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JP2024113883A - Placement Method - Google Patents

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JP2024113883A
JP2024113883A JP2023019146A JP2023019146A JP2024113883A JP 2024113883 A JP2024113883 A JP 2024113883A JP 2023019146 A JP2023019146 A JP 2023019146A JP 2023019146 A JP2023019146 A JP 2023019146A JP 2024113883 A JP2024113883 A JP 2024113883A
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JP
Japan
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holding
plate
holding table
unit
grinding
Prior art date
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Pending
Application number
JP2023019146A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
凜太郎 松野
Rintaro Matsuno
隆伸 林
Takanobu Hayashi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP2023019146A priority Critical patent/JP2024113883A/en
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Abstract

To provide a placement method which reduces situations that foreign objects, such as particles, are caught between a holding surface of a holding table and a plate-like object when the plate-like object is transported to and placed on the holding surface while inhibiting increase of costs of a device.SOLUTION: A placement method includes: a support step 1001 in which a plate-like object is supported by a support unit; a transport step 1002 in which the plate-like object is supported by a transport unit and transported from the support unit to a position facing a holding surface of a holding table; a cleaning step 1004 in which a cleaning fluid is jetted from the holding surface of the holding table with the holding table being rotated around a rotation axis orthogonal to the holding surface of the holding table, and a surface facing the holding surface of the plate-like object, which is supported facing the holding surface, is placed to a position where the surface comes in contact with the cleaning fluid by the transport unit to clean the surface; and a placement step 1005 in which jetting of the cleaning fluid is stopped, and the plate-like object is placed on the holding surface of the holding table after the cleaning step 1004.SELECTED DRAWING: Figure 5

Description

本発明は、加工装置において板状物を保持テーブルに載置する載置方法に関する。 The present invention relates to a method for placing a plate-shaped object on a holding table in a processing device.

半導体デバイス製造工程で使用され被加工物(板状物)を研削する研削装置(加工装置)は、被加工物を保持面で保持して回転する保持テーブルと、保持テーブルに保持された被加工物を研削する研削砥石が配設された研削ホイールを回転可能に支持する研削ユニット(加工ユニット)と、研削領域に研削水(加工液)を供給する研削水供給ユニットと、を具備しており、被加工物を所定の厚みに加工することができる。 A grinding machine (processing machine) used in the semiconductor device manufacturing process to grind a workpiece (plate-shaped object) is equipped with a holding table that holds and rotates the workpiece on its holding surface, a grinding unit (processing unit) that rotatably supports a grinding wheel equipped with a grinding stone that grinds the workpiece held on the holding table, and a grinding water supply unit that supplies grinding water (processing fluid) to the grinding area, and can process the workpiece to a specified thickness.

被加工物を保持テーブルで保持する際に、保持面と被加工物との間にパーティクル等の異物を挟み込むと被加工物に破損が生じたり被加工物の研削加工精度が悪化するため、保持テーブルの保持面から水と空気との混合流体を噴出させて保持面を洗浄することがある(例えば、特許文献1参照)。 When a workpiece is held on a holding table, if particles or other foreign matter are caught between the holding surface and the workpiece, the workpiece may be damaged or the grinding accuracy of the workpiece may deteriorate. Therefore, a mixture of water and air is sometimes sprayed from the holding surface of the holding table to clean the holding surface (see, for example, Patent Document 1).

特開2012-006123号公報JP 2012-006123 A

しかし、被加工物自体の保持テーブルの保持面に保持される側の面にパーティクル等の異物が付着している場合は、前述のような保持面の洗浄ではなく、被加工物自体を保持テーブルで保持する前に洗浄する必要がある。このような被加工物の事前洗浄を行う場合には新たに洗浄機構を設けなければならないなど、研削装置のコストが著しく上昇するという問題がある。 However, if particles or other foreign matter are attached to the surface of the workpiece itself that is to be held by the holding surface of the holding table, it is necessary to clean the workpiece itself before it is held by the holding table, rather than cleaning the holding surface as described above. When pre-cleaning the workpiece in this way, a new cleaning mechanism must be installed, which creates the problem of a significant increase in the cost of the grinding device.

そのため、装置のコストを著しく上昇させることなく、保持テーブルの保持面に板状物を搬送して載置する際、パーティクル等の異物を噛み込ませることを低減できる載置方法を提供すべきという課題がある。 Therefore, there is a need to provide a method for placing a plate-like object on the holding surface of a holding table that can reduce the chance of particles or other foreign objects becoming caught when the plate-like object is transported and placed on the holding surface of the holding table without significantly increasing the cost of the device.

本発明の目的は、装置のコストの高騰を抑制しながらも保持テーブルの保持面に板状物を搬送して載置する際、パーティクル等の異物を噛み込ませることを低減することができる載置方法を提供することである。 The object of the present invention is to provide a method of placement that can reduce the occurrence of particles or other foreign matter being caught when transporting and placing a plate-shaped object on the holding surface of a holding table while suppressing increases in the cost of the device.

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の載置方法は、板状物を保持する保持テーブルと、該保持テーブルが保持する該板状物を加工する加工具を装着した加工ユニットと、少なくとも該保持テーブルと該加工ユニットとを制御するコントローラと、を備える加工装置において、該板状物を該保持テーブルに載置する載置方法であって、該板状物を支持ユニットで支持する支持ステップと、該支持ユニットから該板状物を該保持テーブルの保持面と対面する位置へ搬送ユニットで支持して搬送する搬送ステップと、該保持テーブルを該保持面と直交する回転軸で回転させながら洗浄流体を該保持テーブルの該保持面から噴出させて、該搬送ユニットで該保持面と対面して支持される該板状物の該保持面と対面する側の面を該洗浄流体と接触する位置に位置付けて該面を洗浄する洗浄ステップと、該洗浄ステップの後で、該洗浄流体の噴出を停止して、該保持テーブルの該保持面に該板状物を載置する載置ステップと、を備えることを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problems and achieve the object, the method of the present invention is a method of placing a plate-shaped object on a holding table in a processing device including a holding table for holding a plate-shaped object, a processing unit equipped with a processing tool for processing the plate-shaped object held by the holding table, and a controller for controlling at least the holding table and the processing unit, and is characterized by comprising a supporting step of supporting the plate-shaped object with a supporting unit, a transporting step of supporting and transporting the plate-shaped object from the support unit to a position facing the holding surface of the holding table with a transporting unit, a cleaning step of spraying a cleaning fluid from the holding surface of the holding table while rotating the holding table on a rotation axis perpendicular to the holding surface, and positioning the surface facing the holding surface of the plate-shaped object supported by the transporting unit facing the holding surface in a position where it comes into contact with the cleaning fluid, and a loading step of stopping the spraying of the cleaning fluid after the cleaning step and placing the plate-shaped object on the holding surface of the holding table.

前記載置方法において、該洗浄流体は、気体供給源及び液体供給源から気体及び液体を供給して混合する該気体と該液体との混合流体でも良い。 In the above-mentioned mounting method, the cleaning fluid may be a mixed fluid of gas and liquid that is supplied and mixed from a gas supply source and a liquid supply source.

前記載置方法において、該洗浄ステップは、該板状物を支持する該搬送ユニットと該保持テーブルとを該保持面が延在する方向に相対的に移動させながら該面を該洗浄流体と接触させて洗浄しても良い。 In the above-mentioned mounting method, the cleaning step may involve moving the conveying unit supporting the plate-like object and the holding table relative to one another in the direction in which the holding surface extends, while bringing the surface into contact with the cleaning fluid to clean it.

前記載置方法において、該洗浄ステップの前に、該保持テーブルの該保持面から該洗浄流体を噴出させて該保持面を洗浄する保持面洗浄ステップをさらに備えても良い。 The mounting method may further include a holding surface cleaning step, prior to the cleaning step, of spraying the cleaning fluid from the holding surface of the holding table to clean the holding surface.

前記載置方法において、該載置ステップの後で、該保持テーブルの該保持面に吸引力を連通させて該板状物を吸引保持する吸引保持ステップと、をさらに備えても良い。 The above-mentioned mounting method may further include a suction holding step, which is performed after the mounting step, of suction-holding the plate-like object by communicating a suction force to the holding surface of the holding table.

本発明は、装置のコストの高騰を抑制しながらも保持テーブルの保持面に板状物を搬送して載置する際、パーティクル等の異物を噛み込ませることを低減することができるという効果を奏する。 The present invention has the effect of reducing the incidence of particles and other foreign objects being caught when transporting and placing a plate-shaped object on the holding surface of a holding table, while suppressing increases in the cost of the device.

図1は、実施形態1に係る載置方法を実施する加工装置の構成例を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a configuration example of a processing device for carrying out a mounting method according to a first embodiment. 図2は、図1に示された加工装置の加工対象の板状物を模式的に示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a plate-like object to be processed by the processing apparatus shown in FIG. 図3は、図2に示された板状物の要部を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a main part of the plate-like article shown in FIG. 図4は、図1に示された加工装置の保持テーブルの構成を模式的に示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a holding table of the processing apparatus shown in FIG. 図5は、実施形態1に係る載置方法の流れを示すフローチャートである。FIG. 5 is a flowchart showing a procedure of the mounting method according to the first embodiment. 図6は、図5に示された載置方法の支持ステップを模式的に一部断面で示す側面図である。FIG. 6 is a side view, partly in section, showing a schematic diagram of the supporting step of the mounting method shown in FIG. 図7は、図5に示された載置方法の搬送ステップを模式的に一部断面で示す側面図である。FIG. 7 is a side view, partially in section, showing a schematic diagram of the transport step of the mounting method shown in FIG. 図8は、図5に示された載置方法の保持面洗浄ステップを模式的に一部断面で示す側面図である。FIG. 8 is a side view, partly in section, showing a schematic diagram of the support surface cleaning step of the mounting method shown in FIG. 図9は、図5に示された載置方法の洗浄ステップを模式的に一部断面で示す側面図である。FIG. 9 is a side view, partially in section, showing a schematic diagram of the cleaning step of the mounting method shown in FIG. 図10は、図5に示された載置方法の載置ステップを模式的に一部断面で示す側面図である。FIG. 10 is a side view, partially in cross section, showing a schematic diagram of the placing step of the placing method shown in FIG. 図11は、図5に示された載置方法の吸引保持ステップを模式的に一部断面で示す側面図である。FIG. 11 is a side view, partially in section, showing a schematic diagram of the suction and holding step of the mounting method shown in FIG. 5. FIG.

本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換または変更を行うことができる。 The following describes in detail the form (embodiment) for carrying out the present invention with reference to the drawings. The present invention is not limited to the contents described in the following embodiment. The components described below include those that a person skilled in the art can easily imagine and those that are substantially the same. Furthermore, the configurations described below can be combined as appropriate. Various omissions, substitutions, or modifications of the configuration can be made without departing from the spirit of the present invention.

〔実施形態1〕
本発明の実施形態1に係る載置方法を図面に基づいて説明する。図1は、実施形態1に係る載置方法を実施する加工装置の構成例を示す斜視図である。図2は、図1に示された加工装置の加工対象の板状物を模式的に示す斜視図である。図3は、図2に示された板状物の要部を示す断面図である。図4は、図1に示された加工装置の保持テーブルの構成を模式的に示す断面図である。
[Embodiment 1]
A mounting method according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Fig. 1 is a perspective view showing a configuration example of a processing device for carrying out the mounting method according to the first embodiment. Fig. 2 is a perspective view showing a plate-shaped object to be processed by the processing device shown in Fig. 1. Fig. 3 is a cross-sectional view showing a main part of the plate-shaped object shown in Fig. 2. Fig. 4 is a cross-sectional view showing a configuration example of a holding table of the processing device shown in Fig. 1.

(被加工物)
実施形態1に係る載置方法は、図1に示された加工装置1により実施される。図1に示された加工装置1は、板状物200を研削加工する研削装置である。図1に示された加工装置1の加工対象である板状物200は、シリコン、サファイア、ガリウムなどを基板とする円板状の半導体ウェーハや光デバイスウェーハ等のウェーハである。板状物200は、基板の図2及び図3に示す表面201に格子状に設定された分割予定ラインによって区画された各領域に図示しないデバイスが形成されている。
(Workpiece)
The mounting method according to the first embodiment is carried out by a processing apparatus 1 shown in Fig. 1. The processing apparatus 1 shown in Fig. 1 is a grinding apparatus that grinds a plate-like object 200. The plate-like object 200 to be processed by the processing apparatus 1 shown in Fig. 1 is a wafer such as a disk-like semiconductor wafer or an optical device wafer, the substrate of which is silicon, sapphire, gallium, or the like. The plate-like object 200 has devices (not shown) formed in each region partitioned by planned division lines set in a grid pattern on a surface 201 of the substrate shown in Figs. 2 and 3.

デバイスは、例えば、IC(Integrated Circuit)、又はLSI(Large Scale Integration)等の集積回路、CCD(Charge Coupled Device)、又はCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)等のイメージセンサ、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)又は半導体メモリ(記憶装置)である。 The device may be, for example, an integrated circuit such as an IC (Integrated Circuit) or an LSI (Large Scale Integration), an image sensor such as a CCD (Charge Coupled Device) or a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor), a MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) or a semiconductor memory (storage device).

また、実施形態1において、板状物200は、加工装置1により表面201の裏側の裏面202が研削加工されて、所定の仕上げ厚みまで薄化された後、分割予定ラインに沿って個々のデバイスに分割される。 In addition, in embodiment 1, the plate-like object 200 is thinned to a predetermined finishing thickness by grinding the back surface 202 behind the front surface 201 by the processing device 1, and then is divided into individual devices along the planned division lines.

また、実施形態1では、板状物200は、図2及び図3に示すように、表面201にデバイスを保護する表面保護テープ210が貼着されている。なお、本発明では、板状物200は、表面201にデバイスが形成されていなくても良く、表面201に表面保護テープ210が貼着されていなくても良い。 In addition, in embodiment 1, as shown in Figs. 2 and 3, the plate-like object 200 has a surface protection tape 210 attached to the surface 201 to protect the device. Note that in the present invention, the plate-like object 200 does not need to have a device formed on the surface 201, and the surface protection tape 210 does not need to be attached to the surface 201.

(加工装置)
加工装置1は、板状物200の裏面202を研削加工して、板状物200を所定の仕上げ厚みまで薄化する研削装置である。加工装置1は、図1に示すように、装置基台2と、ターンテーブル5と、ターンテーブル5上に設置された複数(実施形態1では3つ)の保持テーブル6と、粗研削ユニット10と、仕上げ研削ユニット20と、研削送りユニット30と、カセット7と、支持ユニットである位置合わせユニット40と、搬送ユニット50と、洗浄ユニット60と、コントローラである制御ユニット100とを備えている。
(Processing equipment)
The processing device 1 is a grinding device that grinds a back surface 202 of a plate-like object 200 to thin the plate-like object 200 to a predetermined finishing thickness. As shown in Fig. 1, the processing device 1 includes an apparatus base 2, a turntable 5, a plurality of holding tables 6 (three in the first embodiment) installed on the turntable 5, a rough grinding unit 10, a finish grinding unit 20, a grinding feed unit 30, a cassette 7, an alignment unit 40 serving as a support unit, a transport unit 50, a cleaning unit 60, and a control unit 100 serving as a controller.

ターンテーブル5は、装置基台2の上面に設けられた円盤状のテーブルであり、水平面内でZ軸方向と平行な軸心回りに回転可能に設けられ、所定のタイミングで回転駆動される。なお、Z軸方向は、鉛直方向と平行な方向である。このターンテーブル5上には、例えば3つの保持テーブル6が、例えば120度の位相角で等間隔に配設されている。 The turntable 5 is a disk-shaped table mounted on the upper surface of the device base 2, and is rotatable around an axis parallel to the Z-axis direction in a horizontal plane, and is driven to rotate at a predetermined timing. The Z-axis direction is parallel to the vertical direction. On this turntable 5, for example, three holding tables 6 are arranged at equal intervals, for example at a phase angle of 120 degrees.

これら3つの保持テーブル6は、図4に示すように、上面が板状物200を吸引保持する保持面611であるポーラス板61と、ポーラス板61の外縁を囲繞する円形の凹部63が上面の中央に形成された円形基台62とを備えている。ポーラス板61は、ポーラスセラミックス等の多孔質材により構成され、厚みが一定の円板状に形成されている。保持面611は、水平方向に沿って平坦に形成されている。 As shown in FIG. 4, each of the three holding tables 6 comprises a porous plate 61, the upper surface of which is a holding surface 611 that suction-holds the plate-like object 200, and a circular base 62 in the center of the upper surface of which is formed a circular recess 63 that surrounds the outer edge of the porous plate 61. The porous plate 61 is made of a porous material such as porous ceramics, and is formed in the shape of a disk with a constant thickness. The holding surface 611 is formed flat along the horizontal direction.

円形基台62は、ステンレス鋼等の非通気性を有する金属に形成され、凹部63内にポーラス板61がはめ込まれる。また、円形基台62には、凹部63の底に開口した連通路64が設けられている。連通路64は、円形基台62内等に設けられた空間である。また、連通路64は、吸引源651と接続された吸引通路65が接続している。吸引通路65は、途中に電磁開閉弁652が設けられている。また、連通路64は、混合室66を介して気体通路67及び液体通路68と接続している。 The circular base 62 is made of a non-permeable metal such as stainless steel, and the porous plate 61 is fitted into the recess 63. The circular base 62 is provided with a communication passage 64 that opens to the bottom of the recess 63. The communication passage 64 is a space provided inside the circular base 62. The communication passage 64 is connected to a suction passage 65 that is connected to a suction source 651. An electromagnetic opening/closing valve 652 is provided midway through the suction passage 65. The communication passage 64 is also connected to a gas passage 67 and a liquid passage 68 via a mixing chamber 66.

気体通路67は、気体供給源671と接続され、途中に電磁開閉弁672が設けられている。液体通路68は、液体供給源681と接続され、途中に電磁開閉弁682が設けられている。気体供給源671は、電磁開閉弁672が開くと気体通路67、混合室66を介して連通路64に気体を供給する。液体供給源681は、電磁開閉弁682が開くと液体通路68、混合室66を介して連通路64に液体を供給する。混合室66は、気体供給源671からの気体と液体供給源681からの液体とを混合する空間である。 The gas passage 67 is connected to a gas supply source 671 and has an electromagnetic on-off valve 672 installed therein. The liquid passage 68 is connected to a liquid supply source 681 and has an electromagnetic on-off valve 682 installed therein. When the electromagnetic on-off valve 672 opens, the gas supply source 671 supplies gas to the communication passage 64 via the gas passage 67 and the mixing chamber 66. When the electromagnetic on-off valve 682 opens, the liquid supply source 681 supplies liquid to the communication passage 64 via the liquid passage 68 and the mixing chamber 66. The mixing chamber 66 is a space in which the gas from the gas supply source 671 and the liquid from the liquid supply source 681 are mixed.

円形基台62は、回転機構69によりZ軸方向と平行でかつ保持面611と直交する回転軸612回りに回転される。 The circular base 62 is rotated by the rotation mechanism 69 around a rotation axis 612 that is parallel to the Z-axis direction and perpendicular to the holding surface 611.

保持テーブル6は、保持面611が吸引通路65を介して吸引源651と接続した真空チャックを備えた真空チャックテーブル構造のものであり、板状物200の表面201側が表面保護テープ210を介して保持面611上に載置されて、電磁開閉弁652が開くと吸引源651により吸引されて、板状物200を保持面611に吸引保持する。 The holding table 6 has a vacuum chuck table structure with a vacuum chuck in which the holding surface 611 is connected to a suction source 651 via a suction passage 65. The surface 201 side of the plate-like object 200 is placed on the holding surface 611 via a surface protection tape 210, and when the electromagnetic opening/closing valve 652 opens, it is sucked by the suction source 651, and the plate-like object 200 is sucked and held on the holding surface 611.

また、保持テーブル6は、研削加工時には、回転機構69によりZ軸方向と平行な回転軸612回りに回転駆動される。保持テーブル6は、ターンテーブル5の回転によって、搬入出領域301、粗研削領域302、仕上げ研削領域303、搬入出領域301に順次移動される。 During grinding, the holding table 6 is rotated by the rotation mechanism 69 around a rotation axis 612 parallel to the Z-axis direction. The holding table 6 is moved sequentially to the loading/unloading area 301, the rough grinding area 302, the finish grinding area 303, and back to the loading/unloading area 301 by the rotation of the turntable 5.

なお、搬入出領域301は、保持テーブル6に板状物200を搬入搬出する領域であり、粗研削領域302は、粗研削ユニット10で保持テーブル6に保持された板状物200を粗研削加工(研削に相当)する領域であり、仕上げ研削領域303は、仕上げ研削ユニット20で保持テーブル6に保持された板状物200を仕上げ研削加工(研削に相当)する領域である。 The loading/unloading area 301 is an area where the plate-shaped object 200 is loaded and unloaded onto the holding table 6, the rough grinding area 302 is an area where the rough grinding unit 10 performs rough grinding (corresponding to grinding) on the plate-shaped object 200 held on the holding table 6, and the finish grinding area 303 is an area where the finish grinding unit 20 performs finish grinding (corresponding to grinding) on the plate-shaped object 200 held on the holding table 6.

また、保持テーブル6は、電磁開閉弁672,682の少なくとも一方が開くことで、気体供給源671からの気体、液体供給源681からの液体、又は気体供給源671からの気体と液体供給源681からの液体とが混合室66で混合された混合流体613を洗浄流体として保持面611から噴出可能である。 In addition, when at least one of the electromagnetic on-off valves 672, 682 is opened, the holding table 6 can eject from the holding surface 611 the gas from the gas supply source 671, the liquid from the liquid supply source 681, or a mixed fluid 613 obtained by mixing the gas from the gas supply source 671 and the liquid from the liquid supply source 681 in the mixing chamber 66 as a cleaning fluid.

粗研削ユニット10は、保持テーブル6が保持する板状物200の上方に露出した裏面202を粗研削加工する粗研削用の研削砥石を環状に配設した粗研削用の研削ホイール11(加工具に相当)を装着して、粗研削領域302の保持テーブル6の保持面611に保持された板状物200の裏面202を粗研削加工する加工ユニットである。仕上げ研削ユニット20は、保持テーブル6が保持する板状物200の裏面202を仕上げ研削加工する仕上げ研削用の研削砥石を環状に配設した仕上げ研削用の研削ホイール21(加工具に相当)を装着して、仕上げ研削領域303の保持テーブル6の保持面611に保持された板状物200の裏面202を仕上げ研削加工する加工ユニットである。 The rough grinding unit 10 is a processing unit that is equipped with a rough grinding grinding wheel 11 (corresponding to a processing tool) having grinding stones for rough grinding arranged in a ring shape for roughly grinding the back surface 202 exposed above the plate-like object 200 held by the holding table 6, and roughly grinds the back surface 202 of the plate-like object 200 held on the holding surface 611 of the holding table 6 in the rough grinding area 302. The finish grinding unit 20 is equipped with a finish grinding grinding wheel 21 (corresponding to a processing tool) having grinding stones for finish grinding arranged in a ring shape for finish grinding the back surface 202 of the plate-like object 200 held by the holding table 6, and finish grinds the back surface 202 of the plate-like object 200 held on the holding surface 611 of the holding table 6 in the finish grinding area 303.

研削ユニット10,20は、研削ホイール11,21をモータ13,23によりZ軸方向と平行な軸心回りに回転されるスピンドル14,24の下端(先端に相当)に装着し、研削ホイール11,21の研削砥石を保持テーブル6の保持面611に対向配置する。研削ユニット10,20は、モータ13,23によりスピンドル14,24及び研削ホイール11,21が軸心回りに回転されるとともに研削水を研削領域302,303の保持テーブル6に保持された板状物200の裏面202に供給しながら研削送りユニット30により研削砥石が保持テーブル6に所定の送り速度で近づけられることによって、板状物200の裏面202を粗研削加工又は仕上げ研削加工する。 In the grinding units 10 and 20, the grinding wheels 11 and 21 are attached to the lower ends (corresponding to the tips) of the spindles 14 and 24 that are rotated by the motors 13 and 23 about an axis parallel to the Z-axis direction, and the grinding wheels of the grinding wheels 11 and 21 are arranged facing the holding surface 611 of the holding table 6. In the grinding units 10 and 20, the spindles 14 and 24 and the grinding wheels 11 and 21 are rotated about their axes by the motors 13 and 23, and grinding water is supplied to the back surface 202 of the plate-like object 200 held on the holding table 6 in the grinding areas 302 and 303, while the grinding feed unit 30 moves the grinding wheel closer to the holding table 6 at a predetermined feed speed, thereby roughly grinding or finishing the back surface 202 of the plate-like object 200.

研削送りユニット30は、研削ユニット10,20をZ軸方向に移動させて、研削ユニット10,20と保持テーブル6とを相対的に接近および離間させるものである。実施形態1において、研削送りユニット30は、装置基台2の水平方向と平行なY軸方向の一端部から立設した立設板3に設けられている。研削送りユニット30は、軸心回りに回転自在に設けられた周知のボールねじ、ボールねじを軸心回りに回転させる周知のモータ及び各研削ユニット10,20のスピンドルハウジング15,25をZ軸方向に移動自在に支持する周知のガイドレールを備える。 The grinding feed unit 30 moves the grinding units 10, 20 in the Z-axis direction to move the grinding units 10, 20 closer to or farther from the holding table 6. In the first embodiment, the grinding feed unit 30 is provided on a standing plate 3 erected from one end of the device base 2 in the Y-axis direction parallel to the horizontal direction. The grinding feed unit 30 includes a well-known ball screw that is rotatable about its axis, a well-known motor that rotates the ball screw about its axis, and a well-known guide rail that supports the spindle housings 15, 25 of the grinding units 10, 20 so that they can move in the Z-axis direction.

なお、実施形態1において、粗研削ユニット10及び仕上げ研削ユニット20は、研削ホイール11,21の回転中心である軸心と、保持テーブル6の回転中心である回転軸612とが、互いに水平方向に間隔をあけて平行に配置され、研削砥石が保持テーブル6に保持された板状物200の裏面202の中心上を通る。 In the first embodiment, the rough grinding unit 10 and the finish grinding unit 20 are arranged in parallel with a horizontal gap between the axis of rotation of the grinding wheels 11 and 21 and the axis of rotation of the holding table 6, and the grinding wheel passes over the center of the back surface 202 of the plate-like object 200 held on the holding table 6.

カセット7は、複数のスロットを有して、板状物200を複数収容するための収容容器である。カセット7は、研削加工前後の板状物200を複数枚収容する。実施形態1では、カセット7は、一対設けられ、それぞれカセット載置台8に設置される。位置合わせユニット40は、カセット7から取り出された板状物200が仮置きされて、その中心位置合わせを行うためのテーブルである。 The cassette 7 is a container having multiple slots for storing multiple plate-shaped objects 200. The cassette 7 stores multiple plate-shaped objects 200 before and after grinding. In the first embodiment, a pair of cassettes 7 are provided, each of which is installed on a cassette mounting table 8. The alignment unit 40 is a table on which the plate-shaped objects 200 removed from the cassette 7 are temporarily placed and their center alignment is performed.

搬送ユニット50は、板状物200を搬送するものである。搬送ユニット50は、搬入ユニット51と、搬出ユニット52と、搬入出ユニット53とを備える。 The transport unit 50 transports the plate-like object 200. The transport unit 50 includes a carry-in unit 51, a carry-out unit 52, and a carry-in/out unit 53.

搬入ユニット51は、板状物200を吸着する吸着パッド511を先端部に有し、基端部を中心として装置基台2に揺動自在に設けられたアーム状に形成されている。搬入ユニット51は、位置合わせユニット40で位置合わせされた研削加工前の板状物200を吸着パッド511に吸着保持して搬入出領域301に位置する保持テーブル6上に搬入する。 The loading unit 51 has a suction pad 511 at its tip that adsorbs the plate-like object 200, and is formed in the shape of an arm that is mounted on the device base 2 so as to be able to swing freely around its base end. The loading unit 51 adsorbs and holds the plate-like object 200 before grinding, which has been aligned by the alignment unit 40, to the suction pad 511, and loads it onto the holding table 6 located in the loading/unloading area 301.

搬出ユニット52は、板状物200を吸着する吸着パッド521を先端部に有し、基端部を中心として装置基台2に揺動自在に設けられたアーム状に形成されている。搬出ユニット52は、搬入出領域301に位置する保持テーブル6上の研削加工後の板状物200を吸着パッド521に吸着保持して洗浄ユニット60に搬出する。 The unloading unit 52 has a suction pad 521 at its tip that adsorbs the plate-like object 200, and is formed in the shape of an arm that is attached to the device base 2 so as to be able to swing freely around its base end. The unloading unit 52 adsorbs and holds the ground plate-like object 200 on the holding table 6 located in the loading/unloading area 301 to the suction pad 521, and unloads it to the cleaning unit 60.

搬入出ユニット53は、研削加工前の板状物200をカセット7から取り出して、位置合わせユニット40に搬送するとともに、研削加工後の板状物200を洗浄ユニット60から取り出して、カセット7に搬送する。搬入出ユニット53は、例えばU字型ハンド531を備えるロボットピックであり、U字型ハンド531によって板状物200を吸着保持して搬送する。 The loading/unloading unit 53 removes the plate-like object 200 before grinding from the cassette 7 and transports it to the alignment unit 40, and also removes the plate-like object 200 after grinding from the cleaning unit 60 and transports it to the cassette 7. The loading/unloading unit 53 is, for example, a robot pick equipped with a U-shaped hand 531, which adsorbs and holds the plate-like object 200 and transports it.

洗浄ユニット60は、研削加工後の板状物200を洗浄し、研削された裏面202に付着している研削屑等のコンタミネーションを除去する。 The cleaning unit 60 cleans the plate-like object 200 after grinding and removes contamination such as grinding debris adhering to the ground back surface 202.

制御ユニット100は、加工装置1を構成する上述した各構成ユニットをそれぞれ制御するものである。即ち、制御ユニット100は、少なくとも保持テーブル6と研削ユニット10,20の動作を制御して、板状物200に対する加工動作を加工装置1に実行させるものである。制御ユニット100は、CPU(central processing unit)のようなマイクロプロセッサを有する演算処理装置と、ROM(read only memory)又はRAM(random access memory)のようなメモリを有する記憶装置と、入出力インターフェース装置とを有するコンピュータである。 The control unit 100 controls each of the above-mentioned constituent units that make up the processing device 1. That is, the control unit 100 controls the operation of at least the holding table 6 and the grinding units 10, 20, and causes the processing device 1 to execute processing operations on the plate-like object 200. The control unit 100 is a computer that has an arithmetic processing device having a microprocessor such as a CPU (central processing unit), a storage device having a memory such as a ROM (read only memory) or RAM (random access memory), and an input/output interface device.

制御ユニット100の演算処理装置は、記憶装置に記憶されているコンピュータプログラムに従って演算処理を実施して、加工装置1を制御するための制御信号を、入出力インターフェース装置を介して加工装置1の上述した構成要素に出力する。また、制御ユニット100は、加工動作の状態や画像などを表示する液晶表示装置などにより構成される表示ユニット、オペレータが加工内容情報などを登録する際に用いる入力ユニット及びオペレータに報知する報知ユニットと接続されている。 The arithmetic processing device of the control unit 100 performs arithmetic processing according to a computer program stored in the storage device, and outputs control signals for controlling the processing device 1 to the above-mentioned components of the processing device 1 via the input/output interface device. The control unit 100 is also connected to a display unit configured with a liquid crystal display device or the like that displays the status and images of the processing operation, an input unit that the operator uses to register processing content information, and a notification unit that notifies the operator.

入力ユニットは、表示ユニットに設けられたタッチパネルと、キーボード等とのうち少なくとも一つにより構成される。報知ユニットは、音と光とタッチパネル上のメッセージとのうち少なくともいずれかを発して、オペレータに報知する。 The input unit is composed of at least one of a touch panel provided on the display unit and a keyboard, etc. The notification unit notifies the operator by emitting at least one of sound, light, and a message on the touch panel.

(載置方法)
次に、実施形態1に係る載置方法を説明する。図5は、実施形態1に係る載置方法の流れを示すフローチャートである。実施形態1に係る載置方法は、前述した構成の加工装置1において、板状物200を保持テーブル6に載置する方法である。また、実施形態1に係る載置方法は、前述した構成の加工装置1が、板状物200の裏面202を研削加工して、板状物200を所定の仕上げ厚みまで薄化する加工装置1の加工動作でもある。
(Placement Method)
Next, a mounting method according to the first embodiment will be described. Fig. 5 is a flow chart showing the flow of the mounting method according to the first embodiment. The mounting method according to the first embodiment is a method of mounting the plate-like object 200 on the holding table 6 in the processing device 1 having the above-mentioned configuration. The mounting method according to the first embodiment is also a processing operation of the processing device 1 having the above-mentioned configuration, in which the processing device 1 grinds the back surface 202 of the plate-like object 200 to thin the plate-like object 200 to a predetermined finishing thickness.

実施形態1において、加工装置1は、オペレータにより裏面202を上向きにして板状物200を収容したカセット7が装置基台2のカセット載置台8に設置され、加工条件が制御ユニット100に登録され、オペレータからの加工動作の開始指示を制御ユニット100が受け付けると、加工動作、即ち実施形態1に係る載置方法を開始する。 In the first embodiment, the processing device 1 starts the processing operation, i.e., the loading method according to the first embodiment, when an operator places a cassette 7 containing a plate-like object 200 with the back surface 202 facing up on the cassette loading table 8 of the device base 2, the processing conditions are registered in the control unit 100, and the control unit 100 receives an instruction from the operator to start the processing operation.

実施形態1に係る載置方法は、図5に示すように、支持ステップ1001と、搬送ステップ1002と、保持面洗浄ステップ1003と、洗浄ステップ1004と、載置ステップ1005と、吸引保持ステップ1006と、研削ステップ1007と、搬出ステップ1008とを備える。 As shown in FIG. 5, the mounting method according to the first embodiment includes a supporting step 1001, a transporting step 1002, a holding surface cleaning step 1003, a cleaning step 1004, a mounting step 1005, a suction holding step 1006, a grinding step 1007, and a carrying out step 1008.

(支持ステップ)
図6は、図5に示された載置方法の支持ステップを模式的に一部断面で示す側面図である。支持ステップ1001は、板状物200を位置合わせユニット40で支持するステップである。
(Support Step)
Fig. 6 is a side view, partially in cross section, showing a schematic diagram of the supporting step of the mounting method shown in Fig. 5. The supporting step 1001 is a step of supporting the plate-like object 200 by the positioning unit 40.

実施形態1において、支持ステップ1001では、加工装置1は、制御ユニット100が電磁開閉弁652,672,682を閉じた状態で、各研削ユニット10,20のスピンドル14,24を加工条件で定められた回転数で軸心回りに回転させ、搬入出ユニット53にカセット7のいずれかから板状物200を1枚取り出させて、位置合わせユニット40へ搬入させて、図6に示すように、板状物200を位置合わせユニット40で支持する。実施形態1において、支持ステップ1001では、加工装置1は、制御ユニット100が位置合わせユニット40に板状物200の中心位置合わせを行わせる。 In embodiment 1, in the support step 1001, the processing device 1 rotates the spindles 14, 24 of each grinding unit 10, 20 around their axes at the rotational speeds determined by the processing conditions while the control unit 100 closes the electromagnetic opening/closing valves 652, 672, 682, and causes the carry-in/out unit 53 to take out one plate-like object 200 from one of the cassettes 7 and carry it into the alignment unit 40, and supports the plate-like object 200 by the alignment unit 40 as shown in FIG. 6. In embodiment 1, in the support step 1001, the processing device 1 causes the control unit 100 to cause the alignment unit 40 to align the center of the plate-like object 200.

(搬送ステップ)
図7は、図5に示された載置方法の搬送ステップを模式的に一部断面で示す側面図である。搬送ステップ1002は、位置合わせユニット40から板状物200を保持テーブル6の保持面611と対面する位置へ搬送ユニット50で支持して搬送するステップである。
(Transportation step)
Fig. 7 is a side view, partially in cross section, showing a schematic diagram of the transport step of the mounting method shown in Fig. 5. The transport step 1002 is a step of supporting and transporting the plate-like object 200 from the alignment unit 40 to a position facing the holding surface 611 of the holding table 6 by the transport unit 50.

実施形態1において、搬送ステップ1002では、加工装置1は、図7に示すように、制御ユニット100が搬入ユニット51の吸着パッド511に位置合わせされた板状物200を吸着保持させ、搬入ユニット51に搬入出領域301に位置する保持テーブル6の保持面611と対面する位置へ板状物200を支持して搬送させる。 In embodiment 1, in the transport step 1002, as shown in FIG. 7, the processing device 1 causes the control unit 100 to suction and hold the aligned plate-like object 200 on the suction pad 511 of the carry-in unit 51, and causes the carry-in unit 51 to support and transport the plate-like object 200 to a position facing the holding surface 611 of the holding table 6 located in the carry-in/out area 301.

(保持面洗浄ステップ)
図8は、図5に示された載置方法の保持面洗浄ステップを模式的に一部断面で示す側面図である。保持面洗浄ステップ1003は、洗浄ステップ1004の前に、保持テーブル6の保持面611から洗浄流体を噴出させて保持面611を洗浄するステップである。
(Retention surface cleaning step)
Fig. 8 is a side view, partially in cross section, showing a schematic representation of the holding surface cleaning step of the mounting method shown in Fig. 5. The holding surface cleaning step 1003 is a step of ejecting a cleaning fluid from the holding surface 611 of the holding table 6 to clean the holding surface 611 before the cleaning step 1004.

実施形態1において、保持面洗浄ステップ1003では、加工装置1は、制御ユニット100が電磁開閉弁672,682を開いて気体供給源671から気体通路67を通して気体を混合室66に供給し、液体供給源681から液体通路68を通して液体を混合室66に供給する。実施形態1において、保持面洗浄ステップ1003では、加工装置1は、図8に示すように、混合室66で気体と液体とを混合して混合流体613を生成して、生成した混合流体613を洗浄流体として保持面611から噴出させて、保持面611から異物等を除去して保持面611を洗浄する。こうして、実施形態1において、洗浄流体は、気体供給源671及び液体供給源681から気体及び液体を供給して混合する気体と液体との混合流体613である。 In the first embodiment, in the holding surface cleaning step 1003, the control unit 100 of the processing device 1 opens the electromagnetic opening and closing valves 672 and 682 to supply gas from the gas supply source 671 through the gas passage 67 to the mixing chamber 66, and supplies liquid from the liquid supply source 681 through the liquid passage 68 to the mixing chamber 66. In the first embodiment, in the holding surface cleaning step 1003, as shown in FIG. 8, the processing device 1 mixes gas and liquid in the mixing chamber 66 to generate a mixed fluid 613, and ejects the generated mixed fluid 613 from the holding surface 611 as a cleaning fluid to remove foreign matter and the like from the holding surface 611 and clean the holding surface 611. Thus, in the first embodiment, the cleaning fluid is the mixed fluid 613 of gas and liquid that is mixed by supplying gas and liquid from the gas supply source 671 and the liquid supply source 681.

(洗浄ステップ)
図9は、図5に示された載置方法の洗浄ステップを模式的に一部断面で示す側面図である。洗浄ステップ1004は、保持テーブル6を保持面611と直交する回転軸612で回転させながら洗浄流体である混合流体613を保持テーブル6の保持面611から噴出させて、搬送ユニット50で保持面611と対面して支持される板状物200の保持面611と対面する側の面である表面保護テープ210の表面211を混合流体613と接触する位置に位置付けて表面保護テープ210の表面211を洗浄するステップである。
Washing Step
Fig. 9 is a side view showing a schematic partial cross section of the cleaning step of the mounting method shown in Fig. 5. The cleaning step 1004 is a step of spraying mixed fluid 613, which is a cleaning fluid, from holding surface 611 of holding table 6 while rotating holding table 6 about rotation axis 612 perpendicular to holding surface 611, and positioning surface 211 of surface protection tape 210, which is the surface facing holding surface 611 of plate-like object 200 supported by conveying unit 50 facing holding surface 611, at a position where it comes into contact with mixed fluid 613, and cleaning surface 211 of surface protection tape 210.

実施形態1において、洗浄ステップ1004では、加工装置1は、電磁開閉弁672,682を開いて、保持面611から洗浄流体としての混合流体613を噴出させた状態で、図9に示すように、制御ユニット100が回転機構69で保持テーブル6を回転軸612回りに回転するとともに、搬入ユニット51に吸着パッド511を下降させて、吸着パッド511に吸着した板状物200に貼着した表面保護テープ210の表面211を保持面611から噴出する混合流体613と接触する位置に位置付ける。実施形態1において、洗浄ステップ1004では、加工装置1は、制御ユニット100が搬入ユニット51を吸着パッド511に保持した板状物200が保持面611の上方を通過するように、基端部を中心として所定回数揺動させる。 In the first embodiment, in the cleaning step 1004, the processing device 1 opens the electromagnetic on-off valves 672 and 682 to spray the mixed fluid 613 as a cleaning fluid from the holding surface 611, and as shown in FIG. 9, the control unit 100 rotates the holding table 6 around the rotation axis 612 with the rotation mechanism 69 and lowers the suction pad 511 on the carry-in unit 51 to position the surface 211 of the surface protection tape 210 attached to the plate-like object 200 adsorbed to the suction pad 511 in a position where it comes into contact with the mixed fluid 613 sprayed from the holding surface 611. In the first embodiment, in the cleaning step 1004, the processing device 1 causes the control unit 100 to swing the carry-in unit 51 a predetermined number of times around the base end so that the plate-like object 200 held by the suction pad 511 passes above the holding surface 611.

こうして、実施形態1において、洗浄ステップ1004は、加工装置1が、搬入ユニット51を基端部を中心として揺動させることで、板状物200を支持する搬入ユニット51と保持テーブル6とを保持面611が延在する方向に相対的に移動させながら吸着パッド511に吸着した板状物200に貼着した表面保護テープ210の表面211を混合流体613と接触させて洗浄する。 Thus, in embodiment 1, in the cleaning step 1004, the processing device 1 swings the carry-in unit 51 around the base end, thereby moving the carry-in unit 51 supporting the plate-like object 200 and the holding table 6 relatively in the direction in which the holding surface 611 extends, and brings the surface 211 of the surface protection tape 210 attached to the plate-like object 200 adsorbed to the suction pad 511 into contact with the mixed fluid 613 to clean it.

(載置ステップ)
図10は、図5に示された載置方法の載置ステップを模式的に一部断面で示す側面図である。載置ステップ1005は、洗浄ステップ1004の後で、洗浄流体としての混合流体613の噴出を停止して、保持テーブル6の保持面611に板状物200を載置するステップである。
(Placement Step)
Fig. 10 is a side view, partially in cross section, showing a schematic diagram of the placing step of the placing method shown in Fig. 5. The placing step 1005 is a step of placing the plate-like object 200 on the holding surface 611 of the holding table 6 after the cleaning step 1004, by stopping the ejection of the mixed fluid 613 as the cleaning fluid.

実施形態1において、載置ステップ1005では、加工装置1は、図10に示すように、制御ユニット100が電磁開閉弁672,682を閉じて保持面611からの混合流体613の噴出を停止し回転機構69の回転軸612回りの保持テーブル6の回転を停止させて、搬入ユニット51に板状物200を保持テーブル6の保持面611に載置させる。 In embodiment 1, in the placement step 1005, as shown in FIG. 10, the control unit 100 of the processing device 1 closes the electromagnetic on-off valves 672, 682 to stop the ejection of the mixed fluid 613 from the holding surface 611 and stops the rotation of the holding table 6 around the rotation axis 612 of the rotation mechanism 69, and causes the loading unit 51 to place the plate-like object 200 on the holding surface 611 of the holding table 6.

(吸引保持ステップ)
図11は、図5に示された載置方法の吸引保持ステップを模式的に一部断面で示す側面図である。吸引保持ステップ1006は、載置ステップ1005の後で、保持テーブル6の保持面611に吸引力を連通させて板状物200を吸引保持するステップである。
(Suction holding step)
Fig. 11 is a side view, partially in cross section, showing a schematic suction-holding step of the mounting method shown in Fig. 5. The suction-holding step 1006 is a step of suction-holding the plate-like object 200 by communicating a suction force to the holding surface 611 of the holding table 6 after the mounting step 1005.

実施形態1において、吸引保持ステップ1006では、加工装置1は、図11に示すように、制御ユニット100が電磁開閉弁652を開いて、吸引源651により吸引通路65及び連通路64を介して保持面611を吸引させ、板状物200を搬入出領域301の保持テーブル6の保持面611に吸引保持する。また、実施形態1において、吸引保持ステップ1006では、加工装置1は、制御ユニット100がターンテーブル5を回転して、搬入出領域301で板状物200を保持した保持テーブル6を粗研削領域302に移動する。 In embodiment 1, in suction holding step 1006, as shown in FIG. 11, the control unit 100 of the processing device 1 opens the electromagnetic on-off valve 652, and causes the suction source 651 to suck the holding surface 611 through the suction passage 65 and the communication passage 64, thereby suction-holding the plate-like object 200 on the holding surface 611 of the holding table 6 in the carry-in/out area 301. Also, in embodiment 1, in suction holding step 1006, the control unit 100 of the processing device 1 rotates the turntable 5 to move the holding table 6 holding the plate-like object 200 in the carry-in/out area 301 to the rough grinding area 302.

(研削ステップ)
研削ステップ1007は、研削ホイール11,21を先端に装着したスピンドル14,24を含む研削ユニット10,20を軸心回りに回転させるとともに保持テーブル6を回転軸612回りに回転させた状態で相対的に接近させて、板状物200を研削加工するステップである。
(Grinding step)
The grinding step 1007 is a step in which the grinding units 10, 20, each including a spindle 14, 24 with a grinding wheel 11, 21 attached to its tip, are rotated about their axis while the holding table 6 is rotated about the rotation axis 612, thereby grinding the plate-like object 200.

実施形態1において、研削ステップ1007では、加工装置1は、制御ユニット100が保持テーブル6を回転軸612回りに回転し、研削水を供給して粗研削ユニット10により板状物200を粗研削加工する。実施形態1において、研削ステップ1007では、加工装置1は、制御ユニット100が板状物200を粗研削加工した後、ターンテーブル5を回転して、粗研削加工後の板状物200を保持した保持テーブル6を仕上げ研削領域303に移動する。 In the first embodiment, in the grinding step 1007, the control unit 100 of the processing device 1 rotates the holding table 6 around the rotation axis 612, supplies grinding water, and roughly grinds the plate-like object 200 with the rough grinding unit 10. In the first embodiment, in the grinding step 1007, the control unit 100 of the processing device 1 roughly grinds the plate-like object 200, then rotates the turntable 5 to move the holding table 6 holding the plate-like object 200 after the rough grinding to the finish grinding area 303.

実施形態1において、研削ステップ1007では、加工装置1は、制御ユニット100が板状物200を仕上げ研削加工した後、ターンテーブル5を回転して、仕上げ研削加工後の板状物200を保持し軸心回りの回転が停止した保持テーブル6を搬入出領域301に移動する。 In embodiment 1, in the grinding step 1007, after the control unit 100 finish-grinds the plate-like object 200, the processing device 1 rotates the turntable 5 to move the holding table 6, which holds the plate-like object 200 after the finish grinding and has stopped rotating around its axis, to the loading/unloading area 301.

(搬出ステップ)
搬出ステップ1008は、研削加工後の板状物200を保持テーブル6から搬出して、カセット7内に搬入するステップである。実施形態1において、搬出ステップ1008では、加工装置1は、制御ユニット100が搬出ユニット52に仕上げ研削加工後の板状物200を搬入出領域301の保持テーブル6から洗浄ユニット60に搬送して、洗浄ユニット60で洗浄した後、搬入出ユニット53にカセット7に収容させる。搬出ステップ1008後、加工装置1は、制御ユニット100がカセット7内の全ての板状物200に粗研削加工、仕上げ研削加工を施した否かを判定する(ステップ1009)。
(Exit step)
The carry-out step 1008 is a step in which the plate-like object 200 after the grinding process is carried out from the holding table 6 and carried into the cassette 7. In the first embodiment, in the carry-out step 1008, the control unit 100 of the processing device 1 causes the carry-out unit 52 to transport the plate-like object 200 after the finish grinding process from the holding table 6 in the carry-in/out area 301 to the cleaning unit 60, and after cleaning in the cleaning unit 60, causes the carry-in/out unit 53 to store it in the cassette 7. After the carry-out step 1008, the processing device 1 determines whether the control unit 100 has performed the rough grinding process and the finish grinding process on all the plate-like objects 200 in the cassette 7 (step 1009).

搬出ステップ1008後、加工装置1は、制御ユニット100がカセット7内の全ての板状物200に粗研削加工、仕上げ研削加工を施していないと判定する(ステップ1009:No)と、支持ステップ1001に戻る。この場合、加工装置1は、制御ユニット100がターンテーブル5を120度回転する度に、仕上げ研削加工後の板状物200を保持している搬入出領域301の保持テーブル6から板状物200を洗浄ユニット60に搬送し、仕上げ研削加工後の板状物200を保持していない搬入出領域301の保持テーブル6に研削加工前の板状物200を搬入し、粗研削領域302の保持テーブル6に保持された研削加工前の板状物200を粗研削加工し、仕上げ研削領域303の保持テーブル6に保持された粗研削加工後の板状物200を粗研削加工する。こうして、加工装置1は、制御ユニット100がターンテーブル5を120度回転する度に搬入出領域301の保持テーブル6に板状物200を搬出、搬入し、保持テーブル6の保持面611に保持した板状物200を粗研削領域302及び仕上げ研削領域303に順に位置付けて、粗研削加工及び仕上げ研削加工を順に施す。 After the unloading step 1008, when the control unit 100 determines that the rough grinding and finish grinding have not been performed on all the plate-like objects 200 in the cassette 7 (step 1009: No), the processing device 1 returns to the support step 1001. In this case, each time the control unit 100 rotates the turntable 5 120 degrees, the processing device 1 transports the plate-like object 200 from the holding table 6 in the carry-in/out area 301 that holds the plate-like object 200 after the finish grinding to the cleaning unit 60, carries the plate-like object 200 before the grinding to the holding table 6 in the carry-in/out area 301 that does not hold the plate-like object 200 after the finish grinding, roughly grinds the plate-like object 200 before the grinding held on the holding table 6 in the rough grinding area 302, and roughly grinds the plate-like object 200 after the rough grinding held on the holding table 6 in the finish grinding area 303. In this way, the processing device 1 transports the plate-shaped object 200 to and from the holding table 6 in the loading/unloading area 301 each time the control unit 100 rotates the turntable 5 by 120 degrees, and positions the plate-shaped object 200 held on the holding surface 611 of the holding table 6 in the rough grinding area 302 and the finish grinding area 303 in that order, and performs rough grinding and finish grinding in that order.

搬出ステップ1008後、加工装置1は、制御ユニット100がカセット7内の全ての板状物200に粗研削加工、仕上げ研削加工を施したと判定する(ステップ1009:Yes)と、加工動作、即ち実施形態1に係る載置方法を終了する。 After the unloading step 1008, when the control unit 100 of the processing device 1 determines that rough grinding and finish grinding have been performed on all of the plate-like objects 200 in the cassette 7 (step 1009: Yes), the processing operation, i.e., the loading method according to embodiment 1, is terminated.

以上説明したように、実施形態1に係る載置方法は、載置ステップ1005の前に保持テーブル6を回転軸612回りに回転させながら洗浄流体である混合流体613を保持テーブル6の保持面611から噴出させて、搬入ユニット51で保持面611と対面して支持される板状物200の保持面611と対面する側の面である表面保護テープ210の表面211を洗浄流体である混合流体613と接触する位置に位置付けて、表面保護テープ210の表面211を洗浄する洗浄ステップ1004を実施する。 As described above, in the mounting method according to the first embodiment, before the mounting step 1005, the holding table 6 is rotated around the rotation axis 612 while the mixed fluid 613, which is a cleaning fluid, is sprayed from the holding surface 611 of the holding table 6, and the surface 211 of the surface protection tape 210, which is the surface facing the holding surface 611 of the plate-like object 200 supported by the loading unit 51 facing the holding surface 611, is positioned in contact with the mixed fluid 613, which is a cleaning fluid, and a cleaning step 1004 is performed to clean the surface 211 of the surface protection tape 210.

このために、実施形態1に係る載置方法は、加工装置1等の加工装置に板状物200の保持面611と対面する側の面である表面保護テープ210の表面211を洗浄する洗浄ユニットを設けることなく、板状物200の載置前に表面保護テープ210の表面211を洗浄することができる。 For this reason, the mounting method according to embodiment 1 can clean the surface 211 of the surface protection tape 210 before mounting the plate-like object 200 without providing a cleaning unit for cleaning the surface 211 of the surface protection tape 210, which is the surface facing the holding surface 611 of the plate-like object 200, in a processing device such as the processing device 1.

その結果、実施形態1に係る載置方法は、加工装置1等の加工装置のコストの高騰を抑制しながらも保持テーブル6の保持面611に板状物200を搬送して載置する際、パーティクル等の異物を噛み込ませることを低減することができるという効果を奏する。 As a result, the placement method according to embodiment 1 has the effect of reducing the likelihood of particles or other foreign matter becoming caught when transporting and placing the plate-like object 200 on the holding surface 611 of the holding table 6, while suppressing increases in the cost of processing equipment such as the processing device 1.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。なお、実施形態1では、洗浄流体は、気体と液体とが混合された混合流体613であるが、本発明では、混合流体613に限定されずに、気体でも良く、液体でも良い。 The present invention is not limited to the above embodiment. In other words, various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. In the first embodiment, the cleaning fluid is a mixed fluid 613 in which a gas and a liquid are mixed, but in the present invention, the cleaning fluid is not limited to the mixed fluid 613, and may be a gas or a liquid.

また、本発明では、加工装置1は、板状物200を研削加工する研削装置であるが、本発明では、研削装置に限定されずに、板状物200を切削加工する切削装置でも良く、板状物200を研磨加工する研磨装置でも良い。なお、加工装置1が切削装置又は研磨装置である場合、支持ユニットは、板状物200を収容するカセット、カセットに出し入れされる板状物200を一時的に載置される仮置きレール、カセットに出し入れされる板状物200を一時的に載置される仮置きテーブル、板状物200をアライメントするために支持するテーブル等である。 In the present invention, the processing device 1 is a grinding device that grinds the plate-like object 200, but in the present invention, it is not limited to a grinding device, and may be a cutting device that cuts the plate-like object 200, or a polishing device that polishes the plate-like object 200. When the processing device 1 is a cutting device or a polishing device, the support unit is a cassette that stores the plate-like object 200, a temporary placement rail on which the plate-like object 200 is temporarily placed when it is inserted or removed from the cassette, a temporary placement table on which the plate-like object 200 is temporarily placed when it is inserted or removed from the cassette, a table that supports the plate-like object 200 for alignment, etc.

1 加工装置
6 保持テーブル
10 粗研削ユニット(加工ユニット)
11 研削ホイール(加工具)
20 仕上げ研削ユニット(加工ユニット)
21 研削ホイール(加工具)
40 位置合わせユニット(支持ユニット)
50 搬送ユニット
51 搬入ユニット
100 制御ユニット(コントローラ)
200 板状物
211 表面(保持面と対面する側の面)
611 保持面
612 回転軸
613 混合流体(洗浄流体)
671 気体供給源
681 液体供給源
1001 支持ステップ
1002 搬送ステップ
1003 保持面洗浄ステップ
1004 洗浄ステップ
1005 載置ステップ
1006 吸引保持ステップ
1 Processing device 6 Holding table 10 Rough grinding unit (processing unit)
11 Grinding wheel (tool)
20 Finish grinding unit (processing unit)
21 Grinding wheel (tool)
40 Alignment unit (support unit)
50 Transport unit 51 Loading unit 100 Control unit (controller)
200 Plate-like object 211 Surface (surface facing the holding surface)
611 Holding surface 612 Rotating shaft 613 Mixed fluid (cleaning fluid)
671 Gas supply source 681 Liquid supply source 1001 Support step 1002 Transport step 1003 Holding surface cleaning step 1004 Cleaning step 1005 Placement step 1006 Suction holding step

Claims (5)

板状物を保持する保持テーブルと、該保持テーブルが保持する該板状物を加工する加工具を装着した加工ユニットと、少なくとも該保持テーブルと該加工ユニットとを制御するコントローラと、を備える加工装置において、該板状物を該保持テーブルに載置する載置方法であって、
該板状物を支持ユニットで支持する支持ステップと、
該支持ユニットから該板状物を該保持テーブルの保持面と対面する位置へ搬送ユニットで支持して搬送する搬送ステップと、
該保持テーブルを該保持面と直交する回転軸で回転させながら洗浄流体を該保持テーブルの該保持面から噴出させて、該搬送ユニットで該保持面と対面して支持される該板状物の該保持面と対面する側の面を該洗浄流体と接触する位置に位置付けて該面を洗浄する洗浄ステップと、
該洗浄ステップの後で、該洗浄流体の噴出を停止して、該保持テーブルの該保持面に該板状物を載置する載置ステップと、
を備えることを特徴とする載置方法。
A method for placing a plate-like object on a holding table in a processing apparatus including a holding table for holding a plate-like object, a processing unit equipped with a processing tool for processing the plate-like object held by the holding table, and a controller for controlling at least the holding table and the processing unit, comprising:
a supporting step of supporting the plate-like object with a supporting unit;
a conveying step of supporting and conveying the plate-like object from the support unit to a position facing the holding surface of the holding table by a conveying unit;
a cleaning step of spraying a cleaning fluid from the holding surface of the holding table while rotating the holding table about a rotation axis perpendicular to the holding surface, thereby positioning a surface of the plate-like object facing the holding surface, which is supported by the transport unit and faces the holding surface, in a position where the surface comes into contact with the cleaning fluid and cleaning the surface;
a placing step of stopping the ejection of the cleaning fluid after the cleaning step and placing the plate-like object on the holding surface of the holding table;
A mounting method comprising:
該洗浄流体は、気体供給源及び液体供給源から気体及び液体を供給して混合する該気体と該液体との混合流体であることを特徴とする請求項1に記載の載置方法。 The method of claim 1, characterized in that the cleaning fluid is a mixed fluid of gas and liquid that is supplied and mixed from a gas supply source and a liquid supply source. 該洗浄ステップは、該板状物を支持する該搬送ユニットと該保持テーブルとを該保持面が延在する方向に相対的に移動させながら該面を該洗浄流体と接触させて洗浄することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の載置方法。 The method according to claim 1 or 2, characterized in that the cleaning step involves moving the conveying unit supporting the plate-like object and the holding table relative to one another in the direction in which the holding surface extends, while bringing the surface into contact with the cleaning fluid to clean it. 該洗浄ステップの前に、該保持テーブルの該保持面から該洗浄流体を噴出させて該保持面を洗浄する保持面洗浄ステップをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の載置方法。 The method of mounting according to claim 1, further comprising a holding surface cleaning step of spraying the cleaning fluid from the holding surface of the holding table to clean the holding surface before the cleaning step. 該載置ステップの後で、該保持テーブルの該保持面に吸引力を連通させて該板状物を吸引保持する吸引保持ステップと、をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の載置方法。 The method of claim 1, further comprising a suction holding step of suction-holding the plate-like object by communicating a suction force to the holding surface of the holding table after the placing step.
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