13】
【0044】(±)−2−オキサ−3−オキソ−6−エ
キソ−〔(メチルチオ) p−トリルスルホニルメチル〕
−7−エンド−〔ジメチル(t−ブチル)シリルオキ
シ〕ビシクロ〔3.3.0〕オクタンの合成 (±)−2α−メトキシカルボニルメチル−3β−〔
(メチルチオ) p−トリルスルホニルメチル〕−4α−
〔ジメチル(t−ブチル)シリルオキシ〕シクロペンタ
ノン((±)−1)540 mg をメチルアルコール20
ml に溶解し、水冷下で水素化ホウ素ナトリウム38 m
g を加えた。
キソ−〔(メチルチオ) p−トリルスルホニルメチル〕
−7−エンド−〔ジメチル(t−ブチル)シリルオキ
シ〕ビシクロ〔3.3.0〕オクタンの合成 (±)−2α−メトキシカルボニルメチル−3β−〔
(メチルチオ) p−トリルスルホニルメチル〕−4α−
〔ジメチル(t−ブチル)シリルオキシ〕シクロペンタ
ノン((±)−1)540 mg をメチルアルコール20
ml に溶解し、水冷下で水素化ホウ素ナトリウム38 m
g を加えた。
【0045】1.5時間攪拌し、反応液に10%塩酸水
4 ml をゆっくり加え、酢酸エチルで抽出した。有機層
を水洗、濃縮し、粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグ
ラフィーで分離精製し、(±)−2−オキサ−3−オキ
ソ−6−エキソ−〔(メチルチオ) p−トリルスルホニ
ルメチル〕−7−エンド−〔ジメチル(t−ブチル)シ
リルオキシ〕ビシクロ〔3.3.0〕オクタン[(±)
−3]208 mg(収率44%)を淡黄色油状物として
得た。 NMR(CDCl3 )δ:7.7-7.2(m, 4H), 5.0-4.5(m,
1H), 4.3-3.8(m, 2H),2.9-1.5(m, 6H), 2.40(s, 3H),
2.00(s, 3H),O.80(s, 9H), 0.00(s, 6h) MS(m/e):413(M-57,4), 315(13), 213(34), 197
(100), 183(57) 参考例4
4 ml をゆっくり加え、酢酸エチルで抽出した。有機層
を水洗、濃縮し、粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグ
ラフィーで分離精製し、(±)−2−オキサ−3−オキ
ソ−6−エキソ−〔(メチルチオ) p−トリルスルホニ
ルメチル〕−7−エンド−〔ジメチル(t−ブチル)シ
リルオキシ〕ビシクロ〔3.3.0〕オクタン[(±)
−3]208 mg(収率44%)を淡黄色油状物として
得た。 NMR(CDCl3 )δ:7.7-7.2(m, 4H), 5.0-4.5(m,
1H), 4.3-3.8(m, 2H),2.9-1.5(m, 6H), 2.40(s, 3H),
2.00(s, 3H),O.80(s, 9H), 0.00(s, 6h) MS(m/e):413(M-57,4), 315(13), 213(34), 197
(100), 183(57) 参考例4
【0046】
【化14】
【0047】(±)−2−オキサ−3−オキソ−6−エ
キソ−ホルミル−7−エンド−〔ジメチル(t−ブチ
ル)シリルオキシ〕ビシクロ〔3.3.0〕オクタンの
合成 参考例3で得られた(±)−2−オキサ−3−オキソ−
6−エキソ−〔( メチルチオ) p−トリルスルホニル
メチル〕−7−エンド−〔ジメチル(t−ブチル)シリ
ルオキシ〕ビシクロ〔3.3.0〕オクタン121 mg
をジエチルエーテル190 ml に溶解した後、炭酸水素
ナトリウム65 mg 水溶液10 ml を加え、窒素ガスを
バブリングさせながら、1時間、中紫外線照射〔30ワ
ット低圧水銀灯、バイコールフィルター、波長254n
m〕した。
キソ−ホルミル−7−エンド−〔ジメチル(t−ブチ
ル)シリルオキシ〕ビシクロ〔3.3.0〕オクタンの
合成 参考例3で得られた(±)−2−オキサ−3−オキソ−
6−エキソ−〔( メチルチオ) p−トリルスルホニル
メチル〕−7−エンド−〔ジメチル(t−ブチル)シリ
ルオキシ〕ビシクロ〔3.3.0〕オクタン121 mg
をジエチルエーテル190 ml に溶解した後、炭酸水素
ナトリウム65 mg 水溶液10 ml を加え、窒素ガスを
バブリングさせながら、1時間、中紫外線照射〔30ワ
ット低圧水銀灯、バイコールフィルター、波長254n
m〕した。
【0048】反応液を分液し、エーテル層を水洗、濃縮
し、粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフで分離精
製し、(±)−2−オキサ−3−オキソ−6−エキソ−
ホルミル−7−エンド−〔ジメチル(t−ブチル)シリ
ルオキシ〕ビシクロ〔3.3.0〕オクタン 50 mg
(収率68%)を黄色油状物として得た。 NMR(CDCl3 )δ:9.55(s, 1H), 5.1-4.8(m, 1
H), 4.6-4.4 (m, 1H),3.5-1.8 (m, 6H),0.85(s, 9H),
0.10(s, 9H) IR(KBr):1760, 1720, 1185, 1085 cm-1 MS(m/e):227(M-57,60), 183(60), 75(100)
し、粗生成物をシリカゲル薄層クロマトグラフで分離精
製し、(±)−2−オキサ−3−オキソ−6−エキソ−
ホルミル−7−エンド−〔ジメチル(t−ブチル)シリ
ルオキシ〕ビシクロ〔3.3.0〕オクタン 50 mg
(収率68%)を黄色油状物として得た。 NMR(CDCl3 )δ:9.55(s, 1H), 5.1-4.8(m, 1
H), 4.6-4.4 (m, 1H),3.5-1.8 (m, 6H),0.85(s, 9H),
0.10(s, 9H) IR(KBr):1760, 1720, 1185, 1085 cm-1 MS(m/e):227(M-57,60), 183(60), 75(100)
【0049】
【発明の効果】本発明により、従来より簡単な1,4−
付加反応およびトラップ反応により新規なヒドロキシシ
クロペンタノン誘導体が得られるようになり、新しい医
薬、農薬およびこれらの中間体が得られる。
付加反応およびトラップ反応により新規なヒドロキシシ
クロペンタノン誘導体が得られるようになり、新しい医
薬、農薬およびこれらの中間体が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07F 7/18 C07F 7/18 Q // C07D 307/80 C07D 307/80 307/935 307/935 (72)発明者 新井 和孝 千葉県船橋市坪井町722番地1日産化学 工業株式会社中央研究所内 審査官 脇村 善一
Claims (1)
- 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 〔式中、R1は0から3ヶの不飽和結合を有し、かつ低
級アルコキシ基、低級アル コキシカルボニル基によっ
て置換されていてもよい炭素数1ないし10の脂肪 族
基または水素原子を意味し;Aは、1乃至3ヶの低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基あるいはハロゲン原子によ
って置換されていてもよいフェニル基を意味し;R2は
低級アルキル基を意味し;Xは水素原子または水酸基の
保護基を意味する。〕によって表される化合物を紫外線
照射することを特徴とする一般式 (V) 【化2】 〔式中、XおよびR1は上述の説明と同意味である。〕
により表されるヒドロキシシクロペンタノン類の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8051503A JP2590796B2 (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | ヒドロキシシクロペンタノン類の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8051503A JP2590796B2 (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | ヒドロキシシクロペンタノン類の製法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62087746A Division JP2536516B2 (ja) | 1987-04-09 | 1987-04-09 | ヒドロキシシクロペンタノン類 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08277239A JPH08277239A (ja) | 1996-10-22 |
JP2590796B2 true JP2590796B2 (ja) | 1997-03-12 |
Family
ID=12888804
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8051503A Expired - Lifetime JP2590796B2 (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | ヒドロキシシクロペンタノン類の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2590796B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4652875B2 (ja) * | 2005-04-07 | 2011-03-16 | 白鳥製薬株式会社 | 7−アルキル−10−ヒドロキシカンプトテシン類の製造法 |
CN102101835B (zh) * | 2009-12-16 | 2015-07-22 | 武汉启瑞药业有限公司 | 前列腺素衍生物及其中间体的制备方法 |
-
1996
- 1996-03-08 JP JP8051503A patent/JP2590796B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH08277239A (ja) | 1996-10-22 |
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