JP2568617B2 - 給水中の有機物質および細菌を分解する方法 - Google Patents
給水中の有機物質および細菌を分解する方法Info
- Publication number
- JP2568617B2 JP2568617B2 JP63054719A JP5471988A JP2568617B2 JP 2568617 B2 JP2568617 B2 JP 2568617B2 JP 63054719 A JP63054719 A JP 63054719A JP 5471988 A JP5471988 A JP 5471988A JP 2568617 B2 JP2568617 B2 JP 2568617B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- hydrogen
- ozone
- bacteria
- electrolysis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 72
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 title claims description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims description 12
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 16
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 13
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 11
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 8
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 8
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 5
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 3
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 18
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 10
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 8
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007784 solid electrolyte Substances 0.000 description 6
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006385 ozonation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 2
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 2
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000557 Nafion® Polymers 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000001580 bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010531 catalytic reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 238000004925 denaturation Methods 0.000 description 1
- 230000036425 denaturation Effects 0.000 description 1
- 238000010612 desalination reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000013505 freshwater Substances 0.000 description 1
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000005185 salting out Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
- C02F1/467—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction
- C02F1/4672—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction by electrooxydation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/20—Treatment of water, waste water, or sewage by degassing, i.e. liberation of dissolved gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/44—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
- C02F1/441—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis by reverse osmosis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/44—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
- C02F1/444—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis by ultrafiltration or microfiltration
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/42—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
- C02F2001/427—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange using mixed beds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2101/00—Nature of the contaminant
- C02F2101/30—Organic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
- C02F2103/02—Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply
- C02F2103/04—Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply for obtaining ultra-pure water
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/46—Apparatus for electrochemical processes
- C02F2201/461—Electrolysis apparatus
- C02F2201/46105—Details relating to the electrolytic devices
- C02F2201/46115—Electrolytic cell with membranes or diaphragms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/46—Apparatus for electrochemical processes
- C02F2201/461—Electrolysis apparatus
- C02F2201/46105—Details relating to the electrolytic devices
- C02F2201/4612—Controlling or monitoring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/46—Apparatus for electrochemical processes
- C02F2201/461—Electrolysis apparatus
- C02F2201/46105—Details relating to the electrolytic devices
- C02F2201/4618—Supplying or removing reactants or electrolyte
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/78—Details relating to ozone treatment devices
- C02F2201/782—Ozone generators
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2303/00—Specific treatment goals
- C02F2303/04—Disinfection
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2303/00—Specific treatment goals
- C02F2303/18—Removal of treatment agents after treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、化学的、物理的かつ生物学的観点で純度に
関して極めて厳しい条件を満たさねばならない特別な産
業に使用する水の調製方法に関する。
関して極めて厳しい条件を満たさねばならない特別な産
業に使用する水の調製方法に関する。
本発明は、電子産業の半導体−構成要素の製造に於い
て主に洗浄目的で最も純粋な水を供給することに関す
る。この様な目的に供給されうる給水は、純度並びに有
機含有物質、細菌及びガスの除去に極めて大きい要求を
有する。したがって脱塩、軟化、濾過、脱ガス、有機成
分の除去、除菌及び殺菌の装置が不可欠である。
て主に洗浄目的で最も純粋な水を供給することに関す
る。この様な目的に供給されうる給水は、純度並びに有
機含有物質、細菌及びガスの除去に極めて大きい要求を
有する。したがって脱塩、軟化、濾過、脱ガス、有機成
分の除去、除菌及び殺菌の装置が不可欠である。
特に本発明は固体電解質を備えた電気化学槽の陽極域
中で生じるオゾン−これを一定の滞留時間の維持下で給
水中に含有される物質及び(又は)細菌と接触させる−
の使用下に、純水循環のための前処理された給水中の有
機物質及び(又は)細菌を分解する方法に関する。
中で生じるオゾン−これを一定の滞留時間の維持下で給
水中に含有される物質及び(又は)細菌と接触させる−
の使用下に、純水循環のための前処理された給水中の有
機物質及び(又は)細菌を分解する方法に関する。
水の調製に於ては、古典的な濾過及び軟化の他にオゾ
ン処理又は紫外歩領域での照射が重要な役割を果す。エ
レクトロニクス産業に於て高度の集積回路の仕上げに関
連して、洗浄水への要求が新たに増している。細菌数及
び残存酸素含有量に関する許容値はもっとも低下してい
る。水の前処理も含めて純水循環の従来技術は、多くの
文献に記載されている〔R.A.ハンゴ(Hango)、“脱イ
オン化された水素”、ソリッド・スティト・テクノロジ
ー、1983年、7月、第107-111頁参照〕。
ン処理又は紫外歩領域での照射が重要な役割を果す。エ
レクトロニクス産業に於て高度の集積回路の仕上げに関
連して、洗浄水への要求が新たに増している。細菌数及
び残存酸素含有量に関する許容値はもっとも低下してい
る。水の前処理も含めて純水循環の従来技術は、多くの
文献に記載されている〔R.A.ハンゴ(Hango)、“脱イ
オン化された水素”、ソリッド・スティト・テクノロジ
ー、1983年、7月、第107-111頁参照〕。
一般に細菌に使用される紫外線−射光体はランプの光
線の進路内でしか作用せず、したがって完全に信頼でき
る援助とならない。オゾン処理はこの欠点を除けるが、
これによって所望されない酸素が循環中に入る。オゾン
と紫外線−照射の相乗作用は記載されている(たとえば
R.ベーカー(Barker)、F.M.タイラー(Taylor)、“UV
/オゾンによる希水性溶液中での2プロパノールの酸
化”、Proceedings of the Int.Conf.、−オゾン及び廃
水処理の役割、ロンドン、13-14、11月、1985年参
照〕。
線の進路内でしか作用せず、したがって完全に信頼でき
る援助とならない。オゾン処理はこの欠点を除けるが、
これによって所望されない酸素が循環中に入る。オゾン
と紫外線−照射の相乗作用は記載されている(たとえば
R.ベーカー(Barker)、F.M.タイラー(Taylor)、“UV
/オゾンによる希水性溶液中での2プロパノールの酸
化”、Proceedings of the Int.Conf.、−オゾン及び廃
水処理の役割、ロンドン、13-14、11月、1985年参
照〕。
酸素を室温で水素を用いて触媒(パラジウム)の存在
下に還元し、その際水を形成することは知られている
(特にF.マルチノーラ(Martinola)、S.オクエル(Oec
kl)、P.トーマス(Thomas)、“水中での酸素の接触還
元”、水から65、1985年、第163/72頁、翻訳参照)。
下に還元し、その際水を形成することは知られている
(特にF.マルチノーラ(Martinola)、S.オクエル(Oec
kl)、P.トーマス(Thomas)、“水中での酸素の接触還
元”、水から65、1985年、第163/72頁、翻訳参照)。
合成樹脂ポリマー(イオン交換体)から成る膜の形で
固体電解質を有する電気化学槽及びガス状生成物に関す
る適当な収得法は、多くの文献に述べられている。この
様な槽はオゾンの製造に有利に使用できる(たとえば米
国特許第4416747号明細書、ヨーロッパ特許公報第00685
22号;H.P.クライン(Klein)、S.スタキー(Stucki)、
電気分解によるオゾンの製造及び高純度の水素にこれを
使用する方法、会議公報第7回オゾン世界大会、第110-
115頁、1985年9月9日〜12日、東京)。
固体電解質を有する電気化学槽及びガス状生成物に関す
る適当な収得法は、多くの文献に述べられている。この
様な槽はオゾンの製造に有利に使用できる(たとえば米
国特許第4416747号明細書、ヨーロッパ特許公報第00685
22号;H.P.クライン(Klein)、S.スタキー(Stucki)、
電気分解によるオゾンの製造及び高純度の水素にこれを
使用する方法、会議公報第7回オゾン世界大会、第110-
115頁、1985年9月9日〜12日、東京)。
前述の方法及び装置は、一般に純水循環に対して常に
高まる要求をもはや満さない。したがって改良されかつ
更に発展された方法が必要である。
高まる要求をもはや満さない。したがって改良されかつ
更に発展された方法が必要である。
本発明は、純水循環の給水中の有機物質又は細菌ある
いは両方を分解する方法を提供することを課題とする。
この給水はエレクトロニック−構成要素の仕上げに於け
る洗浄水の高まる要求を、有機含有物質、細菌、酸素を
すべての形で及びいかなる有害な反応生成物も含ないこ
とで満足させる。この方法は簡単で、作業上安全かつ価
格上好都合でなければならず、再現性に優れたものでな
ければならない。
いは両方を分解する方法を提供することを課題とする。
この給水はエレクトロニック−構成要素の仕上げに於け
る洗浄水の高まる要求を、有機含有物質、細菌、酸素を
すべての形で及びいかなる有害な反応生成物も含ないこ
とで満足させる。この方法は簡単で、作業上安全かつ価
格上好都合でなければならず、再現性に優れたものでな
ければならない。
この課題は、最初に述べた方法に於て給水を滞留時間
の経過後付加的に紫外線−照射にさらすことで解決され
る。
の経過後付加的に紫外線−照射にさらすことで解決され
る。
更に、この課題は最初に述べた方法に於て給水を滞留
時間の経過後、電気化学槽の陰極域中で生じる水素の一
部と混合し、その際給水中に残存する酸素残部及びオゾ
ン残部を水素と反応させ、これらの成分を水の形成下に
完全に分解することによって解決される。
時間の経過後、電気化学槽の陰極域中で生じる水素の一
部と混合し、その際給水中に残存する酸素残部及びオゾ
ン残部を水素と反応させ、これらの成分を水の形成下に
完全に分解することによって解決される。
本発明の実施方法 本発明を下記の、添付図面によって詳述される実施例
で説明する。図面は処理の図式的なフローシートを示
す。1は矢印で示される。前処理装置2(給水調製)へ
の給水供給(生水)である。この装置は必要に応じて1
又は数種のフィルター、水の軟化、塩析及び逆浸透のた
めの装置、イオン交換体等々から及びこの様な装置の任
意の組合せから成ることができる。これから水を電気化
学槽3に導入する。この槽は固体電解質4を合成樹脂ポ
リマーから成る膜の形で備えている。陽極域5中で酸素
及びオゾンを、陰極域6中で水素を発生する。陽極で生
じるO2及びO3−これはH2Oと共に陽極域5から除去
される−を表示7で、陰極で生じるH2−これは陰極域
6から除去される−を表示8で表わす。9は場合によっ
て生じるO2−及びO3−排気用バルブであり、10はそれ
に接続された、O3からO2に変えるための装置である。
次いで水は滞留時間槽11中に導入される。ここでたとえ
ば有機物質及び(又は)微生物がO2及びO3の作用を受
けて、分解される。反応容器12で紫外線−照射(波線矢
印hvで示される。)が行われる。その容器中でH2Oと
O3との反応によってOH−ラジカルが生じる。このラジ
カルは過剰のO3をO2に還元し、細菌を破壊する。水は
次いで反応容器13中に導入され、そこで触媒(たとえば
パラジウム)の作用下にH2−添加によって残存するO2
及びO3の分解が室温で行われる。H2を好ましくは電気
化学槽3の陰極域6から取り出すことができる(表示
8)。別の水素の供給も選択的に行うことができ、これ
は破線及び表示20に相当する。14は混合床(イオン交換
体)であり、これは反応生成物の一部を保持する。後者
の残部をフィルター15中で保留する。15は限外濾過工程
及び(又は)逆浸透工程から成ることができる。矢印16
は最後の水供給(純水)を示し、これはその時使用槽17
に供給される。18は使用槽17から分かれる廃水放出であ
る。使用された水の一部を、水の返還19を経て再び前処
理装置2に供給する。
で説明する。図面は処理の図式的なフローシートを示
す。1は矢印で示される。前処理装置2(給水調製)へ
の給水供給(生水)である。この装置は必要に応じて1
又は数種のフィルター、水の軟化、塩析及び逆浸透のた
めの装置、イオン交換体等々から及びこの様な装置の任
意の組合せから成ることができる。これから水を電気化
学槽3に導入する。この槽は固体電解質4を合成樹脂ポ
リマーから成る膜の形で備えている。陽極域5中で酸素
及びオゾンを、陰極域6中で水素を発生する。陽極で生
じるO2及びO3−これはH2Oと共に陽極域5から除去
される−を表示7で、陰極で生じるH2−これは陰極域
6から除去される−を表示8で表わす。9は場合によっ
て生じるO2−及びO3−排気用バルブであり、10はそれ
に接続された、O3からO2に変えるための装置である。
次いで水は滞留時間槽11中に導入される。ここでたとえ
ば有機物質及び(又は)微生物がO2及びO3の作用を受
けて、分解される。反応容器12で紫外線−照射(波線矢
印hvで示される。)が行われる。その容器中でH2Oと
O3との反応によってOH−ラジカルが生じる。このラジ
カルは過剰のO3をO2に還元し、細菌を破壊する。水は
次いで反応容器13中に導入され、そこで触媒(たとえば
パラジウム)の作用下にH2−添加によって残存するO2
及びO3の分解が室温で行われる。H2を好ましくは電気
化学槽3の陰極域6から取り出すことができる(表示
8)。別の水素の供給も選択的に行うことができ、これ
は破線及び表示20に相当する。14は混合床(イオン交換
体)であり、これは反応生成物の一部を保持する。後者
の残部をフィルター15中で保留する。15は限外濾過工程
及び(又は)逆浸透工程から成ることができる。矢印16
は最後の水供給(純水)を示し、これはその時使用槽17
に供給される。18は使用槽17から分かれる廃水放出であ
る。使用された水の一部を、水の返還19を経て再び前処
理装置2に供給する。
装置12及び13は破線の間にある。というのはこれらは
選択的に個々に又は組合せて使用することができる。す
なわち12又は13をいつでも省くことができるからであ
る。
選択的に個々に又は組合せて使用することができる。す
なわち12又は13をいつでも省くことができるからであ
る。
実施例1: 変性(A)による方法を、試験装置中で実施する。こ
れにはO2およびO3を分解するための触媒を有する反応
容器13はない。それ故この場合陰極で生じるH28も別
の水素20も供給されない。
れにはO2およびO3を分解するための触媒を有する反応
容器13はない。それ故この場合陰極で生じるH28も別
の水素20も供給されない。
前処理装置2は逆浸透装置、カチオン−アニオン−交
換体を有する混合床及びフィルターから成る。供給され
る生水1を前もって軟化し、完全に脱塩する。固体電解
質4(合成樹脂ポリマー、商品名“ナフィオン”(Nafi
on)、デュポン社製)を有する電気化学槽3は、電極表
面積3cm2を有する。これを水量100l/hで作動させ、電流
4A(電流密度1.33A/cm3)で全電圧3.95V下で動かす。そ
の際前もって脱気された水中でO2−濃度9.4mg/l及びO
3−濃度2.2mg/lが生じる。滞留時間槽11は内容量1300ml
を有する。これから滞留時間約47秒が生じる。UV−照射
用反応容器12は1320ml内容量の石英ガラスより成る槽か
ら成る。この槽はヘロイス社(ドイツ)の水銀蒸気−低
圧−照射器TNN15/32を備えている。次いで水を混合床
(イオン交換体)14中に導入し、これは内容量1950mlを
有する(シブロンバーンステッド社のタイプウルトラプ
ュアー)。水精製の最後の装置としてフィルター15を備
える。この場合これは保留能0.8μmを有する、ブラン
ズヴィック(Brunswick)社製キュンドルフィルタータ
イプPET-08-10-UN-15である。この装置を水の返還19が
生じない様に動かす。空気−及び同時に、空中酸素でも
−で飽和された水の100%を給水供給1を介して前処理
装置2に供給する。この理由からO3−濃度は電気化学
槽の後1.6mg/lにすぎない。一方O2−濃度は約10mg/lに
なる。紫外線−照射用反応容器12後のO3−濃度はまた
0.02mg/lである。試験的に給水に2−プロパノール2ppm
を混合し、有機炭素全量の分解を調べる。
換体を有する混合床及びフィルターから成る。供給され
る生水1を前もって軟化し、完全に脱塩する。固体電解
質4(合成樹脂ポリマー、商品名“ナフィオン”(Nafi
on)、デュポン社製)を有する電気化学槽3は、電極表
面積3cm2を有する。これを水量100l/hで作動させ、電流
4A(電流密度1.33A/cm3)で全電圧3.95V下で動かす。そ
の際前もって脱気された水中でO2−濃度9.4mg/l及びO
3−濃度2.2mg/lが生じる。滞留時間槽11は内容量1300ml
を有する。これから滞留時間約47秒が生じる。UV−照射
用反応容器12は1320ml内容量の石英ガラスより成る槽か
ら成る。この槽はヘロイス社(ドイツ)の水銀蒸気−低
圧−照射器TNN15/32を備えている。次いで水を混合床
(イオン交換体)14中に導入し、これは内容量1950mlを
有する(シブロンバーンステッド社のタイプウルトラプ
ュアー)。水精製の最後の装置としてフィルター15を備
える。この場合これは保留能0.8μmを有する、ブラン
ズヴィック(Brunswick)社製キュンドルフィルタータ
イプPET-08-10-UN-15である。この装置を水の返還19が
生じない様に動かす。空気−及び同時に、空中酸素でも
−で飽和された水の100%を給水供給1を介して前処理
装置2に供給する。この理由からO3−濃度は電気化学
槽の後1.6mg/lにすぎない。一方O2−濃度は約10mg/lに
なる。紫外線−照射用反応容器12後のO3−濃度はまた
0.02mg/lである。試験的に給水に2−プロパノール2ppm
を混合し、有機炭素全量の分解を調べる。
実施例2: 変法Bによる方法をより一層大きい装置中で実施す
る。これは図に示した設備をすべて、O2及びO3の分解
用触媒を有する反応容器13も含めて備える。それに応じ
て反応容器13に陰極で電気化学槽3に生じるH28を供
給する。
る。これは図に示した設備をすべて、O2及びO3の分解
用触媒を有する反応容器13も含めて備える。それに応じ
て反応容器13に陰極で電気化学槽3に生じるH28を供
給する。
装置中、電気化学槽3に対して水流量10m3/hである。
槽3は電極表面積4dm2を有し、電流400Aで作動する。こ
れは電流密度1A/cm2に相当する。電池電圧は3.8Vであ
る。滞留時間槽11は内容量150lを有するので、平均停留
時間は約54秒である。水銀蒸気−低圧−高流灯5個を備
えた紫外線−照射用反応容器12は内容量160lを有する。
貴金属−触媒を有する反応容器13は内容量160lを有し、
合成樹脂担体の床から成る。この担体はパラジウムを担
持する。この場合これは商品名“レバタイト(Lewati
t)OC1045"(バイエル社、ドイツ)という製品である。
イオン交換体を有する混合床14は内容量200lである。フ
ィルター15の通過後、純水16を使用槽17、すなわち半導
体構成要素仕上げ装置に供給する。
槽3は電極表面積4dm2を有し、電流400Aで作動する。こ
れは電流密度1A/cm2に相当する。電池電圧は3.8Vであ
る。滞留時間槽11は内容量150lを有するので、平均停留
時間は約54秒である。水銀蒸気−低圧−高流灯5個を備
えた紫外線−照射用反応容器12は内容量160lを有する。
貴金属−触媒を有する反応容器13は内容量160lを有し、
合成樹脂担体の床から成る。この担体はパラジウムを担
持する。この場合これは商品名“レバタイト(Lewati
t)OC1045"(バイエル社、ドイツ)という製品である。
イオン交換体を有する混合床14は内容量200lである。フ
ィルター15の通過後、純水16を使用槽17、すなわち半導
体構成要素仕上げ装置に供給する。
この装置を、電気化学槽3から流出する水の90%が水
返還19を経て再び前処理装置2に導入され、一方10%が
生水として給水供給1を介して循環して導入される様に
動かす。
返還19を経て再び前処理装置2に導入され、一方10%が
生水として給水供給1を介して循環して導入される様に
動かす。
装置のガス保留は次の様になる: 装置の出口で 濃度(mg/l) O3 O2 H2 槽(3) 2.15 9.65 0 反応容器:UV(12) 0.01 10.5 1.31 反応容器:触媒(13) 0 0.02 0 実施例3: 変法Cによる方法をより一層小さい装置中で実施す
る。この際紫外線−照射用反応容器12は存在しない。水
の処理を実質上オゾンによって行う。この場合過剰の単
体酸素担体を陰極で生じるH2で還元して分解する。
る。この際紫外線−照射用反応容器12は存在しない。水
の処理を実質上オゾンによって行う。この場合過剰の単
体酸素担体を陰極で生じるH2で還元して分解する。
装置中、電気化学槽3に対して水流量800l/hである。
この槽3は電極表面積25cm2を有し、電流30Aで作動す
る。これは電流密度1.2A/cm2に相当する。電池電圧は3.
9Vである。滞留時間槽11は内容量11を有するので、平
均滞留時間は約50秒である。貴金属−触媒を有する反応
容器13は内容量12lを有する。活性担体は商品名レバタ
イト(バイエル社)という製品である。イオン交換体を
有する混合床14は内容量16lを有する。
この槽3は電極表面積25cm2を有し、電流30Aで作動す
る。これは電流密度1.2A/cm2に相当する。電池電圧は3.
9Vである。滞留時間槽11は内容量11を有するので、平
均滞留時間は約50秒である。貴金属−触媒を有する反応
容器13は内容量12lを有する。活性担体は商品名レバタ
イト(バイエル社)という製品である。イオン交換体を
有する混合床14は内容量16lを有する。
この装置を、予備的な初流相の後に電気化学槽3から
流出する水の100%が水返還19を経て前処理装置2に供
給され、一方給水供給1を介する生水の流入を阻止する
用に動かす。
流出する水の100%が水返還19を経て前処理装置2に供
給され、一方給水供給1を介する生水の流入を阻止する
用に動かす。
装置のガス保留は次の様になる: 装置の出口で 濃度(mg/l) O3 O2 H2 槽(3) 2.2 9.4 0 滞留時間槽(11) 1.6 9.8 1.43 反応容器・触媒(13) 0 0.02 0 本発明は実施例に限定されない。
オゾンで水処理した後(電気化学槽3を通過した後)
一定の最小滞留時間の維持に対する要求は、これに特有
な滞留時間槽11の存在と無関係である。ほんの僅かな水
量を循環する場合、一方で十分な供給が不可欠である場
合、−特に十分に激しい攪拌流で循環して−滞留時間槽
11を比較的僅かに省略するか又は全く除くことができ
る。
一定の最小滞留時間の維持に対する要求は、これに特有
な滞留時間槽11の存在と無関係である。ほんの僅かな水
量を循環する場合、一方で十分な供給が不可欠である場
合、−特に十分に激しい攪拌流で循環して−滞留時間槽
11を比較的僅かに省略するか又は全く除くことができ
る。
更にすべての場合、前処理装置2中で調製された水量
全体を電気化学槽3へ導入することは不必要である。要
求に従って決められた量を前処理装置2の後に分け、そ
のまま滞留時間槽11に供給することができる:分路(図
には示されていない。)。他方電気化学槽3から流出
後、溶解された及び(又は)泡として存在するO2及び
O3(場合によっては過剰の)の一部を水から除き、バ
ルブ9を介してO3をO2に変えるための装置10に導入す
ることができる。しかしO2及びO3を分解するための触
媒を有する反応容器13の入口でも、付加的に別の水素の
供給20(破線で示される。)を行うことができる。最後
に示した2つの操作は同一の最終効果を生じる:使用槽
17に対する最後の純水中で単体形でのすべての酸素含有
は回避される。滞留時間槽11及び紫外線−照射用反応容
器12は同一の共通の容器にまとめることができるので、
オゾンと水中に含有される物質及び(又は)細菌との接
触は同時にかつ紫外線−照射と同一場所で行われる。
全体を電気化学槽3へ導入することは不必要である。要
求に従って決められた量を前処理装置2の後に分け、そ
のまま滞留時間槽11に供給することができる:分路(図
には示されていない。)。他方電気化学槽3から流出
後、溶解された及び(又は)泡として存在するO2及び
O3(場合によっては過剰の)の一部を水から除き、バ
ルブ9を介してO3をO2に変えるための装置10に導入す
ることができる。しかしO2及びO3を分解するための触
媒を有する反応容器13の入口でも、付加的に別の水素の
供給20(破線で示される。)を行うことができる。最後
に示した2つの操作は同一の最終効果を生じる:使用槽
17に対する最後の純水中で単体形でのすべての酸素含有
は回避される。滞留時間槽11及び紫外線−照射用反応容
器12は同一の共通の容器にまとめることができるので、
オゾンと水中に含有される物質及び(又は)細菌との接
触は同時にかつ紫外線−照射と同一場所で行われる。
原則的に紫外線−照射単独で又はH2によるO2−及び
O3−分解単独で又は二つの処理工程を同時に使用し
て、本方法を実施することができる。それ故に図中反応
容器12及び13は縦の破線の間にある。
O3−分解単独で又は二つの処理工程を同時に使用し
て、本方法を実施することができる。それ故に図中反応
容器12及び13は縦の破線の間にある。
【図面の簡単な説明】 図は、本発明による純水循環のための前処理された給水
中の有機物質及び(又は)細菌を分解する工程を示す。 1……給水供給(生水) 2……前処理装置(給水調製) 3……オゾン産出用の固体電解質を有する電気化学槽 4……固体電解質 5……陽極域 6……陰極域 7……陽極で生じるO2及びO3 8……陰極で生じるH2 9……O2−及びO3−排気用バルブ 10……O3をO2に変えるための装置 11……滞留時間槽 12……紫外線−照射用反応容器 13……O2及びO3を分解するための触媒を有する反応容
器 14……混合床(イオン交換体) 15……フィルター 16……水供給(純水) 17……使用槽 18……廃水放出 19……水返還 20……別の水素の供給
中の有機物質及び(又は)細菌を分解する工程を示す。 1……給水供給(生水) 2……前処理装置(給水調製) 3……オゾン産出用の固体電解質を有する電気化学槽 4……固体電解質 5……陽極域 6……陰極域 7……陽極で生じるO2及びO3 8……陰極で生じるH2 9……O2−及びO3−排気用バルブ 10……O3をO2に変えるための装置 11……滞留時間槽 12……紫外線−照射用反応容器 13……O2及びO3を分解するための触媒を有する反応容
器 14……混合床(イオン交換体) 15……フィルター 16……水供給(純水) 17……使用槽 18……廃水放出 19……水返還 20……別の水素の供給
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C02F 1/50 520 C02F 1/50 520B 531 531R 540 540A 550 550D 550H 560 560C 560D 560E 560F 1/58 1/58 Z 1/70 1/70 Z
Claims (6)
- 【請求項1】純水循環のための前処理された給水中の有
機物質及び/又は細菌を分解する方法において、 (a) 該前処理された給水の少なくとも一部を、固定
電解質(4)、陽極域(5)及び陽極域(6)を有する
電気化学槽(3)中で電気分解し、 (b) 陽極域(5)でオゾンを生成させ、 (c) 陰極域(6)で水素(8)を生成させ、 (d) 精製すべき水を、その中に含まれる有機物質及
び/又は細菌を分解するのに充分な時間、生成したオゾ
ンと接触させ、 (e) オゾン処理した水を電気分解により生成した水
素(8)の少なくとも一部と接触させ、残留酸素と残留
オゾンを分解することを特徴とする上記方法。 - 【請求項2】オゾン処理した水を紫外線照射してから、
電気分解により生成した水素(8)の少なくとも一部と
接触させることを特徴とする請求項1記載の方法。 - 【請求項3】精製すべき水に、電気分解により生成した
水素(8)に加えて、外来の水素を供給することを特徴
とする請求項1又は2記載の方法。 - 【請求項4】陰極で生成した水素(8)で処理した後、
供給水を混合床のイオン交換体(14)に供給し、反応生
成物を除去することを特徴とする請求項1、2又は3記
載の方法。 - 【請求項5】精製すべき水の紫外線照射とオゾン処理を
同時に行うことを特徴とする請求項2、3又は4記載の
方法。 - 【請求項6】精製すべき水の紫外線照射とオゾン処理
を、唯一の容器中の同一の場所で行うことを特徴とする
請求項5記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH00917/87-8 | 1987-03-11 | ||
CH917/87A CH674003A5 (ja) | 1987-03-11 | 1987-03-11 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63236593A JPS63236593A (ja) | 1988-10-03 |
JP2568617B2 true JP2568617B2 (ja) | 1997-01-08 |
Family
ID=4198178
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63054719A Expired - Lifetime JP2568617B2 (ja) | 1987-03-11 | 1988-03-08 | 給水中の有機物質および細菌を分解する方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4836929A (ja) |
EP (1) | EP0281940B1 (ja) |
JP (1) | JP2568617B2 (ja) |
CH (1) | CH674003A5 (ja) |
DE (1) | DE3872548D1 (ja) |
Families Citing this family (48)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5180502A (en) * | 1988-05-11 | 1993-01-19 | Permelec Electrode Ltd. | Electrolytic ozonizer and method of decomposing ozone-containing waste gas using said ozonizer |
JPH0729027B2 (ja) * | 1988-05-11 | 1995-04-05 | ペルメレック電極株式会社 | 電解オゾナイザと該オゾナイザを使用する廃ガスの分解方法 |
DE3919885C2 (de) * | 1989-06-19 | 1994-06-30 | Wedeco Umwelttechnologien Wass | Verfahren und Anlage zur Behandlung von mit schwer abbaubaren Schadstoffen belasteten wässrigen Flüssigkeiten |
GB8916946D0 (en) * | 1989-07-25 | 1989-09-13 | Technology For Water Limited | Water treatment apparatus |
US5130032A (en) * | 1989-10-10 | 1992-07-14 | Sartori Helfred E | Method for treating a liquid medium |
US5190627A (en) * | 1989-11-07 | 1993-03-02 | Ebara Corporation | Process for removing dissolved oxygen from water and system therefor |
JPH0671594B2 (ja) * | 1989-11-07 | 1994-09-14 | 荏原インフイルコ株式会社 | 水中の溶存酸素の除去方法および装置 |
DE3937578C2 (de) * | 1989-11-11 | 1996-08-22 | Haensler J Gmbh | Dentaleinheit |
JPH0647105B2 (ja) * | 1989-12-19 | 1994-06-22 | 株式会社荏原総合研究所 | 純水又は超純水の精製方法及び装置 |
KR920008813Y1 (ko) * | 1990-07-09 | 1992-12-19 | 삼성전자 주식회사 | 오존발생장치가 내장된 수도직결식 정수기 |
JPH0790219B2 (ja) * | 1990-08-01 | 1995-10-04 | 日本錬水株式会社 | 純水製造装置及び製造方法 |
JP3048612B2 (ja) * | 1990-09-06 | 2000-06-05 | ペルメレック電極株式会社 | 電解オゾン発生装置 |
DE4104094A1 (de) * | 1991-02-11 | 1992-08-13 | Rudolf Gesslauer | Verfahren und vorrichtung zur reinigung von abwasser |
US5217607A (en) * | 1992-02-21 | 1993-06-08 | Diamond Water Systems, Inc. | Water decontamination system with filter, electrostatic treatment and UV radiation chamber |
NL9200508A (nl) * | 1992-03-19 | 1993-10-18 | E M Engineering F T S B V | Werkwijze en inrichting voor het reinigen van water. |
DE4244482A1 (de) * | 1992-12-30 | 1994-07-07 | Solvay Deutschland | Verfahren zur Abwasserbehandlung |
US5972196A (en) | 1995-06-07 | 1999-10-26 | Lynntech, Inc. | Electrochemical production of ozone and hydrogen peroxide |
US5635039A (en) * | 1993-07-13 | 1997-06-03 | Lynntech, Inc. | Membrane with internal passages to permit fluid flow and an electrochemical cell containing the same |
US5399246A (en) * | 1993-08-26 | 1995-03-21 | Ceramatec, Inc. | Inert gas purification |
JPH09502655A (ja) * | 1993-09-13 | 1997-03-18 | レズニック,デービッド | 物質のレドックス電位を下げる装置及び方法 |
US5466425A (en) * | 1994-07-08 | 1995-11-14 | Amphion International, Limited | Biological decontamination system |
US6149810A (en) * | 1994-11-23 | 2000-11-21 | Lynntech, Inc. | Membrane with supported internal passages |
JP3130751B2 (ja) * | 1995-01-30 | 2001-01-31 | 株式会社荏原製作所 | オゾン水製造方法及び装置 |
US5529683A (en) * | 1995-03-20 | 1996-06-25 | United Technologies Corp. | Method for preventing degradation of membranes used in electrolytic ozone production systems during system shutdown |
US6136186A (en) | 1997-01-31 | 2000-10-24 | Lynntech, Inc. | Photocatalytic oxidation of organics using a porous titanium dioxide membrane and an efficient oxidant |
US5779912A (en) * | 1997-01-31 | 1998-07-14 | Lynntech, Inc. | Photocatalytic oxidation of organics using a porous titanium dioxide membrane and an efficient oxidant |
US6156211A (en) * | 1997-01-31 | 2000-12-05 | Lynntech, Inc. | Enhanced photocatalytic conversion of methane to methanol using a porous semiconductor membrane |
US6117337A (en) * | 1997-01-31 | 2000-09-12 | Lynntech, Inc. | Enhanced photocatalytic oxidation of organics using a porous titanium dioxide membrane |
TWI227530B (en) * | 1997-03-05 | 2005-02-01 | Hitachi Ltd | Manufacturing method of semiconductor integrated circuit device |
JP3662111B2 (ja) * | 1997-06-24 | 2005-06-22 | アルプス電気株式会社 | 洗浄液の製造方法およびそのための装置 |
US6117335A (en) * | 1998-02-23 | 2000-09-12 | New Star Lasers, Inc. | Decontamination of water by photolytic oxidation/reduction utilizing near blackbody radiation |
JP2002516755A (ja) * | 1998-05-29 | 2002-06-11 | プロートン エネルギー システムズ.インク | 水の電気分解の流体管理システム |
US6589396B2 (en) * | 1998-06-26 | 2003-07-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for treating colored liquid and apparatus for treating colored liquid |
DE19842930A1 (de) * | 1998-09-18 | 2000-03-30 | Siemens Ag | Aufbereitungssystem und Verfahren zur Verminderung des Sauerstoffgehalts von in einem Teilsystem einer technischen Anlage geführtem Wasser |
US6458257B1 (en) | 1999-02-09 | 2002-10-01 | Lynntech International Ltd | Microorganism control of point-of-use potable water sources |
US6090296A (en) * | 1999-03-17 | 2000-07-18 | Oster; Stephen P. | Method and apparatus for UV-oxidation of toxics in water and UV-disinfection of water |
JP2003534891A (ja) * | 1999-09-02 | 2003-11-25 | ポール・コーポレーション | 水処理システム及び方法 |
US6860976B2 (en) * | 2000-06-20 | 2005-03-01 | Lynntech International, Ltd. | Electrochemical apparatus with retractable electrode |
KR20030063418A (ko) | 2000-12-12 | 2003-07-28 | 워터 피크 인코포레이티드 | 오존수를 생성하고 적용하기 위한 장치 및 방법 |
US20050236278A1 (en) * | 2003-11-14 | 2005-10-27 | Steven Shoup | Fresh water generation system and method |
US9187344B2 (en) | 2008-08-01 | 2015-11-17 | Silver Bullet Water Treatment Company, Llc | Water treatment device and methods of use |
US8361384B1 (en) | 2008-08-01 | 2013-01-29 | Aardvark Ip Holding, Llc | Water treatment device and methods of use |
DE102008052001A1 (de) * | 2008-10-16 | 2010-04-29 | Krones Ag | Verfahren zur Wasserbehandlung |
GB201100175D0 (en) * | 2011-01-07 | 2011-02-23 | Veolia Water Solutions & Tech | Wastewater treatment apparatus and method |
MX356230B (es) | 2011-04-12 | 2018-05-18 | Silver Bullet Water Treat Company Llc | Sistema y método de tratamiento de agua. |
CN104159852A (zh) * | 2012-01-17 | 2014-11-19 | 电解臭氧股份有限公司 | 水净化系统 |
US8968948B2 (en) * | 2012-05-22 | 2015-03-03 | Concurrent Technologies Corporation | Energy generation system and related uses thereof |
GB2562458A (en) * | 2017-03-17 | 2018-11-21 | Vws Uk Ltd | Method for providing ultrapure water |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3822786A (en) * | 1969-12-11 | 1974-07-09 | K Marschall | Apparatus for treating and purifying sewage, particularly sewage contaminated with detergents |
US3925176A (en) * | 1973-10-10 | 1975-12-09 | Adolph P Okert | Apparatus and method for electrolytic sewage treatment |
US4218315A (en) * | 1974-07-29 | 1980-08-19 | Hartkorn Karl Heinz | Oxidation and adsorption method for removing contaminating substances from liquids |
US4179347A (en) * | 1978-02-28 | 1979-12-18 | Omnipure, Inc. | System for electrocatalytic treatment of waste water streams |
US4311569A (en) * | 1980-04-21 | 1982-01-19 | General Electric Company | Device for evolution of oxygen with ternary electrocatalysts containing valve metals |
DE3261041D1 (en) * | 1981-05-11 | 1984-11-29 | Bbc Brown Boveri & Cie | Process and apparatus for the synthetic preparation of ozone by electrolysis, and its application |
DE3243817C2 (de) * | 1982-11-26 | 1986-01-02 | Hager & Elsässer GmbH, 7000 Stuttgart | Verfahren zur Erzeugung von keimarmem Reinwasser |
GB2136790B (en) * | 1983-03-16 | 1987-02-04 | Electricity Council | Method and apparatus for destroying pyrogenic materials in water |
US4548716A (en) * | 1984-07-25 | 1985-10-22 | Lucas Boeve | Method of producing ultrapure, pyrogen-free water |
US4735728A (en) * | 1985-08-29 | 1988-04-05 | Environmental Tech America, Inc. | Method for pollution control in photographic processing |
EP0242533B1 (de) * | 1986-03-11 | 1991-01-16 | Ozonia AG | Verfahren und Vorrichtung zur Aufbereitung von Speisewasser mittels Ozon für die Umkehrosmose |
JP2898490B2 (ja) * | 1992-12-15 | 1999-06-02 | ダイハツ工業株式会社 | 始動時噴射制御方法 |
-
1987
- 1987-03-11 CH CH917/87A patent/CH674003A5/de not_active IP Right Cessation
-
1988
- 1988-03-03 EP EP88103264A patent/EP0281940B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-03-03 DE DE8888103264T patent/DE3872548D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-03-08 JP JP63054719A patent/JP2568617B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1988-03-09 US US07/165,902 patent/US4836929A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS63236593A (ja) | 1988-10-03 |
CH674003A5 (ja) | 1990-04-30 |
EP0281940A1 (de) | 1988-09-14 |
EP0281940B1 (de) | 1992-07-08 |
DE3872548D1 (de) | 1992-08-13 |
US4836929A (en) | 1989-06-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2568617B2 (ja) | 給水中の有機物質および細菌を分解する方法 | |
US6398928B1 (en) | Electrolytic ozone generating method, system and ozone water producing system | |
US5447640A (en) | Method and apparatus for sterilization of and treatment with ozonized water | |
EP0634364A1 (en) | Pure water manufacturing method | |
JPH0790219B2 (ja) | 純水製造装置及び製造方法 | |
TWI408107B (zh) | 超純水製造裝置及其運轉方法 | |
WO2019159197A1 (en) | Method and apparatus for regenerating a working salt solution in salt purification | |
JPH0699197A (ja) | 純水又は超純水の精製方法及び装置 | |
JP2005218983A (ja) | 電解酸化を利用した廃水処理方法及び装置 | |
JP2003266097A (ja) | 超純水製造装置 | |
JPH10130876A (ja) | 電解型オゾン水製造装置及びその再生方法 | |
JPS61101292A (ja) | 純水製造装置 | |
JPH1157753A (ja) | Toc成分の除去方法及び装置 | |
JP3560631B2 (ja) | 水処理装置 | |
JPH10202296A (ja) | 超純水製造装置 | |
JP2000308815A (ja) | オゾン溶解水の製造装置 | |
JPH10216749A (ja) | 超純水製造装置 | |
JPH0747364A (ja) | 超純水製造装置 | |
JP2500968B2 (ja) | 純水製造装置 | |
JPH05305297A (ja) | 有機物含有酸性排水の処理装置 | |
JPS6028884A (ja) | 電解を含む排水の処理方法 | |
JP2001113290A (ja) | 有機物含有水の処理装置 | |
JPH08173978A (ja) | 有機物の除去方法 | |
CN109319919A (zh) | 一种臭氧与电化学协同催化氧化废水处理装置 | |
WO2022190608A1 (ja) | 水処理方法及び装置 |