JP2578014Y2 - Dielectric plate of laser device - Google Patents
Dielectric plate of laser deviceInfo
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- JP2578014Y2 JP2578014Y2 JP1992032902U JP3290292U JP2578014Y2 JP 2578014 Y2 JP2578014 Y2 JP 2578014Y2 JP 1992032902 U JP1992032902 U JP 1992032902U JP 3290292 U JP3290292 U JP 3290292U JP 2578014 Y2 JP2578014 Y2 JP 2578014Y2
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本考案は、レーザ媒質となるガス
を電極間に満たし、高周波放電によりレーザ励起を行う
ガスレーザ装置に係り、特に、発熱を少なくし、且つ放
電形状を整形でき、しかもシール性の高いレーザ装置の
誘電体板に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas laser apparatus in which a gas serving as a laser medium is filled between electrodes and a laser is excited by a high-frequency discharge. The present invention relates to a dielectric plate of a laser device having high performance.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、各種レーザ加工に使用されるガ
スレーザ装置においては、圧力が10Torr〜200
Torr程度のレーザガスをレーザ媒質とし、このレー
ザ媒質が満たされた電極間に高周波放電を印加すること
により、レーザ励起を行うと共に、レーザガスを流動し
て放電に伴うガス温度上昇を抑制している。2. Description of the Related Art Generally, in a gas laser device used for various laser processing, a pressure is 10 Torr to 200 Torr.
A laser gas of about Torr is used as a laser medium, and high-frequency discharge is applied between electrodes filled with the laser medium, thereby performing laser excitation and flowing the laser gas to suppress a rise in gas temperature due to the discharge.
【0003】図2は、この目的に適う従来のガスレーザ
装置50の例を示している。このガスレーザ装置50
は、放電電界方向、レーザガス流方向及びレーザ光軸方
向が各々直交する三軸直交型レーザ装置である。FIG. 2 shows an example of a conventional gas laser device 50 suitable for this purpose. This gas laser device 50
Is a three-axis orthogonal laser device in which a discharge electric field direction, a laser gas flow direction, and a laser optical axis direction are orthogonal to each other.
【0004】図示するように、レーザガスを収容する金
属製真空容器51は、角型の筒の始端と終端とが閉じ合
わされて形成され、筒内52に送風機53、放電部5
4、熱交換器55が順に設けられている。送風機53
は、レーザガス流を発生させるために設けられ、図中矢
印Aで示す方向に流路が形成される。熱交換器55は、
放電により上昇したガス温度を吸収するために設けら
れ、熱交換器55で熱を奪われたレーザガスが再び送風
機53で循環される。放電部54は、高周波放電により
レーザ励起を行うために設けられている。[0004] As shown in the figure, a metal vacuum vessel 51 for storing a laser gas is formed by closing the start and end of a rectangular tube, and has a blower 53 and a discharge unit 5 in a tube 52.
4. The heat exchanger 55 is provided in order. Blower 53
Is provided for generating a laser gas flow, and a flow path is formed in a direction indicated by an arrow A in the figure. The heat exchanger 55
The laser gas, which is provided to absorb the gas temperature increased by the discharge and has been deprived of heat by the heat exchanger 55, is circulated again by the blower 53. The discharge unit 54 is provided for performing laser excitation by high-frequency discharge.
【0005】従来、放電部54には、図3に示されるよ
うに、金属電極56と誘電体板57とが、組み合わされ
それぞれ高周波電源58の電圧側、接地側に設けられて
いる。これら金属電極56及び誘電体板57は、平行に
対向させて設けられる。誘電体板57は金属真空容器5
1に保持され、その外側に金属電極56が取り付けられ
ている。金属電極56の大きさよりも誘電体板57の大
きさが大きいのは、金属電極56と金属真空容器51と
の絶縁を図るためである。また、誘電体板57は、所定
の厚さを有すると共にシール性を有し、レーザガスを封
入するための金属真空容器51の外殻の一部を形成して
いる。Conventionally, as shown in FIG. 3, a metal electrode 56 and a dielectric plate 57 are combined and provided on the discharge side 54 on the voltage side and the ground side of a high-frequency power supply 58, respectively. The metal electrode 56 and the dielectric plate 57 are provided to face each other in parallel. The dielectric plate 57 is a metal vacuum vessel 5
1, and a metal electrode 56 is attached to the outside thereof. The reason why the size of the dielectric plate 57 is larger than the size of the metal electrode 56 is to insulate the metal electrode 56 from the metal vacuum vessel 51. The dielectric plate 57 has a predetermined thickness and a sealing property, and forms a part of an outer shell of the metal vacuum vessel 51 for enclosing a laser gas.
【0006】発振周波数が1MHz 〜100MHz 程度
の電圧が電圧側金属電極56aに印加されると共に接地
側電極56b並びに上記金属真空容器51は接地され
る。金属電極56より誘電体板57を介して高周波電流
が流れ、放電部54に満たされたレーザガス中で放電が
点弧され、この高周波放電によってレーザ励起が行われ
る。励起されたエネルギは、光共振器(図示せず)の作
用によって、紙面と垂直の方向にレーザ光として取り出
される。A voltage having an oscillation frequency of about 1 MHz to 100 MHz is applied to the voltage side metal electrode 56a, and the ground side electrode 56b and the metal vacuum vessel 51 are grounded. A high-frequency current flows from the metal electrode 56 through the dielectric plate 57, and discharge is ignited in the laser gas filled in the discharge portion 54, and laser excitation is performed by the high-frequency discharge. The excited energy is extracted as laser light in a direction perpendicular to the plane of the drawing by the action of an optical resonator (not shown).
【0007】誘電体板57は、電気的には、金属電極5
6と直列にコンデンサを接続した場合と同様の作用をす
る。即ち、高周波電流の局所的な集中を防ぎ、放電の均
一化を図る役割を果たしている。The dielectric plate 57 is electrically connected to the metal electrode 5.
6 operates in the same manner as when a capacitor is connected in series. That is, it serves to prevent local concentration of the high-frequency current and to make the discharge uniform.
【0008】[0008]
【考案が解決しようとする課題】ところで、レーザ装置
50の放電部54は、金属電極の間に誘電体板57が介
在する構造である。印加する高周波電圧に対して効率よ
く放電させるには、誘電体板57の誘電率を高くするこ
とが考えられる。誘電率が高いと、誘電体板57の静電
容量が増大し、抵抗が少なくなり効率を上げることがで
きる。反面、以下に挙げるような欠点も考えられる。即
ち、誘電体板57の誘電率を高くすると、これに隣接す
る金属真空容器51が接地電位であるため、電圧側電極
から誘電体板57を伝導して金属真空容器51に漏れ電
流(矢印B)が流れる。これは、効率を低下させる要因
となる。そして、この漏れ電流は誘電体板57の発熱を
もたらす。誘電体板57の発熱は、損傷、温度上昇によ
る効率の低下につながる。また、誘電体板57の誘電率
を高くすると、電極間に形成される電界が拡がり、放電
路59が、図示する59aのようにレーザガス流の上下
流方向に拡がりやすくなるので、レーザ光発生効率が悪
くなる。また、レーザ光の品質が低下する。The discharge section 54 of the laser device 50 has a structure in which a dielectric plate 57 is interposed between metal electrodes. In order to discharge efficiently with respect to the applied high-frequency voltage, the dielectric constant of the dielectric plate 57 may be increased. When the dielectric constant is high, the capacitance of the dielectric plate 57 increases, the resistance decreases, and the efficiency can be increased. On the other hand, the following disadvantages are also considered. That is, when the dielectric constant of the dielectric plate 57 is increased, the metal vacuum container 51 adjacent to the dielectric plate 57 is at the ground potential, and the leakage current (arrow B) is transmitted to the metal vacuum container 51 through the dielectric plate 57 from the voltage side electrode. ) Flows. This causes a reduction in efficiency. This leakage current causes the dielectric plate 57 to generate heat. Heat generation of the dielectric plate 57 leads to damage and a decrease in efficiency due to a rise in temperature. Also, when the dielectric constant of the dielectric plate 57 is increased, the electric field formed between the electrodes is expanded, and the discharge path 59 is easily expanded in the upstream and downstream directions of the laser gas flow as shown in FIG. Gets worse. Also, the quality of the laser light is reduced.
【0009】逆に、誘電体板57の誘電率を低くする
と、上述の欠点は解消できるが、放電の効率がよくな
い。これは、上述のように誘電率が高い方が誘電体板5
7の抵抗が小さいためである。そして、前述したように
誘電体板57は、金属真空容器51の外殻の一部を形成
しており、高い強度を要求されるが、一般に誘電体材料
は、構造的な強度が低いものが多く、金属部分に比べて
強度上の問題がある。Conversely, if the dielectric constant of the dielectric plate 57 is lowered, the above-mentioned disadvantage can be solved, but the discharge efficiency is not good. This is because the higher the dielectric constant is, the higher the dielectric plate 5 is.
This is because the resistance of No. 7 is small. As described above, the dielectric plate 57 forms a part of the outer shell of the metal vacuum vessel 51 and requires high strength. Generally, a dielectric material having a low structural strength is used. In many cases, there is a problem in strength as compared with metal parts.
【0010】次に、低誘電率と高誘電率の誘電体板を組
み合わせて、例えば、金属電極の直下のみを高誘電率の
誘電体板とし、その上下流は低誘電率の誘電体板で構成
することを考える。このように構成すれば、漏れ電流は
減少し、電極間に形成される電界が整形される。しか
し、この場合、誘電体板同士の接合部分が増加するた
め、シール性に問題が生じる。Next, a dielectric plate having a low dielectric constant and a dielectric plate having a high dielectric constant are combined to form, for example, a dielectric plate having a high dielectric constant just below a metal electrode, and a dielectric plate having a low dielectric constant is disposed above and below the metal electrode. Think about configuring. With this configuration, the leakage current is reduced, and the electric field formed between the electrodes is shaped. However, in this case, since the joining portion between the dielectric plates increases, a problem occurs in the sealing property.
【0011】そこで、本考案の目的は、上記課題を解決
し、発熱を少なくし、且つ放電形状を整形でき、しかも
シール性の高いレーザ装置の誘電体板を提供することに
ある。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to solve the above-mentioned problems and to provide a dielectric plate of a laser device which can reduce heat generation, shape a discharge shape, and have a high sealing property.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本考案は、レーザガス流路の両側に電圧側及び接地側
の金属電極を装着した一対の誘電体板を対向させた放電
部を設け、電極間に高周波を印加してレーザガスを励起
させるレーザ装置において、上記誘電体板は、レーザガ
スを収容する金属容器に連続させてレーザガス流路の外
側に面する高誘電率の材料を設け、この高誘電率の材料
にレーザガス流路の外側より金属電極を嵌装させるため
の凹部を形成して該金属電極の直下部分がレーザガス流
路に面するように構成し、この直下部分の上流及び下流
のレーザガス流路内側面を低誘電率の材料で構成したも
のである。In order to achieve the above object, the present invention provides a discharge section in which a pair of dielectric plates having metal electrodes on a voltage side and a ground side are opposed to each other on both sides of a laser gas flow path. In a laser device that excites a laser gas by applying a high frequency between electrodes, the dielectric plate includes a laser gas.
Outside the laser gas flow path
Provide a high-permittivity material facing the side
A metal electrode from outside the laser gas flow path
Of the laser gas flow.
Road facing, immediately upstream and downstream of this part
The inner surface of the laser gas flow path is made of a material having a low dielectric constant .
【0013】[0013]
【作用】上記構成により、金属真空容器への漏れ電流は
減少するため誘電体板の発熱が減少する。合わせて電極
間の放電も比較的効率がよくなる。According to the above construction, the leakage current to the metal vacuum vessel is reduced, so that the heat generation of the dielectric plate is reduced. In addition, the discharge between the electrodes is relatively efficient.
【0014】また、電極間の電界は、比較的に直線的に
なり、放電形状が整形される。Also, the electric field between the electrodes becomes relatively linear, and the discharge shape is shaped.
【0015】また、放電部の外側を構成する誘電体板が
高誘電率の材料を用いることができ、強度が高められる
と同時に、誘電体同士の接合部分がレーザガス流路の外
側に露出しないので、シール性がよい。Further, since the dielectric plate constituting the outside of the discharge portion can be made of a material having a high dielectric constant, the strength is increased, and at the same time, the joint between the dielectrics is not exposed outside the laser gas flow path. Good sealing properties.
【0016】[0016]
【実施例】以下本考案の一実施例を添付図面に基づいて
詳述する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.
【0017】図1には、本考案に係る放電部1が示され
ている。金属真空容器51及び、これに連なる図示され
ない部分は、従来例で説明した図2のレーザ装置と同様
のものであり、送風機53、熱交換器55、高周波電源
58等を備えている。図1に示されるように、放電部1
には誘電体板2が対抗させて設けられている。誘電体板
2は、金属真空容器51の外殻の一部を構成し、金属真
空容器51に連続させて一体的に固定されている。金属
真空容器51及び誘電体板2の間には、レーザガス流路
3が形成されている。レーザガス流は矢印Aの方向に流
れる。FIG. 1 shows a discharge unit 1 according to the present invention. The metal vacuum vessel 51 and a portion (not shown) connected to the metal vacuum vessel 51 are the same as those of the laser apparatus of FIG. 2 described in the conventional example, and include a blower 53, a heat exchanger 55, a high-frequency power supply 58, and the like. As shown in FIG.
Is provided with a dielectric plate 2 opposed thereto. The dielectric plate 2 forms a part of the outer shell of the metal vacuum vessel 51 and is fixed integrally with the metal vacuum vessel 51 continuously. The laser gas flow path 3 is formed between the metal vacuum vessel 51 and the dielectric plate 2. The laser gas flow flows in the direction of arrow A.
【0018】2つの誘電体板2、2には、それぞれ外側
に均一な深さの凹部4が設けられている。凹部4は、誘
電体板2のレーザガス流の上流寄りに位置されており、
凹部4から金属真空容器51までの距離は上流側で短く
下流側で長くなるよう形成されている。それぞれの凹部
4には、電圧側或いは接地側電極となる金属電極5が嵌
装されている。一方の金属電極5は、高周波電源58に
接続され電圧側金属電極5aを形成し、他方の接地側電
極5bは、接地されている。Each of the two dielectric plates 2 is provided with a concave portion 4 having a uniform depth on the outside. The concave portion 4 is located near the upstream of the laser gas flow of the dielectric plate 2,
The distance from the recess 4 to the metal vacuum vessel 51 is formed to be short on the upstream side and long on the downstream side. A metal electrode 5 serving as a voltage-side or ground-side electrode is fitted in each recess 4. One metal electrode 5 is connected to a high frequency power supply 58 to form a voltage side metal electrode 5a, and the other ground side electrode 5b is grounded.
【0019】2つの誘電体板2、2は、それぞれ異なっ
た構造を有している。The two dielectric plates 2 have different structures.
【0020】まず、一方の誘電体板は、電圧側電極5a
を設けるための誘電体板2aであって、レーザガス流路
3の外側面と、凹部4に沿った電圧側電極5aの直下及
び両側部分が、アルミナ等の比較的誘電率の高い材料で
構成されている。高誘電率の電圧側電極5aの直下部分
3aは、レーザガス流路3に面している。この直下部分
3aの上流及び下流のレーザガス流路3内側面3c、3
dは、ガラス等の比較的誘電率の低い材料で構成されて
いる。First, one dielectric plate is connected to the voltage side electrode 5a.
The outer surface of the laser gas flow path 3 and the portions directly below and on both sides of the voltage side electrode 5a along the recess 4 are made of a material having a relatively high dielectric constant such as alumina. ing. The portion 3a immediately below the high dielectric constant voltage side electrode 5a faces the laser gas flow path 3. The inner surfaces 3c, 3c of the laser gas flow path 3 upstream and downstream of the portion 3a directly below
d is made of a material having a relatively low dielectric constant such as glass.
【0021】これに対し、接地側電極5bが設けられた
誘電体板2bは、高誘電率のアルミナ等のみで構成され
ている。On the other hand, the dielectric plate 2b provided with the ground side electrode 5b is made of only high dielectric constant alumina or the like.
【0022】次に実施例の作用を述べる。Next, the operation of the embodiment will be described.
【0023】電圧側電極5aの直下部分3aが高誘電率
に形成され、且つその両側のレーザガス流路内側面3
c、3dが低誘電率に形成されているので、電圧側電極
5aからの電流は、直下方向に流れやすくなる。また、
電圧側電極5aから上下流の金属真空容器51に向かっ
ては、誘電体板2aの高誘電率部分の断面が小さく、電
流が流れにくくなる。従って、電圧側電極5aと接地側
電極5bとの間に高周波電源58より高電圧が印加され
る時、電流の大部分が電圧側電極5aから直下方向(矢
印6)に流れることになる。誘電体板2aを通過して金
属真空容器51に流れる電流は少なくなり、誘電体板2
aの発熱が減少する。The portion 3a immediately below the voltage side electrode 5a is formed with a high dielectric constant, and the inner surface 3a of the laser gas flow path on both sides thereof is formed.
Since c and 3d are formed with a low dielectric constant, the current from the voltage-side electrode 5a easily flows directly below. Also,
From the voltage side electrode 5a toward the metal vacuum vessel 51 on the upstream and downstream sides, the cross section of the high dielectric constant portion of the dielectric plate 2a is small, and it becomes difficult for current to flow. Therefore, when a high voltage is applied between the voltage side electrode 5a and the ground side electrode 5b from the high frequency power supply 58, most of the current flows from the voltage side electrode 5a directly downward (arrow 6). The current flowing through the dielectric plate 2a to the metal vacuum vessel 51 is reduced, and the dielectric plate 2
The heat generation of a is reduced.
【0024】レーザガス流路3内にあっては、放電電流
の経路は電圧側電極5aの直下の狭い領域に集中する。
即ち、放電電流の経路は比較的に直線的になり、放電形
状が整形される。In the laser gas flow path 3, the path of the discharge current is concentrated in a narrow area immediately below the voltage side electrode 5a.
That is, the path of the discharge current becomes relatively straight, and the discharge shape is shaped.
【0025】接地側電極5bが設けられた誘電体板2b
は、比較的強度の高いアルミナ等のみで構成され、接合
部が少ないので、充分な強度を有すると共にシール性も
よい。Dielectric plate 2b provided with ground side electrode 5b
Is made of only alumina having relatively high strength and has few joints, so that it has sufficient strength and good sealing properties.
【0026】一方、電圧側電極5aが設けられた誘電体
板2aは、外側が比較的強度の高いアルミナ等で構成さ
れ、ガラス等のレーザガス流路内側面3c、3dは、こ
れに覆われている。この組合わせ構造により、誘電体板
2aの強度が高められる。そして、レーザガス流路内側
面3c、3dと電圧側電極5aの直下部分3aとの誘電
体同士の接合部分がレーザガス流路3の外側に露出しな
いので、シール性がよい。On the other hand, the dielectric plate 2a on which the voltage side electrode 5a is provided is made of alumina or the like having relatively high strength on the outside, and the inside surfaces 3c and 3d of the laser gas flow path made of glass or the like are covered with this. I have. With this combination structure, the strength of the dielectric plate 2a is increased. Since the joint between the dielectrics of the inner surfaces 3c and 3d of the laser gas flow passage and the portion 3a immediately below the voltage-side electrode 5a is not exposed outside the laser gas flow passage 3, the sealing property is good.
【0027】以上説明したように、誘電体板2をレーザ
ガス流路3の外側で高誘電率且つ強度大とし、内側で低
誘電率としたことにより、誘電体板2での発熱が少な
く、放電形状が整形され、しかもシール性が高い誘電体
板が実現される。As described above, since the dielectric plate 2 has a high dielectric constant and high strength outside the laser gas flow path 3 and has a low dielectric constant inside, the heat generation in the dielectric plate 2 is small, and the discharge is reduced. A dielectric plate whose shape is shaped and which has a high sealing property is realized.
【0028】なお、本実施例では、電圧側誘電体板2a
のみ内側を低誘電率の誘電体で覆ったが、接地側誘電体
板2bの内側をも低誘電率の誘電体で覆ってもよいこと
は勿論である。In this embodiment, the voltage-side dielectric plate 2a
Although only the inside is covered with a low dielectric constant dielectric, it goes without saying that the inside of the ground-side dielectric plate 2b may also be covered with a low dielectric constant dielectric.
【0029】[0029]
【考案の効果】本考案は次のごとき優れた効果を発揮す
る。[Effects of the Invention] The present invention exhibits the following excellent effects.
【0030】(1)誘電体板の発熱が抑制されるので、
温度上昇によるレーザ発光効率の低下が防止できる。(1) Since the heat generation of the dielectric plate is suppressed,
A decrease in laser emission efficiency due to a rise in temperature can be prevented.
【0031】(2)放電形状が整形されるので、レーザ
光の品質が向上する。(2) Since the shape of the discharge is shaped, the quality of the laser beam is improved.
【図1】本考案の一実施例を示すレーザ装置の電極部の
構造図である。FIG. 1 is a structural view of an electrode part of a laser device according to an embodiment of the present invention.
【図2】レーザ装置の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of a laser device.
【図3】従来例を示すレーザ装置の電極部の構造図であ
る。FIG. 3 is a structural view of an electrode portion of a laser device showing a conventional example.
1 放電部 2、2a、2b 誘電体板 3 レーザガス流路 5、5a、5b 金属電極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Discharge part 2, 2a, 2b Dielectric plate 3 Laser gas flow path 5, 5a, 5b Metal electrode
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−8381(JP,A) 特開 平3−208383(JP,A) 特開 昭60−262479(JP,A) 特開 昭60−217675(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01S 3/038──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-3-8381 (JP, A) JP-A-3-208383 (JP, A) JP-A-60-262479 (JP, A) JP-A-60- 217675 (JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) H01S 3/038
Claims (1)
側の金属電極を装着した一対の誘電体板を対向させた放
電部を設け、電極間に高周波を印加してレーザガスを励
起させるレーザ装置において、上記誘電体板は、レーザ
ガスを収容する金属容器に連続させてレーザガス流路の
外側に面する高誘電率の材料を設け、この高誘電率の材
料にレーザガス流路の外側より金属電極を嵌装させるた
めの凹部を形成して該金属電極の直下部分がレーザガス
流路に面するように構成し、この直下部分の上流及び下
流のレーザガス流路内側面を低誘電率の材料で構成した
ことを特徴とするレーザ装置の誘電体板。1. A laser device in which a discharge section is provided on both sides of a laser gas flow path with a pair of dielectric plates having metal electrodes on a voltage side and a ground side facing each other, and a high frequency is applied between the electrodes to excite the laser gas. In the above, the dielectric plate is a laser
Connect the laser gas flow path to the metal
Provide a high-permittivity material facing outward, and use this high-permittivity material.
A metal electrode is fitted to the material from outside the laser gas flow path.
And a portion directly below the metal electrode is formed by laser gas.
So that it faces the flow path, and
A dielectric plate for a laser device, wherein an inner surface of a flow laser gas flow path is made of a material having a low dielectric constant .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1992032902U JP2578014Y2 (en) | 1992-05-19 | 1992-05-19 | Dielectric plate of laser device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1992032902U JP2578014Y2 (en) | 1992-05-19 | 1992-05-19 | Dielectric plate of laser device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0593064U JPH0593064U (en) | 1993-12-17 |
JP2578014Y2 true JP2578014Y2 (en) | 1998-08-06 |
Family
ID=12371831
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1992032902U Expired - Lifetime JP2578014Y2 (en) | 1992-05-19 | 1992-05-19 | Dielectric plate of laser device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2578014Y2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4618658B2 (en) * | 2001-03-01 | 2011-01-26 | 株式会社アマダ | Gas laser oscillator |
Family Cites Families (3)
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---|---|---|---|---|
JPS60262479A (en) * | 1984-06-11 | 1985-12-25 | Mitsubishi Electric Corp | Discharge electrode for laser oscillator and manufacture thereof |
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-
1992
- 1992-05-19 JP JP1992032902U patent/JP2578014Y2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0593064U (en) | 1993-12-17 |
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