JP2024112743A - Laminate and packaging bag - Google Patents
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Abstract
Description
本開示は、積層体および包装袋に関する。 This disclosure relates to a laminate and a packaging bag.
ポリエステルフィルムは、機械的特性、化学的安定性、耐熱性および透明性に優れると共に、安価である。そのため、従来、ポリエステルフィルムは、包装袋を作製するために用いられる積層体を構成する基材として用いられている。包装袋に充填される内容物によっては、包装袋には酸素バリア性などのガスバリア性が要求される。この要求を満たすべく、ポリエステルフィルムの表面に、アルミナまたはシリカなどを含む無機酸化物層が形成されている(例えば、特許文献1参照)。近年、ポリエステルフィルムに代わる基材が模索されている。 Polyester films are excellent in mechanical properties, chemical stability, heat resistance, and transparency, and are inexpensive. For this reason, polyester films have traditionally been used as substrates for forming laminates used to produce packaging bags. Depending on the contents filled in the packaging bag, the packaging bag is required to have gas barrier properties such as oxygen barrier properties. To meet this requirement, an inorganic oxide layer containing alumina or silica is formed on the surface of the polyester film (see, for example, Patent Document 1). In recent years, substrates to replace polyester films have been sought.
本開示者らは、積層体を構成する基材として、従来のポリエステルフィルムに代えて、ポリプロピレンを主成分として含有する延伸基材を用いることを検討した。本開示者らは、具体的には、リサイクル性およびガスバリア性の観点から、上記延伸基材および無機酸化物層を備えるバリア性基材と、ポリプロピレンを主成分として含有するシーラント層と、を備える積層体を用いることを検討した。検討の結果、本開示者らは、このような積層体を用いて作製された包装袋は、落下時の衝撃により破れやすく、耐落下破袋性が充分ではない場合があることを見出した。 The present inventors have considered using a stretched substrate containing polypropylene as a main component, instead of a conventional polyester film, as the substrate constituting the laminate. Specifically, from the viewpoints of recyclability and gas barrier properties, the present inventors have considered using a laminate comprising a barrier substrate comprising the above stretched substrate and an inorganic oxide layer, and a sealant layer containing polypropylene as a main component. As a result of the consideration, the present inventors have found that packaging bags made using such a laminate are easily broken by impact when dropped, and may not have sufficient resistance to breakage due to dropping.
本開示の解決課題の一つは、ポリプロピレンを主成分として含有する延伸基材および無機酸化物層を備えるバリア性基材と、ポリプロピレンを主成分として含有するシーラント層と、を備える積層体を用いて作製される包装袋の、耐落下破袋性を向上させることにある。 One of the problems to be solved by the present disclosure is to improve the drop-breakage resistance of a packaging bag produced using a laminate comprising a barrier substrate having an inorganic oxide layer and an oriented substrate containing polypropylene as a main component, and a sealant layer containing polypropylene as a main component.
本開示の積層体は、第1の基材と、第1の接着剤層と、第2の基材と、第2の接着剤層と、シーラント層と、を厚さ方向にこの順に備え、第1の基材が、ポリプロピレンを主成分として含有する延伸基材を備え、第2の基材が、ポリプロピレンを主成分として含有する延伸基材を備え、第1の基材および第2の基材から選択される少なくとも一方が、無機酸化物層をさらに備えるバリア性基材であり、シーラント層が、ポリプロピレンを主成分として含有し、第2の接着剤層の断面について原子間力顕微鏡(AFM)を用いて測定される弾性率が、30.0MPa以上であり、第2の接着剤層の厚さが、0.5μm以上3.0μm以下である。 The laminate of the present disclosure comprises a first substrate, a first adhesive layer, a second substrate, a second adhesive layer, and a sealant layer in this order in the thickness direction, the first substrate comprises an oriented substrate containing polypropylene as a main component, the second substrate comprises an oriented substrate containing polypropylene as a main component, at least one selected from the first substrate and the second substrate is a barrier substrate further comprising an inorganic oxide layer, the sealant layer contains polypropylene as a main component, the elastic modulus measured on a cross section of the second adhesive layer using an atomic force microscope (AFM) is 30.0 MPa or more, and the thickness of the second adhesive layer is 0.5 μm or more and 3.0 μm or less.
本開示によれば、ポリプロピレンを主成分として含有する延伸基材および無機酸化物層を備えるバリア性基材と、ポリプロピレンを主成分として含有するシーラント層と、を備える積層体を用いて作製される包装袋の、耐落下破袋性を向上させることができる。 According to the present disclosure, it is possible to improve the drop-breakage resistance of a packaging bag produced using a laminate comprising a barrier substrate having an inorganic oxide layer and an oriented substrate containing polypropylene as a main component, and a sealant layer containing polypropylene as a main component.
本明細書において、あるパラメータに関して複数の上限値の候補および複数の下限値の候補が挙げられている場合、パラメータの数値範囲は、任意の1つの上限値の候補と任意の1つの下限値の候補とを組み合わせることによって構成されてもよい。一例として、「パラメータBは、好ましくはA1以上、より好ましくはA2以上、さらに好ましくはA3以上であり、また、好ましくはA4以下、より好ましくはA5以下、さらに好ましくはA6以下である。」との記載について説明する。この例において、パラメータBの数値範囲は、A1以上A4以下でもよく、A1以上A5以下でもよく、A1以上A6以下でもよく、A2以上A4以下でもよく、A2以上A5以下でもよく、A2以上A6以下でもよく、A3以上A4以下でもよく、A3以上A5以下でもよく、A3以上A6以下でもよい。 In this specification, when multiple upper limit candidates and multiple lower limit candidates are given for a certain parameter, the numerical range of the parameter may be formed by combining any one of the upper limit candidates and any one of the lower limit candidates. As an example, the description "Parameter B is preferably A1 or more, more preferably A2 or more, even more preferably A3 or more, and preferably A4 or less, more preferably A5 or less, and even more preferably A6 or less." will be explained. In this example, the numerical range of parameter B may be A1 or more and A4 or less, A1 or more and A5 or less, A1 or more and A6 or less, A2 or more and A4 or less, A2 or more and A5 or less, A2 or more and A6 or less, A3 or more and A4 or less, A3 or more and A5 or less, or A3 or more and A6 or less.
以下、本開示の実施形態について、詳細に説明する。本開示は多くの異なる形態で実施することが可能であり、以下に例示する実施形態の記載内容に限定して解釈されない。図面は、説明をより明確にするため、実施形態に比べ、各層の幅、厚さおよび形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本開示の解釈を限定しない。本明細書と各図において、既出の図に関してすでに説明したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。 The following describes in detail the embodiments of the present disclosure. The present disclosure can be implemented in many different forms, and is not to be construed as being limited to the description of the embodiments exemplified below. In the drawings, the width, thickness, shape, etc. of each layer may be shown diagrammatically compared to the embodiments in order to clarify the explanation, but these are merely examples and do not limit the interpretation of the present disclosure. In this specification and each figure, elements similar to those already explained with respect to the previous figures are given the same reference numerals, and detailed explanations may be omitted as appropriate.
本明細書において、ある層または基材における「主成分」とは、当該層または基材中の含有割合が50質量%超、好ましくは60質量%以上、より好ましくは70質量%以上、さらに好ましくは80質量%以上である成分をいう。 In this specification, the term "main component" in a layer or substrate refers to a component whose content in the layer or substrate is greater than 50% by mass, preferably 60% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and even more preferably 80% by mass or more.
以下の説明において、登場する各成分(例えば、ポリプロピレン、α-オレフィン、樹脂材料、添加剤、ガスバリア性樹脂、接着性樹脂、無機酸化物)は、それぞれ1種用いてもよく、2種以上を用いてもよい。 In the following description, each of the components (e.g., polypropylene, α-olefin, resin material, additive, gas barrier resin, adhesive resin, inorganic oxide) may be used alone or in combination of two or more types.
[積層体]
本開示の積層体は、第1の基材と、第1の接着剤層と、第2の基材と、第2の接着剤層と、シーラント層と、を厚さ方向にこの順に(以下、「この順に」ともいう)備える。
[Laminate]
The laminate of the present disclosure comprises a first substrate, a first adhesive layer, a second substrate, a second adhesive layer, and a sealant layer, in this order in the thickness direction (hereinafter also referred to as "in this order").
第1の基材は、ポリプロピレンを主成分として含有する延伸基材を備える。第2の基材は、ポリプロピレンを主成分として含有する延伸基材を備える。第1の基材の延伸基材と第2の基材の延伸基材とは、同一でもよく、異なってもよい。第1の基材および第2の基材から選択される少なくとも一方は、該延伸基材と無機酸化物層とを備えるバリア性基材である。以下の説明において、ポリプロピレンを主成分として含有する延伸基材を「ポリプロピレン延伸基材」ともいう。
シーラント層は、ポリプロピレンを主成分として含有する。
The first substrate comprises a stretched substrate containing polypropylene as a main component. The second substrate comprises a stretched substrate containing polypropylene as a main component. The stretched substrate of the first substrate and the stretched substrate of the second substrate may be the same or different. At least one selected from the first substrate and the second substrate is a barrier substrate comprising the stretched substrate and an inorganic oxide layer. In the following description, the stretched substrate containing polypropylene as a main component is also referred to as a "polypropylene stretched substrate".
The sealant layer contains polypropylene as a main component.
本開示の積層体は、一実施形態において、第1の基材がポリプロピレン延伸基材であり、第2の基材がバリア性基材である。すなわち上記積層体は、ポリプロピレン延伸基材と、所望により印刷層と、第1の接着剤層と、バリア性基材と、第2の接着剤層と、シーラント層と、をこの順に備える。この実施形態において、無機酸化物層が第1の接着剤層側を向き、ポリプロピレン延伸基材が第2の接着剤層側を向くように、バリア性基材は配置されていることが好ましい。このような配置により、例えば、無機酸化物層の劣化等をより抑制できる。 In one embodiment of the laminate of the present disclosure, the first substrate is a stretched polypropylene substrate, and the second substrate is a barrier substrate. That is, the laminate includes, in this order, a stretched polypropylene substrate, and optionally a printing layer, a first adhesive layer, a barrier substrate, a second adhesive layer, and a sealant layer. In this embodiment, it is preferable that the barrier substrate is arranged so that the inorganic oxide layer faces the first adhesive layer, and the stretched polypropylene substrate faces the second adhesive layer. With such an arrangement, for example, deterioration of the inorganic oxide layer can be further suppressed.
本開示の積層体は、一実施形態において、第1の基材がバリア性基材であり、第2の基材がポリプロピレン延伸基材である。すなわち上記積層体は、バリア性基材と、所望により印刷層と、第1の接着剤層と、ポリプロピレン延伸基材と、第2の接着剤層と、シーラント層と、をこの順に備える。この実施形態では、無機酸化物層が第1の接着剤層側を向き、ポリプロピレン延伸基材が外側を向くように、バリア性基材は配置されていることが好ましい。 In one embodiment of the laminate of the present disclosure, the first substrate is a barrier substrate, and the second substrate is an oriented polypropylene substrate. That is, the laminate includes a barrier substrate, an optional printing layer, a first adhesive layer, an oriented polypropylene substrate, a second adhesive layer, and a sealant layer, in this order. In this embodiment, the barrier substrate is preferably arranged so that the inorganic oxide layer faces the first adhesive layer and the oriented polypropylene substrate faces outward.
本開示の積層体は、優れたガスバリア性(例えば酸素バリア性および水蒸気バリア性、特に酸素バリア性)を示す。本開示の積層体を用いて作製された包装袋は、レトルト処理およびボイル処理などの熱処理後においても、優れたガスバリア性を示す。熱処理を受けた際に無機酸化物層がより適切に保護され、より高いガスバリア性を示すという観点から、第1の基材がポリプロピレン延伸基材であり、第2の基材がバリア性基材である積層体が好ましい。 The laminate of the present disclosure exhibits excellent gas barrier properties (e.g., oxygen barrier properties and water vapor barrier properties, particularly oxygen barrier properties). A packaging bag made using the laminate of the present disclosure exhibits excellent gas barrier properties even after heat treatments such as retort treatment and boiling treatment. From the viewpoint of better protecting the inorganic oxide layer when subjected to heat treatment and exhibiting higher gas barrier properties, a laminate in which the first substrate is a stretched polypropylene substrate and the second substrate is a barrier substrate is preferred.
図1~図6は、本開示の積層体の一実施形態を示す模式断面図である。
図1に示す積層体1は、第1の基材としてのポリプロピレン延伸基材10と、第1の接着剤層40Aと、第2の基材としてのバリア性基材20と、第2の接着剤層40Bと、シーラント層30と、をこの順に備える。バリア性基材20は、ポリプロピレン延伸基材22と、無機酸化物層24と、を備える。この例では、ポリプロピレン延伸基材22が第2の接着剤層40B側を向き、無機酸化物層24が第1の接着剤層40A側を向くように、バリア性基材20は配置されている。
1 to 6 are schematic cross-sectional views showing one embodiment of a laminate according to the present disclosure.
1 includes, in this order, a stretched polypropylene substrate 10 as a first substrate, a first adhesive layer 40A, a barrier substrate 20 as a second substrate, a second adhesive layer 40B, and a sealant layer 30. The barrier substrate 20 includes a stretched polypropylene substrate 22 and an inorganic oxide layer 24. In this example, the barrier substrate 20 is disposed such that the stretched polypropylene substrate 22 faces the second adhesive layer 40B, and the inorganic oxide layer 24 faces the first adhesive layer 40A.
図2は、バリア性基材20が、ポリプロピレン延伸基材22と無機酸化物層24との間に表面コート層23を備えること以外は図1と同様である。図3は、バリア性基材20が、ポリプロピレン延伸基材22と、表面コート層23と、無機酸化物層24と、被覆層25と、をこの順に備えること以外は図1と同様である。 Figure 2 is the same as Figure 1, except that the barrier substrate 20 has a surface coating layer 23 between the stretched polypropylene substrate 22 and the inorganic oxide layer 24. Figure 3 is the same as Figure 1, except that the barrier substrate 20 has a stretched polypropylene substrate 22, a surface coating layer 23, an inorganic oxide layer 24, and a coating layer 25, in this order.
図4に示す積層体1は、第1の基材としてのバリア性基材20と、第1の接着剤層40Aと、第2の基材としてのポリプロピレン延伸基材10と、第2の接着剤層40Bと、シーラント層30と、をこの順に備える。バリア性基材20は、ポリプロピレン延伸基材22と、無機酸化物層24と、を備える。この例では、ポリプロピレン延伸基材22が積層体1の最外層を構成し、無機酸化物層24が第1の接着剤層40A側を向くように、バリア性基材20は配置されている。 The laminate 1 shown in FIG. 4 comprises, in this order, a barrier substrate 20 as a first substrate, a first adhesive layer 40A, a stretched polypropylene substrate 10 as a second substrate, a second adhesive layer 40B, and a sealant layer 30. The barrier substrate 20 comprises a stretched polypropylene substrate 22 and an inorganic oxide layer 24. In this example, the stretched polypropylene substrate 22 constitutes the outermost layer of the laminate 1, and the barrier substrate 20 is arranged so that the inorganic oxide layer 24 faces the first adhesive layer 40A.
図5は、バリア性基材20が、ポリプロピレン延伸基材22と無機酸化物層24との間に表面コート層23を備えること以外は図4と同様である。図6は、バリア性基材20が、ポリプロピレン延伸基材22と、表面コート層23と、無機酸化物層24と、被覆層25と、をこの順に備えること以外は図4と同様である。 Figure 5 is the same as Figure 4, except that the barrier substrate 20 has a surface coating layer 23 between the stretched polypropylene substrate 22 and the inorganic oxide layer 24. Figure 6 is the same as Figure 4, except that the barrier substrate 20 has a stretched polypropylene substrate 22, a surface coating layer 23, an inorganic oxide layer 24, and a coating layer 25, in this order.
本開示の積層体に含まれる樹脂材料の総量に対するポリプロピレンの含有割合は、好ましくは80質量%以上、より好ましくは85質量%以上、さらに好ましくは88質量%以上、特に好ましくは90質量%以上、92質量%以上、94質量%以上または95質量%以上である。このような積層体を用いて作製される包装袋は、例えば、リサイクル性に優れる。本開示の積層体に含まれる樹脂材料の総量に対するポリプロピレンの含有割合の上限は、特に限定されないが、例えば99質量%でもよく、98質量%でもよく、97質量%でもよい。 The content ratio of polypropylene to the total amount of resin material contained in the laminate of the present disclosure is preferably 80% by mass or more, more preferably 85% by mass or more, even more preferably 88% by mass or more, and particularly preferably 90% by mass or more, 92% by mass or more, 94% by mass or more, or 95% by mass or more. A packaging bag produced using such a laminate has, for example, excellent recyclability. The upper limit of the content ratio of polypropylene to the total amount of resin material contained in the laminate of the present disclosure is not particularly limited, but may be, for example, 99% by mass, 98% by mass, or 97% by mass.
<ポリプロピレン延伸基材>
ポリプロピレン延伸基材は、ポリプロピレンを主成分として含有する。
ポリプロピレンは、ホモポリマー、ランダムコポリマーおよびブロックコポリマーのいずれでもよく、これらから選択される2種以上の混合物でもよい。ポリプロピレンとしては、バイオマス由来のポリプロピレンおよび/またはリサイクルされたポリプロピレンを用いてもよい。プロピレンホモポリマーとは、プロピレンのみの重合体である。プロピレンランダムコポリマーとは、プロピレンと、プロピレン以外のα-オレフィン等と、のランダム共重合体である。プロピレンブロックコポリマーとは、プロピレンからなる重合体ブロックと、少なくともプロピレン以外のα-オレフィン等からなる重合体ブロックと、を有する共重合体である。少なくともプロピレン以外のα-オレフィン等からなる重合体ブロックは、プロピレンと、プロピレン以外のα-オレフィンと、からなる重合体ブロックでもよい。
<Polypropylene stretched substrate>
The oriented polypropylene substrate contains polypropylene as a major component.
The polypropylene may be any of a homopolymer, a random copolymer, and a block copolymer, and may be a mixture of two or more selected from these. As the polypropylene, biomass-derived polypropylene and/or recycled polypropylene may be used. A propylene homopolymer is a polymer of only propylene. A propylene random copolymer is a random copolymer of propylene and an α-olefin other than propylene. A propylene block copolymer is a copolymer having a polymer block of propylene and a polymer block of at least an α-olefin other than propylene. The polymer block of at least an α-olefin other than propylene may be a polymer block of propylene and an α-olefin other than propylene.
α-オレフィンとしては、例えば、プロピレン以外の炭素数2以上20以下のα-オレフィンが挙げられ、具体的には、エチレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、1-オクテン、1-デセン、1-ドデセン、1-テトラデセン、1-ヘキサデセン、1-オクタデセン、1-エイコセン、3-メチル-1-ブテン、4-メチル-1-ペンテンおよび6-メチル-1-ヘプテンが挙げられる。 Examples of α-olefins include α-olefins other than propylene that have 2 to 20 carbon atoms, specifically ethylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecene, 1-octadecene, 1-eicosene, 3-methyl-1-butene, 4-methyl-1-pentene, and 6-methyl-1-heptene.
ポリプロピレンの中でも、透明性の観点からはランダムコポリマーが好ましく、包装袋の剛性および耐熱性を重視する場合はホモポリマーが好ましく、包装袋の耐衝撃性を重視する場合はブロックコポリマーが好ましい。 Among polypropylenes, random copolymers are preferred from the viewpoint of transparency, homopolymers are preferred when emphasis is placed on the rigidity and heat resistance of the packaging bag, and block copolymers are preferred when emphasis is placed on the impact resistance of the packaging bag.
ポリプロピレンのメルトフローレート(MFR)は、製膜性および加工性という観点から、好ましくは0.1g/10分以上、より好ましくは0.3g/10分以上であり、また、好ましくは50g/10分以下、より好ましくは30g/10分以下であり、例えば0.1g/10分以上50g/10分以下である。ポリプロピレンのMFRは、JIS K7210-1:2014、A法に準拠して、温度230℃、荷重2.16kgの条件で測定する。 From the viewpoint of film-forming and processability, the melt flow rate (MFR) of polypropylene is preferably 0.1 g/10 min or more, more preferably 0.3 g/10 min or more, and is preferably 50 g/10 min or less, more preferably 30 g/10 min or less, for example, 0.1 g/10 min or more and 50 g/10 min or less. The MFR of polypropylene is measured in accordance with JIS K7210-1:2014, Method A, at a temperature of 230°C and a load of 2.16 kg.
ポリプロピレン延伸基材におけるポリプロピレンの含有割合は、好ましくは50質量%超、より好ましくは60質量%以上、さらに好ましくは70質量%以上、よりさらに好ましくは80質量%以上、特に好ましくは85質量%以上、90質量%以上または95質量%以上である。 The polypropylene content in the polypropylene oriented substrate is preferably greater than 50% by mass, more preferably 60% by mass or more, even more preferably 70% by mass or more, even more preferably 80% by mass or more, and particularly preferably 85% by mass or more, 90% by mass or more, or 95% by mass or more.
ポリプロピレン延伸基材は、ポリプロピレン以外の樹脂材料を含有してもよい。樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン等の、ポリプロピレン以外のポリオレフィン、アクリル樹脂、ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド、ポリエステルおよびアイオノマー樹脂が挙げられる。
ポリプロピレン延伸基材は、添加剤を含有してもよい。添加剤としては、例えば、架橋剤、酸化防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料および改質用樹脂が挙げられる。
The stretched polypropylene substrate may contain a resin material other than polypropylene, such as, for example, a polyolefin other than polypropylene, such as polyethylene, an acrylic resin, a vinyl resin, a cellulose resin, a polyamide, a polyester, or an ionomer resin.
The stretched polypropylene substrate may contain additives, such as crosslinkers, antioxidants, antiblocking agents, lubricants, UV absorbers, light stabilizers, fillers, reinforcing agents, antistatic agents, pigments, and modifying resins.
ポリプロピレン延伸基材は、延伸処理が施されたポリプロピレン基材である。ポリプロピレン延伸基材を備える積層体は、例えば、耐熱性、耐衝撃性、耐水性および寸法安定性に優れ、例えば、レトルト処理またはボイル処理がなされる包装袋を構成する包装材料として好適である。
延伸処理は、1軸延伸でもよく、2軸延伸でもよい。
機械方向(基材の流れ方向、MD方向)へ延伸を行う場合の延伸倍率は、好ましくは2倍以上、より好ましくは5倍以上であり、また、好ましくは15倍以下、より好ましくは13倍以下である。幅方向(MD方向に対して垂直な方向、TD方向)へ延伸を行う場合の延伸倍率は、好ましくは2倍以上、より好ましくは5倍以上であり、また、好ましくは15倍以下、より好ましくは13倍以下である。延伸倍率を2倍以上とすることにより、基材の強度および耐熱性を向上でき、また、基材への印刷適性を向上できる。基材の破断限界という観点からは、延伸倍率は15倍以下であることが好ましい。
ポリプロピレン延伸基材は、例えば2軸延伸基材である。
The stretched polypropylene substrate is a polypropylene substrate that has been subjected to a stretching treatment. A laminate including the stretched polypropylene substrate is excellent in, for example, heat resistance, impact resistance, water resistance, and dimensional stability, and is suitable as a packaging material for forming a packaging bag that is to be subjected to, for example, a retort treatment or a boiling treatment.
The stretching process may be uniaxial stretching or biaxial stretching.
The stretching ratio in the case of stretching in the machine direction (flow direction of the substrate, MD direction) is preferably 2 times or more, more preferably 5 times or more, and also preferably 15 times or less, more preferably 13 times or less. The stretching ratio in the case of stretching in the width direction (direction perpendicular to the MD direction, TD direction) is preferably 2 times or more, more preferably 5 times or more, and also preferably 15 times or less, more preferably 13 times or less. By setting the stretching ratio at 2 times or more, the strength and heat resistance of the substrate can be improved, and the printability of the substrate can be improved. From the viewpoint of the breaking limit of the substrate, the stretching ratio is preferably 15 times or less.
The oriented polypropylene substrate is, for example, a biaxially oriented substrate.
ポリプロピレン延伸基材には、表面処理が施されていてもよい。これにより、例えば、ポリプロピレン延伸基材と他の層との密着性を向上できる。表面処理の方法としては、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガスおよび/または窒素ガスなどを用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理などの物理的処理;ならびに化学薬品を用いた酸化処理などの化学的処理が挙げられる。
ポリプロピレン延伸基材の表面に、易接着層を設けてもよい。
The oriented polypropylene substrate may be surface-treated. This can improve the adhesion between the oriented polypropylene substrate and other layers, for example. Examples of surface treatment methods include physical treatments such as corona discharge treatment, ozone treatment, low-temperature plasma treatment using oxygen gas and/or nitrogen gas, and glow discharge treatment; and chemical treatments such as oxidation treatment using chemicals.
An easy-adhesion layer may be provided on the surface of the stretched polypropylene substrate.
ポリプロピレン延伸基材は、単層構造を有してもよく、多層構造を有してもよい。
ポリプロピレン延伸基材の厚さは、好ましくは10μm以上、より好ましくは15μm以上であり、また、好ましくは100μm以下、より好ましくは50μm以下であり、例えば10μm以上100μm以下である。厚さが下限値以上の延伸基材を備える積層体は、例えば、強度および耐熱性に優れる。厚さが上限値以下の延伸基材を備える積層体は、例えば、加工性に優れる。
The oriented polypropylene substrate may have a single layer structure or a multi-layer structure.
The thickness of the polypropylene stretched substrate is preferably 10 μm or more, more preferably 15 μm or more, and also preferably 100 μm or less, more preferably 50 μm or less, for example, 10 μm or more and 100 μm or less. A laminate having a stretched substrate with a thickness equal to or greater than the lower limit has, for example, excellent strength and heat resistance. A laminate having a stretched substrate with a thickness equal to or less than the upper limit has, for example, excellent processability.
本明細書において、基材および各層の厚さは、以下のようにして測定される。積層体を包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、市販の回転式ミクロトームを用いて室温(25℃)環境下にて、該ブロックを切断することにより、積層体の断面を作製する。断面は、積層体の主面に対して垂直となる厚さ方向に切断して得られる。仕上げはダイヤモンドナイフにて実施する。基材および各層の厚さは、走査型電子顕微鏡(SEM、日立製作所社製、SU8000)を用いて上記断面を観察して測定される5箇所の厚さの算術平均値とする。 In this specification, the thickness of the substrate and each layer is measured as follows. A block is prepared by embedding the laminate in an embedding resin, and the block is cut at room temperature (25°C) using a commercially available rotary microtome to prepare a cross section of the laminate. The cross section is obtained by cutting the laminate in the thickness direction perpendicular to the main surface. Finishing is performed with a diamond knife. The thickness of the substrate and each layer is the arithmetic average value of the thicknesses measured at five points by observing the cross section using a scanning electron microscope (SEM, Hitachi, Ltd., SU8000).
<バリア性基材>
バリア性基材は、ポリプロピレン延伸基材と、無機酸化物層と、を備える。バリア性基材は、例えば、ポリプロピレン延伸基材と、該延伸基材の一方の面上に設けられた無機酸化物層と、を備える。バリア性基材は、ポリプロピレン延伸基材と無機酸化物層との間に、表面コート層を備えてもよい。バリア性基材は、無機酸化物層上に、被覆層を備えてもよい。バリア性基材は、透明性を有してもよい。
<Barrier substrate>
The barrier substrate comprises a stretched polypropylene substrate and an inorganic oxide layer. The barrier substrate comprises, for example, a stretched polypropylene substrate and an inorganic oxide layer provided on one surface of the stretched substrate. The barrier substrate may comprise a surface coating layer between the stretched polypropylene substrate and the inorganic oxide layer. The barrier substrate may comprise a coating layer on the inorganic oxide layer. The barrier substrate may have transparency.
(ポリプロピレン延伸基材)
バリア性基材が備えるポリプロピレン延伸基材としては、<ポリプロピレン延伸基材>の欄にて説明したポリプロピレン延伸基材が挙げられる。第1の基材のポリプロピレン延伸基材と、第2の基材のポリプロピレン延伸基材とは、同一でもよく、異なってもよい。
(Polypropylene oriented substrate)
Examples of the oriented polypropylene substrate included in the barrier substrate include the oriented polypropylene substrates described in the section <oriented polypropylene substrate>. The oriented polypropylene substrate of the first substrate and the oriented polypropylene substrate of the second substrate may be the same or different.
バリア性基材が備えるポリプロピレン延伸基材としては、例えば、ポリプロピレン層と、所望により接着性樹脂層と、後述する表面樹脂層と、をこの順に備える他の態様の延伸基材でもよい。この実施形態では、バリア性基材は、他の態様の延伸基材と、該延伸基材の表面樹脂層上に設けられた無機酸化物層と、を備える。この実施形態では、バリア性基材は、ポリプロピレン層と、所望により接着性樹脂層と、表面樹脂層と、無機酸化物層と、をこの順に備える。他の態様の延伸基材は、一実施形態において、共押出延伸樹脂フィルムである。共押出延伸樹脂フィルムは、例えば、Tダイ法またはインフレーション法などを利用して製膜して積層フィルムを得た後、該積層フィルムを延伸することにより作製できる。 The stretched polypropylene substrate provided in the barrier substrate may be, for example, a stretched substrate of another aspect that includes a polypropylene layer, an optional adhesive resin layer, and a surface resin layer described later, in this order. In this embodiment, the barrier substrate includes a stretched substrate of another aspect and an inorganic oxide layer provided on the surface resin layer of the stretched substrate. In this embodiment, the barrier substrate includes a polypropylene layer, an optional adhesive resin layer, a surface resin layer, and an inorganic oxide layer, in this order. In one embodiment, the stretched substrate of another aspect is a coextruded stretched resin film. The coextruded stretched resin film can be produced, for example, by forming a laminated film using a T-die method or an inflation method, and then stretching the laminated film.
他の態様の延伸基材における延伸処理は、1軸延伸でもよく、2軸延伸でもよい。
MD方向へ延伸を行う場合の延伸倍率は、好ましくは2倍以上、より好ましくは5倍以上であり、また、好ましくは15倍以下、より好ましくは13倍以下である。TD方向へ延伸を行う場合の延伸倍率は、好ましくは2倍以上、より好ましくは5倍以上であり、また、好ましくは15倍以下、より好ましくは13倍以下である。
In other embodiments, the stretching treatment of the stretched substrate may be uniaxial stretching or biaxial stretching.
The stretching ratio in the MD direction is preferably 2 times or more, more preferably 5 times or more, and is preferably 15 times or less, more preferably 13 times or less. The stretching ratio in the TD direction is preferably 2 times or more, more preferably 5 times or more, and is preferably 15 times or less, more preferably 13 times or less.
(表面コート層)
バリア性基材は、ポリプロピレン延伸基材と無機酸化物層との間に、極性基を有する樹脂材料を含有する表面コート層を備えてもよい。このようなバリア性基材は、無機酸化物層の密着性に優れ、また、ガスバリア性にも優れる。このようなバリア性基材は、ポリプロピレン延伸基材と、表面コート層と、無機酸化物層と、をこの順に備える。
(Surface Coating Layer)
The barrier substrate may include a surface coating layer containing a resin material having a polar group between the stretched polypropylene substrate and the inorganic oxide layer. Such a barrier substrate has excellent adhesion to the inorganic oxide layer and also has excellent gas barrier properties. Such a barrier substrate includes, in this order, a stretched polypropylene substrate, a surface coating layer, and an inorganic oxide layer.
極性基とは、ヘテロ原子を1個以上含む基を指し、例えば、エステル基、エポキシ基、水酸基、アミノ基、アミド基、ウレタン基、カルボキシ基、カルボニル基、カルボン酸無水物基、スルホ基、チオール基およびハロゲン基が挙げられる。これらの中でも、カルボキシ基、カルボニル基、エステル基、水酸基、アミノ基、アミド基およびウレタン基が好ましく、カルボキシ基、水酸基、アミド基およびウレタン基がより好ましい。 The polar group refers to a group containing one or more heteroatoms, and examples thereof include an ester group, an epoxy group, a hydroxyl group, an amino group, an amide group, a urethane group, a carboxyl group, a carbonyl group, a carboxylic anhydride group, a sulfo group, a thiol group, and a halogen group. Among these, the carboxyl group, the carbonyl group, the ester group, the hydroxyl group, the amino group, the amide group, and the urethane group are preferred, and the carboxyl group, the hydroxyl group, the amide group, and the urethane group are more preferred.
極性基を有する樹脂材料としては、例えば、エチレン-ビニルアルコール共重合体(EVOH)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリエステル、ポリエチレンイミン、水酸基含有アクリル樹脂、ナイロン6、ナイロン6,6、MXDナイロンおよびアモルファスナイロンなどのポリアミド、ならびにポリウレタンが挙げられる。これらの中でも、エチレン-ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール、水酸基含有アクリル樹脂、ポリアミドおよびポリウレタンがより好ましい。 Examples of resin materials having polar groups include ethylene-vinyl alcohol copolymers (EVOH), polyvinyl alcohol (PVA), polyester, polyethyleneimine, hydroxyl-containing acrylic resins, polyamides such as nylon 6, nylon 6,6, MXD nylon and amorphous nylon, and polyurethane. Among these, ethylene-vinyl alcohol copolymers, polyvinyl alcohol, hydroxyl-containing acrylic resins, polyamides and polyurethanes are more preferred.
表面コート層は、例えば、水系エマルジョンまたは溶剤系エマルジョンを用いて形成できる。水系エマルジョンとしては、例えば、ポリアミド系のエマルジョン、ポリエチレン系のエマルジョンおよびポリウレタン系のエマルジョンが挙げられる。溶剤系エマルジョンとしては、例えば、アクリル樹脂系のエマルジョンおよびポリエステル系のエマルジョンが挙げられる。 The surface coating layer can be formed, for example, using a water-based emulsion or a solvent-based emulsion. Examples of water-based emulsions include polyamide-based emulsions, polyethylene-based emulsions, and polyurethane-based emulsions. Examples of solvent-based emulsions include acrylic resin-based emulsions and polyester-based emulsions.
表面コート層における極性基を有する樹脂材料の含有割合は、好ましくは70質量%以上、より好ましくは80質量%以上、さらに好ましくは90質量%以上である。
表面コート層は、極性基を有する樹脂材料以外の上記樹脂材料を含有してもよい。
表面コート層は、上記添加剤を含有してもよい。
The content of the resin material having a polar group in the surface coating layer is preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and even more preferably 90% by mass or more.
The surface coating layer may contain the above-mentioned resin materials other than the resin material having a polar group.
The surface coating layer may contain the above-mentioned additives.
ポリプロピレン延伸基材および表面コート層の合計厚さに対する表面コート層の厚さの割合は、好ましくは0.08%以上、より好ましくは0.2%以上、さらに好ましくは1%以上であり、また、好ましくは20%以下、より好ましくは15%以下、さらに好ましくは10%以下、よりさらに好ましくは5%以下であり、例えば0.08%以上20%以下である。表面コート層の厚さは、好ましくは0.02μm以上、より好ましくは0.05μm以上、さらに好ましくは0.1μm以上、よりさらに好ましくは0.2μm以上であり、また、好ましくは10μm以下、より好ましくは5μm以下であり、例えば0.02μm以上10μm以下である。上記割合または厚さが下限値以上であると、例えば、無機酸化物層の密着性を向上でき、ガスバリア性を向上でき、また、積層体のラミネート強度を向上できる。上記割合または厚さが上限値以下であると、例えば、バリア性基材の加工性および積層体のリサイクル性を向上できる。 The ratio of the thickness of the surface coat layer to the total thickness of the polypropylene stretched substrate and the surface coat layer is preferably 0.08% or more, more preferably 0.2% or more, even more preferably 1% or more, and also preferably 20% or less, more preferably 15% or less, even more preferably 10% or less, and even more preferably 5% or less, for example, 0.08% or more and 20% or less. The thickness of the surface coat layer is preferably 0.02 μm or more, more preferably 0.05 μm or more, even more preferably 0.1 μm or more, even more preferably 0.2 μm or more, and also preferably 10 μm or less, more preferably 5 μm or less, for example, 0.02 μm or more and 10 μm or less. When the above ratio or thickness is equal to or greater than the lower limit, for example, the adhesion of the inorganic oxide layer can be improved, the gas barrier property can be improved, and the laminate strength of the laminate can be improved. When the above ratio or thickness is equal to or less than the upper limit, for example, the processability of the barrier substrate and the recyclability of the laminate can be improved.
例えば、ポリプロピレンまたはポリプロピレンを含有する樹脂組成物を、Tダイ法またはインフレーション法などを利用して製膜してポリプロピレン基材を得た後、該基材を延伸し、得られた延伸基材に表面コート層形成用塗工液を塗布し乾燥することにより、ポリプロピレン延伸基材および表面コート層を有する樹脂基材を作製できる。 For example, a polypropylene or a resin composition containing polypropylene is formed into a film using a T-die method or an inflation method to obtain a polypropylene substrate, and then the substrate is stretched. A coating liquid for forming a surface coating layer is applied to the stretched substrate and dried to produce a resin substrate having a stretched polypropylene substrate and a surface coating layer.
(ポリプロピレン層、表面樹脂層および接着性樹脂層)
他の態様の延伸基材において、ポリプロピレン層は、ポリプロピレンを主成分として含有する。ポリプロピレンの詳細は上述したとおりであり、本欄での説明は省略する。ポリプロピレン層におけるポリプロピレンの含有割合は、好ましくは50質量%超、より好ましくは60質量%以上、さらに好ましくは70質量%以上、よりさらに好ましくは80質量%以上、特に好ましくは85質量%以上、90質量%以上または95質量%以上である。
(Polypropylene layer, surface resin layer and adhesive resin layer)
In another embodiment of the stretched substrate, the polypropylene layer contains polypropylene as a main component. The details of polypropylene are as described above, and will not be described in this section. The content of polypropylene in the polypropylene layer is preferably more than 50% by mass, more preferably 60% by mass or more, even more preferably 70% by mass or more, even more preferably 80% by mass or more, particularly preferably 85% by mass or more, 90% by mass or more, or 95% by mass or more.
ポリプロピレン層は、ポリプロピレン以外の上記樹脂材料を含有してもよい。
ポリプロピレン層は、上記添加剤を含有してもよい。
The polypropylene layer may contain the above-mentioned resin materials other than polypropylene.
The polypropylene layer may contain the additives described above.
ポリプロピレン層は、単層構造を有してもよく、多層構造を有してもよい。ポリプロピレン層の厚さは、好ましくは10μm以上、より好ましくは15μm以上であり、また、好ましくは100μm以下、より好ましくは50μm以下であり、例えば10μm以上100μm以下である。 The polypropylene layer may have a single-layer structure or a multi-layer structure. The thickness of the polypropylene layer is preferably 10 μm or more, more preferably 15 μm or more, and is preferably 100 μm or less, more preferably 50 μm or less, for example, 10 μm or more and 100 μm or less.
表面樹脂層は、180℃以上の融点を有する樹脂材料(以下「高融点樹脂材料」ともいう)を含有する。ポリプロピレン層と無機酸化物層との間に高融点樹脂材料を含有する表面樹脂層を設けることによって、例えば、当該表面樹脂層上に形成される無機酸化物層の密着性を向上できると共に、ガスバリア性も向上できる。 The surface resin layer contains a resin material having a melting point of 180°C or higher (hereinafter also referred to as a "high melting point resin material"). By providing a surface resin layer containing a high melting point resin material between the polypropylene layer and the inorganic oxide layer, for example, it is possible to improve the adhesion of the inorganic oxide layer formed on the surface resin layer and also improve the gas barrier properties.
高融点樹脂材料の融点は、好ましくは185℃以上、より好ましくは190℃以上、さらに好ましくは205℃以上である。融点が下限値以上であると、例えば、無機酸化物層の密着性を向上でき、ガスバリア性を向上でき、また、積層体のラミネート強度を向上できる。高融点樹脂材料の融点は、好ましくは265℃以下、より好ましくは260℃以下、さらに好ましくは250℃以下である。これにより、例えば、延伸基材の製膜性を向上できる。 The melting point of the high melting point resin material is preferably 185°C or higher, more preferably 190°C or higher, and even more preferably 205°C or higher. If the melting point is equal to or higher than the lower limit, for example, the adhesion of the inorganic oxide layer can be improved, the gas barrier properties can be improved, and the laminate strength of the laminate can be improved. The melting point of the high melting point resin material is preferably 265°C or lower, more preferably 260°C or lower, and even more preferably 250°C or lower. This can improve, for example, the film-forming properties of the stretched substrate.
本明細書において、高融点樹脂材料等の融点は、JIS K7121:2012(プラスチックの転移温度測定方法)に準拠して測定する。具体的には、示差走査熱量測定(DSC)装置を用いて、10℃/分の昇温速度でDSC曲線を測定し、融点としての融解ピーク温度を求める。 In this specification, the melting point of a high melting point resin material or the like is measured in accordance with JIS K7121:2012 (Method for measuring transition temperature of plastics). Specifically, a differential scanning calorimetry (DSC) device is used to measure a DSC curve at a heating rate of 10°C/min, and the melting peak temperature is determined as the melting point.
高融点樹脂材料は、極性基を有することが好ましい。極性基とは、ヘテロ原子を1個以上含む基を指し、例えば、エステル基、エポキシ基、水酸基、アミノ基、アミド基、ウレタン基、カルボキシ基、カルボニル基、カルボン酸無水物基、スルホ基、チオール基およびハロゲン基が挙げられる。これらの中でも、水酸基、エステル基、アミノ基、アミド基、カルボキシ基およびカルボニル基が好ましく、アミド基がより好ましい。 The high melting point resin material preferably has a polar group. A polar group refers to a group containing one or more heteroatoms, and examples thereof include an ester group, an epoxy group, a hydroxyl group, an amino group, an amide group, a urethane group, a carboxyl group, a carbonyl group, a carboxylic anhydride group, a sulfo group, a thiol group, and a halogen group. Among these, the hydroxyl group, the ester group, the amino group, the amide group, the carboxyl group, and the carbonyl group are preferred, and the amide group is more preferred.
高融点樹脂材料は、融点が180℃以上であればよく、例えば、ポリオレフィン、ビニル樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、セルロース樹脂およびアイオノマー樹脂が挙げられる。例えば、融点が180℃以上であり、極性基を有する樹脂材料が好ましく、エチレン-ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ならびにナイロン6およびナイロン6,6等のポリアミドがより好ましい。 The high melting point resin material may have a melting point of 180°C or higher, and examples thereof include polyolefin, vinyl resin, acrylic resin, polyamide, polyimide, polyester, cellulose resin, and ionomer resin. For example, a resin material having a melting point of 180°C or higher and a polar group is preferred, and ethylene-vinyl alcohol copolymer, polyvinyl alcohol, polyester, and polyamides such as nylon 6 and nylon 6,6 are more preferred.
表面樹脂層における高融点樹脂材料の含有割合は、好ましくは70質量%以上、より好ましくは80質量%以上、さらに好ましくは90質量%以上である。 The content of the high melting point resin material in the surface resin layer is preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and even more preferably 90% by mass or more.
表面樹脂層は、高融点樹脂材料以外の上記樹脂材料を含有してもよい。
表面樹脂層は、上記添加剤を含有してもよい。
表面樹脂層には、上記表面処理が施されていてもよい。
The surface resin layer may contain the above-mentioned resin materials other than the high melting point resin material.
The surface resin layer may contain the above-mentioned additives.
The surface resin layer may be subjected to the above-mentioned surface treatment.
ポリプロピレン層および表面樹脂層を備える他の態様の延伸基材の総厚さに対する表面樹脂層の厚さの割合は、好ましくは1%以上、より好ましくは1.5%以上であり、また、好ましくは10%以下、より好ましくは5%以下であり、例えば1%以上10%以下である。表面樹脂層の厚さは、好ましくは0.1μm以上、より好ましくは0.2μm以上であり、また、好ましくは5μm以下、より好ましくは4μm以下であり、例えば0.1μm以上5μm以下である。上記割合または厚さが下限値以上であると、例えば、無機酸化物層の密着性を向上でき、ガスバリア性を向上でき、また、積層体のラミネート強度を向上できる。上記割合または厚さが上限値以下であると、例えば、他の態様の延伸基材の製膜性および加工性、ならびに積層体のリサイクル性を向上できる。 The ratio of the thickness of the surface resin layer to the total thickness of the stretched substrate of another embodiment having a polypropylene layer and a surface resin layer is preferably 1% or more, more preferably 1.5% or more, and also preferably 10% or less, more preferably 5% or less, for example 1% or more and 10% or less. The thickness of the surface resin layer is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.2 μm or more, and also preferably 5 μm or less, more preferably 4 μm or less, for example 0.1 μm or more and 5 μm or less. When the above ratio or thickness is equal to or greater than the lower limit, for example, the adhesion of the inorganic oxide layer can be improved, the gas barrier property can be improved, and the laminate strength of the laminate can be improved. When the above ratio or thickness is equal to or less than the upper limit, for example, the film formability and processability of the stretched substrate of another embodiment, and the recyclability of the laminate can be improved.
他の態様の延伸基材は、ポリプロピレン層と表面樹脂層との間に、接着性樹脂層を備えてもよい。これにより、これらの層間の密着性を向上できる。接着性樹脂層の厚さは、例えば、1μm以上15μm以下である。接着性樹脂層は、例えば、接着性樹脂により形成できる。接着性樹脂としては、例えば、ポリエーテル、ポリエステル、ポリウレタン、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ビニル樹脂、フェノール樹脂、ポリオレフィンおよびポリオレフィンの酸変性物が挙げられる。これらの中でも、積層体のリサイクル性という観点から、ポリオレフィンおよびその酸変性物が好ましく、ポリプロピレンおよびその酸変性物がより好ましい。 In another embodiment, the stretched substrate may have an adhesive resin layer between the polypropylene layer and the surface resin layer. This can improve the adhesion between these layers. The thickness of the adhesive resin layer is, for example, 1 μm or more and 15 μm or less. The adhesive resin layer can be formed, for example, from an adhesive resin. Examples of adhesive resins include polyether, polyester, polyurethane, silicone resin, epoxy resin, vinyl resin, phenolic resin, polyolefin, and acid-modified polyolefin. Among these, polyolefin and its acid-modified product are preferred from the viewpoint of recyclability of the laminate, and polypropylene and its acid-modified product are more preferred.
(無機酸化物層)
バリア性基材は、無機酸化物層を備える。無機酸化物層は、1種または2種以上の無機酸化物を含み、例えば無機酸化物の蒸着膜である。バリア性基材を備える積層体は、ガスバリア性、具体的には、酸素バリア性および水蒸気バリア性に優れる。このような積層体を用いて作製された包装袋は、包装袋内に充填された内容物の酸化劣化を抑えることができ、内容物の質量減少を抑えることができる。バリア性基材は、例えば、表面コート層上に無機酸化物層を備えてもよく、表面樹脂層上に無機酸化物層を備えてもよい。
(Inorganic oxide layer)
The barrier substrate comprises an inorganic oxide layer. The inorganic oxide layer contains one or more inorganic oxides, for example, a vapor-deposited film of an inorganic oxide. A laminate comprising the barrier substrate has excellent gas barrier properties, specifically, oxygen barrier properties and water vapor barrier properties. A packaging bag produced using such a laminate can suppress oxidation deterioration of the contents filled in the packaging bag, and suppress the mass loss of the contents. The barrier substrate may, for example, comprise an inorganic oxide layer on a surface coat layer, or may comprise an inorganic oxide layer on a surface resin layer.
無機酸化物としては、例えば、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化ケイ素(シリカ)、酸化マグシウム、酸化カルシウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ホウ素、酸化ハフニウム、酸化バリウムおよび酸化炭化ケイ素(炭素含有酸化ケイ素)が挙げられる。これらの中でも、シリカ、酸化炭化ケイ素およびアルミナが好ましい。 Examples of inorganic oxides include aluminum oxide (alumina), silicon oxide (silica), magnesium oxide, calcium oxide, zirconium oxide, titanium oxide, boron oxide, hafnium oxide, barium oxide, and silicon carbide oxide (carbon-containing silicon oxide). Among these, silica, silicon carbide oxide, and alumina are preferred.
一実施形態において、無機酸化物層形成後のエージング処理が必要ないため、無機酸化物としては、シリカがより好ましい。一実施形態において、積層体を屈曲させてもガスバリア性の低下を抑制できることから、無機酸化物としては、炭素含有酸化ケイ素がより好ましい。 In one embodiment, silica is more preferable as the inorganic oxide because no aging treatment is required after the formation of the inorganic oxide layer. In one embodiment, carbon-containing silicon oxide is more preferable as the inorganic oxide because it can suppress the deterioration of the gas barrier property even when the laminate is bent.
無機酸化物層の厚さは、好ましくは1nm以上、より好ましくは5nm以上、さらに好ましくは10nm以上であり、また、好ましくは150nm以下、より好ましくは60nm以下、さらに好ましくは40nm以下であり、例えば1nm以上150nm以下である。厚さが下限値以上の無機酸化物層を備える積層体は、例えば、酸素バリア性および水蒸気バリア性に優れる。厚さが上限値以下の無機酸化物層を備える積層体は、例えば、無機酸化物層におけるクラックの発生を抑制でき、また、リサイクル性に優れる。 The thickness of the inorganic oxide layer is preferably 1 nm or more, more preferably 5 nm or more, even more preferably 10 nm or more, and is preferably 150 nm or less, more preferably 60 nm or less, even more preferably 40 nm or less, for example, 1 nm or more and 150 nm or less. A laminate having an inorganic oxide layer whose thickness is equal to or greater than the lower limit has, for example, excellent oxygen barrier properties and water vapor barrier properties. A laminate having an inorganic oxide layer whose thickness is equal to or less than the upper limit can, for example, suppress the occurrence of cracks in the inorganic oxide layer and has excellent recyclability.
無機酸化物層の表面には、上記表面処理が施されていてもよい。 The surface of the inorganic oxide layer may be subjected to the above-mentioned surface treatment.
無機酸化物層、特に無機酸化物蒸着膜の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法およびイオンプレーティング法などの物理気相成長法(Physical Vapor Deposition法、PVD法)、ならびにプラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法および光化学気相成長法などの化学気相成長法(Chemical Vapor Deposition法、CVD法)が挙げられる。 Methods for forming inorganic oxide layers, particularly inorganic oxide vapor deposition films, include, for example, physical vapor deposition methods (PVD methods) such as vacuum deposition, sputtering, and ion plating, as well as chemical vapor deposition methods (CVD methods) such as plasma chemical vapor deposition, thermal chemical vapor deposition, and photochemical vapor deposition.
無機酸化物層は、1回の蒸着工程により形成される単層でもよく、複数回の蒸着工程により形成される多層でもよい。無機酸化物層が多層である場合、各層は同一の無機酸化物から構成されてもよく、異なる無機酸化物から構成されてもよい。各層は、同一の方法により形成してもよく、異なる方法により形成してもよい。 The inorganic oxide layer may be a single layer formed by one deposition process, or may be a multilayer formed by multiple deposition processes. When the inorganic oxide layer is a multilayer, each layer may be composed of the same inorganic oxide or different inorganic oxides. Each layer may be formed by the same method or different methods.
無機酸化物層は、CVD法により形成された蒸着膜であることが好ましく、CVD法により形成された炭素含有酸化ケイ素蒸着膜であることがより好ましい。このような無機酸化物層を備える積層体は、例えば、耐屈曲性に優れる。 The inorganic oxide layer is preferably a vapor deposition film formed by a CVD method, and more preferably a carbon-containing silicon oxide vapor deposition film formed by a CVD method. A laminate including such an inorganic oxide layer has, for example, excellent bending resistance.
炭素含有酸化ケイ素蒸着膜は、ケイ素、酸素および炭素を含む。
炭素含有酸化ケイ素蒸着膜の一実施形態において、炭素の割合Cは、ケイ素、酸素および炭素の3元素の合計100%に対して、好ましくは3%以上、より好ましくは5%以上、さらに好ましくは10%以上であり、また、好ましくは50%以下、より好ましくは40%以下、さらに好ましくは35%以下であり、例えば3%以上50%以下である。炭素の割合Cを上記範囲とすることにより、例えば、積層体を屈曲させてもガスバリア性の低下を抑制できる。
本明細書において、各元素の割合は、モル基準である。
The carbon-containing silicon oxide vapor deposition film contains silicon, oxygen and carbon.
In one embodiment of the carbon-containing silicon oxide vapor-deposited film, the carbon ratio C is preferably 3% or more, more preferably 5% or more, even more preferably 10% or more, and is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, even more preferably 35% or less, for example, 3% or more and 50% or less, relative to 100% in total of the three elements silicon, oxygen, and carbon. By setting the carbon ratio C in the above range, for example, even if the laminate is bent, the deterioration of the gas barrier property can be suppressed.
In this specification, the ratio of each element is on a molar basis.
炭素含有酸化ケイ素蒸着膜の一実施形態において、ケイ素の割合Siは、ケイ素、酸素および炭素の3元素の合計100%に対して、好ましくは1%以上、より好ましくは3%以上、さらに好ましくは8%以上であり、また、好ましくは45%以下、より好ましくは38%以下、さらに好ましくは33%以下であり、例えば1%以上45%以下である。酸素の割合Oは、ケイ素、酸素および炭素の3元素の合計100%に対して、好ましくは10%以上、より好ましくは20%以上、さらに好ましくは25%以上であり、また、好ましくは70%以下、より好ましくは65%以下、さらに好ましくは60%以下であり、例えば10%以上70%以下である。ケイ素の割合Siおよび酸素の割合Oを上記範囲とすることにより、例えば、積層体を屈曲させてもガスバリア性の低下をより抑制できる。 In one embodiment of the carbon-containing silicon oxide vapor deposition film, the silicon ratio Si is preferably 1% or more, more preferably 3% or more, and even more preferably 8% or more, and is preferably 45% or less, more preferably 38% or less, and even more preferably 33% or less, for example, 1% or more and 45% or less, relative to 100% of the total of the three elements silicon, oxygen, and carbon. The oxygen ratio O is preferably 10% or more, more preferably 20% or more, and even more preferably 25% or more, and is preferably 70% or less, more preferably 65% or less, and even more preferably 60% or less, for example, 10% or more and 70% or less, relative to 100% of the total of the three elements silicon, oxygen, and carbon. By setting the silicon ratio Si and the oxygen ratio O in the above ranges, for example, the deterioration of the gas barrier property can be further suppressed even when the laminate is bent.
炭素含有酸化ケイ素蒸着膜の一実施形態において、酸素の割合Oは、炭素の割合Cよりも高いことが好ましく、ケイ素の割合Siは、炭素の割合Cよりも低いことが好ましい。酸素の割合Oは、ケイ素の割合Siよりも高いことが好ましい、すなわち、各割合は、割合O、割合C、割合Siの順に低くなることが好ましい。これにより、例えば、積層体を屈曲させてもガスバリア性の低下をより抑制できる。 In one embodiment of the carbon-containing silicon oxide vapor deposition film, the oxygen ratio O is preferably higher than the carbon ratio C, and the silicon ratio Si is preferably lower than the carbon ratio C. The oxygen ratio O is preferably higher than the silicon ratio Si, that is, the ratios are preferably in the order of O, C, and Si. This makes it possible to further suppress the deterioration of the gas barrier properties, for example, even when the laminate is bent.
炭素含有酸化ケイ素蒸着膜における割合C、割合Siおよび割合Oは、X線光電子分光法(XPS)により、以下の測定条件のナロースキャン分析によって測定する。 The C, Si, and O proportions in the carbon-containing silicon oxide vapor deposition film are measured by narrow scan analysis using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) under the following measurement conditions:
(測定条件)
使用機器:「ESCA-3400」(Kratos製)
[1]スペクトル採取条件
入射X線:MgKα(単色化X線、hν=1253.6eV)
X線出力:150W(10kV・15mA)
X線走査面積(測定領域):約6mmφ
光電子取込角度:90度
[2]イオンスパッタ条件
イオン種:Ar+
加速電圧:0.2(kV)
エミッション電流:20(mA)
etch範囲:10mmφ
イオンスパッタ時間:30秒で実施し、スペクトルを採取
(Measurement conditions)
Equipment used: “ESCA-3400” (manufactured by Kratos)
[1] Spectrum collection conditions Incident X-ray: MgKα (monochromatic X-ray, hν = 1253.6 eV)
X-ray output: 150W (10kV/15mA)
X-ray scanning area (measurement area): Approximately 6 mm diameter
Photoelectron capture angle: 90 degrees [2] Ion sputtering conditions Ion species: Ar +
Acceleration voltage: 0.2 (kV)
Emission current: 20 (mA)
Etch range: 10mmφ
Ion sputtering time: 30 seconds, spectrum collected
(被覆層)
バリア性基材は、無機酸化物層上に、被覆層をさらに備えてもよい。すなわち、バリア性基材は、無機酸化物層におけるポリプロピレン延伸基材に向かう面とは反対の面上に、被覆層をさらに備えてもよい。このようなバリア性基材を備える積層体は、例えば、酸素バリア性および水蒸気バリア性に優れる。
(Covering layer)
The barrier substrate may further include a coating layer on the inorganic oxide layer. That is, the barrier substrate may further include a coating layer on the surface of the inorganic oxide layer opposite to the surface facing the stretched polypropylene substrate. A laminate including such a barrier substrate has, for example, excellent oxygen barrier properties and water vapor barrier properties.
被覆層は、一実施形態において、樹脂成分を含有する。樹脂成分としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテンおよびポリメチルペンテン等のポリオレフィン、ビニル樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル、ウレタン樹脂、メラミン樹脂ならびにエポキシ樹脂が挙げられる。被覆層における樹脂成分の含有割合は、好ましくは50質量%超、より好ましくは75質量%以上であり、また、好ましくは95質量%以下、より好ましくは90質量%以下であり、例えば50質量%超95質量%以下である。
被覆層は、上記添加剤を含有してもよい。
In one embodiment, the coating layer contains a resin component. Examples of the resin component include polyolefins such as polyethylene, polypropylene, polybutene, and polymethylpentene, vinyl resins, acrylic resins, polyesters, urethane resins, melamine resins, and epoxy resins. The content of the resin component in the coating layer is preferably more than 50% by mass, more preferably 75% by mass or more, and is preferably 95% by mass or less, more preferably 90% by mass or less, for example, more than 50% by mass and 95% by mass or less.
The coating layer may contain the above-mentioned additives.
被覆層の厚さは、好ましくは0.01μm以上、より好ましくは0.05μm以上、さらに好ましくは0.1μm以上であり、また、好ましくは5μm以下、より好ましくは3μm以下、さらに好ましくは1μm以下であり、例えば0.01μm以上5μm以下である。このような被覆層は、例えば、耐傷性に優れる。 The thickness of the coating layer is preferably 0.01 μm or more, more preferably 0.05 μm or more, even more preferably 0.1 μm or more, and is preferably 5 μm or less, more preferably 3 μm or less, even more preferably 1 μm or less, for example, 0.01 μm or more and 5 μm or less. Such a coating layer has, for example, excellent scratch resistance.
被覆層は、例えば、無機酸化物層の表面に被覆層用塗工液を塗布し、乾燥することにより形成できる。被覆層用塗工液は、例えば、上述した樹脂成分と、必要に応じて添加剤と、溶剤と、を混合することにより調製できる。これらの成分の詳細は、上述したとおりである。被覆層用塗工液の塗布方法としては、公知の塗布方法が挙げられる。塗布された被覆層用塗工液の乾燥方法としては、例えば、熱風乾燥、熱ロール乾燥および赤外線照射などの熱を印加する方法が挙げられる。乾燥温度は、50℃以上でもよく、また、150℃以下でもよい。 The coating layer can be formed, for example, by applying a coating liquid for the coating layer to the surface of the inorganic oxide layer and drying it. The coating liquid for the coating layer can be prepared, for example, by mixing the above-mentioned resin component and, if necessary, additives and a solvent. Details of these components are as described above. Methods for applying the coating liquid for the coating layer include known coating methods. Methods for drying the applied coating liquid for the coating layer include, for example, hot air drying, hot roll drying, and methods that apply heat such as infrared irradiation. The drying temperature may be 50°C or higher, or 150°C or lower.
被覆層は、一実施形態において、ガスバリア性樹脂を含有するバリアコート層でもよい。ガスバリア性樹脂としては、例えば、エチレン-ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール、ポリアクリロニトリル、ポリエステル、ナイロン6、ナイロン6,6およびポリメタキシリレンアジパミドなどのポリアミド、ポリウレタン、ならびにアクリル樹脂が挙げられる。バリアコート層におけるガスバリア性樹脂の含有割合は、好ましくは50質量%以上、より好ましくは60質量%以上、さらに好ましくは70質量%以上である。このようなバリアコート層は、例えば、ガスバリア性に優れる。
バリアコート層は、上記添加剤を含有してもよい。
In one embodiment, the coating layer may be a barrier coat layer containing a gas barrier resin. Examples of the gas barrier resin include ethylene-vinyl alcohol copolymer, polyvinyl alcohol, polyacrylonitrile, polyester, polyamides such as nylon 6, nylon 6,6, and polymetaxylylene adipamide, polyurethane, and acrylic resin. The content of the gas barrier resin in the barrier coat layer is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, and even more preferably 70% by mass or more. Such a barrier coat layer has, for example, excellent gas barrier properties.
The barrier coat layer may contain the above-mentioned additives.
ガスバリア性樹脂を含有するバリアコート層の厚さは、好ましくは0.01μm以上、より好ましくは0.1μm以上であり、また、好ましくは10μm以下、より好ましくは5μm以下であり、例えば0.01μm以上10μm以下である。厚さが下限値以上のバリアコート層を備えるバリア性基材は、例えば、ガスバリア性に優れる。厚さが上限値以下のバリアコート層を備えるバリア性基材は、例えば、積層体の加工性およびリサイクル性を向上できる。 The thickness of the barrier coat layer containing the gas barrier resin is preferably 0.01 μm or more, more preferably 0.1 μm or more, and also preferably 10 μm or less, more preferably 5 μm or less, for example, 0.01 μm or more and 10 μm or less. A barrier substrate having a barrier coat layer whose thickness is equal to or greater than the lower limit has, for example, excellent gas barrier properties. A barrier substrate having a barrier coat layer whose thickness is equal to or less than the upper limit can improve, for example, the processability and recyclability of the laminate.
バリアコート層は、例えば、ガスバリア性樹脂等の材料を水または適当な有機溶剤に溶解または分散させ、得られた塗布液を無機酸化物層の表面に塗布し、乾燥することにより形成できる。バリアコート層は、例えば、市販のバリアコート剤を塗布し、乾燥することによっても形成できる。 The barrier coat layer can be formed, for example, by dissolving or dispersing a material such as a gas barrier resin in water or an appropriate organic solvent, applying the resulting coating liquid to the surface of the inorganic oxide layer, and drying it. The barrier coat layer can also be formed, for example, by applying a commercially available barrier coating agent and drying it.
被覆層は、一実施形態において、金属アルコキシドと水溶性高分子とを含有する組成物を、ゾルゲル法触媒、水および有機溶剤等の存在下で、ゾルゲル法によって重縮合処理して形成されたガスバリア性塗布膜でもよい。無機酸化物層上にガスバリア性塗布膜を備えるバリア性基材は、例えば、ガスバリア性に優れる。ガスバリア性塗布膜は、上記金属アルコキシド等がゾルゲル法によって加水分解および重縮合された加水分解重縮合物を含む。このようなガスバリア性塗布膜を無機酸化物層上に設けることにより、例えば、無機酸化物層におけるクラックの発生を効果的に抑制できる。 In one embodiment, the coating layer may be a gas barrier coating film formed by polycondensing a composition containing a metal alkoxide and a water-soluble polymer by a sol-gel method in the presence of a sol-gel catalyst, water, an organic solvent, and the like. A barrier substrate having a gas barrier coating film on an inorganic oxide layer has, for example, excellent gas barrier properties. The gas barrier coating film contains a hydrolysis polycondensate obtained by hydrolyzing and polycondensing the above-mentioned metal alkoxide, etc. by a sol-gel method. By providing such a gas barrier coating film on an inorganic oxide layer, for example, the occurrence of cracks in the inorganic oxide layer can be effectively suppressed.
金属アルコキシドは、例えば、式(1)で表される。
R1
nM(OR2)m (1)
式(1)中、R1およびR2は、それぞれ独立に炭素数1以上8以下の有機基を表し、Mは金属原子を表し、nは0以上の整数を表し、mは1以上の整数を表し、n+mはMの原子価を表す。R1およびR2における有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、n-ヘキシル基およびn-オクチル基等の炭素数1以上8以下のアルキル基が挙げられる。金属原子Mは、例えば、ケイ素、ジルコニウム、チタンまたはアルミニウムである。金属アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシランおよびテトラブトキシシラン等のアルコキシシランが挙げられる。
The metal alkoxide is represented, for example, by the formula (1).
R 1 n M(OR 2 ) m (1)
In formula (1), R 1 and R 2 each independently represent an organic group having 1 to 8 carbon atoms, M represents a metal atom, n represents an integer of 0 or more, m represents an integer of 1 or more, and n+m represents the atomic valence of M. Examples of the organic group in R 1 and R 2 include alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a t-butyl group, an n-hexyl group, and an n-octyl group. The metal atom M is, for example, silicon, zirconium, titanium, or aluminum. Examples of the metal alkoxide include alkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, and tetrabutoxysilane.
水溶性高分子としては、例えば、ポリビニルアルコールおよびエチレン-ビニルアルコール共重合体等の水酸基含有高分子が挙げられる。酸素バリア性、水蒸気バリア性、耐水性および耐候性などの所望の物性に応じて、ポリビニルアルコールおよびエチレン-ビニルアルコール共重合体のいずれか一方を用いてもよく、両者を併用してもよく、また、ポリビニルアルコールを用いて得られるガスバリア性塗布膜およびエチレン-ビニルアルコール共重合体を用いて得られるガスバリア性塗布膜を積層してもよい。水溶性高分子の使用量は、金属アルコキシド100質量部に対して、好ましくは3質量部以上、より好ましくは5質量部以上であり、また、好ましくは500質量部以下である。 Examples of water-soluble polymers include hydroxyl group-containing polymers such as polyvinyl alcohol and ethylene-vinyl alcohol copolymers. Depending on the desired physical properties such as oxygen barrier properties, water vapor barrier properties, water resistance, and weather resistance, either polyvinyl alcohol or ethylene-vinyl alcohol copolymer may be used, or both may be used in combination. Also, a gas barrier coating film obtained using polyvinyl alcohol and a gas barrier coating film obtained using ethylene-vinyl alcohol copolymer may be laminated. The amount of water-soluble polymer used is preferably 3 parts by mass or more, more preferably 5 parts by mass or more, and preferably 500 parts by mass or less, per 100 parts by mass of metal alkoxide.
金属アルコキシドと共に、シランカップリング剤を用いてもよい。シランカップリング剤としては、既知の有機反応性基含有オルガノアルコキシシランを用いることができ、エポキシ基を有するオルガノアルコキシシランが好ましく、例えば、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランおよびβ-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランが挙げられる。シランカップリング剤の使用量は、金属アルコキシド100質量部に対して、好ましくは1質量部以上20質量部以下である。 A silane coupling agent may be used together with the metal alkoxide. As the silane coupling agent, a known organoalkoxysilane containing an organic reactive group can be used, and organoalkoxysilanes having an epoxy group are preferred, such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane. The amount of the silane coupling agent used is preferably 1 part by mass or more and 20 parts by mass or less per 100 parts by mass of the metal alkoxide.
ガスバリア性組成物は、金属アルコキシド1モルに対して、好ましくは0.1モル以上、より好ましくは0.5モル以上の、また、好ましくは100モル以下、より好ましくは60モル以下の割合の水を含んでもよい。水の含有量を下限値以上とすることにより、例えば、積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上できる。水の含有量を上限値以下とすることにより、例えば、加水分解反応を速やかに行うことができる。 The gas barrier composition may contain water in a ratio of preferably 0.1 mol or more, more preferably 0.5 mol or more, and preferably 100 mol or less, more preferably 60 mol or less, per mol of metal alkoxide. By setting the water content to the lower limit or more, for example, the oxygen barrier property and water vapor barrier property of the laminate can be improved. By setting the water content to the upper limit or less, for example, the hydrolysis reaction can be carried out quickly.
ガスバリア性組成物は、有機溶剤を含有してもよい。有機溶剤としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、n-プロピルアルコール、イソプロピルアルコールおよびn-ブチルアルコールが挙げられる。 The gas barrier composition may contain an organic solvent. Examples of organic solvents include methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, and n-butyl alcohol.
ゾルゲル法触媒としては、酸またはアミン系化合物が好ましい。
酸としては、例えば、硫酸、塩酸および硝酸等の鉱酸;ならびに酢酸および酒石酸等の有機酸が挙げられる。酸の使用量は、金属アルコキシドおよびシランカップリング剤のアルコキシド分(例えばシリケート部分)の総モル量1モルに対して、好ましくは0.001モル以上0.05モル以下である。
The sol-gel process catalyst is preferably an acid or an amine compound.
Examples of the acid include mineral acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid, and nitric acid; and organic acids such as acetic acid and tartaric acid. The amount of the acid used is preferably 0.001 mol or more and 0.05 mol or less per 1 mol of the total molar amount of the metal alkoxide and the alkoxide portion (e.g., silicate portion) of the silane coupling agent.
アミン系化合物としては、水に実質的に不溶であり、且つ有機溶剤に可溶な第3級アミンが好適であり、例えば、N,N-ジメチルベンジルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミンおよびトリペンチルアミンが挙げられる。アミン系化合物の使用量は、金属アルコキシドとシランカップリング剤との合計量100質量部に対して、好ましくは0.01質量部以上、より好ましくは0.03質量部以上であり、また、好ましくは1.0質量部以下、より好ましくは0.3質量部以下である。 As the amine compound, a tertiary amine that is substantially insoluble in water and soluble in an organic solvent is suitable, such as N,N-dimethylbenzylamine, tripropylamine, tributylamine, and tripentylamine. The amount of the amine compound used is preferably 0.01 part by mass or more, more preferably 0.03 part by mass or more, and preferably 1.0 part by mass or less, more preferably 0.3 part by mass or less, per 100 parts by mass of the total amount of the metal alkoxide and the silane coupling agent.
ガスバリア性組成物を塗布する方法としては、例えば、グラビアロールコーター等のロールコート、スプレーコート、スピンコート、ディッピング、刷毛、バーコートおよびアプリケータ等の塗布手段が挙げられる。 Methods for applying the gas barrier composition include, for example, application means such as roll coating using a gravure roll coater, spray coating, spin coating, dipping, brush coating, bar coating, and applicator.
以下、ガスバリア性塗布膜の形成方法の一実施形態について説明する。
金属アルコキシド、水溶性高分子、ゾルゲル法触媒、水、有機溶剤、および必要に応じてシランカップリング剤等を混合して、ガスバリア性組成物を調製する。組成物中では、次第に重縮合反応が進行する。無機酸化物層上に、常法により、上記組成物を塗布し乾燥する。この乾燥により、金属アルコキシドおよび水溶性高分子(組成物がシランカップリング剤を含む場合は、シランカップリング剤も)の重縮合がさらに進行し、複合ポリマーの層が形成される。上記操作を繰り返して、複数の複合ポリマー層を積層してもよい。例えば、塗布された上記組成物を好ましくは20℃以上、より好ましくは50℃以上、さらに好ましくは70℃以上の温度で、また、好ましくは150℃以下、より好ましくは120℃以下、さらに好ましくは100℃以下の温度で、1秒以上10分以下加熱する。これにより、ガスバリア性塗布膜を形成できる。
Hereinafter, one embodiment of the method for forming a gas barrier coating film will be described.
A gas barrier composition is prepared by mixing a metal alkoxide, a water-soluble polymer, a sol-gel catalyst, water, an organic solvent, and, if necessary, a silane coupling agent. In the composition, a polycondensation reaction gradually proceeds. The composition is applied on an inorganic oxide layer by a conventional method and dried. This drying causes the polycondensation of the metal alkoxide and the water-soluble polymer (and the silane coupling agent if the composition contains a silane coupling agent) to proceed further, forming a composite polymer layer. The above operation may be repeated to laminate a plurality of composite polymer layers. For example, the applied composition is heated at a temperature of preferably 20° C. or higher, more preferably 50° C. or higher, and even more preferably 70° C. or higher, and also at a temperature of preferably 150° C. or lower, more preferably 120° C. or lower, and even more preferably 100° C. or lower for 1 second to 10 minutes. This allows the formation of a gas barrier coating film.
ガスバリア性塗布膜の厚さは、好ましくは0.01μm以上、より好ましくは0.1μm以上であり、また、好ましくは2μm以下、より好ましくは1μm以下、さらに好ましくは0.5μm以下であり、例えば0.01μm以上2μm以下である。これにより、例えば、ガスバリア性を向上でき、無機酸化物層におけるクラックの発生を抑制でき、また、包装袋のリサイクル性を向上できる。 The thickness of the gas barrier coating film is preferably 0.01 μm or more, more preferably 0.1 μm or more, and is preferably 2 μm or less, more preferably 1 μm or less, and even more preferably 0.5 μm or less, for example, 0.01 μm or more and 2 μm or less. This can improve the gas barrier properties, suppress the occurrence of cracks in the inorganic oxide layer, and improve the recyclability of the packaging bag, for example.
<印刷層>
本開示の積層体は、第1の基材および第2の基材などの基材の表面に印刷層を備えてもよい。印刷層に形成される画像は、特に限定されず、文字、柄、記号およびこれらの組み合わせなどが表される。印刷層形成は、バイオマス由来のインキを用いて行うこともできる。これにより、環境負荷をより低減できる。
<Printed layer>
The laminate of the present disclosure may include a printed layer on the surface of a substrate such as a first substrate and a second substrate. The image formed on the printed layer is not particularly limited, and may be a character, a pattern, a symbol, or a combination thereof. The printed layer may be formed using an ink derived from biomass. This can further reduce the environmental load.
印刷層の形成方法としては、例えば、グラビア印刷法、オフセット印刷法およびフレキソ印刷法などの従来公知の印刷法が挙げられる。これらの中でも、環境負荷低減という観点から、フレキソ印刷法が好ましい。
印刷層の厚さは、例えば0.5μm以上3μm以下である。
Examples of methods for forming the printed layer include conventionally known printing methods such as gravure printing, offset printing, and flexographic printing. Among these, flexographic printing is preferred from the viewpoint of reducing the environmental load.
The thickness of the printing layer is, for example, not less than 0.5 μm and not more than 3 μm.
<シーラント層>
本開示の積層体は、シーラント層を備える。
シーラント層は、ポリプロピレンを主成分として含有する。シーラント層は、ポリプロピレン延伸基材と同種の樹脂材料、すなわち、ポリプロピレンを主成分として含有する。これにより、積層体のモノマテリアル化を図ることができる。すなわち使用済みの包装袋を回収した後、基材とシーラント層とを分離する必要がなく、包装袋のリサイクル性を向上できる。
<Sealant Layer>
The laminate of the present disclosure includes a sealant layer.
The sealant layer contains polypropylene as a main component. The sealant layer contains the same type of resin material as the oriented polypropylene substrate, i.e., polypropylene as a main component. This allows the laminate to be made into a mono-material. In other words, after collecting used packaging bags, there is no need to separate the substrate and the sealant layer, improving the recyclability of the packaging bags.
シーラント層におけるポリプロピレンの含有割合は、好ましくは50質量%超、より好ましくは60質量%以上、さらに好ましくは70質量%以上、よりさらに好ましくは80質量%以上、特に好ましくは85質量%以上、90質量%以上または95質量%以上である。このようなシーラント層を備える積層体は、例えば、リサイクル性に優れる。 The polypropylene content in the sealant layer is preferably more than 50% by mass, more preferably 60% by mass or more, even more preferably 70% by mass or more, even more preferably 80% by mass or more, and particularly preferably 85% by mass or more, 90% by mass or more, or 95% by mass or more. A laminate having such a sealant layer has, for example, excellent recyclability.
ポリプロピレンとしては、例えば、プロピレンホモポリマー、プロピレン-α-オレフィンランダム共重合体等のプロピレンランダムコポリマー、およびプロピレン-α-オレフィンブロック共重合体等のプロピレンブロックコポリマーが挙げられる。α-オレフィンの詳細は、上述したとおりである。ヒートシール性という観点から、ポリプロピレンの密度は、例えば0.88g/cm3以上0.92g/cm3以下である。密度は、JIS K7112:1999のD法(密度勾配管法、23℃)に準拠して測定される。環境負荷低減という観点から、バイオマス由来のポリプロピレンおよび/またはリサイクルされたポリプロピレンを用いてもよい。
シーラント層は、上記添加剤を含有してもよい。
Examples of polypropylene include propylene homopolymers, propylene random copolymers such as propylene-α-olefin random copolymers, and propylene block copolymers such as propylene-α-olefin block copolymers. Details of the α-olefins are as described above. From the viewpoint of heat sealability, the density of the polypropylene is, for example, 0.88 g/cm 3 or more and 0.92 g/cm 3 or less. The density is measured in accordance with JIS K7112:1999 D method (density gradient tube method, 23° C.). From the viewpoint of reducing the environmental load, biomass-derived polypropylene and/or recycled polypropylene may be used.
The sealant layer may contain the above-mentioned additives.
シーラント層は、単層構造を有してもよく、多層構造を有してもよい。
シーラント層の厚さは、好ましくは10μm以上、より好ましくは20μm以上であり、また、好ましくは200μm以下、より好ましくは150μm以下であり、例えば10μm以上200μm以下である。厚さが下限値以上のシーラント層を備える積層体は、例えば、シール強度に優れる。厚さが上限値以下のシーラント層を備える積層体は、例えば、加工性に優れる。積層体からパウチ(特にレトルトパウチ)を作製する場合は、シーラント層の厚さは、好ましくは30μm以上であり、また、好ましくは100μm以下である。
The sealant layer may have a single-layer structure or a multi-layer structure.
The thickness of the sealant layer is preferably 10 μm or more, more preferably 20 μm or more, and also preferably 200 μm or less, more preferably 150 μm or less, for example 10 μm or more and 200 μm or less. A laminate having a sealant layer whose thickness is equal to or greater than the lower limit has, for example, excellent seal strength. A laminate having a sealant layer whose thickness is equal to or less than the upper limit has, for example, excellent processability. When a pouch (particularly a retort pouch) is produced from the laminate, the thickness of the sealant layer is preferably 30 μm or more, and also preferably 100 μm or less.
シーラント層は、ヒートシール性という観点から、好ましくは未延伸のポリプロピレンフィルムであり、未延伸のポリプロピレンフィルムは、例えば、キャスト法、Tダイ法またはインフレーション法などを利用することにより作製できる。
シーラント層には、上記表面処理が施されていてもよい。
From the viewpoint of heat sealability, the sealant layer is preferably an unstretched polypropylene film, and the unstretched polypropylene film can be produced by utilizing, for example, a cast method, a T-die method, an inflation method, or the like.
The sealant layer may be subjected to the above-mentioned surface treatment.
<接着剤層>
本開示の積層体は、第1の基材と第2の基材との間に、第1の接着剤層を備える。本開示の積層体は、第2の基材とシーラント層との間に、第2の接着剤層を備える。このような積層体は、例えば、第1の基材/第2の基材間、および第2の基材/シーラント層間のラミネート強度に優れる。
<Adhesive Layer>
The laminate of the present disclosure includes a first adhesive layer between a first substrate and a second substrate. The laminate of the present disclosure includes a second adhesive layer between the second substrate and a sealant layer. Such a laminate has, for example, excellent lamination strength between the first substrate and the second substrate and between the second substrate and the sealant layer.
(第2の接着剤層)
第2の接着剤層の断面について、原子間力顕微鏡(AFM)を用いて測定される弾性率は、30.0MPa以上であり、好ましくは33.0MPa以上、より好ましくは35.0MPa以上である。弾性率が下限値以上であり、かつ厚さが2.5μm以下の第2の接着剤層を備える積層体を用いて作製される包装袋は、耐衝撃性、したがって耐落下破袋性に優れるとともに、引裂き性、したがって開封性に優れる傾向にある。また、該包装袋は、例えば、リサイクル性に優れる。
(Second Adhesive Layer)
The elastic modulus measured by atomic force microscope (AFM) for the cross section of the second adhesive layer is 30.0 MPa or more, preferably 33.0 MPa or more, more preferably 35.0 MPa or more. A packaging bag made using a laminate having a second adhesive layer with an elastic modulus of the lower limit or more and a thickness of 2.5 μm or less tends to have excellent impact resistance, and therefore excellent drop-break resistance, as well as excellent tearability, and therefore excellent openability. In addition, the packaging bag is, for example, excellent in recyclability.
第2の接着剤層の断面について、AFMを用いて測定される弾性率は、好ましくは120MPa以下、より好ましくは110MPa以下、さらに好ましくは100MPa以下、よりさらに好ましくは90.0MPa以下、特に好ましくは80.0MPa以下、70.0MPa以下、60.0MPa以下または50.0MPa以下である。弾性率が上限値以下の第2の接着剤層を備える積層体は、ラミネート強度に優れる傾向にある。
第2の接着剤層の上記弾性率は、例えば30.0MPa以上120MPa以下である。
AFMによる上記弾性率の測定条件の詳細は、実施例欄に記載する。
The elastic modulus measured by AFM for the cross section of the second adhesive layer is preferably 120 MPa or less, more preferably 110 MPa or less, even more preferably 100 MPa or less, still more preferably 90.0 MPa or less, particularly preferably 80.0 MPa or less, 70.0 MPa or less, 60.0 MPa or less, or 50.0 MPa or less. A laminate having a second adhesive layer with an elastic modulus of less than the upper limit tends to have excellent laminate strength.
The elastic modulus of the second adhesive layer is, for example, not less than 30.0 MPa and not more than 120 MPa.
Details of the conditions for measuring the elastic modulus by AFM are described in the Examples section.
上記弾性率を有する第2の接着剤層は、例えば、後述する無溶剤型接着剤を用い、また、それぞれ後述する主剤に含まれる重合体成分の種類および分子量、硬化剤の種類、モル比(NCO/OH)、エージング条件を適宜変更することにより形成することができる。 The second adhesive layer having the above elastic modulus can be formed, for example, by using a solvent-free adhesive as described below, and by appropriately changing the type and molecular weight of the polymer component contained in the base agent, the type of curing agent, the molar ratio (NCO/OH), and the aging conditions, as described below.
第2の接着剤層の断面について、サーマルプローブを用いた局所熱分析で測定される軟化点は、好ましくは200℃以上、より好ましくは205℃以上、さらに好ましくは210℃以上、よりさらに好ましくは215℃以上、特に好ましくは220℃以上または225℃以上である。軟化点が下限値以上の第2の接着剤層を備える積層体を用いて作製される包装袋は、耐熱性に優れ、例えばレトルト処理などの熱処理後においてもガスバリア性、外観およびラミネート強度に優れる傾向にある。したがって、このような包装袋は、耐落下破袋性と熱処理後のガスバリア性とを両立できる。 The softening point of the cross section of the second adhesive layer measured by local thermal analysis using a thermal probe is preferably 200°C or higher, more preferably 205°C or higher, even more preferably 210°C or higher, even more preferably 215°C or higher, and particularly preferably 220°C or higher or 225°C or higher. A packaging bag made using a laminate having a second adhesive layer with a softening point equal to or higher than the lower limit has excellent heat resistance, and tends to have excellent gas barrier properties, appearance, and laminate strength even after heat treatment such as retort treatment. Therefore, such a packaging bag can achieve both drop-breakage resistance and gas barrier properties after heat treatment.
第2の接着剤層の断面について、サーマルプローブを用いた局所熱分析で測定される軟化点は、例えば330℃以下でもよく、320℃以下でもよく、310℃以下でもよく、300℃以下でもよく、290℃以下でもよく、280℃以下でもよく、270℃以下でもよく、260℃以下でもよい。
第2の接着剤層の上記軟化点は、例えば200℃以上330℃以下である。
The softening point of a cross section of the second adhesive layer measured by local thermal analysis using a thermal probe may be, for example, 330°C or less, 320°C or less, 310°C or less, 300°C or less, 290°C or less, 280°C or less, 270°C or less, or 260°C or less.
The softening point of the second adhesive layer is, for example, 200° C. or higher and 330° C. or lower.
接着剤層の軟化点は、サーマルプローブを用いた局所熱分析で測定される値である。サーマルプローブを用いた局所熱分析では、接着剤層の断面にサーマルプローブを接触させた状態で、温度を上昇させながらサーマルプローブの加熱前からの接着剤層断面の法線方向の変位を計測し、熱膨張曲線を得る。上記断面は、積層体の主面に対して垂直となる厚さ方向に切断して得られる。サーマルプローブが接触する箇所は、接着剤層の断面が露出した部分のうち、接着剤層の厚さ方向における中央部付近とする。測定は同一断面において5箇所以上で実施し、軟化点は再現良く測定された5箇所の値の算術平均値として記載する。 The softening point of the adhesive layer is a value measured by local thermal analysis using a thermal probe. In local thermal analysis using a thermal probe, the thermal probe is placed in contact with the cross section of the adhesive layer, and the temperature is raised while measuring the normal displacement of the cross section of the adhesive layer from before heating the thermal probe to obtain a thermal expansion curve. The cross section is obtained by cutting the laminate in the thickness direction perpendicular to the main surface. The location where the thermal probe comes into contact is near the center of the adhesive layer in the thickness direction among the exposed parts of the cross section of the adhesive layer. Measurements are performed at five or more locations on the same cross section, and the softening point is recorded as the arithmetic average of the values measured at five locations with good reproducibility.
局所熱分析では、加熱により接着剤層に含まれる成分が膨張することで、サーマルプローブが押し上げられる。接着剤層の成分の構造転移等により、熱膨張曲線の傾き(変位/温度)が変化する。接着剤層の成分の構造転移のうち、特に膨張から軟化へと転じる場合は、サーマルプローブの先端が成分内に入り込むため、サーマルプローブが下降する。サーマルプローブの変位が上昇から下降に転じる点が、熱膨張曲線のピークに相当し、軟化点と呼ばれる。熱膨張曲線のピークの温度を読み取ることで、接着剤層の軟化点が得られる。
測定条件の詳細は、実施例欄に記載する。
In local thermal analysis, the components in the adhesive layer expand when heated, pushing up the thermal probe. The slope of the thermal expansion curve (displacement/temperature) changes due to structural transitions in the components of the adhesive layer. When the structural transition of the components of the adhesive layer changes from expansion to softening, the tip of the thermal probe enters the component, causing the thermal probe to descend. The point where the displacement of the thermal probe changes from rising to falling corresponds to the peak of the thermal expansion curve, and is called the softening point. The softening point of the adhesive layer can be obtained by reading the temperature at the peak of the thermal expansion curve.
Details of the measurement conditions are described in the Examples section.
第2の接着剤層の厚さは、3.0μm以下であり、好ましくは2.5μm以下、より好ましくは2.0μm以下、さらに好ましくは1.5μm以下であり、また、0.5μm以上であり、好ましくは0.8μm以上、より好ましくは1.0μm以上であり、例えば0.5μm以上3.0μm以下である。弾性率が30.0MPa以上であり、かつ厚さが上限値以下の第2の接着剤層を備える積層体を用いて作製される包装袋は、耐衝撃性、したがって耐落下破袋性に優れる傾向にあり、また、引裂き性、したがって開封性に優れる傾向にある。弾性率が30.0MPa以上であり、かつ厚さが下限値以上の第2の接着剤層を備える積層体を用いて作製される包装袋は、耐衝撃性、したがって耐落下破袋性に優れる傾向にある。また、該包装袋は、リサイクル性に優れる。 The thickness of the second adhesive layer is 3.0 μm or less, preferably 2.5 μm or less, more preferably 2.0 μm or less, even more preferably 1.5 μm or less, and also 0.5 μm or more, preferably 0.8 μm or more, more preferably 1.0 μm or more, for example, 0.5 μm or more and 3.0 μm or less. A packaging bag made using a laminate having a second adhesive layer with an elastic modulus of 30.0 MPa or more and a thickness of the upper limit or less tends to have excellent impact resistance, and therefore resistance to bag breakage due to dropping, and also tends to have excellent tearability, and therefore resistance to opening. A packaging bag made using a laminate having a second adhesive layer with an elastic modulus of 30.0 MPa or more and a thickness of the lower limit or more tends to have excellent impact resistance, and therefore resistance to bag breakage due to dropping. In addition, the packaging bag has excellent recyclability.
積層体全体の厚さに対する第2の接着剤層の厚さは、好ましくは0.5%以上、より好ましくは0.8%以上、さらに好ましくは1.0%以上であり、また、好ましくは3.0%以下、より好ましくは2.5%以下、さらに好ましくは2.0%以下、よりさらに好ましくは1.5%以下であり、例えば0.5%以上3.0%以下である。 The thickness of the second adhesive layer relative to the total thickness of the laminate is preferably 0.5% or more, more preferably 0.8% or more, even more preferably 1.0% or more, and is preferably 3.0% or less, more preferably 2.5% or less, even more preferably 2.0% or less, even more preferably 1.5% or less, for example, 0.5% or more and 3.0% or less.
(第1の接着剤層)
第1の接着剤層の厚さは、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは0.8μm以上、さらに好ましくは1.0μm以上であり、好ましくは10.0μm以下、より好ましくは8.0μm以下、さらに好ましくは6.0μm以下、特に好ましくは5.0μm以下であり、例えば0.5μm以上10.0μm以下である。
(First Adhesive Layer)
The thickness of the first adhesive layer is preferably 0.5 μm or more, more preferably 0.8 μm or more, even more preferably 1.0 μm or more, and preferably 10.0 μm or less, more preferably 8.0 μm or less, even more preferably 6.0 μm or less, particularly preferably 5.0 μm or less, for example, 0.5 μm or more and 10.0 μm or less.
第1の接着剤層の断面について、サーマルプローブを用いた局所熱分析で測定される軟化点は、好ましくは200℃以上、より好ましくは205℃以上、さらに好ましくは210℃以上、よりさらに好ましくは215℃以上、特に好ましくは220℃以上または225℃以上であり、また、例えば330℃以下でもよく、320℃以下でもよく、310℃以下でもよく、300℃以下でもよく、290℃以下でもよく、280℃以下でもよく、270℃以下でもよく、260℃以下でもよく、例えば200℃以上330℃以下である。軟化点が下限値以上の第1の接着剤層を備える積層体を用いて作製される包装袋は、耐熱性に優れ、例えばレトルト処理などの熱処理後においてもガスバリア性、外観およびラミネート強度に優れる傾向にある。したがって、このような包装袋は、耐落下破袋性と熱処理後のガスバリア性とを両立できる。 The softening point of the cross section of the first adhesive layer measured by local thermal analysis using a thermal probe is preferably 200°C or higher, more preferably 205°C or higher, even more preferably 210°C or higher, even more preferably 215°C or higher, and particularly preferably 220°C or higher or 225°C or higher, and may be, for example, 330°C or lower, 320°C or lower, 310°C or lower, 300°C or lower, 290°C or lower, 280°C or lower, 270°C or lower, or 260°C or lower, for example, 200°C or higher and 330°C or lower. A packaging bag made using a laminate having a first adhesive layer with a softening point equal to or higher than the lower limit has excellent heat resistance, and tends to have excellent gas barrier properties, appearance, and laminate strength even after heat treatment such as retort treatment. Therefore, such a packaging bag can achieve both drop-breakage resistance and gas barrier properties after heat treatment.
第1の接着剤層の断面について、AFMを用いて測定される弾性率は、一実施形態(A)において、好ましくは30.0MPa以上、より好ましくは33.0MPa以上、さら好ましくは35.0MPa以上であり、また、好ましくは120MPa以下、より好ましくは110MPa以下、さらに好ましくは100MPa以下、よりさらに好ましくは90.0MPa以下、特に好ましくは80.0MPa以下、70.0MPa以下、60.0MPa以下または50.0MPa以下であり、例えば30.0MPa以上120MPa以下である。弾性率が上限値以下の第1の接着剤層を備える積層体は、ラミネート強度に優れる傾向にある。このような弾性率を有する第1の接着剤層は、例えば、後述する無溶剤型接着剤を用い、また、それぞれ後述する主剤に含まれる重合体成分の種類および分子量、硬化剤の種類、モル比(NCO/OH)、エージング条件を適宜変更することにより形成することができる。 In one embodiment (A), the elastic modulus measured by AFM on the cross section of the first adhesive layer is preferably 30.0 MPa or more, more preferably 33.0 MPa or more, even more preferably 35.0 MPa or more, and is preferably 120 MPa or less, more preferably 110 MPa or less, even more preferably 100 MPa or less, even more preferably 90.0 MPa or less, particularly preferably 80.0 MPa or less, 70.0 MPa or less, 60.0 MPa or less, or 50.0 MPa or less, for example, 30.0 MPa or more and 120 MPa or less. A laminate having a first adhesive layer with an elastic modulus of less than the upper limit tends to have excellent laminate strength. A first adhesive layer having such an elastic modulus can be formed, for example, by using a solvent-free adhesive described later, and by appropriately changing the type and molecular weight of the polymer component contained in the base agent, the type of the curing agent, the molar ratio (NCO/OH), and the aging conditions, each of which will be described later.
第1の接着剤層が一実施形態(A)の弾性率を有する場合、第2の接着剤層の弾性率は、一実施形態において、第1の接着剤層の弾性率よりも小さい。このような態様の積層体を用いて作製される包装袋は、耐衝撃性、したがって耐落下破袋性により優れるとともに、シール強度により優れる傾向にある。これは、第2の接着剤層の弾性率が小さいことにより、第2の基材の表層が剥離することを抑制でき、したがって第2の基材とシーラント層とのラミネート強度の低下を抑制できるためであると推測される。 When the first adhesive layer has the modulus of elasticity of one embodiment (A), in one embodiment, the modulus of elasticity of the second adhesive layer is smaller than that of the first adhesive layer. A packaging bag made using a laminate of this type tends to have excellent impact resistance, and therefore resistance to bag breakage due to dropping, as well as excellent seal strength. This is presumably because the small modulus of elasticity of the second adhesive layer can prevent the surface layer of the second substrate from peeling off, thereby preventing a decrease in the laminate strength between the second substrate and the sealant layer.
第1の接着剤層が一実施形態(A)の弾性率を有する場合、第2の接着剤層の弾性率は、一実施形態において、第1の接着剤層の弾性率よりも大きい。このような態様の積層体を用いて作製される包装袋は、引裂き性、したがって開封性により優れる傾向にある。 When the first adhesive layer has the elastic modulus of one embodiment (A), the elastic modulus of the second adhesive layer is, in one embodiment, greater than the elastic modulus of the first adhesive layer. Packaging bags made using a laminate of this type tend to have superior tearability, and therefore superior openability.
第1の接着剤層が一実施形態(A)の弾性率を有する場合、第1の接着剤層の厚さは、一実施形態において、好ましくは3.0μm以下、より好ましくは2.5μm以下、さらに好ましくは2.0μm以下、よりさらに好ましくは1.5μm以下であり、また、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは0.8μm以上、さらに好ましくは1.0μm以上であり、例えば0.5μm以上3.0μm以下である。この実施形態において、積層体全体の厚さに対する第1の接着剤層の厚さは、好ましくは0.5%以上、より好ましくは0.8%以上、さらに好ましくは1.0%以上であり、また、好ましくは3.0%以下、より好ましくは2.5%以下、さらに好ましくは2.0%以下、よりさらに好ましくは1.5%以下であり、例えば0.5%以上3.0%以下である。このような第1の接着剤層を備える積層体を用いて作製される包装袋は、耐衝撃性、したがって耐落下破袋性に優れるとともに、引裂き性、したがって開封性に優れる傾向にある。また、該包装袋は、例えば、リサイクル性に優れる。 When the first adhesive layer has the elastic modulus of one embodiment (A), the thickness of the first adhesive layer is, in one embodiment, preferably 3.0 μm or less, more preferably 2.5 μm or less, even more preferably 2.0 μm or less, even more preferably 1.5 μm or less, and also preferably 0.5 μm or more, more preferably 0.8 μm or more, even more preferably 1.0 μm or more, for example 0.5 μm or more and 3.0 μm or less. In this embodiment, the thickness of the first adhesive layer relative to the thickness of the entire laminate is preferably 0.5% or more, more preferably 0.8% or more, even more preferably 1.0% or more, and also preferably 3.0% or less, more preferably 2.5% or less, even more preferably 2.0% or less, even more preferably 1.5% or less, for example 0.5% or more and 3.0% or less. A packaging bag produced using a laminate having such a first adhesive layer tends to have excellent impact resistance, and therefore excellent drop-break resistance, as well as excellent tearability, and therefore excellent openability. In addition, the packaging bag has excellent recyclability, for example.
第1の接着剤層が一実施形態(A)の弾性率を有する場合、第1の接着剤層の厚さは、一実施形態において、第2の接着剤層の厚さよりも大きい。第1の基材における第1の接着剤層に向かう面上に印刷層が設けられている場合は、第1の接着剤層は印刷層による段差を良好に覆うことができ、外観良好な包装袋を得ることができる傾向にある。第1の接着剤層の厚さ1と第2の接着剤層の厚さ2との比(厚さ1/厚さ2)は、例えば0.16以上でもよく、0.5以上でもよく、0.8以上でもよく、第1の接着剤層の厚さが第2の接着剤層の厚さよりも大きい場合は1.0超であり、また、6.0以下でもよく、3.0以下でもよく、1.1以下でもよい。 When the first adhesive layer has the elastic modulus of one embodiment (A), the thickness of the first adhesive layer is greater than the thickness of the second adhesive layer in one embodiment. When a printed layer is provided on the surface of the first substrate facing the first adhesive layer, the first adhesive layer can effectively cover the step caused by the printed layer, and there is a tendency to obtain a packaging bag with a good appearance. The ratio of the thickness 1 of the first adhesive layer to the thickness 2 of the second adhesive layer (thickness 1/thickness 2) may be, for example, 0.16 or more, 0.5 or more, or 0.8 or more, and when the thickness of the first adhesive layer is greater than the thickness of the second adhesive layer, it may be greater than 1.0, and may also be 6.0 or less, 3.0 or less, or 1.1 or less.
第1の接着剤層の断面について、AFMを用いて測定される弾性率は、一実施形態(B)において、好ましくは30.0MPa未満、より好ましくは28.0MPa以下、さらに好ましくは26.0MPa以下であり、また、好ましくは5.0MPa以上、より好ましくは10.0MPa以上、さらに好ましくは15.0MPa以上、よりさらに好ましくは16.0MPa以上、特に好ましくは18.0MPa以上であり、例えば5.0MPa以上30.0MPa未満である。弾性率が上限値以下の第1の接着剤層を備える積層体を用いて作製される包装袋は、レトルト処理などの熱処理後においてもガスバリア性(例えば酸素バリア性および水蒸気バリア性、特に酸素バリア性)および外観に優れる傾向にある。第1の基材における第1の接着剤層に向かう面上に印刷層が設けられている場合は、弾性率が上限値以下の第1の接着剤層は、印刷層との密着性に優れる傾向にある。弾性率が下限値以上の第1の接着剤層を備える積層体を用いて作製される包装袋は、レトルト処理などの熱処理後においてもガスバリア性および外観に優れる傾向にある。このような弾性率を有する第2の接着剤層は、例えば、後述する溶剤型接着剤を用い、また、それぞれ後述する主剤に含まれる重合体成分の種類および分子量、硬化剤の種類、モル比(NCO/OH)、エージング条件を適宜変更することにより形成することができる。 In one embodiment (B), the elastic modulus measured by AFM for the cross section of the first adhesive layer is preferably less than 30.0 MPa, more preferably 28.0 MPa or less, even more preferably 26.0 MPa or less, and also preferably 5.0 MPa or more, more preferably 10.0 MPa or more, even more preferably 15.0 MPa or more, even more preferably 16.0 MPa or more, particularly preferably 18.0 MPa or more, for example, 5.0 MPa or more and less than 30.0 MPa. A packaging bag made using a laminate having a first adhesive layer whose elastic modulus is equal to or less than the upper limit tends to have excellent gas barrier properties (e.g., oxygen barrier properties and water vapor barrier properties, especially oxygen barrier properties) and appearance even after heat treatment such as retort treatment. When a printing layer is provided on the surface of the first substrate facing the first adhesive layer, the first adhesive layer whose elastic modulus is equal to or less than the upper limit tends to have excellent adhesion to the printing layer. Packaging bags made using a laminate with a first adhesive layer having a modulus of elasticity equal to or greater than the lower limit tend to have excellent gas barrier properties and appearance even after heat treatment such as retort treatment. A second adhesive layer having such a modulus of elasticity can be formed, for example, by using a solvent-based adhesive as described below, and by appropriately changing the type and molecular weight of the polymer component contained in the base agent, the type of curing agent, the molar ratio (NCO/OH), and the aging conditions, as described below.
第1の接着剤層が一実施形態(B)の弾性率を有する場合、第1の接着剤層の厚さは、一実施形態において、好ましくは1.0μm以上、より好ましくは1.5μm以上、さらに好ましくは2.0μm以上、特に好ましくは2.5μm以上であり、また、好ましくは10.0μm以下、より好ましくは8.0μm以下、さらに好ましくは6.0μm以下、特に好ましくは5.0μm以下であり、例えば1.0μm以上10.0μm以下である。この実施形態において、積層体全体の厚さに対する第1の接着剤層の厚さは、好ましくは1.0%以上、より好ましくは1.5%以上、さらに好ましくは2.0%以上、特に好ましくは2.5%以上であり、また、好ましくは10.0%以下、より好ましくは8.0%以下、さらに好ましくは6.0%以下、特に好ましくは5.0%以下であり、例えば1.0%以上10.0%以下である。第1の接着剤層の厚さは、一実施形態において、第2の接着剤層の厚さよりも大きい。第1の基材における第1の接着剤層に向かう面上に印刷層が設けられている場合は、厚さが下限値以上の第1の接着剤層は印刷層による段差を良好に覆うことができ、外観良好な包装袋を得ることができる傾向にある。厚さが下限値以上の第1の接着剤層を備える積層体は、熱処理後においてもラミネート強度に優れる傾向にある。 When the first adhesive layer has the elastic modulus of one embodiment (B), the thickness of the first adhesive layer is, in one embodiment, preferably 1.0 μm or more, more preferably 1.5 μm or more, even more preferably 2.0 μm or more, particularly preferably 2.5 μm or more, and also preferably 10.0 μm or less, more preferably 8.0 μm or less, even more preferably 6.0 μm or less, particularly preferably 5.0 μm or less, for example, 1.0 μm or more and 10.0 μm or less. In this embodiment, the thickness of the first adhesive layer relative to the thickness of the entire laminate is preferably 1.0% or more, more preferably 1.5% or more, even more preferably 2.0% or more, particularly preferably 2.5% or more, and also preferably 10.0% or less, more preferably 8.0% or less, even more preferably 6.0% or less, particularly preferably 5.0% or less, for example, 1.0% or more and 10.0% or less. In one embodiment, the thickness of the first adhesive layer is greater than the thickness of the second adhesive layer. When a printed layer is provided on the surface of the first substrate facing the first adhesive layer, a first adhesive layer having a thickness equal to or greater than the lower limit can effectively cover the step caused by the printed layer, and a packaging bag with a good appearance tends to be obtained. A laminate having a first adhesive layer having a thickness equal to or greater than the lower limit tends to have excellent laminate strength even after heat treatment.
(接着剤)
第1の接着剤層および第2の接着剤は、それぞれ接着剤により構成される。第1の接着剤層を形成する接着剤と、第2の接着剤層を形成する接着剤とは、同一でもよく、異なってもよい。接着剤は、1液硬化型の接着剤、2液硬化型の接着剤、および非硬化型の接着剤のいずれでもよく、上述した弾性率および軟化点を上述した範囲に調整しやすいという観点から、2液硬化型の接着剤が好ましい。
(glue)
The first adhesive layer and the second adhesive are each composed of an adhesive. The adhesive forming the first adhesive layer and the adhesive forming the second adhesive layer may be the same or different. The adhesive may be any of a one-component curing adhesive, a two-component curing adhesive, and a non-curing adhesive, and a two-component curing adhesive is preferred from the viewpoint of easily adjusting the elastic modulus and softening point to the above-mentioned ranges.
接着剤を用いて積層体を得る方法としては、対象物に接着剤を塗布した後、形成された接着剤層に他の対象物を重ね合せた状態で両者に挟まれた接着剤層の硬化を進行させる方法が挙げられる。対象物としては、例えば、第1の基材、第2の基材およびシーラントフィルムが挙げられる。接着剤層の硬化を進行させる工程を、以下「エージング工程」ともいう。 One method for obtaining a laminate using an adhesive is to apply the adhesive to an object, then overlay another object on the formed adhesive layer and allow the adhesive layer sandwiched between the two to harden. Examples of objects include a first substrate, a second substrate, and a sealant film. The process of allowing the adhesive layer to harden is hereinafter also referred to as the "aging process."
接着剤のエージング条件について、以下に記載する。エージング温度は、好ましくは25℃以上、より好ましくは30℃以上、さらに好ましくは35℃以上であり、また、好ましくは80℃以下、より好ましくは70℃以下、さらに好ましくは60℃以下である。エージング時間は、好ましくは5時間以上、より好ましくは10時間以上、さらに好ましくは20時間以上であり、また、好ましくは150時間以下、より好ましくは135時間以下、さらに好ましくは120時間以下である。エージング温度を高くすることにより、接着剤層の弾性率は高くなる傾向にある。エージング時間を長くすることにより、接着剤層の弾性率は高くなる傾向にある。 The aging conditions for the adhesive are described below. The aging temperature is preferably 25°C or higher, more preferably 30°C or higher, and even more preferably 35°C or higher, and is preferably 80°C or lower, more preferably 70°C or lower, and even more preferably 60°C or lower. The aging time is preferably 5 hours or higher, more preferably 10 hours or higher, and even more preferably 20 hours or higher, and is preferably 150 hours or lower, more preferably 135 hours or lower, and even more preferably 120 hours or lower. By increasing the aging temperature, the elastic modulus of the adhesive layer tends to increase. By increasing the aging time, the elastic modulus of the adhesive layer tends to increase.
接着剤としては、例えば、ポリウレタン系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリエーテル系接着剤、ゴム系接着剤、ビニル系接着剤、オレフィン系接着剤、シリコーン系接着剤、エポキシ系接着剤およびフェノール系接着剤が挙げられる。これらの中でも、弾性率および軟化点を上述した範囲に調整しやすいという観点から、ポリウレタン系接着剤、ポリエステル系接着剤およびポリエーテル系接着剤が好ましく、ポリウレタン系接着剤およびポリエステル系接着剤がより好ましく、ポリウレタン系接着剤がさらに好ましく、2液硬化型のポリウレタン系接着剤が特に好ましい。 Examples of adhesives include polyurethane adhesives, polyester adhesives, polyether adhesives, rubber adhesives, vinyl adhesives, olefin adhesives, silicone adhesives, epoxy adhesives, and phenol adhesives. Among these, polyurethane adhesives, polyester adhesives, and polyether adhesives are preferred, polyurethane adhesives and polyester adhesives are more preferred, polyurethane adhesives are even more preferred, and two-component curing polyurethane adhesives are particularly preferred, from the viewpoint of ease of adjusting the elastic modulus and softening point to the above-mentioned ranges.
接着剤は、溶剤型接着剤でもよく、無溶剤型接着剤でもよい。
溶剤型接着剤とは、接着剤を対象物に塗布した後に、オーブン等で加熱して接着剤中の溶剤を揮発させた後に他の対象物と貼り合せる方法に用いられる接着剤をいう。2液硬化型接着剤の場合は、主剤および硬化剤のいずれか一方、または両方が溶剤を含有する。上記溶剤としては、例えば、有機溶剤が挙げられ、具体的には、トルエン、キシレン、n-ヘキサンおよびメチルシクロヘキサン等の炭化水素溶剤;酢酸エチル、酢酸n-プロピル、酢酸n-ブチルおよび酢酸イソブチル等のエステル溶剤;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n-ブチルアルコールおよびイソブチルアルコール等のアルコール溶剤;ならびにアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンおよびシクロヘキサノン等のケトン溶剤が挙げられる。
The adhesive may be a solvent-based adhesive or a solventless adhesive.
A solvent-based adhesive is an adhesive used in a method in which the adhesive is applied to an object, heated in an oven or the like to volatilize the solvent in the adhesive, and then the adhesive is bonded to another object. In the case of a two-liquid curing adhesive, either the base agent or the curing agent, or both, contain a solvent. Examples of the solvent include organic solvents, specifically, hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, n-hexane, and methylcyclohexane; ester solvents such as ethyl acetate, n-propyl acetate, n-butyl acetate, and isobutyl acetate; alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, and isobutyl alcohol; and ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone.
無溶剤型接着剤とは、接着剤を対象物に塗布した後に、オーブン等で加熱して溶剤を揮発させる工程を必ずしも経ずに他の対象物と貼り合せる方法に用いられる接着剤をいう。2液硬化型接着剤の場合は、主剤および硬化剤の両者が溶剤を実質的に含有しない。「実質的に含有しない」とは、接着剤の構成成分、2液硬化型接着剤の場合は主剤および/または硬化剤の構成成分の製造時に反応媒体として使用された溶剤が除去しきれずに、接着剤、2液硬化型接着剤の場合は主剤および/または硬化剤中に微量の溶剤が残留している場合を包含する。 A solvent-free adhesive is an adhesive that is applied to an object and then bonded to another object without necessarily going through a process of heating in an oven or the like to volatilize the solvent. In the case of a two-component curing adhesive, both the base agent and the curing agent contain substantially no solvent. "Substantially no solvent" includes cases where the solvent used as a reaction medium during the manufacture of the adhesive's components, or the base agent and/or curing agent in the case of a two-component curing adhesive, cannot be completely removed, leaving trace amounts of solvent remaining in the adhesive, or the base agent and/or curing agent in the case of a two-component curing adhesive.
2液硬化型のポリウレタン系接着剤は、主剤と硬化剤とを有する。2液硬化型のポリウレタン系接着剤は、溶剤型でもよく、無溶剤型でもよい。以下、2液硬化型のポリウレタン系接着剤について説明する。 A two-component curing polyurethane adhesive has a base agent and a curing agent. A two-component curing polyurethane adhesive may be a solvent-based or solventless type. Two-component curing polyurethane adhesives are described below.
ポリウレタン系接着剤は、例えば、ポリオール化合物を含む主剤と、ポリイソシアネート化合物を含む硬化剤と、を有する。このような主剤と硬化剤とを混合して形成される硬化物(反応物)としては、例えば、ポリウレタンが挙げられ、具体的には、ポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタンおよびアクリルポリウレタンが挙げられる。 A polyurethane adhesive, for example, has a base agent containing a polyol compound and a curing agent containing a polyisocyanate compound. Examples of the cured product (reactant) formed by mixing such a base agent and a curing agent include polyurethane, specifically polyester polyurethane, polyether polyurethane, polycarbonate polyurethane, and acrylic polyurethane.
ポリオール化合物は、1分子中にヒドロキシ基を2個以上有する。ポリオール化合物としては、例えば、ポリエステルポリウレタンポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートポリオールおよびアクリルポリオールが挙げられる。これらの中でも、弾性率が上述した範囲にある接着剤層が得られやすいという観点から、ポリエステルポリウレタンポリオールおよびポリエステルポリオールが好ましく、溶剤型接着剤の場合はポリエステルポリウレタンポリオールがより好ましく、無溶剤型接着剤の場合はポリエステルポリオールがより好ましい。 The polyol compound has two or more hydroxy groups in one molecule. Examples of polyol compounds include polyester polyurethane polyol, polyester polyol, polyether polyol, polycarbonate polyol, and acrylic polyol. Among these, polyester polyurethane polyol and polyester polyol are preferred from the viewpoint of easily obtaining an adhesive layer having an elastic modulus in the above-mentioned range, polyester polyurethane polyol is more preferred in the case of a solvent-based adhesive, and polyester polyol is more preferred in the case of a solventless adhesive.
ポリエステルポリウレタンポリオールは、1分子中に、ヒドロキシ基、エステル結合およびウレタン結合を、それぞれ2つ以上有する化合物であり、例えば、主骨格としてポリエステルポリウレタン構造を有する。ポリエステルポリオールは、1分子中に、ヒドロキシ基およびエステル結合を、それぞれ2つ以上有する化合物であり、例えば、主骨格としてポリエステル構造を有する。ポリエーテルポリオールは、1分子中に、ヒドロキシ基およびエーテル結合を、それぞれ2つ以上有する化合物である。ポリカーボネートポリオールは、1分子中に、ヒドロキシ基およびカーボネート結合を、それぞれ2つ以上有する化合物である。 Polyester polyurethane polyol is a compound that has two or more hydroxy groups, ester bonds, and urethane bonds in one molecule, and has, for example, a polyester polyurethane structure as the main backbone. Polyester polyol is a compound that has two or more hydroxy groups and ester bonds in one molecule, and has, for example, a polyester structure as the main backbone. Polyether polyol is a compound that has two or more hydroxy groups and ether bonds in one molecule. Polycarbonate polyol is a compound that has two or more hydroxy groups and carbonate bonds in one molecule.
2液硬化型かつ無溶剤型接着剤の主剤に含まれる重合体成分(例えばポリオール化合物)の重量平均分子量(Mw)は、塗工適性という観点から、好ましくは800以上、より好ましくは1,200以上、さらに好ましくは2,000以上であり、また、好ましくは10,000以下、より好ましくは8,000以下、さらに好ましくは6,000以下である。Mwが小さいほど、接着剤層の弾性率は高くなる傾向にあり、Mwが大きいほど、接着剤層の弾性率は低くなる傾向にある。
主剤に含まれる重合体成分(例えばポリオール化合物)の多分散度(Mw/Mn)は、好ましくは2.8以下、より好ましくは2.7以下、さらに好ましくは2.6以下、特に好ましくは2.5以下であり、また、好ましくは1.2以上、より好ましくは1.5以上、さらに好ましくは2.0以上である。ここでMnは、主剤に含まれる重合体成分(例えばポリオール化合物)の数平均分子量である。
From the viewpoint of coatability, the weight average molecular weight (Mw) of the polymer component (e.g., polyol compound) contained in the base agent of the two-component curing and solventless adhesive is preferably 800 or more, more preferably 1,200 or more, and even more preferably 2,000 or more, and is preferably 10,000 or less, more preferably 8,000 or less, and even more preferably 6,000 or less. The smaller the Mw, the higher the elastic modulus of the adhesive layer tends to be, and the larger the Mw, the lower the elastic modulus of the adhesive layer tends to be.
The polydispersity (Mw/Mn) of the polymer component (e.g., polyol compound) contained in the base agent is preferably 2.8 or less, more preferably 2.7 or less, even more preferably 2.6 or less, particularly preferably 2.5 or less, and is preferably 1.2 or more, more preferably 1.5 or more, and even more preferably 2.0 or more, where Mn is the number average molecular weight of the polymer component (e.g., polyol compound) contained in the base agent.
2液硬化型かつ溶剤型接着剤の主剤に含まれる重合体成分(例えばポリオール化合物)の重量平均分子量(Mw)は、塗工適性という観点から、好ましくは11,000以上、より好ましくは13,000以上、さらに好ましくは15,000以上、よりさらに好ましくは18,000以上、特に好ましくは20,000以上であり、また、好ましくは100,000以下、より好ましくは50,000以下、さらに好ましくは40,000以下である。Mwが小さいほど、接着剤層の弾性率は高くなる傾向にあり、Mwが大きいほど、接着剤層の弾性率は低くなる傾向にある。
主剤に含まれる重合体成分(例えばポリオール化合物)の多分散度(Mw/Mn)は、好ましくは5.0以下、より好ましくは4.5以下、さらに好ましくは4.0以下であり、また、好ましくは1.5以上、より好ましくは2.0以上、さらに好ましくは2.5以上である。ここでMnは、主剤に含まれる重合体成分(例えばポリオール化合物)の数平均分子量である。各平均分子量は、JIS K7252-1:2016に準拠したゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定され、ポリスチレン換算の値である。
The weight average molecular weight (Mw) of the polymer component (e.g., polyol compound) contained in the base of the two-component curing and solvent-based adhesive is, from the viewpoint of coatability, preferably 11,000 or more, more preferably 13,000 or more, even more preferably 15,000 or more, still more preferably 18,000 or more, particularly preferably 20,000 or more, and is preferably 100,000 or less, more preferably 50,000 or less, and even more preferably 40,000 or less. The smaller the Mw, the higher the elastic modulus of the adhesive layer tends to be, and the larger the Mw, the lower the elastic modulus of the adhesive layer tends to be.
The polydispersity (Mw/Mn) of the polymer component (e.g., polyol compound) contained in the base agent is preferably 5.0 or less, more preferably 4.5 or less, and even more preferably 4.0 or less, and is preferably 1.5 or more, more preferably 2.0 or more, and even more preferably 2.5 or more. Here, Mn is the number average molecular weight of the polymer component (e.g., polyol compound) contained in the base agent. Each average molecular weight is measured by gel permeation chromatography (GPC) in accordance with JIS K7252-1:2016 and is a value converted into polystyrene.
ポリイソシアネート化合物は、1分子中にイソシアネート基を2個以上有する。ポリイソシアネート化合物としては、例えば、芳香族イソシアネートおよび脂肪族イソシアネートが挙げられる。ポリイソシアネート化合物は、公知のイソシアネートブロック化剤を用いて公知慣用の適宜の方法より付加反応させて得られたブロック化イソシアネート化合物でもよい。 A polyisocyanate compound has two or more isocyanate groups in one molecule. Examples of polyisocyanate compounds include aromatic isocyanates and aliphatic isocyanates. The polyisocyanate compound may be a blocked isocyanate compound obtained by addition reaction using a known isocyanate blocking agent by a known, conventional, appropriate method.
ポリイソシアネート化合物としては、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、ノルボルネンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート(IPDI)などの脂肪族イソシアネート化合物;ジフェニルメタンジイソシアネート、水素化ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート(XDI)、水素化キシリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート(TDI)、ナフタレンジイソシアネートおよびα,α,α’,α’-テトラメチル-m-キシリレンジイソシアネートなどの芳香族イソシアネート化合物、これらの化合物から誘導される、ダイマーおよびトリマー(例えばイソシアヌレート体);ならびにこれらの化合物と、低分子活性水素化合物もしくはそのアルキレンオキシド付加物、または高分子活性水素化合物とを反応させて得られる、アダクト体、ビューレット体およびアロファネート体が挙げられる。 Examples of polyisocyanate compounds include aliphatic isocyanate compounds such as tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI), norbornene diisocyanate, and isophorone diisocyanate (IPDI); aromatic isocyanate compounds such as diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate (XDI), hydrogenated xylylene diisocyanate, tolylene diisocyanate (TDI), naphthalene diisocyanate, and α,α,α',α'-tetramethyl-m-xylylene diisocyanate, dimers and trimers (e.g., isocyanurates) derived from these compounds; and adducts, biuret compounds, and allophanates obtained by reacting these compounds with low-molecular-weight active hydrogen compounds or their alkylene oxide adducts, or high-molecular-weight active hydrogen compounds.
低分子活性水素化合物としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、1,4-ブタンジオール、ネネオペンチルグリコール、1,6-ヘキサメチレングリコール、1,8-オクタメチレングリコール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、メタキシリレンアルコール、1,3-ビスヒドロキシエチルベンゼン、1,4-ビスヒドロキシエチルベンゼン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリスリトール、エリスリトール、ソルビトール、エチレンジアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンおよびメタキシリレンジアミンが挙げられ、トリメチロールプロパンが好ましい。高分子活性水素化合物としては、例えば、ポリエステル、ポリエーテルポリオールおよびポリアミドが挙げられる。 Examples of low molecular weight active hydrogen compounds include ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexamethylene glycol, 1,8-octamethylene glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, metaxylylene alcohol, 1,3-bishydroxyethylbenzene, 1,4-bishydroxyethylbenzene, trimethylolethane, trimethylolpropane, glycerol, pentaerythritol, erythritol, sorbitol, ethylenediamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine and metaxylylenediamine, with trimethylolpropane being preferred. Examples of high molecular weight active hydrogen compounds include polyesters, polyether polyols and polyamides.
ポリオール化合物を含む主剤とポリイソシアネート化合物を含む硬化剤とは、例えば、ポリイソシアネート化合物が有する全イソシアネート基と、ポリオール化合物が有する全ヒドロキシ基とのモル比(NCO/OH)が以下のとおりとなる量比で用いることが好ましい。すなわちモル比(NCO/OH)は、好ましくは0.5以上、より好ましくは1.0以上、さらに好ましくは1.5以上であり、また、好ましくは8.0以下、より好ましくは6.0、さらに好ましくは5.0以下であり、無溶剤型接着剤の場合はよりさらに好ましくは4.0以下、特に好ましくは3.0以下である。モル比(NCO/OH)が大きいほど、接着剤層の弾性率は高くなる傾向にあり、モル比(NCO/OH)が小さいほど、接着剤層の弾性率は低くなる傾向にある。 The base agent containing a polyol compound and the curing agent containing a polyisocyanate compound are preferably used in a quantity ratio such that the molar ratio (NCO/OH) of the total isocyanate groups of the polyisocyanate compound to the total hydroxyl groups of the polyol compound is as follows. That is, the molar ratio (NCO/OH) is preferably 0.5 or more, more preferably 1.0 or more, and even more preferably 1.5 or more, and is preferably 8.0 or less, more preferably 6.0, and even more preferably 5.0 or less, and in the case of a solventless adhesive, is even more preferably 4.0 or less, and particularly preferably 3.0 or less. The larger the molar ratio (NCO/OH), the higher the elastic modulus of the adhesive layer tends to be, and the smaller the molar ratio (NCO/OH), the lower the elastic modulus of the adhesive layer tends to be.
[包装袋]
本開示の積層体は、包装材料として好適に用いられる。包装材料は、包装袋を作製するために用いられる。本開示の包装袋は、上記積層体を備える。本開示の積層体を包装材料として用いることにより、包装袋を作製できる。一実施形態において、本開示の積層体を、第1の基材が外側、シーラント層が内側に位置するように二つ折にして重ね合わせて、その端部等をヒートシールすることにより、包装袋を作製できる。他の実施形態において、複数の本開示の積層体をシーラント層同士が対向するように重ね合わせて、その端部等をヒートシールすることにより、包装袋を作製できる。包装袋の全部が上記積層体で構成されてもよく、包装袋の一部が上記積層体で構成されてもよい。
[Packaging bag]
The laminate of the present disclosure is preferably used as a packaging material. The packaging material is used to produce a packaging bag. The packaging bag of the present disclosure includes the laminate. By using the laminate of the present disclosure as a packaging material, a packaging bag can be produced. In one embodiment, the laminate of the present disclosure is folded in half and stacked so that the first substrate is located on the outside and the sealant layer is located on the inside, and the ends and the like are heat-sealed to produce a packaging bag. In another embodiment, a plurality of laminates of the present disclosure are stacked so that the sealant layers face each other, and the ends and the like are heat-sealed to produce a packaging bag. The entire packaging bag may be composed of the laminate, or a part of the packaging bag may be composed of the laminate.
包装袋としては、例えば、スタンディングパウチ型、側面シール型、二方シール型、三方シール型、四方シール型、封筒貼りシール型、合掌貼りシール型(ピローシール型)、ひだ付シール型、平底シール型、角底シール型およびガゼット型などの種々の形態の包装袋が挙げられる。ヒートシールの方法としては、例えば、バーシール、回転ロールシール、ベルトシール、インパルスシール、高周波シールおよび超音波シールが挙げられる。 Examples of packaging bags include packaging bags of various shapes, such as standing pouch type, side seal type, two-sided seal type, three-sided seal type, four-sided seal type, envelope seal type, grooving seal type (pillow seal type), pleated seal type, flat bottom seal type, square bottom seal type, and gusset type. Examples of heat sealing methods include bar seal, rotary roll seal, belt seal, impulse seal, high frequency seal, and ultrasonic seal.
包装袋は、易開封部を備えてもよい。易開封部としては、例えば、包装袋の引き裂きの起点となるノッチ部や、包装袋を引き裂く際の経路として、レーザー加工やカッターなどにより形成されたハーフカット線が挙げられる。 The packaging bag may have an easy-to-open portion. Examples of the easy-to-open portion include a notch portion that serves as the starting point for tearing the packaging bag, and a half-cut line formed by laser processing or a cutter as a path for tearing the packaging bag.
包装袋は、蒸気抜き機構を備えてもよい。蒸気抜き機構は、包装袋内の蒸気圧力が所定値以上となった際に、包装袋の内部と外部とを連通させ、蒸気を逃がすと共に、蒸気抜き機構以外の箇所において蒸気が抜けることを抑制するように構成されている。蒸気抜き機構は、例えば、側部シール部から包装袋の内側に向かって突出した蒸気抜きシール部と、蒸気抜きシール部によって、内容物収容部から隔離された非シール部と、を備える。非シール部は、包装袋の外部に連通している。内容物が充填され、開口部がヒートシールされた包装袋を、電子レンジなどを用いて加熱する。これにより、内部の圧力が高まり、蒸気抜きシール部が剥離する。蒸気は、蒸気抜きシール部剥離箇所および非シール部を通り、包装袋外部へ抜ける。 The packaging bag may be provided with a steam release mechanism. When the steam pressure inside the packaging bag reaches or exceeds a predetermined value, the steam release mechanism is configured to communicate between the inside and outside of the packaging bag, allowing steam to escape while suppressing steam from escaping at locations other than the steam release mechanism. The steam release mechanism includes, for example, a steam release seal portion that protrudes from the side seal portion toward the inside of the packaging bag, and a non-seal portion that is isolated from the content storage portion by the steam release seal portion. The non-seal portion communicates with the outside of the packaging bag. The packaging bag is filled with the content and the opening is heat-sealed, and is heated using a microwave oven or the like. This increases the internal pressure and causes the steam release seal portion to peel off. Steam passes through the peeled portion of the steam release seal portion and the non-seal portion to escape to the outside of the packaging bag.
包装袋中に収容される内容物としては、例えば、液体、固体、粉体およびゲル体が挙げられる。内容物は、飲食品でもよく、化学品、化粧品、医薬品、金属部品および電子部品等の非飲食品でもよい。包装袋中に内容物を収容した後、包装袋の開口部をヒートシールすることにより、包装袋を密封できる。 The contents to be placed in the packaging bag can be, for example, liquids, solids, powders, and gels. The contents can be food or beverages, or non-food or beverages such as chemicals, cosmetics, pharmaceuticals, metal parts, and electronic parts. After the contents are placed in the packaging bag, the opening of the packaging bag can be heat-sealed to seal the packaging bag.
包装袋の具体例として、以下、小袋およびスタンディングパウチについて説明する。
小袋は、小型の包装袋であって、例えば1g以上200g以下の内容物を収容するために使用される。小袋中に収容される内容物としては、例えば、ソース、醤油、ドレッシング、ケチャップ、シロップ、料理用酒類、他の液体または粘稠体の調味料;液体スープ、粉末スープ、果汁類;香辛料;ペットフード;液体飲料、ゼリー状飲料、インスタント食品、他の飲食品;化学品、化粧品、医薬品、金属部品および電子部品等の非食品が挙げられる。
As specific examples of packaging bags, a small bag and a standing pouch will be described below.
The sachet is a small packaging bag used to store contents of, for example, 1 g to 200 g. Examples of contents stored in the sachet include sauces, soy sauce, dressings, ketchup, syrups, cooking alcohol, and other liquid or viscous seasonings; liquid soups, powdered soups, fruit juices; spices; pet food; liquid beverages, jelly-like beverages, instant foods, and other foods and beverages; and non-food items such as chemicals, cosmetics, medicines, metal parts, and electronic parts.
スタンディングパウチは、例えば50g以上2000g以下の内容物を収容するために使用される。スタンディングパウチ中に収容される内容物としては、例えば、シャンプー、リンス、コンディショナー、ハンドソープ、ボディソープ、芳香剤、消臭剤、脱臭剤、防虫剤、洗剤;ドレッシング、食用油、マヨネーズ、他の液体または粘稠体の調味料;液体飲料、ゼリー状飲料、インスタント食品、他の飲食品;ペットフード;クリーム;金属部品および電子部品が挙げられる。 Stand-up pouches are used to store contents of, for example, 50 g to 2000 g. Contents that can be stored in a standing pouch include, for example, shampoo, rinse, conditioner, hand soap, body soap, air freshener, deodorant, insect repellent, detergent; dressing, edible oil, mayonnaise, other liquid or viscous condiments; liquid beverages, jelly-like beverages, instant foods, other food and beverages; pet food; cream; metal parts, and electronic parts.
包装袋の内容物は、一実施形態において、ペットフードである。 In one embodiment, the contents of the packaging bag are pet food.
本開示の包装袋は、一実施形態において、熱処理を受けてもガスバリア性に優れることから、レトルト処理されたパウチ(以下「レトルトパウチ」ともいう)またはボイル処理されたパウチ(以下「ボイルパウチ」ともいう)として、あるいは電子レンジ対応包装袋として好適である。本開示の包装袋は、電子レンジ用ボイルまたはレトルトパウチとしても好適である。ここで電子レンジ対応包装袋とは、電子レンジを用いて加熱可能な包装袋を意味する。 In one embodiment, the packaging bag of the present disclosure has excellent gas barrier properties even after heat treatment, and is therefore suitable as a retort-treated pouch (hereinafter also referred to as a "retort pouch") or a boiled pouch (hereinafter also referred to as a "boiled pouch"), or as a microwave-compatible packaging bag. The packaging bag of the present disclosure is also suitable as a boiled or retort pouch for use in a microwave oven. Here, a microwave-compatible packaging bag means a packaging bag that can be heated using a microwave oven.
レトルトパウチは、包装袋中に飲食品などの内容物を充填して密封した後に、加圧下で100℃を超える温度で水または水蒸気によって加熱殺菌処理(レトルト処理)が行われた包装袋である。ボイルパウチは、包装袋中に飲食品などの内容物を充填して密封した後に、100℃以下の温度で煮沸処理が行われた包装袋である。 A retort pouch is a packaging bag that is filled with food or beverages and other contents, sealed, and then heat-sterilized (retort processing) with water or steam at a temperature exceeding 100°C under pressure. A boil pouch is a packaging bag that is filled with food or beverages and other contents, sealed, and then boiled at a temperature of 100°C or less.
本開示の包装袋は、一実施形態において、レトルトパウチである。レトルト処理の条件は、種々ありえるが、一般的なレトルト処理が行われたパウチであれば、上記レトルトパウチに包含される。レトルト処理のうち、例えば、処理温度が105℃以上115℃以下の場合をセミレトルト処理と呼ぶ場合があり、処理温度が115℃超121℃以下の場合をレトルト処理と呼ぶ場合があり、処理温度が121℃超140℃以下の場合をハイレトルト処理と呼ぶ場合がある。 In one embodiment, the packaging bag of the present disclosure is a retort pouch. There are various conditions for the retort process, but any pouch that has undergone general retort processing is included in the above-mentioned retort pouch. Among retort processes, for example, when the processing temperature is 105°C or higher and 115°C or lower, it may be called semi-retort processing, when the processing temperature is higher than 115°C and 121°C or lower, it may be called retort processing, and when the processing temperature is higher than 121°C and 140°C or lower, it may be called high retort processing.
本開示の包装袋は、一実施形態において、レトルトパウチである。
本開示のレトルトパウチの酸素透過度(単位:cc/m2・day・atm)は、一実施形態において、好ましくは2.0以下、より好ましくは1.5以下、さらに好ましくは1.3以下、特に好ましく1.0以下である。酸素透過度は、JIS K7126-2:2006に準拠して、温度23℃、相対湿度90%RH環境下において測定される。酸素透過度の下限値は、低いほど好ましいが、例えば0.1でもよい。
In one embodiment, the packaging bag of the present disclosure is a retort pouch.
In one embodiment, the oxygen permeability (unit: cc/ m2 ·day·atm) of the retort pouch of the present disclosure is preferably 2.0 or less, more preferably 1.5 or less, even more preferably 1.3 or less, and particularly preferably 1.0 or less. The oxygen permeability is measured in accordance with JIS K7126-2:2006 at a temperature of 23° C. and a relative humidity of 90% RH. The lower limit of the oxygen permeability is preferably as low as possible, but may be, for example, 0.1.
図7に、2枚の積層体を貼り合わせて得られる包装袋50を示す。斜線部分は、ヒートシールされた箇所を示す。包装袋50は、易開封部51を備えてもよい。易開封部51としては、例えば、引き裂きの起点となるノッチ部52や、引き裂く際の経路として、レーザー加工やカッターなどにより形成されたハーフカット線53が挙げられる。 Figure 7 shows a packaging bag 50 obtained by bonding two laminates together. The shaded areas indicate the heat-sealed areas. The packaging bag 50 may have an easy-to-open portion 51. Examples of the easy-to-open portion 51 include a notch portion 52 that serves as the starting point for tearing, and a half-cut line 53 formed by laser processing or a cutter as a path for tearing.
図8に、スタンディングパウチの構成の一例を簡略に示す。斜線部分は、ヒートシールされた箇所を示す。スタンディングパウチ60は、一実施形態において、胴部(側面シート)61と、底部(底面シート)62と、を備える。側面シート61と底面シート62とは、同一部材により構成されてもよく、別部材により構成されてもよい。底面シート62が側面シート61の形状を保持することにより、パウチに自立性が付与され、スタンディング形式のパウチとすることができる。側面シート61と底面シート62とによって囲まれる領域内に、内容物を収容するための収容空間が形成される。 Figure 8 shows a simplified example of the configuration of a standing pouch. The shaded areas indicate the heat-sealed areas. In one embodiment, the standing pouch 60 comprises a body portion (side sheets) 61 and a bottom portion (bottom sheet) 62. The side sheets 61 and the bottom sheet 62 may be made of the same material, or may be made of different materials. The bottom sheet 62 retains the shape of the side sheets 61, which gives the pouch self-supporting properties and allows it to be a standing pouch. A storage space for storing contents is formed within the area surrounded by the side sheets 61 and the bottom sheet 62.
スタンディングパウチ60は、蒸気抜き機構63を備えてもよい。蒸気抜き機構63は、側部シール部から包装袋の内側に向かって突出した蒸気抜きシール部63aと、蒸気抜きシール部63aによって、内容物収容部から隔離された非シール部63bと、を備える。非シール部63bは、包装袋の外部に連通している。 The standing pouch 60 may be provided with a steam release mechanism 63. The steam release mechanism 63 includes a steam release seal portion 63a that protrudes from the side seal portion toward the inside of the packaging bag, and a non-seal portion 63b that is isolated from the content storage portion by the steam release seal portion 63a. The non-seal portion 63b is in communication with the outside of the packaging bag.
スタンディングパウチにおいて、胴部のみが本開示の積層体により構成されてもよく、底部のみが該積層体により構成されてもよく、胴部および底部の両方が該積層体により構成されてもよい。 In a stand-up pouch, only the body may be made of the laminate of the present disclosure, only the bottom may be made of the laminate, or both the body and bottom may be made of the laminate.
一実施形態において、側面シートは、本開示の積層体が備えるシーラント層が最内層となるように製袋することにより形成できる。一実施形態において、側面シートは、本開示の積層体を2枚準備し、これらをシーラント層同士が向かい合うようにして重ね合わせ、両側の側縁部をヒートシールして製袋することにより形成できる。 In one embodiment, the side sheet can be formed by making a bag so that the sealant layer of the laminate of the present disclosure is the innermost layer. In one embodiment, the side sheet can be formed by preparing two laminates of the present disclosure, stacking them so that the sealant layers face each other, and heat-sealing the side edges on both sides to make a bag.
他の実施形態において、側面シートは、本開示の積層体を2枚準備し、これらをシーラント層同士が向かい合うようにして重ね合わせ、重ね合わせた該積層体の両側の側縁部における積層体間に、シーラント層が外側となるようにV字状に折った積層体2枚をそれぞれ挿入し、ヒートシールすることにより形成できる。このような作製方法によれば、側部ガセット付きの胴部を有するスタンディングパウチが得られる。 In another embodiment, the side sheet can be formed by preparing two laminates of the present disclosure, stacking them with the sealant layers facing each other, inserting two laminates folded in a V-shape with the sealant layers facing outward between the laminates at the side edges on both sides of the stacked laminates, and heat sealing them. This manufacturing method produces a standing pouch having a body with side gussets.
一実施形態において、底面シートは、製袋された側面シート下部の間に積層体を挿入し、ヒートシールすることにより形成できる。より具体的には、底面シートは、製袋された側面シート下部の間に、シーラント層が外側となるようにV字状に折った積層体を挿入し、ヒートシールすることにより形成できる。 In one embodiment, the bottom sheet can be formed by inserting a laminate between the lower parts of the side sheets that have been made into a bag and heat sealing it. More specifically, the bottom sheet can be formed by inserting a laminate folded into a V shape with the sealant layer on the outside between the lower parts of the side sheets that have been made into a bag and heat sealing it.
一実施形態において、積層体を2枚準備し、これらをシーラント層同士が向かい合うようにして重ね合わせ、次いで、もう1枚の積層体をシーラント層が外側となるようにV字状に折り、これを向かい合わせとなった積層体の下部に挟み込み、ヒートシールすることにより底部を形成する。次いで、底部に隣接する2辺をヒートシールすることにより、胴部を形成する。このようにして、一実施形態のスタンディングパウチを形成できる。 In one embodiment, two laminates are prepared and stacked together with the sealant layers facing each other. Next, another laminate is folded in a V shape with the sealant layer facing outward, and this is sandwiched between the lower part of the stacked laminates and heat sealed to form the bottom. Next, the two sides adjacent to the bottom are heat sealed to form the body. In this manner, the standing pouch of one embodiment can be formed.
本開示は、例えば以下の[1]~[16]に関する。
[1]第1の基材と、第1の接着剤層と、第2の基材と、第2の接着剤層と、シーラント層と、を厚さ方向にこの順に備える積層体であって、前記第1の基材が、ポリプロピレンを主成分として含有する延伸基材を備え、前記第2の基材が、ポリプロピレンを主成分として含有する延伸基材を備え、前記第1の基材および前記第2の基材から選択される少なくとも一方が、無機酸化物層をさらに備えるバリア性基材であり、前記シーラント層が、ポリプロピレンを主成分として含有し、前記第2の接着剤層の断面について原子間力顕微鏡(AFM)を用いて測定される弾性率が、30.0MPa以上であり、前記第2の接着剤層の厚さが、0.5μm以上3.0μm以下である、積層体。
[2]前記第2の接着剤層の断面についてサーマルプローブを用いた局所熱分析で測定される軟化点が、200℃以上330℃以下である、前記[1]に記載の積層体。
[3]前記第1の接着剤層の断面について原子間力顕微鏡(AFM)を用いて測定される弾性率が、30.0MPa以上であり、前記第1の接着剤層の厚さが、0.5μm以上3.0μm以下である、前記[1]または[2]に記載の積層体。
[4]前記第1の接着剤層の断面についてサーマルプローブを用いた局所熱分析で測定される軟化点が、200℃以上330℃以下である、前記[3]に記載の積層体。
[5]前記第1の接着剤層の前記弾性率が、前記第2の接着剤層の前記弾性率よりも大きい、前記[3]または[4]に記載の積層体。
[6]前記第1の接着剤層の厚さが、前記第2の接着剤層の厚さよりも大きい、前記[3]~[5]のいずれか一項に記載の積層体。
[7]前記第1の接着剤層の断面について原子間力顕微鏡(AFM)を用いて測定される弾性率が、30.0MPa未満であり、前記第1の接着剤層の断面についてサーマルプローブを用いた局所熱分析で測定される軟化点が、200℃以上330℃以下である、前記[1]または[2]に記載の積層体。
[8]前記第1の接着剤層の厚さが、2.0μm以上5.0μm以下である、前記[7]に記載の積層体。
[9]前記第1の接着剤層の厚さが、前記第2の接着剤層の厚さよりも大きい、前記[7]または[8]に記載の積層体。
[10]前記バリア性基材が、前記無機酸化物層における前記延伸基材に向かう面とは反対の面上に、被覆層をさらに備える、前記[1]~[9]のいずれか一項に記載の積層体。
[11]前記第1の基材が、前記延伸基材であり、前記第2の基材が、前記延伸基材と前記無機酸化物層とを備える前記バリア性基材であり、前記無機酸化物層が前記第1の基材側を向き、前記延伸基材が前記シーラント層側を向くように、前記第2の基材が配置されている、前記[1]~[10]のいずれか一項に記載の積層体。
[12]前記第1の基材が、前記延伸基材と前記無機酸化物層とを備える前記バリア性基材であり、前記無機酸化物層が前記第2の基材側を向き、前記延伸基材が外側を向くように、前記第1の基材が配置されており、前記第2の基材が、前記延伸基材である、前記[1]~[10]のいずれか一項に記載の積層体。
[13]前記積層体に含まれる樹脂材料の総量に対するポリプロピレンの含有割合が、80質量%以上である、前記[1]~[12]のいずれか一項に記載の積層体。
[14]包装材料である、前記[1]~[13]のいずれか一項に記載の積層体。
[15]前記[1]~[14]のいずれか一項に記載の積層体を備える包装袋。
[16]レトルト処理またはボイル処理されたパウチである、前記[15]に記載の包装袋。
The present disclosure relates to, for example, the following [1] to [16].
[1] A laminate comprising a first substrate, a first adhesive layer, a second substrate, a second adhesive layer, and a sealant layer in this order in the thickness direction, wherein the first substrate comprises an oriented substrate containing polypropylene as a main component, the second substrate comprises an oriented substrate containing polypropylene as a main component, at least one selected from the first substrate and the second substrate is a barrier substrate further comprising an inorganic oxide layer, the sealant layer contains polypropylene as a main component, the elastic modulus of the cross section of the second adhesive layer measured using an atomic force microscope (AFM) is 30.0 MPa or more, and the thickness of the second adhesive layer is 0.5 μm or more and 3.0 μm or less.
[2] The laminate described in [1], wherein the softening point measured by local thermal analysis using a thermal probe on a cross section of the second adhesive layer is 200°C or higher and 330°C or lower.
[3] The laminate described in [1] or [2], wherein the elastic modulus measured on a cross section of the first adhesive layer using an atomic force microscope (AFM) is 30.0 MPa or more, and the thickness of the first adhesive layer is 0.5 μm or more and 3.0 μm or less.
[4] The laminate described in [3], wherein the softening point measured by local thermal analysis using a thermal probe on a cross section of the first adhesive layer is 200°C or higher and 330°C or lower.
[5] The laminate described in [3] or [4], wherein the elastic modulus of the first adhesive layer is greater than the elastic modulus of the second adhesive layer.
[6] The laminate described in any one of [3] to [5], wherein the thickness of the first adhesive layer is greater than the thickness of the second adhesive layer.
[7] The laminate described in [1] or [2], wherein the elastic modulus measured on a cross section of the first adhesive layer using an atomic force microscope (AFM) is less than 30.0 MPa, and the softening point measured on a cross section of the first adhesive layer by local thermal analysis using a thermal probe is 200°C or higher and 330°C or lower.
[8] The laminate described in [7], wherein the thickness of the first adhesive layer is 2.0 μm or more and 5.0 μm or less.
[9] The laminate described in [7] or [8], wherein the thickness of the first adhesive layer is greater than the thickness of the second adhesive layer.
[10] The laminate according to any one of the above [1] to [9], wherein the barrier substrate further comprises a coating layer on a surface of the inorganic oxide layer opposite to a surface facing the stretched substrate.
[11] The laminate according to any one of the above [1] to [10], wherein the first substrate is the stretched substrate, the second substrate is the barrier substrate comprising the stretched substrate and the inorganic oxide layer, and the second substrate is disposed such that the inorganic oxide layer faces the first substrate side and the stretched substrate faces the sealant layer side.
[12] The laminate according to any one of [1] to [10], wherein the first substrate is a barrier substrate comprising the stretched substrate and the inorganic oxide layer, the first substrate is disposed such that the inorganic oxide layer faces the second substrate and the stretched substrate faces outward, and the second substrate is the stretched substrate.
[13] The laminate according to any one of [1] to [12], wherein the content of polypropylene in the total amount of resin material contained in the laminate is 80 mass% or more.
[14] The laminate according to any one of [1] to [13] above, which is a packaging material.
[15] A packaging bag comprising the laminate according to any one of [1] to [14] above.
[16] The packaging bag according to [15], which is a pouch that has been retorted or boiled.
以下、具体例に基づき本開示の積層体および包装袋について具体的に説明する。 The laminate and packaging bag of the present disclosure will be described in detail below using specific examples.
[透明バリア性基材の作製]
水酸基含有アクリル樹脂(数平均分子量:25,000、ガラス転移温度:99℃、水酸基価:80mgKOH/g)を、メチルエチルケトンと酢酸エチルとの混合溶剤(混合比1:1)を用いて、固形分濃度が10質量%となるまで希釈し、主剤を調製した。トリレンジイソシアネートを含有する酢酸エチル溶液(固形分75質量%)を硬化剤として、主剤に添加し、表面コート層形成用溶液を得た。硬化剤の使用量は、主剤100質量部に対して、10質量部とした。
[Preparation of Transparent Barrier Substrate]
A hydroxyl-containing acrylic resin (number average molecular weight: 25,000, glass transition temperature: 99°C, hydroxyl value: 80mgKOH/g) was diluted with a mixed solvent of methyl ethyl ketone and ethyl acetate (mixing ratio 1:1) to a solid content concentration of 10% by mass to prepare a base material. An ethyl acetate solution containing tolylene diisocyanate (solid content 75% by mass) was added to the base material as a curing agent to obtain a solution for forming a surface coating layer. The amount of the curing agent used was 10 parts by mass relative to 100 parts by mass of the base material.
一方の面がコロナ処理された、厚さ20μmの2軸延伸ポリプロピレンフィルム(三井化学東セロ(株)製、ME-1)を準備した。該フィルムのコロナ処理面に、上記表面コート層形成用溶液を塗布し乾燥して、厚さ0.5μmの表面コート層を形成した。このようにして、樹脂基材を得た。 A 20 μm-thick biaxially stretched polypropylene film (ME-1, manufactured by Mitsui Chemicals Tohcello Co., Ltd.) was prepared, with one side corona-treated. The above-mentioned surface coating layer-forming solution was applied to the corona-treated side of the film and dried to form a surface coating layer with a thickness of 0.5 μm. In this way, a resin substrate was obtained.
樹脂基材の表面コート層上に、実機である低温プラズマ化学気相成長装置を用いて、Roll to Rollにより、樹脂基材にテンションを与えながら、厚さ12nmの炭素含有酸化ケイ素(シリカ)蒸着膜を形成した(CVD法)。蒸着膜形成条件は、以下の通りとした。 A carbon-containing silicon oxide (silica) vapor deposition film with a thickness of 12 nm was formed on the surface coating layer of the resin substrate using a low-temperature plasma chemical vapor deposition apparatus (CVD method) in a roll-to-roll manner while applying tension to the resin substrate. The conditions for forming the vapor deposition film were as follows:
(形成条件)
・ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm)
・冷却・電極ドラム供給電力:22kW
・ライン速度:100m/min
(Formation Conditions)
Hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 1:10:10 (unit: slm)
・Cooling/electrode drum power supply: 22kW
Line speed: 100 m/min
炭素含有酸化ケイ素蒸着膜における炭素の割合C、ケイ素の割合Si、および酸素の割合Oを測定した。炭素の割合C、ケイ素の割合Si、および酸素の割合Oは、ケイ素、酸素および炭素の3元素の合計100%に対して、それぞれ、32.7%、29.8%および37.5%であった。各元素の割合は、X線光電子分光法(XPS)により、上述した測定条件のナロースキャン分析によって測定した。 The carbon percentage C, silicon percentage Si, and oxygen percentage O in the carbon-containing silicon oxide vapor deposition film were measured. The carbon percentage C, silicon percentage Si, and oxygen percentage O were 32.7%, 29.8%, and 37.5%, respectively, based on the total of the three elements silicon, oxygen, and carbon being 100%. The percentages of each element were measured by narrow scan analysis using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) under the measurement conditions described above.
水385gと、イソプロピルアルコール67gと、0.5N塩酸9.1gとを混合して、pH2.2の溶液を得た。この溶液に、金属アルコキシドとしてテトラエトキシシラン175gと、シランカップリング剤としてグリシドキシプロピルトリメトキシシラン9.2gとを、10℃となるように冷却しながら混合して、溶液Aを得た。水溶性高分子としてケン価度99%以上、重合度2400のポリビニルアルコール14.7gと、水324gと、イソプロピルアルコール17gとを混合して、溶液Bを得た。溶液Aと溶液Bとを、質量基準(溶液A:溶液B)で6.5:3.5となるように混合して、バリアコート剤を得た。樹脂基材上に形成した蒸着膜上に、バリアコート剤をスピンコート法によりコーティングし、オーブンにて80℃で60秒間の加熱処理を施して、厚さ300nmのバリアコート層を形成した。 385g of water, 67g of isopropyl alcohol, and 9.1g of 0.5N hydrochloric acid were mixed to obtain a solution with a pH of 2.2. 175g of tetraethoxysilane as a metal alkoxide and 9.2g of glycidoxypropyltrimethoxysilane as a silane coupling agent were mixed with this solution while cooling to 10°C to obtain solution A. 14.7g of polyvinyl alcohol with a saponification value of 99% or more and a polymerization degree of 2400 as a water-soluble polymer, 324g of water, and 17g of isopropyl alcohol were mixed to obtain solution B. Solution A and solution B were mixed at a mass ratio (solution A:solution B) of 6.5:3.5 to obtain a barrier coating agent. The barrier coating agent was coated on the deposition film formed on the resin substrate by spin coating, and the coating was heated in an oven at 80°C for 60 seconds to form a barrier coating layer with a thickness of 300 nm.
以上のようにして、厚さ20μmの2軸延伸ポリプロピレンフィルム、厚さ0.5μmの表面コート層、厚さ12nmの炭素含有酸化ケイ素(シリカ)蒸着膜、および厚さ300nmのバリアコート層をこの順に備える透明バリア性基材を得た。 In this way, a transparent barrier substrate was obtained that had, in this order, a 20 μm-thick biaxially oriented polypropylene film, a 0.5 μm-thick surface coating layer, a 12 nm-thick carbon-containing silicon oxide (silica) vapor deposition film, and a 300 nm-thick barrier coating layer.
[接着剤]
以下の主剤と硬化剤とから構成される2液硬化型接着剤を用いた。
・接着剤α
主剤 :ポリエステル系重合体(Mw:4,000)
硬化剤:ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)と
キシリレンジイソシアネート(XDI)との混合物
主剤と硬化剤とのモル比(NCO/OH):2
接着剤αは、溶剤を実質的に含まない。
・接着剤β
主剤 :ポリエステル系重合体(Mw:3,500)
硬化剤:イソホロンジイソシアネート(IPDI)とHDIとの混合物
(IPDIよりもHDIの含有量が大きい)
主剤と硬化剤とのモル比(NCO/OH):2
接着剤βは、溶剤を実質的に含まない。
・接着剤γ
主剤 :ポリエステル系重合体(Mw:3,500)
硬化剤:IPDIとHDIとの混合物
主剤と硬化剤とのモル比(NCO/OH):1
接着剤γは、溶剤を実質的に含まない。
・接着剤δ
主剤 :ポリエステル系重合体(Mw:20,000)
硬化剤:HDIのビューレット体と、HDIのヌレート体と、の混合物
主剤と硬化剤とのモル比(NCO/OH):1.5
接着剤δは、溶剤を含む。
[glue]
A two-component curing adhesive composed of the following base agent and curing agent was used.
・Adhesive α
Base: Polyester polymer (Mw: 4,000)
Hardener: Hexamethylene diisocyanate (HDI)
Mixture of xylylene diisocyanate (XDI) Molar ratio of base agent to curing agent (NCO/OH): 2
The adhesive α does not substantially contain a solvent.
・Adhesive β
Base: Polyester polymer (Mw: 3,500)
Hardener: a mixture of isophorone diisocyanate (IPDI) and HDI
(HDI content is higher than IPDI)
Molar ratio of base agent to curing agent (NCO/OH): 2
The adhesive β does not substantially contain a solvent.
・Adhesive γ
Base: Polyester polymer (Mw: 3,500)
Curing agent: mixture of IPDI and HDI Molar ratio of base agent to curing agent (NCO/OH): 1
The adhesive γ is substantially free of solvent.
・Adhesive δ
Base: Polyester polymer (Mw: 20,000)
Hardener: A mixture of biuret HDI and nurate HDI. Molar ratio of base resin to hardener (NCO/OH): 1.5
The adhesive δ contains a solvent.
[例1]
第1の基材として、一方の面がコロナ処理された、厚さ20μmの2軸延伸ポリプロピレンフィルム(東洋紡(株)製、P2171、以下「OPPフィルム」とも記載する)を準備した。第2の基材として、上記透明バリア性基材を準備した。シーラント層として、一方の面がコロナ処理された、厚さ60μmの未延伸ポリプロピレンフィルム(オカモト(株)製、ET-20、以下「CPPフィルム」とも記載する)を準備した。
[Example 1]
As the first substrate, a biaxially stretched polypropylene film having a thickness of 20 μm (P2171, manufactured by Toyobo Co., Ltd., hereinafter also referred to as "OPP film") having one surface subjected to corona treatment was prepared. As the second substrate, the above-mentioned transparent barrier substrate was prepared. As the sealant layer, a non-stretched polypropylene film having a thickness of 60 μm (ET-20, manufactured by Okamoto Co., Ltd., hereinafter also referred to as "CPP film") having one surface subjected to corona treatment was prepared.
第1の基材としてのOPPフィルムのコロナ処理面に、グラビアロールコート法により、塗布厚さ1μm(乾燥時)の印刷層を形成した。印刷層上に、接着剤αを、グラビアロールコート法により塗布し、第1の基材の形成された接着剤層面と透明バリア性基材のバリアコート層面とを貼り合わせ、40℃にて72時間エージングした。さらに、透明バリア性基材の非バリアコート層面にコロナ処理を行い、接着剤αを、グラビアロールコート法により塗布し、透明バリア性基材の形成された接着剤層面とCPPフィルムのコロナ処理面とを貼り合わせ、40℃にて72時間エージングした。形成された各接着剤層の厚さは、0.45μmであった。 A printed layer with a coating thickness of 1 μm (when dry) was formed on the corona-treated surface of the OPP film as the first substrate by the gravure roll coating method. Adhesive α was applied onto the printed layer by the gravure roll coating method, and the adhesive layer surface of the first substrate and the barrier coat layer surface of the transparent barrier substrate were bonded together, and aged at 40°C for 72 hours. Furthermore, a corona treatment was performed on the non-barrier coat layer surface of the transparent barrier substrate, and adhesive α was applied by the gravure roll coating method, and the adhesive layer surface of the transparent barrier substrate and the corona-treated surface of the CPP film were bonded together, and aged at 40°C for 72 hours. The thickness of each adhesive layer formed was 0.45 μm.
以上のようにして、積層体を得た。得られた積層体は、OPPフィルム(20μm)/印刷層(1μm)/接着剤層(0.45μm)/透明バリア性基材(21μm)/接着剤層(0.45μm)/CPPフィルム(60μm)という層構成を有する。括弧内の数値は各層の厚さを示す。 In this way, a laminate was obtained. The resulting laminate has a layer structure of OPP film (20 μm)/printed layer (1 μm)/adhesive layer (0.45 μm)/transparent barrier substrate (21 μm)/adhesive layer (0.45 μm)/CPP film (60 μm). The numbers in parentheses indicate the thickness of each layer.
[例2~例7]
接着剤の種類および/または第2の接着剤層の厚さを表1に記載したとおりに変更したこと以外は例1と同様にして、積層体を作製した。ここで第1の接着剤層の厚さも、第2の接着剤層の厚さと同様に変更した。
[Examples 2 to 7]
Laminates were prepared in the same manner as in Example 1, except that the type of adhesive and/or the thickness of the second adhesive layer was changed as described in Table 1. Here, the thickness of the first adhesive layer was also changed in the same manner as the thickness of the second adhesive layer.
[例8]
第1の基材として、一方の面がコロナ処理された、厚さ20μmの2軸延伸ポリプロピレンフィルム(東洋紡(株)製、P2171、OPPフィルム)を準備した。第2の基材として、上記透明バリア性基材を準備した。シーラント層として、一方の面がコロナ処理された、厚さ60μmの未延伸ポリプロピレンフィルム(オカモト(株)製、ET-20、CPPフィルム)を準備した。
[Example 8]
As the first substrate, a biaxially stretched polypropylene film (P2171, OPP film, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 20 μm and having one surface subjected to corona treatment was prepared. As the second substrate, the above-mentioned transparent barrier substrate was prepared. As the sealant layer, a non-stretched polypropylene film (ET-20, CPP film, manufactured by Okamoto Co., Ltd.) having a thickness of 60 μm and having one surface subjected to corona treatment was prepared.
第1の基材としてのOPPフィルムのコロナ処理面に、グラビアロールコート法により、塗布厚さ1μm(乾燥時)の印刷層を形成した。印刷層上に、接着剤γを、グラビアロールコート法により塗布し、第1の基材の形成された接着剤層面と透明バリア性基材のバリアコート層面とを貼り合わせ、40℃にて72時間エージングした。さらに、透明バリア性基材の非バリアコート層面にコロナ処理を行い、接着剤γを、グラビアロールコート法により塗布し、透明バリア性基材の形成された接着剤層面とCPPフィルムのコロナ処理面とを貼り合わせ、40℃にて72時間エージングした。形成された各接着剤層の厚さは、3.6μmであった。 A printed layer with a coating thickness of 1 μm (when dry) was formed on the corona-treated surface of the OPP film as the first substrate by the gravure roll coating method. Adhesive γ was applied onto the printed layer by the gravure roll coating method, and the adhesive layer surface of the first substrate and the barrier coat layer surface of the transparent barrier substrate were bonded together, and aged at 40°C for 72 hours. Furthermore, a corona treatment was performed on the non-barrier coat layer surface of the transparent barrier substrate, and adhesive γ was applied by the gravure roll coating method, and the adhesive layer surface of the transparent barrier substrate and the corona-treated surface of the CPP film were bonded together, and aged at 40°C for 72 hours. The thickness of each adhesive layer formed was 3.6 μm.
以上のようにして、積層体を得た。得られた積層体は、OPPフィルム(20μm)/印刷層(1μm)/接着剤層(3.6μm)/透明バリア性基材(21μm)/接着剤層(3.6μm)/CPPフィルム(60μm)という層構成を有する。括弧内の数値は各層の厚さを示す。 In this way, a laminate was obtained. The resulting laminate has a layer structure of OPP film (20 μm)/printed layer (1 μm)/adhesive layer (3.6 μm)/transparent barrier substrate (21 μm)/adhesive layer (3.6 μm)/CPP film (60 μm). The numbers in parentheses indicate the thickness of each layer.
[軟化点の測定]
上記例で得られた積層体を包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、市販の回転式ミクロトームを用いて室温(25℃)環境下にて、該ブロックを切断することにより、積層体の断面を作製した。断面は、積層体の主面に対して垂直となる厚さ方向に切断して得られる。仕上げはダイヤモンドナイフにて実施した。基材および各層の厚さも、走査型電子顕微鏡(SEM、日立製作所社製、SU8000)を用いて上記断面を観察することにより測定できる。
[Softening point measurement]
The laminate obtained in the above example was embedded in an embedding resin to prepare a block, and the block was cut using a commercially available rotary microtome at room temperature (25°C) to prepare a cross section of the laminate. The cross section was obtained by cutting the laminate in the thickness direction perpendicular to the main surface. Finishing was performed with a diamond knife. The thickness of the substrate and each layer can also be measured by observing the cross section using a scanning electron microscope (SEM, Hitachi, Ltd., SU8000).
測定装置としてANASYS INSTRUMENT社製nanoTA、サーマルプローブとしてANASYS INSTRUMENTS社製PR-EX-AN2-300-5を用いた。 The measurement device used was a nanoTA manufactured by ANASYS INSTRUMENTS, and the thermal probe used was a PR-EX-AN2-300-5 manufactured by ANASYS INSTRUMENTS.
測定前に、以下のキャリブレーションを行った。
標準試料として、BRUKER社製nanoTA Calibration Samplesを準備した。標準試料の台には、軟化点が公知であるポリカプロラクトン(軟化点:55℃)、ポリエチレン(軟化点:116℃)、ポリエチレンテレフタレート(軟化点:235℃)が載っている。各標準試料の表面にサーマルプローブを接触させながら加熱した。加熱中に、サーマルプローブ直下の熱膨張を計測し、Voltage(電位)に対するDeflection(変位)を表すグラフを取得した。装置で設定する測定条件は以下の通りとした。
測定開始温度:0.1V
測定終了温度:10V
昇温速度:0.5V/sec
Before the measurement, the following calibration was performed.
As the standard samples, nanoTA Calibration Samples manufactured by BRUKER were prepared. Polycaprolactone (softening point: 55°C), polyethylene (softening point: 116°C), and polyethylene terephthalate (softening point: 235°C), which have known softening points, were placed on the stand of the standard samples. Each standard sample was heated while being in contact with a thermal probe on its surface. During heating, the thermal expansion directly below the thermal probe was measured, and a graph showing the deflection against the voltage was obtained. The measurement conditions set in the device were as follows.
Measurement start temperature: 0.1V
Measurement end temperature: 10V
Temperature rise rate: 0.5 V/sec
各標準試料の軟化点を用い、電位に対するサーマルプローブの変位を表すグラフを温度に対する変位のグラフに変換した。以上のようにして、キャリブレーション(n=10)を行った。 Using the softening point of each standard sample, the graph showing the thermal probe displacement versus potential was converted into a graph showing displacement versus temperature. Calibration (n=10) was performed in this manner.
キャリブレーション後、接着剤層の軟化点を測定した。軟化点の測定箇所は、接着剤層の断面が露出した部分のうち、接着剤層の厚さ方向における中央部付近とした。測定は同一断面において5箇所以上で実施し、軟化点は再現良く測定された5箇所の値の算術平均値として記載した。ただし、各測定点は間隔が50μm以上となるようにした。 After calibration, the softening point of the adhesive layer was measured. The softening point was measured near the center of the adhesive layer in the thickness direction, among the exposed cross sections of the adhesive layer. Measurements were performed at five or more points on the same cross section, and the softening point was recorded as the arithmetic mean of the values measured at five points with good reproducibility. However, the measurement points were spaced at least 50 μm apart.
測定は、接着剤層の断面にサーマルプローブを接触させ、サーマルプローブを接触させた状態で、下記条件で加熱し、温度に対するサーマルプローブの変位を表すグラフ(熱膨張曲線)を取得した。
測定開始温度:40℃
測定終了温度:350℃
昇温速度:28℃/sec
The measurement was performed by bringing a thermal probe into contact with the cross section of the adhesive layer, heating the adhesive layer under the conditions described below while the thermal probe was in contact, and obtaining a graph (thermal expansion curve) showing the displacement of the thermal probe versus temperature.
Measurement start temperature: 40℃
Measurement end temperature: 350°C
Heating rate: 28° C./sec
熱膨張曲線のピークが得られた場合は、熱膨張曲線のピークの温度を軟化点とした。得られた熱膨張曲線において、ピークが複数存在した場合は、最も低温側に現れたピークの温度を軟化点とした。熱膨張曲線の最高変位から、連続的な変位の下降が0.2V以上計測された熱膨張曲線は、ピークが得られたとみなした。 If a peak was obtained in the thermal expansion curve, the temperature of the peak was taken as the softening point. If multiple peaks were present in the obtained thermal expansion curve, the temperature of the peak that appeared on the lowest temperature side was taken as the softening point. A thermal expansion curve in which a continuous displacement drop of 0.2 V or more was measured from the maximum displacement was considered to have a peak.
[弾性率の測定]
上記例で得られた積層体について、原子間力顕微鏡(AFM)を用いてフォースカーブ測定を行い、得られたフォースカーブより、接着剤層の断面の弾性率を求めた。
具体的な測定手順は以下のとおりである。
上記例で得られた積層体を包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、市販の回転式ミクロトームを用いて室温(25℃)環境下にて、該ブロックを切断することにより、積層体の断面を作製した。断面は、積層体の主面に対して垂直となる厚さ方向に切断して得られる。仕上げはダイヤモンドナイフにて実施した。
原子間力顕微鏡(AFM)を用いて、上記断面に対して接着剤層の断面を含む2.5μm角でマッピング測定を行った。接着剤層の断面について、適切なフォースカーブ形状が得られたフォースカーブを20個選択した。JKR(Johnson-Kendall-Roberts)理論によりそれぞれのフォースカーブをフィッティングして弾性率をそれぞれ算出し、得られた20個の弾性率の算術平均値(以下「第一の算術平均値」ともいう)を算出した。ここで、フォースカーブの選択箇所は、接着剤層の断面が露出した部分のうち、接着剤層の厚さ方向における中央部付近とした。上記20個の弾性率から第一の算術平均値に近い弾性率を3個選択して、3個の弾性率の算術平均値(以下「第二の算術平均値」ともいう)を算出した。得られた第二の算術平均値を、接着剤層の断面の弾性率とした。
[Measurement of Elastic Modulus]
For the laminate obtained in the above example, a force curve was measured using an atomic force microscope (AFM), and the elastic modulus of the cross section of the adhesive layer was determined from the obtained force curve.
The specific measurement procedure is as follows.
The laminate obtained in the above example was embedded in an embedding resin to prepare a block, and the block was cut at room temperature (25°C) using a commercially available rotary microtome to prepare a cross section of the laminate. The cross section was obtained by cutting the laminate in the thickness direction perpendicular to the main surface. Finishing was performed with a diamond knife.
Using an atomic force microscope (AFM), mapping measurements were performed on the above cross section at a 2.5 μm square including the cross section of the adhesive layer. For the cross section of the adhesive layer, 20 force curves that provided an appropriate force curve shape were selected. The elastic modulus was calculated by fitting each force curve according to the JKR (Johnson-Kendall-Roberts) theory, and the arithmetic mean value (hereinafter also referred to as the "first arithmetic mean value") of the obtained 20 elastic moduli was calculated. Here, the selected part of the force curve was the vicinity of the center in the thickness direction of the adhesive layer among the parts where the cross section of the adhesive layer was exposed. Three elastic moduli close to the first arithmetic mean value were selected from the above 20 elastic moduli, and the arithmetic mean value (hereinafter also referred to as the "second arithmetic mean value") of the three elastic moduli was calculated. The obtained second arithmetic mean value was taken as the elastic modulus of the cross section of the adhesive layer.
AFMの測定条件の詳細を、以下に示す。
(AFM弾性率測定)
・装置名:SPM-9700HT(島津製作所製)
・測定雰囲気:大気下、室温(25℃)
・測定モード:コンタクトモード
・キャリブレーション方法:ガラスを用いてカンチレバー感度を測定する
・測定点数:64×64点(計4096点)
・視野範囲:2.5μm角
・カンチレバー型式:CONTR(ナノワールド製)
・カンチレバーの先端半径:<8nm
・カンチレバーのばね定数:0.2N/m
・触圧:0.5V
・スキャン速度:3Hz
・弾性率の計算モデル:JKR(Johnson-Kendall-Roberts)理論
・サンプルのポアソン比:0.4
・解析ソフト:Nano 3D Mapping(島津製作所製)
The details of the AFM measurement conditions are shown below.
(AFM Elastic Modulus Measurement)
・Device name: SPM-9700HT (Shimadzu Corporation)
Measurement atmosphere: Atmospheric air, room temperature (25°C)
Measurement mode: Contact mode Calibration method: Measure the cantilever sensitivity using glass Number of measurement points: 64 x 64 points (total 4096 points)
・Field of view: 2.5 μm square ・Cantilever type: CONTR (manufactured by Nano World)
Cantilever tip radius: <8 nm
Cantilever spring constant: 0.2 N/m
Contact pressure: 0.5V
Scan speed: 3Hz
Calculation model for elastic modulus: JKR (Johnson-Kendall-Roberts) theory Poisson's ratio of sample: 0.4
・Analysis software: Nano 3D Mapping (Shimadzu Corporation)
[ガスバリア性評価(レトルト処理後)]
上記例で得られた積層体を2枚準備し、これらをシーラント層(CPPフィルム)の面を対向させて重ね合わせ、3辺を180℃、0.1MPaおよび1秒の条件でヒートシールして、B5サイズ(182mm×257mm)の平状のパウチを作製した。得られたパウチ内に、開口部から水を100mL充填し、開口部を上記条件でヒートシールして、パウチを密封した。得られたパウチに対して、121℃、30分および0.21MPaのレトルト条件でのレトルト殺菌を実施した。レトルト殺菌実施後、パウチから積層体を切り出して、試験片を得た。この試験片を用いて、酸素透過度(cc/m2・day・atm)を、以下の方法により測定した。
[Gas barrier property evaluation (after retort treatment)]
Two sheets of the laminate obtained in the above example were prepared, and these were stacked with the sealant layer (CPP film) facing each other, and three sides were heat-sealed under conditions of 180 ° C, 0.1 MPa, and 1 second to produce a flat pouch of B5 size (182 mm × 257 mm). 100 mL of water was filled into the obtained pouch from the opening, and the opening was heat-sealed under the above conditions to seal the pouch. Retort sterilization was performed on the obtained pouch under retort conditions of 121 ° C, 30 minutes, and 0.21 MPa. After retort sterilization, the laminate was cut out from the pouch to obtain a test piece. Using this test piece, the oxygen permeability (cc / m 2 · day · atm) was measured by the following method.
酸素透過度測定装置(MOCON社製、OX-TRAN2/20)を用いて、試験片の第1の基材側が酸素供給側になるようにセットして、JIS K7126-2:2006に準拠して、温度23℃、相対湿度90%RH環境下における酸素透過度を測定した。結果を表1に示す。 Using an oxygen permeability measuring device (OX-TRAN2/20, manufactured by MOCON), the test piece was set so that the first substrate side was the oxygen supply side, and the oxygen permeability was measured in an environment of a temperature of 23°C and a relative humidity of 90% RH in accordance with JIS K7126-2:2006. The results are shown in Table 1.
[引裂き性および落下破袋]
上記例で得られた積層体を2枚準備し、これらをシーラント層(CPPフィルム)の面を対向させて重ね合わせ、3辺を180℃、0.1MPaおよび1秒の条件でヒートシールして、外寸130mm×170mm、内寸110mm×150mmのパウチを作製した。パウチ上部から長手方向に20mmの位置に短手方向に長さ2mmのノッチ部を形成した。得られたパウチ内に、開口部から水を180mL充填し、開口部を上記条件でヒートシールして、パウチを密封した。得られたパウチに対して、121℃、30分および0.21MPaのレトルト条件でのレトルト殺菌を実施した。レトルト殺菌実施後のパウチを22℃環境で1日静置した後、引裂き性評価と落下破袋評価とを実施した。
[Tearability and drop-breakage of bags]
Two laminates obtained in the above example were prepared, and these were stacked with the sealant layer (CPP film) facing each other, and three sides were heat-sealed under conditions of 180 ° C, 0.1 MPa, and 1 second to produce a pouch with outer dimensions of 130 mm x 170 mm and inner dimensions of 110 mm x 150 mm. A notch portion having a length of 2 mm in the short direction was formed at a position 20 mm in the longitudinal direction from the top of the pouch. 180 mL of water was filled into the obtained pouch from the opening, and the opening was heat-sealed under the above conditions to seal the pouch. Retort sterilization was performed on the obtained pouch under retort conditions of 121 ° C, 30 minutes, and 0.21 MPa. The pouch after retort sterilization was left to stand in a 22 ° C environment for 1 day, and then tearability evaluation and drop bag breakage evaluation were performed.
(引裂き性)
ノッチ部の切込み方向に沿ってパウチを直線的に引き裂けて開封できるかを評価した。
AA:パウチを直線的に開封でき、
ノッチ部から反対側のパウチ端まで問題なくパウチを開封できた。
BB:パウチが表と裏が違う方向に裂けたが、
ノッチ部から反対側のパウチ端まで問題なくパウチを開封できた。
CC:パウチが表と裏が違う方向に裂け、
ノッチ部から反対側のパウチ端までパウチを開封できなかった。
(Tearability)
An evaluation was made as to whether the pouch could be opened by tearing it linearly along the cut direction of the notch.
AA: The pouch can be opened in a straight line.
The pouch could be opened without issue from the notch to the opposite end of the pouch.
BB: The pouch was torn in different directions on the front and back.
The pouch could be opened without issue from the notch to the opposite end of the pouch.
CC: The pouch is torn in different directions at the front and back.
The pouch could not be opened from the notch to the opposite end of the pouch.
(落下破袋)
パウチをそれぞれ10袋準備した。120cmの高さより、パウチの主面が床面に衝突する方向でパウチを10回落下させ、さらにパウチ下部のシール部(内寸110mmの辺)が床面に衝突する方向でパウチを10回落下させて、破袋の有無を目視で確認した。
AA:破袋は確認されず、傷やシール後退も発生しなかった。
BB:破袋は確認されなかったが、傷やシール後退が発生した。
CC:1袋以上の破袋が確認された。
(Bag falls and breaks)
Ten pouches of each type were prepared and dropped 10 times from a height of 120 cm in a direction such that the main surface of the pouch struck the floor, and further dropped 10 times in a direction such that the sealed portion at the bottom of the pouch (the side with an inner dimension of 110 mm) struck the floor, and the presence or absence of breakage of the pouch was visually confirmed.
AA: No breakage was observed, and no scratches or seal recession occurred.
BB: No breakage was observed, but scratches and seal recession occurred.
CC: One or more broken bags were confirmed.
[ポリプロピレン含有割合]
上記例で得られた積層体に含まれる樹脂材料の総量に対するポリプロピレンの含有割合を表1に記載した。
[Polypropylene content]
The content of polypropylene relative to the total amount of resin materials contained in the laminates obtained in the above examples is shown in Table 1.
1:積層体、10:ポリプロピレン延伸基材、20:バリア性基材、22:ポリプロピレン延伸基材、23:表面コート層、24:無機酸化物層、25:被覆層、30:シーラント層、40A、40B:接着剤層、
50:包装袋、51:易開封部、52:ノッチ部、53:ハーフカット線、
60:スタンディングパウチ、61:胴部(側面シート)、62:底部(底面シート)、63:蒸気抜き機構、63a:蒸気抜きシール部、63b:非シール部
1: laminate, 10: oriented polypropylene substrate, 20: barrier substrate, 22: oriented polypropylene substrate, 23: surface coating layer, 24: inorganic oxide layer, 25: coating layer, 30: sealant layer, 40A, 40B: adhesive layers,
50: packaging bag, 51: easy-to-open portion, 52: notch portion, 53: half-cut line,
60: standing pouch, 61: body (side sheet), 62: bottom (bottom sheet), 63: steam release mechanism, 63a: steam release sealed portion, 63b: non-sealed portion
Claims (16)
第1の接着剤層と、
第2の基材と、
第2の接着剤層と、
シーラント層と、
を厚さ方向にこの順に備える積層体であって、
前記第1の基材が、ポリプロピレンを主成分として含有する延伸基材を備え、前記第2の基材が、ポリプロピレンを主成分として含有する延伸基材を備え、前記第1の基材および前記第2の基材から選択される少なくとも一方が、無機酸化物層をさらに備えるバリア性基材であり、
前記シーラント層が、ポリプロピレンを主成分として含有し、
前記第2の接着剤層の断面について原子間力顕微鏡(AFM)を用いて測定される弾性率が、30.0MPa以上であり、前記第2の接着剤層の厚さが、0.5μm以上3.0μm以下である、
積層体。 A first substrate;
a first adhesive layer;
A second substrate;
a second adhesive layer; and
A sealant layer;
A laminate having the following in this order in the thickness direction:
the first substrate comprises a stretched substrate containing polypropylene as a main component, the second substrate comprises a stretched substrate containing polypropylene as a main component, and at least one selected from the first substrate and the second substrate is a barrier substrate further comprising an inorganic oxide layer;
The sealant layer contains polypropylene as a main component,
The elastic modulus measured on a cross section of the second adhesive layer using an atomic force microscope (AFM) is 30.0 MPa or more, and the thickness of the second adhesive layer is 0.5 μm or more and 3.0 μm or less.
Laminate.
前記第2の基材が、前記延伸基材と前記無機酸化物層とを備える前記バリア性基材であり、前記無機酸化物層が前記第1の基材側を向き、前記延伸基材が前記シーラント層側を向くように、前記第2の基材が配置されている、
請求項1に記載の積層体。 the first substrate is the stretched substrate,
the second substrate is the barrier substrate including the stretched substrate and the inorganic oxide layer, and the second substrate is disposed so that the inorganic oxide layer faces the first substrate side and the stretched substrate faces the sealant layer side;
The laminate according to claim 1 .
前記第2の基材が、前記延伸基材である、
請求項1に記載の積層体。 the first substrate is a barrier substrate including the stretched substrate and the inorganic oxide layer, and the first substrate is disposed such that the inorganic oxide layer faces the second substrate and the stretched substrate faces outward;
The second substrate is the stretched substrate.
The laminate according to claim 1 .
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