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JP2574325B2 - Optical information recording medium - Google Patents

Optical information recording medium

Info

Publication number
JP2574325B2
JP2574325B2 JP62237838A JP23783887A JP2574325B2 JP 2574325 B2 JP2574325 B2 JP 2574325B2 JP 62237838 A JP62237838 A JP 62237838A JP 23783887 A JP23783887 A JP 23783887A JP 2574325 B2 JP2574325 B2 JP 2574325B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
composition
recording
recording medium
phase
crystallization
Prior art date
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Application number
JP62237838A
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Japanese (ja)
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JPS63225935A (en
Inventor
昇 山田
正敏 高尾
邦夫 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Publication of JPS63225935A publication Critical patent/JPS63225935A/en
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Publication of JP2574325B2 publication Critical patent/JP2574325B2/en
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  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Optical Recording Or Reproduction (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はレーザー光線等の手段をもちいて情報信号を
高速かつ高密度に記録再生し,かつ書き換え可能な光学
的情報記録媒体に関するものである。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical information recording medium capable of recording and reproducing information signals at high speed and with high density using means such as a laser beam and rewritable.

従来の技術 レーザー光線を金属,色素等の薄膜上に照射して局部
的な変化を生じさせ高密度に情報を記録再生する技術は
公知であり、追加記録可能なタイプのものが,いわゆる
ライトワンス(WRITE−ONCE)型光ディスク装置として
商品化されている。いっぽう書き換え可能なタイプのも
のは,まだ研究段階であるが、これまで記録層にTe,Se
等のカルコゲン,またはその化合物(カルコゲン化物)
を主成分とする材料薄膜をもちいるものが提案されてき
ている。これらの物質,とりわけTeを主成分とする系に
おいては比較的容易にアモルファス相と結晶相との間の
可逆的な相変化を生じさせることが可能であり、その間
で光学定数が大きく変化することから様々な組成が検討
されてきた。
2. Description of the Related Art A technique for recording and reproducing information at a high density by irradiating a laser beam onto a thin film of a metal, a dye, or the like to cause a local change is known, and a type capable of additionally recording is a so-called write-once ( WRITE-ONCE) type optical disk device. On the other hand, the rewritable type is still in the research stage, but until now, Te, Se
Such as chalcogen or its compound (chalcogenide)
A material using a material thin film containing as a main component has been proposed. In these substances, especially in a system mainly composed of Te, it is possible to relatively easily cause a reversible phase change between the amorphous phase and the crystalline phase, and the optical constant changes greatly between them. Various compositions have been studied.

Teは光の赤外領域にも吸収が有ること、融点が400℃
程度と低いこと、さらにはその構造の基本が二配位の鎖
状の原子結合から成っていることから粘性が大きく、液
相から冷却した場合にアモルファス相が形成されやすい
こと等、相変化型の書き換え可能な記録材料として望ま
しい特性を備えている。ただしTe単独では結晶化温度
(Tx)が低く室温では安定なアモルファス相をうること
ができない。そこでTeに様々な添加物元素を加えて、安
定なアモルファス相を得る試み、あるいは液晶化の速度
をコントロールする試みがなされてきた。
Te has absorption in the infrared region of light, melting point 400 ° C
Phase change type, such as low viscosity and high viscosity due to its basic structure consisting of two-coordinated chain-like atomic bonds, and easy formation of an amorphous phase when cooled from a liquid phase. It has characteristics desirable as a rewritable recording material. However, Te alone has a low crystallization temperature (Tx) and cannot obtain a stable amorphous phase at room temperature. Attempts have been made to obtain a stable amorphous phase by adding various additive elements to Te, or to control the rate of liquid crystal formation.

例えばGe15Te81Sb2S2(特公昭47−26897号公報)、Te
92Ge2As5(アプライド フィジックス レターズ(APPL
IED PHYSICS LETTERS),18(1971)P254),Te87Ge8Sn5
(アプライド フィジックス レターズ(APPLIED PHYS
ICS LETTERS),46(1985)P734)等がある。これはいず
れもGe添加によってTeのアモルファス相を安定化してい
る。また結晶化速度を高める試みはTeGeAu系合金(特開
昭61−219692号公報),TeGeSnAu系合金(特開昭61−270
190号公報)等があり,Auを添加することでTeの鎖状構造
を分断し原子の拡散速度を高めることに成功している。
For example, Ge 15 Te 81 Sb 2 S 2 (JP-B-47-26897), Te
92 Ge 2 As 5 (Applied Physics Letters (APPL
IED PHYSICS LETTERS), 18 (1971) P254), Te 87 Ge 8 Sn 5
(APPLIED PHYS Letters
ICS LETTERS), 46 (1985) P734). This stabilizes the Te amorphous phase by adding Ge. Attempts to increase the crystallization rate have been made using TeGeAu-based alloys (Japanese Patent Laid-Open No. 61-219692) and TeGeSnAu-based alloys (Japanese Patent Laid-Open No. 61-270).
No. 190), and succeeded in increasing the diffusion rate of atoms by adding Au to break the Te chain structure.

発明が解決しようとする問題点 本発明の目的は、従来の系に比べて、はるかに高速に
記録、消去をおこなおうとするものである。
Problems to be Solved by the Invention It is an object of the present invention to perform recording and erasing at a much higher speed than conventional systems.

従来、アモルファス−結晶間の相変化を利用する記録
−消去方法においては、一般的に結晶相からアモルファ
ス相への変化を記録方向とし逆にアモルファス相から結
晶相への変化を消去方向としている。その理由は、結晶
化がアモルファス相のアニール、あるいは液相からの徐
冷という比較的時間を要するプロセスであるのにたいし
て、アモルファス化が液相からの急冷という高速のプロ
セスであるためである。つまり、レーザー光線の照射時
間を短くすることができるため記録速度を大きくするこ
とができるということであった。
Conventionally, in a recording-erasing method using a phase change between amorphous and crystalline, generally, a change from a crystalline phase to an amorphous phase is a recording direction, and conversely, a change from an amorphous phase to a crystalline phase is an erasing direction. The reason for this is that crystallization is a high-speed process such as annealing of an amorphous phase or slow cooling from a liquid phase, while amorphousizing is a rapid process such as rapid cooling from a liquid phase. In other words, the recording time can be increased because the irradiation time of the laser beam can be shortened.

ところが既に記録ずみの情報信号を消しながら新しい
信号を記録してゆく。いわゆる同時消録を行うときに
は、この結晶化速度もまた十分に大きくする必要があ
る。つまり結晶化(消去)に要する時間をアモルファス
化(記録)に要する時間と同じ程度に短くしなければな
らない。これまでは、このいわゆる同時消録を実現する
手段として記録、再生用と消去用の二つの光スポットを
用い、消去用の光スポットの長さを記録、再生用の光ス
ポットの長さよりも相対的に長くすることで消去光スポ
ットの照射時間を長くする方法がとられてきた。しかし
ながらこの方法は同一トラック上に二つの光スポットを
精度よく並べる技術が必要であり、装置の設計上、光学
系を複雑にするという問題があった。しかも書き換え速
度をこれまでのように高々数百キロバイト/sec程度のス
ピードからさらに高速化し、例えば磁気ディスクのよう
に数メガバイト/secで記録しようとすると、光スポット
と記録媒体との相対速度が数十メートル/secにもなり実
際の照射時間は数十nsecと極端に短かくなってしまう。
こうなると上述のような光学系で補うといった方法では
対応し切れず、真に結晶化速度が大きい材料が必要とな
る。
However, a new signal is recorded while erasing the already recorded information signal. When performing so-called simultaneous recording, this crystallization speed also needs to be sufficiently high. That is, the time required for crystallization (erasing) must be shortened to the same extent as the time required for amorphization (recording). Until now, as a means for realizing this so-called simultaneous recording, two light spots for recording, reproduction and erasure have been used, and the length of the light spot for erasure has been recorded relative to the length of the light spot for recording and reproduction. A method has been adopted in which the irradiation time of the erasing light spot is lengthened by making it longer. However, this method requires a technique for accurately arranging two light spots on the same track, and has a problem in that the optical system is complicated in designing the device. In addition, if the rewriting speed is further increased from the speed of at most several hundred kilobytes / sec as before, for example, when recording at several megabytes / sec like a magnetic disk, the relative speed between the light spot and the recording medium becomes several The actual irradiation time becomes extremely short at several tens of nanoseconds.
In this case, the method of supplementing with the above-described optical system cannot cope with the problem, and a material having a truly high crystallization rate is required.

問題点を解決するための手段 記録層にTe,Ge,Biの3元系薄膜を採用し、とりわけそ
の組成範囲を全体の組成が化学量論的な化合物組成また
は、それに準ずる単一相組成となるように選ぶ。
Means to solve the problem A ternary thin film of Te, Ge, Bi is adopted for the recording layer, and the composition range is particularly adjusted to a stoichiometric compound composition or a single-phase composition equivalent thereto. Choose to be.

作用 Ge−Bi−Teの三元系においては、GeTeとBi2Te3のあい
だにGe3Bi2Te6,GeBi2Te4,GeBi4Te7といった三元の量論
化合物組成が存在する。安定な化学量論的化合物組成に
おいては液体状態(同様にアモルファス状態)と結晶状
態との間の自由エネルギーの差が大きく、結晶化のため
の駆動力を大きくとることができる。また、結晶相が安
定な単一相であることから記録、消去の繰り返しによっ
ても相が別れることなく特性が変化するといった問題が
ない。さらに、この三元系は融点が比較的低くアモルフ
ァス相が形成しやすい。結晶化温度が高いことから十分
安定なアモルファス相が得られる等、光学記録媒体とし
て優れた特徴を発揮することができる。
Action In the ternary system Ge—Bi—Te, there is a ternary stoichiometric composition such as Ge 3 Bi 2 Te 6 , GeBi 2 Te 4 , GeBi 4 Te 7 between GeTe and Bi 2 Te 3 . In a stable stoichiometric compound composition, the difference in free energy between a liquid state (also an amorphous state) and a crystalline state is large, and a driving force for crystallization can be increased. In addition, since the crystal phase is a stable single phase, there is no problem that the characteristics do not change even if recording and erasing are repeated without changing the phase. Furthermore, this ternary system has a relatively low melting point and is likely to form an amorphous phase. Excellent characteristics as an optical recording medium can be exhibited, for example, a sufficiently stable amorphous phase can be obtained due to a high crystallization temperature.

実施例 本発明の光学情報記録媒体は、第2図a〜cに示すよ
うに、PMMA,ポリカーボネイト等の樹脂、アルミニウ
ム、銅等の金属、ガラス等の表面の平滑な基板1の上に
SiO2、Al2O3、ZnS等の誘導体3でサンドイッチした記録
層2を形成して構成される。誘導体層は本発明にとって
は必ずしも必要ではなく、レーザー光線を繰り返して照
射することによる樹脂基材の熱的な損傷、あるいは記録
層そのものの変形、蒸発を低減化するために有効であ
る。また、レーザー光の吸収効率を高める目的でレーザ
ー光線の入射する反対側の誘電体層の上に光反射層4を
つけること、この上に更に保護板5を張り合わせること
も可能である。
Embodiment The optical information recording medium of the present invention is, as shown in FIGS. 2a to 2c, on a substrate 1 having a smooth surface such as a resin such as PMMA and polycarbonate, a metal such as aluminum and copper, and a glass.
It is formed by forming a recording layer 2 sandwiched by derivatives 3 such as SiO 2 , Al 2 O 3 and ZnS. The derivative layer is not necessarily required for the present invention, and is effective for reducing thermal damage to the resin base material due to repeated irradiation of a laser beam, or deformation and evaporation of the recording layer itself. It is also possible to attach the light reflecting layer 4 on the dielectric layer on the side opposite to the side where the laser beam is incident for the purpose of increasing the absorption efficiency of the laser beam, and further attach the protective plate 5 thereon.

本発明は、記録層の組成によって特徴づけられる。記
録層はTe,Bi,Geの3元で構成され、その組成の基本は、
第1図(b)に示すように二元の化学量論化合物組成Ge
TeおよびBi2Te3をあらわす二つの組成点とを結ぶ線上に
位置しており、以下のような組成式で表わすことができ
る。
The present invention is characterized by the composition of the recording layer. The recording layer is composed of ternary elements Te, Bi, and Ge.
As shown in FIG. 1 (b), the binary stoichiometric compound Ge
It is located on a line connecting two composition points representing Te and Bi 2 Te 3 and can be represented by the following composition formula.

xGeTe・(1−x)Bi2Te3 (0<x<1) 以下、本発明の記録媒体において記録層を構成する基
本的な考え方、具体的構成元素、ならびに、その濃度を
決定する理由について述べる。
xGeTe · (1-x) Bi2Te3 (0 <x <1) Hereinafter, the basic concept of forming the recording layer in the recording medium of the present invention, specific constituent elements, and the reason for determining its concentration will be described.

上述のようにTe系の記録媒体においてはTeが他の添加
物と化合物を形成しうる以上に過剰に含まれる場合、そ
のことが消去速度を制限する原因となる。そこで添加物
の濃度を増やしTeを化学量論組成の化合物として固定す
る方法が考えられる。しかし、単に一種類の元素を加え
ただけのTe合金、例えばCdTe,SnTe,PbTe,Sn2Te3,Bi2T
e3,GeTe,AuTe2等は次に述べる理由、 1)融点が高すぎ、レーザー光線の照射時間が短い場合
には(記録パルス)容易に溶融することができない。す
なわち記録感度が低い。
As described above, when Te is contained in a Te-based recording medium in excess of that capable of forming a compound with another additive, this causes a limitation on the erasing speed. Therefore, a method of increasing the concentration of the additive and fixing Te as a compound having a stoichiometric composition can be considered. However, Te alloys with only one element added, such as CdTe, SnTe, PbTe, Sn 2 Te 3 , Bi 2 T
e 3 , GeTe, AuTe 2, etc., have the following reasons: 1) The melting point is too high, and if the irradiation time of the laser beam is short (recording pulse), it cannot be easily melted. That is, the recording sensitivity is low.

2)結晶化温度が低すぎて安定なアモルファス相が形成
できない。すなわち信頼性に欠ける。
2) The crystallization temperature is too low to form a stable amorphous phase. That is, it lacks reliability.

といった、いずれかの、あるいは、両方の理由から記録
層としては不適である。
It is unsuitable as a recording layer for any one or both reasons.

中ではGeTeが安定なアモルファス相と、725℃と比較
的低い融点を有しているが、これとても現在の実用的な
レーザーダイオードの出力が高々30−40mW程度であるこ
とを考えるとアモルファス化が容易ではないうえ、耐湿
性が低いという欠点がある。
Among them, GeTe has a stable amorphous phase and a relatively low melting point of 725 ° C. Considering that the output of a very practical laser diode at present is about 30-40 mW at most, it becomes amorphous. It is not easy and has the disadvantage of low moisture resistance.

そこで本発明者等はTeを含む三元系の化合物を検討し
Ge−Bi−Teの三元化合物が記録薄膜として以下の点で優
れていうことを見出した。この系は以下に述べるように
この系に特異的でかつ重要ないくつかの特性1−4を備
えている。
Therefore, the present inventors studied a ternary compound containing Te.
It has been found that a ternary compound of Ge-Bi-Te is excellent as a recording thin film in the following points. This system has several properties 1-4 that are specific and important to this system as described below.

まず第一は、GeTeとBi2Te3のあいだには複数の化学量
論組成の化合物、すなわちGe3Bi2Te6,GeBi2Te4,GeBi4Te
7のように両端の二元化合物相の間の三元化合物相が存
在することである。第3図にGeTe−Bi2Te3擬二元相図を
示す。前述のように量論化合物相においては結晶状態に
おける自由エネルギーが低くアモルファス相とのエネル
ギー準位の差が大きいことから速い結晶化速度が得られ
る。
First of all, there are multiple stoichiometric compounds between GeTe and Bi 2 Te 3 , namely Ge 3 Bi 2 Te 6 , GeBi 2 Te 4 , GeBi 4 Te
As shown in FIG. 7, a ternary compound phase exists between the binary compound phases at both ends. FIG. 3 shows a quasi-binary phase diagram of GeTe-Bi 2 Te 3 . As described above, the stoichiometric compound phase has a low free energy in the crystalline state and a large difference in energy level from the amorphous phase, so that a high crystallization rate can be obtained.

第二は上記各化合物相が互いによく似た結晶構造を有
し結晶化温度、融点等においても、それぞれ非常に近い
値を示すということである。このことは次の効果、即
ち、たとえ記録膜組成が厳密に上記化学量論組成相の一
つに一致していなくとも、全体としては三つの相間の混
合物と見なすことができ、広い組成範囲にわたって特性
が変化しないという利点をあたえる。特に、GeTe−Bi2T
e3の線上では上記、三つの量論化合物組成と全く変わら
ない特性が得られた。
Second, the compound phases have crystal structures very similar to each other, and exhibit very close values in crystallization temperature, melting point, and the like. This has the following effect: even if the composition of the recording film does not exactly match one of the stoichiometric phases, it can be considered as a mixture of the three phases as a whole, and over a wide composition range. The advantage is that the characteristics do not change. In particular, GeTe-Bi 2 T
On the line of e3, characteristics which are not different from the above three stoichiometric compound compositions were obtained.

第三のポイントは上記結晶化温度が十分高く、従って
安定なアモルファス相が得られるということである。実
施例1中の第4図(a),(b),(c)にGeTe−Bi2T
e3のライン上の組成を含むGe−Bi−Te三元系薄膜の結晶
化温度の測定例と、その組成依存性を調べた結果を等高
線図として示す。これによって、GeTe−Bi2Te3擬二元系
においては、広い領域にわたって室温よりも十分に高い
結晶化温度が確保できることがわかる。
The third point is that the crystallization temperature is sufficiently high, so that a stable amorphous phase is obtained. FIGS. 4 (a), (b) and (c) in Example 1 show GeTe-Bi 2 T
A contour diagram shows a measurement example of the crystallization temperature of the Ge—Bi—Te ternary thin film including the composition on the line e 3 and the result of examining the composition dependence. This shows that in the GeTe-Bi 2 Te 3 pseudo-binary system, a crystallization temperature sufficiently higher than room temperature can be secured over a wide range.

第四のポイントは、結晶化課程のなかで見出された。
すなわちGeTe−Bi2Te3擬二元系においては、その室温に
おける安定な結晶相は六方晶であるが、結晶化の初相と
して、まずGe,Bi,Teの三元から成る単一な面心立方型の
準安定相が現れることが分かった。液体状態あるいはア
モルファス状態における原子構造は結晶状態における原
子構造よりも遥かに等方的であり、従って生じる結晶形
ができるだけ等方的であることが結晶化時における原子
の拡散距離を短くし結晶化時間を短縮するうえで有利で
あると考えられる。面心立方格子は結晶系のなかでも最
も等方的なものの一つであることが知られている。準安
定相はレーザー照射のように比較的急速に加熱冷却を行
う場合に生じやすい。以上の理由によってGe−Bi−Te系
薄膜が光学的情報記録媒体として適することがわかる。
The fourth point was found during the crystallization process.
That is, in the GeTe-Bi 2 Te 3 pseudo-binary system, the stable crystal phase at room temperature is hexagonal, but as the initial phase of crystallization, first, a single plane consisting of the ternary Ge, Bi, Te It was found that a metacubic phase of the heart cubic type appeared. The atomic structure in the liquid state or the amorphous state is much more isotropic than the atomic structure in the crystalline state. Therefore, it is important that the resulting crystal form is as isotropic as possible by shortening the diffusion distance of atoms during crystallization and crystallization. It is considered to be advantageous in shortening the time. It is known that the face-centered cubic lattice is one of the most isotropic ones in the crystal system. The metastable phase is likely to occur when heating and cooling are performed relatively quickly, such as laser irradiation. For the above reasons, it can be seen that the Ge—Bi—Te based thin film is suitable as an optical information recording medium.

次に本発明の製造方法について説明する。本発明の記
録媒体は真空蒸着、スパッタリング等の方法で形成する
ことが可能である。スパッタリングについては、望まし
い組成から割り出した合金ターゲットを用いることも、
各組成に応じた面積の複合モザイクターゲットを用いる
ことも出来る。真空蒸着法の場合は複数のソースを用意
し、共蒸着法を採るのが組成のコントロールに便利であ
る。この場合はたとえば三組の電子銃およびその電源、
膜厚センサー(例えば水晶振動子)を用意し、各ソース
からの蒸着レートを完全に独立して制御できることが望
ましい。蒸着時における真空度は、10-4Torrから10-7To
rrで十分である。
Next, the manufacturing method of the present invention will be described. The recording medium of the present invention can be formed by a method such as vacuum evaporation and sputtering. For sputtering, it is also possible to use an alloy target calculated from the desired composition,
A composite mosaic target having an area corresponding to each composition can also be used. In the case of the vacuum evaporation method, it is convenient to control a composition by preparing a plurality of sources and employing a co-evaporation method. In this case, for example, three sets of electron guns and their power supplies,
It is desirable that a film thickness sensor (for example, a quartz oscillator) be prepared and the deposition rate from each source can be controlled completely independently. The degree of vacuum during the deposition is from 10 -4 Torr to 10 -7 To
rr is enough.

以下、更に詳しい具体例をもって本発明を詳述する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with more specific examples.

実施例1 上記真空蒸着の方法で様々な組成のGe−Bi−Te三元系
記録媒体のテストピースを準備し、その特性を調べた。
特性の評価は 1.相変態温度Tx 2.アモルファス化に必要な最低レーザー照射パワーP 3.結晶化開始に必要なレーザー照射時間d の三点から行った。サンプルはTx測定には基板としては
厚さ0.3mm、直径8mmのパイレックスガラスを用い、記録
層はおよそ100nmの厚さとした。Txはas−depo状態のサ
ンプル片を徐々に加熱していった場合に、その化学的透
過率が変化を開始する温度で定義した。昇温は1℃/sの
スピードで行い、その間の光学的透過率の変化をHe−Ne
レーザーを用いてモニターし変曲点を検出した。これに
よってアモルファス相の熱的安定性が評価できる。
Example 1 Test pieces of Ge-Bi-Te ternary recording media of various compositions were prepared by the above-described vacuum deposition method, and the characteristics thereof were examined.
The characteristics were evaluated from three points: 1. phase transformation temperature Tx 2. minimum laser irradiation power P required for amorphization 3. laser irradiation time d required for starting crystallization. For the Tx measurement, Pyrex glass having a thickness of 0.3 mm and a diameter of 8 mm was used as a substrate for Tx measurement, and the recording layer had a thickness of about 100 nm. Tx was defined as the temperature at which the chemical transmittance of the as-depo sample started to change when the sample was gradually heated. The temperature was raised at a rate of 1 ° C./s, and the change in the optical transmittance during that time was measured using He-Ne.
Monitoring was performed using a laser to detect inflection points. Thereby, the thermal stability of the amorphous phase can be evaluated.

またアモルファス化感度P、結晶化速度dの測定に
は、基板として縦12mm、横10mm、厚さ1.2mmのPMMA板を
用いこの上に100nmのZnS,100nmのGe−Bi−Te三元系記録
膜、200nmのZnSを順次蒸着し、その上に基板と同じPMMA
板を紫外線硬化樹脂を用いて張り合わせたものを用い
た。Pは、ある一定のパルス幅のレーザー光線を結晶状
態の記録膜面に絞りこんで照射し、アモルファス化が開
始するのに必要な照射パワーを測定した値をいう。この
場合、各サンプルはあらかじめ4mWのパワーで10usの長
さのレーザー照射を行って十分に予備黒化(結晶化)を
しておき、その後、照射パルス幅を50nsに固定してレー
ザー出力のみを変化させて照射しアモルファス化が光学
的反射率の変化として確認できる照射パワーを測定し
た。これによって記録感度を評価する。またdはレーザ
ーダイオードからの光をレンズ系でas−depo状態の記録
膜上に直径1um程度のスポットとして照射した場合に結
晶化が開始するのに必要な照射時間のことである。この
場合、照射パワーを2−25mW、また照射時間を10−1000
nsの範囲で変化させて最も速い結晶化の条件を求めた。
これによって消去速度の評価をすることができる。
For the measurement of the amorphization sensitivity P and the crystallization rate d, a PMMA plate having a length of 12 mm, a width of 10 mm and a thickness of 1.2 mm was used as a substrate, and 100 nm of ZnS and 100 nm of Ge-Bi-Te ternary system were recorded thereon. Film, 200nm ZnS deposited sequentially, PMMA same as substrate
A plate obtained by bonding plates using an ultraviolet curing resin was used. P is a value obtained by irradiating a laser beam having a certain pulse width on a recording film surface in a crystalline state while irradiating the laser beam, and measuring an irradiation power required to start amorphousization. In this case, each sample is preliminarily blackened (crystallized) by preliminarily irradiating a laser with a power of 4 mW and a length of 10 μs, and then fixing the irradiation pulse width to 50 ns and controlling only the laser output. The irradiation power was measured by changing the irradiation power so that the amorphous state could be confirmed as a change in the optical reflectance. Thereby, the recording sensitivity is evaluated. Further, d is an irradiation time required for crystallization to start when light from a laser diode is irradiated as a spot having a diameter of about 1 μm on a recording film in an as-depo state by a lens system. In this case, the irradiation power is 2-25 mW and the irradiation time is 10-1000
The fastest crystallization conditions were determined by changing the range of ns.
As a result, the erasing speed can be evaluated.

第4図(a)はGeTe−Bi2Te3系のTxの測定例である。
透過率が、ある温度で急激に減少し、結晶化が起こった
ことがわかる。
Figure 4 (a) is an example of measurement of GeTe-Bi 2 Te 3 system Tx.
It can be seen that the transmittance sharply decreased at a certain temperature and crystallization occurred.

(b)は、Ge−Bi−Teの三元組成図上に各組成点に対
応するTxをプロットし同一温度の点を結んだ当温線図で
ある。広い組成範囲にわたって室温をはるかに越える転
移温度が得られることがわかった。
(B) is an equivalent temperature diagram obtained by plotting Tx corresponding to each composition point on the ternary composition diagram of Ge-Bi-Te and connecting points at the same temperature. It has been found that a transition temperature well above room temperature can be obtained over a wide composition range.

(c)はGeTeとBi2Te3の組成点を結ぶライン上組成に
対しGeTeの組成比xとTxの関係について調べた結果であ
る。xGeTe・(1−x)Bi2Te3(0<x<1)系の相変
態温度は、x>0のいずれの場合も100℃以上と室温に
対して十分に高くアモルファス相が安定に存在すること
がわかる。更にx>0.1の領域ではTxは140℃以上であり
極めて安定なアモルファス状態が得られることがわかっ
た。
(C) is the result of examining the relationship between the composition ratio x and Tx of GeTe with respect to the composition on the line connecting the composition points of GeTe and Bi 2 Te 3 . xGeTe · (1-x) Bi 2 Te 3 (0 <x <1) phase transformation temperature of the system, x> exist stably high enough the amorphous phase with respect to room temperature and any case 100 ° C. or more 0 You can see that Further, in the region of x> 0.1, Tx was 140 ° C. or higher, and it was found that an extremely stable amorphous state was obtained.

第5図は同じ系について結晶化開始に必要なレーザー
照射時間を測定した結果である。図中、各カーブは、レ
ーザーパワーを8mWとしたときのGe−Bi−Teの三元組成
の結晶化開始パルス幅dを各組成点に対応してプロット
し同じ温度の点を結んだ等速度線図である。これより、
GeTe−Bi2Te3のライン上の組成ではおよそ30nsから100n
sと極めて短い照射時間で結晶化が開始すること、また
ラインからはずれるほど結晶化に必要な照射時間が増大
することがわかる。ただしライン組成からのずれがそれ
ほど大きくない場合には200ns程度のレーザー照射によ
って結晶化を開始させることができる。レーザーパワー
をさらに高くして同様のことをおこない14mW程度までは
結晶化開始のレーザー照射時間の短縮が確認された。
FIG. 5 shows the results of measuring the laser irradiation time required for starting crystallization for the same system. In the figure, each curve represents a crystallization start pulse width d of a ternary composition of Ge-Bi-Te when the laser power is set to 8 mW, corresponding to each composition point, and is connected to a point at the same temperature. FIG. Than this,
GeTe-Bi 100n approximately 30ns in the composition on the 2 Te 3 line
It can be seen that crystallization starts in an extremely short irradiation time of s, and that the irradiation time required for crystallization increases as the line goes off the line. However, when the deviation from the line composition is not so large, crystallization can be started by laser irradiation of about 200 ns. The same operation was performed by further increasing the laser power, and it was confirmed that the laser irradiation time for starting crystallization was reduced to about 14 mW.

次にアモルファス化感度を調べた。結晶化速度が大き
いことは逆にアモルファスが形成されにくい可能性をも
っているともいえる。DSCによる融点の測定から上記ラ
イン付近のGe−Bi−Te三元膜の融点は上記ライン上の組
成とその周囲とでは比較的近いことがわかったのでGeTe
−Bi2Te3系を中心にそのアモルファス化感度を調べた。
第六図はその結果を示す。これよりGeTeの組成比xが0.
85よりも小さい領域においては50nsという極めて短い時
間のレーザー照射によっても20mW程度のレーザーパワー
でアモルファス化が実現していることがわかる。更にGe
Teの組成比が33,50,75%という化合物組成ではそれぞれ
13,15,17mWというレーザーパワーでアモルファス化が実
現している。これらの値はGeTe単体の場合が30mW以上で
あるのに比較して十分に低くGeTe−Bi2Te3系のアモルフ
ァス化感度がGeTeに比べて十分に高いことを表わしてい
る。アモルファス化感度は融点と密接に関係しておりBi
2Te3に近づくほど高くなるがBi2Te3単体では先に述べた
ようにTxがやや低く実用に耐えない。GeTeとBi2Te3との
間の共晶組成、Ge4Bi37Te59においては593℃とこの系の
最も低い融点を有することから高い記録感度と比較的安
定なアモルファス相を同時に得ることができる。
Next, the amorphization sensitivity was examined. On the contrary, it can be said that the fact that the crystallization speed is high has a possibility that the amorphous is hardly formed. From the measurement of the melting point by DSC, it was found that the melting point of the Ge-Bi-Te ternary film in the vicinity of the line was relatively close to the composition on the line and its surroundings.
The amorphization sensitivity of -Bi 2 Te 3 system was investigated.
FIG. 6 shows the results. From this, the composition ratio x of GeTe is 0.
It can be seen that in a region smaller than 85, amorphousization is achieved with a laser power of about 20 mW even by laser irradiation for a very short time of 50 ns. Further Ge
In a compound composition with a composition ratio of Te of 33,50,75%,
Amorphization has been achieved with the laser power of 13,15,17mW. These values indicate that the GeTe-Bi 2 Te 3 system has a sufficiently high amorphization sensitivity that is sufficiently higher than that of GeTe alone, which is 30 mW or more. Amorphization sensitivity is closely related to melting point, and Bi
As it approaches 2 Te 3 , it becomes higher, but Bi 2 Te 3 alone has a slightly lower Tx as described above and is not practical. The eutectic composition between GeTe and Bi 2 Te 3 , Ge 4 Bi 37 Te 59 has the lowest melting point of 593 ° C and this system makes it possible to simultaneously obtain a high recording sensitivity and a relatively stable amorphous phase. it can.

実施例2 次にGe−Bi−Te三元系薄膜の結晶化課程をX線回折お
よびDSCを用いて調べた結果を示す。厚さ0.3mm,20mm角
の石英ガラス上に、ライン上の組成を含む幾つかの組成
を約100nm蒸着したテストピースを、それぞれ複数個準
備した。各組成において無処理のものおよび、アルゴン
ガス中で約10分間アニールしたもののX線回折パターン
を調べた。アニール温度は、あらかじめDSCを用いて結
晶化温度等の変態点を調べ、その直上の温度とした。こ
の結果、第一表に示すような結晶化課程が判明した。
Example 2 Next, the result of examining the crystallization process of a Ge—Bi—Te ternary thin film using X-ray diffraction and DSC will be described. A plurality of test pieces were prepared on a quartz glass having a thickness of 0.3 mm and a square of 20 mm each having several compositions including the composition on the line deposited by about 100 nm. The X-ray diffraction patterns of the untreated samples and the samples annealed in argon gas for about 10 minutes were examined for each composition. As the annealing temperature, a transformation point such as a crystallization temperature was examined in advance using DSC, and the temperature immediately above the transformation point was used. As a result, a crystallization process as shown in Table 1 was found.

すなわち、この表から、1)蒸着したままの未処理の
状態がアモルファス状態であること、2)上記、ライン
上の組成では、まずNaCl型の準安定相が初相とてして現
れていること、3)ラインからはずれた組成では、初め
から六方晶の安定相が出現することが読み取れ、ライン
上の組成における高速の結晶化が上述の準安定相の出現
とよく対応していることがわかる。
That is, from this table, 1) that the untreated state as deposited is an amorphous state, and 2) in the above composition on the line, first, a NaCl-type metastable phase appears as the initial phase. 3) It can be seen that a hexagonal stable phase appears from the beginning in the composition deviating from the line, and that the high-speed crystallization in the composition on the line corresponds well with the appearance of the metastable phase described above. Recognize.

DSCからは、ライン上組成に関し、結晶化に伴う発熱
ピークも溶融に伴う急熱ピークも共にナローで急峻であ
ることが示され、これらの系が単一相であることが確認
された。
The DSC showed that both the exothermic peak due to crystallization and the rapid heat peak due to melting were narrow and steep in the on-line composition, confirming that these systems were single phase.

実施例3 実施例1、2に対応する各組成点について、光ディス
クを試作し、その動特性を調べた。ディスクは、光の案
内溝を備えた直径130mm、厚さ1.2mmのPMMA樹脂基板上に
ZnS,Ge−Bi−Te三元膜、ZnSと順次積層しその上に紫外
線硬化樹脂を用いて基板と同じPMMA板を保護層として張
り合わせて構成した。各層の厚さは、下からおよそ800
A,1000A,1600Aであり、記録層での光吸収効果を高める
べく設計した。ダイナミックテスター(デッキ)は、記
録再生用と消去用とを兼ねた0.9um(1/2強度)径の円形
に絞りこんだ一本のレーザースポットを有しており、記
録時はレーザー出力を高く消去時は低くすることで古い
信号を新しい信号で書きつぶしていく、いわゆるオーバ
ーライト記録をテストするものである。ディスクの回転
速度は20m/secを基準とし、5MHzと7MHzの二つの周波数
で交互に記録(オーバーライト)をおこなってその繰り
返し寿命を調べた。寿命限界としては初期のC/Nから3dB
減となる回数と定義し、以下の1)〜3)の結論を得
た。
Example 3 An optical disk was experimentally manufactured for each composition point corresponding to Examples 1 and 2, and its dynamic characteristics were examined. The disc is mounted on a 130 mm diameter, 1.2 mm thick PMMA resin substrate with light guide grooves.
A ternary film of ZnS, Ge-Bi-Te, and ZnS were sequentially laminated, and the same PMMA plate as the substrate was laminated thereon as a protective layer using an ultraviolet curable resin. The thickness of each layer is about 800 from the bottom
A, 1000A, 1600A, designed to enhance the light absorption effect in the recording layer. The dynamic tester (deck) has a single laser spot narrowed to a 0.9um (1/2 intensity) diameter circle for recording and playback, and also for erasing. At the time of erasing, a low signal is used to test an overwrite recording in which an old signal is overwritten with a new signal. Based on the rotation speed of the disk of 20 m / sec, recording (overwriting) was alternately performed at two frequencies of 5 MHz and 7 MHz, and the repetitive life was examined. Lifetime limit is 3dB from initial C / N
This was defined as the number of times of reduction, and the following conclusions 1) to 3) were obtained.

1) ライン上の組成では記録時15−24mW、消去時6−
12mWのパワー範囲においてオーバーライトが可能であ
り、50dB以上のC/Nが得られる。また100万回以上の繰り
返しが可能である。また、最大30m/secでのオーバーラ
イト確認された(ランク1)。
1) In the composition on the line, 15-24mW at recording, 6- at erasing
Overwriting is possible in a power range of 12 mW, and a C / N of 50 dB or more is obtained. It can be repeated more than one million times. In addition, overwriting was confirmed at a maximum of 30 m / sec (rank 1).

2) ライン上の組成からずれるに従って消去速度の低
下から古い信号が消しきれなくなり新しい信号の品質が
低下する。この場合は記録周波数を下げ回転速度を10m/
sec,5m/secというように遅くすることでライン上の組成
の場合と同様にオーバーライトを行える。ただし、あま
り大きくはずれてしまうと回転速度では対応できなくな
る。また繰り返しによって生じた分相に起因すると思わ
れるノイズが発生しやすくなる。
2) As the composition deviates from the composition on the line, the old signal cannot be completely erased due to a decrease in the erasing speed, and the quality of the new signal deteriorates. In this case, lower the recording frequency and set the rotation speed to 10m /
Overwriting can be performed in the same manner as in the case of the composition on the line by making the delay time as slow as 5 m / sec. However, if the deviation is too large, the rotation speed cannot cope. Also, noise likely to be caused by phase separation caused by repetition is likely to occur.

3) 組成ずれの許容幅は第6図から分かるように上記
ラインから見てBiの方向へ+10at%、Teの方向へ+10at
%程度であって、この範囲では5m/sec以下の回転速度で
1万回の繰り返しが可能である(ランク4)。同様にBi
の方向に+7at%,Teの方向に+5at%程度の範囲では15m
/sec以下の回転速度で10万回の繰り返しが可能である
(ランク3)。さらに+5at%,+3at%程度の範囲では
25m/sec以下の回転速度で100万回の繰り返しが可能であ
る(ランク2)。上記各ランクに対応する組成領域を第
二表にしめす。
3) As can be seen from FIG. 6, the allowable width of the composition deviation is +10 at% in the direction of Bi and +10 at% in the direction of Te when viewed from the above line.
%, And within this range, 10,000 repetitions are possible at a rotation speed of 5 m / sec or less (rank 4). Similarly Bi
15m in the range of + 7at% in the direction of + and + 5at% in the direction of Te
It can be repeated 100,000 times at a rotation speed of less than / sec (rank 3). Furthermore, in the range of about + 5at% and + 3at%
One million repetitions is possible at a rotation speed of 25 m / sec or less (rank 2). The composition regions corresponding to the respective ranks are shown in Table 2.

これらのディスクは、当然のことながら従来のように
複数個のレーザースポットを用いても記録/消去をくり
返すことが可能であり、むしろそのほうが条件としては
選択の自由度が大きく容易であった。
As a matter of course, these discs can be repeatedly recorded / erased by using a plurality of laser spots as in the prior art. .

実施例4 実施例1、2におけるディスクの環境試験を行った。
各ディスクを80℃,80RH%の環境化に放置し1ケ月の
間、反射率をモニターしたが前記Txが140℃以上の組成
のディスクについては全く変化が認められなかった。ま
た、錆等の発生も無かった。
Example 4 An environmental test of the disks in Examples 1 and 2 was performed.
Each disk was left in an environment of 80 ° C. and 80% RH%, and the reflectance was monitored for one month, but no change was observed for the disk having a composition of Tx of 140 ° C. or more. No rust or the like was generated.

発明の効果 本発明によれば、 1)情報の転送レートが毎秒数Mバイトと極めて大きい 2)単一のレーザービームでオーバーライトが可能な 3)繰り返し寿命の長い 光学的情報記録媒体が提供される。Effects of the Invention According to the present invention, 1) an information transfer rate is extremely large at several megabytes per second 2) overwriting is possible with a single laser beam 3) An optical information recording medium having a long repetitive life is provided. You.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は、本発明の光学情報記録媒体に適用するGe−Bi
−Te三元系記録膜の組成領域を示す組成図、第2図は、
本発明の一実施例における記録媒体の実施形態例を示す
断面図、第3図は、Ge−Bi−Te三元系組成の中心である
GeTe−Bi2Te3擬二元系相図、第4図は、結晶化転移温度
Txの測定例及び、その組成依存性示す図、第5図は本発
明のGe−Bi−Te三元系記録膜のアモルファス化感度の組
成依存性示す図、第6図は本発明のGe−Bi−Te三元系記
録膜がアモルファス化を開始するのに必要なレーザー照
射時間を示す図である。
FIG. 1 shows Ge-Bi applied to the optical information recording medium of the present invention.
FIG. 2 is a composition diagram showing a composition region of a −Te ternary recording film, and FIG.
FIG. 3 is a sectional view showing an embodiment of a recording medium according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is the center of a Ge—Bi—Te ternary composition.
GeTe-Bi 2 Te 3 pseudo-binary phase diagram, Figure 4 shows the crystallization transition temperature
FIG. 5 shows a measurement example of Tx and its composition dependence, FIG. 5 shows the composition dependence of the amorphization sensitivity of the Ge—Bi—Te ternary recording film of the present invention, and FIG. FIG. 3 is a diagram illustrating a laser irradiation time required for the Bi—Te ternary recording film to start amorphization.

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】光、熱等の手段に依ってその光学的性質を
可逆的に変化する記録材料層を基板上に備え、その変化
を利用して情報の記録、再生、消去を行なう光学的情報
記録媒体であって、前記記録材料層が、安定な化学量論
的化合物であるGeTeとBi2Te3の間の固溶体xGeTe(1−
x)Bi2Te3(0<x<1)であることを特徴とする光学
的情報記録媒体。
1. A recording material layer whose optical properties are reversibly changed by means of light, heat or the like on a substrate, and the change is used to record, reproduce and erase information. An information recording medium, wherein the recording material layer is a solid solution xGeTe (1- 1) between stable stoichiometric compounds GeTe and Bi 2 Te 3.
x) An optical information recording medium characterized by Bi 2 Te 3 (0 <x <1).
【請求項2】記録材料層が、安定な化学量論的化合物Ge
TeとBi2Te3の間の固溶体xGeTe(1−x)Bi2Te3(0.1<
x<0.85)であることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の光学的情報記録媒体。
2. A recording material layer comprising a stable stoichiometric compound Ge
Solid solution between Ge and Bi 2 Te 3 xGeTe (1-x) Bi 2 Te 3 (0.1 <
x <0.85). Claim 1
The optical information recording medium described in the item.
【請求項3】記録材料層の組成が、安定な化学量論的三
元化合物Ge3Bi2Te6、GeBi2Te4またはGeBi4Te7もしく
は、これらの間の固溶体組成であることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の光学的情報記録媒体。
3. The composition of a recording material layer is a stable stoichiometric ternary compound Ge 3 Bi 2 Te 6 , GeBi 2 Te 4 or GeBi 4 Te 7 or a solid solution composition therebetween. The optical information recording medium according to claim 1, wherein:
【請求項4】記録材料層の組成が、GeTeとBi2Te3の間の
共晶組成であることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の光学的情報記録媒体。
4. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the composition of the recording material layer is a eutectic composition between GeTe and Bi 2 Te 3 .
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